JPS58117444A - 探傷試験用「あ」光検出フイルタ− - Google Patents
探傷試験用「あ」光検出フイルタ−Info
- Publication number
- JPS58117444A JPS58117444A JP57000179A JP17982A JPS58117444A JP S58117444 A JPS58117444 A JP S58117444A JP 57000179 A JP57000179 A JP 57000179A JP 17982 A JP17982 A JP 17982A JP S58117444 A JPS58117444 A JP S58117444A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- fluorescent
- optical filter
- light
- ray
- flaw detection
- Prior art date
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- Pending
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-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/62—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light
- G01N21/63—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light optically excited
- G01N21/64—Fluorescence; Phosphorescence
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
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- G01N21/63—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light optically excited
- G01N21/64—Fluorescence; Phosphorescence
- G01N21/645—Specially adapted constructive features of fluorimeters
- G01N2021/6463—Optics
- G01N2021/6471—Special filters, filter wheel
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- Health & Medical Sciences (AREA)
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- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本゛発明は、金属材料の表面欠陥を検出する螢光磁粉探
傷試験、及び螢光浸透探傷試験における自動探傷試験装
置に係シ、特に、光電変換素子の入射光側に取シ付ける
、欠陥の螢光模様検出に好適な光学フィルターに関する
。
傷試験、及び螢光浸透探傷試験における自動探傷試験装
置に係シ、特に、光電変換素子の入射光側に取シ付ける
、欠陥の螢光模様検出に好適な光学フィルターに関する
。
従来、光電変換素子を用いて欠陥検出を行なう場合は、
紫外線照射によシ得られる螢光二次光線よシも、被検体
表面に反射した紫外線や紫外線探傷灯の出力光線に含ま
れる可視光線の光量が太きく、ハレーションを起こして
欠陥の螢光模様だけを検出することができなかつ九。
紫外線照射によシ得られる螢光二次光線よシも、被検体
表面に反射した紫外線や紫外線探傷灯の出力光線に含ま
れる可視光線の光量が太きく、ハレーションを起こして
欠陥の螢光模様だけを検出することができなかつ九。
本発明の目的は、光電変換素子の入射光側に取り付ける
ことによシ、上述した反射光に影響されることなく、欠
陥の螢光模様だけを高いＳ／Ｎ比で検出できる、光学フ
ィルターを提供することにある。
ことによシ、上述した反射光に影響されることなく、欠
陥の螢光模様だけを高いＳ／Ｎ比で検出できる、光学フ
ィルターを提供することにある。
本発明は、複数段の光学フィルター特性によシ、螢光二
次光線以外でノイズ成分となる波長の光を著しく減衰さ
せることで、欠陥の螢光模様だけを検出する。
次光線以外でノイズ成分となる波長の光を著しく減衰さ
せることで、欠陥の螢光模様だけを検出する。
発明の実施偶について詳細に述べる。
螢光磁粉探傷及び螢光浸透探傷で使用する螢光１質は、
紫外線探傷灯の出力光線の中で、特に、波長３６５ｎｍ
により最も良く励起され、波長５５０ｎｍ付近の螢光二
次光線を発生することが知られている。
紫外線探傷灯の出力光線の中で、特に、波長３６５ｎｍ
により最も良く励起され、波長５５０ｎｍ付近の螢光二
次光線を発生することが知られている。
本発明は、この紫外線と螢光二次光線の波長分布が離れ
ていることを利用し、光学フィルターを用いて螢光二次
光線だけを摘出しようとするものである。
ていることを利用し、光学フィルターを用いて螢光二次
光線だけを摘出しようとするものである。
第１図に、波長４ｇＱｎｍ以下の光を吸収する光学フィ
ルターの特性を示す、ま九第２図に１波長５３０〜５７
Ｑｎｍの光を透過させ、他の波長を吸収する光学フィル
ターの特性を示す。
ルターの特性を示す、ま九第２図に１波長５３０〜５７
Ｑｎｍの光を透過させ、他の波長を吸収する光学フィル
ターの特性を示す。
一般に、紫外線探傷灯の出力光線は、主として波長３３
０〜３９ Ｑ ｎｍの紫外線と、幾分かの可視光線を含
んでいる。光電変換素子を用いて、直接被検体を受像す
ると、上記出力光線の被検体表面での反射光が、螢光二
次光線の光量よシも大きいために１ハレーシヨンを起こ
すことになシ螢光模様を認識できなくなる。そこで、第
１図に示す特性の光学フィルターを用いて、出力光線中
の波長４＄Ｑｎｍ以下の近紫外線を減衰させ、さらに第
２図に示す特性の光学フィルターを用いて、波長５３０
〜５７０ｎｍ以外の可視光線を減衰させると、螢光二次
光線だけを高い８／Ｎ比で検出することができる。従っ
て、本発明の実施例によれば、従来困難とされていた欠
陥の螢光模様だけの検出ができる九め、バックグランド
ノイズの影響を考えずに、簡単なｌ１ｉｉ儂処塩で欠陥
を認識できる効果がある。
０〜３９ Ｑ ｎｍの紫外線と、幾分かの可視光線を含
んでいる。光電変換素子を用いて、直接被検体を受像す
ると、上記出力光線の被検体表面での反射光が、螢光二
次光線の光量よシも大きいために１ハレーシヨンを起こ
すことになシ螢光模様を認識できなくなる。そこで、第
１図に示す特性の光学フィルターを用いて、出力光線中
の波長４＄Ｑｎｍ以下の近紫外線を減衰させ、さらに第
２図に示す特性の光学フィルターを用いて、波長５３０
〜５７０ｎｍ以外の可視光線を減衰させると、螢光二次
光線だけを高い８／Ｎ比で検出することができる。従っ
て、本発明の実施例によれば、従来困難とされていた欠
陥の螢光模様だけの検出ができる九め、バックグランド
ノイズの影響を考えずに、簡単なｌ１ｉｉ儂処塩で欠陥
を認識できる効果がある。
本発明によれば、目視検査を容易に自動化することがで
きるので、被検体の欠陥を定量的に検出し得るという顕
著な効果がある。
きるので、被検体の欠陥を定量的に検出し得るという顕
著な効果がある。
＠１図は、波長４ｆｉＱｆ１ｍ以下の光、を吸収する光
学フィルターの、波長−透過率における特性曲線図、！
２図は、波長５３０〜５７９ｆ１ｍの光を透過させる光
学フィルターの、波長−透過率における特性曲線図であ
る。 代理人 弁理士 高＊ｑ・未 茅Ｉ凶 茅２目
学フィルターの、波長−透過率における特性曲線図、！
２図は、波長５３０〜５７９ｆ１ｍの光を透過させる光
学フィルターの、波長−透過率における特性曲線図であ
る。 代理人 弁理士 高＊ｑ・未 茅Ｉ凶 茅２目
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、螢光模様を光電変換素子を用いて検出する場合にお
いて、近紫外線を吸収する特性の光学フィルターと、螢
光波長付近の光だけを透過させる特性の光学フィルター
を、複数段に組み合わせる方式により、紫外線探傷灯の
反射光の影響を受けずに螢光模様を高い８／Ｎ比で検出
することを特徴とする、探傷試験用螢光検出フィルター
。 ２、特許請求の範囲第１項において、近紫外線を吸収す
る特性の光学フィルターガラスを基板とし、その基板面
上に螢光波長付近の光だけを透過させる特性の蒸着薄膜
を凝結させる方式により、１枚で紫外線探傷灯の反射光
の影響を受けずに、螢光模様を高い８／Ｎ比で検出する
ことｔ％黴とする探傷試験用螢光検出フィルター。 ３、％ｔｆ績求の範囲第１項において、波長４８０ｎｍ
以下（又は５６□ｎｍ以下）の近紫外線を吸収する特性
の光学フィルターと、波長５３０〜５７９ｒｌＩｎの螢
光波長付近を透過させ、他の波長の光を吸収する特性を
持つ光学フィルターを使用したことを特徴とする、探傷
試験用螢光検出フイ“ルター。 ４、特許請求の範囲第１項において、近紫外ａｉｔｔ吸
収する特性の光学フィルターを用いる代９に、螢光波長
付近の光だけを透過させる特性の光学フィルターを複数
段用いる方式により、紫外線の影４Ｉを受けずに螢光模
様だけを検出することｔａｔｉｔ黴とする、探傷試験用
螢光検出フィルター。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57000179A JPS58117444A (ja) | 1982-01-06 | 1982-01-06 | 探傷試験用「あ」光検出フイルタ− |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57000179A JPS58117444A (ja) | 1982-01-06 | 1982-01-06 | 探傷試験用「あ」光検出フイルタ− |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58117444A true JPS58117444A (ja) | 1983-07-13 |
Family
ID=11466774
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57000179A Pending JPS58117444A (ja) | 1982-01-06 | 1982-01-06 | 探傷試験用「あ」光検出フイルタ− |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58117444A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0113152A2 (en) * | 1983-01-03 | 1984-07-11 | North American Philips Corporation | Method and apparatus for examining anomalies on surfaces of objects |
| JP2008524579A (ja) * | 2004-12-16 | 2008-07-10 | ボルボ エアロ コーポレイション | 目的物中の割れを検出する方法および装置 |
-
1982
- 1982-01-06 JP JP57000179A patent/JPS58117444A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0113152A2 (en) * | 1983-01-03 | 1984-07-11 | North American Philips Corporation | Method and apparatus for examining anomalies on surfaces of objects |
| JP2008524579A (ja) * | 2004-12-16 | 2008-07-10 | ボルボ エアロ コーポレイション | 目的物中の割れを検出する方法および装置 |
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