JPS5810588A - ７−アシルアミノ−３−置換セフエム化合物およびその製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は、新規なセフェム化合物およびその塩類に関
するものである。さらに詳しく述べると、この発明は、
抗菌活性を有する新規なセフェム化合物、その塩類、お
よびそれらの製造法、それら全有効成分とする医薬組成
物に関するものである。

したがって、この発明の目的は、多数の病原性微生物に
対して優れた抗菌活性を示す新規なセフェム化合物およ
びその塩類を提供するにある。

この発明の他の目的は、新規なセフェム化合物およびそ
の塩類の製造法を提供するにある。

この発明の別の目的は、新規なセフェム化合物およびそ
の塩類を有効成分として含む医薬組成物乞提供するにあ
る。

この発明の目的とするセフェム化合物は、新規であり、
下記一般式（１）で示される。

〔式中、Ｒは式 （式中、Ｘは水素原子またはハロゲン、Ｙは水素原子ま
たはヒドロキシ基、Ｒ５はアミノ基または保護されたア
ミノ基を意味する） で示される基、Ｒ２は水素原子または適当な置換基を有
していてもよい脂肪族炭化水素残基、Ｒ３はカルボキシ
基または保護されたカルボキシ基、Ｒ４はエチル基、シ
アンメチル基、カルボキンメチル基、保護されたカルボ
キシメチル基またはアミノメチル基をそれぞれ意味する
〕 この発明の目的化合物中およびその塩類は以下に示す種
々の方法により製造することができる。

〔方法１〕 〔方法２〕 〔方法６〕 〔方法４〕 〔方法５〕 （ｌｈ） Ｃ式中、Ｒ２は保護さ詐たカルボキシ基で置換された脂
肪族炭化水素残基、Ｒｂはカルボキシ基で置換された脂
肪族炭化水素残基、吋は保護されたカルボキシ基、Ｅｌ
ａは保護されたアミノ基をそれぞれ意味し５．Ｘ＝　Ｒ
１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４ばそれぞれ前と同じ意味） 方法５における原料化合物（１ｇ）のうちのあるものは
新規であり、次のような方法により製造される。

〔方法Ａ〕

（ｌｌａ） 〔方法Ｂ〕 〔方法Ｃ〕 （１ｍ） 〔式中、Ｒｏはカルボキシ（低級）アルキＶａｔたに保
護されたカルボキシ（低級）アルキル基、端は保護され
たカルボキシ（低級）アルキル基、Ｒ；はカルボキシ〔
低級）アルキル基ｉｆ味し、５ Ｒ，ＲおよびＥａはそれぞれ前と同じ意味〕上記原料化
合物（ＩＮおよびその塩類は、優れた抗菌活性を有し、
ダラム陽性菌およびダラム陰性菌を含む広範囲の病原性
微生物の発育を抑制し、特に経口投与用の抗生物質とし
て有用である。

目的化合物中、（ｌｂ）、（ｌｄ）、（Ｉｆ）および（
ｌｈ、）、原料化合物Ｉ）、（１１１ａ）、（Ｉａ）、
（ＩＣ）、（ｌｅ）、（Ｉｇ）、（１１）、（１ｊ）、
（１ｋ）、Ｃ１１）および（１ｍ）については、シン異
性体、アンチ異性体およびその混合物が含１れる。目的
化合物中音例にとると、シン異性体とは、下式 ％式％ （ Ｃ式中、ＲおよびＲ２はそれぞれ前と同じ意味）で示さ
れる部分構造を有する一方の幾何異性体を意味し、アン
チ異性体とは、下式 ％式％ ０式中、いおよびＲ２はそ０ぞれ前と同じ意味）で示さ
れる他方の幾何異性体ヲ惹味する。

目的化合物中の塩類として適当なものは、慣用される非
毒性塩であって、例えばナトリウム塩、カリウム塩等の
アルカリ金属塩、カルシウム塩、マグネシウム塩等のア
ルカリ土類金属塩のような金属塩、アンモニウム塩、ト
リメチルアミン塩、トリエチルアミン塩、ピリジン塩、
ピコリン塩、ジシクロヘキシルアミン塩、　Ｎ　、　Ｎ
−ジベンジルエチレンジアミン塩等の有機塩基塩、ぎ酸
塩、酢酸塩、マレイン酸塩、酒石酸塩、メクンスルホン
酸塩、ベンゼンスμホンｌｆｉ、）　ＩＶ　エン７、　
’Ａｚホン酸塩等の有機酸塩、塩酸塩、臭化水素酸塩、
硫酸塩、リン酸塩等の無機酸塩およびアルギニン、アス
パラギン酸、グルタミン酸等のアミノ酸との塩類等が含
まれる。

上記および下記の説明において、この発明に含まれる種
々の定義における適当な例を詳細に説明すると次の通り
である。

「低級」の語は、特にことわらない限り１ないし６個の
炭素原子を含む基を意味する。

適当な「保護されたアミノ基」としては、アシルアミノ
基または、ベンジル、トリチル等の１個以上の置換基１
有していてもよいアル（低級）アルキル基のような慣用
される保護基で置換されたアミノ基が含まれる。

「アシルアミノ基」における適当なアシル部分としては
、脂肪族アシルおよび芳香環または複索環含有アシルが
含まれる。上記アシルの適当な例としては、ホルミル、
アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バ
レリル、イソバレリル、オキサリル、サクシニル、ピバ
ロイル等の低級アルカノイル基、メトキシカルボニル、
エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、１−シク
ロプロビルエトキシ力！レボニル、イソプロホキジカル
ボニル、ブトキシカルボニル、第６級ブトキシカルボニ
ル、ペンチルオキシカルボニル、ヘキシルオキシカルボ
ニル等の低級アルコキシカルボニル基、メシル、エタン
ヌルホニル、プロパンヌルホニル、イソプロパンスルホ
ニル、ブタンスルホニル等の低級アレーンスルホニル基
、ベンゼンスルホニル、トシル等のアレーンスルホニル
基、ベンゾイル、トルオイル、キシロイル、ナフトイル
、フタロイル、インダンカルボニル等のアロイル基、フ
ェニルアセチル、フェニルプロピオニル等のアル（低級
）アルカノイル基、ベンジルオキシカルボニル、フェネ
チルオキシカルボニル等のアル（低級）アルコキシカル
ボニル基等が含まれる。上記アシル部分は塩素、臭素ζ
ふっ素、よう素等のハロゲンのような適当な置換基を１
個以上有していてもよい。

適当な「ハロゲン」としては、塩素、臭素、ふっ素およ
びよう素が含まれ、そのうち塩素が好ましい。

「適当な置換基を有していてもよい脂肪族炭化７Ｘ素残
基」、「保護されたカルボキシ基で置換された脂肪族炭
化水素残基」、および「カルボキシ基で置換された脂肪
族炭化水素残基」における適当な「脂肪族炭化水素残基
」としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル
、ブチル、イソブチル、第６級ブチル、ペンチル、ヘキ
シル等の低級アルキル基、ビニル、１−プロペニル、ア
リル、１もしくは２もしくは６−エチニル、１もしく嬬
２もしくは３もしくは４−ペンテニル、１もしくは２も
しくは５もしくは４もしくは５−へキセニル等の低級ア
ルケニル基、エチニル、２−プロピニル、１もしくは２
−もしくは６−ブチニル、１もしくに２もしくに６もし
くに４−ベンチ二ｌし、１もしくに２もしくは６もしく
は４もしくは５−へキシニル等の低級アルキニル基等が
含１れる。

［力Ｍポキシ（低級）アルキル基」および［保護された
カルボキシ（低級）アルキル基」における適当な低級ア
ルキル部分としては、メチル、エチル、プロピル、イソ
プロピ７し、ブチル、第６級ブチル、ペンチＭ、ヘキシ
ル等が含１れる。

「適当な置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素残基
」における適当な置換基としては、下記に示す様な保護
されたカルボキシ基、カルボキシ基等が含まれる。

適当な「保護された力Ｍポキシ基」および「保護された
カルボキシメチル基」、［保護されたカルボキシ基で置
換された脂肪族炭化水素残基」または［保護された力〜
ポキシ（低級）アルキル基」における保護された力Ｍポ
キシ部分としては、エステル化されたカルボキシ基等が
含まれ、上記エステル化された力Ｖポキシさにおけるエ
ステル部分としては、１個以上の適当な置換基を有して
いてもよいメチルエステル、エチルエステル、プロピル
エステル、イソプロピルエステル、ブチルエステル、イ
ソブチルエステル、第６級ブチルエステル、ペンチルエ
ステル、ヘキシルエステル、１−シクロプロピルエチル
エステル等の低級アルギルエステル、ｌｉｄアセトギシ
メシンエステｌし、プロピオニルオキシメチルエステル
、ブチリルオキシメチルエステル、バレリルオギシンチ
ルエステル、ピバロイルオキシメチルエステル、２−ア
セトキシエチルエステル、２−プロピオニルオキシエチ
Ｍエステル、ヘキサノイルオキシメチルエステル等の低
級アルカノイルオキシ（低級）アルキルエステル％２−
メシルエチルエステル等の低級アルカンスルホニＶ（低
級）アルキルエステルまたは２−ヨードエチルエステル
、２，２．２−）リクロロエチルエステＭ等のモノ（も
しぐはシモしくはトリ）ハロ（低級）アルキルエステル
；ビニルエステル、アリルエステル等の低級アＭケニル
エステル；エチニＶエステル、プロピニルエステル等の
低級アルキニルエステル；ベンジルエステル、４−メト
キシベンジルエステル、４−ニトロベンジルエステル、
フェネチルエステル、トリチルエステル、ベンズヒドリ
ルエステル、ビス（メトキシフェニル）メチルエステル
、３．４−ジメトキシベンジルエステル、４−ヒドロキ
シ−３，５−ジー第３級プチルベンジルエヌテル等の１
個以上の適当な置換基を有していてもよいアル（低級）
アルギルエステル；フェニルエステル、４−クロロフェ
ニルエステル、トリ〃エステル、第６級−ｙ”チルフェ
ニルエステル、キシリルエステル、メシチルエステル、
クメニルエステル等の１個以上の適当な置換基を有して
いてもよいアリールエステル等が含まれる。

目的化合物中における好ましい例は次の通りである。

Ｒ１における好ましい基は、式 〔式中、Ｘは水素原子またはハロゲン（最も好壕しくは
塩素）、Ｙは水素原子またはヒドロキシ基、Ｒ５はアミ
ノ基またはアシルアミノ基（さらに好１しぐは低級アル
カノイルアミノ基）で示さｎる基〕であり、 Ｒ２における好ましい基は水素原子、低級アルキル基、
カルボキシ（低級）アルキル基またはエステル化された
カルボキシ（低級）アルキル基〔サラに好ましくは低級
アルコキシカルボニル（低級〕アルキル基〕であり、 Ｒ３における好ましい基はカルボキシ基またはエステル
化されたカルボキシ基〔さらに好ましくは低級アルカノ
イルオキシ（低級）アルコキンカルボニル基、置換もし
くは非情換アル（低級〕アルコキンカルボニル基〕でア
リ、 Ｒ４における好ましい基はエチル基、シアノメチル基、
カルボキシメチル基、エステル化されたカルボキシメチ
ル基〔さらに好ましくは低級アルコキシカルボニルメチ
ル基〕またはアミノメチル基である。

この発明の目的化合物（１）の製造法を詳しく説明する
と次の通りである。

〔方法１〕 目的化合物（Ｉ）またにその塩類は、化合物（１）もし
くはそのアミノ基における反応性誘導体またにそれらの
塩類に化合物（ｉｌｌもしくはそのカルボキシ基におけ
る反応性誘導体またにそれらの塩類ｒ反応させることに
より製造される。

化合物（ＩＩ）のアミノ基における適当な反応性誘導体
としては、化合物（１）とアルデヒド、ケトン等のカル
ボニル化合物との反応で得られるシッフ塩基型イミノ基
もしくはそのエナミン型互変異性体、化合物（■）とビ
ス（トリメチルシリル）アセトアミド、トリメチルシリ
ルアセトアミド等のシリル化合物との反応で得牡れるシ
リル誘導体、化合物（１）と６塩化燐またにホスゲンと
の反応で得られる誘導体等が含１ｎる。

化合物（［１および（Ｍｌ）における適当な塩類として
は、酢酸塩、マレイン酸塩、酒石酸塩、ベンゼンヌルホ
ン酸ｉ＝　）ルエンスルホン酸塩等の有機酸ｗ、または
塩酸塩、臭化水素酸基、硫酸塩、燐酸塩等の無機酸塩の
ような酸付加塩−す）　ＩＪウム塩、カリウム塩、カル
シウム塩、マグネシウム塩等の金属塩暮アンモニウム塩
；トリエチルアミン塩、ジシクロヘキシルアミン塩等の
有機アミン塩が含ぼれる。

化合物［有］）のカルボキシ基における適当な反応性誘
導体としては、酸ハライド、酸無水物、活性アミド、活
性エステル等が含捷れる。そのうち好ましいものとして
は、酸クロライド、酸アジド；置換燐酸（例えばジアル
キル燐酸、フェニル燐酸、ジフェニル燐酸、ジベンジル
燐酸、ハロゲン化燐酸等）混合酸無水物、ジアルキル亜
燐酸混合酸無水物、亜硫酸混合酸無水物、チオ硫酸混合
酸無水物、硫酸混合酸無水物、アルキル炭酸混合酸無水
物、脂肪族カルボン酸（ｆ１′１えばピバリン酸、ペン
タン酸、イソペンタン酸、２−エチルブタン酸、トリク
ロロ酢酸等）混合酸無水物、芳香族カルボン酸（例えば
安息香酸等）混合酸無水物等の混合酸無水物；対称型酸
無水物；イミダゾール、４−直換イミダゾール、ジメチ
ルピラゾール、トリアゾール、テトラゾール等との活性
アミド；シアノメチルエステル、メトキシメチルエステ
ル、ジメ十 チルイミノメチル〔（ｃＨ３〕２Ｎ＝ｃＨ−〕エステル
、ビニルエステル、プロパルギルエステル、ｐ−ニトロ
フェニルエステル、２．４−ジニトロフェニルエステル
、トリクロロフェニルエステル、ペンタクロロフェニル
エステル、メシルフェニルエステル、フェニルアゾフェ
ニルエステル、フエニ！レチオエステル、ｐ−ニトロフ
ェニルチオエステル、ｐ−クレジルチオエステル、カル
ホキジメチルチオエステル、ピラニルエステル、ピリジ
ルエステＩし、ピペリジ）Ｌ＜エステル、８−キノリル
チオエステル等の活性エステルまたはＮ、Ｎ−ジメチル
ヒドロキシルアミン、１−ヒドロキシ−２（ＩＨ）−ピ
リドン、Ｎ−ヒドロキシフタルイミド、Ｎ−ヒドロキシ
フタルイミド、１−ヒドロキシ−６ト ークロロー１Ｈ−ベンゾ繁リアゾール等のＮ−ヒドロキ
シ化合物とのエステル等が含１れる。

これらの反応性誘導体は、使用する化合物Ｉ）の種類に
応じて適宜選択される。

この反応に、通常水、アセトン、ジオキサン、アセトニ
トリル、クロロホルム、メチレンクロライド、エチレン
クロライド、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、Ｎ−、
Ｎ−ジメチルホルムアート、ピリジン等の慣用浴媒、ま
たはこの反応に悪影響を与えない他の有機溶媒中で行な
われる。上記慣用浴媒は、水と混合して用いることがで
きる。

この反応において、化合物（ＩＩｌ）’に遊離酸または
その塩類の形で用いる際には、例えばＮ、Ｎ−シンクロ
へギシル力ルポジイミド、Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−モ
ルホリノエチル力ルホジイミド、Ｎ−シクロヘキシルー
Ｎ−（４−ジエチルアミノシクロヘキシル）力ｌレボジ
イミド、Ｎ、Ｎ−ジエチｌしカルボジイミド、Ｎ、Ｎ−
ジイソプロピルカルボジイミド、Ｎ−エチル−Ｎ−（３
−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド、Ｎ、Ｎ−
カルボニルビス（２−メチルイミダゾール）、ペンタメ
チレンケテン−Ｎ−シクロヘキシルイミン、ジフェニル
ケテン−Ｎ−シクロヘキシルイミン、エトキシアセチレ
ン、１−アルコキシ−１−クロロエチレン、トリアルキ
ルホスファイト、ポリ燐酸エチルエステル、ポリ燐酸イ
ソプロピルエステル、オキシ塩化燐（塩化ホヌホリル）
、３塩化燐、塩化チオニル、塩化オキサリル、トリフェ
ニルホスフィン、２−エチル−７−ヒトロキシベンズイ
ソオキサゾリウム塩、２−エチル−５−（ｍ−スルホフ
エニ１し）イソオキサゾリウムヒドロキサイ＋゛分−Ｔ
ｆＡ、１−（ｐ−クロロベンゼンスルホニルオキシ）−
６−クロロ−１Ｈ−ペンツトリア”／”　−）Ｖ、Ｎ、
Ｎ−ジメチルホ７レムアミド、１化チオニル、ホスゲン
、オキシ塩化燐等との反応で得られるいわゆるピルヌマ
イヤー試薬等の縮合剤の存在下に行なうことが望ましい
。

またこの反応は、炭酸水素アルカリ金属、トリ（低級）
アルキルアミン、ピリジン、Ｎ−（低級）アルキルモル
ホリン、Ｎ、Ｎ−ジ（低級）アルギルベンジルアミン等
の無機または有機塩基の存在下に行なうことができる。

反応温度は特に限定されないが、通常冷却下ないし室温
で反応が行なわｊ、る。

〔方法２〕 目的化合物（ｌｂ）’［たはその塩類は、化合物（ｌａ
）ｉたけその塩類をＲａにおけるアミノ保護基の脱離反
応に付すことにより製造さｆる。

化合物（ｌａ）の適当な塩類としては、化合物（１）に
ついて例示したものが含−ｉｔ″Ｌる。

脱離反応は、加水分解、還元、およびＲａの保護された
アミノ基がアシルアミノ基である化合物（ｌａ）ｉイミ
ノハロゲン化剤、イミノエーテル化剤で処理し、次いで
必要に応じて生成物を加水分解する方法等の慣用方法で
行なわれる。加水分解としては、酸もしくは塩基もしく
はヒドラジン等ケ用いる方法が含まれる。これらの方法
は、脱離する保護基の種類に応じて適宜選択される。

これらの方法のうち、酸を使用する加水分解に、第６級
ペンチルオキシカルボニル等の置換モしくは非置換アル
コキシカルボニル基、ホルミル、アセチル等の低級アル
カノイル基、ンクロアｌレコギシ力ルボニル基、置換も
しくは非置換アラルコキシカルボニｌし基、トリチル等
のアラルキル基、置換フェニルチオ基、置換アラルキリ
デン基、置換アルキリデン基、置換シクロアＶキリデン
基等の保護基の脱離に用いられる最も一般的かつ好まし
い方法の１つである。

適当な酸としては、ぎ酸、トリフルオロ酢酸、ベンゼン
スルホンＬｐ−）ルエンスルホン酸、塩酸等の有機酸ま
たは無機酸が含まれ、そのうち、ぎ酸、トリフルオロ酢
酸、塩酸等のように、例えば減圧蒸留等の慣用方法によ
り反応混合物から容易に除去できる酸が最も好ましい。

これらの酸は、脱離する保護基の種類に応じて選択され
る。酸による加水分解反応は、溶媒の存在下または不存
在下に行なわれる。適当な溶媒としては、水、メタノー
ル、エタノール等のアルコール、テトラヒドロフランも
しくはこの反応に悪影智全与えないその他の有機溶ｗｖ
庭はこれらの混合物が用いられる。

トリフルオロ酢酸を用いる加水分解反応は、アニソ−Ｖ
の存在下に行なうことができる。

ヒドラジンを用いる加水分解に、通常フタロイルもしく
にサクシニル型のアミノ保護基の脱離に適用される。

塩基を用いる加水分解反応は、トリフルオロアセチル等
のアシル基の脱離に用いられる。適当な塩基としては、
無機塩基および有機塩基が含まれる。

還元による脱離は、トリクロロエトキシカルボニル等の
へロアＶコキシ力ルポニル基、ペンジルオキシ力ルホニ
ル等の置換モしぐは非置換アラルコキシｐルポニル基、
２−ピリジルメトキシカルボニル基等のような保護基の
脱離に一般的に用いられる。適当な還元法としては、水
素化はう素ナトリウム等の水素化はう素アルカリ金属に
よる還元、錫、亜鉛、鉄等の金属もしくは塩化第１クロ
ム、酢酸第１クロム等の金属塩と酢酸、プロピオン酸、
塩酸等の有機もしくは無機酸との組合わせによる還元、
および接触還元が含まれる。接触還元で用いる適当な触
媒としては、ラネーニッケル、酸化白金、パラジウム炭
素等の慣用触媒が含まれ保護基のうち、アシル基は一般
に加水分解で脱離される。

ハロゲン置換アルコキシカルボニル基および８−キノリ
ルオキシカルポニル基に、通常鋼、亜鉛等の重金属で処
理することによシ脱離される。

また、保護基のうちアシル基にオキシ塩化燐等のイミノ
ハロゲン化剤およびメタノール、エタノール等の低級ア
ルコ−Ｍのようなイミノエーテル化剤で処理し、必要に
応じて加水分解することにより脱離される。

反応温度は特に限定されず、アミノ保護基の種類と脱離
方法に応じて適宜選択され、通常冷却下またけ若干加温
する程度の緩和な条件下で反応が行なわれる。

〔方法６〕 目的化合物（（ｄ）４たはその塩類は、化合物（ｌｃ）
またはその塩類をＲ尺におけるカルボキシ保護基の脱離
反応に付すことにより製造される。

化合物（ｌｃ）の適当な塩類としては、化合物（１）に
ついて例示したものが含まれる。

この脱離反応では、例えば加水分解、還元、ルイス酸に
よる脱離等のカルボキシ保護基の脱離に慣用される方法
は全て適用できる。カルボキシ保護基がエステルの場合
には、加水分解またにルイス酸による脱離によシ脱離さ
れる。加水分解は、酸または塩基の存在下に行なうのが
好ましい。適当な塩基としては、無機塩基および有機塩
基が含１れる。適当な酸としては、ぎ酸、酢酸、プロピ
オン酸等の有機酸および塩酸、臭化水素酸、硫酸等の無
機酸が含まれる。

この加水分解は、通常有機溶媒、水またはこれらの混合
浴媒中で行なわれる。反応温度は特に限定さｎず、カル
ボキシ保護基および脱離方法の種類に応じて適宜選択さ
ｎる。

ルイス酸による脱離は、化合物（ｌｃ）またはその塩類
に５塩化はう素、６ふっ化はう素等の３ハロゲン化はう
素、４塩化チタン、４臭化チタン等の４ハロゲン化チタ
ン、４塩化錫、４臭化錫等の４ハロゲン化錫、塩化アル
ミニウム、臭化アルミニウム等ノハロゲン化アルミニウ
ム、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸等のトリハロ酢
酸等のようなルイス酸を反応させることにより行なわれ
る。

この脱離反応は、アニソール、フェノール等のカチオン
捕捉剤の存在下に行なうのが好１しく、通常ニトロメタ
ン、ニトロエタン等のニトロアルカン、メチレンクロラ
イド、エチレンクロライド等のアルキレ、ンクロライド
、ジエチルエーテル、２硫化炭素等の溶媒またはこの反
応に悪影響を与えないその他の溶媒中で行なわれる。溶
媒は混合して用いてもよい＝反応温度は特に限定さｎな
いが、通常冷却下、室温またに加温下に反応が行なわれ
る。

還元による脱離反応は、２−ヨードエチル、２、２．２
−トリクロロエチル等のハロ（低級）アルキルエステル
、ベンジル、ニトロベンジル等のアル（低級）アルキル
エステル等のような保護基の脱離に用いるのが好ましい
。脱離に用いる還元法には、例えば亜鉛、亜鉛アマルガ
ム等の金属もしくは塩化第１クロム、酢酸第１クロム等
のクロム化合物と酢酸、プロピオン酸、塩酸等の有機も
しくは無機酸との組合わせによる還元、パラジウム炭素
、ラネーニッケル等の慣用金属触媒の存在下に行なう慣
用接触還元が含まれる。

こノ還元は、通常水、メタノール、エタノール等のアル
コール、テトラヒドロフラン等の溶媒、筐たはこの反応
に悪影響を与えないその他の溶媒中で行なわれる。溶媒
は混合して用いてもよい。

反応温度は特に限定されないが、通常冷却下、室温また
は加温下に反応が行なわれる。

この反応において二Ｒ２およびＲ中の他の保護されたカ
ルボキシ基が反応中または後処理中にカルボキシ基に変
る場合があるが、この場合もこの発明に含１れるものと
する。

〔方法４〕 目的化合物（ｌｆ）’［たけその塩類は、化合物（ｌｅ
）ｉたはその塩類をＲ工におけるカルボキシ保護基の脱
離反応に付すことによシ製造される。

化合物（１ｅ）の適当な塩類としては、化合物中につい
て例示したものが含まれる。

この脱離反応は、方法６で述べたのと同様に行なわれる
。

〔方法５〕 化合物（ｌｈ）−またはその塩類は、化合物（Ｉｇ）ま
たはその塩類を還元することにょ９製造される。

化合物（１ｇ）の適当な塩類としては、化合物（１）に
ついて例示したものが含１れる。

還元は、還元剤を用いる方法、接触還元等の慣用方法に
より行なわれる。

適当な還元剤とじては、水素化はう素ナトリウム、水素
化はう素カリウム等の水素化はう素アルカリ金属、錫、
亜鉛、鉄等の金属もしくＦｉ塩化第１クロム、酢酸第１
クロム等の金属化合物とぎ酸、酢酸、プロピオン酸、ト
リフルオロ酢酸、ｐ−トルエンヌルホン酸、塩酸、臭化
水素酸等の有機もしくは無機酸との組合わせ等が台筐れ
る。

接触還元に用いる適当な触媒としては、白金板、スポン
ジ白金、白金黒、コロイド白金、酸化白金、白金線等の
白金触媒、スポンジパラジウム、パラジウム黒、酸化パ
ラジウム、パラジウム炭素、コロイドパラジウム、パラ
ジウム硫酸バリウム、パラジウム炭酸バリウム等のパラ
ジウム触媒、還元ニッケル、酸化ニッケル、ラネーニッ
ケル等ノニソケルｊ［、ｉ元コバルト、ラネーコバルト
等のコバルト触媒、還元鉄、ラネー鉄等の鉄触媒、還元
銅１．７ネー銅、ウルマン銅゛等の銅触媒のような慣用
触媒が含１れる。

コノ反応は、通常水、メタノール、エタ／　−１等のア
ルコール、酢酸エチル、テトラヒドロフラン等の溶媒、
またはこの反応に悪影響を与えないその他の溶媒中で行
なわれる。溶媒は、混合１で用いてもよい。反応温度は
特に限定されないが、通常冷却ないし加温下に反応が行
なわれる。

目的化合物（１）が遊離カルボキシ基または遊離アミノ
基を有する場合には、常法にょシ伝嘲十粋＃―醜ｈム塩
類に導くことができる。

この発明の原料化合物の製造法を詳細に説明すると次の
通りである。

〔方法Ａ〕

化合物（１１）またはその塩類は、化合物（Ｉａ）もし
くはそのアミノ基における反応性誘導体またはそれらの
塩類に化合物（ｌａ）もしくはそのカルボキシ基におけ
る反応性誘導体またはそｎらの塩類を反応させることに
より製造される。

化合物（ｌａ）ｉたは（ｌａ）の適当な塩類としては、
それぞれ化合物１）または（Ｉ］について例示したもの
が含まれる。

化合物（１１）の適当な塩類としては、化合物（１）に
ついて例示したものが含まれる。

化合物（ｌｌａ）のアミノ基における適当な反応性誘導
体としてに、化合物（１）について例示したものが含ま
れる。

化合物（ト）のカルボキシ基における適当な反応性誘導
体としては、化合物（Ｉｌｌ）について例示したものが
含まれる。

この反応は、方法１で述べたのと実質的に同様に行なわ
れる。

〔方法Ｂ〕

化合物（ｌｈ）　’！たはその塩類は、化合物（ｌｊ）
またはその塩類’ｚＲλにおけるアミノ保護基の脱離反
応に付すことにより製造される。

化合物（１ｊ）の適当な塩類としては、化合物（Ｉｆ）
について例示したような金属塩、アンモニウム塩および
有機アミン塩等が含まれる。

化合物（ｌｋ）の適当ｚ４類としては、化合物（１）に
ついて例示したものが含まれる。

この反応に、方法２で述べたのと実質的に同様に行なわ
れる。

〔方法Ｃ〕

化合物（１ｍ）またはその塩類は、化合物（１１）また
はその塩類ヲＲｄにおけるカルボキシ保護基の脱離反応
に付すことにより製造される。

化合物（１ｍ）および（１１）の適当な塩類としては、
化合物（１１について例示したものが含１れる。

この反応は、方法６について述べたのと実質的に同様に
行なわれる。

この発明の目的化合物（１）およびその塩類は、優れた
抗菌作用を有する新規化合物であシ、ダラム陽性菌およ
びダラム陰性菌を含む広範囲の病原性微生物の発育を阻
止し、抗生物質、特に経口投与用抗生物質として有用で
ある。この発明の目的化合物（１）ぼたはその塩類を治
療の目的で投与するにあたっては、上記化合物を主成分
とし、これに医薬上許容される担体、例えば経口、非経
口または外用に適した有機もしくは無機、固体もしくは
液体の賦形薬を加えた製剤の形で使用できる。このよう
な製剤としては、カプセル、錠剤、顆粒剤、軟膏、坐剤
、液剤、けんだく剤、乳剤等が含１れる。さらに、必要
に応じて前記製剤中に補助剤、安定剤、湿潤剤、乳化剤
、緩衝剤、その他繁用される添加剤を含有させることが
できる。

化合物の投与量は患者の年令、状態、疾病の種類、およ
び投与化合物（１）の種類により異なるが、１回の平均
投与量としては、この発明の目的化合物（１）約１０〜
．５０〜．１００〜−２５０〜．５００■および１００
０９を、病原性微生物による疾病の治療のために投与す
ることができる。一般に、１日当、！１１１＋Ｒｙない
し約６０００＃’Ｅたはそれ以上の量を投与できる。

この発明の目的化合物の有用性を示すためこの発明の代
表的な化合物について抗菌活性、尿中排泄および胆汁中
排泄を示すと次の通りである。

〔１〕　試験化合物 ７−（２−カルボキシメトキシイミノ−２−（２−アミ
ノチアゾール−４−イル）アセトアミドクー３−エチル
−６−セフェム−４−カルボン酸（シン異性体）Ｃ以下
、化合物■という）〔２〕　試験 （Ａｌ　　最低発育阻止濃度 （１）試験方法 試験管内抗菌活性を、下記の寒天平板倍数希釈法により
測定した。

トリプチケース・ソーイ・ブロス（菌数１ｏ８／１ｐｔ
ｌ　）中で一夜培養した各種試験菌株の１白金耳を、各
濃度の代表試験化合物を含むハート・インフュージョン
・アガー（Ｈ工寒天）に接種し、６７°Ｃで２０時間培
養した後、最低発育阻止濃度（ＮＨＯ２をμｆ／ｌｌ単
位で測定した。

（２）試験結果 Ｍ工Ｃ（μｆ／／１ｌ） （Ｂ）　　尿中排泄 （１）試験方法 試験化合物１００　ｑ／ｋＱｋ経口投与したラットのＯ
ないし６時間および６゛すいし２４時間内の尿を採尿器
を用いて集めた。尿検体中の抗生物質濃度を、Ｍ／１５
燐酸緩衝液により製した標準液を用いてバイオアッセイ
により測定し、２４時間内の尿中回収量を計算した。

（Ｃ）　　胆汁中排泄 （１）試験方法 ベンドパルビタールで麻酔したラットを仰向けに固定し
、ポリエチレン管を胆管に挿入した。

試験化合物１００　ｑ／ｋＱｋ経口投与した後Ｏないし
ろ、６ないし６および６ないし２４時間内の胆汁検体を
集めた。胆汁検体中の抗生物質濃度を、Ｍ／１５燐酸緩
衝液により製した標準液を用いてバイオアッセイにより
測定し、２４時間内の胆汁中口収量を測定した。

（２）試験結果 以下、この発明を製造例及び実施例により詳細に説明す
る。

製造例１ （２−ホルムアミド−５−タロロチアゾール−４−イル
）グリオキシル酸エチルエステル（１４゜５ｙ）をＩＮ
水酸化カリウム水溶液（１１０ｍｅ　）に室温で加え、
混合物を１０分間撹拌して（２−ホルムアミド−５−ク
ロロチアゾール−４−イル）グリオキシル酸のカリウム
塩の溶液を得た。この溶液を水冷下１０％塩酸でｐＨ，
２に調整した後、そこへピリジン（２０ｍｌ？）と２−
アミノオキシ酢酸ｔ−ブチルエステル（１０，３ｙ）の
テトラヒドロフラン（５０ｍｌ？）溶液を加え、次いで
室温で５時間撹拌した。反応混合物を酢酸エチルで洗浄
した後、水溶液を１０％塩酸でｐＨ１，５に調整し、酢
酸エチルで抽出した。抽出物を塩化ナトリウム水溶液で
洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去し
て、２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシイミノ−２−
（２−ホルムアミド−５−タロロチアゾール−４−イル
）酢酸（シン異性体）（８，５ｙ）を得た。

ＩＲ（ヌジョール）：　　３１５０．　１７２５．　１
６９０．　１６５０゜１５６０、　１５３０ｃｍ’ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６．δ）：　　１．４７（９Ｈ，
ｓ）、　　４．７５（２Ｈ，ｓ）、８．７（ＩＨ，ｓ）
、　　１２．８（ＬＨ，ｓ）製造例２ ７−アミノ−３−ビニル−３−セフェム−４−カルボン
酸ベンズヒドリルエステルの塩酸塩（３ｙ）に１０％バ
ラジクムー炭素（３ｙ）を含むメタノール（６０ｍｌ？
）中で５時間２０　ｐ、ｓ、ｉ、の水素圧下で水素添加
した。混合物を湿過した後、溶媒を減圧下で留去した。

残渣にジエチルエーテルを加えて粉末化して７−アミノ
−３−エチル−３−セフェム゛−４−カルボン酸ベンズ
ヒドリルエステルの塩酸塩（２，’　３３　ｐ　）を得
た。

ＩＲ（ヌジョール）：　　３３００．　１７７０．　１
７０５．’　　１６００゜１５８０、　１５２０σ−１ Ｎ　Ｍ　Ｒ（ＤＭＳＯ−ｄ６　、δ）：　１．０３（３
Ｈ，ｔ、　Ｊ＝７Ｈｚ）。

２．２−２．７（２Ｈ，ｍ）、　　３．６５（２Ｈ，ｑ
、Ｊ−１８Ｈｚ）。

５．１２（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝４Ｈｚ）、　　５．２５（Ｉ
Ｈ，ｄ、Ｊ＝４Ｈｚ）。

６、９０（ＬＨ，ｓ　）、　　７．３５（ＩＯＨ，ｓ　
）製造例３ ビルスマイヤー試薬をＮ、Ｎ−ジメチルホルムアニド（
３，７１ｍｅ　）とオキシ塩化リン（４，４ｍ／）から
テトラヒドロフラン（１０Ｉ７Ｉｅ）中で常法により製
造した。２−（ｔ−ブトキシカルボニルメトキシイミノ
）−２−（２−ホルムアミドチアゾール−４−イル）酢
酸（シン異性体）（１３，２ｙ）をビルスマイヤー試薬
のテトラヒドロ７ラン（１２０ｍ、ｅ　）懸濁液中に水
冷下に撹拌しながら加え、混合物、を同じ温度で３０分
間撹拌して活性酸溶液を製造した。一方、７−アミノ−
３−アジドメチル−３−セフェム−４−カルボン酸（１
０，２ｐ）とトリメチルシリルアセトアミド（４２Ｐ）
の無水テトラヒドロフラン溶液に上記活性酸溶液を−２
０００で一度に加え、混合物を−３０〜−１５℃で１時
間撹拌した。反応混合物に水と酢酸エチルとを一５°Ｃ
で加え、分離した有機層を塩水で洗浄し、ｓ媒を留去し
て７−［２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシイミノ−
２−（２−ホルムアミドチアゾール−４−イル）アセト
アミド］−３−アジドメチル−３−セフェム−４−カル
ボン酸（シン異性体）（ｚｏ、ｓｙ）を得た。

ＩＲ（ヌジョール）：　　３２００．　２１００．　１
７８０．　１７３０゜１６８０、　１５４０ｅＩｎ’ Ｎ　ＭＲ（ＤＭｓｏ−ａ６．δ）：　１．４５（９Ｈ，
ｓ）、　　３．６０（２Ｈ，ｓ）、　　４．４２（２Ｈ
，’ＡＢｑ、Ｊ＝１４Ｈｚ）、４．４５（２Ｈ，ｓ）、
　　５．１８（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）、　　５．８０
（ＬＨ。

ｄｄ、Ｊ−５Ｈｚ、８Ｈｚ）、　　７．４０（ＩＨ，ｓ
）、　　８．５０（ＩＨ。

ｓ）、　　９．５５（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ）、　　１
２．５（ＩＨ，ブロード　Ｓ）製造例４ ビルスマイヤー試薬をオキシ塩化リン（２，６ｇ１）お
よびＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド（１，３Ｐ）から酢
酸エチル（３ｍｅ）中で常法により製造した。

２−メトキシイミノ−２−（３−ヒドロキシフェニル）
酢酸（シン異性体）（２，７ｙ）をビルスマイヤー試薬
の酢酸エチル（２０ｍｅ）懸濁液中に゛氷冷下に撹拌し
ながら加え、混合物を同じ温度で３０分間撹拌して活性
酸溶液を製造した。一方別に、トリメチルシリルアセト
アミド（１３，８ｙ）を７−アミノ−３−アジドメチル
−３−セフェム−４−カルボン酸（３，８ｙ）の酢酸エ
チル（６０ｍｅ　）溶液に加え、４０′〜４３℃で１０
分間撹拌した。この溶液に上記活性酸溶液を−１０’Ｃ
で加え、混合物を同温度で３０分間撹拌した。得られた
溶液に水（４０ｍｅ）を加・え、分離した有機層を水で
洗浄して、硫酸−グネシウムで乾燥後、溶媒を留去して
７−〔２−メトキシイミノ−２−（３−ヒドロキシフェ
ニル）アセトアミドロー３−アジドメチル−３−セフェ
ム−４−カルボン酸（シン異性体）（’３．２ｙ）を得
た。融点９８°Ｃ（分解）。

ＴＲ，（ｓｒ、ジｉ−ル）：　、３２５’０．　２１ｏ
０．　１７７０．１７２０゜１６６０、　１５３０ｃｍ
−１ ＮＭＲ（ＤＭｓｏｉａ６．δ）＝３．６０（２Ｈ，ＡＢ
ｑ、　Ｊ＝１８Ｈｚ）。

３．９２（３Ｈ，ｓ）、　４．０　＋’　４．４３（２
Ｈ，ＡＢｑ、　Ｊ＝１３Ｈｚ）’。

５；２２（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）、　　５．９０（Ｉ
Ｈ，ｄｄ、Ｊ＝５Ｈｚ。

８Ｈｚ）、　　７．０３（４Ｈ，ｍ）、　　９．７７（
ＩＨ，ｄ、　Ｊ−８Ｈｚ）製造例５ 製造例３および４の方法に従って次の化合物を製造した
。

＋１＋　　７−（２−エトキシイミノ−２−フェニルア
セトアミド）、−３−アジドメチル−３−セフェム−４
−カルボン酸（シン異性体）、融点１９ｏ　　。

℃（分解）。

ＩＲ（ヌジョール）：　　３２５０．　２１００．　１
７８０．’　　１’７２０゜１６６０、　１５２０ｃｍ
−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６．δ）＝１．２７（３Ｈ，ｔ、
、　Ｊ＝７Ｈｚ）。

３．６０（２Ｈ，ブロード　ｓ）、　　３．８８，４．
４２（２Ｈ，ＡＢｑ。

Ｊ−１３Ｈｚ）、　　４．１８（２Ｈ，ｑ、、Ｊ＝７Ｈ
ｚ）、　　５．２０（ＩＨ。

ｄ、　Ｊ＝５Ｈｚ）、　　５．９３（ＩＨ，ｄｄ、　Ｊ
＝５Ｈｚ、　８Ｈｚ）。

７．７７（５Ｈ，’ｍ）、　　９．７０（］、Ｈ，ｄ、
Ｊ＝８Ｈｚ）［２）７−［２−メトキシイミノ−２−（
２−フリル）アセトアミド１−３−アジドメチル−３−
セフェム−４−カルボン酸（シン異性体）、融点８０〜
９２℃（分解）。

工Ｒ’（ヌジョール）：　　３２５０．　２１００．　
１７８０．１７２０゜１６７０、　１５３０σ−１ Ｎ　Ｍ　Ｒ（ＤＭＳＯ−ｄ６　、δ）：　３．５５（２
Ｈ，ＡＢｑ、　Ｊ＝１８Ｈｚ）。

３．８５（３Ｈ，ｓ）、　　３．９３．４．３８（２Ｈ
，ＡＢｑ、　Ｊ−１３Ｈｚ）。

５．１４（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）、　　５．７８（Ｉ
Ｈ，ｄｄ、Ｊ＝５Ｈｚ。

８Ｈｚ）、　　６．６０（２Ｈ，ｍ）、　　７．５５（
ＩＨ，ｍ）、　　９．６８（ＬＨＩ　ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ　
） 製造例６ −イル）アセトアミド］−３−アジドメチル−３−セフ
ェム−４−カルボン酸（シン異性体）（’ｔｓｙ）のメ
タノール（２００ｍｆり溶液に加え、混合物を３０〜３
５℃で１時間撹拌した。反応混合物をジイソプロピルエ
ーテル（５００ｍｅ）に滴下して加えた後、沈殿物を戸
数し、水（２００ｍｌ？）に懸濁した。懸濁液を炭酸水
素ナトリウムの飽和水溶液でｐＨ２，０に調整し、沈殿
を戸数し、水で洗浄し、減圧下で乾燥して７−［２−ｔ
−ブトキシカルボニルメトキシイミノ−２−（２−アミ
ノチアゾール−４−イル）アセトアミド］−３−ア、シ
トメチル−３−セフェム−４−カルボン酸（シン異性体
）（１６ｙ）を得だ。

ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６　、δ）　：　１．４０（９Ｈ
，ｓ）、　３．５９（２Ｈ。

ＡＢｑ、Ｊ−１４Ｈｚ）、　　４．２３−４．７５（４
Ｈ，ｍ）、　　５．１５（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝５Ｈｚ）、
　　５．８０（ＬＨ，ｄｄ、　Ｊ＝５Ｈｚ、　８Ｈｚ）
。

６．７５（ＬＨ，ｓ）、　　９．４５（ＩＨ，ｄ、　Ｊ
−８Ｈｚ）製造例７ ７−［２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシイミノ− アセトアミド］−３−アジドメチル−３−セフェム−４
−カルボン酸（シン異性体）（１５ｆりのトリフルオロ
酸ｅ（４３ｍｅ）溶液にアニソール（２　０　ｍｅ　）
を加えた。混合物を室温で２時間撹拌し、ジイソプロピ
ルエーテルに注いだ後、沈殿物を戸数し、ジイソプロピ
ルエーテルで洗浄して無色の粉末を得、それを水（２０
０ｍｆりに懸濁した。懸濁液を炭酸水素ナトリウムの飽
，和水溶液でｐＨ３．０に調整した後、沈殿物をＰ取し
、水で洗浄し、五酸化燐で乾燥して白色の粉末である７
−〔２−カルボキシメトキシイミノ−２−（２−アミノ
チアゾール−４−イル）アセトアミド１−３−アジドメ
チル−３−セフェム−４−カルボン酸（シン異性体）（
１０．２ｙ）を得だ。

工Ｒ（ヌジョール）：　　３３００，　　２１００，　
　１７８０，　　１６８０。

１６４０、　　１５４０に−１ ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ　ｄ６　、δ）：　３．６０（２Ｌ
　ｓ）、　’４．３１（２Ｈ。

ＡＢｑ，Ｊ＝１４Ｈｚ）、５．２５（ＬＨ，ｄ，Ｊ＝５
Ｈｚ）、５．８５（］、Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５Ｈｚ，８Ｈｚ
１　　６．９０（ＩＨ，ｓ）、　　９．６３（ＩＨ，　
ｃｌ．、　Ｊ　＝８Ｈｚ） 製造例８ ＋ｌ）　　７−フェニルアセトアミド−３−ヒドロキシ
−３−セフェム−４−カルボン酸−１−オキシドのベン
ズヒドリルエステル（１５．５ｙ）とトリフェニル（１
−ブトキシカルボニルメチレン）ホスホラン（１３．５
ｙ）のテトラヒドロフラン（２０　０　ｍｅ　’）との
混合物を室温で２１時間撹拌した。

反応混合物を濃縮し、残渣を酢酸エチルとテトラヒドロ
フラン（７：３）の混合物に溶解した。得られた溶液を
１０チ塩酸と塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後
、溶媒を留去して、残渣を得た。残渣をジエチルエーテ
ルとメタノールの混合物から結晶化した。

沈殿物をＩＰＦＤ．シ、メタノールで洗浄し、乾燥して
７−フエニルア中ドアミドー３−ｔ−ブトキシカルボニ
ルメチル−３−セフェム−４−カルボン酸−１−オキシ
ドのベンズヒドリルエステル（１　２、　２　ｆ；’つ
を得た。

工Ｒ（ヌジョール）：　　３３００，　　１７９０，　
　１７２０，　　１６５０ｃｒｎ”Ｎ　ＭＲ　（ＤＭＳ
Ｏ−ｄ６，δ）：　　１．３４（９Ｈ，ｓ）、　　３．
４０−４．００（’６Ｈ，ｍ）、　　４．９４（ＩＨ，
ｃｌ，Ｊ＝５Ｈｚ）、　　５．９０（ＩＨ。

ｄｄ，Ｊ＝５Ｈｚ，８Ｈｚ）、６．９６（ＩＨ，ｓ）、
７．０８−７．７６（１５Ｈ，ｍ）、　　８．３６（Ｌ
Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）（２）臭化ｙセチル（５．８ｙ）
を７−フェニルアセトアミド−３−ｔ−ブトキシカルボ
ニルメチル−３−セフェム−４−カルボン酸−１−オキ
シドのベンズヒドリルエステル（１２．１７）とアミジ
ノ（２．８ｙ）の塩化メチＬ／　ン（　１　０　０　ｍ
ｅ　）溶液に水冷下、滴下して加えた。混合物を室温で
１時間撹拌した。反応混合物に水（１０ｍｅ）を加えて
、５分間撹拌した。塩化メチレン層を分離して水と塩水
で洗浄して、硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を留
去して残渣を得た。残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーに付し、塩化メーチレンで溶出した。目的化合
物を含む両分を集め、溶媒を留去して７−７エニルアセ
トアミドー３−ｔ−ブトキシカルボニルメチル−３−セ
フェム−４−カルポン酸ベンズヒドリルエステル（６，
０Ｐ）を４だ。

ＩＲにｔショール）：　　３３００．　１７８０．　１
７３０．　１７０６゜１６６０、　１６１６ｃｍ−１ ＮＭＲ（ｎｏＡｓｏ−ａ６．７ｙ）：　１．３３（９Ｈ
，ｓ）、　　３．４０（２Ｈ。

ｓ）、　　３．５５（４Ｈ，ブロード　ｓ）、　　５．
７２（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝５Ｈ２，８Ｈｚ）、　　６．８
８（ＩＨ，Ｓ）、　　７．０７−７．６３（１５ｈ。

ｍ）、　　９．０７（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ）（３）五
塩化燐（６，２４１の塩化メチレン（６０ｍｅ　）懸濁
液に５〜ｌＯ℃で撹拌下にピリジン（２，４ｙ）を滴下
し、室温で３０分間撹拌を続けた。上記の混合物に７−
フェニルアセトアミド−３−ｔ−−１トキシカルボニル
メチル−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリル
エステル（７，２ｇりを４℃で加え、この混合物を３〜
８℃で２時間撹拌し、メタノール（１５ｍｅ　）を−３
０’Ｃで滴下して加えた。この混合物を一２０〜ｏ℃で
１．５時間撹拌し、溶媒を留去して残渣を得だ。残渣に
水とジエチルエーテルの混合物を、撹拌下に加えた。

水層を分離し、その分離した水層を２０％炭酸カリウム
水溶液でｐＨ８，０に調整し、酢酸エチルで抽出しだ。

酢酸エチル層を塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥
し溶媒を留去して、７−アミノ−３−ｔ−ブトキシカル
ボニルメチル−３−セフェム−４−カルシボン酸ベンス
゛ヒドリルエステル５、１，ｐ）を得た。

ＩＲ．（ヌジョール）：　　１７８０，　　１７２０ｃ
ｍ　’製造例９ （１）　　７−フェニルアセトアミド−３−ヒドロキシ
−３−セフェム−４−カルボン酸　４−ニトロベンジル
エステル（３７．６Ｐ）とトリフェニル（エトキシカル
ボニルメチレン）ホスホラン（２８ｙ）のテトラヒドロ
フラン（４００ｍｅ）との混合物を室温で２４時間撹拌
した。溶媒を留去して、残渣を酢酸エチルに溶解した。

酢酸エチル層を分離し、１０％塩酸と塩水で洗浄し、硫
酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去して、残渣を得だ
。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、
塩化メチレンで溶出した。目的化合物を含む両分を集め
、溶媒を留去して残渣を得た。残渣を酢酸エチルとジエ
チルエーテルの混合物で再結晶して７−フェニルアセト
アミド−３−エトキシカルボニルメチル−３−セフェム
−４−カルボン酸４ーニトロベンジルエステル（　１７
．　３　９　）　ヲ’４り。

ＮＭＲ（ＤＭＳ〇−ｄ６＋δ）：　１．　１７（３Ｈ，
　ｔ，　Ｊ＝７Ｈｚ）。

３、６０（４Ｈ，ブロード　ｓ　）＋　　４．　１（　
２Ｈ＋　Ｏ．＋　Ｊ＝７Ｈｚ　）＋５、１７（ＩＨ，ｄ
，Ｊ＝５Ｈｚ）、　　５．４５（２Ｈ，ｓ）、　　５．
８０（　ＩＨ，ｄｄ，Ｊ＝５Ｈｚ，　８Ｈｚ）、　　７
．　３３（５Ｈ，Ｓ）、７．　７２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９
Ｈｚ）、　　８．２７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ）。

９、　２０（ＬＨ．　ｄ，　Ｊ＝８Ｈｚ）（２）五塩化
燐（’４　３．　３　ｐ　）の塩化メチレン（１　３　
０　ｍ．ｅ　）懸濁液にピリジン（　５．　Ｉ　Ｐ　）
を５〜１。

°Ｃで撹拌しながら滴下して加えた。そして撹拌を室温
で３０分間続けた。混合物に７−フェニルアセトアミド
’−３−エトキシカルボニルメチル−３−セフェム−４
−カルボン酸　４〜ニトロベンジルｘステｚ＋ｚ　（　
１　７．　３　９　）を７℃で加えた。この混合物を５
〜８℃で２時間撹拌し、メタノール（６５ｍｅ　）を−
２０°Ｃで滴下して加えた。得られた混合物を一２０〜
０°Ｃで２時間撹拌し、溶媒を留去して残渣を得た。残
渣を水とジエチルエーテルで洗浄した。得られた沈殿物
を戸数し、水で洗浄し、乾燥して７−アミノ−３−エト
キシカルボニルメチル−３−セフェム−４−カルボン酸
　４−ニトロベンジルエステルの塩酸塩（１３．４．Ｐ
）を得た。

ＩＲ（ヌジョール）：　　１７８０，　　１７２０ｃ７
ｎ　’ＮＭＲ（ＤＭｓｏ−ａ６，　ａ）＋　１．　１６
（３Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝７Ｈｚ）。

３、６６（２Ｈ，ｍ）、　　４．０４（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝
７Ｈｚ）、　　５．２６（ＬＨ，ｄ，Ｊ＝４Ｈｚ）、　
　５．３２（ＬＨ，ｃｌ，Ｊ＝４Ｈｚ）。

５、４０（２Ｈ，　ｓ）、　　７．６８（’２Ｈ，ｄ，
Ｊ＝９Ｈｚ）、　　８．１８（２Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝９Ｈ
ｚ） 製造例１０ ＋１＋　　７−フェニルアセトアミド−３−ヒドロキシ
−３−セフェム−４−カルボン酸−１−オキシドのベン
ズヒドリルエステル（４ｘ．３ｙ）とトリフェニル（シ
アノメチレン）ホスホラン（　２　５．　４２）のテト
ラヒドロフラン（５００ｍｆｆ）との混合物を４０〜５
０℃で５時間、そして１０〜１５℃で３０分間撹拌した
。生じた沈殿物を戸数して、メタノールとジイソプロピ
ルエーテルで洗浄し、乾燥して７−７エニルアセトア三
ド−３−シアノメチル−３−セフェム−４−カルボン酸
−１−オキシドのベンズヒドリルエステル（２２，２５
７）を得た。

ＩＲ（ヌジョール）：　　２２５０．　１７８０．　１
７３０．　１６８０゜１６４０σ−１ ＮＭ　Ｒ（ＤＭＳＯ−ｄ６．δ）：　３．６８（２Ｈ，
’ｓ）、　　３．８０（２Ｈ，’ｓ）、　　３．７３．
　４．１（２Ｈ，Ａｌ３ｑ、Ｊ−１６Ｈｚ）、　　５．
００（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝５Ｈｚ）、　　５．９８（ＩＨ
，ｄｄ、　Ｊ＝５Ｈｚ、　８Ｈｚ）。

６．９８（ＩＨ，ｓ）、　　７．１３−８．００（１５
Ｈ，ｍ）、　　８．４３（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝８Ｈｚ） （２）臭化アセチル（１２，１ｇ１’）を７〜フェニル
アセトアミド−３−シアンメチル−３−セフェム−４−
カルボン酸−１−オキシドのベンズヒドリルエステル（
２２，２ｙ）とアミジノ（５，７５ｙ）の塩化メチレン
（２００ｍｆ’）との懸濁液に水冷下に滴下して加えた
。混合物を室温で３０分間撹拌した。反応混合物に水（
２０ｍｅ）を加え、その混合物を５分間撹拌した。塩化
メチレン層を分離し、水と塩水で洗浄し、硫酸マグネシ
ウムで乾燥し、溶媒を留去して残渣を得だ。、残渣にジ
エチルエーテルを加えて粉末化して７−フェニルアセト
アミド−３−シアノメチル−３−セフェム−４−カルボ
ン酸ベンズヒドリルエステル（２ｏ、３り）を得た。

工Ｒ（ヌジョール）：　　３２６０．　２２５０．　１
７８０．　１７２０゜１６５５σ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６．δ）：　３．５５（２Ｈ，ｓ
）、　　３．６３（４Ｈ。

ブロード　ｓ）、　　５．１（ＩＨ，ｄ、Ｊ−５Ｈｚ）
、　　５．７８（ＩＨ。

ｄｄ、Ｊ＝５Ｈｚ、８Ｈｚ）、　　６．９０（ＬＨ，ｓ
）、　　７．００−７．７３（１５Ｈ，ｍ）、　　９．
０８（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ）（３）製造例９７ｆ２）
の方法に従って次の化合物を製造口だ。７−ア三ノー３
−シアノメチル−３−セフェム−４−カルシボン酸ベン
ス゛ヒドリルトリテルの塩酸塩。

ＩＲ（ヌジョール）＝１７桑０．　１７２０側−１ＨＭ
Ｒ（ＤＭＳＯ−ｄ６．δ）：　　３．８６（４１（、ブ
ロード　ｓ）。

５．３０（２Ｈ，ｓ）、　　６．９５（ＬＨ，ｓ）、　
　７．１７−７．７７（ＩＯＨ，ｍ） 実施例１ ビルスマイヤー試薬をオキシ塩化リン（１，１３ｙ）お
よびＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド（０，５４２）から
テトラヒドロフラン（６＋＋＋ｅ）中で常法により製造
した。２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシイミノ−２
−（２−ホルムアミドチアゾール−４−イル）酢酸（シ
ン異性体）（２，０２ｐ）をビルスマイヤー試薬のテト
ラヒドロフラン（８ｍｅ）懸濁液に水冷下に加え、混合
物を同じ温度で３０分間撹拌し溶液を得た［溶液Ａ］。

一方別に７−アミ／−３−エチル−３−セフェム−４−
カルボン酸ベンズヒドリルエステルの塩酸塩（２，２ｙ
）の酢酸エチル（２２ｍｅ）懸濁液にトリメチルシリル
アセトアミド（６，７ｙ）を加え、混合物を４０°Ｃて
５０分間撹拌した。その溶液に［溶液Ａ］を一２０°Ｃ
で加え、同温度で１時間撹拌した。水（２０ｍｅ　）と
酢酸エチル（１５ｍｅ）を−１０°Ｃで反応混合物に加
え、有機層を分離した。分離した有機層を炭酸水素ナト
リウムの飽和水溶液と、塩化ナトリウムの飽和水溶液で
洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去して７
−［２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシイミノ− ルムアミドチアゾール−４−イル）アセトアミド１−３
−エチル−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリ
ルエステル（シン異性体’）　（　３．　２　３　ｙ）
を得た。

工Ｒ（ヌジョール）：　　３２００，　　１７８０，　
　１７２０．　　１６８０ｃｍ’ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−
ｄ６　、δ）：　０．９２（３Ｈ，ｍ）、　　１．３２
（９Ｈ。

ｓ）、２．０　　２．７（２Ｈ，ｍ）、　　３．４４（
２ｉ（＋ブロード　ｓ）＋４、　５２　（　２Ｈ＋　ｓ
　）、５−　１　（　ＩＨ，ｄ，Ｊ−５Ｈｚ　）、５．
　７　３（ＩＨ，　ｄｄ，　Ｊ＝５Ｈｚ，　８Ｈｚ）、
　　６．７８（ＬＨ，　ｓ）。

７、０５−７．５５（ＩＩＨ，　ｍ）、　　８．４１（
ＩＨ，　ｓ）、　　９．４３（　ＩＨ，　ｄ，　Ｊ＝８
Ｈｚ　） 実施例２ ビルスマイヤー試薬をオキシ塩化燐（１．４８ｙ）およ
びＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（０．７’ｌｐ）から
常法に従って製造した。２−ｔ−ブトキシ力ルポニルメ
トキシイミ７−２−（２−ホルムアミドチアゾール−４
−イル）酢酸（シン異性体）（２、９ｙ）をビルスマイ
ヤー試薬の酢酸エチル（３０ｍｅ　）懸濁液に水冷下に
加え、混合物を同温度で３０分間撹拌して活性酸溶液を
製造した。一方、７−アミノ−３−シアノメチル−３−
セフェム−４〜カルボン酸ベンズヒト、リルエステルの
塩酸！（３゜５４ｙ）をトリメチルシリルアセトアミド
（６，３ｙ）の酢酸エチルＣ４０−）溶液に溶解した。

その溶液に上記活性酸溶液を一２０°Ｃで加え、混合物
を一２０〜０°Ｃで１時間撹拌した。酢酸エチルと水と
の混合物を加えた後、酢酸エチル層を分離した。酢酸エ
チル層を炭酸水素ナトリウムの飽和水溶液と塩水で洗浄
し、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去して７−（
２−ｔ−ブトキシ力ルポニルメトキシイミ／−２−（２
−ホルムアミドチアゾール−４−イル）アセトアミド］
−３−シアノメチル−３−セフェム−４−カルボン酸ベ
ンズヒドリルエステル（シン異性体）（５，４ｙ）を得
た。

ＩＲ（ヌジョール）：　　３２００．　２２６０．　１
７８５．　１７２５゜１６８０帥−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６．δ）　：　１．４０（９Ｈ，
ｓ）、　　３．７０（４Ｈ。

ブロード　ｓ）、　　４．６２（２Ｈ，ｓ）、　　５．
２５（ＩＨ，ｄ。

Ｊ＝５Ｈｚ）、　　５．’８０（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝５Ｈ
ｚ、８Ｈｚ）、６．９２（ＩＨ，ｓ）、７．１０−７．
６７（ＩＩＨ，ｍ）、８．５３（ＩＨ。

ｓ）、９．６３（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ）、　　１２．
７０（ＩＨ，ｓ）実施例３ 実施例１および２の方法に従って次の化合物を製造した
。

＋ｌ）　　７−　［２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキ
シイミノ−２−（２−アミノチアゾール−４−イル）ア
セトアミ）’］−３−エチルー３−セフェムー４−カル
ボン酸ベンズヒドリルエステル（シン異性体） ＴＲ（ヌジョール）：　　３２５０．　１７７５．　１
７２０．　１６７０゜１６２０ｃＩｎ’ （２！７−［２−カルボキシメトキシイミノ−２−（２
−アミノチアゾール−４−イル）アセトアミｌ’］−３
−エチル−３−セフェム−４−カルボン酸（シン異性体
）。

ＩＲ（ヌジョール）：　　３３００．　３２００．　１
７６０．　１６７０ｃｍ　−１（３＋　　７−　［２−
ｔ−ブトキシカルボニルメトキシイミノ−２−（２−ホ
ルムアミド−５−クロロデアゾール−４−イル）アヤト
アミド］−３−シアノメチル−３−セフ１ムー４−カル
ボン酸ベンズヒドリルエステル（シン異性体）。

ＩＲ（ヌジョール）＋　　３２００．　２２５０．　１
７８５．　１７２０゜１６８０ｃｍ−’ Ｎ　Ｍ　Ｒ（ＤＭＳＯ−ａ６．δ）：　１．４０（９Ｈ
，ｓ）＋　　３．５２（２Ｈ。

ｓ）、　　３．６７（２Ｈ，ｓ）、　　４．３２（２Ｈ
，ｓ）＋　　５．２５（ＩＨ。

ｄ、　Ｊ＝５Ｈ２）、　　５．７７（ＩＨ，ｄｄ、　Ｊ
＝５Ｈｚ、　８Ｈｚ）。

６．８７（ＬＨ，ｓ）、　　７．１−７．７０（ＩＯＨ
，ｍ）、　　８．５３（ｌＨｌｓ）、９．６８（ＩＨｌ
ｄ、Ｊ−８Ｈ２）（４）７−（２−ｔ−ブトキシカルボ
ニルメトキシイミノ−２−（２−アミノ−５−タロロチ
アゾール−４−イル）アセトアミド］−３−シアノメチ
ル−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエス
テル（シン異性体）。

ＩＲ（ヌジョール）：　　３２５０．　２２５０．　１
７８０．　１７２２゜１６８０、　１６２０ｃｍ　’ （５ｉ７−［２−カルボキシメトキシイミノ−２−（２
−アミノ−５−クロロチアゾール−４−イル）アセトア
ミド］−３−シアノメチル−３−セフェム−４−カルボ
ン酸（シン異性体）。

ＮＭ　Ｒ（ＤＭＳＯ−ｄ６．δ）：３．５８（２Ｈ，ｑ
、　Ｊ−１８Ｈｚ）。

３．７３（２Ｈ，ｓ）、　　４．６３（２Ｈ，ｓ）、　
　５．１５（ＩＨ，ｄ。

Ｊ＝５Ｈ２）、　　５．８３（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝５Ｈｚ
、８Ｈｚ）。

９゜４　（ＩＬ　ｄ、　Ｊ＝８Ｈｚ　）（６１７−Ｅ　
２−　ｔ−ブトキシカルボニルメトキシイミノ−２−（
２−アミノチアゾール−４−イル）アセトアミドヨー３
−シアンメチル−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズ
ヒドリルエステル（シン異性体）。

工Ｒ（ヌジョール）：　　３２５０．　２２５０．　１
７８０．　１７２０゜１６７０、　１６１０σ−１ ｔ７）７−［２−カルボキシメトキシイミノ−２−（２
−アミノチアゾール−４−イル）−アセトアミド］−３
−シアンメチル−３−セフェム−４−カルボン酸（シン
異性体）。

工Ｒ（ヌジョール）：　３３００．　１７６５．　１６
７０．　１６３０ｃｍタ１ｆ８）　　７−　［２−ｔ−
ブトキシカルボニルメトキシイミノ−２−（２−ホルム
アミドチアゾール−４−イルｐアセトアミド〕−３−エ
トキシカルボニルメチル−３−セフェム−４−カルボン
酸４−ニトロベンジルエステル（シンｇ性体）。

工Ｒ（ヌジョール）：　３２５０．　１７８５．　１７
２５．　１６９０゜１６１０ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６．　ａ　）　：　１．１５（３
Ｈ，ｔ、　Ｊ＝７Ｈｚ）。

１、４５　（９Ｌ　ｓ　）、３．５８　（４Ｈ９ｍ）、
４．０３　（２Ｈ２ｑ。

Ｊ−７Ｈｚ）、　　４．６２（２Ｈ；ｓ）、　　５．２
２（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）、　　５．３７（’２Ｈ，
ｓ）、５．９０（ＬＨ，ｄｄ、Ｊ＝５Ｈｚ。

８Ｈｚ）、　　７．２６（ＬＨ，ｓ）、　　７．６６（
２Ｈ；　ｄ、　Ｊ＝８Ｈｚ）。

８．２０（２Ｈ，ｄ、　Ｊ−８Ｈｚ）、　　８．４８（
ＩＨ，ｓ）、　　９．６０（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝８）ｊｚ）
、　　１２．５７（ＩＨ，ブロード　５）（９）　　７
−　［２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシイミノ−２
−（２−ホルムアミドチアゾール−４−イル）アセトア
ミド］−３−エトキシカルボニルメチル−３−セフェム
−４−カルボン酸（シン異性体）。

工Ｒ（ヌジョール）：　３２２０．　１７８０．　１７
２０．　１６８０ｃｍ００）　　７−　［２−ｔ−ブト
キシカルボニルメトキシイミノ−２−（２−アミノチア
ゾール−４−イル）アヤトアミド］−３−エトキシカル
ボニルメチル−３−セフェム−４−カルボン酸（シン異
性体）。

ＩＲ（ヌジョール）：　　３３００．　１７８０．　１
？２５．　１６８０゜６３０ｃｍ （ｕ）７−　［２−カルボキシメトキシイミノ−２−（
２−アミノチアゾール−４−イル）アセトアミド］−３
−エトキシカルボニルメチル−３〜セフェム−４−カル
ボン酸（シン異性体）。

ＩＲ（ヌジョール）：　　３２８０．　１７７０．　１
７２０．　１６７０゜１６３０ｃｍ　’ ルムアミドチアゾールー４−イル）アセトアミド］−３
−ｔ−ブトキシカルボニルメチル−３−セフェム−４−
カルボン酸ベンズヒドリルエステル（シン異性体）。

工Ｒ（ヌジョール）：　　３１５０．　１７７５．　１
７２０．　１６８０σ−１ＮＭＲ（ＤＭＳσ−ｄ６．δ
）＝１．３７（９Ｈ，ｓ）、　　３．６３（４Ｈ。

ｍ）、　　３．９３（３Ｈ，ｓ）、　　５．２３（ＬＨ
’、　ｄ、　Ｊ＝５Ｈｚ）。

５．９３（ＩＨ，ｄｄ、　Ｊ−５Ｈｚ、　８Ｈｚ）、　
　６．９２（ＩＨ，ｓ）。

７．０７　７．６７、（ＩＩＨ，ｍ）、８．５３（ＬＨ
，ｓ）、　　９．７２（１）（、ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ）、’
　１２．７０（ＩＨ，ブロード　８）（１：３）７−［
２−メトキシイミノ−２−（２−アミノチアゾール−４
−イル）アセトアミド〕−３−ｔ−７’トキシカルポニ
ルメチル−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリ
ルエステル（シン異性体）。

ＩＲ（ヌジョール）：　　３３００．　１７７０．　１
７２０．　１６７０゜１６２０　ｃｍ−１ ：ｎ）　　７−　［２−メトキシイミノ−２−（２−ア
ミノチアゾール−４−イル）アセトアミド］−３−カル
ボキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸（シン異
性体）。

ＩＲ（ヌジョール）：　　３３００．　１７６５．　１
６５０ｃ／ｎ−１（＋５）７−（２−ヒドロキシイミノ
−２−フェニルアセトアミド）−３−アミノメチル−３
−セフェム−４−カルボン酸（シン異性体）、融点１９
１℃（分解）。

ＩＲ（ヌジョール）：　　３１５０．　１７６０．　１
６６０．　１６００ｃｍ　”（１６ｊ７−（２−メトキ
シイミノ−２−フェニルアセトアミド）−３−アミノメ
チル−３−セフェム−４−カルボン酸（シン異性体）。

工Ｒ（ヌジョール）：　　３２００．　１？６０．　１
６８０．　１６００゜１５４０ｃＩｎ−１ （１７）７−（２−エトキシイミノ−２−フェニルアセ
トアミド）−３−アミノメチル−３−セフェム−４−カ
ルボン酸（シン異性体）、融点８５°Ｃ（分解）。

工Ｒ（ヌジョール）、：　　３２００．　１７６０．　
１６７５．　１−６３０゜１５８５、　１５４０ｃｍ−
１ （＋ｓ）　　７−　［２−メトキシイミノ−２−（３−
ヒドロキシフェニル）アセトアミド］−３−アミノメチ
ル−３−セフェム−４−カルボン酸（シン異性体）、融
点２′０７℃（分解）。

工Ｒ（ヌジョール）：　　３１５０．’　　１７６５．
　１６６０．　１６００ｃｍ、１（＋９ｉ　　７−　［
２−カルボキシメトキシイミノ−２−（２−アミノチア
ゾール−４−イル）−アセトアミド〕−３−アミノメチ
ル−３−セフェム−４−カルボン酸（シン異性体）。

ＩＲ（ヌジョール）：　　３２００．　１７６０．　１
６００（ブロード）。

１６２０、　１５８０ｃ＊　−１ （２ｏニア−［２−メトキシイミノ−２−（２−アミノ
チアゾール−４−イル）アセトアミド〕−３−アミノメ
チル−３−セフェム−４−カルボン酸（シン異性体）。

ＩＲ（ヌジョール）：　　３１７０．　１７６５．　１
６６５．　１６１０゜１５３０ｃｍ−１ （２１７−（２−メトキシイミノ−２−フェニルアセト
アミＩ’　）−３−エチル−３−セフェム−４−カルボ
ン酸ベンズヒドリルエステル（シン異性体）。

ＩＲ（ヌジョール）：　　１７７０．　１７３０．　１
６７０．　１５２０＞　　’ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６．
δ）：　０．９８（３Ｈ，ｔ、　Ｊ−７Ｈｚ）。

２．０’−２，６（２Ｈ，ｍ）、　　３．５（２Ｈ，ｓ
）、　　３．７５（３Ｈ，ｓ）。

５．１５（］、Ｈ，ｄ、　Ｊ＝５Ｈｚ）、　　５．８　
（ＩＨ，ｄｄ、　Ｊ＝５Ｈｚ。

８Ｈｚ）、６．８０（ＩＨ２ｓ）、７．１　７．８（１
５Ｈ，ｍ）。

９、６５（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝８Ｈｚ） （２２）７−（２−メトキシイミノ−２−フェニルアセ
トアミド）−３−エチル−３−セフェム−４−カルボン
酸（シン異性体）。

ＩＲ（ヌジョール）：１７７０．　１７００．　１６６
０．　１５４０ｃｍ　　’＋２３＋７−［２−メトキシ
イミノ−２−（２−チェニル）アセトアミド］−３−ア
ミノメチル−３〜セフェム〜４−カルボン酸（シン異性
イ禮−１（点１７３〜１８１℃（分Ｍ）。

工Ｒ（ヌジョール）：　　３１５０．　１７６５．　１
６６０．　１６１０゜１．５３０ｃｍ−１ （２４１７−［２−メトキシイミノ−２−（２−フリル
）アセトアミド］−３−アミノメチル−３−セフェム−
４−カルボン酸（シン異性体）、融点１７９〜１８９°
Ｃ（分解）。

工Ｒ（ヌジョール）：　３１５０．　１７７０．　１６
６５．　１６００ｃｍ−１（２５）７−［２−カルボキ
シメトキシイミノ−２−（２−アミノチアゾール−４−
イル）アセドアＥｌ’］−３−エチル−３−セフェム−
４−カルボン酸ピバロイルオキシメチルエステル（シン
異性体）。

工Ｒ（ヌジョール）：　　３３００．　１７７５．　１
７５０．　１６７０□−１ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６　＋
Ｄ２０．　ｌｊ　）　：　　１．０７（３Ｈ，ｔ、　Ｊ
＝６Ｈｚ）。

１．１７（９Ｈ，ｓ）、　　２．２７（，２Ｈ，ｑ、　
Ｊ＝６Ｈｚ）、　　３．５５（２Ｈｌｍ　）、４１．５
０　（２Ｈ＋　ｓ　）、５．１３　（Ｉ　Ｈ２ｄ　、Ｊ
　−５ＨＺ　）’１５．８３（２Ｈ，ｍ）、　　５．８
５（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝５Ｈｚ、８Ｈｚ）。

６．８０（ＩＨ，ｓ）、　　７．１７（２Ｈ，ｍ）、　
　１０．０７（ＬＨ，ｄ。

、Ｔ＝８Ｈｚ） 実施例４ ７−［２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシイミノ−２
−（２−ホルムアミドチアゾール−４−イル）アセトア
ミ）’］−３−エチルー３−セフェムー４−カルボン、
酸ベンズヒドリルエステル（シン異性体）（３，１ｓｙ
）のメタノール（３１，５ｍｊ？）溶液に、３０℃で濃
塩酸（１，１６ｐ）を加え、混合物を同温度で１時間撹
拌した。得られた溶液を炭酸水素す）　ＩＪウムの信相
水溶液でｐＨ７，０に調整した。溶媒を除去した後、残
った不溶の生成物を戸数した。生成物を水で洗浄して五
酸化燐で乾燥して７−＝［２−ｔ−ブトキシカルボニル
メトキシイミノ−２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）アセトアミ）’　］−］３−エチルー３−セフェム
ー４−カルボン酸ベンズヒドリルエステルシン異性体）
　（、２，８２ｙ）を得た。

ＩＲ（ヌジョール）：３２５０．　１７７５．　１７２
０，１６７０゜１６２０ｃ＋＋＋−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６．δ）：　　１．０（３Ｈ，ｔ
、Ｊ＝７Ｈｚ）。

１．４４（９Ｈ’、ｓ）、２．１−２．７７（２Ｈ，ｍ
）；　　３．５４（２Ｈ，ブロード　ｓ）、−４，６（
２Ｈ，ｓ）、　　５．２（ＩＨ。

ｄ、　Ｊ＝５Ｈｚ）、　　５．７９（ＩＨ，ｄｄ、　Ｊ
＝５Ｈｚ、　８Ｈｚ）。

６．８９（２Ｈ，ｓ）、　　７．３５（ＩＯＨ，ブロー
ド　Ｓ）。

９．５２（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ） 実施例５ 濃塩酸（２，３ｍｆｆ）を７−［２−ｔ−ブトキシカル
ボニルメトキシイミノ−２−（２−ホルムアミドチアゾ
ール−４−イル）アセトアミド］−３−シＺツメチル−
３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル
（シン異性体）（５，３ｙ）のメタノール（５０ｍｅ）
とテトラヒドロフラン（２０ｍｅ　）の溶液に加え、混
合物を室温で２時間撹拌した。溶媒を減圧で除去した後
、残渣を酢酸エチルに溶解した。酢酸エチル層を炭酸水
素ナトリウムの飽和水溶液と塩水で洗浄し、硫酸マグネ
シウムで乾燥した。溶媒を留去して７−　［２＝ｔ　−
ブトキシカルボニルメトキシイミノ−２−（，２−アミ
ノチアゾール−４−イル）アセトアミド］−３−シアノ
メチル−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリル
エステル（シン異性体）（４，６２）を得た。

工Ｒ（ヌジョール）：　　３２５０．　２２５０．　１
７８０．　１７２０゜１６７０、　１６１０ｃｍ　’ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６．δ）：　１．４５（９Ｈ，ｓ
）、　　３．７（４Ｈ。

ブロード　ｓ）、４．５（２Ｈ，ｓ）、　　５．２７（
ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）。

５．９７（ＬＨ，ｄｄ、　Ｊ＝５Ｈｚ、　８Ｈｚ）、　
　６．８（ＩＨ，ｓ）。

６．９３（ＩＨ，ｓ）、　　７．１−７．７０（ＩＯＨ
，ｍ）、　　９．５３（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝８Ｈｚ） 実施例６ 濃塩酸（２，７ｍｅ）を７−［２−ｔ−ブトキシカルボ
ニルメトキシイミノ−２−（２−ホルムアミドチアゾー
ル−４−イル）ア士ドアミド］−３−エトキシカルボニ
ルメチル−３−セフェム−４−カルボン酸（シン異性体
）（３，８ｉのメタノール（３８ｍｅ）溶液に加え、混
合物を室温で３．５時間撹拌した。反応混合物を炭酸水
素ナトリウムの飽和水溶液でｐＨ７，０に調整し、溶媒
を留去した。

残渣を水に溶解し、溶液を酢酸エチルで洗浄した。

分離した水層を１０％塩酸でｐＨ２，５に酸性にし、酸
性溶液を酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を塩水で
洗い、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去し、残
渣をジイソプロピルエーテルで粉末化し、７−（２−ｔ
−ブトキシカルボニルメトキシイミノ−２−（２−アミ
ノチアゾール−４−イル）アセトアミドロー３−エトキ
シカルボニルメチル− 性体）（３．、２ｙ）を得た。

工Ｒ（ヌジョール）：　　３３００，　　１７８０，　
　１７２５，　　１６８０。

１６３０α−１ ＮＭ　Ｒ’（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：　１．　１７（３
Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝７Ｈｚ）。

１、４３（９Ｈ，　ｓ）、　　３．５８（４Ｈ，　ｍ）
、　　４．０８（２Ｈ，　ｑ，。

Ｊ−７Ｈｚ）、　４．５８　（２Ｈ，　ｓ）、　　５．
１７（ＩＨ，　ｄ，　Ｊ＝５Ｈｚ）。

５、７８（ＬＨ，ｄｄ，Ｊ＝５Ｈｚ，８Ｈｚ）、　　６
．８２（ＩＨ，ｓ）。

７、２５（２Ｈ，ｍ）、’　９．４８（ＩＨ，ｄ，Ｊ＝
８Ｈｚ）実施例７ 実施例４〜６の方法に従って次の化合物を製造した。

＋１＋７−１２−カルボキシメトキシイミノ−２アミド
］−３−アミノメチル−３−セフェム−４＝カルボン酸
（シン異性体）。

Ｉ　Ｒ　（　ｙ．ショール）：　　３２００，　　１７
６０．　　１６００（ブロード）。

１６２０、　　１５８０σ−１ ＋２＋７−［２−カルボキシメトキシイミノ−２−（２
−アミノチアゾール−４−イル）アセドア三ド］ー３ー
エチルー３ーセフェム−４−カルボン酸（シン異性体）
。

ＩＲ（ヌジａ−＃）：３３００，　　３２００．４７６
０．　　１６７０ｃｍ−１［３１　　７　−　［　２　
−　ｔ−ブトキシ力ルポニルメトキシイミ７−２−（２
−アミノ−５−タロロチアゾール−４ーイル）アセトア
ミド］−３−シアノメチル−３−セフェム−４−カルボ
ン酸ベンズヒドリルエステル（シン異性体）。

工Ｒ（ヌジョール）：、３２５０，　　２２５０，　　
１７８０，　　１７２２。

１６８０、　　１６２０ｃｍ　−１ ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）’：　１．４０（９Ｈ
，ｓ）、　　３．６７ぐ４Ｈ，ブロード　ｓ　）、４．
　５７　（　２Ｈ＋　ｓ　）＋　　５．２　（　ＬＨ。

ｄ，　Ｊ−５Ｈｚ）、　　５．９２’（ＩＨ，　ｄｄ，
　Ｊ＝５Ｈｚ，　８Ｈｚ）。

６、８８（ＬＨ，　ｓ）、　　７、ｌ　−７．　７（　
ＩＯＨ，　ｍ）。

９、４３（ＩＨ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ） ｆ４＋　　７−［２−カルボキシメトキシイミノ−２−
（２−アミノ−５−クロロチアゾール−４−イル）アナ
ドアミド〕ー３ーシア／メチル−３−セフェム−４−カ
ルボン酸（シン異性体）。

ＩＲ（スジ−１’−ル）：　　３３８０，　　３１８０
，　　１７８０．　　１’７２０。

１６８５、　　１６５０．　　１６２０ｃｍ　−１ＮＭ
Ｒ　（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：　３．５８（２Ｈ，　ｑ
．、　Ｊ−１８Ｈｚ）。

３、７３（２Ｈ．　ｓ）、　　４．６３（２Ｈ，　ｓ）
、　　５．’１５（ＩＨ，　ｄ。

Ｊ−５Ｈｚ）、　　５．８３（ＩＨ，ｄｄ，Ｊ−５Ｈｚ
，８Ｈｚ）、　　９．４Ｃ　ＩＨ，　ｄ，　Ｊ＝８Ｈｚ
　） ＋５）７−［２−カルボキシメトキシイミノ−２−（２
−アミノチアゾール−４−イル）−アセトアミド］−３
−シアノメチル−３−セフェム−４−カルボン酸（シン
異性体）。

ＩＲ（ヌジョ−＃）：３３００，　　１７６５，　　１
６７０．　　１６３０ｃｍ−１ｆ６＋７−［２−カルボ
キシメトキシイミノ−２−（２−アミノチアゾール−４
−イル）−アセトアミド］−３−エトキシカルボニルメ
チル−３−セフェム−４−カルボン酸（シン異性体）。

Ｉ　Ｒ，（ヌジョール）：　　３２８０．　１７７０．
１７２０．　１６７０゜１６３０砿−１ ｉ７＋、７−［２−メトキシイミノ−２−（２−アミノ
チアゾール−４−イル）アセトアミド〕−３−七−フ゛
トキシカルボニルメチル−３−セフェム−４−カルボン
酸ベンズヒドリルエステル（シン異性体）。

ＩＲ（ヌジョ−＃）：　　３３００．　１７７０．　１
７２０．　１６７０゜１６２０σ−１ ＮＭＲ（’ＤＭＳＯ−ｄ６４δ）：　１．４０（９Ｈ，
ｓ）、　　３．４６（２Ｈ。

ブロード　Ｓ）＋　　３．６０（２Ｈ，ｍ）、　　３．
９０（３Ｈ＋８’）＋５．２２（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝５Ｈ
ｚ）、　　５．８８（ＩＨ，ｄｄ、　Ｊ＝５Ｈｚ。

８）（ｚ）、　　６．８０（ＩＨ，ｓ）、　　６．９３
（ＩＨ，ｓ）、　　７．０５−７．７０（ＩＯＨ，ｍ）
、　　９．６６（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ）（８１７−Ｃ
〜２−メトキシイミノ−２−（２−アミノチアゾール−
４−イル）アセトアミド］−３−カルボキシメチル− ン酸（シン異性体）。

ＩＲ（ヌジョール）：　３３００，　　１７６５．　　
１６５０ｚ　−１ｉ９ｊ　　７　　［　２−メトキシイ
ミ７−２−（２−アミノチアゾール−４−イル）アセト
アミトコ−３−アミノメチル−３−セフェム−４−カル
ホ゛ン酸（シン異性体）。

ＩＲ（ヌジｑ−ル）：　　３１７Ｑ，　１７６５，　　
１６６５，　　１６１０。

１５３０ｃｍ　’ （１０）　　７　−　［　２−カルボキシメトキシイミ
ノ−２−（２−アミノチアゾール−４−イル）アセドア
Ｅド］ー３ーエチル−３−セフェム−４−カルボン酸ピ
バロイルオキシメチルエステル（シン異性体）。

ＩＲ　（ヌジＥｌ−ル）：　３３００，　　１７７５，
　１７５０，　１６７０ｃｍ−１実施例８ トリフルオ”酢ｅｃ　９．　０８　ｙ）　ヲアニ７　−
　／Ｌ／　（１、７２ｙ）と７〜〔２−ｔ−ブトキシ力
ルポニルメトキシイミ７〜２−（２−アミノチアゾール
−４−イル）アセトアミド〕ー３〜エチルー３ーセフェ
ム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル（シン異性
体）（２．７ｙ）の塩化メチレン（５．４ｍｅ　）溶液
に水冷下で加え、混合物を室温で３時間撹拌した。得ら
れた溶液をジイソプロピルエーテル（１２０ｍ（’）Ｋ
滴下して加え、沈殿物を戸数した。沈殿物を水（２’Ｏ
ｄ）と酢酸エチル（２０ｒｎｌ）の混合物に加えた。混
合物を炭酸水素ナトリウムの飽和水溶液でｐＨ７．０に
調整した。分離した水層を１０％塩酸でｐＨ２．５に調
整し、生じた沈殿物をＰ取し、水で洗浄し、五酸化燐で
乾燥して　７−［２−カルボキシメトキシイミノ−２−
（２−アミノチアゾール−４−イル）アセトアミド］−
３−エチル−３−（！フェムー４ーカルボン酸（シン異
性体）（０。８２ｙ）を得た。

ＩＲ（ヌジョ−＃）：　　３３００．　　３２００，　
　１７６０．　　１６７０ｃ＋＋＋−１ＨＭＲ　（ＤＭ
ＳＯ−ｄ６，δ）：　１．０３（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ
）。

２、０−２．７６（２Ｈ，ｍ）、　　３．４６（２Ｈ，
ブロード　ｓ）。

４、５６（２．Ｈ，　ｓ）＋　　５．０８（ＩＨ，　ｄ
，　Ｊ＝５Ｈｚ）、　　５．６８（Ｉ　Ｈｒ　ｄｄ，；
ｆ−５Ｈ　ｚ，８Ｈｚ　）＋　　６．７８　（　Ｉ　Ｈ
ｒ　ｓ　）＋９、３７（ＩＨ，　ｄ，　Ｊ−８Ｈｚ）実
施例９ トリフルオロ酢酸（１４．９ｙ）を、７−［２−ｔ−ブ
トキシ力ルポニルメトキシイミ／−２−（２−アミノチ
アゾール−４−イル）アセトアミド１−３−シアノメチ
ル−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエス
テル（シン異性体）　（４、　５　ｙ）の塩化メチレン
（５ｍｅ）とアニソール（２、８ｙ−）の懸濁液に水冷
下で加え、混合物を室温で１．５時間撹拌した。反応混
合物をジイソプロピルエーテル（２００ｍｅ）に滴下し
て加え、生じた沈殿物を戸数した。沈殿物を酢酸エチル
と水の混合物に加え、混合物を炭酸水素す）　ＩＪクム
の飽和水溶液でｐＨ７．０に調整した。分離した水層を
１０％塩酸でｐＨ５．５に調整し、減圧下に溶媒を留去
した。残った溶液をマクロポーラス非イオン性吸着樹脂
゛ダイヤイオンＨＰ　−　２０”（商品名：三菱化成工
業製）を用いるカラムクロマトクリフィーに付し、水で
溶出し、それを約１　０　０　ｍｅの量に１で濃縮した
。その溶液を１０％塩酸でｐＨ２．２にまで酸性化し、
その結果生ずる沈殿を戸数し乾燥して、７−［２−カル
ボキシメトキシイミノ＝２−（２−アミノチアゾール−
４−イル）アセトアミド］−３−シアノメチルー３−セ
フユム−４−カルボン酸（シン異性体）（０，８５ｙ）
を得だ。

ＩＲ（ヌジョール）：　　３３００．　１７６５．　１
６７０．　１６３０ｃｍ　”Ｎ　Ｍ　Ｒ（ＤＭＳＯ−ｄ
６．δ）：　３．６０（２Ｈ，ｑ、Ｊ＝１８Ｈｚ）。

３．７２（２Ｈ，ｓ）、　　４．６２（２Ｈ，ｓ）、　
　５．１．７（ＬＨ，ｄ。

Ｊ＝５Ｈｚ）、　　５．８１（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝５Ｈｚ
、８Ｈｚ）。

６．８０（ＬＨ，ｓ）、　　９．５０（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝
８Ｈｚ）実施例１０ ７−［２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシイミノ−２
−（２−ホルムアミドチアゾール−４−イル）アセトア
ミド］−３−エトキシカルボニルメチル−３−セフェム
−４−カルボン酸　４−ニトロベンジルエステル（シン
異性体）（５，７ｙ）を１０％　　バラジクムー炭素（
２，５ｙ）、メタノール（６０ｍｅ）、テトラヒドロフ
ラン（６０ｒｎｌ）、酢酸（５，ｍｌりおよび水（１０
ｍｅ）の混合物中室温で３，５時間接触還元に付した。

混合物を許過し、溶液を留去し、残渣を水と酢酸エチル
の混合物に加え、混合物を炭酸水素す）　ＩＪクムの飽
和水溶液でｐＨ７，０に調整した。分離した水層を１０
％塩酸でｐＨ１，５にまで酸性化し、酸性溶液を酢酸エ
チルで抽出した。抽出物を塩水で洗浄し硫酸マグネシウ
ムで乾燥し、溶媒を留去して７−［２−ｔ−ブトキシ力
ルポニルメトキシイミノ−２−（２−ホルムアミドチア
ゾール−４−イル）アセドアＥ　ｌ’　］−］３−エト
キシカルボニルメチルー３セフェム−４−カルボン酸（
シン異性体）（３，９ｙ）を得た。

ＩＲ（ヌジョール）：　３２２０．　１７８０．　１７
２０．　１６８０ｃＩｎ−１ＨＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６．
δ）：　１．２０（３Ｈ，ｔ、Ｊ＝７Ｈｚ）。

１．４７（９Ｈ，ｓ）、３．５８（４Ｈ，ｍ）、　　４
．１（２Ｈ，ｑ、　Ｊ＝７Ｈｚ）。

４．６５（２Ｈ，ｓ）、　　５．２０（ＩＨ，ｄ、　Ｊ
＝５Ｈｚ）、　　５．８５（ＩＨ，ｄｄ、　Ｊ＝５Ｈｚ
、　８Ｈｚ）、　　７．３２（ＩＨ，ｓ）、　　８．５
７（ＬＨ，ｓ）、　　９．６３（ＩＨ，ｄ、　Ｊ−８Ｈ
ｚ）、　　１２．７０（ＩＨ。

ブロード　８） 実施例１１ 実施例８および９の方法に従って　７−［２−メトキシ
イミノ−２−（２−アミノチアゾール−４−イル）アセ
トアミド：ｌ−３−ｔ−ブトキシカルボニルメチル−３
−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル（
シン異性体）カラ７−〔２−メトキシイミノ−２−（２
−アミノチアゾール−４−イル）アセトアミド］−３−
カルボキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸（シ
ン異性体）を得た。

ＩＲ（ヌジ＝ｌ−＃）：　　３３００＋　　１７６５＋
　　１６５０ｃｍ−１ＨＭＲ（ＤＭＳＯ７ｄ６．δ）：
　３．５３（４Ｈ，ｍ）、　　３．８８（３Ｈ。

ｓ）、５．１５（ＩＨ９ｄ＋Ｊ＝５Ｈｚ）、５．７５（
ＩＨｌｄｄ。

Ｊ−５Ｈｚ、８Ｈｚ　）、６．７７　（Ｉ　Ｈｒ　８　
）、９．６２　（Ｉ　Ｈ；　ｄ　。

Ｊ＝８Ｈｚ） 実施例１２ 実施例８〜１１の方法に従って次の化合物を製造した。

ｍ７−［２−カルボキシメトキシイミノ−２−（２−ア
ミノ−５−タロロチアゾールシー４−イル）アセトアミ
ド］−３−シアノメチル−３−セフェム−４−カルボン
酸（シン異性体）。

ＩＲ（ヌジョール）：　　３３８０．　３１８０．　１
７８０．　１７２０゜１６８５、　１６５０．　１６２
０ｃｍ−１ＨＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６．δ）：　３．５８
（２Ｈ，ｑ＋　Ｊ＝１８Ｈｚ）。

３．７３（２Ｈ，、ｓ）、　　４．６３（２Ｈ，ｓ）、
　　５．１５（ＩＨ，’ｄ。

Ｊ−５Ｈｚ）、　　５．８３（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝５Ｈｚ
、８Ｈｚ）、　　９．４（ＬＨ，ｄ、　Ｊ＝８．Ｈｚ　
） ＋２］　　ｔ　−［２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキ
シイミノ−２−（２−アミノチアゾール−４−イル）ア
セトアミド］−３−エトキシ力ルポニルメ≠ルー３−セ
フェム−４−カルボン酸（シン異性体）。

ＩＲ（ヌジョール）：　　３３００．　１７８０．　１
７２５．　１６８０゜１６３０ｃｍ” ＋３＋７−［２−カルボキシメトキシイミノ−２−（２
−アミノチアゾール−４−イル）−アセトアミド］−３
−エトキシカルボニルメチル−３−セフェム−４−カル
ボン酸（シン異性体）。

ＩＲ（ヌジョール）：　　３２８０．　１７７０．　１
７２０．　１６７０゜６３０ｃｍ （４＋　　７−（２−ヒドロキシイミノ−２−フェニル
アセトアミド）−３−アミノメチル−３−セフェム−４
−カルボン酸（シン異性体）、融点１９１℃（分解）。

エＲ（ヌジョール）：３１５０．　１７６０．　１６６
０．　１６００ｃｍ−１！５］７−（２−メ１キシイミ
ノー２−フェニルアセトアミド）−３−アミノメチル−
３−セフェム−４−カルボン酸（シン異性体）。

工Ｒ（ヌジョール）：３２００．　１７６０．　１６８
０．　１６００゜５４０ｃｍ （６）　　７−　（２−エトキシイミノ−２−フェニル
アセトアミド）−３−アミノメチル−３−セフェム−４
−カルボン酸（シン異性体）、融点８５℃（分解）。

ＩＲ（ヌジョール）：３２００．　１７６０．　１６７
５．　１６３０゜１５８５、　１５４０ｃｍ　” （７）　７−［２−メトキシイミノ−２−（３−ヒドロ
キシフェニル）アセトアミド］−３−アミノメチル−３
−セフェム−４−カルボン酸（シン異性体）、融点２０
７℃（分解）。

ＩＲ（ヌジョール）：　３１５０．　１７６５．　１６
６０．　１６００ｃｍ　−１（８）　　７’−［２−カ
ルボキシメトキシイミノ−２−（２−アミノチアゾール
−４−イル）アセトアミド〕−３−アミノメチル−３−
セフェム−４−カルボン酸（シン異性体）。

工Ｒ（ヌジョール）：　　３２００．　１７６０．　１
６００（ブロード）。

１６２’０．　１５８卸Ｃ１ ＋９）７−［２−メトキシイミノ−２−（２−アミンチ
アゾール−４−イル）アセトアミド１−３−アミノメチ
ル−３−セフェム−４−カルボン酸（シン異性体）。

工Ｒ（ヌジョール）：　　３１７０．　１７６５．　１
６６５．　１６１０゜１５３０ｃＩｎ−１ ［１０）７−（２−メトキシイミノ−２−フェニルアセ
トアミド）−３−エチル−３−（！−フェムー４−カル
ボン酸（シン異性体）。

ＩＲ（ヌジョール）：　　１７７０．−１７００．　１
６６０．　１５４０ｃｍ−１Ｎ　Ｍ　Ｒ（ＤＭＳＯ−ｄ
６．δ）：１．０５（３Ｈ，ｔ、　Ｊ＝７Ｈｚ）。

２．０−２．７（２Ｈ，ｍ）、　　３．４０（２Ｈ，ｓ
）、　’５．００（ＬＨ。

ａ、　Ｊ＝５Ｈ２）、　　５．６５（ＬＨ，ａｄ、　Ｊ
−５Ｈｚ、　８Ｈｚ）。

６．２５（５Ｈ，ｓ）、　、８．７０（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝
８Ｈｚ）（＋＋）　　７−　［２−メトキシイミノ−２
−（２−チェニル）アセトアミド］−３−アミノメチル
−３−セフェム−４−カルボン酸（シン異性体）、融点
１７３〜１８１’Ｃ（分解）。

ＩＲ（ヌジョール）：　　３１５０．　１７６５．　１
６６０．　１６１０゜１５３０σ−１ （１２１７−［２−メトキシイミノ−２−（２−フリル
）アセトアミド］−３−アミノメチル−３−セフェム−
４−カルボン酸（シン異性体）、融点１７９〜１８９６
Ｃ（分解）。

工Ｒ（ヌジョール）：　３１５０．　１７７０．　１６
６５．　１６００ｃｍ−１実施例１３ トリフルオロ酢酸（１２，６ｐ）を　７−［２−→、−
ブトキシカルボニルメトキシイミノ−２−（２−アミノ
チアゾール−４−イル）アセトアミド］−３−エトキシ
カルボニルメチル−３−セフェム−４−カルボン酸（シ
ン異性体）（３，１ｙ）の塩化メチレン（１０ｍ１？）
とアニソール（２，９ｙ）の懸濁液に水冷下で加え、混
合物を室温で１．５時間撹拌した。反応混合物をジイソ
プロピルエーテル（２００ｍｆりに滴下して加えた。生
じた沈殿物を酢酸エチルと水との混合物に加え、混合物
を炭酸水素ナトリウムの飽和水溶液でｐＨ７，０に調整
した。分離した水層を１０％塩酸でｐＨ５，５に調整し
、減圧下で溶媒を留去した。残存する溶液をマクロポー
ラス非イオン性吸着樹脂゛ダイヤイオンＨＰ−２０”を
用いるカラムクロマトグラフィーに付し、水で溶出し、
溶出液を約１００　ｍｅの量に寸で濃縮した。その溶液
を１０％塩酸でｐＨ２，２にまで酸性化した。生じた沈
殿を戸数し、乾燥して７−［２−カルボキシメトキシイ
ミノ−２−（２−アミノチアゾール−４−イル）アセト
アミド１−３−エトキシカルボニルメチル−３−セフェ
ム−４−カルボン酸（シン異性体）（０，’ｌ’）を得
た。

工Ｒ（ヌジョール）：　　３２８０．　１７７０．　１
７２０．　１６７０゜１６３０ｃｍ　’ ＮＭＲ（ＤＭＳＯｄ６　、δ）：　１．１８（３Ｈ，ｔ
、　Ｊ＝７Ｈｚ）。

３．５２（２Ｈ，ｓ）、　　４．０５（２Ｈ，ｑ、　Ｊ
＝７Ｈｚ）、　　４．５８（２Ｈ，ｓ）、　　５．１２
（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）、　　５．７７（ＩＨ。

ｄ　ｄ＋　Ｊ−５ＨＺ、、　８Ｈｚ　）、６．８０　（
Ｌ　Ｈ２ｓ　）＋　　９−４３（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝８Ｈ
ｚ） 実施例１４ 実施例１３の方法に従って次の化合物を製造した。

ｍ　　７−　［２−カルボキシメトキシイミノ−２−（
２−アミノチアゾール−４−イル）アセトアミ）’］−
３−エチルー３−セフェムー４−カルボン酸（シン異性
体）。

ＩＲ（ヌジョール）：　　３３００．　３２００．　１
７６０．　１６７０ｃｍ−１＋２）７−［２−カルボキ
シメトキシイミノ−２−（２−アミノ−５−タロロチア
ゾール−４−イル）アセトアミド］−３−シアンメチル
−３−セフェム−４−カルボン酸（シン異性体）。

ＮＭＲ（ＤＭＳ〇−ｄ６．δ）：　３．５８（２Ｈ，ｑ
、　Ｊ＝１８Ｈｚ）。

３．７３（２Ｈ，ｓ）、　　４．６３（２Ｈ，ｓ）、　
５．１５（ＩＨ，ｄ。

Ｊ＝５Ｈｚ）、　　５．８３（ＬＨ，ｄｄ、　Ｊ＝５Ｈ
ｚ、　８Ｈｚ）。

９、４　（Ｌ　Ｈ，ｄ、、　Ｊ＝８Ｈｚ　）＋３）７−
［２−カルボキシメトキシイミノ−２−（２−アミノチ
アゾール−４−イル）−アセトアミ）’　］−］３−シ
アノメチルー３−セフェム４−カルボン酸（シン異性体
）。

ＩＲ（ヌジョール）：３３００．　１７６５．　１６７
０．　１６３０ｃＩｎ−１（４）　７−［２−カルボキ
シメトキシイミノ−２−（２−アミノチアゾール−４−
イル）アセトアミ）’　］−］３−アミノメチルー３−
セフェム４−カルボン酸（シン異性体）。

工Ｒ（ヌジョール）：　　３２００．　１７６０．　１
６００（ブロード）。

１６２０、　１５８０ｃｍ−１ ＋５）７−［２−カルボキシメトキシイミノ−２＝（２
−アミノチアゾール−４−イル）アセトアミｌ’　］　
−］３−エチルー３−セフェムー４−カルボン酸ピパロ
イルオキシメチルエステルシン異性体）。

ＩＲ（ヌジョール）：　３３００．　１７７５．　１７
５０．　１６７０ｃｍ−１実施例１５ ７−（２−メトキシイミノ−２−フェニルアセトアミド
）−３−アジドメチル−３−セフェム−４−カルボン酸
（シン異性体）（５ｙ）を酢酸エチル（５０ｍ＋？）と
エタノール（２０ｍｆｆ）の混合物に溶解し、１０％バ
ラジクムー炭素の存在下、５時間１５　ｐ、ｓ、ｉ、の
水素圧下で水素添加した。触媒を戸去した後で、Ｐ液を
マクロポーラス非イオン性吸着樹、指゛ダイヤイオンＩ
　Ｐ　−”２０　”を用いるカラムクロマトグラフィー
に付し、水で溶出した。

目的化合物を含む画分を集め、減圧下で凍結乾燥して　
７−（２−メトキシイミノ−２−フェニルアセトアミド
）−３−アミノメチル−３−セフェム−４−カルボン酸
（シン異性体）（１ｙ）を得た。

ＩＲ（ヌジョール）：　　３２００．　１？６０．　１
６８０．　１６００゜１５４０σ−１ ＮＭＲ（ＮａＨＣＯ３＋Ｄ２０　、δ）：　３．５０（
２Ｈ，ＡＢｑ。

Ｊ−１６Ｈｚ）、　　３．９０（２Ｈ，ブロード　ｓ）
、　　４．００（３Ｈ。

ｓ）、　　５．１９（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）、　　５
．８０（ＩＨ，ｄ。

Ｊ＝５Ｈｚ）、　　７．３−７．８（５Ｈ，ｍ）実施例
１６ １０％パラジウム−炭素（２ｙ）を　７−［２−メドキ
シイミノ−２−（３−ヒドロキシフェニル）アセトアミ
ド〕−３−アジドメチル−３−セフェ、ムー４−カルボ
ン酸（シン異性体）（２Ｐ）の酢酸エチル（４０ｍｆ’
）、エタノール（２０ｍｅ　）および水（１０ｍｌｌ’
）の溶液に加え、室温で８時間１５ｐ、ｓ、ｉ、の水素
圧下で接触還元に付した。反応混合物を沢過し、Ｐ液を
水で抽出した。水層を凍結乾燥して７−［２−メトキシ
イミノ−２−（３−ヒドロキシフェニル）アセトアミド
］−３−アミノメチル−３−セフェム−４−カルボン酸
（シン異性体）（１，０ｙ）を得た。融点２０７°Ｃ（
分解）。

ＩＲ（ヌジョール）：　３１５０．　１７６５．　１，
６６０．　１６００ｃ＋＋＋　−１Ｎ　Ｍ　Ｒ（ＤＭｓ
＋ｏ−ｄ６．δ）：　３．５７（４Ｈ，ｍ）、　　３．
８５（３Ｈ。

ｓ）、　　４．９７（ＩＨ，ｄ、Ｊ−５Ｈｚ）、　　５
．７０（ＩＨ，ｄｄ。

Ｊ＝５’Ｈｚ、８Ｈｚ）、　　６．９７（４Ｈ，ｍ）、
　　９．５３（ＩＨ，ｄ。

Ｊ＝８Ｈｚ　） 実施例１７ ７−〔２−カルボキシメトキシイミノ−２−（２−アミ
ノチアゾール−４−イル）アセトアミド］−３−アシド
メチル−３−セフェム−４−カルボン酸（シン異性体）
（５９）に、テトラヒドロフラン（１００ｍｆｆ）と水
（５０ｍｅ）の溶液中、１０幌パラジクムー炭素（５ｙ
）存在下５時間１５　ｐ。

ｓ、ｉ、の水素圧下で水素添加した。触媒の除去の後、
反応混合物を減圧下蒸発乾固して無色の粉末を得た。こ
の粉末をアセトンとメタノールで洗浄して、７−［２−
カルボキシメトキシイミノ−２−（２−アミノチアゾー
ル−４−イル）アセトアミド］−３−アミノメチル−３
−セフェム−４−カルボン酸（シン異性体）（１，２ｙ
）を得だ。

／　ＩＲ（ヌジョール）：　　３２００．　１７６０．
　１６００（ブロード）。

１６２０、　１５８０ｃｍ　−１ ＨＭＲ（ＮａＨＣＯ２−＋−Ｄ２ｏ、Ｊ）：　　３．５
５（２Ｈ，ブロード　８）。

３、９５　（２’Ｈ，ブロード　ｓ）、　　４，６５（
２Ｈ，ｓ）、　　５．２５（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）、
　　６．８７（ＬＨ，’ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）。

７、０５（ＩＨ，ｓ　） 実施例１８ 実施例１５〜１゛７の方法に従って次の化合物を製造し
た。　　゛ ［）７−（２−ヒドロキシイミノ−２−フェニルアセト
アミド）−３−アミノメチル−３−セフェム−４−カル
ボン酸（シン異性体）、融点１９１℃（分解）。

ＩＲ（ヌジョール）：　３１５０．　１７６０．　１６
６０．　１６００ｃＩｎＮ’ＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６．δ
）　　：　　３．２３，３．７０（２Ｈ，ＡＢｑ。

Ｊ＝１３Ｈｚ）、　　３．５２（２Ｈ，ブロード　ｅ）
、４．９９（ＬＨ。

ｄ、Ｊ−５Ｈｚ）、５．７０（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝５Ｈｚ
、８Ｈｚ）。

７、４３　（５Ｈ＋　ｍ　）　、９．４７　（Ｌ　Ｈ２
ｃｌ＋　Ｊ＝ｓａ　ｚ　）ｆ２）　　７　　（２−エト
キシイミノ−２−フェニルアセトアミド）−３−アミノ
メチル−３−セフェム−４−カルボン酸（シン異性体）
、融点８５℃（分解）。

ＩＲ（ヌジョール）：　　３２００．　１７６０．　１
６７５．　１’６３０゜１５８５、　１５４０ｃｍ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６．δ）：　１．２８（３Ｈ，’
ｔ、　Ｊ＝７Ｈｚ）。

３．２３．３．６３（２Ｈ，ＡＢｑ、Ｊ＝１３Ｈｚ）、
　　３．５３（２Ｈ。

ＡＢｑ、Ｊ−１３Ｈｚ）、　　３．ｊ３（２Ｈ，’ブロ
ード　ｓ）。

４．１７（２Ｈ，ｑ、Ｊ＝７Ｈｚ）、　　５．０３（Ｉ
Ｈ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）。

５．７０（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ−５Ｈｚ、８Ｈｚ）、　　７
．４２（６Ｈ，ｍ）。

９、６０（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝８Ｈｚ　）＋３＋７−［２
−メトキシイミノ−２−（２−アミノチアゾール−４−
イル）アセトアミド］−３−アミツメ、チル−３−セフ
ェム−４−カルボン酸（シン異性体）。

工Ｒ（ヌジョール）：　　３１７０．　１７６５．　１
６６５．　１６１０゜１５３０砿−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６．δ）：　　３．５４（４Ｈ，
ブロード　８）。

３．８０（３Ｈ，ｓ）’、　　４．９５（ＩＨ，ｄ、Ｊ
＝５Ｈｚ）、　　５．６０（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝５Ｈｚ、
８Ｈｚ）、６．６７（ＬＨ，ｓ）。

９．４３（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ） ＋４＋７−［２−メトキシイミノ−２−（２−チェニル
）アセトアミド］−３−アミノメチル−３−セフェム−
４−カルボン酸（シン異性体）、融点１７３〜Ｉｇ１°
Ｃ（分解）。

’ＩＲ（ヌジョール）：　　３１５０．　１７６５．　
１６６０．　１６１０゜１５３０ｃｍ　’ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６．δ）：　３．５７（４Ｈ，ｍ
）、　　３．８５（３Ｈ。

ｓ）、’　５．０　（ＬＨ，ｄ、　Ｊ＝５Ｈ２）、　　
５．７０（ＬＨ，ｄｄ。

Ｊ＝５Ｈｚ、８Ｈｚ）、”７．００−７．２７’（２Ｈ
，ｍ）、　　７．５３（ＩＨ，ｄｄ、　Ｊ＝２Ｈｚ、　
５Ｈｚ）、’　９．６０（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝８Ｈｚ）＋
５＋　　７’−［２−メトキシイミノ−２−（２−フリ
、ル）アセトアミド〕−３−アミノメチル−３−セフェ
ム−４−カルボン酸（シン異性体）、融点１７９〜１８
９６Ｃ（分解）。

ＩＲ（ヌジョ−＃）：３１５０＋　　１７７０．　１６
６５．　１６００ｃ＋＋＋−１ＨＭＲ（ＤＭｓｏＬ−ａ
６．δ）：　３．！５７（４Ｈ，ｍ、）＋　３．８８２
３Ｈ，ｓ）。

５．０２（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝５Ｈｚ）、’　５．６５（
ＩＨ，’ｄｄ、　ＪＬ５Ｈｚ。

８Ｈｚ）、’　　６．１３７（２Ｈ，ｍ）、　　７．８
０（ＩＨ，ｍ）。

９、６３（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝８Ｈｚ、）出願人　　藤沢
薬品工業株式会社°゛

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、一般式 〔式中、Ｒは式 （式中、Ｘは水素原子またはハロゲン、Ｙｕ水素原子ま
   たはヒドロキシ基、Ｒｆｌアミノ基または保護されたア
   ミノ基全意味する） で示される基、Ｒは水素原子または適当な置換基を有し
   ていてもよい脂肪族炭化水素残基、Ｒ３はカルボキシ基
   または保護さ九た力Ｖポキシ基、Ｒはエチル基、シアノ
   メチル基、カルボキシメチル基、保護されたカルホキジ
   メチル基またはアミノメチル基をそ几ぞれ意味する〕で
   示される７−アシルアミノ−６−置換セフェム化合物お
   よびその塩類。 ２、Ｒが式 Ｃ式中−Ｘは水素原子またにハロゲン、Ｙは水素原子ま
   たはヒドロキシ基、Ｒ５はアミノ基またはアシフレアミ
   ノ基をそれぞれ意味する）で示さｎる基であり、Ｒ２が
   水素原子、低級アルキル基、カルボキシ（低級）アルキ
   ル基またに保護されたカルボキシ（低級）アルキル基で
   あり、Ｒがカルボキシ基またはエステル化されたカルボ
   キシ基で８９、Ｌ　がエチル基、シアノメチル基、カル
   ボキシメチル基、エステｌし化されたカルボキシメチル
   基またはアミノメチル基である特許請求の範囲第１項記
   載の化合物のシン異性体。 ３．　　Ｒが式 Ｃ式中、Ｒ５はアミノ基またはアシルアミノ基を意味す
   る） で示される基であり、Ｒが低級アルキル基、カルボキシ
   （低級）アルキル基またはエステル化されたカルボキシ
   （低級）アルキル基でりり、Ｒ４がエチル基である、特
   許請求の範囲第２項記載の化合物。 ４、Ｐｌが式 Ｃ式中、Ｒｉｄアミノ基または低級アルカノイルアミノ
   基を意味する） で示される基であり、Ｒ２が低級アルキル基、カルボキ
   シ（低級）アルキル基、または低級アルコキシカルボニ
   ル（低級）アルキル基である。 特許請求の範囲第６項記載の化合物。 ５、　７−（２−カルホキジメトキシイミノ−２−（２
   −アミノチアゾ−ｌシー４−イル）アセト７ミＦ、）−
   ３−エチル−６−セフェム−４−力ルボン酸Ｃシン異性
   体）、 ７−　（２−’カルボキシメトキシイミノー２−（２−
   アミノチアゾール−４−イル）アセトアミｌ”：）−３
   −エチル−ろ−セフエム−４−−−）ＪＪレボン酸ピバ
   ロイルオギシシンルエステＪＬ／　、（シン異性体）、
   および ７−（２−メトキシイミノ−２−フェニルアセトアミド
   ）−５−エチｔｖ−３−セフェムー４−カルボン酸（シ
   ン異性体）よりなる群から選は扛だ特許請求の範囲第４
   項記載の化合物。 ６、Ｆｌ　　が式 Ｃ式中、Ｘは、水素原子またはハロゲン、Ｒはアミノ基
   またにアシルアミノ基ｋ　意味Ｔる）で示される基であ
   り、Ｒがカルボキシ（低級）ア７レキル基またにエステ
   ル化されたカルボキシ（低級）アルキル基であり、Ｒが
   シアノメチル基である、特許請求の範囲第２項記載の化
   合物。 ７、　　Ｂ　　が式 （式中、Ｘは水素原子またはハロゲン、Ｒ５はアミノ基
   寸たは低級アルカノイルアミノ基を意味する） で示される基であり、Ｆ　がカルボキシ（低級）アｚ＋
   ｚＪ−ル基または低級アルコキシカルボニル（低級）ア
   ルキル基である、特許請求の範囲第６項記載の化合物。 ８．７−（２−力Ｖポキシメトキシイミノ−２−（２−
   アミノ−５−クロロチアゾール−４−イル）アセトアミ
   ドクー６−ジアツメチルー３−セフェム−４−カルボン
   酸（シン異性体）、および ７−（２−カルポギシメトキシイミノー２−（２−アミ
   ノチアゾール−４−イル）アセトアミｌ’）−３−シア
   ノメチル−６−セフェム−４−カルボン酸（シン異性体
   ）よりなる群から選ばれた特許請求の範囲第７項記載の
   化合物。 ９、　　Ｒが式 で示される基であり、Ｒ２が低級アルキル基でｈｖ、Ｒ
   ３がカルボキシ基であり、Ｒ４がカフＶボギシメチル基
   である、特許請求の範囲第２項記載の化合物。 １０、Ｒが式 で示される基である。特許請求の範囲第９項記載の化合
   物。 １１．　７−（２−メトキシイミノ−２−（２−アミノ
   チアゾール−４−イル）アセトアミドクーろ−カルボキ
   シメチル−６−セフェム−４−カルボン酸（シン異性体
   ）である特許請求の範囲第１０項記載の化合物。 １２、Ｒが式 Ｃ式中、Ｒはアミノ基またはアシルアミノ基を意味する
   ） で示される基であり、Ｒ２が低級アルキル基、カルボキ
   シ（低級）アルキル基またはエステル化されたカルボキ
   シ（低級）アルキル基であり、Ｒ４カニステル化された
   カルボキシメチル基である特許請求の範囲第２項記載の
   化合物。 Ｃ式中、Ｒはアミノ基または低級アルカノイルアミノ基
   全意味する） で示さ肛る基であり、Ｒ２が低級アルキル基、カルボキ
   シ（低級）アルキル基またに低級アルコキシカルボニル
   （低級）アルキル基であり、Ｒ４カ低級アルコギシ力ル
   ポニルメチル基である特許請求の範囲第１２項記載の化
   合物。 １４．７−〔２−カルボキシメトキシイミノ−２−（２
   ニアミノチアゾール−４−イル）アセトアミＦ　）　−
   ３−エトキシカルボニルメチル−６−セフェム−４−カ
   ルボン酸（シン異性体）である特許請求の範囲第１３項
   記載の化合物。 １５、Ｒが式 （式中、Ｙは水素原子またはヒドロキシ基を意味する） で示される基でｉ、Ｒが水素原子、低級アルキル基また
   はカルボキシ（低級）アルキル基であり、Ｒがカルポギ
   シ基であり、Ｒがアミノメチル基である特許請求の範囲
   第２項記載の化合物。 １６、Ｒが式 Ｃ式中、Ｙは水素原子またはヒドロキシ基を意味する） で示さｎる基である特許請求の範囲第１５項記載の化合
   物。 １７、７−（２−ヒドロキシイミノ−２−フェニルアセ
   トアミド）−５−アミノメチル−６−セフェム−４−カ
   ルボン酸（シン異性体）％７−（２−メトキシイミノ−
   ２−フェニルアセトアミド）−６−アミノメチル−６−
   セフェム−４−カルボン酸（シン異性体）、 ７−（２−エトキシイミノ−２−フェニルアセトアミド
   ）−５−アミノメチル−６−セフェム−４−力Ｎポン酸
   （シン異性体）、 ７−〔２−メトキシイミノ−２−（６−ヒドロキシフェ
   ニル〕アセトアミド）−３−アミノメチル−６−セフェ
   ム−４−カルホン酸（シン異性体）、 ７−（２−カルボキシメトキシイミノ−２−（２−アミ
   ノチアゾール−４−イル）ア都トアミＦ、１−３−アミ
   ノメチル−６−セフェム−４−カルボン酸（シン異性体
   ）、 ７−〔２−メトキシイミノ−２−（２−アミノチアゾー
   ル−４−イル）アセトアミドシー５−アミノメチル−６
   −セフェム−４−カルボン酸（シン異性体）、 ７−〔２−メトキシイミノ−２−−（２−チェニル）ア
   セトアミドクー６−アミノメチ１ｖ−６−セフェム−４
   −カルボン酸（シン異性体）、および ７−〔２−カルボキシメトキシイミノ−２−（２−アミ
   ノチアゾ−ｔｖ−４−イル）アセトアミＦ　）　−３−
   エチル−６−セフェム−４−カルボン酸ピシンイＶオキ
   シメチルエステル（シン異性体）よりなる群から選ばれ
   た特許請求の範囲第１６項記載の化合物。 １８、（１）　　一般式 Ｃ式中、Ｒ３にカルボキシ基またに保護されたカルボキ
   シ基、Ｒ４はエチル基、シアノメチｔｖ基、カルボキシ
   メチル基、保護されたカルボキシメチル基またはアミノ
   メチｙ基をそれぞれ意味する） で示される化合物もしくはそのアミノ基における反応性
   誘導体またはそれらの塩類に、一般式 ％式％ 〔式中、Ｒは式 水素原子またにヒドロキシ基、Ｒはアミノ基まｆｃは保
   護されたアミノ基ｔそれぞれ意味する） で示される基、Ｒ２は水素原子または適当な置換基を有
   していてもよい脂肪族炭化水素残基をそれぞれ意味する
   〕 で示される化合物編しくにそのカルボキシ基における反
   応性誘導体またはそれらの塩類を反応させて、一般式 Ｃ式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ前と同
   じ意味） で示される化合物またはその塩類を得るか。 または （２）一般式 Ｃ式中、Ｒａは保護されたアミノ基を意味し、Ｘ、Ｒ，
   ＲおよびＲＨそれぞれ前と同じ意味） で示される化合物またはその塩類を、アミノ保護基の脱
   離反応に付して、一般式 （式中、Ｘ、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４ばそれぞれ前と同じ
   意味） で示される化合物またはその塩類を得るか、または、 （３）一般式 （式中、′Ｂａに保護されたカルボキシ基を意味し、Ｒ
   １、Ｒ２およびＲばそれぞれ前と同じ意味） で示される化合物またはその塩類を、カルボキシ保護基
   の脱離反応に付して、一般式Ｃ式中、Ｒ１、Ｒ２および
   Ｒ４Ｉｔｓそれぞれ前と同じ意味） で示される化合物またはその塩類を得るか、または （４）一般式 （式中、Ｒ２は保護されたカルボキシ基で置換された脂
   肪族炭化水素残基を意味し、Ｒ１Ｒ３およびＲはそれぞ
   れ前と同じ意味）で示される化合物またはその塩類を、
   力ｐポキシ保護基の脱離反応に付して、一般式（式中、
   Ｒζはカルボキシ基で置換された脂肪族炭化水素残基を
   意味し、Ｒ，ＲおよびＲ４はそれぞれ前と同じ意味） で示される化合物またはその塩類を得るか、またけ （５）一般式 で示される化合物またはその塩類全還元して、一般式 （式中、Ｒ，ＲおよびＲＵそれぞれ前と同じ意味） で示される化合物またはその塩類を得ること全特徴とす
   る、一般式 Ｃ式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３オヨびＲ’　Ｉｄ−そＡぞＡ
   前と同じ意味） で示される化合物またばその塩類の製造法。 １９、一般式 〔式中、柚はカルボキシ（低級〕アルキル基または保護
   されたカルボキシ（低級）アＶキル基、Ｒ３ハカルボキ
   シ基または保護されたカルボキシ基、Ｒはアミノ基また
   は保護さｎたアミノ基をそれぞれ意味する〕 で示される化合物およびその塩類。 ２０、（１）　　一般式 Ｃ式中、Ｒはカルボキシ基または保護されたカルボキシ
   基を意味する） で示される化合物もしぐはそのアミノ基における反応性
   誘導体またはそれらの塩類に、一般式 〔式中、Ｒ２はカルボキシ（低級）アルキ、ル基または
   保護さｎたカルボキシ（低級）アルギル基、Ｒ５にアミ
   ノ基または保護されたアミノ基をそれぞｎ意味する〕 で示さ几る化合物もしくはそのカルボキシ基における反
   応性誘導体またはそｎらの塩類を反応させて、一般式 （式中、Ｒ８，Ｒ３およびＲ５はそれぞれ前と同じ意味
   ） で示される化合物またはその塩類を得るが、または （２）一般式 Ｃ式中、ＲＲは保護されたアミノ基を意味し、Ｒ２およ
   びＲ３はそれぞれ前と同じ意味）で示される化合物また
   はその塩類を、アミノ保護基の脱離反応に付して、一般
   式 Ｃ式中、Ｒ２およびＲばそ扛ぞれ前と同じ意味） で示される化合物またにその塩類を得るか、またば （３）一般式 〔式中、桶は保護されたカルボキシ（低級）アルキル基
   を意味し、Ｂ３およびＲ５はそれぞれ前と同じ意味〕 で示される化合物またにその塩類を、カルポギシ保護基
   の脱離反応に付して、一般式〔式中、Ｒ；はカルボキシ
   （低級〕アルキル基を意味し、Ｒ３およびＢ５はそれぞ
   れ前と同じ意味〕 で示される化合物またはその塩類を得ること全特徴とす
   る、一般式 （式中、Ｒ２Ｂ５およびＲ５はそれぞれ前とＣゝ 同じ意味） で示される化合物またはその塩類の製造法。 ２１、一般式 〔式中、Ｒは式 Ｃ式中、Ｘは水素原子ぼたはハロゲン、Ｙは水素原子１
   だはヒドロキシ基、Ｒ５はアミノ基または保護されたア
   ミノ基を意味する） で示される基、丘　は水素原子ぼたに適当な置換基ヲ有
   していてもよい脂肪族炭化水素残基、Ｒ３はカルホキシ
   基またに保護されたカルボギシ基、Ｒｕエチル基、シア
   ノメチル基、カルポギシメチル基、保護されたカルホギ
   シメチル基またはアミノメチル基をそれぞれ意味する〕
   で示される化合物またにその塩類を有効成分とする細菌
   感染症予防・治療剤。