JPS58124793A - 1,3,2−ジオキサホスホ−ル類の製造法 - Google Patents
1,3,2−ジオキサホスホ−ル類の製造法Info
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- JPS58124793A JPS58124793A JP666882A JP666882A JPS58124793A JP S58124793 A JPS58124793 A JP S58124793A JP 666882 A JP666882 A JP 666882A JP 666882 A JP666882 A JP 666882A JP S58124793 A JPS58124793 A JP S58124793A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明線、式
〔式中、()は置換されていてもよいベンゼン環を、R
は置換されていてもよいアリール、アルコキVまたはア
ラルキルオキV基を示す〕で表わされる1、3.2−ジ
オキナホスホール類の製造法に関する。
は置換されていてもよいアリール、アルコキVまたはア
ラルキルオキV基を示す〕で表わされる1、3.2−ジ
オキナホスホール類の製造法に関する。
式(1)の化合物は、九とえはペニシリン化合物を環拡
大反応によって細菌性疾患の治療上重要な価値を有する
セファロスポリン系抗生物質或いはその中間体に誘導す
る際の有用な中性触媒である(特開昭5O−4091)
fiか、醗酵培費で得られるデア七チルセファ!スポツ
ンC(DCPC)、あるいはDCPC又は同じく醗酵法
で得られる−7アpスポリンCO誘導体で3位に−(J
、OR基を有するセファロ化合物に求核試薬を反応させ
抗生物質又はその中間体として重要な3位が求核基で置
換され九メチル基であるセファロ化金物を製造する九め
に有用な化合物である(特願昭56−143302)。
大反応によって細菌性疾患の治療上重要な価値を有する
セファロスポリン系抗生物質或いはその中間体に誘導す
る際の有用な中性触媒である(特開昭5O−4091)
fiか、醗酵培費で得られるデア七チルセファ!スポツ
ンC(DCPC)、あるいはDCPC又は同じく醗酵法
で得られる−7アpスポリンCO誘導体で3位に−(J
、OR基を有するセファロ化合物に求核試薬を反応させ
抗生物質又はその中間体として重要な3位が求核基で置
換され九メチル基であるセファロ化金物を製造する九め
に有用な化合物である(特願昭56−143302)。
このような式(1)で表わされる1、3.2−ジオキナ
ホスホール類oH造法については、これまで多くの検討
がなされてきてシ〕、 〔式中、R1はアルコールの残基を示す〕例えば、(1
)L Ansohitg (アナーレン(Annale
n)、454巻、109−120頁、1927年)によ
る■→■→■のルー)、(2)tA、Khwaja等(
ジャーナル オプ ザ ケミカル ソサエティ(C)(
J、 Chea 8oe、(C) ) 、 1970年
、2092−2100頁)による■→■→■−■のルー
)、(3)iLGross等(ケ電ツシエ ペリヒテ(
Ch@mLBer、 )、96巻、1387−1394
頁、1963年および東独国特許50605.1971
年5月5日会開)による■−■−■のルートなどが知ら
れている。しかしながら、(1)の方法では原料PCl
5は昇華性で取扱いにくい、収率が低い、副産物として
悪臭有害な塩化メタンが生成する点で不利であ)、(2
)の方法では工稈数が多い、収率が低い、中間体■、■
の蒸留で生じる残留物の量が李くかつ固化し為いため歌
扱いにくい点で不利であり、(3)の方法でも収率が低
い点が問題である他に、(1)〜(3)の方法のいずれ
の場合にも中間体■、■、■が吸湿し易く又吸湿で分解
し易い丸め拳扱いにくい点などから、これらの方法はい
ずれも(I)を工業的に大量生産するには不利であ夛、
(1)を製造する丸めのより有利な方法の開発が望まれ
ていえ。
ホスホール類oH造法については、これまで多くの検討
がなされてきてシ〕、 〔式中、R1はアルコールの残基を示す〕例えば、(1
)L Ansohitg (アナーレン(Annale
n)、454巻、109−120頁、1927年)によ
る■→■→■のルー)、(2)tA、Khwaja等(
ジャーナル オプ ザ ケミカル ソサエティ(C)(
J、 Chea 8oe、(C) ) 、 1970年
、2092−2100頁)による■→■→■−■のルー
)、(3)iLGross等(ケ電ツシエ ペリヒテ(
Ch@mLBer、 )、96巻、1387−1394
頁、1963年および東独国特許50605.1971
年5月5日会開)による■−■−■のルートなどが知ら
れている。しかしながら、(1)の方法では原料PCl
5は昇華性で取扱いにくい、収率が低い、副産物として
悪臭有害な塩化メタンが生成する点で不利であ)、(2
)の方法では工稈数が多い、収率が低い、中間体■、■
の蒸留で生じる残留物の量が李くかつ固化し為いため歌
扱いにくい点で不利であり、(3)の方法でも収率が低
い点が問題である他に、(1)〜(3)の方法のいずれ
の場合にも中間体■、■、■が吸湿し易く又吸湿で分解
し易い丸め拳扱いにくい点などから、これらの方法はい
ずれも(I)を工業的に大量生産するには不利であ夛、
(1)を製造する丸めのより有利な方法の開発が望まれ
ていえ。
そこで、本発明者等は式〔1〕で表わされる化合物O製
法を種々検討した結果、大 物と式 〔式中、Xはハロゲンを、Rは前記と同意義を示す〕で
表わされる化合物を塩基の存在下約30℃以下で反応さ
せると、意外にも1工程で化金物〔■〕が短時間で収率
よく得られ、極めて工業的に有利であることを見出し、
これに基づいて本発明を完成した。
法を種々検討した結果、大 物と式 〔式中、Xはハロゲンを、Rは前記と同意義を示す〕で
表わされる化合物を塩基の存在下約30℃以下で反応さ
せると、意外にも1工程で化金物〔■〕が短時間で収率
よく得られ、極めて工業的に有利であることを見出し、
これに基づいて本発明を完成した。
即ち、本発明社、化合物(1)と化金物(1)を塩基の
存在下約30℃以下で反応させることを特11とする、
1,3.2−ジオキサホスホール類CI)の製造法に関
する。
存在下約30℃以下で反応させることを特11とする、
1,3.2−ジオキサホスホール類CI)の製造法に関
する。
ン環を示し、ペンぜン環上O置換基としては、零度応・
K関与しない−のであれば如何なるものでもよく、例え
ばメチル、エチル、n−デービル、1−デロビル、n−
ブチル、ペンチルなどのC1〜C6()直鎖状を九は分
校状の低級アルキル基、たニエケメトキシ、エトキV、
1−デービルオキシなどOC工〜C6の直鎖状または分
校状0@IIアルキWJL*とえばメチルチオ、エチル
チオ、n−デーピルチオ、1−プロピルチオなどのC0
〜C60直鎖状を九は分校状の低級アルキルチオ基、た
とえばアセチル、プ四ピオニルー&トのC2−C60低 ニルオキシなどのC2−C6の低級アシルオキシ基、た
とえばアセチルアミノなどのCf1−C,6の低級アV
141アミ7基、たとえばジメチルアミノメチル、ジメ
チルアミノエチル、ジエチルアミノメチル、ジエチルア
ミノエチルなどのり低級(C工〜C6)アルキルアミノ
低級(01〜C6)アルキル基、たとえばメトキシカル
ボニル、エトキシカルボニル、吋エノキVカルボニルな
どの0l−C6の低級アルコキシカルボニル又はC c
(10のアリールオキシカルボ=3−、ニトロ、ハロゲ
ン( !Ir, C1、工、r)、シアノなどの一価基
が用いられ、これ等−価の置換基は同−又は異って1〜
4個置換していてもよく、さらに、たとえばメチレンジ
オキV1エチレンジオキ ’ C’ (工:などの二価
基がペンぜン環上の置換基として用いられ、ヒれら二価
基はたとえばハロゲン、シアノ、ニトロ、オキソ、カル
ボキS/ル基などにより置換されていて屯よい。
K関与しない−のであれば如何なるものでもよく、例え
ばメチル、エチル、n−デービル、1−デロビル、n−
ブチル、ペンチルなどのC1〜C6()直鎖状を九は分
校状の低級アルキル基、たニエケメトキシ、エトキV、
1−デービルオキシなどOC工〜C6の直鎖状または分
校状0@IIアルキWJL*とえばメチルチオ、エチル
チオ、n−デーピルチオ、1−プロピルチオなどのC0
〜C60直鎖状を九は分校状の低級アルキルチオ基、た
とえばアセチル、プ四ピオニルー&トのC2−C60低 ニルオキシなどのC2−C6の低級アシルオキシ基、た
とえばアセチルアミノなどのCf1−C,6の低級アV
141アミ7基、たとえばジメチルアミノメチル、ジメ
チルアミノエチル、ジエチルアミノメチル、ジエチルア
ミノエチルなどのり低級(C工〜C6)アルキルアミノ
低級(01〜C6)アルキル基、たとえばメトキシカル
ボニル、エトキシカルボニル、吋エノキVカルボニルな
どの0l−C6の低級アルコキシカルボニル又はC c
(10のアリールオキシカルボ=3−、ニトロ、ハロゲ
ン( !Ir, C1、工、r)、シアノなどの一価基
が用いられ、これ等−価の置換基は同−又は異って1〜
4個置換していてもよく、さらに、たとえばメチレンジ
オキV1エチレンジオキ ’ C’ (工:などの二価
基がペンぜン環上の置換基として用いられ、ヒれら二価
基はたとえばハロゲン、シアノ、ニトロ、オキソ、カル
ボキS/ル基などにより置換されていて屯よい。
式(1)0化舎物の具体例を示せば、例えばビリカテコ
ール、ホモカテコール、3.4−$’ヒドロ*s−安a
it酸メチルエステル、2−ヒドロキシ4−デリビオニ
ルフエノール、3.4−ジヒドリキVクロルベンゼン、
3.4−ジヒドロキVメ)キシベンゼン、1*2−/ヒ
ドロキシナフタレンなどが用いられる。特に、九とえば
ピロカテコールなどが繁用される。
ール、ホモカテコール、3.4−$’ヒドロ*s−安a
it酸メチルエステル、2−ヒドロキシ4−デリビオニ
ルフエノール、3.4−ジヒドリキVクロルベンゼン、
3.4−ジヒドロキVメ)キシベンゼン、1*2−/ヒ
ドロキシナフタレンなどが用いられる。特に、九とえば
ピロカテコールなどが繁用される。
上記式中のX1jF 、 C1、Br などのハロゲ
ンを示し、とりわけC1を示す場合に好結果が得られる
。Rは置換されていて屯よいアタール、アルコ*ytた
はアルキルチキV基を示し、アヅール基としてはたとえ
ばフエ二′ル、トリル、キシリル、ビフェニル、ナフチ
ルなどが用いられ、アル丸ごときC□〜C6の直鎖状ま
たは分校状の低級アルコキシ基などが用いられ、アツA
/キルオキV基としてはたとえばベンジルオキシ、フエ
車チルオキV1フェニルプロピルオキシ、ナフチルメチ
ルオキVなどが用いられる。とれらアリール、アルスキ
V1アヲルキルオキシ基は置換されていて−ごときハロ
ゲン、ニトロ、シアノ、オキソ、C1〜C6低級アルコ
キシ、01〜C6低級アルキルチオ、アルコキシfFル
ボニル基のほか、たとえばメチルスルホニル、エチルス
ルホニル、n−プロピルスルホニル、1−ブリビルスル
ーニル、n−ブチルスルホニルなどのC1〜C6の低級
アルキルスルホニル基、アリルスルホニル基などが用い
ラレメチルスルホニルエい゛吹2−メトキシカルヂニル
エ)〜V、2−メFキシエト岬Vなどが繁用される。
ンを示し、とりわけC1を示す場合に好結果が得られる
。Rは置換されていて屯よいアタール、アルコ*ytた
はアルキルチキV基を示し、アヅール基としてはたとえ
ばフエ二′ル、トリル、キシリル、ビフェニル、ナフチ
ルなどが用いられ、アル丸ごときC□〜C6の直鎖状ま
たは分校状の低級アルコキシ基などが用いられ、アツA
/キルオキV基としてはたとえばベンジルオキシ、フエ
車チルオキV1フェニルプロピルオキシ、ナフチルメチ
ルオキVなどが用いられる。とれらアリール、アルスキ
V1アヲルキルオキシ基は置換されていて−ごときハロ
ゲン、ニトロ、シアノ、オキソ、C1〜C6低級アルコ
キシ、01〜C6低級アルキルチオ、アルコキシfFル
ボニル基のほか、たとえばメチルスルホニル、エチルス
ルホニル、n−プロピルスルホニル、1−ブリビルスル
ーニル、n−ブチルスルホニルなどのC1〜C6の低級
アルキルスルホニル基、アリルスルホニル基などが用い
ラレメチルスルホニルエい゛吹2−メトキシカルヂニル
エ)〜V、2−メFキシエト岬Vなどが繁用される。
と夛わけ、Rがたとえばメトキシ、エトキシなどの低級
アルコキシ基を示す時に好結果が得られる。
アルコキシ基を示す時に好結果が得られる。
本発明の方法性、化介物(1)と化合物〔曹〕を塩基の
存在下約30℃以下で反応させることにより実施される
。
存在下約30℃以下で反応させることにより実施される
。
化合物〔璽〕は、遊離のままであるいはたとえば下記で
述べるごとき塩基などとの塩として反応に供される。本
発明に用いられる塩基としては、たとえばトリエチルア
ミン、トリエチルアミン、トリーrr(チルアミン、N
−メチルピペリジン、シクロへキシルジメチルアミン、
N−メチルモルホリンなどの3級アミン、たとえばジイ
ソブチルアミン、ジイソブチルアミン、ジシクロヘキシ
ルアミンなどのジアルキルアミン、たとえばビヴジン、
ルチジン、r−コリジンなどの芳香族アミンなどの有機
アミン類、たとえばリチウム、ナトリウム、カリウムな
どのアルカリ金属゛、たとえばカルシウム、マグネシウ
ムなどのアルカリ土類金属、テトフェチルアンモニウム
、デトヲプチルアンモニウムなどの第4級アンモニウム
などの無機アミン類などが用いられる。これ等の塩基は
化合物〔1〕中のフェノール性水酸基との壜を形成させ
て用いて本よく、反応に際して添加して亀よく、あるい
け化合物〔薯〕と混合して用いてもよい。
述べるごとき塩基などとの塩として反応に供される。本
発明に用いられる塩基としては、たとえばトリエチルア
ミン、トリエチルアミン、トリーrr(チルアミン、N
−メチルピペリジン、シクロへキシルジメチルアミン、
N−メチルモルホリンなどの3級アミン、たとえばジイ
ソブチルアミン、ジイソブチルアミン、ジシクロヘキシ
ルアミンなどのジアルキルアミン、たとえばビヴジン、
ルチジン、r−コリジンなどの芳香族アミンなどの有機
アミン類、たとえばリチウム、ナトリウム、カリウムな
どのアルカリ金属゛、たとえばカルシウム、マグネシウ
ムなどのアルカリ土類金属、テトフェチルアンモニウム
、デトヲプチルアンモニウムなどの第4級アンモニウム
などの無機アミン類などが用いられる。これ等の塩基は
化合物〔1〕中のフェノール性水酸基との壜を形成させ
て用いて本よく、反応に際して添加して亀よく、あるい
け化合物〔薯〕と混合して用いてもよい。
なかで本、好ましい塩基としては、たとえばトリメチル
アミン、トリエチルアミン、トリ・−n−ブチルア文ン
などのFリー低級(C1〜C6)アルキルアミン、たと
えばピリジン、ルチジンなどの芳香族6員環アミンなど
が用いられ、とりわけたとえばトリエチルアミン、トリ
ーn−ブチルアミン、ピリジンなどが繁用される。
アミン、トリエチルアミン、トリ・−n−ブチルア文ン
などのFリー低級(C1〜C6)アルキルアミン、たと
えばピリジン、ルチジンなどの芳香族6員環アミンなど
が用いられ、とりわけたとえばトリエチルアミン、トリ
ーn−ブチルアミン、ピリジンなどが繁用される。
本反応は、通常化合物(1)と化金物〔薯〕を混合し約
30℃以下で塩基と混合するか、化金物(1)と塩基を
混合し約30℃以下で化合物〔量〕と混合するか、ある
いは化合物(1)の前記のごとき塩基との塩と化合物〔
璽〕を約30℃以下で混合する方法で行慶うのがよく、
反応amは0℃以下、特に−5〜−40℃がよい。まえ
、溶媒を用いることにより本反応をより有利に進めるこ
とができ、とのような溶媒としては本反応Kll轡しな
い有機溶媒が用いられるが、原料化合物〔薯〕および目
的物(1)が水と反応し加水分解し島い性質を有するた
め寮質的には無氷の非プロトン性溶媒が用いられる。か
くのごとき溶媒としては、例えば権化メチレン、クロロ
ホルム、四塩化炭素、1.2−ジクロロエタン、1.1
.2−)ジクロロエタンなどのハロゲン化度化水素類、
たとえばジメチルエーテル、メチルエチルエーテル、ジ
エチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンなど
のエーテル類、たとえばアセトニトリル、プロピオニト
リルなどの有機ニトリfi/′R1たとえばニトロメタ
ン、ニトロエタンなどのニトロアルカン類、たとえば酢
酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル危どのエス
テル類、たとえばアセFン、メチルエチルケトンなどの
ケ艷ン類、九とえげベンゼン、トルエン、クロロベンゼ
ン、ブロモベンゼンなどの芳香族炭化水素類、たとえば
石油エーテル、ヘキサン、シクロヘキサンなどの脂肪族
炭化水素類、九とえばスルホランなどのヌルホン類など
の化合物〔l〕と反応しない溶媒又はこれ等の混合物が
用いられる。用いられる溶媒中好ましいものは、たとえ
ば塩化メチレン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水
素類、たとえばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン
などのエーテル類、たとえばアセトニトリル、プロピオ
ニトリルなどO有機ニド9ル類であ夛、特に九とえはジ
エチルエーテル、権化メチレン、アセトニトリルなどが
繁用される。仁のような有機溶媒を用いる場合の反応は
、通常化介物(1)と化合物〔璽〕を有機溶媒中で混合
し、約3(1以下で権幕と混合するか、化介物(1)と
塩基を有機溶媒中で混合し約30℃以下で化介物rl)
と混合するか、或いは化介物(1)の藺紀のごとき鵬基
との塊を化合物(1)と有機溶媒中約30℃以下で混合
する方法で実施される。化介物(璽〕畦、化金物〔13
1モルに対し通常0.8〜1.2モル奸第1゜〈は0.
95〜1.05モル反応させる、用いられる塩基の景は
、化学量論的KFi本反応により化合物〔1〕1モル当
〕ハロゲン化水素2モルが生じ塩基と堆をyf8p、す
るので化介物〔131モルに対し2モルがyP要である
が、本反応に11!lIFのきいかぎり化合物(1)1
モルに対し1.6〜2.4そルの1基が用いられ、好ま
しくは〔131モルに対し1.8〜2.2モルの塩基が
用いられる。
30℃以下で塩基と混合するか、化金物(1)と塩基を
混合し約30℃以下で化合物〔量〕と混合するか、ある
いは化合物(1)の前記のごとき塩基との塩と化合物〔
璽〕を約30℃以下で混合する方法で行慶うのがよく、
反応amは0℃以下、特に−5〜−40℃がよい。まえ
、溶媒を用いることにより本反応をより有利に進めるこ
とができ、とのような溶媒としては本反応Kll轡しな
い有機溶媒が用いられるが、原料化合物〔薯〕および目
的物(1)が水と反応し加水分解し島い性質を有するた
め寮質的には無氷の非プロトン性溶媒が用いられる。か
くのごとき溶媒としては、例えば権化メチレン、クロロ
ホルム、四塩化炭素、1.2−ジクロロエタン、1.1
.2−)ジクロロエタンなどのハロゲン化度化水素類、
たとえばジメチルエーテル、メチルエチルエーテル、ジ
エチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンなど
のエーテル類、たとえばアセトニトリル、プロピオニト
リルなどの有機ニトリfi/′R1たとえばニトロメタ
ン、ニトロエタンなどのニトロアルカン類、たとえば酢
酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル危どのエス
テル類、たとえばアセFン、メチルエチルケトンなどの
ケ艷ン類、九とえげベンゼン、トルエン、クロロベンゼ
ン、ブロモベンゼンなどの芳香族炭化水素類、たとえば
石油エーテル、ヘキサン、シクロヘキサンなどの脂肪族
炭化水素類、九とえばスルホランなどのヌルホン類など
の化合物〔l〕と反応しない溶媒又はこれ等の混合物が
用いられる。用いられる溶媒中好ましいものは、たとえ
ば塩化メチレン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水
素類、たとえばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン
などのエーテル類、たとえばアセトニトリル、プロピオ
ニトリルなどO有機ニド9ル類であ夛、特に九とえはジ
エチルエーテル、権化メチレン、アセトニトリルなどが
繁用される。仁のような有機溶媒を用いる場合の反応は
、通常化介物(1)と化合物〔璽〕を有機溶媒中で混合
し、約3(1以下で権幕と混合するか、化介物(1)と
塩基を有機溶媒中で混合し約30℃以下で化介物rl)
と混合するか、或いは化介物(1)の藺紀のごとき鵬基
との塊を化合物(1)と有機溶媒中約30℃以下で混合
する方法で実施される。化介物(璽〕畦、化金物〔13
1モルに対し通常0.8〜1.2モル奸第1゜〈は0.
95〜1.05モル反応させる、用いられる塩基の景は
、化学量論的KFi本反応により化合物〔1〕1モル当
〕ハロゲン化水素2モルが生じ塩基と堆をyf8p、す
るので化介物〔131モルに対し2モルがyP要である
が、本反応に11!lIFのきいかぎり化合物(1)1
モルに対し1.6〜2.4そルの1基が用いられ、好ま
しくは〔131モルに対し1.8〜2.2モルの塩基が
用いられる。
有機*gが用いられる場合には、化合物〔l〕1モ〜に
対して0.1〜201好ましくはO,Sm2O3の有機
溶媒が用いられる。反応湿度は、高温では副生成物が生
じ易くなるので望ましくは低塩の方がよく、通常約30
℃以下であって、副生成物の生成率および工業化上可能
な冷却度を考慮すれば、通常30〜−100℃の範囲で
ある。また、目的物の純度、収率および冷却の効率を考
えた場合KtilO〜−50℃よシ好ましくは−10〜
−30℃の泥膚範囲で反応を実施するのが、工業上有利
である。突って、化合物(1)と(1)を塩基の存在下
に混合する段階では激しく発熱し反応するので冷却下に
少量ずつ混合するのがgIiましい。反応時間は冷却の
効率などにより異るが、数分〜数時間であるうさら(、
マ料化合物〔爾〕および目的物CI)は水と反応し島い
ので反応に用いる原料、反応溶媒は低水分のものを用い
るのが好ましく、反応は湿気を遮断して行う方が好まし
い。
対して0.1〜201好ましくはO,Sm2O3の有機
溶媒が用いられる。反応湿度は、高温では副生成物が生
じ易くなるので望ましくは低塩の方がよく、通常約30
℃以下であって、副生成物の生成率および工業化上可能
な冷却度を考慮すれば、通常30〜−100℃の範囲で
ある。また、目的物の純度、収率および冷却の効率を考
えた場合KtilO〜−50℃よシ好ましくは−10〜
−30℃の泥膚範囲で反応を実施するのが、工業上有利
である。突って、化合物(1)と(1)を塩基の存在下
に混合する段階では激しく発熱し反応するので冷却下に
少量ずつ混合するのがgIiましい。反応時間は冷却の
効率などにより異るが、数分〜数時間であるうさら(、
マ料化合物〔爾〕および目的物CI)は水と反応し島い
ので反応に用いる原料、反応溶媒は低水分のものを用い
るのが好ましく、反応は湿気を遮断して行う方が好まし
い。
反応で生成した〔1〕は反応混合物のまま用いる仁とが
できる。目的物(1)を含む反応混合物を保存する場合
には、(1)が塩基又ti堆基の堆酸填の存在下では高
温では不安定でありま丸木と反応し島いOで、30℃以
下好ましくFi10〜−50℃の低湿で湿気を遮断し保
存する。反応液から(1)を単離することが所望される
場合には、たとえば反応液から或いは反応液にハロゲン
化水素を加えることにより唆いは反応液に反応で生じる
塩基Oハロゲン化水素との堆が111!lI性で〔1〕
が溶解し易いたとえばエーテル、ベンゼン、権化メチレ
ン、アセトニトリル、酢酸エチルなどの適宜に選ばれた
溶媒を添加する。ことにより、析出し九塩基のハロゲン
化水素填をたとえばP′i14などによ)除去してから
濃縮する、あるいはIP!Kli*または結晶化などの
精製操作に付すことなどによりvg為に単離精製するこ
とかで傘る。
できる。目的物(1)を含む反応混合物を保存する場合
には、(1)が塩基又ti堆基の堆酸填の存在下では高
温では不安定でありま丸木と反応し島いOで、30℃以
下好ましくFi10〜−50℃の低湿で湿気を遮断し保
存する。反応液から(1)を単離することが所望される
場合には、たとえば反応液から或いは反応液にハロゲン
化水素を加えることにより唆いは反応液に反応で生じる
塩基Oハロゲン化水素との堆が111!lI性で〔1〕
が溶解し易いたとえばエーテル、ベンゼン、権化メチレ
ン、アセトニトリル、酢酸エチルなどの適宜に選ばれた
溶媒を添加する。ことにより、析出し九塩基のハロゲン
化水素填をたとえばP′i14などによ)除去してから
濃縮する、あるいはIP!Kli*または結晶化などの
精製操作に付すことなどによりvg為に単離精製するこ
とかで傘る。
危お、本発明方法において用いられる原料化合物〔璽〕
は、たとえば式R−Fl(R1−j前記と回實義)で表
わされる化金物とオキシハロゲン化りンまたは四ハロゲ
ン化ジホスホリルとの反応(水量等、薬学雑誌、81巻
、51〜52頁、1961年およびFLGrunze、
Chea Bar、、 92巻、85〇−854頁、1
959年など)fたはそれに準じ九反応などKよ〕容易
に製造される。
は、たとえば式R−Fl(R1−j前記と回實義)で表
わされる化金物とオキシハロゲン化りンまたは四ハロゲ
ン化ジホスホリルとの反応(水量等、薬学雑誌、81巻
、51〜52頁、1961年およびFLGrunze、
Chea Bar、、 92巻、85〇−854頁、1
959年など)fたはそれに準じ九反応などKよ〕容易
に製造される。
かくして、上記のごとき本発明方法に従えば、目的物(
1)は、工業上取扱い易くかつ!価な原料より、1工程
で、緩和な反応条件下短時間で、高純度で収率よく製造
することができ、本発明方法社工業生噸上極めて有利な
(1)0製造法である。
1)は、工業上取扱い易くかつ!価な原料より、1工程
で、緩和な反応条件下短時間で、高純度で収率よく製造
することができ、本発明方法社工業生噸上極めて有利な
(1)0製造法である。
実施例/
ピロカテコール1.691g(15,36mM)をエー
テル60jK溶かし、トリエチルアミン3.109g(
30,72mM )を滴下し、エーテル105gで滴下
漏斗を洗った洗液4人れ、攪拌し、−40〜−35℃に
冷却しながらジクロロリン酸メチル2.287g(15
,3611M )を滴下し、エーテル10dで滴下漏斗
を洗った洗液も入れた。
テル60jK溶かし、トリエチルアミン3.109g(
30,72mM )を滴下し、エーテル105gで滴下
漏斗を洗った洗液4人れ、攪拌し、−40〜−35℃に
冷却しながらジクロロリン酸メチル2.287g(15
,3611M )を滴下し、エーテル10dで滴下漏斗
を洗った洗液も入れた。
同温でlO分間攪拌後冷却浴を外し室11に戻し、反応
混合物をグラスフィルターに入れ窒素ガスで加圧して濾
過し、Fffiをエーテル15dずつで2回洗浄濾過し
、r洗液を20℃の水浴で減圧下に濃縮スるとメチル0
−フェニレンホスフェイトが無色粘稠油として1.84
7g(収率96.0%)得られた。水晶を冷蔵庫におく
と結晶となった。
混合物をグラスフィルターに入れ窒素ガスで加圧して濾
過し、Fffiをエーテル15dずつで2回洗浄濾過し
、r洗液を20℃の水浴で減圧下に濃縮スるとメチル0
−フェニレンホスフェイトが無色粘稠油として1.84
7g(収率96.0%)得られた。水晶を冷蔵庫におく
と結晶となった。
LH−11MR(CDCl2)δ: 3.82および4
.03(3F!。
.03(3F!。
それぞれe 、 P−OCF!3 )、7.09(4H
,s。
,s。
α)、eKIJIのエーテル、トリエチルアミンのシグ
ナルが認められ九。
ナルが認められ九。
TLCのRt値: 0.31 (キーゼルゲル(Kie
−selgel )60F”−254、ア七トニトリ
ル:水:99%ギヤ=220:20:1) 実施例コ ビロカテコール1.249g(11,35mkl)をエ
ーテル42wtK溶かし、トリエチルアミン2.297
鍔(22,70mM )、ジクロロ9ン酸エチル1.8
49g(11,35m蓋)を用いて反応温度−40〜−
35℃で実施例/と同様に反応および後処理を行うとエ
チルO−フェニレンホスフェイト2.159g(収率9
5.0%)が無色粘稠油として得られた。
−selgel )60F”−254、ア七トニトリ
ル:水:99%ギヤ=220:20:1) 実施例コ ビロカテコール1.249g(11,35mkl)をエ
ーテル42wtK溶かし、トリエチルアミン2.297
鍔(22,70mM )、ジクロロ9ン酸エチル1.8
49g(11,35m蓋)を用いて反応温度−40〜−
35℃で実施例/と同様に反応および後処理を行うとエ
チルO−フェニレンホスフェイト2.159g(収率9
5.0%)が無色粘稠油として得られた。
’)T−4MR(CDC13)δ: 1.42(3H,
t、J=7Hz。
t、J=7Hz。
c−cu3)、4.23および4.40(211,それ
ぞれq。
ぞれq。
J=7Hz 、 P OCFI2 )、7.08(41
’I、ss。
’I、ss。
α )、その他微量のエーテルおよびトリエチルアミン
のシグナルが認められた。
のシグナルが認められた。
TLCのRf値: 0.36(実施例/と同条件)実施
例3 ビロカテコ−vo、993g(9,02mM )をエー
テfiy50m/に溶かし、トリエチルアミン1.82
5g(18,04mM )、ジクoロリン酸n−ブチf
i/1.723g(9,02mM )を用いて反応温度
−5〜0でで実施例/と同様に反応およヒ後処理を行う
とn−ブチル0−フェニレンホスフェイト1.914g
(収率93.0%)が無色粘稠油として得られた。
例3 ビロカテコ−vo、993g(9,02mM )をエー
テfiy50m/に溶かし、トリエチルアミン1.82
5g(18,04mM )、ジクoロリン酸n−ブチf
i/1.723g(9,02mM )を用いて反応温度
−5〜0でで実施例/と同様に反応およヒ後処理を行う
とn−ブチル0−フェニレンホスフェイト1.914g
(収率93.0%)が無色粘稠油として得られた。
1R−NMR(CDC13)δ: 0.7〜2.0(5
F!、m、C−CH2CH2CH3)、4.13および
4.28(2Lそれぞれt 、 J=6.5Hz 、
P 0−CFI2)、7.1゜(4Fie ’ *α)
、その他微最のエーテルおよびトリエチルアミンのシグ
ナルが認められ喪。
F!、m、C−CH2CH2CH3)、4.13および
4.28(2Lそれぞれt 、 J=6.5Hz 、
P 0−CFI2)、7.1゜(4Fie ’ *α)
、その他微最のエーテルおよびトリエチルアミンのシグ
ナルが認められ喪。
TLC:Rf値0゜45(実施例/と同条件)実施例ク
ビロカテコー/%10.856g(7,77mM )を
エーテfiy32mK#かし、トリエチルアミン1.5
73g(15,54mM )、ジクaaりン酔n−プロ
ピル1.484g(7,77mM )を用いて反応温度
−30〜−25℃で実施例/と同様に反応および後処理
を行うと、n−プロピル〇−フェニレンホスフェイト1
.6c+sg(収率c+s、6%)が粘稠油(微温)と
して得られた。
エーテfiy32mK#かし、トリエチルアミン1.5
73g(15,54mM )、ジクaaりン酔n−プロ
ピル1.484g(7,77mM )を用いて反応温度
−30〜−25℃で実施例/と同様に反応および後処理
を行うと、n−プロピル〇−フェニレンホスフェイト1
.6c+sg(収率c+s、6%)が粘稠油(微温)と
して得られた。
111−NMR(CD(J3)δ: 0.97(3ft
、t、J =7Rz。
、t、J =7Rz。
C−CH5)、1.77(2H,q、J=7x7.5H
2゜0−C−CH2)、4.15および4.29(2L
それぞれq 、 :f=7.5Hz 、 P−0−CF
!2 )、7.0R(4H,s、α )、その他微量の
エーテルシよびトリエチルアミンのシグナルが認められ
た。
2゜0−C−CH2)、4.15および4.29(2L
それぞれq 、 :f=7.5Hz 、 P−0−CF
!2 )、7.0R(4H,s、α )、その他微量の
エーテルシよびトリエチルアミンのシグナルが認められ
た。
TLCのRf値:0.41(1%施例/と同条件)51
!施例第 3.4−ジヒドロキシ安息香酸エチル1.989g(1
0,93!IIM )をエーテル30mに溶かし、トリ
エチルアミン2.21゜Ig(21,86mIM )を
加え、−30〜−20℃に冷却し、攪拌し慶からジクロ
ロリン酸メチル1.627g(10,93FIM )を
エーテル10mgに溶かし九溶液を滴下した(10分間
を要した)。反応混合物を5分Iw1同温で攪拌した後
、外温を外し20℃に戻し実施例/の方法で一過洗浄し
、枦洗液を室温で減圧TKflA縮すると5−エトキV
カルボニ〜−2−メトキシ−2−オキソ−1,3,2−
ペンゾνオキサホヌホ−A/2.387g(収率84.
6%)が粘稠油として得られ九。
!施例第 3.4−ジヒドロキシ安息香酸エチル1.989g(1
0,93!IIM )をエーテル30mに溶かし、トリ
エチルアミン2.21゜Ig(21,86mIM )を
加え、−30〜−20℃に冷却し、攪拌し慶からジクロ
ロリン酸メチル1.627g(10,93FIM )を
エーテル10mgに溶かし九溶液を滴下した(10分間
を要した)。反応混合物を5分Iw1同温で攪拌した後
、外温を外し20℃に戻し実施例/の方法で一過洗浄し
、枦洗液を室温で減圧TKflA縮すると5−エトキV
カルボニ〜−2−メトキシ−2−オキソ−1,3,2−
ペンゾνオキサホヌホ−A/2.387g(収率84.
6%)が粘稠油として得られ九。
IH−!IMR(CFI2C12)8m 1.26(3
1,t、J−71’i z 、 C−Cl’!3 )、
3.84および4.05(321,それぞれ♂、 P−
0−(J3 )、4.34(2H1q、J=7HE、
C−CFI2)、7.0〜8.0(3H,m。
1,t、J−71’i z 、 C−Cl’!3 )、
3.84および4.05(321,それぞれ♂、 P−
0−(J3 )、4.34(2H1q、J=7HE、
C−CFI2)、7.0〜8.0(3H,m。
10c> 、そoacu2cx2および微toエーテル
のシグナルが認められた。
のシグナルが認められた。
TLCのRf値:0.38(!j!施例/と同条件)実
施例6 3.4−ジヒドロキシトルエン1.686g(13,5
8mM )をエーテル40g/lc?¥がし、トリエチ
ルアミン2.748g、ジクロロリン酸メチル2.02
2gを用いて実施例Sと同様に反応および後処理すると
2−メトキシ−5−メチル−2−オキソ−1,3,2−
ベンゾジオキサホスホール2.400g(収率88.4
%)が粘稠油として得られた。
施例6 3.4−ジヒドロキシトルエン1.686g(13,5
8mM )をエーテル40g/lc?¥がし、トリエチ
ルアミン2.748g、ジクロロリン酸メチル2.02
2gを用いて実施例Sと同様に反応および後処理すると
2−メトキシ−5−メチル−2−オキソ−1,3,2−
ベンゾジオキサホスホール2.400g(収率88.4
%)が粘稠油として得られた。
”H−NMR(CFI2C12)J : 2.32(3
L 1!l 、 C−C:H,)、3.78および3.
99c3M、それぞれs、P−0−CFI3)、6.8
〜7.1(3R,m、’CX)、ソノ他CH2Cl2お
よび微量のエーテルのシグナルが認められた。
L 1!l 、 C−C:H,)、3.78および3.
99c3M、それぞれs、P−0−CFI3)、6.8
〜7.1(3R,m、’CX)、ソノ他CH2Cl2お
よび微量のエーテルのシグナルが認められた。
TLCのRf*: o、31 (*施例/と同条件)実
棒例Z 2.3−ジヒドロキシナフタレ71.747t<(10
,91mM )をx−?ル40mK溶かL、トリエチル
アミン2.208g、ジクロロリン酸メチル1.’62
5gを用いて実施例よと同様に行うと5.6−ベンゾ−
2−メトキV−’l−オキソ−1,3,2−ベンゾジオ
キサホスホール2.20g(収率85.4%)が白色の
粉末として得られたう 1!’I 4MR(CR2C12)δ: 3.82およ
び4.03(3i、それぞれs 、 P−OCFI3)
、7.1〜7.9(6R1!lIωンZ) TLCのRf値: 0.30(実施例/と同条件)実施
例! ビロカテコ−#1.180g (10,72mM)に塩
化メチレン11*t、ジクロロリン酸メチル1.596
gを加え、室温で20分間攪拌してから一30℃に冷却
し、攪拌しながらトリエチルアミン2.169gを−3
0〜−20℃で滴下し、塩化メチレン1ばて滴下漏斗を
洗った洗液も入れた(滴下に7分間を要した)、反応混
合物を同温で15分間攪拌してから10℃に戻し一過し
塩化メチレンで洗い、析出したFリエチルアミン堆酸堆
を除Sr洗液をFIMR測定した結果r洗液中のメチル
0−フェニレンホスフェイトのQ率tls%であった。
棒例Z 2.3−ジヒドロキシナフタレ71.747t<(10
,91mM )をx−?ル40mK溶かL、トリエチル
アミン2.208g、ジクロロリン酸メチル1.’62
5gを用いて実施例よと同様に行うと5.6−ベンゾ−
2−メトキV−’l−オキソ−1,3,2−ベンゾジオ
キサホスホール2.20g(収率85.4%)が白色の
粉末として得られたう 1!’I 4MR(CR2C12)δ: 3.82およ
び4.03(3i、それぞれs 、 P−OCFI3)
、7.1〜7.9(6R1!lIωンZ) TLCのRf値: 0.30(実施例/と同条件)実施
例! ビロカテコ−#1.180g (10,72mM)に塩
化メチレン11*t、ジクロロリン酸メチル1.596
gを加え、室温で20分間攪拌してから一30℃に冷却
し、攪拌しながらトリエチルアミン2.169gを−3
0〜−20℃で滴下し、塩化メチレン1ばて滴下漏斗を
洗った洗液も入れた(滴下に7分間を要した)、反応混
合物を同温で15分間攪拌してから10℃に戻し一過し
塩化メチレンで洗い、析出したFリエチルアミン堆酸堆
を除Sr洗液をFIMR測定した結果r洗液中のメチル
0−フェニレンホスフェイトのQ率tls%であった。
”H−NMR(CB2C1,)δ:3.81および4.
02(3H1それぞれs 、 P−OCFI3)、7.
16(4H,8゜0’、>pe )、その他K CFI
2C12、Fリエチルアミン堆酸堆に由来するシグナル
および6.2〜7.6PPMにαに由来する弱いシグナ
ル(マルチプレット)があった66.2〜7.6p p
w@竣のシグナルに対する目的物のαシグナル(7,
16PPM)の比率(89%)により目的物の収率を測
定した。
02(3H1それぞれs 、 P−OCFI3)、7.
16(4H,8゜0’、>pe )、その他K CFI
2C12、Fリエチルアミン堆酸堆に由来するシグナル
および6.2〜7.6PPMにαに由来する弱いシグナ
ル(マルチプレット)があった66.2〜7.6p p
w@竣のシグナルに対する目的物のαシグナル(7,
16PPM)の比率(89%)により目的物の収率を測
定した。
実施例タ
ピロカテフール0.710g(6,45mM)に塩化メ
チレン7dを加え、ジクロロリン酸メチfi10.96
0gと塩化メチレン1dを加え攪拌しながら−15〜−
10℃に冷却し、トリーn−ブチルアミン2.390g
を滴下し塩化メチレン3dで滴下漏斗を洗つ九洗液も入
れ九(滴下に8分間を要した)。反応溶液を同温で5分
間攪拌後10℃に戻した。この溶液をWMR@5?!し
九結果、)fルO−フェニレンホスフェイトOQ率11
89%であった。
チレン7dを加え、ジクロロリン酸メチfi10.96
0gと塩化メチレン1dを加え攪拌しながら−15〜−
10℃に冷却し、トリーn−ブチルアミン2.390g
を滴下し塩化メチレン3dで滴下漏斗を洗つ九洗液も入
れ九(滴下に8分間を要した)。反応溶液を同温で5分
間攪拌後10℃に戻した。この溶液をWMR@5?!し
九結果、)fルO−フェニレンホスフェイトOQ率11
89%であった。
11(−N111R(CR2(J2)δ:3.81およ
び4.02(3舊、それぞれss 、 P 0Cu3)
、7.14(4Ls。
び4.02(3舊、それぞれss 、 P 0Cu3)
、7.14(4Ls。
アミン・Hcl K由来するシグナルおよび6゜2〜
7.6PPMにαに由来する弱いシグナル(マルチプレ
ット)があった。実施例よと同様にして目的物の収率を
測定した。
7.6PPMにαに由来する弱いシグナル(マルチプレ
ット)があった。実施例よと同様にして目的物の収率を
測定した。
実施例IO
実施例りにおいてトリーn−ブチルアミンの代りにジ−
n−ブチルアミン、ピリジンを用いて同様の方法で反応
させ、反応液中のメチルO−フエニレンホスフエイFの
収率を実施例デと同様に測定し九結果それぞれ71%、
91%であった。
n−ブチルアミン、ピリジンを用いて同様の方法で反応
させ、反応液中のメチルO−フエニレンホスフエイFの
収率を実施例デと同様に測定し九結果それぞれ71%、
91%であった。
実施例//
ピロカテコール1.418gにジクロロリン酸メチル1
.917gおよびアセトニトリル115gを加え、−2
5℃に冷却し攪拌しながら−25〜−20℃でトリエチ
ルアミン2.605gを滴下しアセトニトリル1dで滴
下漏斗を洗つ九洗液も入れた。rF4温で10分間攪拌
後10℃に戻し反応混合物を濾過し、Fifiをアセト
ニトリル5*/、3dずつで洗い枦洗液を15〜20℃
の水浴中域圧下にm縮fるとメチル0−フエニレンホス
フエイ)3.102gが微温した油分として得られた。
.917gおよびアセトニトリル115gを加え、−2
5℃に冷却し攪拌しながら−25〜−20℃でトリエチ
ルアミン2.605gを滴下しアセトニトリル1dで滴
下漏斗を洗つ九洗液も入れた。rF4温で10分間攪拌
後10℃に戻し反応混合物を濾過し、Fifiをアセト
ニトリル5*/、3dずつで洗い枦洗液を15〜20℃
の水浴中域圧下にm縮fるとメチル0−フエニレンホス
フエイ)3.102gが微温した油分として得られた。
1H−MMR(CF!2C12)δ:3.81および4
.01(3B、それぞれs 、 P OCF!3)、7
.12(4FI、s。
.01(3B、それぞれs 、 P OCF!3)、7
.12(4FI、s。
約物1モルKNし約0.25モルのFリエφルアミン*
emの混入を示すシグナルが■められた。
emの混入を示すシグナルが■められた。
実施例/λ
ピロカテコール0.963gKftK化メチレン7d、
ジクロロリン酸メチル1.30gを加え、室温で10分
間WLl!l’してかも−20〜−15℃に冷却しなが
らトリエチルアミン186gを滴下し塩化メチレン1ば
て滴下漏斗を洗った先渡も入れた後、5分間同温で攪拌
しメチルO−フェニレンホスフェイトとトリエチルアミ
ン堆酸填を食む反応混合物を得た。
ジクロロリン酸メチル1.30gを加え、室温で10分
間WLl!l’してかも−20〜−15℃に冷却しなが
らトリエチルアミン186gを滴下し塩化メチレン1ば
て滴下漏斗を洗った先渡も入れた後、5分間同温で攪拌
しメチルO−フェニレンホスフェイトとトリエチルアミ
ン堆酸填を食む反応混合物を得た。
実施例/3
フェニルホスホン酸シクロリF’3.118t−C−チ
ル10tZK溶かした溶液にピロカテコール1.76g
およびエーテル20s/を加えて溶かし、−25〜−2
8′Cに冷却し、攪拌しながらトリエチルアミン3.2
3gをニーチー・10dに溶カした溶液を滴下した(滴
下に8分間を要した)。反応混合物を室mK戻してから
析出物を窒素気流下に枦去し、エーテル30mで洗浄し
た。枦洗液を合せ減圧下にエーテルを留去すると2−フ
ェニル−2−オキソ−1,3,2−ベンゾジオキサホス
ホール3.46g(収率93.4%)が無色の油状物と
して得られた。氷晶を冷蔵庫に一夜おくと結晶となった
。
ル10tZK溶かした溶液にピロカテコール1.76g
およびエーテル20s/を加えて溶かし、−25〜−2
8′Cに冷却し、攪拌しながらトリエチルアミン3.2
3gをニーチー・10dに溶カした溶液を滴下した(滴
下に8分間を要した)。反応混合物を室mK戻してから
析出物を窒素気流下に枦去し、エーテル30mで洗浄し
た。枦洗液を合せ減圧下にエーテルを留去すると2−フ
ェニル−2−オキソ−1,3,2−ベンゾジオキサホス
ホール3.46g(収率93.4%)が無色の油状物と
して得られた。氷晶を冷蔵庫に一夜おくと結晶となった
。
1F!−4MR(CDC13)δ: 7−11(4FI
、s、α)、7.2〜8.1(5dw、(:汗)、その
他微量のエーテルのシグナルが認められた。
、s、α)、7.2〜8.1(5dw、(:汗)、その
他微量のエーテルのシグナルが認められた。
TLCのRfl[0,35(実施例/と同じ条件)参考
例/ 7β−(D−5−カルボキシ−5−フタルイミドバレル
アミド)−3−ヒドロキシメ千ルー3−七フエム−4−
カルボン酸のジトリ−n−ブチルアミン塩1.75gと
5−メルカプト−1−メチル−IH−テトツゾール0.
35gを塩化メチレン20s/に溶かした溶液を一25
℃に冷却し、メチル0−フェニレンホスフェイト0.7
1tJnえて、−25〜−20℃で2時間撹拌する6反
応混合物にテトラヒドロフフン15sZと水15mを加
えてよく撹拌してから分液する。水層をテトラヒドロフ
フン5dと塩化メチレン10ばて抽出し、有機層を介せ
水20s/で洗ってから無水硫酸マグネシウムで乾燥す
る。減圧で溶媒を留去してから、少量のア七トンに溶か
しエーテル100mに加える。析出した沈殿をP[し、
エーテルで洗ってから真空乾燥して、7β−(D−5−
カルボキシ−5−フタルイミドバレルアミド)−3−(
1−メチル−1a−テトラゾール−5−イル)チオメチ
ル−3−セフェム−4−カルボン酸1.14g(収率9
4.7%)を得た。
例/ 7β−(D−5−カルボキシ−5−フタルイミドバレル
アミド)−3−ヒドロキシメ千ルー3−七フエム−4−
カルボン酸のジトリ−n−ブチルアミン塩1.75gと
5−メルカプト−1−メチル−IH−テトツゾール0.
35gを塩化メチレン20s/に溶かした溶液を一25
℃に冷却し、メチル0−フェニレンホスフェイト0.7
1tJnえて、−25〜−20℃で2時間撹拌する6反
応混合物にテトラヒドロフフン15sZと水15mを加
えてよく撹拌してから分液する。水層をテトラヒドロフ
フン5dと塩化メチレン10ばて抽出し、有機層を介せ
水20s/で洗ってから無水硫酸マグネシウムで乾燥す
る。減圧で溶媒を留去してから、少量のア七トンに溶か
しエーテル100mに加える。析出した沈殿をP[し、
エーテルで洗ってから真空乾燥して、7β−(D−5−
カルボキシ−5−フタルイミドバレルアミド)−3−(
1−メチル−1a−テトラゾール−5−イル)チオメチ
ル−3−セフェム−4−カルボン酸1.14g(収率9
4.7%)を得た。
IR(にBr)cwt−1: 3340.2950.
1775゜1715,1534.1394 1u−w輩R(DMSO−+16)δ:1.40〜2.
40(6L艶、−(CR2)、、 −)、3.62(2
F!、巾広、2−cFV2)、3.94(3Ls、N
CH3) 、4.30(221、ABq、 J=15
1’Ig 、 3−C!I2)、4.73(IFt、t
、J=8Fl!、−+H)、5.01(IH,d。
1775゜1715,1534.1394 1u−w輩R(DMSO−+16)δ:1.40〜2.
40(6L艶、−(CR2)、、 −)、3.62(2
F!、巾広、2−cFV2)、3.94(3Ls、N
CH3) 、4.30(221、ABq、 J=15
1’Ig 、 3−C!I2)、4.73(IFt、t
、J=8Fl!、−+H)、5.01(IH,d。
参考例コ
アβ−(D−5−カルボキs/−5−フタルイミドバレ
ルアミド)−3−ヒドロキシメチfi/−3−セフェム
−4−カルボン酸のジYリエチルアミン堆3.52gと
5−メルカプト−1−メチル−IH−テトラゾール1.
OOgを塩化メチレン25dlc溶かした溶液を一20
℃に冷却し、攪拌しながらトリエチルアミン0.25g
を加えた。この溶液に実施例/2で得られた反応混合物
を−20〜−15℃で攪拌しながら滴下し塩化メチレン
6ばて滴下漏斗を洗つ九洗液も入れ、同温で20分間、
−5〜0℃で60分間攪拌し九。反応液に水10wtを
加え減圧下に溶媒を留去し、新に塩化メチレン30−l
とテトラヒドロフラン15s/を加えて分液し、有機層
をN−塩酸ついで飽和食堆水で洗い硫酸マグネシウムで
乾燥したう減圧で溶媒を留去してから少竜のアセトンに
溶かし、エーテル中に加えて析出した沈殿を枦遇し、エ
ーテルで洗浄後真空乾燥すると参考例1と同じ目的物2
,82g(収率93.8%)をll!た。水晶のIRお
よびNMRスベクトフム#i参考例/と同一%l質であ
ることを示した。
ルアミド)−3−ヒドロキシメチfi/−3−セフェム
−4−カルボン酸のジYリエチルアミン堆3.52gと
5−メルカプト−1−メチル−IH−テトラゾール1.
OOgを塩化メチレン25dlc溶かした溶液を一20
℃に冷却し、攪拌しながらトリエチルアミン0.25g
を加えた。この溶液に実施例/2で得られた反応混合物
を−20〜−15℃で攪拌しながら滴下し塩化メチレン
6ばて滴下漏斗を洗つ九洗液も入れ、同温で20分間、
−5〜0℃で60分間攪拌し九。反応液に水10wtを
加え減圧下に溶媒を留去し、新に塩化メチレン30−l
とテトラヒドロフラン15s/を加えて分液し、有機層
をN−塩酸ついで飽和食堆水で洗い硫酸マグネシウムで
乾燥したう減圧で溶媒を留去してから少竜のアセトンに
溶かし、エーテル中に加えて析出した沈殿を枦遇し、エ
ーテルで洗浄後真空乾燥すると参考例1と同じ目的物2
,82g(収率93.8%)をll!た。水晶のIRお
よびNMRスベクトフム#i参考例/と同一%l質であ
ることを示した。
代理人 弁理士 松 居 祥 二
〜802
)
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 式 を示す〕で表わされる化金物と式 〔式中、Xはハ―ゲンを、Rti置換されていてもよい
アリール、アルコキVまたはアフルキルオキシ基を示す
〕で表わされる化合物を塩基の存在下約30℃以下で反
応させることを特徴とする、式1.3.2−ジオキサホ
スホール類の製造法。
Priority Applications (17)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP666882A JPS58124793A (ja) | 1982-01-18 | 1982-01-18 | 1,3,2−ジオキサホスホ−ル類の製造法 |
AT82108261T ATE28460T1 (de) | 1981-09-10 | 1982-09-08 | Verfahren zur herstellung von cephalosporinderivaten. |
DK400882A DK163925C (da) | 1981-09-10 | 1982-09-08 | Fremgangsmaade til fremstilling af cephalosporinforbindelser |
EP82108261A EP0074611B1 (en) | 1981-09-10 | 1982-09-08 | Method for production of cephalosporin compounds |
AT84107459T ATE28465T1 (de) | 1981-09-10 | 1982-09-08 | Dioxaphosphole in der herstellung von cephalosporinderivaten. |
DE8282108261T DE3276809D1 (en) | 1981-09-10 | 1982-09-08 | Method for production of cephalosporin compounds |
EP84107459A EP0135683B1 (en) | 1981-09-10 | 1982-09-08 | Method for production of cephalosporin compounds |
DE8484107459T DE3276810D1 (en) | 1981-09-10 | 1982-09-08 | Method for production of cephalosporin compounds |
PT75530A PT75530B (en) | 1981-09-10 | 1982-09-09 | Method for production of cephalosporin compounds |
ES515593A ES515593A0 (es) | 1981-09-10 | 1982-09-09 | "un metodo de producir un compuesto de cefalosporina". |
GB08225896A GB2108114B (en) | 1981-09-10 | 1982-09-10 | Cephalosporin preparation |
CA000411185A CA1219856A (en) | 1981-09-10 | 1982-09-10 | METHOD OF PRODUCTION OF CEPHALOSPORIN COMPOUNDS |
GB08427294A GB2147900B (en) | 1981-09-10 | 1982-09-10 | Method for production of 1,3,2-dioxaphospholes |
KR8204107A KR890002915B1 (ko) | 1981-09-10 | 1982-09-10 | 세팔로스포린 화합물의 제조방법 |
CA000467732A CA1260004A (en) | 1981-09-10 | 1984-11-13 | Method for production of 1,3,2-dioxaphospholes |
US06/795,743 US4642365A (en) | 1981-09-10 | 1985-11-07 | Method for production of 1,3,2-dioxaphospholes |
US06/928,752 US4801703A (en) | 1981-09-10 | 1986-08-18 | Method for production of cephalosporin compounds |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP666882A JPS58124793A (ja) | 1982-01-18 | 1982-01-18 | 1,3,2−ジオキサホスホ−ル類の製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58124793A true JPS58124793A (ja) | 1983-07-25 |
JPH029033B2 JPH029033B2 (ja) | 1990-02-28 |
Family
ID=11644746
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP666882A Granted JPS58124793A (ja) | 1981-09-10 | 1982-01-18 | 1,3,2−ジオキサホスホ−ル類の製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58124793A (ja) |
-
1982
- 1982-01-18 JP JP666882A patent/JPS58124793A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH029033B2 (ja) | 1990-02-28 |
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