JPS58121215A - 抗アレルギ−剤 - Google Patents
抗アレルギ−剤Info
- Publication number
- JPS58121215A JPS58121215A JP454482A JP454482A JPS58121215A JP S58121215 A JPS58121215 A JP S58121215A JP 454482 A JP454482 A JP 454482A JP 454482 A JP454482 A JP 454482A JP S58121215 A JPS58121215 A JP S58121215A
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- JP
- Japan
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- group
- active ingredient
- hydrogen atom
- tetrazolyl
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は新規抗アレルギー剤に関し、更iC詳しくは下
記一般式〇〕 (但し、−上記式中Rは水素原子、低級アルキル基。
記一般式〇〕 (但し、−上記式中Rは水素原子、低級アルキル基。
低級アルコキシ基、ハロゲン原子、低級アルキルチオ基
もしくはニトロ基を表わし、かつこれらはピリジル基の
3.4もしくは5位に置換していることを表わし、R′
は水素原子、低級アルキル基。
もしくはニトロ基を表わし、かつこれらはピリジル基の
3.4もしくは5位に置換していることを表わし、R′
は水素原子、低級アルキル基。
低級アルコキシ基、フェノキシ基、フェニル基置換低級
アルキル基、フェニル基置換低級アルケニル基もしくは
ハロゲン原子を表わす。)で示される新規2−ピリジン
カルボキサミド誘導体またはその薬理的に許容しうる塩
を有効成分とする抗アレルギー剤に関するものである。
アルキル基、フェニル基置換低級アルケニル基もしくは
ハロゲン原子を表わす。)で示される新規2−ピリジン
カルボキサミド誘導体またはその薬理的に許容しうる塩
を有効成分とする抗アレルギー剤に関するものである。
本発明の化合物[I]は下式で示される如く、テトラゾ
ール環の1 (H)異性体構造と2(H)異性体構造を
とることができ、これら異性体は相互に変異するので1
本発明の範囲にはこれら両異性体が含まれる。
ール環の1 (H)異性体構造と2(H)異性体構造を
とることができ、これら異性体は相互に変異するので1
本発明の範囲にはこれら両異性体が含まれる。
(但しI R’およびダは前記と同一意味を有する。)
ニコチン酸を5−アミノテトラゾールと縮合させること
によりニコチノイルアミノテトラゾール(すなわちN−
(5−テトラゾリル)−3−ピリジンカルボキサミド)
を合成しうることは既に知られている( &1v、 C
him、へeta、、 Vol、 42. PP、 1
324 (19593)、しかし該文献にはニコチノイ
ルアミノテトラゾールの合成のみしか記述されておらず
、当該化合物の薬理活性に関しては何らの記載もない。
ニコチン酸を5−アミノテトラゾールと縮合させること
によりニコチノイルアミノテトラゾール(すなわちN−
(5−テトラゾリル)−3−ピリジンカルボキサミド)
を合成しうることは既に知られている( &1v、 C
him、へeta、、 Vol、 42. PP、 1
324 (19593)、しかし該文献にはニコチノイ
ルアミノテトラゾールの合成のみしか記述されておらず
、当該化合物の薬理活性に関しては何らの記載もない。
これに対し本発明者らは種々研究を重ねた結果。
本発明の新規2−ピリジンカルボキサミド誘導体〔りが
強力な抗アレルギー作用を示し、抗アレルギー剤として
有用であることを見い出した。
強力な抗アレルギー作用を示し、抗アレルギー剤として
有用であることを見い出した。
一般式(1)で示される本発明の化合物2−ピリジンカ
ルボン酸誘導体の代表例としては R1が水素原子;メ
チル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基も
しくはn−ブチル基等の低級アルキル基富メトキシ基、
エトキシ基、n−プロポキシ基、もしくはn−ブトキシ
基等の低級アルコキシ基j塩素原子もしくは臭素原子等
のハロゲン原子富メチルチオ基、エチルチオ基、n−プ
ロピルチオ基もしくはn−ブチルチオ基等の低級アルキ
ルチオ基8あるいはニトロ基を表わし、R2が水素原子
;メチル基、エチル基、n−プロピル基もしくはn−ブ
チル基等の低級アルキル基;メトキシ基、エトキシ基、
n−プロポキシ基もしくはn −ブトキシ基等の低級ア
ルコキシ基音フェノキシ基;ベンジル基もしくはフェネ
チル基等のフェニルMIH!低級アルキル基寥スチリル
基等のフェニル基置換低級アルケニル基菖あるいは塩素
原子もしくは臭素原子等のハロゲン原子を表わす化合物
等を挙げることが出来る。本発明の化合物(I)の好ま
しいグループとしてはR1が水素原子、低級アルキル基
、低級アルコキシ基もしくはハロゲン原子であり、R2
が水素原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基も1−
<はフェニル基置換低級アルケニル基である化合物を挙
げることが出来る。さら馨こ好ましいグループとしては
式CI)においてR1がピリジル基の3もしくは4位に
置換した水素原子、低級アルキル基もしくはハロゲン原
子であり、R1が水素原子、低級アルキル基もしくはフ
ェニル基置換低級アルケニル基である化合物を挙げるこ
とが出来る。さらに他の好ましいグループとしては式[
!]においてR1がピリジル基の3もしくは4位に置換
した水素原子、メチル基、エチル基、n−ブチル基、メ
トキシ基、塩素原子もしくは臭素原子であり、だが水素
原子、メチル基、メトキシ基もしくはスチリル基である
化合物を挙げることが出来る。
ルボン酸誘導体の代表例としては R1が水素原子;メ
チル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基も
しくはn−ブチル基等の低級アルキル基富メトキシ基、
エトキシ基、n−プロポキシ基、もしくはn−ブトキシ
基等の低級アルコキシ基j塩素原子もしくは臭素原子等
のハロゲン原子富メチルチオ基、エチルチオ基、n−プ
ロピルチオ基もしくはn−ブチルチオ基等の低級アルキ
ルチオ基8あるいはニトロ基を表わし、R2が水素原子
;メチル基、エチル基、n−プロピル基もしくはn−ブ
チル基等の低級アルキル基;メトキシ基、エトキシ基、
n−プロポキシ基もしくはn −ブトキシ基等の低級ア
ルコキシ基音フェノキシ基;ベンジル基もしくはフェネ
チル基等のフェニルMIH!低級アルキル基寥スチリル
基等のフェニル基置換低級アルケニル基菖あるいは塩素
原子もしくは臭素原子等のハロゲン原子を表わす化合物
等を挙げることが出来る。本発明の化合物(I)の好ま
しいグループとしてはR1が水素原子、低級アルキル基
、低級アルコキシ基もしくはハロゲン原子であり、R2
が水素原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基も1−
<はフェニル基置換低級アルケニル基である化合物を挙
げることが出来る。さら馨こ好ましいグループとしては
式CI)においてR1がピリジル基の3もしくは4位に
置換した水素原子、低級アルキル基もしくはハロゲン原
子であり、R1が水素原子、低級アルキル基もしくはフ
ェニル基置換低級アルケニル基である化合物を挙げるこ
とが出来る。さらに他の好ましいグループとしては式[
!]においてR1がピリジル基の3もしくは4位に置換
した水素原子、メチル基、エチル基、n−ブチル基、メ
トキシ基、塩素原子もしくは臭素原子であり、だが水素
原子、メチル基、メトキシ基もしくはスチリル基である
化合物を挙げることが出来る。
またさらに好ましいグループとしては、Rがピリジル基
の3もしくは4位に゛置換した水素原子、メチル基、エ
チル基、塩素原子もしくは臭素原子であり、R2が水素
原子、メチル基もしくはスチリル基である化合物を挙げ
ることが出来る。またより一層好ましいグループとして
は R1がピリジル基の3もしくは4位に置換した水素
原子、メチル基もしくは塩素原子であり、R2がメチル
基である化合物を挙げることが出来る。
の3もしくは4位に゛置換した水素原子、メチル基、エ
チル基、塩素原子もしくは臭素原子であり、R2が水素
原子、メチル基もしくはスチリル基である化合物を挙げ
ることが出来る。またより一層好ましいグループとして
は R1がピリジル基の3もしくは4位に置換した水素
原子、メチル基もしくは塩素原子であり、R2がメチル
基である化合物を挙げることが出来る。
本発明の2−ピリジンカルボキサミド誘導体〔1〕ハ抗
アレルギ一作用を示し、特に即時型アレルギー反応に対
し強力な抑制作用を示す。具体的には。
アレルギ一作用を示し、特に即時型アレルギー反応に対
し強力な抑制作用を示す。具体的には。
例えばPCA反応(passive cutarIeo
us anaphylaxis ) 。
us anaphylaxis ) 。
全身性アナフィラキシ−反応、抗原誘発気管支収縮、ア
レルギー性皮膚反応、過敏症的ヒスタミン遊離反応等を
抑制する。例えば、抗アスカリス・スウム(Ascar
ts Suum ) 抗血清を使用してラットに詔け
る抗アレルギー作用をパッシブ・キエタニアス・アナフ
ィラキシス(Pa5sive cutaneous a
naphytaxis : P CA ) 反応により
調べたところ、2−ピリジンカルボキサミド誘導体(1
)は、N−C3−テトラゾリル)−3−ピリジンカルボ
キサミド(He1v。
レルギー性皮膚反応、過敏症的ヒスタミン遊離反応等を
抑制する。例えば、抗アスカリス・スウム(Ascar
ts Suum ) 抗血清を使用してラットに詔け
る抗アレルギー作用をパッシブ・キエタニアス・アナフ
ィラキシス(Pa5sive cutaneous a
naphytaxis : P CA ) 反応により
調べたところ、2−ピリジンカルボキサミド誘導体(1
)は、N−C3−テトラゾリル)−3−ピリジンカルボ
キサミド(He1v。
Chim、 Acta +I 42.1324−132
7 (1959) )より10倍以上強いPCA抑制作
用を示した。さらに2−ピリジンカルボキサミド誘導体
〔りは毒性が弱く、抗アレルギー剤として優れた安全性
を有する。例えば。
7 (1959) )より10倍以上強いPCA抑制作
用を示した。さらに2−ピリジンカルボキサミド誘導体
〔りは毒性が弱く、抗アレルギー剤として優れた安全性
を有する。例えば。
N−(5−テトラゾリル)−6−メチル−2−ピリジン
カルボキサミド・ナトリウム塩のマウスへの経口投与に
よるLDs、は、約800’W/Ifである。さらに、
2−ピリジンカルボキサミド誘導体(1)は。
カルボキサミド・ナトリウム塩のマウスへの経口投与に
よるLDs、は、約800’W/Ifである。さらに、
2−ピリジンカルボキサミド誘導体(1)は。
操返し投与してもその薬理活性の低下を示さず。
薬剤耐性がないと共に、みるべき副作用も示さない等の
特徴をも併せ有する。それ故1以上のことから、2−ピ
リジンカルボキサミド誘導体〔りは。
特徴をも併せ有する。それ故1以上のことから、2−ピ
リジンカルボキサミド誘導体〔りは。
アレルギー性気管支喘息、11麻疹、アレルギー性湿疹
、枯草熱、アレルギー性鼻炎等種々のアレルギー症状の
治療および予防剤として有用である。
、枯草熱、アレルギー性鼻炎等種々のアレルギー症状の
治療および予防剤として有用である。
2−ピリジンカルボキサミド誘導体〔りは、医薬として
用いる場合、遊離の形でもあるいはその塩としても使用
することができる。2−ピリジンカルボキサミド誘導体
(I)の薬理、的に許容しう、る塩としては1例えばア
ルカリ金属塩(例えば、ナトリウム塩、カリウム塩、リ
チウム塩)、有機アミン塩(例えば、トリエタノールア
ミン塩、トリ′スヒドロキシメチルアミノメタン塩)、
塩基性アミノ酸塩(例えば、リジン塩)等が挙げられる
。これらの塩は、遊離の2−ピリジンカルボキサミド誘
導体(INK、水酸化アルカリ金属(例えば、水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム)。
用いる場合、遊離の形でもあるいはその塩としても使用
することができる。2−ピリジンカルボキサミド誘導体
(I)の薬理、的に許容しう、る塩としては1例えばア
ルカリ金属塩(例えば、ナトリウム塩、カリウム塩、リ
チウム塩)、有機アミン塩(例えば、トリエタノールア
ミン塩、トリ′スヒドロキシメチルアミノメタン塩)、
塩基性アミノ酸塩(例えば、リジン塩)等が挙げられる
。これらの塩は、遊離の2−ピリジンカルボキサミド誘
導体(INK、水酸化アルカリ金属(例えば、水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム)。
アルカリ金属炭酸塩(例えば、炭酸ナトリウム。
炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム)、有機アミン(例
えば、トリエタノールアミン、トリスヒドロキシメチル
アミノメタン)、塩基性アミノ酸(例えば、リジン)等
を作用させることにより容易に製することが出来る。
えば、トリエタノールアミン、トリスヒドロキシメチル
アミノメタン)、塩基性アミノ酸(例えば、リジン)等
を作用させることにより容易に製することが出来る。
2−ピリジンカルボキサミド誘導体〔りまたはその塩は
、経口的にも非経口的にも投与することが出来る。2−
ピリジンカルボキサミド誘導体(I)あるいはその塩の
1日投与量は、約0.1”F/Kf〜約30011P/
ms 、好ましくは約0.3ff/rF〜約30 MP
、、49程度であるっさらに当該翼導体〔りもしくはそ
の塩は、経口あるいは非経口的投与に適する賦形剤とと
もに製剤として用いても良く、適当な賦形剤としては。
、経口的にも非経口的にも投与することが出来る。2−
ピリジンカルボキサミド誘導体(I)あるいはその塩の
1日投与量は、約0.1”F/Kf〜約30011P/
ms 、好ましくは約0.3ff/rF〜約30 MP
、、49程度であるっさらに当該翼導体〔りもしくはそ
の塩は、経口あるいは非経口的投与に適する賦形剤とと
もに製剤として用いても良く、適当な賦形剤としては。
例えばアラビアゴム、ゼラチン、ゾルビット、トラガン
ト、ポリビニルピロリドン、乳糖、砂糖。
ト、ポリビニルピロリドン、乳糖、砂糖。
リン階カリウム、ステアリン酸マグネシウム、タルク、
馬鈴しょでん粉等が挙げられる。投与剤型としては錠剤
、散剤、カプセル剤、W!4粒剤の如き固型剤であって
も良く、また溶液、けん濁液の如き液剤であっても良い
。さらに非経口的に投与する場合には、注射剤として用
いることも出来る。
馬鈴しょでん粉等が挙げられる。投与剤型としては錠剤
、散剤、カプセル剤、W!4粒剤の如き固型剤であって
も良く、また溶液、けん濁液の如き液剤であっても良い
。さらに非経口的に投与する場合には、注射剤として用
いることも出来る。
尚1本発明に係る2−ピリジンカルボキサミド誘導体[
1]は、一般式 (但しI R’およびR1は、前記と同一意味を有する
。)で示される2−ピリジンカルボン酸類化合物もしく
はそのカルボキシル基における反応性誘導体と。
1]は、一般式 (但しI R’およびR1は、前記と同一意味を有する
。)で示される2−ピリジンカルボン酸類化合物もしく
はそのカルボキシル基における反応性誘導体と。
5−アミノテトラゾールとを縮合させて製造することが
出来る。或はまた、−毅弐〇)においてR1が水素原子
でありビが7エネチル基である化合物は。
出来る。或はまた、−毅弐〇)においてR1が水素原子
でありビが7エネチル基である化合物は。
式
で示される2−ピリジンカルボン酸誘導体もしくはその
カルボキシル基番〔詔ける反応性誘導体と5−アミノテ
トラゾールとを縮合させて式で示される2−ピリジンカ
ルボキサミド誘導体を製し1次いでこの化合物〔l°〕
を接触還元することにより製造することも出来る。
カルボキシル基番〔詔ける反応性誘導体と5−アミノテ
トラゾールとを縮合させて式で示される2−ピリジンカ
ルボキサミド誘導体を製し1次いでこの化合物〔l°〕
を接触還元することにより製造することも出来る。
2−ピリジンカルボン酸印〕もしくは(If’) ト5
−アミノテトラゾールとの縮合反応は9例えば、適当な
溶媒(例えばテトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメチ
ルホルムアミド、これらの混合溶媒等)中、脱水剤(例
えばN、N’−ジシクロへキシルカルボジイミド、N、
N’−カルボニルジイミダゾール等)の存在下に好適に
実施することが出来る。
−アミノテトラゾールとの縮合反応は9例えば、適当な
溶媒(例えばテトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメチ
ルホルムアミド、これらの混合溶媒等)中、脱水剤(例
えばN、N’−ジシクロへキシルカルボジイミド、N、
N’−カルボニルジイミダゾール等)の存在下に好適に
実施することが出来る。
反応は一10℃〜100℃で実施するのが好ましい。
また2−ピリジンカルボン酸類化合物(3)もしくは〔
「〕は反応性誘導体例えば酸ハライド、混酸無水物の形
で当該縮合反応に用いることもでき、これら当該酸ハラ
イドは1例えば対応する遊離カルボン酸化合物をチオニ
ルクロリド、オキシ塩化リン、五塩化リンなどのハロゲ
ン化剤と溶媒(例えばベンゼン、トルエン、ピリジン等
)中もしくは溶媒の非存在下0℃ないしハロゲン化剤の
還流温度で反応させるという常法によって製することが
出来る。一方、混酸無水物は2−ピリジンカルボン酸類
化合物(3)もしくは[1〕をクロルギ酸アルキルエス
テルと、トリエチルアミンあるいはN−メチルモルホリ
ン等脱酸剤の存在下−30℃〜20℃で適当な溶媒中反
応させて製することが出来る。
「〕は反応性誘導体例えば酸ハライド、混酸無水物の形
で当該縮合反応に用いることもでき、これら当該酸ハラ
イドは1例えば対応する遊離カルボン酸化合物をチオニ
ルクロリド、オキシ塩化リン、五塩化リンなどのハロゲ
ン化剤と溶媒(例えばベンゼン、トルエン、ピリジン等
)中もしくは溶媒の非存在下0℃ないしハロゲン化剤の
還流温度で反応させるという常法によって製することが
出来る。一方、混酸無水物は2−ピリジンカルボン酸類
化合物(3)もしくは[1〕をクロルギ酸アルキルエス
テルと、トリエチルアミンあるいはN−メチルモルホリ
ン等脱酸剤の存在下−30℃〜20℃で適当な溶媒中反
応させて製することが出来る。
2−ビワジンカルボン酸類化合物(3)もしくは〔■′
〕の酸ハライドと、5−アミノテトラゾールとの縮合反
応は溶媒(例えばジメチルホルムアミド、塩化メチレン
、ジオキサン等)中または溶媒の非存在下かつトリエチ
ルアミン、ピリジン、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリ
ウムの如き脱酸剤の存在下に0℃〜120℃で実施する
のが好ましい。
〕の酸ハライドと、5−アミノテトラゾールとの縮合反
応は溶媒(例えばジメチルホルムアミド、塩化メチレン
、ジオキサン等)中または溶媒の非存在下かつトリエチ
ルアミン、ピリジン、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリ
ウムの如き脱酸剤の存在下に0℃〜120℃で実施する
のが好ましい。
一方、2−ピリジンカルボン酸類化合物l〕もしくハ(
m”lの混酸無水物と5−アミノテトラゾールと)縮合
反応は、溶媒(例えばテトラヒドロフラン。
m”lの混酸無水物と5−アミノテトラゾールと)縮合
反応は、溶媒(例えばテトラヒドロフラン。
ジオキサン、ジメチルホルムアミドあるいはこれらの混
合溶媒等)中−30℃〜20℃で実施するのが好ましい
。
合溶媒等)中−30℃〜20℃で実施するのが好ましい
。
化合物〔■′〕の接触還元は容易に実施することが出来
1例えば、パラジウム−炭素、パラジウム黒すどの触媒
の存在下水素ガス雰囲気中で実施出来る。
1例えば、パラジウム−炭素、パラジウム黒すどの触媒
の存在下水素ガス雰囲気中で実施出来る。
溶媒としては9例えば水とアルカノール(例えばメタノ
ール、エタノール)との混合溶媒が好適であり9反応は
1〜10気圧下に実施するのが好ましい。
ール、エタノール)との混合溶媒が好適であり9反応は
1〜10気圧下に実施するのが好ましい。
なお本願明細書において、用語「低級アルキル基」は炭
素数1〜4のアルキル基を、「低級アルコキシ基」は炭
素数1〜4のアルコキシ基を、また「低級アルケニル基
」は炭素数2〜4のアルケニル基を、それぞれ指称する
ものである。
素数1〜4のアルキル基を、「低級アルコキシ基」は炭
素数1〜4のアルコキシ基を、また「低級アルケニル基
」は炭素数2〜4のアルケニル基を、それぞれ指称する
ものである。
実験例
抗アレルギー作用をパッシブ・キュタニアス・アナフィ
ラキシス(Pa5sive cutaneous an
aphlaxis : pCA)反応により調べた。
ラキシス(Pa5sive cutaneous an
aphlaxis : pCA)反応により調べた。
(方法)
Sprague −Damey系雄性ラット(体重:約
200F。
200F。
1群3〜4匹)の背部を除毛し、20倍に希釈した抗ア
スカリス・スウム(Ascaris suum)抗血清
(注1 ) 0.05−を皮肉投与して感作した。約2
4時間後にアスカリス・スウム抽出液(注2)0.5岬
蛋白とエバンx−ブnt −(Ev@m’ blue
) 5 IQとの混液1−を尾静脈内に注射してチャレ
ンジを行ない、30分後に皮膚に生じた青炎のサイズ(
長径×短径)を測定した。
スカリス・スウム(Ascaris suum)抗血清
(注1 ) 0.05−を皮肉投与して感作した。約2
4時間後にアスカリス・スウム抽出液(注2)0.5岬
蛋白とエバンx−ブnt −(Ev@m’ blue
) 5 IQとの混液1−を尾静脈内に注射してチャレ
ンジを行ない、30分後に皮膚に生じた青炎のサイズ(
長径×短径)を測定した。
検体の投与は次の如(して行った。即ら、検体をカルボ
キシメチルセルロース0.596を含んだ生理食塩水に
溶解もしくは浮遊させ、この検体含有液をチャレンジ1
5分前に経口投与した。
キシメチルセルロース0.596を含んだ生理食塩水に
溶解もしくは浮遊させ、この検体含有液をチャレンジ1
5分前に経口投与した。
検体の抗アレルギー作用の強さは検体投与群の青炎のサ
イズが検体無投与群あ青炎のサイズに比較して何%小さ
くなったか(阻害%)で表示した。
イズが検体無投与群あ青炎のサイズに比較して何%小さ
くなったか(阻害%)で表示した。
(注1):抗アスカリス・スウム抗血清Spragt*
e −Dawiey系雄性ラット(体重:約200F)
のそ径部にアスカリス・スウム抽出液(注2)2wIg
10.25−を皮下投与して免疫した。アジュバントと
して百日咳ワクチア (Bordetella per
tussis 2 x 10”個10.5st/)を腹
腔的注射した(−次免疫)、、−週間後に再度アスカリ
ス・スウム抽出液0.2IIv蛋白10.25−をそ脛
部皮下に投与した(二次免疫)。3週間後に採血し、そ
の血清を凍結保存したうこのようにして調製した抗血清
は熱感受性の点から考えてIgE抗体に富んだものであ
った。
e −Dawiey系雄性ラット(体重:約200F)
のそ径部にアスカリス・スウム抽出液(注2)2wIg
10.25−を皮下投与して免疫した。アジュバントと
して百日咳ワクチア (Bordetella per
tussis 2 x 10”個10.5st/)を腹
腔的注射した(−次免疫)、、−週間後に再度アスカリ
ス・スウム抽出液0.2IIv蛋白10.25−をそ脛
部皮下に投与した(二次免疫)。3週間後に採血し、そ
の血清を凍結保存したうこのようにして調製した抗血清
は熱感受性の点から考えてIgE抗体に富んだものであ
った。
(注2):アスカリス・スウム抽出液(抗原)豚回虫ア
スカリス・スウム20Fを生理食塩水135d中でポリ
トロンを用いて破砕・ホ゛モゲナイズし。
スカリス・スウム20Fを生理食塩水135d中でポリ
トロンを用いて破砕・ホ゛モゲナイズし。
遠心分離して得られる上清をborate (12,5
mM )buffered 5aline (pHQ、
Q )で透析し、得られる内液をアスカリス・スウム抽
出液として用いた(凍結保存)。本液をロウリー(Lo
wry)法で定量すると5.7岬蛋白/rrtであった
。
mM )buffered 5aline (pHQ、
Q )で透析し、得られる内液をアスカリス・スウム抽
出液として用いた(凍結保存)。本液をロウリー(Lo
wry)法で定量すると5.7岬蛋白/rrtであった
。
(結果)
結果は下記第1表に示す通りである。尚、インタールは
20”F/KFの経口投与で無効であった。
20”F/KFの経口投与で無効であった。
第 1 表
(注) : Hetv、Chim、Acta、42.1
324−1327 (1959)記載の化合物 製造例1 a−ピコリン酸5tをチオニルクロリド40rnlに溶
解し、該溶液を2時間加熱還流する。反応終了後1反応
混合物を減圧下に濃縮して過剰のチオニルクロリドを留
去する。残査をジメチルホルムアミド3ONdに溶解し
、該溶液に5−アミノテトラゾール4.079およびト
リエチルアミン8.14fのジメチルホルムアミド1〇
−溶液を冷却下に加える。混合物を70℃で1時間加温
する。反応終了後9反応混合物を減圧下に濃縮してジメ
チルホルムアミドを留去する。残有に水を加えた後、骸
混合物の液性を1096塩酸でpH2〜3とする。 析
出晶をろ取し、ジメチルホルムアミド・酢酸エチル混液
から再結晶することにより、N−(5−テトラゾリル)
−2−ピリジンカルボキサミド4.229を得る。
324−1327 (1959)記載の化合物 製造例1 a−ピコリン酸5tをチオニルクロリド40rnlに溶
解し、該溶液を2時間加熱還流する。反応終了後1反応
混合物を減圧下に濃縮して過剰のチオニルクロリドを留
去する。残査をジメチルホルムアミド3ONdに溶解し
、該溶液に5−アミノテトラゾール4.079およびト
リエチルアミン8.14fのジメチルホルムアミド1〇
−溶液を冷却下に加える。混合物を70℃で1時間加温
する。反応終了後9反応混合物を減圧下に濃縮してジメ
チルホルムアミドを留去する。残有に水を加えた後、骸
混合物の液性を1096塩酸でpH2〜3とする。 析
出晶をろ取し、ジメチルホルムアミド・酢酸エチル混液
から再結晶することにより、N−(5−テトラゾリル)
−2−ピリジンカルボキサミド4.229を得る。
M、p、 268.5℃〜269℃(分解)N−(5
−テトラゾリル)−2−ピリジンカルボキサミド2.1
1をIN−水酸化ナトリウム水溶液11rnlに溶解し
、該溶液を炭末ろ過する。ろ液を減圧下に濃縮して溶媒
を留去する。残有にエタノールを加え結晶をろ取するこ
とにより、N−(5−テトラゾリル)−2−ピリジンカ
ルボキサミド、ナトリウム塩2.26 fを得る。
−テトラゾリル)−2−ピリジンカルボキサミド2.1
1をIN−水酸化ナトリウム水溶液11rnlに溶解し
、該溶液を炭末ろ過する。ろ液を減圧下に濃縮して溶媒
を留去する。残有にエタノールを加え結晶をろ取するこ
とにより、N−(5−テトラゾリル)−2−ピリジンカ
ルボキサミド、ナトリウム塩2.26 fを得る。
M、9. 278℃〜280℃(分解)製造例 2
4−メチル−2−ピリジンカルボン酸1.06LN、N
’−カルボニルジイミダゾール1.28 F 、 ジ
メチルホルムアミド25.nlおよびテトラヒドロフラ
ン121111の混合物を室温で3時間撹拌する。該混
合物に5−アミノテトラゾール0.72 fを加え、
80℃で3時間撹拌する。反応混合物を減圧下に濃縮し
て溶媒を留去する。残有に水を加え1次いで1096塩
酸でpH2とする。析出晶をろ取し、水で洗浄する。
’−カルボニルジイミダゾール1.28 F 、 ジ
メチルホルムアミド25.nlおよびテトラヒドロフラ
ン121111の混合物を室温で3時間撹拌する。該混
合物に5−アミノテトラゾール0.72 fを加え、
80℃で3時間撹拌する。反応混合物を減圧下に濃縮し
て溶媒を留去する。残有に水を加え1次いで1096塩
酸でpH2とする。析出晶をろ取し、水で洗浄する。
該粗結晶をジメチルホルムアミド・水混合液から再結晶
することにより、N−(5−テトラゾリル)−4−メチ
ル−2−ピリジンカルボキサミド0.52tを得る。
することにより、N−(5−テトラゾリル)−4−メチ
ル−2−ピリジンカルボキサミド0.52tを得る。
M、L 241.5℃〜242.5℃(分解)本品の
ナトリウム塩: M、p、 210℃〜215℃(分解)製造例 3 (116−スチリル−2−ピリジンカルボン酸4tをチ
オニルクロリド60−に溶解し、該溶液を2時間加熱還
流する。反応終了後1反応混合物を減圧下に濃縮して過
剰のチオニルクロリドを留去する。残有をジメチルホル
ムアミド1o−に溶解シ。
ナトリウム塩: M、p、 210℃〜215℃(分解)製造例 3 (116−スチリル−2−ピリジンカルボン酸4tをチ
オニルクロリド60−に溶解し、該溶液を2時間加熱還
流する。反応終了後1反応混合物を減圧下に濃縮して過
剰のチオニルクロリドを留去する。残有をジメチルホル
ムアミド1o−に溶解シ。
該溶液に5−アミノテトラゾール1.78 Fおよびト
リエチルアミン9pのジメチルホルムアミド9 ml溶
液を冷却下に加える。反応混合物を70℃で2時間撹拌
する。反応終了後1反応混合物を減圧下に濃縮して、ジ
メチルホルムアミドを留去する。残有に水を′加え、−
次いで1096塩酸でpH2とする。析出晶をろ取し、
ジメチルホルムアミド・エタノール混液から再結晶する
ことにより、N−(5−テトラゾリル)−6−スチリル
−2−ピリジンカルボキサミド3.Ofを得る。
リエチルアミン9pのジメチルホルムアミド9 ml溶
液を冷却下に加える。反応混合物を70℃で2時間撹拌
する。反応終了後1反応混合物を減圧下に濃縮して、ジ
メチルホルムアミドを留去する。残有に水を′加え、−
次いで1096塩酸でpH2とする。析出晶をろ取し、
ジメチルホルムアミド・エタノール混液から再結晶する
ことにより、N−(5−テトラゾリル)−6−スチリル
−2−ピリジンカルボキサミド3.Ofを得る。
M、p、 261.5℃〜262℃(分解)本品のナ
トリウム塩: M、p、 aoo℃以上 +21N−(5−テトラゾリル)−6−スチリル−2−
ピリジンカルボキサミド2t、水30−.エタノール1
5i、 1096水酸化す) IJウム水溶液5−およ
び1096パラジウム・炭素0.18Fの混合物を常圧
・水素ガス気流下に40℃で2時間、室温で15時間振
とうする。反応終了後、混合物にエタノールを加えて析
出物を溶解する。不溶物をろ取し、ろ液を1096塩酸
でpH3とする。析出晶をろ取し、水で洗浄後乾燥する
。該結晶をジメチルホルムアミド・エタノール混液から
再結晶することにより。
トリウム塩: M、p、 aoo℃以上 +21N−(5−テトラゾリル)−6−スチリル−2−
ピリジンカルボキサミド2t、水30−.エタノール1
5i、 1096水酸化す) IJウム水溶液5−およ
び1096パラジウム・炭素0.18Fの混合物を常圧
・水素ガス気流下に40℃で2時間、室温で15時間振
とうする。反応終了後、混合物にエタノールを加えて析
出物を溶解する。不溶物をろ取し、ろ液を1096塩酸
でpH3とする。析出晶をろ取し、水で洗浄後乾燥する
。該結晶をジメチルホルムアミド・エタノール混液から
再結晶することにより。
N−(5−テトラゾリル)−6−フェネチル−2カルボ
ジン力ルポキサミド1.341を得る。
ジン力ルポキサミド1.341を得る。
M、p、 220℃〜221℃(分解)本品のナトリ
ウム塩: M、p、 288℃〜289℃(分解)製造例 4 5−メチル−2−ピリジンカルボン酸2.88 F 。
ウム塩: M、p、 288℃〜289℃(分解)製造例 4 5−メチル−2−ピリジンカルボン酸2.88 F 。
チオニルクロリド20−0および5−アミノテトラゾー
ル2.39を製造例1と同様に処理し、得られる粗製物
をジメチルホルムアミドから再結晶することにより、N
−(5−テトラゾリル)−5−メチル−2−ピリジンカ
ルボキサミド1.5tを得る。
ル2.39を製造例1と同様に処理し、得られる粗製物
をジメチルホルムアミドから再結晶することにより、N
−(5−テトラゾリル)−5−メチル−2−ピリジンカ
ルボキサミド1.5tを得る。
M、p、 275℃〜277℃(分解)本品のナトリ
ウム塩: M、p、300℃以上 製造例 5 6−メチル−2−ピリジンカルボン酸2.3Fチオニル
クロリド20−および5−アミノテトラゾール1.33
fを製造例1と同様に処理し、得られる粗製物をジメ
チルホルムアミド・エタノール混液から再結晶すること
により、N−(5−テトラゾリル)−6−メチル−2−
ピリジンカルボキサミド1.31 fを得る。
ウム塩: M、p、300℃以上 製造例 5 6−メチル−2−ピリジンカルボン酸2.3Fチオニル
クロリド20−および5−アミノテトラゾール1.33
fを製造例1と同様に処理し、得られる粗製物をジメ
チルホルムアミド・エタノール混液から再結晶すること
により、N−(5−テトラゾリル)−6−メチル−2−
ピリジンカルボキサミド1.31 fを得る。
M、p、248℃〜249℃(分解)
本品のナトリウム塩:
M、p、 295℃〜297℃(分解)製造例 6
5−n−プロピル−2−ピリジンカルボン酸1.9f、
チオニルクロリド12−および5−アミノテトラゾール
0.96 Fを製造例1と同様に処理し、得られる粗製
物をジメチルホルムアミド・水混液から再結晶すること
により、N−(5−テトラゾリル)−6−n−プロピル
−2−ピリジンカルボキサミド0.269を得る。
チオニルクロリド12−および5−アミノテトラゾール
0.96 Fを製造例1と同様に処理し、得られる粗製
物をジメチルホルムアミド・水混液から再結晶すること
により、N−(5−テトラゾリル)−6−n−プロピル
−2−ピリジンカルボキサミド0.269を得る。
M、p、 218℃〜220℃(分解)本品のナトリ
ウム塩: M、p、 300℃〜303℃(分解)製造例 7 O−n−ブチル−2−ピリジンカルボン酸2.4t、チ
オニルクロリド1511dおよび5−アミノテトラゾー
ル0.97Fを、製造例1と同様側ζ処理し、得られる
粗製物をジメチルホルムアミド・エタノール混液から再
結晶することにより、N−(5−テトラゾリル)−6−
n−ブチル−2−ピリジンカルボキサミド0.97Fを
得る。
ウム塩: M、p、 300℃〜303℃(分解)製造例 7 O−n−ブチル−2−ピリジンカルボン酸2.4t、チ
オニルクロリド1511dおよび5−アミノテトラゾー
ル0.97Fを、製造例1と同様側ζ処理し、得られる
粗製物をジメチルホルムアミド・エタノール混液から再
結晶することにより、N−(5−テトラゾリル)−6−
n−ブチル−2−ピリジンカルボキサミド0.97Fを
得る。
M、p、 194℃〜197℃(分解)本品のナトリ
ウム塩: M、p、 296℃〜297℃(分解)製造例 8 4−クロロ−2−ピリジンカルボン11)1.16F、
チオニルクロリド25−詔よび5−アミノテトラゾール
o、82tを製造例1と同様に処理し、得られる粗製物
をジメチルホルムアミド・エタノール混液から再結晶す
ること酪ζより、N−(5−テトラゾリル)−4−クロ
ロ−2−ピリジンカルボキサミド1.OFを得る。
ウム塩: M、p、 296℃〜297℃(分解)製造例 8 4−クロロ−2−ピリジンカルボン11)1.16F、
チオニルクロリド25−詔よび5−アミノテトラゾール
o、82tを製造例1と同様に処理し、得られる粗製物
をジメチルホルムアミド・エタノール混液から再結晶す
ること酪ζより、N−(5−テトラゾリル)−4−クロ
ロ−2−ピリジンカルボキサミド1.OFを得る。
M、p、 240℃〜250℃(分解)本品のナトリ
ウム塩: 約260℃から分解 製造例 9 3−クロロ−2−ピリジンカルボン酸0.531! 。
ウム塩: 約260℃から分解 製造例 9 3−クロロ−2−ピリジンカルボン酸0.531! 。
チオニルクロリドlOm/および5−アミノテトラゾー
ル0.27Fを製造例1と同様に処理し・得られる粗製
物をジメチルホルムアミド・水・エタノール混液から再
結晶することにより、N−(5−テトラゾリル)−3−
クロロ−2−ピリジンカルボキサミド0.28 Fを得
る。
ル0.27Fを製造例1と同様に処理し・得られる粗製
物をジメチルホルムアミド・水・エタノール混液から再
結晶することにより、N−(5−テトラゾリル)−3−
クロロ−2−ピリジンカルボキサミド0.28 Fを得
る。
M、p、 252℃〜254℃(分解)本品のナトリ
ウム塩: M、p、 210℃〜218℃(約70℃から黒化)
製造例 10 6−クロロ−2−ピリジンカルボン酸0.46 P 。
ウム塩: M、p、 210℃〜218℃(約70℃から黒化)
製造例 10 6−クロロ−2−ピリジンカルボン酸0.46 P 。
チオニルクロリド15−および5−アミノテトラゾール
0.299−を製造例1と同様に処理し、得られる粗製
物をジメチルホルムアミド・水混液から再結晶すること
により、N−(5−テトラゾリル)−6−クロロ−2−
ピリジンカルボキサミド0.17Fを得る。
0.299−を製造例1と同様に処理し、得られる粗製
物をジメチルホルムアミド・水混液から再結晶すること
により、N−(5−テトラゾリル)−6−クロロ−2−
ピリジンカルボキサミド0.17Fを得る。
M、p、240℃〜247℃(分解)
本品のナトリウム塩:
M、p、 300℃以上
製造例 11
3−メトキシ−2−ピリジンカルボン酸1.45F。
チオニルクロリド301nlおよび5−アミノ−テトラ
ゾール0.95Pを製造例1と同様に処理し、得られる
粗製物をジメチルホルムアミド・水混液から再結晶する
ことにより、N−(5−テトラゾリル)−3−メトキシ
−2−ピリジンカルボキサミドo、18りを得る。
ゾール0.95Pを製造例1と同様に処理し、得られる
粗製物をジメチルホルムアミド・水混液から再結晶する
ことにより、N−(5−テトラゾリル)−3−メトキシ
−2−ピリジンカルボキサミドo、18りを得る。
M、p、 213.5℃〜215.5℃(分解)本品
のナトリウム塩: M、p、 269℃〜271℃(分解)製造例 12 4−メトキシ−2−ピリジンカルボン酸1.67 p。
のナトリウム塩: M、p、 269℃〜271℃(分解)製造例 12 4−メトキシ−2−ピリジンカルボン酸1.67 p。
チオニルクロリド2o−および5−アミノテトラゾール
1.29を製造例1と同様に処理し、得られる粗製物を
エタノールから再結晶することにより。
1.29を製造例1と同様に処理し、得られる粗製物を
エタノールから再結晶することにより。
N−(5−テトラゾリル)−4−メトキシ−2−ピリジ
ンカルボキサミド0.28Fを得る。
ンカルボキサミド0.28Fを得る。
M、p、 235℃〜250℃(分解)元素分析値二
C,H1O!N、・1/2 H,0計算値: C、41
,92t H−3,96@N、 36.67実験値:C
,42,30喜H,3,66IN、 37.96本品の
ナトリウム塩: M、p、 205℃〜235℃(分解)製造例 13 6−n−ブトキシ−2−ピリジンカルボン酸0.94f
、チオニルクロリド10−および5−アミノテトラゾー
ル0.48 Fを製造例1と同様に処理し、得られる粗
製物をジメチルホルムアミド・水・エタノール混液から
再結晶することにより、N−(5−テトラゾリル)−5
−n−ブトキシ−2−ピリジンカルボキサミド0.77
Fを得る。
C,H1O!N、・1/2 H,0計算値: C、41
,92t H−3,96@N、 36.67実験値:C
,42,30喜H,3,66IN、 37.96本品の
ナトリウム塩: M、p、 205℃〜235℃(分解)製造例 13 6−n−ブトキシ−2−ピリジンカルボン酸0.94f
、チオニルクロリド10−および5−アミノテトラゾー
ル0.48 Fを製造例1と同様に処理し、得られる粗
製物をジメチルホルムアミド・水・エタノール混液から
再結晶することにより、N−(5−テトラゾリル)−5
−n−ブトキシ−2−ピリジンカルボキサミド0.77
Fを得る。
M、p、 203℃〜204℃(分解)本品のナトリ
ウム塩: M、9. 311℃〜312℃(分解)製造例 14 5−メチルチオ−2−ピリジンカルボン酸0.36グ、
チオニルクロリド6−および5−アミノテトラゾール0
.18Fを製造例1と同様に処理し、得られる粗製物を
ジメチルホルムアミド・エタノール混液から再結晶する
ことにより、N−(5−テトラゾリル)−5−メチルチ
オ−2−ピリジンカルボキサミド0.179を得る。
ウム塩: M、9. 311℃〜312℃(分解)製造例 14 5−メチルチオ−2−ピリジンカルボン酸0.36グ、
チオニルクロリド6−および5−アミノテトラゾール0
.18Fを製造例1と同様に処理し、得られる粗製物を
ジメチルホルムアミド・エタノール混液から再結晶する
ことにより、N−(5−テトラゾリル)−5−メチルチ
オ−2−ピリジンカルボキサミド0.179を得る。
M4)、 275℃〜276℃(分解)本品のナトリ
ウム塩: M、p、 215℃〜218℃(分解)製造例 15 5−ニトロ−2−ピリジンカルボン酸0.72F。
ウム塩: M、p、 215℃〜218℃(分解)製造例 15 5−ニトロ−2−ピリジンカルボン酸0.72F。
チオニルクロリド13−および5−アミノテトラゾール
0.379を製造例1と同様に処理し、得られる粗製物
をジメチルホルムアミド・エタノール・水混液から再結
晶する(とにより、N−(5−テトラゾリル)−5−ニ
トロ−2−ピリジンカルボキサミド0.512を得る。
0.379を製造例1と同様に処理し、得られる粗製物
をジメチルホルムアミド・エタノール・水混液から再結
晶する(とにより、N−(5−テトラゾリル)−5−ニ
トロ−2−ピリジンカルボキサミド0.512を得る。
M、p、 274℃〜275℃(分解)製造例 16
4−ニトロ−6−メチル−2−ピリジンカルボン酸1.
44 F 、チオニルクロリド27−および5−アミノ
テトラゾール0.799を製造例1と同様に処理し、得
られる粗製物をエタノールで洗浄することにより、N−
(5−テトラゾリル)−4−二トロー6−メチル−2−
ピリジンカルボキサミド0.799を得る。
44 F 、チオニルクロリド27−および5−アミノ
テトラゾール0.799を製造例1と同様に処理し、得
られる粗製物をエタノールで洗浄することにより、N−
(5−テトラゾリル)−4−二トロー6−メチル−2−
ピリジンカルボキサミド0.799を得る。
M、p、 300℃以上
本品のナトリウム塩:
M、p、 約200℃から分解
製造例 17
4−エチ′ルー2−ピリジンカルボン酸0.46f。
N、N″−カルボニルジイミダゾール0.5gおよび5
−アミノテトラゾール0.28tを製造例2と同様に処
理し、得られる粗製物をジメチルホルムアミド・水混液
から再結晶することにより、N−(5−テトラゾリル)
−4−エチル−2−ピリジンカルボキサミド0.16F
を得る。
−アミノテトラゾール0.28tを製造例2と同様に処
理し、得られる粗製物をジメチルホルムアミド・水混液
から再結晶することにより、N−(5−テトラゾリル)
−4−エチル−2−ピリジンカルボキサミド0.16F
を得る。
M、p、 217℃〜218℃(分解)本品のナトリ
ウム塩: M、p 約190℃から分解 製造例 18 4−イソプロピル−2−ピリジンカルボン酸0.42P
、N、N”−カルボニルジイミダゾール0.42Pおよ
び5−アミノテトラゾール0.249を製造例2と同様
に処理し、得られる粗製物をジメチルホルムアミド・水
温液から再結晶することにより、N−(5−テトラゾリ
ル)−4−イソプロピル−2=ピリジンカルボキサミド
0.17Fを得る。
ウム塩: M、p 約190℃から分解 製造例 18 4−イソプロピル−2−ピリジンカルボン酸0.42P
、N、N”−カルボニルジイミダゾール0.42Pおよ
び5−アミノテトラゾール0.249を製造例2と同様
に処理し、得られる粗製物をジメチルホルムアミド・水
温液から再結晶することにより、N−(5−テトラゾリ
ル)−4−イソプロピル−2=ピリジンカルボキサミド
0.17Fを得る。
M、p、 198℃〜203℃(分解)本品のナトリ
ウム塩: M、p、 205℃〜209℃(分解)製造例 19 4−n−ブチル−2−ピリジンカルボン酸0.52f、
N、N’−カルボニルジイミダゾール0.48Fおよび
5−アミノテトラゾール0.27Fを製造例2と同様に
処理し、得られる粗製物をジメチルホルムアミド・水・
エタノール混液から再結晶することにより、N−(5−
テトラゾリル)−4−n−ブチル−2−ピリジンカルボ
キサミド0.45Fを得る。
ウム塩: M、p、 205℃〜209℃(分解)製造例 19 4−n−ブチル−2−ピリジンカルボン酸0.52f、
N、N’−カルボニルジイミダゾール0.48Fおよび
5−アミノテトラゾール0.27Fを製造例2と同様に
処理し、得られる粗製物をジメチルホルムアミド・水・
エタノール混液から再結晶することにより、N−(5−
テトラゾリル)−4−n−ブチル−2−ピリジンカルボ
キサミド0.45Fを得る。
M、p、 218℃〜219℃(分解)本品のナトリ
ウム塩: M4)、 275℃〜278℃(分解)製造例 20 3−メチル−2−ピリジンカルボン酸1.49p。
ウム塩: M4)、 275℃〜278℃(分解)製造例 20 3−メチル−2−ピリジンカルボン酸1.49p。
N、N’−カルボニルジイミダゾール1.8Fおよび5
−アミノテトラゾール1.22を製造例2と同様に処理
し、・得られる粗製物をジメチルホルムアミド・エタノ
ール混液から再結晶することにより。
−アミノテトラゾール1.22を製造例2と同様に処理
し、・得られる粗製物をジメチルホルムアミド・エタノ
ール混液から再結晶することにより。
N−(5−テトラゾリル)−3−メチル−2−ピリジン
カルボキサミド0.2Fを得る。
カルボキサミド0.2Fを得る。
M、p、 227℃〜230℃(分解)本品のナトリ
ウム塩: M、p、 285℃〜295℃(分解)製造例 21 4.6−シメチルー2−ピリジンカルボン酸0.81P
、N、N’−カルボニルジイミダゾール0.86 F
ifよび5−アミノテトラゾール0.54Fを製造例2
と同様に処理し、得られる粗製物をジメチルホルムアミ
ド・エタノール混液から再結晶することにより。
ウム塩: M、p、 285℃〜295℃(分解)製造例 21 4.6−シメチルー2−ピリジンカルボン酸0.81P
、N、N’−カルボニルジイミダゾール0.86 F
ifよび5−アミノテトラゾール0.54Fを製造例2
と同様に処理し、得られる粗製物をジメチルホルムアミ
ド・エタノール混液から再結晶することにより。
N−(5−テトラゾリル)−4,6−シメチルー2−ピ
リジンカルボキサミド0.47Fを得る。
リジンカルボキサミド0.47Fを得る。
M、p、 247℃〜248℃(分解)(230℃か
ら温潤)本品のナトリウム塩: M、p、 241℃〜265℃(分解) (210
℃から湿潤) 製造例 22 3.6−シメチルー2−ピリジンカルボン酸0.76f
、N、N−カルボニルジイミダゾール0.82Fおよび
5−アミノテトラゾール0.519を製造例2と同様に
処理し、得られる粗製物をジメチルホルムアミド・エタ
ノール混液から再結晶することにより。
ら温潤)本品のナトリウム塩: M、p、 241℃〜265℃(分解) (210
℃から湿潤) 製造例 22 3.6−シメチルー2−ピリジンカルボン酸0.76f
、N、N−カルボニルジイミダゾール0.82Fおよび
5−アミノテトラゾール0.519を製造例2と同様に
処理し、得られる粗製物をジメチルホルムアミド・エタ
ノール混液から再結晶することにより。
N−(5−テトラゾリル)−3,6−シメチルー2−ピ
リジンカルボキサミド0.689を得る。
リジンカルボキサミド0.689を得る。
M、p、 269℃〜272℃(分解)本品のナトリ
ウム塩: M、p、 295℃〜297℃(分解) (210
℃から湿潤) 製造例 23 5.6−シメチルー2−ピリジンカルボン酸0.559
、 N、 N’−カルボニルジイミダゾール0.77F
および5−アミノテトラゾール0.489を製造例2と
同様に処理し、得られる粗製物をジメチルホルムアミド
・エタノール混液から再結晶することにより。
ウム塩: M、p、 295℃〜297℃(分解) (210
℃から湿潤) 製造例 23 5.6−シメチルー2−ピリジンカルボン酸0.559
、 N、 N’−カルボニルジイミダゾール0.77F
および5−アミノテトラゾール0.489を製造例2と
同様に処理し、得られる粗製物をジメチルホルムアミド
・エタノール混液から再結晶することにより。
N−(5−テトラゾリル)−5,6−シメチルー2−ピ
リジンカルボキサミド0.44 Fを得る。
リジンカルボキサミド0.44 Fを得る。
M、p、 240℃〜242℃(分解)本品のナトリ
ウム塩: M、p、 300℃以上 製造例 24 4−ブロモ−2−ピリジンカルボン酸0.3F。
ウム塩: M、p、 300℃以上 製造例 24 4−ブロモ−2−ピリジンカルボン酸0.3F。
N、 N’−カルボニルジイミダゾール0.25Fおよ
び5−アミノテトラゾール0.14Fを製造例2と同様
に処理し、得られる粗製物をジメチルホルムアミド・エ
タノール混液から再結晶することにより。
び5−アミノテトラゾール0.14Fを製造例2と同様
に処理し、得られる粗製物をジメチルホルムアミド・エ
タノール混液から再結晶することにより。
N−(5−テトラゾリル)−4−ブロモ−2−ピリジン
カルボキサミド0.24 fを得る。
カルボキサミド0.24 fを得る。
M、l)、250℃〜280℃(分解)(約240℃か
ら赤化) 本品のナトリウム塩: M、p、 180℃〜220℃(分解)製造例 25 6−ブロモ−2−ピリジンカルボン酸0.89 F 。
ら赤化) 本品のナトリウム塩: M、p、 180℃〜220℃(分解)製造例 25 6−ブロモ−2−ピリジンカルボン酸0.89 F 。
N、N’−カルボニルジイミダゾール0.71 Fおよ
び5−アミノテトラゾール0.41 Pを製造例2と同
様に処理し、得られる粗製物をジメチルホルムアミド・
水温液から再結晶することにより、N−(5−テトラゾ
リル)−6−ブロモ−2−ピリジンカルボキサミド0.
67 Fを得る。
び5−アミノテトラゾール0.41 Pを製造例2と同
様に処理し、得られる粗製物をジメチルホルムアミド・
水温液から再結晶することにより、N−(5−テトラゾ
リル)−6−ブロモ−2−ピリジンカルボキサミド0.
67 Fを得る。
M、p、 230℃〜231.5℃(分解)本品のナ
トリウム塩゛ M、p、 aoo℃以上 製造例 26 ローメトキシー2−ピリジンカルボン酸0.48f。
トリウム塩゛ M、p、 aoo℃以上 製造例 26 ローメトキシー2−ピリジンカルボン酸0.48f。
N、 N’−カルボニルジイミダゾール0.51Fおよ
び5−アミノテトラゾール0.299を製造例2と同様
に処理し、得られる粗製物をジメチルホルムアミド・水
・エタノール混液から再結晶することにより、N−(5
−テトラゾリル)−6−メドキシー2−ピリジンカルボ
キサミド0.32 Fを得る。
び5−アミノテトラゾール0.299を製造例2と同様
に処理し、得られる粗製物をジメチルホルムアミド・水
・エタノール混液から再結晶することにより、N−(5
−テトラゾリル)−6−メドキシー2−ピリジンカルボ
キサミド0.32 Fを得る。
M、p、 252℃〜253℃(分解)本品のナトリ
ウム塩: M、p、 288℃〜290℃(分解)製造例 27 6−7二ノキシー2−ピリジンカルボン酸0.25f、
N、 N’−カルボニルジイミダゾール0.2tおよ
び5−アミノテトラゾール0.119を製造例2と同様
基ζ処理し、得られる粗製物をエタノールから再結晶す
ることにより、N−(5−テトラゾリル)−6−7二ノ
キシー2−ピリジンカルボキサミドQ、13Fを得る。
ウム塩: M、p、 288℃〜290℃(分解)製造例 27 6−7二ノキシー2−ピリジンカルボン酸0.25f、
N、 N’−カルボニルジイミダゾール0.2tおよ
び5−アミノテトラゾール0.119を製造例2と同様
基ζ処理し、得られる粗製物をエタノールから再結晶す
ることにより、N−(5−テトラゾリル)−6−7二ノ
キシー2−ピリジンカルボキサミドQ、13Fを得る。
M、p、 212℃〜218℃(分解’) (19
0℃から湿潤) 本品のナトリウム塩: M、p、 290℃〜296℃(分解)製造例 28 4−ニトロ−2−ピリジンカルボン酸0.48F。
0℃から湿潤) 本品のナトリウム塩: M、p、 290℃〜296℃(分解)製造例 28 4−ニトロ−2−ピリジンカルボン酸0.48F。
N、N’−カルボニルジイミダゾール0.48 Fおよ
び5−アミノテトラゾール0.27 fを製造例2と同
様に処理し、得られる粗製物をエタノールで洗浄するこ
とにより、N−(5−テトラゾリル)−4−−ドロー2
−ピリジンカルボキサミド0.38Fを得る。
び5−アミノテトラゾール0.27 fを製造例2と同
様に処理し、得られる粗製物をエタノールで洗浄するこ
とにより、N−(5−テトラゾリル)−4−−ドロー2
−ピリジンカルボキサミド0.38Fを得る。
M、p、 250℃〜270℃(分解)本品のナトリ
ウム塩: M、p、 280℃〜280℃(分解)製造例 29 4−クロロ−6−メチル−2−ピリジンカルボン酸0.
68f、 N、 N−カルボニルジイミダゾール0.6
7t#よび5−アミノテトラゾール0.37FをIla
例2と同様に処理し、得られる粗製物をジメチルホルム
アミド・エタノール混液から再結晶すること番こより、
N−(5−テトラゾリル)−4−タロロー6−メチル−
2−ピリジンカルボキサミド0.65tを得る。
ウム塩: M、p、 280℃〜280℃(分解)製造例 29 4−クロロ−6−メチル−2−ピリジンカルボン酸0.
68f、 N、 N−カルボニルジイミダゾール0.6
7t#よび5−アミノテトラゾール0.37FをIla
例2と同様に処理し、得られる粗製物をジメチルホルム
アミド・エタノール混液から再結晶すること番こより、
N−(5−テトラゾリル)−4−タロロー6−メチル−
2−ピリジンカルボキサミド0.65tを得る。
M、p、 240℃〜250℃(分解)(約150℃
から湿潤) 本品のナトリウム塩: M、p、305℃〜310℃(分解) 製造例 30 4−メトキシ−6−メチル−2−ピリジンカルボン酸0
.8炉、N、N−カルボニルジイミダゾール0.82
F #よび5−アミノテトラゾール0.45Fを製造例
2と同様に処理し、得られる粗製物をジメチルホルムア
ミド・エタノール混液から再結晶することにより、N−
(5−テトラゾリル)−4−メトキシ−6−メチル−2
−ピリジンカルボキサミド0.829を得る。
から湿潤) 本品のナトリウム塩: M、p、305℃〜310℃(分解) 製造例 30 4−メトキシ−6−メチル−2−ピリジンカルボン酸0
.8炉、N、N−カルボニルジイミダゾール0.82
F #よび5−アミノテトラゾール0.45Fを製造例
2と同様に処理し、得られる粗製物をジメチルホルムア
ミド・エタノール混液から再結晶することにより、N−
(5−テトラゾリル)−4−メトキシ−6−メチル−2
−ピリジンカルボキサミド0.829を得る。
M、p、 252℃〜258℃(分解)本品のナトリ
ウム塩:
ウム塩:
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 】、 一般式 (但し R1は水素原子、低級アルキル基、低級アルコ
キシ基、ハロゲン原子、低級アルキルチオ基もしくはニ
トロ基を表わし、かつピリジル基の3゜4もしくは5位
に置換していることを表わしI R”は水素原子、低級
アルキル基、低級アルコキシ基。 フェ/キシ基、フェニル基置換低級アルキル基。 フェニル基置換低級アルケニル基もしくはハロゲン原子
を表わす。)で示される2−ピリジンカルボキサミド誘
導体またはその薬理的−こ許容しうる塩を有効成分とす
る抗アレルギー剤。 2、一般式[1)において、Rが水素原子、低級アルキ
ル基、低級アルコキシ基または/%ロゲン原子でありI
R”が水素原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基
またはフェニル基置換低級アルケニル基である化合物を
有効成分とする特許請求の範囲第1項記載の抗アレルギ
ー剤っ 3、一般式(I)において R1がピリジル基の3また
は4位に置換した水素原子、低級アルキル基またはハロ
ゲン原子であり、fが水素原子、俳級アルキル基または
フェニル基置換低級アルケニル基である化合物を有効成
分とする特許請求の範囲第1項記載の抗アレルギー剤。 4、一般式[1)において R1がピリジル基の3また
は4位に置換した水素原子、メチル基、エチル基。 n−ブチル基、メトキシ基、塩素原子または臭素原子で
あり、fが水素原子、メチル基またはスチリル基である
化合物を有効成分とする特許請求の範囲第2項記載の抗
アレルギー剤。 5、一般式(1)において、Rが水素原子、メチル基。 エチル基、塩素原子または臭素原子であり、Rが水素原
子、メチル基またはスチリル基である化合物を有効成分
とする特許請求の範囲第3項記載の抗アレルギー剤。 6、一般式〔すにおいて、Rがメチル基、エチル基。 塩素原子または臭素原子でありI Rtが水素原子であ
る化合物を有効成分とする特許請求の範囲第5項記載の
抗アレルギー剤。 7、一般式[1)において R1が水素原子、メチル基
または塩素原子であり、セがメチル基またはスチリル基
である化合物を有効成分とする特許請求の範囲第5項記
載の抗アレルギー剤。 8、一般式CI〕において、ばかメチル基である化合物
を有効成分とする特許請求の範囲第7項記載の抗アレル
ギー剤。 9、N−(5−テトラゾリル)−4−クロロ−2−ピリ
ジンカルボキサミドまたはその薬理的に許容しうる塩を
有効成分とする特許請求の範囲第6項記載の抗アレルギ
ー剤。 10、N−(5−テトラゾリル)−6−スチリル−2−
ピリジンカルボキサミドまたはその薬理的に許容しうる
塩を有効成分とする特許請求の範囲第7項記載の抗アレ
ルギー剤。 11、N−(5−テトラゾリル)−6−メチル−2−ピ
リジンカルボキサミドまたはその薬理的に許容しうる塩
を有効成分とする特許請求の範囲第8項記載の抗アレル
ギー剤。 12、N−(5−テトラゾリル)−3,6−シメチルー
2−ピリジンカルボキサミドまたはその薬理的に許容し
うる塩を有効成分とする特許請求の範囲第8項記載の抗
アレルギー剤。 13、 N−(5−テトラゾリル)−4−クロロ−6
−メチル−2−ピリジンカルボキサミドまたはその薬理
釣書こ許容しうる塩を有効成分とする特許請求の範囲第
8項記載の抗アレルギー剤。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP454482A JPS58121215A (ja) | 1982-01-14 | 1982-01-14 | 抗アレルギ−剤 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP454482A JPS58121215A (ja) | 1982-01-14 | 1982-01-14 | 抗アレルギ−剤 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58121215A true JPS58121215A (ja) | 1983-07-19 |
JPS6340407B2 JPS6340407B2 (ja) | 1988-08-11 |
Family
ID=11586986
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP454482A Granted JPS58121215A (ja) | 1982-01-14 | 1982-01-14 | 抗アレルギ−剤 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58121215A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2004081001A1 (ja) | 2003-02-13 | 2004-09-23 | Banyu Pharmaceutical Co., Ltd. | 新規2-ピリジンカルボキサミド誘導体 |
CN100378094C (zh) * | 2003-02-13 | 2008-04-02 | 万有制药株式会社 | 2-吡啶甲酰胺衍生物 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS53105481A (en) * | 1977-02-07 | 1978-09-13 | Riker Laboratories Inc | Substituted tetrazole compound |
JPS54107326A (en) * | 1978-02-09 | 1979-08-23 | Sony Corp | Recorder-reproducer |
JPS567782A (en) * | 1979-06-29 | 1981-01-27 | Tanabe Seiyaku Co Ltd | Novel pyridinecarboxamide derivative and its preparation |
JPS56115784A (en) * | 1980-02-15 | 1981-09-11 | Tanabe Seiyaku Co Ltd | Novel pyridinecarboxamide derivative and its preparation |
-
1982
- 1982-01-14 JP JP454482A patent/JPS58121215A/ja active Granted
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS53105481A (en) * | 1977-02-07 | 1978-09-13 | Riker Laboratories Inc | Substituted tetrazole compound |
JPS54107326A (en) * | 1978-02-09 | 1979-08-23 | Sony Corp | Recorder-reproducer |
JPS567782A (en) * | 1979-06-29 | 1981-01-27 | Tanabe Seiyaku Co Ltd | Novel pyridinecarboxamide derivative and its preparation |
JPS56115784A (en) * | 1980-02-15 | 1981-09-11 | Tanabe Seiyaku Co Ltd | Novel pyridinecarboxamide derivative and its preparation |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2004081001A1 (ja) | 2003-02-13 | 2004-09-23 | Banyu Pharmaceutical Co., Ltd. | 新規2-ピリジンカルボキサミド誘導体 |
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US7629362B2 (en) | 2003-02-13 | 2009-12-08 | Banyu Pharmaceutical Co., Ltd. | 2-pyridine carboxamide derivatives |
US8344003B2 (en) | 2003-02-13 | 2013-01-01 | Msd K. K. | 2-pyridinecarboxamide derivatives |
US8765789B2 (en) | 2003-02-13 | 2014-07-01 | Msd K.K. | 2-pyridinecarboxamide derivatives |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6340407B2 (ja) | 1988-08-11 |
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