JPS58132716A - 光ビ−ム径変換装置 - Google Patents

光ビ−ム径変換装置

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Publication number
JPS58132716A
JPS58132716A JP1580182A JP1580182A JPS58132716A JP S58132716 A JPS58132716 A JP S58132716A JP 1580182 A JP1580182 A JP 1580182A JP 1580182 A JP1580182 A JP 1580182A JP S58132716 A JPS58132716 A JP S58132716A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light
prism
optical axis
optical
semiconductor laser
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP1580182A
Other languages
English (en)
Inventor
Shunji Ohara
俊次 大原
Tomio Yoshida
吉田 富夫
Isao Sato
勲 佐藤
Kenji Koishi
健二 小石
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP1580182A priority Critical patent/JPS58132716A/ja
Publication of JPS58132716A publication Critical patent/JPS58132716A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Optical Head (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は光情報処理装置等に使用される光ビーム径変換
装置に関する。
近年ガスレーザに代って、半導体レーザを用いた光情報
処理装置の開発が盛んになってきた。光デイスク装置は
その1例である。光デイスク装置とは半導体レーザの光
を情報記録媒体であるディスク上でφ1μm以下の微小
スポット光に絞り、ディスクに記録されている信号を再
生したり、又はディスクに情報を高密度に記録再生する
ものである。
記録再生可能な光デイスク装置に用いられる半導体レー
ザは高出力の光パワーが出力できるものが要望される。
一般に高出力でCW(定常)発振可能な半導体レーザは
、その発光領域の縦、横比が異なるだめ、ビームの拡り
角が非等方的である。
例えば第1図に高出力でCW発振可能な半導体レーザの
遠視野像における水平と垂直方向の出射光分布の1例を
示したが、光強度がピークの半分になる各々の方向の半
値角をθ目、θ上とするとθ11=6°、θ工=12・
6°、θL/θ11−2・5・・・・・・0) となる。なお第1図で縦軸は光強度、横軸は広がり角で
ある。このように高出力半導体レーザのビーム拡り角の
比θ上/θ11は約2・5倍程度ある。
このような非等方的な広り角を有する半導体レーザの光
を、ディスク上で円形の等方的な微小スポット光に絞り
込むだめの方法が特開昭55−108612号公報で提
案されている。第2図にその概略を示した。すなわち、
半導体レーザ1から出た光ビームを集光レンズ2で集め
平行光に直し、半導体レーザの接合面に対して水平方向
のみレンズ作用を持ち、かつアフォーカルに配置された
3と4の凹と凸のシリンドリカルレンズにより水平方向
のみの平行ビームを拡げ、垂直方向とほぼ同等な幅のビ
ーム径にして絞りレンズ6でディスク6上に絞り込む構
成であるディスク上で等方的な最小スポット光が得られ
るが、しかしこの方法は、光学系が大きくなること、凹
と凸のシリンドリカルレンズの軸合せが難しい等の欠点
を有している。
また他の方法として特開昭’56−41号公報にプリズ
ムを用いた方法が提案されている。第3図にその概略を
示した。すなわち半導体レーザ1から出た光を、集光レ
ンズ2で集め平行光に直した後、プリズム7で半導体レ
ーザの接合面に水平方向のみビームを拡げ、垂直方向と
ほぼ同等な幅のビーム径にして、絞りレンズ5でディス
ク6上に絞り込む構成である。
この方法は光学系が小さく出来るという利点はあるが、
しかし第3図に示すように半導体レーザの光軸X−X/
と絞りレンズの光軸Y−Y/とが平行、あるいは直交せ
ず、定められた角αで交わることとなり、光学系を実際
に組み立てる場合、特にレーザ光軸X−X/を決める基
準面が無いためレーザ光軸を決めるが炸しくなる。また
光学系自身の高さlも長くなり光学系をコンパクトにま
とめることができない等の欠点が有している。
本発明は以上の点に鑑みてなされた発明であり、プリズ
ムに入射した光ビームでビーム径を拡大(あるいは縮小
)した後、同一のプリズムの全反射を利用して、半導体
レーザの光軸とプリズムよりの出射光の光軸(絞りレン
ズの光軸と同じ)とが直交するような構成にすることに
よシ組み立て性の良いコンパクトな光ビーム径変換装置
を提供するものである。以下図面に従い本発明を実施例
をあげ詳しく説明する。第4図は本発明の1実施例を示
した図である。第4図にて光束幅11の平行ビームPは
プリズム8のa面から入射し、光束幅X2の平行光に拡
大され5面で全反射し0面から光束幅I2の平行ビーム
Qとなって出力される。この時入射光Pの光軸X−Xt
と出射光Qの光軸Y−Y’とは直交している。以下この
プリズム8について詳しく述べる。入射光P(平行光)
はプリズム8の端面aに入射し、屈折してプリズムの中
に入る。この時の条件は、ヌネルの法則から(2)式で
与えられる。
n[、Sinθ1−n1sinθ2        ・
・・・・・(2)ただし、no(#1)空気の屈折率 n1     プリズムの屈折率 01    入射角 θ2    屈折角 端面aにて平行光束幅工1は工2に拡大されるがその比
m = I2 / 11は(3)式で与えられる。
m = I2 / I+ =部θ2/邸θ1     
・・・・・・(3)つぎに入射光Pと出射光Qとの光軸
X−X/とY−Y’が直交させるためプリズム8の端面
すにて全反射させる。この時の入射角θ3は(4)式で
与えられる。
θ3=(90+0l−02)/2     ・・・・・
・(4)端面すにて入射角θ5で全反射させ、かつ端面
Cにて、その反射光が垂直入射して出射するだめのプリ
ズムの各頂角は、 θ4−θ2+θ3           ・・・・・・
(6)θ5=θ3             ・・・・
・・(6)θ6Σ90°−02          ・
・・・・・(7)θ7Σ90°           
 ・・・・・・(8)となる。
以上の条件を満足するプリズムを製作すれば、入射光束
11がm倍の出射光束工2となり、入射光Pの光軸x−
x’と出射光Qの光軸Y −Y’は直交する。
具体的に前記第(1)式の条件であり、半導体レーザの
拡り角化2・5からl1=2・6、屈折率no=1、n
に1・61とすると各頂角は以下の様に求まる。
θ1−72°、θ2二39°、θ3−61・5°、θ4
=1oo・6°、θ5−61・5°、θ7二90’第5
図に本発明の光ビーム径変換素子(プリズム)を用いた
光デイスク装置の1実施例を示しだ。
半導体レーザ1から出た光は、2の集光レンズにて平行
光に直され、前述したプリズム8で半導体レーザの接合
面に水平方向のみビーム径を拡げ、直角に曲げる。次に
、偏光ビームスプリッタ9、λ/4板1板金0過後、絞
りレンズ5にてディスク6上でほぼ円形の等方向な微小
スポット光に絞られる。
一方デイスクロよυの反射光は前記偏光ビームスプリッ
タ9で反射され、レンズ11を通してディスク上に記録
された信号を再生し、かつ公知のフォーカス、トラッキ
ング制御をかけるだめの信号検出器12に導かれる。1
3はディスクモータである。
以上説明してきた様に本発明の構成によれば、レーザ光
軸X−X’と絞りレンズ光軸Y−YLとが直交するよう
に配置できるため、光学系を組み立てる場合レーザ光軸
の設定が容易になり組立て性がよくなる。またレーザ光
軸を直角に折り曲げているため光学系の高さ6′を著し
く小さくすることができ、第6図に示す様にディスクの
下方からレーザビームを照射する方式では厚みを薄くす
ることができ空間的にコンパクトにまとめることができ
る等の利点がある。
なお本発明の他の実施例として入射光Pと出射光Qとの
光軸が平行となるプリズム14を第6図に示した。この
プリズムは端面dにて再び全反射させたものである。
以上光デイスク装置に応用して本発明の実施例について
述べたが、光通信等でファイバーに光を入力させる光ビ
ーム径変換素子として適用も可能である。
【図面の簡単な説明】
第1図は非等方的な拡りを有する半導体レーザの遠視野
像の1例を示す特性図、第2図、第3図はそれぞれ従来
の光ビーム径変換素子を用いた光情報処理装置の要部を
示す構成図、第4図は本発明の1実施例における光ビー
ム変換装置の側面図、第6図は本発明による光ビーム変
換装置を適用した光情報処理装置の1実施例を示す側面
図、第6L放発明の他の実施例の光ビーム径変換装置の
構成図である。 1・・・・・・半導体レーザ、7・・・・・・従来のプ
リズム、8、14・・・・・・本発明のプリズム、6・
・・・・・情報媒体(ディスク)、P・・・・・・入射
光、Q・・・・・・出射光、11・・・・・・入射光の
幅、工2・・・・・・出射光の幅、 b、  d・・・
・・・全反射面、θ1・・・・・・入射角、θ2・・・
・・・屈折角、θ4.θ5・・・・・プリズムの頂角。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名I1
1図 え 腸 12図

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)縦、横比の異なるml而を有する平行入射光が入
    射され、縦、横比矛゛ 1に近づいた屈折平行光を得る
    而と、前記屈折平行光を全反射させ、前記平行入射光と
    直角あるいは平行な光に前記屈折平行光を全反射せしめ
    るため゛の少なくとも1つの面とを有するプリズムより
    なる光ビーム径変換装置。
  2. (2)  プリズムへの入射光の入射角をθ1、屈折角
    を02とした時、前記プリズムの少なくとも 2頂角θ
    4.θ5が θ4:(90’十θ1+θ2 )/ 2 
    +変換装置。
JP1580182A 1982-02-02 1982-02-02 光ビ−ム径変換装置 Pending JPS58132716A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60107822U (ja) * 1983-12-20 1985-07-22 株式会社三協精機製作所 ビ−ムエクスパンダ−
JPS60229007A (ja) * 1984-04-27 1985-11-14 Matsushita Electric Ind Co Ltd 非等方的光スポツト形成方法
JPS6250811A (ja) * 1985-08-26 1987-03-05 イ−ストマン コダック カンパニ− 電磁ビ−ムをアナモフイツクに整形し且つ偏向させるための方法及び装置

Cited By (4)

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