JPS58127913A - 明るい投影系 - Google Patents
明るい投影系Info
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- JPS58127913A JPS58127913A JP1054782A JP1054782A JPS58127913A JP S58127913 A JPS58127913 A JP S58127913A JP 1054782 A JP1054782 A JP 1054782A JP 1054782 A JP1054782 A JP 1054782A JP S58127913 A JPS58127913 A JP S58127913A
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- Japan
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- lens
- projection
- lenses
- plane
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
- G03B27/00—Photographic printing apparatus
- G03B27/32—Projection printing apparatus, e.g. enlarger, copying camera
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- G03B27/522—Projection optics
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G15/00—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern
- G03G15/04—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for exposing, i.e. imagewise exposure by optically projecting the original image on a photoconductive recording material
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- G—PHYSICS
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- G03G15/00—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern
- G03G15/04—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for exposing, i.e. imagewise exposure by optically projecting the original image on a photoconductive recording material
- G03G15/043—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for exposing, i.e. imagewise exposure by optically projecting the original image on a photoconductive recording material with means for controlling illumination or exposure
- G03G15/0435—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for exposing, i.e. imagewise exposure by optically projecting the original image on a photoconductive recording material with means for controlling illumination or exposure by introducing an optical element in the optical path, e.g. a filter
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Optical Systems Of Projection Type Copiers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は投影系、特に物体面を結像面上に伝達させる正
立等倍系を有する投影系に関するものである。
立等倍系を有する投影系に関するものである。
物体面を結像面に伝達する投影系は例えば転写工程を有
する複写装置において適用されている。
する複写装置において適用されている。
従来の複写装置の投影系には１つの投影レンズが使用さ
れていたが、１つの投影レンズでは収差補正上から焦点
距離が比較的長くなければならないため、その物体面か
ら結像面までの距離すなわち共役距離も長くなっていた
。このため複写装置全体も大きくなっていた。複写装置
全体を小型化するため、共役距離の短い投影レンズ系を
複数個、例えば、並列させ各投影レンズ系は物体面の一
部分を結像面に伝達し並列された投影レンズ系全体で物
体面全体を結像面に伝達する投影系が種々提案されてい
る。
れていたが、１つの投影レンズでは収差補正上から焦点
距離が比較的長くなければならないため、その物体面か
ら結像面までの距離すなわち共役距離も長くなっていた
。このため複写装置全体も大きくなっていた。複写装置
全体を小型化するため、共役距離の短い投影レンズ系を
複数個、例えば、並列させ各投影レンズ系は物体面の一
部分を結像面に伝達し並列された投影レンズ系全体で物
体面全体を結像面に伝達する投影系が種々提案されてい
る。
その中で、明るさ、性能、光量ムラに対して良好で、か
つ製造上有利な投影系が特願昭５５−７２８９９号明細
書により提案されている。この投影系は、それに含まれ
る投影レンズが共軸の４枚（７）レンズから構成され、
この４枚のレンズは倒立の中間像を形成する２枚の第ル
ンズ系と中間像を結像面に伝達する２枚の第２レンズ系
に分けられ、この第ルンズ系と第２レンズ系は前記中間
像に対して対称であると共に、次の条件式（１）、（２
）を満足するようにしたものである。
つ製造上有利な投影系が特願昭５５−７２８９９号明細
書により提案されている。この投影系は、それに含まれ
る投影レンズが共軸の４枚（７）レンズから構成され、
この４枚のレンズは倒立の中間像を形成する２枚の第ル
ンズ系と中間像を結像面に伝達する２枚の第２レンズ系
に分けられ、この第ルンズ系と第２レンズ系は前記中間
像に対して対称であると共に、次の条件式（１）、（２
）を満足するようにしたものである。
（１）０．４５＜ｌβＭ＋＜０．７
（２０，０５＜ｌ／Ｄ＜０．８５
（但し、βＭは中間像の倍率（βＭ（１、Ｄは投影レン
ズ系の最大有効径、ｌは隣接した投影レンズ系において
互いの最大有効径縁が最も接近している部分の間の間隔
であ乏。）この投影系では、中間像倍率と１！／Ｄを規
制することによって結像面全体の光量の均一化を計って
いるが、それでも投影レンズの種々の製造上の誤差に起
因して、５％程度の光量ムラを生じることは避は難いと
いう問題があった。
ズ系の最大有効径、ｌは隣接した投影レンズ系において
互いの最大有効径縁が最も接近している部分の間の間隔
であ乏。）この投影系では、中間像倍率と１！／Ｄを規
制することによって結像面全体の光量の均一化を計って
いるが、それでも投影レンズの種々の製造上の誤差に起
因して、５％程度の光量ムラを生じることは避は難いと
いう問題があった。
本発明は前記問題に鑑みてなされたもので、複数の投影
レンズを含み、各投影レンズによってそれぞれ物体面の
一部分を分坦して結像面に伝達し、全体として物体面の
全領域を結像面に伝達する投影系において、さらに共役
長が短く、明るく、かつ光量ムラもより少ない投影系を
提供することを目的とするものである。
レンズを含み、各投影レンズによってそれぞれ物体面の
一部分を分坦して結像面に伝達し、全体として物体面の
全領域を結像面に伝達する投影系において、さらに共役
長が短く、明るく、かつ光量ムラもより少ない投影系を
提供することを目的とするものである。
本発明の投影系は、第１図および第５図から明らかなよ
うに、複数の投影レンズ、例えば、並列された複数の同
型の投影レンズを含み、その各投影レンズは共軸の４枚
のレンズ（ニー１、Ｉ−２、Ｉｒ−１、ｌｌ−２）から
構成され、これらの４枚のレンズは、倒立の中間像Ｋ”
を形成する２枚のレンズ（■−１、■−２）からなる第
２レンズ系ＣＩ）と、その中間像ＫＩＷ結像面に伝達す
る２枚のレンズ（■−１、ＩＦ−１から成る第２レンズ
系に分けられ、第ルンズ系と第２レンズ系は中間像に対
して対称であり、第ルンズ系の物体面側と第２レンズ系
の結像面側にのみ軸上、軸外光束を規制するマスクが設
けであることを特徴とするものである。
うに、複数の投影レンズ、例えば、並列された複数の同
型の投影レンズを含み、その各投影レンズは共軸の４枚
のレンズ（ニー１、Ｉ−２、Ｉｒ−１、ｌｌ−２）から
構成され、これらの４枚のレンズは、倒立の中間像Ｋ”
を形成する２枚のレンズ（■−１、■−２）からなる第
２レンズ系ＣＩ）と、その中間像ＫＩＷ結像面に伝達す
る２枚のレンズ（■−１、ＩＦ−１から成る第２レンズ
系に分けられ、第ルンズ系と第２レンズ系は中間像に対
して対称であり、第ルンズ系の物体面側と第２レンズ系
の結像面側にのみ軸上、軸外光束を規制するマスクが設
けであることを特徴とするものである。
なお、第ルンズ系（１）によって結像されるむ
中間像の倍率は前記投影レンズを複数含投影系のΔ
光量ムラと明るさを考える場合、非常に重要な項目であ
る。すなわち、中間倍率を小さくすると、投影レンズの
画角は犬きくなシ、結像面上の１点に寄与する投影レン
ズの数が多くなり、それだけ光量ムラに対して有利とな
る。しかし、像性能を良好に補正することが困難で、投
影レンズのＦナンバーを暗くせざるを得なくなり、投影
系全体としての明るさは低いものとなる。他方、中間像
倍率を大きくすると、投影レンズのＦナンバーを明るく
しても像性能を良好に補正できるため投影系を明るくで
きるが、画角が狭く、結像面上の１点に寄与する投影レ
ンズの数が少力くなシ、光量ムラに対して不利となる。
る。すなわち、中間倍率を小さくすると、投影レンズの
画角は犬きくなシ、結像面上の１点に寄与する投影レン
ズの数が多くなり、それだけ光量ムラに対して有利とな
る。しかし、像性能を良好に補正することが困難で、投
影レンズのＦナンバーを暗くせざるを得なくなり、投影
系全体としての明るさは低いものとなる。他方、中間像
倍率を大きくすると、投影レンズのＦナンバーを明るく
しても像性能を良好に補正できるため投影系を明るくで
きるが、画角が狭く、結像面上の１点に寄与する投影レ
ンズの数が少力くなシ、光量ムラに対して不利となる。
本発明の投影レンズは中間倍率として−０，３５倍から
一〇、７倍程度を想定している。
一〇、７倍程度を想定している。
以下、図面を参照して本発明を説明する。
第１図は本発明の投影系において用いられる複数の投影
レンズのうちの一つの投影レンズの断面を示し、２枚の
レンズ（１−１，ｌ−２）で構成される第ルンズ系（１
）が物体面（０）上でのある領域を中間像面ＣＭ）に倒
立で結像させ、そ（７）像４２枚のレンズ（ＩＩ−１，
ｌｌ−２）で構成すれる第２レンズ系（■）が結像面（
ｃ）に再度倒立で結像させることにより、全体として正
立等倍系な形成させている。この構成で第ルンズ系（１
）の２番目のレンズＣｌ−１および第２レンズ系（■）
の中間像面ＣＭ）側のレンズ（■−１）は収差補正に有
効に寄与するとともに、光量損失を防ぐ、いわゆるフィ
ールドレンズとしても働かすことができる。このことに
より明るい、性能の良好な投影レンズが可能となってい
る。また、第ルンズ系（工’ｒの物体面側と第２レンズ
系の結像面側にはそれぞれマスクＭ１、Ｍ２が配設され
ている。物体面Ｏ上の点Ｐから射出され、投影レンズを
通過する光束は上側光線Ｕと下側光線りとで示される範
囲にあり、光線Ｕと光線りはマスクＭ１とＭ２で規制さ
れている。このようにマスクＭ１とＭ２のみで投影レン
ズを通過する全ての光束を規制することにより、共役距
離が２０ｔｍ程度と非常に短かく、有効Ｆナンバーが３
．３と非常に明るい投影レンズを有し、光量ムラも少な
い投影系を達成できる。投影レンズを明るくするには、
収差補正上、前記のように中間像倍率を大きくする必要
があるが、これは投影系に光量ムラが発生するという問
題を伴なう。本発明に係る投影レンズは中間像倍率を大
きくしても画角を広くとれる構成を有している。すなわ
ち、マスクＭ１、Ｍ２でのみ軸外光束を規制し、中間像
の億円形を大きくすることによって画角を広くさせてい
る。この構成により、第ルンズ系の２番目のレンズ（ニ
ー２）と第２レンズ系の１番目のレンズ（■−１）の有
効径は、マスク有効径に比べてかなシ大きくなるが、そ
れよりも画角の方が広くなり、投影系での光量ムラを均
一化できる隣接投影レンズ光軸間の距離も犬きくなるの
で、スリット長手方向に配列させる投影レンズの個数が
減少し、製造上でも有利となる。このように中間像近傍
では一切の光束規制なせずに、中間像から離れた第ルン
ズ系の物体面側と第２レンズ系の結像面側にのみマスク
Ｍ】、Ｍ２を設けることは、マスクの形状や位置が変化
しても、投影レンズの光量分布が相似的に変化するだけ
で光量ムラに大きな影響を与えない有利呟も有している
。
レンズのうちの一つの投影レンズの断面を示し、２枚の
レンズ（１−１，ｌ−２）で構成される第ルンズ系（１
）が物体面（０）上でのある領域を中間像面ＣＭ）に倒
立で結像させ、そ（７）像４２枚のレンズ（ＩＩ−１，
ｌｌ−２）で構成すれる第２レンズ系（■）が結像面（
ｃ）に再度倒立で結像させることにより、全体として正
立等倍系な形成させている。この構成で第ルンズ系（１
）の２番目のレンズＣｌ−１および第２レンズ系（■）
の中間像面ＣＭ）側のレンズ（■−１）は収差補正に有
効に寄与するとともに、光量損失を防ぐ、いわゆるフィ
ールドレンズとしても働かすことができる。このことに
より明るい、性能の良好な投影レンズが可能となってい
る。また、第ルンズ系（工’ｒの物体面側と第２レンズ
系の結像面側にはそれぞれマスクＭ１、Ｍ２が配設され
ている。物体面Ｏ上の点Ｐから射出され、投影レンズを
通過する光束は上側光線Ｕと下側光線りとで示される範
囲にあり、光線Ｕと光線りはマスクＭ１とＭ２で規制さ
れている。このようにマスクＭ１とＭ２のみで投影レン
ズを通過する全ての光束を規制することにより、共役距
離が２０ｔｍ程度と非常に短かく、有効Ｆナンバーが３
．３と非常に明るい投影レンズを有し、光量ムラも少な
い投影系を達成できる。投影レンズを明るくするには、
収差補正上、前記のように中間像倍率を大きくする必要
があるが、これは投影系に光量ムラが発生するという問
題を伴なう。本発明に係る投影レンズは中間像倍率を大
きくしても画角を広くとれる構成を有している。すなわ
ち、マスクＭ１、Ｍ２でのみ軸外光束を規制し、中間像
の億円形を大きくすることによって画角を広くさせてい
る。この構成により、第ルンズ系の２番目のレンズ（ニ
ー２）と第２レンズ系の１番目のレンズ（■−１）の有
効径は、マスク有効径に比べてかなシ大きくなるが、そ
れよりも画角の方が広くなり、投影系での光量ムラを均
一化できる隣接投影レンズ光軸間の距離も犬きくなるの
で、スリット長手方向に配列させる投影レンズの個数が
減少し、製造上でも有利となる。このように中間像近傍
では一切の光束規制なせずに、中間像から離れた第ルン
ズ系の物体面側と第２レンズ系の結像面側にのみマスク
Ｍ】、Ｍ２を設けることは、マスクの形状や位置が変化
しても、投影レンズの光量分布が相似的に変化するだけ
で光量ムラに大きな影響を与えない有利呟も有している
。
第２図は前記構成の本発明に係る投影レンズの典型的な
光量分布を示している。横軸の原点ＣＩは第１図の光軸
Ｓと結像面Ｃとの交点Ｃ’［相当し、Ｋ１は第１図の最
大画角Ｋｌに相当している。図から明らかなように、光
量分布は原点Ｃ１から直線的に零になっている。投影系
の光量ムラへの影響は、この直線の傾きを緩やかにする
ことによって軽減でき、またマスクの形状、位置誤差に
よる直線の傾きの変化が少い程光量ムラへの影響を少な
くできる。マスクを中間像面に近づける程、直線の傾き
が急になり、マスクの形状、位置誤差による傾きの変化
も大となって、投影系の製造上問題を生じる。
光量分布を示している。横軸の原点ＣＩは第１図の光軸
Ｓと結像面Ｃとの交点Ｃ’［相当し、Ｋ１は第１図の最
大画角Ｋｌに相当している。図から明らかなように、光
量分布は原点Ｃ１から直線的に零になっている。投影系
の光量ムラへの影響は、この直線の傾きを緩やかにする
ことによって軽減でき、またマスクの形状、位置誤差に
よる直線の傾きの変化が少い程光量ムラへの影響を少な
くできる。マスクを中間像面に近づける程、直線の傾き
が急になり、マスクの形状、位置誤差による傾きの変化
も大となって、投影系の製造上問題を生じる。
第３図は第２図で示声些た投影レンズの画角に対する光
量分布をスリット走査方向に積分した光量分布で示して
いる。横軸はスリットの長手方向である。
量分布をスリット走査方向に積分した光量分布で示して
いる。横軸はスリットの長手方向である。
前記構成および特性を有する複数の投影レンズを、例え
ば、第５図に示すようにスリットの長手方向にピッチＰ
Ｔの間隔で二列に配置して投影系を構成した場合、その
結像面での光量分布は、第３図の光量分布をスリット長
手方向にピッチＰＴで並べ、各点での光量を合成して得
られる第４図（ａ）に示すような分布状態となる。第４
図（ａ）中、Ｐ１〜Ｐ５はそれぞれ各投影レンズの光軸
が結像面と交差する点での光量を示している。この図か
ら、結像面上のＩＡに対し７本〜８本の投影レンズが寄
与し、光量ムラが著しく少ないことがわかる。
ば、第５図に示すようにスリットの長手方向にピッチＰ
Ｔの間隔で二列に配置して投影系を構成した場合、その
結像面での光量分布は、第３図の光量分布をスリット長
手方向にピッチＰＴで並べ、各点での光量を合成して得
られる第４図（ａ）に示すような分布状態となる。第４
図（ａ）中、Ｐ１〜Ｐ５はそれぞれ各投影レンズの光軸
が結像面と交差する点での光量を示している。この図か
ら、結像面上のＩＡに対し７本〜８本の投影レンズが寄
与し、光量ムラが著しく少ないことがわかる。
なお、第４図（ｂ）は第５図の投影系を光軸方向から見
たもので、第５図にはマスクは図示されていない。２列
の投影系の列間の間隔りはスリット幅さえ大きくすれば
適当な任意の値でよいことは明らかである。また、この
例では、投影系を２列の投影レンズで構成しているが、
３列以上何列でもよく、この−合、列に応じてスリット
幅を大きくすればよい。勿論、−列でも光学性能は得ら
れる。
たもので、第５図にはマスクは図示されていない。２列
の投影系の列間の間隔りはスリット幅さえ大きくすれば
適当な任意の値でよいことは明らかである。また、この
例では、投影系を２列の投影レンズで構成しているが、
３列以上何列でもよく、この−合、列に応じてスリット
幅を大きくすればよい。勿論、−列でも光学性能は得ら
れる。
第６図は本発明の投影系のレンズをプラスチックス光学
材料を用いてシート状に構成し、これらを配列して投影
系を構成した断面図である。
材料を用いてシート状に構成し、これらを配列して投影
系を構成した断面図である。
シート状に構成させることは各投影レンズを個々に製造
することに比べ多大な有利さを有していることは明らか
である。同図から、ある投影レンズに入射した光線が隣
接した投影レンズに行くことが考えられるが、この不要
光線はレンズ（’ｌ−１）とレンズ（Ｉ−１間、レンズ
（Ｔｉ−１）とレンズ（■−２’）間、そしてレン、ズ
（Ｉ’−２”ｌとレンズｒＩ［−１）間とに、それぞれ
遮光筒を設けることにより除去できる。この遮光筒は、
投影レンズを通る有効光束がすべてマスク径によっての
み制限されていることにより、有効光束を規制しない大
きさの径さえ有していればよく製造上有利である。
することに比べ多大な有利さを有していることは明らか
である。同図から、ある投影レンズに入射した光線が隣
接した投影レンズに行くことが考えられるが、この不要
光線はレンズ（’ｌ−１）とレンズ（Ｉ−１間、レンズ
（Ｔｉ−１）とレンズ（■−２’）間、そしてレン、ズ
（Ｉ’−２”ｌとレンズｒＩ［−１）間とに、それぞれ
遮光筒を設けることにより除去できる。この遮光筒は、
投影レンズを通る有効光束がすべてマスク径によっての
み制限されていることにより、有効光束を規制しない大
きさの径さえ有していればよく製造上有利である。
次に本発明の投影系に使用される投影レンズの実施例を
示す。
示す。
実施例１
有効Ｆナンバー二３．３ 共役距離＝ ２０．８ ｎ
ｔ曲率半径 軸上間隔 屈折率 材質（ｔｍ）（ｆ
ｆｉｌ） Ｃｅ線）ｒｌ２．０９２ ｄｉ ２．５ Ｎ１ １．４９８ アクリル
ｄｅＱ、６ ｒ７ ２．０９２ ｄｙ ２．５ Ｎ４ １．４９８ アクリル
ｒ８ −２．０９２ マスクはｒｌの前０．２ｎと、ｒｓの後０，２罪のそれ
ぞれの位置にあシ、有効径は１．０朋φである。
ｔ曲率半径 軸上間隔 屈折率 材質（ｔｍ）（ｆ
ｆｉｌ） Ｃｅ線）ｒｌ２．０９２ ｄｉ ２．５ Ｎ１ １．４９８ アクリル
ｄｅＱ、６ ｒ７ ２．０９２ ｄｙ ２．５ Ｎ４ １．４９８ アクリル
ｒ８ −２．０９２ マスクはｒｌの前０．２ｎと、ｒｓの後０，２罪のそれ
ぞれの位置にあシ、有効径は１．０朋φである。
この実施例の様に、各レンズＩ −１（ｒｌ−ｒｓ）、
Ｉ −２（ｒｓ−ｒ４）、ＩＩ −１（ｒｓ−ｒｅ ）
、ＩＩ −２（ｒｒ−ｒｓ）を全て同一の曲率半径を有
する対称形の両凸レンズにすると、・一種類のレンズエ
レメントのみで投影レンズを構成でき、しかも裏表どち
ら向きに配置してもよいので、製造上および以上の説明
が示すように、本発明は従来例に比べて非常に明るく、
共役距離が短く、かつ光量ムラに対して４優れた構成を
有している明るい投影系を提供するものである。
Ｉ −２（ｒｓ−ｒ４）、ＩＩ −１（ｒｓ−ｒｅ ）
、ＩＩ −２（ｒｒ−ｒｓ）を全て同一の曲率半径を有
する対称形の両凸レンズにすると、・一種類のレンズエ
レメントのみで投影レンズを構成でき、しかも裏表どち
ら向きに配置してもよいので、製造上および以上の説明
が示すように、本発明は従来例に比べて非常に明るく、
共役距離が短く、かつ光量ムラに対して４優れた構成を
有している明るい投影系を提供するものである。
第１図は本発明の投影系に含まれる投影レンズの要部断
面図、第２図は本発明の投影レンズの光量分布図、第３
図は本発明の投影レンズのスリット長手方向に対するス
リット走査方向に積分した光量分布図、第４図（ａ）は
本発明の投影レンズのスリット長手方向に重畳された投
影系の光量分布図、第４図（ｂ）は光軸方向から見た投
影系の配列の確実施態様を示す説明図、第５図は本発明
の投影系の確実施態様を示す斜視図、第６図は本発明の
投影系の実施態様を示す模式断面図である。 ■・・・第２レンズ系、■・・・第２レンズ系、Ｍｌ。 Ｍ２・・・マスク。 特 許 出 願 人 ミノルタカメラ株式会社代理人弁
理士青山 葆 ほか２名 第１１ 第４図
面図、第２図は本発明の投影レンズの光量分布図、第３
図は本発明の投影レンズのスリット長手方向に対するス
リット走査方向に積分した光量分布図、第４図（ａ）は
本発明の投影レンズのスリット長手方向に重畳された投
影系の光量分布図、第４図（ｂ）は光軸方向から見た投
影系の配列の確実施態様を示す説明図、第５図は本発明
の投影系の確実施態様を示す斜視図、第６図は本発明の
投影系の実施態様を示す模式断面図である。 ■・・・第２レンズ系、■・・・第２レンズ系、Ｍｌ。 Ｍ２・・・マスク。 特 許 出 願 人 ミノルタカメラ株式会社代理人弁
理士青山 葆 ほか２名 第１１ 第４図
Claims (2)
- （１）物体面を結像面に伝達させる正立等倍系の投影系
において、該投影系は複数の投影レンズを含み、各投影
レンズは共軸の４枚のレンズから構成され、この４枚の
レンズは物体側から順に倒立の中間像を形成する２枚の
レンズから成る第ルンズ系と、該中間像を結像面に伝達
する２枚のレンズから成る第２レンズ系に分けられ、前
記第ルンズ系と第２レンズ系は前記中間像に対して対称
であシ、第ルンズ系の物体面側と第２レンズ系の結像面
側にのみ軸上、軸外光束を規制工するマスクが設けられ
ていることを特徴とする明るい投影系。 - （２）上記４枚のレンズが全て同一の曲率半径を有する
両凸レンズである特許請求の範囲第１項記載の明るい投
影系。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1054782A JPS58127913A (ja) | 1982-01-25 | 1982-01-25 | 明るい投影系 |
| US06/459,231 US4474459A (en) | 1982-01-20 | 1983-01-19 | Optical projection system |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1054782A JPS58127913A (ja) | 1982-01-25 | 1982-01-25 | 明るい投影系 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58127913A true JPS58127913A (ja) | 1983-07-30 |
Family
ID=11753281
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1054782A Pending JPS58127913A (ja) | 1982-01-20 | 1982-01-25 | 明るい投影系 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58127913A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05196889A (ja) * | 1991-09-11 | 1993-08-06 | Hughes Aircraft Co | 屈折および回折の光学素子を使用する画像再形成光学システム |
-
1982
- 1982-01-25 JP JP1054782A patent/JPS58127913A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05196889A (ja) * | 1991-09-11 | 1993-08-06 | Hughes Aircraft Co | 屈折および回折の光学素子を使用する画像再形成光学システム |
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