JPS58118030A - 磁気テ−プおよびその製造方法 - Google Patents
磁気テ−プおよびその製造方法Info
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- C21—METALLURGY OF IRON
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、磁気録音、磁気録画等の磁気記録に使用さ
れる磁気テープ、特に高密度記録用の磁気テープおよび
その製造方法に関し、Ｆｔ、 −Ｃｒ −Ｃｏ系磁石材
料等の時効処理型磁石合金材料からなる薄膜の一方の表
面のみに時効処理を施して強磁性層を形成するとともに
残りの基層部分を溶体化処理状態層として残し、これに
よ如強磁性層の著しい薄質化を図って高密度記録を可能
にしだものである。
れる磁気テープ、特に高密度記録用の磁気テープおよび
その製造方法に関し、Ｆｔ、 −Ｃｒ −Ｃｏ系磁石材
料等の時効処理型磁石合金材料からなる薄膜の一方の表
面のみに時効処理を施して強磁性層を形成するとともに
残りの基層部分を溶体化処理状態層として残し、これに
よ如強磁性層の著しい薄質化を図って高密度記録を可能
にしだものである。
周知のように磁気記録において高密度記録、換言すれば
短波長記録を達成するだめには磁気テープの磁性層を薄
くするとともにその磁性層の保磁力Ｈｃおよび残留磁束
密度Ｂｒを大きくする必要がある。
短波長記録を達成するだめには磁気テープの磁性層を薄
くするとともにその磁性層の保磁力Ｈｃおよび残留磁束
密度Ｂｒを大きくする必要がある。
しかるに従来の一般的な塗布型テープ、すなわち合成樹
脂からなるベースフィルム上に強磁性材粉末と合成樹脂
バインダ物質との混合物を塗布してなるテープにおいて
は、磁性層（混合物塗布層）の厚みをある程度以上薄く
することは困難であり、またその磁性層中に相当量のバ
インダ成分を含むだめ、見掛けの残留磁束密度、保磁力
を大きくすることが困難でアシ、シだがって高密度記録
には不適当であった。
脂からなるベースフィルム上に強磁性材粉末と合成樹脂
バインダ物質との混合物を塗布してなるテープにおいて
は、磁性層（混合物塗布層）の厚みをある程度以上薄く
することは困難であり、またその磁性層中に相当量のバ
インダ成分を含むだめ、見掛けの残留磁束密度、保磁力
を大きくすることが困難でアシ、シだがって高密度記録
には不適当であった。
そとで最近ではバインダ物質を使用せずに強磁性合金（
磁石合金）自体からなる薄膜を直接使用した磁気テープ
が各種提案されており、このような磁気テープに使用さ
れる磁石合金材料としてはアルニコ系磁石、あるいはＦ
ｅ −Ｃｒ −Ｃｏ系磁石等の時効処理型磁石合金が高
い保磁力、高い残留磁束密度が得られる点から注目され
ている。このような磁石合金材料の薄膜を得る方法とし
ては鈎造インゴットから圧延する方法があるが、この場
合圧延加工加能な材料に限られる問題があり、特に高密
度記録が可能となるように数μｍ以下まで薄質化するた
めには加工性が特に良好なものに限られる問題がある。
磁石合金）自体からなる薄膜を直接使用した磁気テープ
が各種提案されており、このような磁気テープに使用さ
れる磁石合金材料としてはアルニコ系磁石、あるいはＦ
ｅ −Ｃｒ −Ｃｏ系磁石等の時効処理型磁石合金が高
い保磁力、高い残留磁束密度が得られる点から注目され
ている。このような磁石合金材料の薄膜を得る方法とし
ては鈎造インゴットから圧延する方法があるが、この場
合圧延加工加能な材料に限られる問題があり、特に高密
度記録が可能となるように数μｍ以下まで薄質化するた
めには加工性が特に良好なものに限られる問題がある。
また上述のように圧延によって数μｍ以下まで薄質化し
た場合にはその後の熱処理（溶体化処理および時効熱処
理）が困難となる問題がある。一方、磁石合金材料の溶
湯を商運で回転する冷却ロール上に吹付けて急速冷却す
ることによって磁石合金材料の薄膜を形成する方法も知
られているが、この場合高密度記録が可能となるように
数μｍ以下まで均一な厚みで薄質化することは困難であ
り、またこの方法では溶体化処理は不要となるものの、
その後の時効処理は必要であるから、仮に数μｍ以下ま
で薄質化できたとしても前記圧延テープの場合と同様に
時効熱処理が困難となる問題がある。したがって時効処
理型磁石合金を薄膜化した磁気テープにおいては、高い
残留磁束密度、高い保磁力は得られるものの、厚みの点
では実際上は熱処理等の制約からある程度以上薄くする
ことは困難であり、そのため高密度記録も限界があるの
が実情であった。
た場合にはその後の熱処理（溶体化処理および時効熱処
理）が困難となる問題がある。一方、磁石合金材料の溶
湯を商運で回転する冷却ロール上に吹付けて急速冷却す
ることによって磁石合金材料の薄膜を形成する方法も知
られているが、この場合高密度記録が可能となるように
数μｍ以下まで均一な厚みで薄質化することは困難であ
り、またこの方法では溶体化処理は不要となるものの、
その後の時効処理は必要であるから、仮に数μｍ以下ま
で薄質化できたとしても前記圧延テープの場合と同様に
時効熱処理が困難となる問題がある。したがって時効処
理型磁石合金を薄膜化した磁気テープにおいては、高い
残留磁束密度、高い保磁力は得られるものの、厚みの点
では実際上は熱処理等の制約からある程度以上薄くする
ことは困難であり、そのため高密度記録も限界があるの
が実情であった。
なおこのほか合成樹脂製ベースフィルム上に磁石材料の
薄膜をメッキまたは蒸着により形成する方法もあり、こ
の場合には相当程度まで磁石材料膜を薄質化することが
可能であるが、合成樹脂製ベースフィルム上に形成され
るためその後の熱処理は困難であシ、シたがって時効処
理型磁石合金材料に適用することは困難である。
薄膜をメッキまたは蒸着により形成する方法もあり、こ
の場合には相当程度まで磁石材料膜を薄質化することが
可能であるが、合成樹脂製ベースフィルム上に形成され
るためその後の熱処理は困難であシ、シたがって時効処
理型磁石合金材料に適用することは困難である。
この発明は以上の事情に鑑みてなされたもので、時効処
理型磁石合金材料を用いて従来よりも格段に高密度記録
を可能とした磁気テープおよびその製造方法を提供する
ことを目的とするものである。
理型磁石合金材料を用いて従来よりも格段に高密度記録
を可能とした磁気テープおよびその製造方法を提供する
ことを目的とするものである。
すなわちこの発明の磁気テープは、時効処理型（５）
磁石合金材料を素材とする薄膜の表面の厚さ０１〜２μ
ｍの層のみを時効処理が施された強磁性層とし、残りの
基層部分を俗＾理のままの溶体化処理状態層としたこと
を特徴とするものであυ、またこの発明の磁気テープ製
造方法は、時効処理型磁石合金材料からなる薄膜をその
全厚みにわたって溶体化処理した後、その簿膜の一方の
面を冷却しつつ他方の而を加熱して、その他方の面のみ
を時効処理することを特徴とするものである。
ｍの層のみを時効処理が施された強磁性層とし、残りの
基層部分を俗＾理のままの溶体化処理状態層としたこと
を特徴とするものであυ、またこの発明の磁気テープ製
造方法は、時効処理型磁石合金材料からなる薄膜をその
全厚みにわたって溶体化処理した後、その簿膜の一方の
面を冷却しつつ他方の而を加熱して、その他方の面のみ
を時効処理することを特徴とするものである。
以下この発明についてさらに詳細に説明する。
この発明において使用される時効処理型（み石合金材料
は、溶体化処理後の時効熱処理によって強磁性相（強磁
性粒子）が析出する型式のものであり、このような時効
処理型磁石合金材料として代表的なものにはスピノーダ
ル分解型磁石合金材料がある。このスピノーダル分解型
磁石合金としては例えばアルニコ系磁石、Ｆｅ−Ｃｒ−
Ｃｏ系磁石、Ｐｔ−Ｃｏ系磁石（代表組成Ｐｔ −５０
ａｔｍ％）、Ａｕ−Ｆｅ −Ｃｏ系磁石、あるいはＣｕ
−Ｎｉ −Ｆｅ系磁石等が挙げられ、この発明ではこ
れらのいずれもが（６） 使用可能である。
は、溶体化処理後の時効熱処理によって強磁性相（強磁
性粒子）が析出する型式のものであり、このような時効
処理型磁石合金材料として代表的なものにはスピノーダ
ル分解型磁石合金材料がある。このスピノーダル分解型
磁石合金としては例えばアルニコ系磁石、Ｆｅ−Ｃｒ−
Ｃｏ系磁石、Ｐｔ−Ｃｏ系磁石（代表組成Ｐｔ −５０
ａｔｍ％）、Ａｕ−Ｆｅ −Ｃｏ系磁石、あるいはＣｕ
−Ｎｉ −Ｆｅ系磁石等が挙げられ、この発明ではこ
れらのいずれもが（６） 使用可能である。
この発明の磁気テープを製造するにあたっては、先ず前
述のような種々の時効処理型磁石合金のうちから適当な
ものを選び、その薄膜を作成する。
述のような種々の時効処理型磁石合金のうちから適当な
ものを選び、その薄膜を作成する。
この薄膜作成は常法にしたがって行えば良く、例えば溶
解鋳造によって得られたインゴットを圧延加工すれば良
い。この薄膜の厚みは、２μｍ〜５０μｍ程度とするこ
とが好ましい。２μｍ未満では溶体化処理が困難となる
おそれがあり、一方５０μｍを越えれば現行のテープ厚
よりも厚くなってしまい、−巻当シの記録密度が低くな
シ経済的でなくなってしまう。
解鋳造によって得られたインゴットを圧延加工すれば良
い。この薄膜の厚みは、２μｍ〜５０μｍ程度とするこ
とが好ましい。２μｍ未満では溶体化処理が困難となる
おそれがあり、一方５０μｍを越えれば現行のテープ厚
よりも厚くなってしまい、−巻当シの記録密度が低くな
シ経済的でなくなってしまう。
上述のような薄膜に対しては溶体化処理を施して材質を
物質化する。この溶体化処理温度は使用している材料に
応じて適正な温度を選択すれば良く、例えばＦｅ −Ｃ
ｒ −Ｃｏ系磁石合金の場合８００〜１２００℃程度で
行えば良い。なおこの溶体化処理は後の時効処理とは異
なり、薄膜の全厚みに対して行う。
物質化する。この溶体化処理温度は使用している材料に
応じて適正な温度を選択すれば良く、例えばＦｅ −Ｃ
ｒ −Ｃｏ系磁石合金の場合８００〜１２００℃程度で
行えば良い。なおこの溶体化処理は後の時効処理とは異
なり、薄膜の全厚みに対して行う。
次いで上述の薄膜に対し、その表面層のみを時効処理し
、残りの基層部分を溶体化処理状態のまま残すだめの処
理を行う。この処理は薄膜の一方の表面を冷却しつつ、
他方の表面を電子ビーム加熱等によって加熱することに
よって行えば良い。
、残りの基層部分を溶体化処理状態のまま残すだめの処
理を行う。この処理は薄膜の一方の表面を冷却しつつ、
他方の表面を電子ビーム加熱等によって加熱することに
よって行えば良い。
その具体的方法としては例えば第１図に示すように溶体
化処理済みの薄膜１を供給側リール２から水冷ドラム３
へ連続的に繰出し、その水冷ドラム３の外周面に薄膜１
の一方の表面を沿わせることによって薄膜１の一方の表
面を冷却しつつ他方の表面に電子ビーム発生装置４から
の電子ビームを照射してその面を加熱し、加熱後の薄膜
１′を巻取リール５によって連続的に巻取れば良い。
化処理済みの薄膜１を供給側リール２から水冷ドラム３
へ連続的に繰出し、その水冷ドラム３の外周面に薄膜１
の一方の表面を沿わせることによって薄膜１の一方の表
面を冷却しつつ他方の表面に電子ビーム発生装置４から
の電子ビームを照射してその面を加熱し、加熱後の薄膜
１′を巻取リール５によって連続的に巻取れば良い。
このようにして得られたこの発明の磁気テープ、すなわ
ち時効処理済みの薄膜１′の断面を第２図に示す。第２
図に示すように薄膜１′はその一方の表面層が加熱によ
り時効処理されて時効処理層ＩＡ。
ち時効処理済みの薄膜１′の断面を第２図に示す。第２
図に示すように薄膜１′はその一方の表面層が加熱によ
り時効処理されて時効処理層ＩＡ。
すなわち強磁性粒子が析出された強磁性層となり、残り
の基層部分は時効処理されずに溶体化処理状態層ＩＢ、
すなわち強磁性粒子が析出されない層（非磁性層もしく
は弱磁性層）として残る。ここで前記強磁性層ＩＡの厚
みｔが０１μｍ未満では充分な出力が得られない等、磁
気テープとしての特性が不足し、一方２μｍを越えれば
短波長記録が困難となって充分な高密度記録が達成でき
なくなるから、強磁性層ＩＡの厚みは０−１〜２μｍの
範囲とする。この強磁性層ＩＡの厚みは、表面層時効処
理における加熱条件を変えることによって制御すること
ができる。すなわち第２図に示すような装置によって処
理する場合、電子ビーム出力を変えたりあるいは処理す
べき薄膜１０走行速度を変えることによって時効処理さ
れる深さが変化し、これによって得られる強磁性層ＩＡ
の深さが変化する。
の基層部分は時効処理されずに溶体化処理状態層ＩＢ、
すなわち強磁性粒子が析出されない層（非磁性層もしく
は弱磁性層）として残る。ここで前記強磁性層ＩＡの厚
みｔが０１μｍ未満では充分な出力が得られない等、磁
気テープとしての特性が不足し、一方２μｍを越えれば
短波長記録が困難となって充分な高密度記録が達成でき
なくなるから、強磁性層ＩＡの厚みは０−１〜２μｍの
範囲とする。この強磁性層ＩＡの厚みは、表面層時効処
理における加熱条件を変えることによって制御すること
ができる。すなわち第２図に示すような装置によって処
理する場合、電子ビーム出力を変えたりあるいは処理す
べき薄膜１０走行速度を変えることによって時効処理さ
れる深さが変化し、これによって得られる強磁性層ＩＡ
の深さが変化する。
なお前記表面時効処理済みの薄膜１′はこれをそのまま
磁気テープとして使用しても良いが、その薄膜１′が薄
い場合、すなわち磁気テープとしての機械的強度が不足
すると考えられる場合には、第３図に示すように溶体化
処理状態層ＩＢの側にポリエステル等からなる合成樹脂
フィルム６を貼着して補強し、その状態で磁気テープと
して使用しく９） ても良い。
磁気テープとして使用しても良いが、その薄膜１′が薄
い場合、すなわち磁気テープとしての機械的強度が不足
すると考えられる場合には、第３図に示すように溶体化
処理状態層ＩＢの側にポリエステル等からなる合成樹脂
フィルム６を貼着して補強し、その状態で磁気テープと
して使用しく９） ても良い。
ところで表面の強磁性層は前述のように時効処理によっ
て強磁性粒子が析出したものであるが、この強磁性層中
の析出した強磁性粒子についてはその分散状態や形状等
について次のような条件を満足することが望ましい。
て強磁性粒子が析出したものであるが、この強磁性層中
の析出した強磁性粒子についてはその分散状態や形状等
について次のような条件を満足することが望ましい。
先ず第１には、時効処理された層中における析出した強
磁性粒子がその層全体の体積に占める割合、すなわち次
式で示される占積率を１５〜８０チとすることが望ま１
．い。
磁性粒子がその層全体の体積に占める割合、すなわち次
式で示される占積率を１５〜８０チとすることが望ま１
．い。
占積率−Ｖｌ ／ （Ｖｌ ＋Ｖ２ ）但し■１は時効
処理された層中の強磁性相（粒子）の総体積、ｖｔは同
層中の非磁性相の総体積。
処理された層中の強磁性相（粒子）の総体積、ｖｔは同
層中の非磁性相の総体積。
この占積率と残留磁束密度Ｂｒおよび保磁力ｆＴｃとの
相関関係は一般的に第４図に示すようにあられせ、強磁
性粒子の占積率が１５％未満となれば残留磁束密度Ｂｒ
および保磁力Ｈｃがどもに小さくなり、記録用磁気テー
プとして使用困難となる。例えば実施例のＦｅ −Ｃｒ
−Ｃｏ系磁石合金の場合占積率１５％未満ではＢｒが
２Ｔ以下となり、Ｈｃが（団） １６０００ Ａ７ｍ以下となる。一方占檀率が８０％を
越えれば析出粒子相互が結合してしまい、Ｈｃが低下し
、例えば実施例のＦｅ−Ｃｒ−Ｃｏ系磁石合金の場合Ｈ
ｃが２４０００ Ａ／ｍ以下となる。
相関関係は一般的に第４図に示すようにあられせ、強磁
性粒子の占積率が１５％未満となれば残留磁束密度Ｂｒ
および保磁力Ｈｃがどもに小さくなり、記録用磁気テー
プとして使用困難となる。例えば実施例のＦｅ −Ｃｒ
−Ｃｏ系磁石合金の場合占積率１５％未満ではＢｒが
２Ｔ以下となり、Ｈｃが（団） １６０００ Ａ７ｍ以下となる。一方占檀率が８０％を
越えれば析出粒子相互が結合してしまい、Ｈｃが低下し
、例えば実施例のＦｅ−Ｃｒ−Ｃｏ系磁石合金の場合Ｈ
ｃが２４０００ Ａ／ｍ以下となる。
第２には、時効処理された層における強磁性粒子の軸直
径（短径）が０．０５〜１μｍとなることが望ましい。
径（短径）が０．０５〜１μｍとなることが望ましい。
すなわち強磁性粒子の軸直径と保磁力Ｈｃとの相関関係
は一般的に第５図に示すようにあられせ、軸直径が０．
０５μｍ未満、および１μｍを越える場合のいずれも保
磁力Ｈｃが小さくなって磁気テープとして好ましくなく
なる。例えば実施例のＦｅ −Ｃｒ −Ｃｏ系磁石合金
の場合、軸直径が０．０５μｍ未満、もしくは１μｍを
越える場合にＨｅが１６０００ Ａ７’ｍ以下となる。
は一般的に第５図に示すようにあられせ、軸直径が０．
０５μｍ未満、および１μｍを越える場合のいずれも保
磁力Ｈｃが小さくなって磁気テープとして好ましくなく
なる。例えば実施例のＦｅ −Ｃｒ −Ｃｏ系磁石合金
の場合、軸直径が０．０５μｍ未満、もしくは１μｍを
越える場合にＨｅが１６０００ Ａ７’ｍ以下となる。
第３には、時効処理された層における強磁性粒子の軸比
、すなわち（粒子の軸長沼）／（粒子の直径ｄ）の値４
３／ｄが３．０以上となることが望ましい。
、すなわち（粒子の軸長沼）／（粒子の直径ｄ）の値４
３／ｄが３．０以上となることが望ましい。
すなわち強磁性粒子の軸比４／ｄと保磁力Ｈｅとの相関
関係は一般的に第６図に示すようにあられせ、軸比が３
．０未満では粒子の反磁場係数が太きくなり、保磁力Ｈ
ｃが小さくなって磁気テープとして好ましくなくなる。
関係は一般的に第６図に示すようにあられせ、軸比が３
．０未満では粒子の反磁場係数が太きくなり、保磁力Ｈ
ｃが小さくなって磁気テープとして好ましくなくなる。
第４には、時効処理された層中における強磁性粒子の密
度、すなわち単位面積当９の強磁性粒子の数が２００
（１μｍ′以上となることが望ましい。すなわち強磁性
粒子の密度（Ｖμｍ″）と保磁力Ｈｅとの相関関係は、
一般的に第７図に示すようにあられせ、２００ （＠Ａ
ｔｒｎ’未満では保磁力が小さくなって磁気テープとし
て好ましくなくなる。例えば実施例のＦｅ −Ｃｒ −
Ｃｏ系磁石合金の場合密度が２００１ｆｉｉ未満ではＨ
ｃが２４００ ＯＡ／７７１以下となる。
度、すなわち単位面積当９の強磁性粒子の数が２００
（１μｍ′以上となることが望ましい。すなわち強磁性
粒子の密度（Ｖμｍ″）と保磁力Ｈｅとの相関関係は、
一般的に第７図に示すようにあられせ、２００ （＠Ａ
ｔｒｎ’未満では保磁力が小さくなって磁気テープとし
て好ましくなくなる。例えば実施例のＦｅ −Ｃｒ −
Ｃｏ系磁石合金の場合密度が２００１ｆｉｉ未満ではＨ
ｃが２４００ ＯＡ／７７１以下となる。
以下に実施例を記す。
実施例
２５ｗｔ％Ｃｏ −３１ｗｔ％Ｃｒ −４４ｗｔ％Ｆｅ
からなる組成のＦｅ −Ｃｒ −Ｃｏ合金を圧延加工し
て厚さ５．０μｍの薄膜とし、これに真空中において１
０００℃×１時間溶体化処理を施しだ後、真空容器中に
おいて第１図に示す装置を用いて電子ビーム加熱による
表面層時効熱処理を施し、第２図に示すような構造の磁
気テープを作成した。但し電子ビーム加熱はその電子ビ
ーム加熱電力を１．５〜６１６Ｖの範囲内で種々変化さ
せて時効処理層（強磁性層）の厚みを変化させた。まだ
電子ビーム加熱時のテープ走行速度は１０ ｍ／ｓｅｅ
とし、またテープ幅は１００■とした。
からなる組成のＦｅ −Ｃｒ −Ｃｏ合金を圧延加工し
て厚さ５．０μｍの薄膜とし、これに真空中において１
０００℃×１時間溶体化処理を施しだ後、真空容器中に
おいて第１図に示す装置を用いて電子ビーム加熱による
表面層時効熱処理を施し、第２図に示すような構造の磁
気テープを作成した。但し電子ビーム加熱はその電子ビ
ーム加熱電力を１．５〜６１６Ｖの範囲内で種々変化さ
せて時効処理層（強磁性層）の厚みを変化させた。まだ
電子ビーム加熱時のテープ走行速度は１０ ｍ／ｓｅｅ
とし、またテープ幅は１００■とした。
この実施例によシ得られた磁気テープについて、磁気特
性を調べるとともに、ヘッド相対速度３ ｍ／ｓｅｅの
ビデオデツキ〈て出力特性を調べた。
性を調べるとともに、ヘッド相対速度３ ｍ／ｓｅｅの
ビデオデツキ〈て出力特性を調べた。
また比較のためＣｏ被被着−Ｆ ｅ ２０ ｓの塗布型
磁気テープ（試料記号Ｇ）についても同様な試験を行っ
た。それらの試験結果を第１表に示し、また特に出力電
圧特性を第８図に示す。なお第８図中の記号Ａ−Ｇは第
１表中の試料記号Ａ−Ｇに対応する。
磁気テープ（試料記号Ｇ）についても同様な試験を行っ
た。それらの試験結果を第１表に示し、また特に出力電
圧特性を第８図に示す。なお第８図中の記号Ａ−Ｇは第
１表中の試料記号Ａ−Ｇに対応する。
（１３）
第１表
第８図から明らかなように強磁性層が薄いほど高い周波
数領域まで出力電圧が伸びるが、全体の出力レベルは低
下し、これに対し強磁性層が厚ければ全体の出力レベル
は高くなるが周波数特性が悪くなる。特に強磁性層が０
．１μｍ未満（試料Ａ’）では出力レベルが著しく低く
なシ、マた２、 ０μｍを越える場合（試料Ｆ）には周
波数特性が著しく（１４） 悪化して高密度記録が困難となる。そして強磁性層が０
１〜２μｍの場合（試料Ｂ、Ｃ，Ｄ、Ｅ）には周波数特
性、出力レベルともにＣＯ被被着−Ｆｅ２０３テープ（
試料Ｇ）よりも著しく良好であり、高密度記録用磁気テ
ープとして優れていることが明らかである。
数領域まで出力電圧が伸びるが、全体の出力レベルは低
下し、これに対し強磁性層が厚ければ全体の出力レベル
は高くなるが周波数特性が悪くなる。特に強磁性層が０
．１μｍ未満（試料Ａ’）では出力レベルが著しく低く
なシ、マた２、 ０μｍを越える場合（試料Ｆ）には周
波数特性が著しく（１４） 悪化して高密度記録が困難となる。そして強磁性層が０
１〜２μｍの場合（試料Ｂ、Ｃ，Ｄ、Ｅ）には周波数特
性、出力レベルともにＣＯ被被着−Ｆｅ２０３テープ（
試料Ｇ）よりも著しく良好であり、高密度記録用磁気テ
ープとして優れていることが明らかである。
以上のようにこの発明の磁気テープは、時効処理によっ
て高い保磁力、高い残留磁束密度が得られる時効処理型
磁石合金材料を用い、その薄膜の一方の表面層の極めて
薄い０．１〜２μｍの部分のみを時効処理によって強磁
性層としだものであり、磁気記録に関与する強磁性層が
上述のように極めて薄くしかも保磁力、残留磁束密度が
高いだめ、従来の各種磁気テープと比較して格段に高密
度の磁気記録が可能となる効果が得られる。
て高い保磁力、高い残留磁束密度が得られる時効処理型
磁石合金材料を用い、その薄膜の一方の表面層の極めて
薄い０．１〜２μｍの部分のみを時効処理によって強磁
性層としだものであり、磁気記録に関与する強磁性層が
上述のように極めて薄くしかも保磁力、残留磁束密度が
高いだめ、従来の各種磁気テープと比較して格段に高密
度の磁気記録が可能となる効果が得られる。
まだこの発明の磁気テープ製造方法によれば、前述のよ
うに表面層のみの時効処理により極めて薄い強磁性層を
形成した高密度記録可能な磁気テープを実際的に製造で
き、また従来の合金薄膜テープ製造方法と異なり全厚み
を高密度記録可能となる１で薄くする必要がないだめ素
材として特に圧延加工性が優れたものに限られない等の
効果が得られる。
うに表面層のみの時効処理により極めて薄い強磁性層を
形成した高密度記録可能な磁気テープを実際的に製造で
き、また従来の合金薄膜テープ製造方法と異なり全厚み
を高密度記録可能となる１で薄くする必要がないだめ素
材として特に圧延加工性が優れたものに限られない等の
効果が得られる。
第１図はこの発明の磁気テープの製造に使用される時効
熱処理装置の一例を示す略解図、第２図および第３図は
それぞれこの発明の磁気テープの一例を示す断面図、 第４図は強磁性層中の強磁性粒子の占積率と保磁力Ｈｅ
および残留磁束密度との相関関係を示す線図、 第５図は強磁性層中の強磁性粒子の軸直径と保磁力Ｈｃ
との相関関係を示す線図、 第６図は強磁性層中の強磁性粒子の軸比と保磁力Ｈｃと
の相関関係を示す線図、 第７図は強磁性層中の強磁性粒子の密度と保磁力Ｈｃと
の相関関係を示す線図、 第８図は実施例による各試料の出力特性を示す線図であ
る。 １′・・・磁動処理済みの薄膜、ＩＡ・・・強磁性層、
１Ｂ・・・溶体化処理状態層。 出願人 日本楽器製造株式会社 代理人 弁理士 豊田武人 （１７） 第１図 第２図 第３図
熱処理装置の一例を示す略解図、第２図および第３図は
それぞれこの発明の磁気テープの一例を示す断面図、 第４図は強磁性層中の強磁性粒子の占積率と保磁力Ｈｅ
および残留磁束密度との相関関係を示す線図、 第５図は強磁性層中の強磁性粒子の軸直径と保磁力Ｈｃ
との相関関係を示す線図、 第６図は強磁性層中の強磁性粒子の軸比と保磁力Ｈｃと
の相関関係を示す線図、 第７図は強磁性層中の強磁性粒子の密度と保磁力Ｈｃと
の相関関係を示す線図、 第８図は実施例による各試料の出力特性を示す線図であ
る。 １′・・・磁動処理済みの薄膜、ＩＡ・・・強磁性層、
１Ｂ・・・溶体化処理状態層。 出願人 日本楽器製造株式会社 代理人 弁理士 豊田武人 （１７） 第１図 第２図 第３図
Claims (7)
- （１）時効処理型磁石合金材料からなる薄膜の一方の表
面の厚さ０．１〜２μｍの部分のみが時効処理された強
磁性層とされ、残りの基層部分が時効処理されない溶体
化処理状態層とされている磁気テープ。 - （２）前記強磁性層中の強磁性粒子がその層全体の体積
に占める占積率が、１５〜８０チとされている 特許請求の範囲第１項記載の磁気テープ。 - （３） 前記強磁性層中における強磁性粒子の軸直径
が０．０５〜１μｍとされている 特許請求の範囲第１項記載の磁気テープ。 - （４）前記強磁性層中における強磁性粒子の軸長形と直
径ｄとの比Ｖｄが３０以上とされている特許請求の範囲
第１項記載の磁気テープ。 - （５）前記強磁性層中における強磁性粒子の単位面積当
りの数が２００ （Ｎろｔｍ”以上とされている特許請
求の範囲第１項記載の磁気テープ。 - （６） 前記時効処理型磁石合金材料が、アルニコ系
磁石合金、Ｆｅ −Ｃｒ −Ｃｏ系磁石合金、Ｃｕ−Ｎ
ｉ−Ｆｅ合金、Ｐｔ −Ｃｏ系磁石合金、およびＡｕ−
Ｆｅ−Ｃｏ系磁石合金のうちから選ばれたものである特
許請求の範囲第１項記載の磁気テープ。 - （７）時効処理型磁石合金材料からなる簿膜を作成する
工程と、 前記薄膜に溶体化処理を施す工程と、 溶体化処理された薄膜の一方の表面を加熱するとともに
他方の表面を冷却してその薄膜の全厚みのうち一方の表
面に沿った層のみを時効処理する工程とを有してなる磁
気テープの製造方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57001256A JPS58118030A (ja) | 1982-01-06 | 1982-01-06 | 磁気テ−プおよびその製造方法 |
| US06/455,525 US4495241A (en) | 1982-01-06 | 1983-01-04 | Magnetic tape |
| DE19833300146 DE3300146A1 (de) | 1982-01-06 | 1983-01-04 | Magnetband und verfahren zu dessen herstellung |
| US06/667,859 US4531990A (en) | 1982-01-06 | 1984-11-02 | Method for producing a magnetic tape |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57001256A JPS58118030A (ja) | 1982-01-06 | 1982-01-06 | 磁気テ−プおよびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58118030A true JPS58118030A (ja) | 1983-07-13 |
Family
ID=11496373
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57001256A Pending JPS58118030A (ja) | 1982-01-06 | 1982-01-06 | 磁気テ−プおよびその製造方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US4495241A (ja) |
| JP (1) | JPS58118030A (ja) |
| DE (1) | DE3300146A1 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4756856A (en) * | 1984-12-20 | 1988-07-12 | Polaroid Corporation | Method of and apparatus for forming surface of magnetic media |
| US4664734A (en) * | 1985-01-29 | 1987-05-12 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Process for producing a magnetic recording medium |
| US5236790A (en) * | 1989-03-31 | 1993-08-17 | Ampex Systems Corporation | Restored magnetic recording media and method of producing same |
| NO962734L (no) * | 1995-07-27 | 1997-01-28 | Esselte Meto Int Gmbh | Deaktiverbar sikkerhetsstripe og fremgangsmåte og anordning for fremstilling av en deaktiverbar sikkerhetsstripe |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5217404B2 (ja) * | 1973-02-03 | 1977-05-16 |
-
1982
- 1982-01-06 JP JP57001256A patent/JPS58118030A/ja active Pending
-
1983
- 1983-01-04 DE DE19833300146 patent/DE3300146A1/de active Granted
- 1983-01-04 US US06/455,525 patent/US4495241A/en not_active Expired - Fee Related
-
1984
- 1984-11-02 US US06/667,859 patent/US4531990A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE3300146C2 (ja) | 1989-10-26 |
| US4531990A (en) | 1985-07-30 |
| US4495241A (en) | 1985-01-22 |
| DE3300146A1 (de) | 1983-07-14 |
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