JPS5812240B2 - 炭化ハフニウム結晶体の製造法 - Google Patents

炭化ハフニウム結晶体の製造法

Info

Publication number
JPS5812240B2
JPS5812240B2 JP55121295A JP12129580A JPS5812240B2 JP S5812240 B2 JPS5812240 B2 JP S5812240B2 JP 55121295 A JP55121295 A JP 55121295A JP 12129580 A JP12129580 A JP 12129580A JP S5812240 B2 JPS5812240 B2 JP S5812240B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
composition
hafnium carbide
zone
sintered body
crystal
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP55121295A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS5747799A (en
Inventor
大谷茂樹
田中高穂
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
KAGAKU GIJUTSUCHO MUKIZAISHITSU KENKYUSHOCHO
Original Assignee
KAGAKU GIJUTSUCHO MUKIZAISHITSU KENKYUSHOCHO
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by KAGAKU GIJUTSUCHO MUKIZAISHITSU KENKYUSHOCHO filed Critical KAGAKU GIJUTSUCHO MUKIZAISHITSU KENKYUSHOCHO
Priority to JP55121295A priority Critical patent/JPS5812240B2/ja
Publication of JPS5747799A publication Critical patent/JPS5747799A/ja
Publication of JPS5812240B2 publication Critical patent/JPS5812240B2/ja
Expired legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
  • Carbon And Carbon Compounds (AREA)
  • Cold Cathode And The Manufacture (AREA)
  • Liquid Deposition Of Substances Of Which Semiconductor Devices Are Composed (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は均一な組成を有する炭化ハフニウム結晶体の製
造法に関する。
更に詳しくは結焼体の始端部および終端部においても均
一な組成を有する炭化ハフニウム結晶体の製造法に関す
る。
炭化八フニウムは高溶点,高硬度および高電気伝導性を
持ち、その仕事関係は耐憎金属(W,Mo等)よシ低い
値をとシ、化学的にも安定であることなどから、最近電
子材料,特にフィールドエミツター材としての結晶体の
利用が検討されている。
従来、炭化ハフニウム(HfCx)の結晶は、フラック
ス法,気相法,ベルヌーイ法などによって製造されてい
るが、焼結体ロンドの両端をホルダーで支持し、高周波
等の加熱源を用いて焼結体ロンドの一部を溶融し、加圧
不活性ガス雰囲気下で焼結休ロンドを移動しつつ高周波
等を加熱源として行う方法(以下FZ法という)が高純
度で比較的大型結晶が得られることから、HfCx結晶
体の育成が試みられている。
ところが、HfCxには非常に広い不定比領域(0.6
<x<1)が存在するため、従来のFZ法によって育成
された結晶は、Fz法の原理から、結晶棒の長さ方向の
組成に変化を起こし、長さ方向の組成が均一な結晶を得
ることができなかった。
そのため、フィールドエミツター材として活用するのに
、一番良好な組成を把握することができなく、フイール
ドエミッター材として実用化するに至っていない。
本発明はFZ法で長さ方向の組成の均一な炭化ハフニウ
ム結晶体を製造する方法を提供するにある。
また仙の目的はフィールドエミッター材として利用し得
られる炭化ハフニウム結晶体を製造する方法を提供する
にある。
本発明の方法に用いるFZ法を図面に基づいて説明する
第1図は本発明の方法に用いるFZ法の装置の概念図で
ある。
装置としては、例えばADL社製の高圧タイプの結晶育
成炉が用いられる。
第1図においては、1はシャフト,2はホルダー,3は
焼結体ロツド,4はHfC結晶棒,6はRFコイルであ
る。
長さ10〜20cmの焼結体ロツド3の端をRFコイル
6から高周波を発生させて誘導加熱溶融させて融帯5を
形成し、ホルダー2に保持された焼結休ロツド3をゆっ
くり移動させて結晶を育成させる。
この時の融帯5の移動速度は0.5〜5cm/hが適当
である。
移動方向は上下いずれの方向でもよい。
雰囲気は不活性ガスが使用され、通常はアルゴン,ヘリ
ウムまたはその混合ガスである。
雰囲気ガスは、主に試料の蒸発を抑制するためと、RF
コイル間およびコイルと試料間の放電を抑制するために
用いられる。
通常2〜30気圧、好ましくは5〜20気圧である。
これよう圧力が低いと蒸発と放電を抑制する効果が殆ん
どなく、まだこれより高いと対流による損失が大きくな
るので好ましくない。
融帯の組成は希望する組成を持つ結晶と共存する液相組
成を相図より求めてその組成とし、また供給棒の組成は
各種の組成を持つ供給棒を使用しその都度融帯組成をそ
の液相組成としてFZ法を行い、これによって選定する
この場合、融帯からの蒸発による組成変化が生ずると、
加熱電力が融帯移動にともなって増加するかあるいは減
少する。
従ってその電力が変化しない組成の供給棒を選べばよい
本発明における前記の融帯部に融帯組成ロツドを存在さ
せてFZ法を行う方法としては、(1)結晶体ロンドを
2分し、下部に原料供給焼結シ体ロツド,上部に融帯組
成ロンドとし、先ず上部の融帯組成ロンドを溶かして融
帯を生成させ、焼結体ロンドを上方に向って移動させる
方法。
また上、下のロンドを逆に設け、下方に向って移動させ
る方法。
(2)上下に供給焼結体ロンドを設け、その間に融帯組
成ロンドまたは溶かすと融帯組成になる量の炭素板と金
属ハフニウムをはさみ、先ず融帯部分を溶かした後、供
給焼結体ロンドを上下いずれかの方向に移動させる方法
(3)通常のFZ法を行なうと、融帯移動を行なうにつ
れ、融帯組成が、その共存液相組成に近づいて行く。
そのため、十分融帯移動を行い、融帯組成が共存液相組
成に一致した時、融帯部分を固化させて、これを用いて
(1)の方法によシ対応ずる組成の結晶を育成する方法
が挙げられる。
結晶の育成条件は上下のシャフトに回転を与えることに
よシ融帯の攪拌を促進し、ゾーンパスを容易にすること
ができる。
本発明において使用する供給焼
結体ロンドは炭化ハフニウムが広い不定比領域を持つた
め、種々の組成のものを用意する。
例えば市販の炭化ハフニウム粉末に、ハフニウム粉末あ
るいは発光分光分析用カーボンを混合することによシ目
的の組成の焼結体ロンドを作ることができる。
原料純度は高い方が好ましく、通常98重量チ以上、好
ましくは99重量チ以上のものがよい。
そして平均粒径10μ以下であることが好ましい。
焼結体ロンドの形状は、角柱(例えば10×10X20
0mm3,15X15X100mm3),円柱(例えば
、1096X150mm3)等を通常使用するが、任意
の形状でよい。
成形方法としては、均一な密度の成形体を得るだめ、ラ
バープレスを用いるのが好ましい。
成形圧は通常It/cm2である。次に成形体を焼結す
る。
焼結は通常1500〜2400℃で0.3〜6時間行う
焼結雰囲気としては、真空,不活性ガス下で行い、使用
する焼結炉はどのようなものでもよいが、高周波誘導加
熱炉が便利である。
このような条件下で得られる焼結体ロンドの密度は55
〜75%である。
なお、焼結工程で焼結体の化学組成が多少ずれるのが普
通であるから、厳密に制御するには焼結体の組成分析を
行い、配合組成と焼結組成との対応をつけておくことが
好ましい。
このような条件下で育成された炭化ハフニウム結晶は、
始端部から3cmまでは多結晶体であシ中央部は1つの
グレインに成長し、終端部は多結晶体外皮に覆われた単
結晶である。
中央部のへき開面の観察,エッチング法およびX線ラウ
エ法で検査したところ良質の単結晶であることが分った
本発明の方法は最高融点を示す組成以外の組成を持つ結
晶の育成に適用する時、その真価を発揮する。
HfC−C系の相図の一部を示す第2図に基いて説明す
ると、従来法によると、X1の組成を持つ供給棒を使用
して融帯を形成させるにはT2の温度まで温度をあげる
必要がある。
これに対し、本発明の方法によると融帯を形成する部分
の組成がそれと共存する液相組成のX2であるため、T
,の温度で融帯を形成することができる。
具体的に示すと、従来法では3900℃近くまで温度を
あげる必要があったが、本発明の方法では3200〜3
300℃の温度で十分融帯を形成させることができる。
このように3000℃以上の温度でさらに600℃以上
の温度をあげるには多くのエネルギーを必要とし、放電
等の障害を起こす等の問題が生ずるが、本発明の方法で
はこのような障害を起こすことがない。
また、本発明の方法によると、融帯移動の間その組成が
変化しないので、加熱電力の調節が小さく、それだけ安
定な融帯移動が可能となシ、良質な結晶体が得られる。
しかも、得られる炭化ハフニウム結晶体の始端部,中央
部,終端部における組成の変化がなく、実質的に均一な
組成を有するものが容易に得られ、また希望する組成を
有する良質,大型の結晶が得られる優れた効果を有する
実施例 組成C/Hf=0.97を有する結晶棒を得るためには
融帯移動の間、常に融帯組成をC/Hf=1.7近くに
保つ必要がある。
そのため、初期融帯形成時から所定の組成にするだめに
、上下にセットされた焼結棒の間に、0.081の黒鉛
円板をはさみ、その部分を溶融して融帯を形成した。
供給棒の組成は次のようにして選定した。
各種組成の供給棒を用いて、融帯組成をC/Hf=1.
7とし、各々融帯移動を行い、融帯移動の間、加熱電力
変化がないものを求めた。
その結果、C/Hf=1.27の組成を持つ供給棒が前
記加熱電力変化がないことが分った。
この組成の供給棒を使用して、io気圧のHe雰囲気下
で、上下のシャフトを純方向に毎分10回転させながら
、1.25cm/hの速度で融帯移動を行って結晶育成
を行った。
得られた結晶棒の始端部、中央部、終端部の結合炭素量
はそれぞれ6.13,6.18,6.28重量係であっ
た。
組成にして、それぞれ、C/Hf=0.956,0.9
62,0.977で棒全体が殆んど均一な組成のもので
あった。
【図面の簡単な説明】
第1図はFZ法の概念図、第2図はKfC−C系の相図
の一部である。 1:シャフト、2:ホルダー、3:供給焼結体ロツド、
4:HfC結晶棒、5:融帯、6:RFコイル、A:液
相線、B:固相線、C:共融点。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 焼結体ロンドの両端をホルダーで支持し、加圧不活
    性ガス雰囲気下で焼結体pツドを移動しつつ高周波等の
    加熱源で加熱して炭化ハフニウム結晶体を製造する方法
    において、供給焼結体ロンドの組成を、得ようとする炭
    化ハフニウム結晶の固相成分に溶融時に融帯から蒸発す
    るハフニウムまたは炭素の成分を加えたものとし、且つ
    溶融帯に、得ようとする炭化ハフニウムの結晶の固相成
    分と共存する液相成分からなる融帯を形成させて行うこ
    とを特徴とする炭化ハフニウム結晶体の製造法。
JP55121295A 1980-09-02 1980-09-02 炭化ハフニウム結晶体の製造法 Expired JPS5812240B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP55121295A JPS5812240B2 (ja) 1980-09-02 1980-09-02 炭化ハフニウム結晶体の製造法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP55121295A JPS5812240B2 (ja) 1980-09-02 1980-09-02 炭化ハフニウム結晶体の製造法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5747799A JPS5747799A (en) 1982-03-18
JPS5812240B2 true JPS5812240B2 (ja) 1983-03-07

Family

ID=14807715

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP55121295A Expired JPS5812240B2 (ja) 1980-09-02 1980-09-02 炭化ハフニウム結晶体の製造法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS5812240B2 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60172732U (ja) * 1984-04-26 1985-11-15 株式会社 デルカ 帽子

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5074902B2 (ja) * 2007-11-30 2012-11-14 電気化学工業株式会社 電子放出源
DE112016001009B4 (de) 2015-03-02 2021-03-18 National Institute For Materials Science Emitter, Elektronenkanone verwendenden Emitter, die Elektronenkanone verwendende elektronische Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung des Emitters

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60172732U (ja) * 1984-04-26 1985-11-15 株式会社 デルカ 帽子

Also Published As

Publication number Publication date
JPS5747799A (en) 1982-03-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Otani et al. Preparation of HfC single crystals by a floating zone technique
US4303465A (en) Method of growing monocrystals of corundum from a melt
Otani et al. Preparation of ZrCx single crystals with constant compositions by floating zone technique
JPS5812240B2 (ja) 炭化ハフニウム結晶体の製造法
JPS5812239B2 (ja) 炭化ジルコニウムの結晶体の製造法
JPS5860699A (ja) 炭化チタン単結晶の育成法
JPS606914B2 (ja) 炭化タンタル結晶体の製造法
JP2580523B2 (ja) 二ホウ化チタン単結晶の育成法
JP3755021B2 (ja) 六ホウ化希土類単結晶の育成法
JP2997761B2 (ja) 二ホウ化レニウム単結晶の製造方法
JP2997762B2 (ja) 六ホウ化カルシウム結晶の育成法
JPS5957996A (ja) 炭化ニオブ結晶体の製造法
JP2642882B2 (ja) 二ホウ化タングステン単結晶の育成法
JPS63256598A (ja) 炭化チタン単結晶の育成法
JP2997760B2 (ja) 二ホウ化ハフニウム単結晶の製造方法
JPH0232237B2 (ja) Chitantanchitsukabutsunotanketsushonoseizoho
JPH01286996A (ja) 炭化チタン単結晶の育成法
JP2929007B1 (ja) Va族二ホウ化物単結晶の育成法
JP2949212B2 (ja) 六ホウ化ランタン単結晶の育成法
JPH0699215B2 (ja) 遷移金属炭化物単結晶の製造法
JPH0524992A (ja) 六ホウ化ランタン単結晶の育成法
JPH0477397A (ja) 硼化ランタン系単結晶とその育成法
JPH0477398A (ja) 硼化セリウム系単結晶とその育成法
JP2730674B2 (ja) 六ホウ化希土類単結晶の育成法
JPH07100640B2 (ja) 単結晶の製造法