JPS58124231A - 半導体の溝加工用砥石 - Google Patents

半導体の溝加工用砥石

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JPS58124231A
JPS58124231A JP713882A JP713882A JPS58124231A JP S58124231 A JPS58124231 A JP S58124231A JP 713882 A JP713882 A JP 713882A JP 713882 A JP713882 A JP 713882A JP S58124231 A JPS58124231 A JP S58124231A
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grindstone
angle
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semiconductor
flat
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Shigeru Fujimoto
茂 藤本
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Toshiba Corp
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Toshiba Corp
Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
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Publication of JPS6016098B2 publication Critical patent/JPS6016098B2/ja
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/18Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
    • H01L21/30Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
    • H01L21/302Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26 to change their surface-physical characteristics or shape, e.g. etching, polishing, cutting
    • H01L21/304Mechanical treatment, e.g. grinding, polishing, cutting

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 発明の技術分野 この発明社複数層に接合された半導体に絶縁用溝などを
加工する場合に好適する半導体の溝加工用砥石に関する
発明の技術的背景とその問題点 一般に、電力素子として用いられる円板状の半導体にお
いては、耐圧特性の向上を計るために外周縁に沿って円
環状の絶縁用溝を加工するということが行なわれている
従来、上記絶縁用溝はサンドブラスト加工によって形成
するようにしていた。すなわち、この加工方法は、円板
状の半導体を回転装置に保持して同心的に回転するとと
もに、粉粒供給装置と接続されたサンドグラストノズル
からt粒を噴射し、この砥粒の噴射によって半導体を研
削除去して絶縁用溝を加工するようにしている。
ところが、砥粒の噴射力だけでは加工能率が悪いととも
に、サンドシラストノズルの位置決めによる寸法制御が
できないため、加工精度が低いという欠点がある。さら
に、加工中は砥粒が飛散するため作業環境を悪くし、作
業者の健康を害する虞れもある。
そこで、このような欠点を除去するために上記絶縁用溝
を第1図に示すよう々一方の側面が先端部で傾斜した片
角度砥石aを用いて加工することが考えられている。す
なわち、片角度砥石aを回転軸すに取着する一方、半導
体Cを回転装置dに保持し、これらをともに回転させる
とともに相対移動させることにより、上記半導体cK第
2図に示すような絶縁用溝eを形成するようにしている
。このように形成される絶縁用溝eにおいては、片角度
砥石aの切込み深さによって決定される開口寸法fと、
上記片角度砥石への先端部の厚さ寸法によって決定され
る底部曲率gとによって耐圧特性が大きく左右される。
しかしながら、上記開口寸法fを大きくするために片角
度砥石aを厚くすると、底部曲率gが大きくなってしま
い、逆に底部曲率gを小さくするために片角度砥石aを
薄くすると、開口寸法fが小さくなってしまうので、電
力素子として要求される耐圧特性に優れた形状の絶縁用
溝eの加工ができガかった。しかも、片角度砥石aを薄
くすると、その先端部が早期に摩耗してしまうので、極
めて寿命が短かいということもあった。
発明の目的 この発明は電力素子として要求きれる耐圧特性に優れた
形状の絶縁用溝、すなわち開口寸法が大きく底部曲率が
小さな溝を加工することができ、しかも早期に損傷して
しまうことのない半導体の溝加工用砥石を提供すること
にある。
発明の概要 先端部の一方の側面が傾斜した片角度砥石の他方の側面
に、この片角度砥石よシも外径寸法がわずかに大きな薄
い平板状の平形砥石を接合し、上記片角度砥石によって
絶縁用溝の大きな開口寸法を得るようにし、上記平形砥
石によって底部の小さな曲率を得るようにしたものであ
る。
発明の実施例 以下、この発明の一実施例を第3図乃至第6図を参照し
て説明する。まず、第3図は溝加工装置を示し、図中1
は加工物回転装置である。
この回転装置1は、軸受2によって第1のスピンドル3
が回転自在に支持されている。この第、1のスピンドル
3の一端には被加工物である半導体4を保持する保持体
5が設けられ、他端には第1のプーリ6が嵌着されてい
る。この第1のプーリ6と第1のモータ7の回転軸8に
嵌着された第2のプーリ9との間にはベルト10が張設
され、上記第1のスピンドル3が第1のモータ7によっ
て回転駆動されるようになっている。
また、上記軸受2の近傍には、横送りテーブル11が配
設されている。この横送りテーブル11はハンドル12
によって上記第1のスピン5−一 ドル3の軸線に対して直交する方向に進退させることが
できるようになっている。上記横送りテーブル1ノの上
面には、切込み送りテーブル13が横送りテーブル1ノ
の進退方向に対して所定の角度傾いて設けられ、この傾
き方向に第2のモータ13aによって進退駆動されるよ
うになっている。上記切込み送υテーブル13の上面に
は、一端が第3のモータ14に連結された第2のスピン
ドル15が軸線を切込み送シテーブル13の進退方向に
対して直交する状態で軸受16により回転自在に設けら
れている。この第2のスピンドル15の他端には砥石1
7が第4図に示すように一対のフランジ18m、18t
hおよび締付ナツト19によって取着されている。
上記砥石12は、一方の側面が先端部で45度以下、こ
の実施例では30度の角度で傾斜した円錐台状で厚さが
450μmの片角度砥石20と、厚さが125μmで外
径寸法が上記片角度砥石20よシも50〜500μm大
きく形成された平板状の平形砥石21とから々す、この
平形砥石6一 17によって絶縁用溝22が形成される上記半導体4は
、第6図に示すようにペース23.の上面にPNP接合
となるよう複数層設けられてなる。
つぎに、上記構成の溝加工装置によって半導体4に絶縁
用溝22を形成する場合の手順について説明する。まず
、加工物回転装置1の保持体5に半導体4を保持したな
らば、第1のスぎンドル3と第2のスピンドル15とを
回転駆動する。ついで、ハンドル12を操作して横送り
テーブル11を半導体4の方向に進め、砥石17の先端
部を上記半導体4の絶縁用溝22を形成する位置に合せ
たならば、第2のモータ1鯨を作動窟せて切込み送シテ
ーブル13を送る。すると、第4図に示すように砥石1
7が半導体4にこの板面に対して0度たとえば60度傾
いた状態で切込むから、上記半導体4の上面周縁部に断
面がくさび状をなした絶縁用溝22が環状に形成される
ことになる。
このよう表乾縁用溝22の加工に際し、砥石17は片角
度砥石20と、この片角度砥石20よりも外径寸法がわ
ずかに大きな平形砥石2ノとからなるから、上記絶縁用
#22の開口寸法Wは片角度砥石20の先端部の傾斜角
度と切込み深さに比例した大きな寸法とすることができ
、また底部曲率rは平形砥石21の厚きの約2分の1の
十分小さな寸法にすることができる。また、上記砥石2
0によれば、切込みを与えたときに第6図に示すように
水平平面分力FXとpyが作用し、Fxが平形砥石21
の寿命に大きく影響するが、水平平面分力Fxを受けた
平形砥石2ノは片角度砥石20によって支えられるから
、上記平形砥石2ノが曲がって折れるようなことがない
。さらに、平形砥石21の先端部が片角度砥石20の先
端部よりも突出しているので、上記平形砥石21の先端
部が摩耗しても、絶縁用溝22の底部曲率rが大きくな
るようなことがない。すなわち、砥石20の寿命が長い
発明の効果 以上述べたようにこの発明は、半導体に絶縁用溝を加工
する砥石を、一方の側面が先端部で所定の角度に傾斜し
た片角度砥石と、この片角度砥石よりも外径寸法がわず
かに大きく片角度砥石の他方の側面に接合される薄い平
板状の平形砥石とから構成したから、上記絶縁用溝の開
口寸法を片角度砥石の先端部の傾斜角度および切込み量
に比例して大きくすることができ、また底部曲率を平形
砥石の厚さ寸法に応じて十分小さくすることができる。
すなわち、絶縁用溝の寸法形状精度を向上させることが
できるから、上記半導体の耐圧特性を高めることができ
る。
また、平形砥石は片角度砥石よシも大きいから、これが
多少摩耗しても絶縁用溝の底部曲率が大きくなることが
ないので、砥石寿命が長くなるなどの利点を有する。
【図面の簡単な説明】
第1図は片角度砥石によって絶縁用溝を形成する場合の
説明図、第2図は絶縁用溝が形成さ9− れた半導体の断面図、第3図乃至第6図はこの発明の一
実施例を示し、第3図は装置全体の平面図、第4図は砥
石によって絶縁用溝を形成するときの説明図、第5図は
同じくそのときの一部を示す拡大断面図、第6図は半導
体の側面図である。 4・・・半導体、17・・・砥石、20・・・片角度砥
石、21 ・平形砥石、22・・・絶縁用溝。 出願人代理人  弁理士 鈴 江 武 彦10−

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (1)半導体を回転させ、この半導体に回転する砥石で
    溝を加工するものにおいて、上記砥石は、一方の側面が
    先端部で所定の角度に傾斜した片角度砥石と、この片角
    度砥石よりも外径寸法がわずかに大きく片角度砥石の他
    方の側面に接合される薄い平板状の平形砥石とから々る
    ことを特徴とする半導体の溝加工用砥石。 (2)片角度砥石に対して平形砥石は着脱自在であるこ
    とを特徴とする特許請求の範囲第1項から50〜500
    μm突出していることを特徴とする特許請求の範囲第1
    項または第2項記載の半導体の溝加工用砥石。 (4)  片角度砥石の先端部鉱45度以下の角度で傾
    斜していることを特徴とする特許請求の範囲第1項また
    は第2項または第3項記載の半導体の溝加工用砥石。
JP713882A 1981-05-20 1982-01-20 半導体の溝加工用砥石 Expired JPS6016098B2 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP713882A JPS6016098B2 (ja) 1982-01-20 1982-01-20 半導体の溝加工用砥石
US06/377,008 US4517769A (en) 1981-05-20 1982-05-11 Method and apparatus for forming oblique groove in semiconductor device
GB8214280A GB2098893B (en) 1981-05-20 1982-05-17 Method and apparatus for forming oblique groove in semiconductor device
DE3218953A DE3218953C2 (de) 1981-05-20 1982-05-19 Verfahren und Vorrichtung zur Ausbildung einer Schrägrille in einer Halbleitervorrichtung

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP713882A JPS6016098B2 (ja) 1982-01-20 1982-01-20 半導体の溝加工用砥石

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS58124231A true JPS58124231A (ja) 1983-07-23
JPS6016098B2 JPS6016098B2 (ja) 1985-04-23

Family

ID=11657712

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JP713882A Expired JPS6016098B2 (ja) 1981-05-20 1982-01-20 半導体の溝加工用砥石

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JP (1) JPS6016098B2 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6235764U (ja) * 1985-08-22 1987-03-03
JP2011108746A (ja) * 2009-11-13 2011-06-02 Disco Abrasive Syst Ltd ウエーハの加工方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6235764U (ja) * 1985-08-22 1987-03-03
JP2011108746A (ja) * 2009-11-13 2011-06-02 Disco Abrasive Syst Ltd ウエーハの加工方法

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JPS6016098B2 (ja) 1985-04-23

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