JPS58101117A - Polyamide-imide resin composition and its manufacture - Google Patents

Polyamide-imide resin composition and its manufacture

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JPS58101117A
JPS58101117A JP56201083A JP20108381A JPS58101117A JP S58101117 A JPS58101117 A JP S58101117A JP 56201083 A JP56201083 A JP 56201083A JP 20108381 A JP20108381 A JP 20108381A JP S58101117 A JPS58101117 A JP S58101117A
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acid
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polyamide
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Abstract

PURPOSE:To obtain titled composition of outstanding heat resistance and solubility in organic solvents, by incorporating a masked polyisocyanate in a reaction product derived from a citric acid-contg. polycarboxylic acid and a diisocyanate followed by carrying out a reaction. CONSTITUTION:A masked polyisocyanate (e.g. a compound prepared by masking with a phenol an aromatic diisocyanate, its dimer etc.) is incorporated at <=140 deg.C in a product prepared by dissolving in a solvent (e.g. phenol) (A) a citric acid (pref. citric anhydride)-contg. polycarboxylic acid and/or its derivative[e.g. composed of 5mol% of citric acid and the rest of an aromatic tricarboxylic acid (derivative)]and (B) a diisocyanate and/or its derivative (e.g., 4,4'-diphenylmethane diisocyanate) and then carrying out, in the presence of a catalyst (e.g. lead monoxide), a reaction at 60-350 deg.C for ca, several tens hours followed by a reaction to obtain the objective composition. USE:For electrical insulating coatings, impregnating resins, laminates, films, adhesives, etc.

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は新規なポリアミドイミド樹脂組成物およびその
製造方法に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a novel polyamideimide resin composition and a method for producing the same.

電気機器に用いられる)有機絶縁材料としては絶縁電線
、塗料、フィルム、積層板、含浸樹脂、接着剤等の用途
に応じて、フェノール樹脂、ポリビニルホルマール樹脂
、ポリエステル樹脂、アルキッド樹脂、エポキシ樹脂、
ポリエステルイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド
樹脂等が汎用されている。
Organic insulating materials (used in electrical equipment) include phenol resins, polyvinyl formal resins, polyester resins, alkyd resins, epoxy resins,
Polyesterimide resin, polyamide resin, polyimide resin, etc. are commonly used.

近年、省資源、省エネルギーの必要性と周辺機器の小型
化、軽量化に伴ない電気機器自体の高性能、小型化が進
められているため、ポリアミドイミド樹脂、ポリイミド
樹脂等の耐熱性の優れた有機材料の重要性が増加してい
る。
In recent years, due to the need for resource and energy conservation and the miniaturization and weight reduction of peripheral equipment, the high performance and miniaturization of electrical equipment itself has been progressing. The importance of organic materials is increasing.

絶縁材料の分野においても、従来比較的実用的な耐熱性
、機械特性、電気特性、経済性のバランスがとれている
ため多用されていたポリエステル樹脂塗料に代って、近
年、より耐熱性の向上したポリエステルイミド、ポリア
ミドイミド、ポリイミド等のイミド基含有樹脂塗料の使
用が増加している。
In the field of insulating materials, polyester resin paints, which have traditionally been widely used due to their relatively practical balance of heat resistance, mechanical properties, electrical properties, and economic efficiency, have recently been replaced by paints with improved heat resistance. The use of imide group-containing resin coatings such as polyesterimide, polyamideimide, and polyimide is increasing.

イミド基含有樹脂の中ではポリアミドイミド樹脂が耐熱
性、機械特性、電気特性、化学特性のバランスが最もよ
くとれているものとして知られている。
Among imide group-containing resins, polyamide-imide resin is known to have the best balance of heat resistance, mechanical properties, electrical properties, and chemical properties.

しかし従来の芳香族ポリアミドイミド樹脂は、高価格な
N−メチル−2−ピロリドン、ジメチルアセトアミド等
の有機極性溶剤にしか溶解しないため、樹脂塗料の価格
が高くなる難点があった。
However, conventional aromatic polyamide-imide resins are only soluble in expensive organic polar solvents such as N-methyl-2-pyrrolidone and dimethylacetamide, which has the disadvantage of increasing the price of resin coatings.

更に有機極性溶剤は吸湿性が強いため、これを溶剤とし
た塗料は保管や使用時の管理が困難であるという難点も
有していた。
Furthermore, since organic polar solvents are highly hygroscopic, paints using them as solvents also have the disadvantage of being difficult to manage during storage and use.

このため絶縁塗料を用いる絶縁電線の分野では、耐熱性
を犠牲にしてフェノール、クレゾール、キンレノール等
の比較的安価なフェノール系溶剤に溶解するようにした
ポリエステルイミド樹脂塗料を使用した絶縁電線やポリ
エステル樹脂、ポリエステルイミド樹脂塗料を下層にポ
リアミドイミド樹脂塗料を上層に塗布焼付けた二重被覆
電線が主に使用されるようになってきたが、ポリアミド
イミド樹脂塗料を使用した絶縁電線はど各特性のバラン
スが取れていないため現在の電気機器の苛酷な要求を満
足するに至っていない。
For this reason, in the field of insulated wires that use insulating paint, there are insulated wires and polyester resins that use polyesterimide resin paints that are soluble in relatively inexpensive phenolic solvents such as phenol, cresol, and quinlenol, at the expense of heat resistance. , double-coated wires with polyester-imide resin paint on the bottom layer and polyamide-imide resin paint on the top layer and baked have come to be mainly used, but insulated wires using polyamide-imide resin paint have a good balance of characteristics. Because of this lack of quality, it has not been possible to meet the harsh demands of current electrical equipment.

そこで原材料に、アミノ酸、ラクタム等を使用すること
により一部脂肪族変性を行ない有機溶剤に対する溶解性
の優れたポリアミドイミド樹脂の提案が数多くなされて
いる(例えば特公昭56−17374、特公昭56−2
2330、特公昭56−34210 )。
Therefore, many proposals have been made for polyamide-imide resins that are partially aliphatic-modified and have excellent solubility in organic solvents by using amino acids, lactams, etc. as raw materials (for example, Japanese Patent Publication No. 56-17374, Japanese Patent Publication No. 56-17374, 2
2330, Special Publication No. 56-34210).

しかし、ラクタムを用いた場合のようにメチレン鎖が分
子内に導入される脂肪族変性を行なうと耐熱性、特に絶
縁電線としたときの耐熱軟化温度が芳香族ポリアミドイ
ミド樹脂と比較して劣るという難点な有していた。
However, when aliphatic modification is performed in which methylene chains are introduced into the molecule, as is the case with lactam, the heat resistance, especially the heat softening temperature when used as an insulated wire, is inferior to that of aromatic polyamide-imide resins. It had some drawbacks.

本発明者は溶解性に優れ、かつイミド成分を多く含んだ
ポリアミドイミド樹脂組成物を開発すべく鋭意研究をす
すめた結果、従来耐熱性樹脂の材料としては殆んど顧み
られなかったクエン蔽を多価カルボン酸成分の一部とし
て使用し、これをジイソシアネートと反応させることに
より、従来の芳香族ポリアミドイミド樹脂よりも耐熱性
に優れ、更に有機溶剤に対する溶解性も著るしく高めら
れたポリアミド樹脂組成物が得られることを見出し先に
提案した。
The present inventor conducted intensive research to develop a polyamide-imide resin composition that has excellent solubility and contains a large amount of imide components. A polyamide resin that is used as part of the polyhydric carboxylic acid component and reacted with diisocyanate, which has superior heat resistance than conventional aromatic polyamide-imide resins, and also has significantly improved solubility in organic solvents. It was proposed earlier that a composition could be obtained.

しかしながら先に一提案したポリアミドイミド樹脂は近
年の高線速、高能率的な焼付機を用いて絶縁電線を得よ
うとすると焼付作業中が比較的狭くなるという難点を有
していた。
However, the previously proposed polyamide-imide resin had the disadvantage that when attempting to obtain an insulated wire using a recent high-speed, high-efficiency baking machine, the baking process becomes relatively narrow.

すなわち、高線速で焼付けると絶縁塗膜の可撓性が悪く
なり、低線速になると生産効率が低下する一方、銅線表
面の酸化等により密着性が低下する等の姶点があった。
In other words, baking at high wire speeds deteriorates the flexibility of the insulating coating, while lower wire speeds reduce production efficiency, while oxidation of the copper wire surface reduces adhesion. Ta.

提案したポリアミドイミド樹脂組成物にマスクされたポ
リイソシアネート化合物を加えることにより、可撓性、
密着性が大巾に改善され、従って広い焼付作業中が得ら
れることを見出した。
By adding a masked polyisocyanate compound to the proposed polyamide-imide resin composition, flexibility,
It has been found that the adhesion is greatly improved and therefore a wide range of printing operations can be obtained.

また絶縁電線の耐熱性、特に耐熱軟化温度が大巾に向上
することも見出された。
It has also been found that the heat resistance of the insulated wire, particularly the heat softening temperature, is greatly improved.

本発明はかかる知見によりなされたもので、クエン酸を
含むポリカルボン酸および/又はその誘導体とジイソシ
アネートおよび/又はその誘導体との反応生成物にマス
クされたポリイソシアネート化合物を加えて成ることを
特徴とするポリアミドイミド樹脂組成物およびその製造
方法を提供しようとするものである。
The present invention was made based on this knowledge, and is characterized by adding a masked polyisocyanate compound to a reaction product of a polycarboxylic acid containing citric acid and/or a derivative thereof and a diisocyanate and/or a derivative thereof. The present invention aims to provide a polyamide-imide resin composition and a method for producing the same.

本発明に使用するクエン酸は結晶水を有するも−のでも
、有しないものでも使用可能であるが、ジイソシアネー
トおよび/又はその誘導体との反応が脱水を伴なう反応
であるので、反応−率の面から結晶水を有しない無水ク
エン酸を使用することが好ましい。
The citric acid used in the present invention can be used with or without water of crystallization, but since the reaction with diisocyanate and/or its derivatives involves dehydration, the reaction rate is low. From this point of view, it is preferable to use anhydrous citric acid that does not contain water of crystallization.

クエン酸以外のトリカルボン酸および/又はその誘導体
としては、例えば(1)、(II)で示される芳香族ト
リカルホン酸、芳香族トリカルボン酸エステル、芳香族
トリカルボン酸無水物等が単独又は2種以上混合して用
いられる。
Examples of tricarboxylic acids other than citric acid and/or derivatives thereof include aromatic tricarboxylic acids, aromatic tricarboxylic acid esters, aromatic tricarboxylic acid anhydrides, etc. shown in (1) and (II) alone or in combination of two or more. It is used as

一般的には、耐熱性、高い反応性、経済性等よりトリメ
リット酸無水物が好適である。
Generally, trimellitic anhydride is preferred due to its heat resistance, high reactivity, economical efficiency, etc.

無水クエン酸を含むトリカルボン酸および/又はその誘
導体と併用して用いられるテトラカルボン酸又はその誘
導体としては芳香族、脂環族又は脂肪族のものが使用可
能である。
Aromatic, alicyclic, or aliphatic tetracarboxylic acids or derivatives thereof can be used in combination with tricarboxylic acids and/or derivatives thereof including citric anhydride.

このようなテトラカルボン酸の例としては、ピロメリッ
ト酸、3.3’、4.4’−ベンゾフェノンテトラカル
ボン酸、ブタンテトラカルボン酸、3゜3’、 4 、
4’−ジフェニルテトラカルボン酸、2.2’。
Examples of such tetracarboxylic acids include pyromellitic acid, 3.3',4.4'-benzophenonetetracarboxylic acid, butanetetracarboxylic acid, 3°3',4,
4'-diphenyltetracarboxylic acid, 2.2'.

3.3′−ジフェニルテトラカルボン酸、ビンクロ(2
,2,2)−オクト−(7)−エン−2:3.5:6−
テトラカルボン酸、3 、3’、 4 、4’−ジフェ
ニルエーテルテトラカルホン酸、2.2’1313’ 
−ジフェニルエーテルテトラカルポン酸、1.4.5゜
8−ナフタレンテトラカルボン酸、2.3,6.7−ナ
フタレンテトラカルボン酸、1.2.5.6 −ナフタ
レンテトラカルボン酸、2.2−ビス−(3゜4−ジカ
ルボキシフェニル)スルホン、2.5 −ビス(3,4
−ジカルボキシフェニル)1,3.4−オキ夛ジアゾー
ル又はこれらの無水物、エステル化物等の誘導体があげ
られる。
3.3'-diphenyltetracarboxylic acid, Vinclo (2
,2,2)-oct-(7)-ene-2:3.5:6-
Tetracarboxylic acid, 3,3',4,4'-diphenyl ether tetracarphonic acid, 2.2'1313'
-diphenyl ethertetracarboxylic acid, 1.4.5゜8-naphthalenetetracarboxylic acid, 2.3,6.7-naphthalenetetracarboxylic acid, 1.2.5.6 -naphthalenetetracarboxylic acid, 2.2- Bis-(3゜4-dicarboxyphenyl)sulfone, 2.5-bis(3,4
-dicarboxyphenyl) 1,3,4-oxydiazole or derivatives thereof such as anhydrides and esters thereof.

これらの中でピロメリット酸無水物、3.3’、4゜4
′−ペンゾフェノンテトヲカルボン酸無水物、プタンテ
トラカルボン酸、3 、3’、 4 、4’−ジフェニ
ルテトラカルボン酸無水物が耐熱性、溶解性、経済性に
優れており本発明に好適している。
Among these, pyromellitic anhydride, 3.3', 4゜4
'-Penzophenonetethocarboxylic anhydride, butanetetracarboxylic acid, and 3,3',4,4'-diphenyltetracarboxylic anhydride have excellent heat resistance, solubility, and economic efficiency and are suitable for the present invention. ing.

また無水クエン酸を含むトリカルボン酸および/又はそ
の誘導体と併用して用いられるジカルボン酸および/又
はその誘導体の例としては、テレフタル酸、イソフタル
酸、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジ
ピン酸、ピメリン酸、スペリン酸、アゼライン酸等の芳
香族又は脂肪族の二塩基酸又はこれらのエステル化物等
の誘導体があげられる。
Examples of dicarboxylic acids and/or derivatives thereof that can be used in combination with tricarboxylic acids and/or derivatives thereof including citric anhydride include terephthalic acid, isophthalic acid, oxalic acid, malonic acid, succinic acid, glutaric acid, and adipine. Examples include aromatic or aliphatic dibasic acids such as pimelic acid, speric acid, and azelaic acid, and derivatives such as esterified products thereof.

有機溶剤に対する溶解性と耐熱性のバランスより、トリ
カルボン酸および/又はその誘導体中に占めるクエン酸
の比率は5モル%以上であることが望ましく、かつイミ
ド結合比率を高め特に耐熱性を上げたい場合には10モ
ル%〜90モル%のクエン酸を含むトリカルボン酸およ
び/又はその誘導体と90モル%〜10モル%のテトラ
カルボン酸および/又はその誘導体であることが望まし
い。
In view of the balance between solubility in organic solvents and heat resistance, it is desirable that the ratio of citric acid in tricarboxylic acid and/or its derivatives be 5 mol% or more, and when it is desired to increase the imide bond ratio and particularly increase heat resistance. It is desirable to use 10 mol% to 90 mol% of tricarboxylic acid and/or its derivatives containing citric acid and 90 mol% to 10 mol% of tetracarboxylic acid and/or its derivatives.

一方耐熱性を維持しつつ絶縁電線の皮膜の可撓性や密着
性等の機械的特性を上げたい場合には、テトラカルボン
酸および/又はその誘導体に代り90モル%〜10モル
%のジカルボン酸を使用することが望ましい。
On the other hand, if you want to improve the mechanical properties such as flexibility and adhesion of the insulated wire coating while maintaining heat resistance, use 90 mol% to 10 mol% of dicarboxylic acid instead of tetracarboxylic acid and/or its derivatives. It is preferable to use

クエン酸がトリカルボン酸および/又はその誘導体中で
5モル%未満であったり、トリカルボン酸および/又は
その誘導体が酸成分中の10モル%未満であったりする
とポリアミドイミド樹脂組成物の有機溶剤、特にフェノ
ール系溶剤に対する溶解性が低下し、実用的な樹脂組成
物を得るのが困難となる1、 また、テトラカルボン酸および/又はその誘導体が酸成
分中の10モル%未満であるとイミド成分が少なくなり
、ポリアミドイミド樹脂組成物の耐熱性が低下するよう
になる。
If citric acid is less than 5 mol% in tricarboxylic acid and/or its derivative, or tricarboxylic acid and/or its derivative is less than 10 mol% in the acid component, the organic solvent of the polyamide-imide resin composition, especially The solubility in phenolic solvents decreases, making it difficult to obtain a practical resin composition1.Also, if the tetracarboxylic acid and/or its derivative is less than 10 mol% in the acid component, the imide component As a result, the heat resistance of the polyamide-imide resin composition decreases.

一方ジカルボン酸および/又はその誘導体が酸成分中の
10モル%未満であるとアミド成分が少なくなり、機械
的特性が低下するようになる。
On the other hand, if the dicarboxylic acid and/or its derivative is less than 10 mol % in the acid component, the amide component will be small and the mechanical properties will be deteriorated.

本発明に使用するジイソシアネートおよび/又はその誘
導体としては、脂肪族、脂環族、芳香族いずれのジイソ
シアネートおよび/又はその誘導体でも使用可能である
As the diisocyanate and/or its derivative used in the present invention, any aliphatic, alicyclic, or aromatic diisocyanate and/or its derivative can be used.

このようなジイソシアネートの例としては、エチレンジ
イソシアネート、トリメチレンジイソシアネート、テト
ラメチレンジイソシアネート、ペンタメチレンジイソシ
アネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ヘプタメ
チレンジイソシアネート、オクタメテレンジイソンアネ
ート、ノナメチレンジイソシアネート、デカメテレンジ
イソンアネート、トリメチルへキサメチレンジイソシア
ネート、モルフォリンジイソシアネート、シクロヘキサ
ンジイソシアネート、3.9−ビス(3−イソシアン酸
プロピル)−2,4,8,10−テトラオキサスピロ(
5,5)ウンデカン等の脂肪族、脂環族ジイソシアネー
ト類、4.4’−ジフェニルメタンジイソシアネート、
4.4’−ジフェニルエーテルジイソシアネー)、4.
4’−ジフェニルプロパンジイソシアネート、4.4’
−ジフェニルスルホンジイソシアネート、3.3’−ジ
フェニルスルホンジイソシアネート、4,4′−ジフェ
ニルスルフイツトジイソシアネート、3.3′−ジメチ
ル−4,4′−ジフェニルメタンジイソシアネート、3
゜3′−ジクロロ−4,4′−ジフェニルメタンジイソ
シアネート、3.3′−ジメチル−4,4′−ビスフェ
ニルジイソシアネート、3.3’−ジメトキシ−4,4
′−とスフェニルジイソシアネート、4,4′−ビスフ
エニルジイソシアネート、m−フェニレンジイソシアネ
ート、p−フェニレンジイソシアネート、2.4− ト
リレンジイソシアネート、2゜6−トリレンジイソシア
ネート、m−キシレンジイソシアネート、p−キシリレ
ンジイソシアネート等の芳香族ジイソシアネート類があ
り、これらは単独又は2種以上混合して使用できる。
Examples of such diisocyanates include ethylene diisocyanate, trimethylene diisocyanate, tetramethylene diisocyanate, pentamethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, heptamethylene diisocyanate, octamethylene diisonanate, nonamethylene diisocyanate, decamethylene diisonanate, Trimethylhexamethylene diisocyanate, morpholine diisocyanate, cyclohexane diisocyanate, 3,9-bis(3-propyl isocyanate)-2,4,8,10-tetraoxaspiro(
5,5) Aliphatic and alicyclic diisocyanates such as undecane, 4,4'-diphenylmethane diisocyanate,
4.4'-diphenyl ether diisocyanate), 4.
4'-diphenylpropane diisocyanate, 4.4'
-diphenylsulfone diisocyanate, 3,3'-diphenylsulfone diisocyanate, 4,4'-diphenylsulfite diisocyanate, 3,3'-dimethyl-4,4'-diphenylmethane diisocyanate, 3
゜3'-dichloro-4,4'-diphenylmethane diisocyanate, 3,3'-dimethyl-4,4'-bisphenyl diisocyanate, 3,3'-dimethoxy-4,4
'- and sphenyl diisocyanate, 4,4'-bisphenyl diisocyanate, m-phenylene diisocyanate, p-phenylene diisocyanate, 2.4-tolylene diisocyanate, 2゜6-tolylene diisocyanate, m-xylene diisocyanate, p- There are aromatic diisocyanates such as xylylene diisocyanate, which can be used alone or in a mixture of two or more.

またジイソシアネートのイソシアネート基をフェノール
、クレゾール、キシレノール等のフェノール類でマスク
したジイソシアネート誘導体も使用可能である。
Also usable are diisocyanate derivatives in which the isocyanate groups of diisocyanate are masked with phenols such as phenol, cresol, and xylenol.

なお、必要に応じてジイソシアネートおよび/7又はそ
の誘導体の一部を、4.4’、4’−)リイソシアネー
ト−トリフェニルメタン、2.2’、5.5’ −テト
ライランアネート−4,4′−ジメチルジフエニルメタ
ン等の3価以上のポリイソシアネートで置換えることも
できる。
Note that, if necessary, part of the diisocyanate and /7 or its derivatives may be replaced with 4.4',4'-)liisocyanate-triphenylmethane, 2.2',5.5'-tetrylananate-4 , 4'-dimethyldiphenylmethane and the like can also be substituted with trivalent or higher polyisocyanates.

これらのイソシアネート化合物の中で得られるポリアミ
ドイミド樹脂の耐熱性、絶縁皮膜の機械特性および経済
性の点から4,4′−ジフェニルメタンジイソシアネー
ト、2.4− )リレンジイソシアネート、2.6− 
)リレンジイソシアネート、m−キシリレンジイソンア
ネート、p−キシリレンジイソシアネー)、4.4’−
ジフェニルエーテルジイソシアネート等の単独又は2種
以上を混合して使用することが特に好ましい。
Among these isocyanate compounds, 4,4'-diphenylmethane diisocyanate, 2.4-) lylene diisocyanate, 2.6-
) lylene diisocyanate, m-xylylene diisocyanate, p-xylylene diisocyanate), 4.4'-
It is particularly preferable to use diphenyl ether diisocyanate or the like alone or in combination of two or more.

クエン酸を含むポリカルボン酸および/又はその誘導体
とジイソシアネートおよび/又はその誘導体との反応に
おける温度および時間は、出発原料、溶液反応が無溶剤
反応かの反応形態によっても異なるが一般的には反応温
度は60〜350℃、反応時間は数時間から数10時間
が適当である。
The temperature and time for the reaction of polycarboxylic acids containing citric acid and/or their derivatives with diisocyanates and/or their derivatives vary depending on the starting materials and the type of reaction, such as whether the solution reaction is a solventless reaction or not, but in general, the reaction time is The temperature is suitably 60 to 350°C, and the reaction time is suitably several hours to several tens of hours.

溶液反応における反応温度および時間は用いる溶剤、出
発原料仕込時の固型分、触媒の有無等多くの要因によっ
て影響を受けるが、カルボン酸又はその誘導体とジイソ
シアネートとの脱炭酸反応が約70℃付近より始まり、
またこの反応で一般的に用いられる溶剤の沸点範囲より
考慮して、好ましい反応温度範囲は70〜250℃であ
る。
The reaction temperature and time in a solution reaction are affected by many factors such as the solvent used, the solid content when charging the starting materials, and the presence or absence of a catalyst, but the decarboxylation reaction between a carboxylic acid or its derivative and a diisocyanate is approximately 70°C. Starting from
Further, in consideration of the boiling point range of the solvent generally used in this reaction, the preferable reaction temperature range is 70 to 250°C.

反応時間は極端に長くなるとインシアネート基と溶剤、
イソシアネート基どうしの反応等の副反応を起すため好
ましくなく、数時間から30時間が好適である。
If the reaction time is extremely long, the incyanate group and the solvent,
Since side reactions such as reactions between isocyanate groups occur, this is not preferable, and a period of several hours to 30 hours is preferable.

本発明における反応は無溶剤で行なうことも可能であり
、その場合は一般に溶剤反応よりも低い温度、短かい時
間で反応させることができる。
The reaction in the present invention can also be carried out without a solvent, and in that case, the reaction can generally be carried out at a lower temperature and in a shorter time than in a solvent reaction.

しかし希望とする高血合体の得られ易さおよび得られる
樹脂組成物の使用形態より考慮して溶液反応がより好ま
しい。
However, solution reaction is more preferred in view of the ease with which the desired high blood concentration can be obtained and the manner in which the resulting resin composition is used.

溶液反応に用いられる溶剤としては、本発明の樹脂組成
物が溶解性に優れているため多くの有機溶剤を用いるこ
とができる。
As the solvent used in the solution reaction, many organic solvents can be used since the resin composition of the present invention has excellent solubility.

適当な溶剤の例としては、フェノール、0−クレゾール
、m−クレゾール、p−クレゾール、各種のキシレノー
ル類、各種のクロルフェノール類、ニトロベンゼン、N
−メチル−2−ピロリドン、N 、 N’−ジメチルホ
ルムアミド、N、N’−ジメチルアセトアミド、ヘキサ
メチルホスホルアミド、ジメチルスルホオキサイド等が
あり、これらと併用できる溶剤としてはベンゼン、トル
エン、+Vレン、高沸点の芳香族炭化水素類(例えば丸
善石油製スワゾール$1000、クレゾール# 150
0  、日本石油製、日石へイゾール100.1石ハイ
ゾール150等)、モノメチルエーテルアセテート、ジ
エチレングリコールモノプテルエーテル、エチレングリ
コール七ノフi′ニルエーテル等がある。
Examples of suitable solvents include phenol, O-cresol, m-cresol, p-cresol, various xylenols, various chlorophenols, nitrobenzene, N
-Methyl-2-pyrrolidone, N,N'-dimethylformamide, N,N'-dimethylacetamide, hexamethylphosphoramide, dimethylsulfoxide, etc., and solvents that can be used in combination with these include benzene, toluene, +V-lene, High boiling point aromatic hydrocarbons (e.g. Maruzen Sekiyu Swasol $1000, Cresol #150
0, Nippon Oil Co., Ltd., Nisseki Heizol 100.1 stone Hysol 150, etc.), monomethyl ether acetate, diethylene glycol monopterether, ethylene glycol 7ofynyl ether, etc.

特に好ましい溶剤組成は、得られる樹脂溶液の安定性、
経済性等からフェノール、クレゾール、キシレノール等
のフェノール系溶剤と高沸点の芳香1族炭化水素系溶剤
の混合である。
Particularly preferable solvent compositions are based on the stability of the resulting resin solution,
For economical reasons, it is a mixture of a phenolic solvent such as phenol, cresol, xylenol, etc. and a high boiling point aromatic Group 1 hydrocarbon solvent.

反応時の固型分濃度は特に制限がなく無溶剤でも合成で
きる。
There is no particular restriction on the solid content concentration during the reaction, and the synthesis can be performed without a solvent.

しかし高重合体を得るためには少なくとも35%以上の
濃度が副反応を防ぐため好ましい。
However, in order to obtain a high polymer, a concentration of at least 35% is preferred to prevent side reactions.

本発明の反応はこの種の反応に通常用いられる触媒によ
って促進することができる。
The reaction of the invention can be promoted by catalysts commonly used for reactions of this type.

適当な触媒の例としては一酸化鉛、ホウ酸、ナフテン酸
鉛、ナフテン酸亜鉛等のナフテン酸の金属塩、リン酸、
ポリリン酸、テトラブチルチタネート、トリエタノール
アミンチタネート等の有機チタン化合物、トリエチルア
ミン、1.8−ジアザ−ビシクロ(5・4・0)ウンデ
セン−7(この酸付加物を含む)等がある。
Examples of suitable catalysts include lead monoxide, boric acid, metal salts of naphthenic acids such as lead naphthenate, zinc naphthenate, phosphoric acid,
Examples include polyphosphoric acid, organic titanium compounds such as tetrabutyl titanate and triethanolamine titanate, triethylamine, and 1,8-diaza-bicyclo(5.4.0) undecene-7 (including this acid adduct).

好適な使用量は仕込時の固型分当り0.01〜5%であ
り、添加方法は特に制限はない。
A suitable amount to be used is 0.01 to 5% based on the solid content at the time of preparation, and there are no particular restrictions on the method of addition.

クエン酸を含むポリカルボン酸および/又はその誘導体
とジイソシアネートおよび/又はその誘導体の使用モル
比はほぼに1が好ましい。
The molar ratio of the polycarboxylic acid containing citric acid and/or its derivative to the diisocyanate and/or its derivative is preferably approximately 1.

しかしどちらか一方の10モル%以下位の過剰は許容さ
れる範囲である。
However, an excess of about 10 mol % or less of either one is within an acceptable range.

クエン酸を含むポリカルボン酸および/又はその誘導体
とジイソシアネートおよび/又はその誘導体は反応開始
より同時に仕込んでも良く、また一方を溶解させておき
、他方を一時に、または数回に分けて仕込むこともでき
、特に仕込方法において制限はない。
The polycarboxylic acid containing citric acid and/or its derivative and the diisocyanate and/or its derivative may be charged simultaneously from the start of the reaction, or one may be dissolved and the other may be charged at once or in several batches. Yes, there are no particular restrictions on the preparation method.

反応は発生する炭酸ガスの発泡および反応水の濡出程度
、さらには溶液の粘度の観察で制御できる。
The reaction can be controlled by observing the bubbling of generated carbon dioxide, the degree of wetting of reaction water, and the viscosity of the solution.

以上の反応で得られたクエン酸を含むポリカルボン酸お
よび/又はその誘導体とジイソシアネートおよ゛び/又
はその誘導体との反応生成物に加えることができるマス
クされたポリイソシアネートは、前記ジイソシアネート
、およびそれらの二量体、二量体、又は4 、4’、 
4’−トリイソシアネート−トリフェニルメタン、2 
、2’、 5 、5’−テトライソシアネート−4,4
′−ジメチルジフェニルメタン等のポリイソシアネート
とフェノール類、脂肪族又は脂環族モノアルコール類と
の反応により得られる。
The masked polyisocyanate that can be added to the reaction product of the polycarboxylic acid containing citric acid and/or its derivative obtained in the above reaction and the diisocyanate and/or its derivative is the diisocyanate and/or its derivative. their dimers, dimers, or 4,4',
4'-triisocyanate-triphenylmethane, 2
, 2', 5, 5'-tetraisocyanate-4,4
It is obtained by the reaction of polyisocyanate such as '-dimethyldiphenylmethane with phenols, aliphatic or alicyclic monoalcohols.

また当量比で過剰量のポリイソシアネートとポリオール
な反応させて得られた化合物をフェノール類でマスクし
た化合物(例えばバイエル社製商品名APステーブル等
)等も使用できる。
It is also possible to use a compound obtained by reacting a polyol in an excess amount of polyisocyanate in an equivalent ratio and masking the compound with a phenol (for example, AP Stable (trade name, manufactured by Bayer), etc.).

マスクされたポリイソシアネート類のなかで耐熱性、塗
膜形成時のマスク体の解離の容易さなどの点から、芳香
族ジイソシアネート、およびこれらの二量体、二量体の
芳香族ポリイソシアネートをフェノール、クレゾール、
キシレノール等のフェノール系化合物でマスクした化合
物が特に好ましい。
Among masked polyisocyanates, aromatic diisocyanates, their dimers, and dimer aromatic polyisocyanates are preferred from the viewpoint of heat resistance and ease of dissociation of the mask body during coating film formation. , cresol,
Compounds masked with phenolic compounds such as xylenol are particularly preferred.

これらのマスクされた芳香族ポリイソシアネートは、ポ
リイソシアネートとインシアネート基1個当り1モル以
上のフェノール系化合物を160〜250℃で10数分
〜数時間反応させることにより容易に得ることができる
These masked aromatic polyisocyanates can be easily obtained by reacting a polyisocyanate with a phenol compound in an amount of 1 mole or more per inocyanate group at 160 to 250°C for several minutes to several hours.

ポリアミドイミド樹脂溶液にマスクされた芳香族ポリイ
ソシアネートを加える時の温度は特に制限はないが、2
00℃付近で加え長い時間攪拌を続けると樹脂溶液が不
透明となり、沈澱を生ずることがあるので加える温度は
140℃以下が好ましい。
There is no particular restriction on the temperature when adding the masked aromatic polyisocyanate to the polyamide-imide resin solution, but
If the resin solution is added at around 00°C and stirred for a long time, the resin solution may become opaque and precipitate may occur, so the addition temperature is preferably 140°C or lower.

また加える量はポリアミドイミド樹脂溶液の樹脂分10
0重量部に対しマスクされる以前のポリイソシアネート
に換算して5〜150重量部が好ましい。
The amount added is 10% of the resin content of the polyamideimide resin solution.
It is preferably 5 to 150 parts by weight in terms of polyisocyanate before being masked relative to 0 parts by weight.

5重量部未満では絶縁電線の可撓性、密着性が改善され
ず、また熱軟化温度も上昇しない。
If it is less than 5 parts by weight, the flexibility and adhesion of the insulated wire will not be improved, and the thermal softening temperature will not increase.

一方150重量部を越えると外観が悪くなると同時に耐
摩耗性が低下する。
On the other hand, if it exceeds 150 parts by weight, the appearance deteriorates and at the same time wear resistance decreases.

フェノール類でマスクされた芳香族ジイソシアネートの
場合、加える量は8〜120重量部が特に好適である。
In the case of aromatic diisocyanates masked with phenols, the amount added is particularly preferably from 8 to 120 parts by weight.

本発明の樹脂組成物はポリエステル樹脂、フェノール樹
脂、エボキン樹脂等を更ζ二加え、変性ポリアミドイミ
ド樹脂とすることもできる。
The resin composition of the present invention can also be made into a modified polyamide-imide resin by adding polyester resin, phenol resin, evoquin resin, etc.

本発明は、クエン酸を含むポリカルボン酸および/又は
その誘導体の使用によりフェノール系溶剤にも極めて優
れた溶解性を示し、かつ従来の有機極性溶剤のみにしか
溶解しなかつた芳香族ポリアミドイミド樹脂よりも耐熱
性C;優れているため、絶縁塗料、含浸樹脂、積層板、
フィルム、接着剤等の電気絶縁材料の用途はもちろん、
耐熱塗料、繊維又は成型樹脂の分野にも応用でき実用上
極めて有用である。
The present invention is an aromatic polyamideimide resin that exhibits extremely excellent solubility even in phenolic solvents by using polycarboxylic acids containing citric acid and/or derivatives thereof, and is soluble only in conventional organic polar solvents. Heat resistance C; superior to insulation paints, impregnated resins, laminates,
Not only can it be used for electrical insulation materials such as films and adhesives, but also
It can also be applied to the fields of heat-resistant paints, fibers, and molded resins, making it extremely useful in practice.

以下実施例により本発明を説明する。The present invention will be explained below with reference to Examples.

(I)(マスクされた4、4′−ジフェニルメタンジイ
ソシアネートの合成) 4.4′−ジフェニルメタンジイソシアネート50g m−クレゾール          250 g上記成
分を温度計、攪拌器、冷却管、窒素導入管のついたIJ
4ツロフラスコに入れ窒素気流中で200℃で30分間
加熱攪拌した。
(I) (Synthesis of masked 4,4'-diphenylmethane diisocyanate) 4. 50 g of 4'-diphenylmethane diisocyanate 250 g of m-cresol The above ingredients were added to an IJ equipped with a thermometer, stirrer, cooling tube, and nitrogen introduction tube.
The mixture was placed in a 4-tube flask and heated and stirred at 200° C. for 30 minutes in a nitrogen stream.

内容物の一部を取出し赤外線吸収スペクトルを調べたと
ころ2260 m−’  の遊離のイソシアネートの吸
収が消え、マスクされた4、4′−ジフェニルメタンジ
イソシアネートの生成が認められた。
When a part of the contents was taken out and examined for infrared absorption spectrum, the absorption of free isocyanate at 2260 m-' disappeared, and the formation of masked 4,4'-diphenylmethane diisocyanate was observed.

(6)(マスクされたトリレンジイソシアネートの合成
) トリレンジイソシアネート    1749m−クレゾ
ール          261g上記成分を温度計、
攪拌器、冷却管、窒素導入管のついた114ツロフラス
コ(二人れ窒素気流中で200℃で1時間加熱攪拌した
(6) (Synthesis of masked tolylene diisocyanate) Tolylene diisocyanate 1749m-cresol 261g The above ingredients were measured using a thermometer.
A 114-meter flask equipped with a stirrer, a cooling tube, and a nitrogen inlet tube (two people heated and stirred at 200° C. for 1 hour in a nitrogen stream).

内容物の一部を取出し赤外線吸収スペクトルを調べたと
ころ22600に−”  の遊離のイソシアネートの吸
収が消え、マスクされたトリレンジイソシアネートの生
成が認められた。
When a part of the contents was taken out and the infrared absorption spectrum was examined, the absorption of free isocyanate at 22,600 nm disappeared, and the formation of masked tolylene diisocyanate was observed.

実施例1 温度針、攪拌器、冷却管をっけた314ツロフラスコに
無水クエン酸19.29 (0,1モル)、トリメリッ
ト酸無水物172.8 fl (0,9モル)、4.4
’−ジフェニルメタンジイソシアネート250.3 、
p(1,0モル)、m−クレゾール400gを仕込み窒
素気流中で約1時間かけて200℃に昇温した。
Example 1 In a 314 Tulo flask equipped with a temperature needle, a stirrer, and a cooling tube, 19.29 fl (0.1 mol) of citric acid anhydride, 172.8 fl (0.9 mol) of trimellitic anhydride, and 4.4
'-diphenylmethane diisocyanate 250.3,
P (1.0 mol) and 400 g of m-cresol were charged and the temperature was raised to 200° C. over about 1 hour in a nitrogen stream.

70℃付近より著るしい発泡が、160℃付近より僅か
な濡出水がみられた。
Significant foaming was observed at around 70°C, and slight wetting was observed at around 160°C.

クレゾールの還流温度(200−210℃)で少量のク
レゾールを濡出させながら22時間反応を続けた。
The reaction was continued for 22 hours while wetting out a small amount of cresol at the reflux temperature of cresol (200-210°C).

反応中樹脂溶液は透明であった。The resin solution was clear during the reaction.

また余滴出クレゾールは100gであった。Further, the amount of cresol dripped out was 100 g.

次にm−クレゾール8509を加え充分攪拌して不揮発
分(200℃X 1.5 H) 23.3%、粘度(2
5℃)55ボイズの赤褐色透明な樹脂溶液を得た。
Next, m-cresol 8509 was added and thoroughly stirred to obtain a solution with a nonvolatile content (200°C x 1.5 H) of 23.3% and a viscosity (2
A reddish-brown transparent resin solution with 55 voids (5°C) was obtained.

この樹脂溶液ioo gに(1)で得られたマスク体Z
3.3g(ジイソシアネート換算50電歇部)とm−ク
レゾール25 gを加え70℃で30分間攪拌した。
Add the mask body Z obtained in (1) to this resin solution ioo g.
3.3 g (50 electric parts in terms of diisocyanate) and 25 g of m-cresol were added and stirred at 70°C for 30 minutes.

得られた樹脂溶液を0.11111厚さの銅板−ヒに2
00℃で20分、250℃で30分間焼付けて得られた
塗膜は充分な可撓性を有し、その赤外線吸収スペクトル
には1780 (m””  Eイミド基、1650 (
m ’  1: 7ミド基の吸収と共に22601−1
 に僅かなイソシアネート基の吸収が各々認められた。
The resulting resin solution was placed on a 0.11111-thick copper plate.
The coating film obtained by baking at 00°C for 20 minutes and 250°C for 30 minutes has sufficient flexibility, and its infrared absorption spectrum contains 1780 (m"" E imide group, 1650 (
m'1: 22601-1 with absorption of 7 mido groups
A slight absorption of isocyanate groups was observed in each case.

また得られた樹脂溶液を1.OM$の軟銅線上に塗布焼
付けたところ高線速でも充分な可撓性を示した。
In addition, the obtained resin solution was added to 1. When coated and baked on OM$ annealed copper wire, it showed sufficient flexibility even at high wire speeds.

その特性を第1表に示す。Its characteristics are shown in Table 1.

実施例2 温度計、攪拌器、冷却管、窒素導入管をつけた314ツ
ロフラスコに無水クエン酸38.49 (0,2モル)
、トリメリット酸無水物153.7 、F (0,8モ
ル)、4.4′−ジフェニルメタンジイソシアネート2
50.3 fj (1,0モル)、m−クレゾール40
0 gを仕込み窒素気流中で約1時間かけて200℃に
昇温した。
Example 2 Anhydrous citric acid 38.49 (0.2 mol) was placed in a 314 Tulo flask equipped with a thermometer, stirrer, cooling tube, and nitrogen inlet tube.
, trimellitic anhydride 153.7, F (0.8 mol), 4,4'-diphenylmethane diisocyanate 2
50.3 fj (1,0 mol), m-cresol 40
0 g was charged and the temperature was raised to 200°C over about 1 hour in a nitrogen stream.

70℃付近より著るしい発泡が、160℃付近より濡出
水がみられた。
Significant foaming was observed from around 70°C, and wetting water was observed from around 160°C.

200℃で15時間反応を続けた。The reaction was continued at 200°C for 15 hours.

反応中樹脂溶液は透明であった。The resin solution was clear during the reaction.

次いでクレゾール350g、ソルベントナフサ(丸善石
油特スワゾール$ 1000 ) 330 gを加え充
分攪拌して不揮発分(200℃X 1.5 H’) 2
8.0%、粘度(25℃)81ボイズの赤褐色透明な樹
脂溶液を得た。
Next, 350 g of cresol and 330 g of solvent naphtha (Maruzen Sekiyu Tokuswasol $1000) were added and thoroughly stirred to remove the non-volatile content (200°C x 1.5 H').
A reddish-brown transparent resin solution with a viscosity (25° C.) of 8.0% and 81 voids was obtained.

この樹脂溶液100 gに(I)で得られたマスク体4
4g(ジイソンアネート換算78.6部)とm−クレゾ
ール45 gを加え70℃で30分間攪拌した。
Mask body 4 obtained in (I) was added to 100 g of this resin solution.
4 g (78.6 parts in terms of diisonanate) and 45 g of m-cresol were added and stirred at 70°C for 30 minutes.

得られた本合体溶液を0.111厚さの銅板上に200
℃で20分、250℃で30分間焼付けて得られた塗膜
は充分な可撓性を有し、その赤外線吸収スペクトルニは
178Q Cm−’  にイミド基、1650 tx−
’にアミド基の吸収と共に2260 cm  に僅かな
イソシアネート基の吸収が各々認められた。
The resulting combined solution was placed on a copper plate with a thickness of 200 mm.
The coating film obtained by baking for 20 minutes at ℃ and 30 minutes at 250℃ has sufficient flexibility, and its infrared absorption spectrum shows an imide group at 178Q Cm-' and an imide group at 1650 tx-
In addition to the absorption of amide groups at ', a slight absorption of isocyanate groups was observed at 2260 cm.

また得られた樹脂溶液を1.01EIIダの銅線上に塗
布焼付けたところ高線速でも充分な可撓性を示した。
When the obtained resin solution was coated and baked on a copper wire of 1.01 EII da, it showed sufficient flexibility even at high wire speeds.

その特性は第1表に示す通りであった。Its characteristics were as shown in Table 1.

実施例3〜6 実施例1で得られたマスク体を加える前の樹脂溶液を用
いポリイソシアネートのマスク体の配合量と種類を変え
て樹脂溶液を得た。
Examples 3 to 6 Using the resin solution obtained in Example 1 before adding the mask body, resin solutions were obtained by changing the blending amount and type of the polyisocyanate mask body.

その結果を第2表に示す。The results are shown in Table 2.

また実施例1と同様にして得られた絶縁電線の特性は第
1表に示す通り・であった。
Further, the characteristics of the insulated wire obtained in the same manner as in Example 1 were as shown in Table 1.

実施例7 温度針、攪拌器、冷却管、窒素導入管をつけた314ツ
ロフラスコに無水クエン酸48.Ofl (0,25モ
ル)、トリメリット酸無水物48.0 g(0,25モ
ル)、3.3’、4.4’−ベンゾフェノンテトラカル
ボン酸無水物161.5 II(0,5モル)、4.4
′−ジフェニルメタンジイソシアネート250.3 #
 (1,0モル)、m−クレゾール400 f/を仕込
み窒素気流中で約1時間かけて200℃に昇温した。
Example 7 Anhydrous citric acid was added at 48 ml to a 314 Turow flask equipped with a temperature needle, stirrer, cooling tube, and nitrogen inlet tube. Ofl (0.25 mol), trimellitic anhydride 48.0 g (0.25 mol), 3.3', 4.4'-benzophenonetetracarboxylic anhydride 161.5 II (0.5 mol) , 4.4
'-Diphenylmethane diisocyanate 250.3 #
(1.0 mol) and m-cresol (400 f/) were charged and the temperature was raised to 200°C over about 1 hour in a nitrogen stream.

70℃付近より著るしい発泡がみられ、更に160〜1
70℃にかけて溜出水の発生がみられた。
Significant foaming was observed from around 70℃, and further
Distilled water was observed to occur as the temperature reached 70°C.

この後m−クレゾールの還流温度(200−210℃)
で13時間反応を続けた。
After this, the reflux temperature of m-cresol (200-210℃)
The reaction was continued for 13 hours.

反応中温液は透明であり、時間の経過とともに粘度が上
昇した。
The hot liquid during the reaction was clear and the viscosity increased over time.

反応終了後m−クレゾール700g、ソルベントナフ7
(丸善石油製、クレゾール# 1000 )  130
9を加え充分攪拌して不揮発分(200℃X1.5I(
)24.5%、粘度(25℃) SOボイズの赤褐色透
明な樹脂溶液を得た。
After the reaction, m-cresol 700g, solvent naph 7
(Maruzen Sekiyu, Cresol #1000) 130
9 was added, stirred thoroughly, and the non-volatile matter (200℃
) 24.5%, viscosity (25° C.) A reddish-brown transparent resin solution of SO voids was obtained.

この樹脂溶液1009に(IOで得られたマスク体4.
3gを加え室温で充分攪拌し均一な溶液を得た。
To this resin solution 1009 (mask body 4 obtained by IO).
3 g was added and thoroughly stirred at room temperature to obtain a homogeneous solution.

得られた樹脂溶液を0.1101厚さの銅板上に200
℃で20分、250℃で30分間焼付けて得られた塗膜
は充分な可撓性を有し、その赤外線吸収スペクトルには
1780 clL−’  にイミド基、1650 (f
fi−’  Eアミド基の吸収が各々認められた。
The obtained resin solution was placed on a copper plate with a thickness of 200 mm.
The coating film obtained by baking for 20 minutes at ℃ and 30 minutes at 250℃ has sufficient flexibility, and its infrared absorption spectrum contains an imide group at 1780 clL-' and an imide group at 1650 (f
Absorption of fi-'E amide group was observed in each case.

また得られた樹脂溶液を1.0io1$の軟銅線上に塗
布焼付けたところ高線速でも充分な可撓性を示した。
Furthermore, when the obtained resin solution was coated and baked on a 1.0io1 dollar annealed copper wire, it showed sufficient flexibility even at high wire speeds.

その特性は第1表に示す通りであった。Its characteristics were as shown in Table 1.

実施例8 温度計、攪拌器、冷却管、窒素導入管をつけた314ツ
ロフラスコに無水クエン酸38.4 g(0,2モル)
、トリメリット酸無水物115−3 g(0,6モル)
、 3.3’、4.4’−ベンゾフェノンテトラカルボ
ン酸無水物64.4.9 (0,2モル)、4,4′−
ジフェニルメタンジイソシアネート250.3.9 (
1,0モル)、m−クレゾール400 、pを仕込み窒
素気流中で約1時間かけて200℃に昇温した。
Example 8 38.4 g (0.2 mol) of anhydrous citric acid was placed in a 314 Tulo flask equipped with a thermometer, stirrer, cooling tube, and nitrogen inlet tube.
, trimellitic anhydride 115-3 g (0.6 mol)
, 3.3',4.4'-benzophenonetetracarboxylic anhydride 64.4.9 (0.2 mol), 4,4'-
Diphenylmethane diisocyanate 250.3.9 (
1.0 mol), m-cresol 400, and p were charged and the temperature was raised to 200°C over about 1 hour in a nitrogen stream.

70℃付近より著るしい発泡がみられ、更に160〜1
70℃にかけて溜出水の生成がみられた。
Significant foaming was observed from around 70℃, and further
Formation of distilled water was observed at 70°C.

200℃で16時間反応させた後、m−クレゾール50
0 g、ソルベントナフサ(丸善石油製スワゾール#1
000 ) 360 !iを加え充分に攪拌して不揮発
分(200℃x 1.s H) 23.0%、粘度(2
5℃)63ボイズの赤褐色透明な樹脂溶液を得た。
After reacting at 200°C for 16 hours, m-cresol 50
0 g, solvent naphtha (Maruzen Sekiyu Swazol #1
000) 360! Add i and stir thoroughly to obtain a solution with a non-volatile content (200℃ x 1.s H) of 23.0% and a viscosity (2.
A reddish-brown transparent resin solution with 63 voids (5°C) was obtained.

この樹脂溶液1009に(1)で得られたマスク体23
gを加え100℃で10分間充分攪拌して均一な溶液を
得た。
The mask body 23 obtained in (1) is added to this resin solution 1009.
g was added thereto and thoroughly stirred at 100°C for 10 minutes to obtain a homogeneous solution.

得られた樹脂溶液を0.10厚さの銅板上に200℃で
20分、250℃で30分間焼付けて得られた塗膜は充
分な可撓性を有し、その赤外線吸収スペクトルには17
80cx−’  にイミド基、1650 (m″″1 
にアミド基の吸収が各々認められた。
The resulting resin solution was baked on a 0.10-thick copper plate at 200°C for 20 minutes and at 250°C for 30 minutes.The resulting coating film had sufficient flexibility, and its infrared absorption spectrum showed
Imide group at 80cx-', 1650 (m″″1
Absorption of amide groups was observed in each case.

また得られた樹脂溶液を1.om、gの軟銅線上に塗布
焼付けて得られた絶縁電線の特性は第1表に示す通りで
あった。
In addition, the obtained resin solution was added to 1. The properties of the insulated wire obtained by coating and baking on annealed copper wire of .

実施例9 温度針、攪拌器、冷却管、窒素導入管をつけた374ツ
ロフラスコに無水クエン酸11.5 g(0,06モル
)、トリメリット酸無水物19.2.9 (0,1モル
)、3,3’、4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボ
ン酸無水物45.19 (0,14モル)、ブタンテト
ラカルボン酸163.9 / (0,7モル)、4.4
′−ジフェニルメタンジイソシアネート150.29 
(0,6モル)、トリレンジイソンアネート69.7 
g(0−4モル)、m−クレゾール400 gを仕込み
窒素気流中で約1時間かけて185℃に昇温した。
Example 9 11.5 g (0.06 mol) of citric acid anhydride and 19.2.9 g (0.1 mol) of trimellitic anhydride were placed in a 374 tube flask equipped with a temperature needle, stirrer, cooling tube, and nitrogen inlet tube. ), 3,3',4,4'-benzophenonetetracarboxylic anhydride 45.19 (0,14 mol), butanetetracarboxylic acid 163.9 / (0,7 mol), 4.4
'-Diphenylmethane diisocyanate 150.29
(0.6 mol), tolylene diisonanate 69.7
(0-4 mol) and 400 g of m-cresol were charged and the temperature was raised to 185°C over about 1 hour in a nitrogen stream.

70℃付近より著るしい発泡がみられ、更に160℃〜
185℃にかけて多くの溜出水の生成がみられた。
Significant foaming was observed from around 70℃, and further from 160℃
A large amount of distilled water was observed to be produced up to 185°C.

185℃で溜出水を除去しながら14時間反応を続けた
The reaction was continued for 14 hours at 185° C. while removing distilled water.

約10時間反応後溜出水の生成は殆んどみられなくなっ
た。
After about 10 hours of reaction, almost no distilled water was produced.

m−クレゾールSOO、@、ソルベントナフサ(丸善石
油製、クレゾール$ 1000 ) 180.9を加え
充分攪拌して不揮発分(200℃x 1.5 H) 2
0.0%、粘度(25℃)47ボイズの赤褐色透明な樹
脂溶液を得た。
m-Cresol SOO, @, Solvent Naphtha (Maruzen Sekiyu Co., Ltd., Cresol $1000) 180.9 was added and thoroughly stirred to remove the non-volatile content (200℃ x 1.5H) 2
A reddish-brown transparent resin solution with a 0.0% viscosity (25° C.) and 47 voids was obtained.

この樹脂溶液ioo gに(1)で得られたマスク体2
8gを加え70℃で30分間充分攪拌して均一な溶液を
得た。
Add the mask body 2 obtained in (1) to this resin solution ioo g.
8 g was added and thoroughly stirred at 70°C for 30 minutes to obtain a homogeneous solution.

得られた樹脂溶液を0.1■厚さの銅板上に200℃で
20分、250℃で30分間焼付けて得られた塗膜は充
分な可撓性を有し、その赤外線吸収スペクトルには17
80m−1にイミド基、1650傭−1付近に僅かなア
ミド基の吸収が各々認められた。
The resulting resin solution was baked on a 0.1-inch thick copper plate at 200°C for 20 minutes and at 250°C for 30 minutes.The resulting coating film had sufficient flexibility, and its infrared absorption spectrum 17
Absorption of an imide group was observed at 80m-1, and a slight absorption of an amide group was observed near 1650m-1.

また得られた樹脂溶液を1.Qiua51の銅線上に塗
布焼付けて得られた絶縁電線の特性は第1表1=示す通
りであった。
In addition, the obtained resin solution was added to 1. The properties of the insulated wire obtained by coating and baking Qiua 51 copper wire were as shown in Table 1.

実施例10 温度計、攪拌器、冷却管をつけた3/4ツロフラスコに
無水クエン酸38.49(0,2モル)、トリメリット
酸無水物、134.5 F < 0.7モル)、テレフ
タル酸16.611 (0,1モル)、m−フレジー4
400gを仕込み窒素気流中で約1時間かけて200℃
に昇温した。
Example 10 In a 3/4 flask equipped with a thermometer, stirrer, and condenser, citric acid anhydride 38.49 (0.2 mol), trimellitic anhydride, 134.5 F < 0.7 mol), terephthal. acid 16.611 (0.1 mol), m-Frezy 4
Prepare 400g and heat to 200℃ for about 1 hour in a nitrogen stream.
The temperature rose to .

70℃付近より著るしい発泡が、160℃付近より油出
水がみられた。
Significant foaming was observed from around 70°C, and oily water was observed from around 160°C.

クレゾールの還流温度(200−210℃)で20時間
反応を続けた。
The reaction was continued for 20 hours at the reflux temperature of cresol (200-210°C).

反応中温液は透明であり、徐々に粘度が上昇した。During the reaction, the hot liquid was clear and the viscosity gradually increased.

m−クレゾール650gを加え充分攪拌して不揮発分(
200℃X1.5H)25%、粘度(25℃)65ボイ
ズの赤褐色透明な樹脂溶液を得た。
Add 650 g of m-cresol and stir thoroughly to remove non-volatile content (
A reddish-brown transparent resin solution with a viscosity (25°C) of 65 voids and a viscosity (25%) of 25% (200°C x 1.5H) was obtained.

この樹脂溶液100gにミリオネートMS−50(日本
ポリウレタン製)25g加え80℃で10分間充分攪拌
した。
25 g of Millionate MS-50 (manufactured by Nippon Polyurethane) was added to 100 g of this resin solution and thoroughly stirred at 80° C. for 10 minutes.

得られた樹脂溶液を0.1 n厚さの銅板上に200℃
で30分、250℃で30分間焼付けて得られた塗膜は
充分な可撓性を有し、その赤外線吸収スペクトルニは1
780 cIL−’  にイミド基、1650 (X−
’  にアミド基の吸収が各々認められた。
The resulting resin solution was heated at 200°C on a 0.1 nm thick copper plate.
The coating film obtained by baking at 250℃ for 30 minutes and 250℃ for 30 minutes has sufficient flexibility, and its infrared absorption spectrum is 1.
Imido group at 780 cIL-', 1650 (X-
' Absorption of amide groups was observed in each case.

また得られた樹脂溶液を1.0IIIIOの軟銅線上に
塗布焼付けて得られた絶縁電線の特性は第1表に示す通
りであった。
Further, the properties of the insulated wire obtained by coating and baking the obtained resin solution on a 1.0IIIO annealed copper wire were as shown in Table 1.

実施例11 温度計、攪拌器、冷却管、窒素導入管をつけた314ツ
ロフラスコに無水クエン酸38.49(0,2モル)、
トリメリット酸無水物153.79 (0,8モル)、
4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネー) 200
.2 、p (0,8モル)、4,4′−ジフェニルエ
ーテルジイソンアネート25−21 (0,1モル)、
キシリレンジイソνアネー) 18.8 g(0,1モ
ル)、硼酸4,9.m−クレゾール400gを仕込み窒
素気流中で約1時間かけて200 ’Cに昇温した。
Example 11 Anhydrous citric acid 38.49 (0.2 mol) was added to a 314 Tulo flask equipped with a thermometer, stirrer, cooling tube, and nitrogen introduction tube.
trimellitic anhydride 153.79 (0.8 mol),
4,4'-diphenylmethane diisocyanate) 200
.. 2, p (0.8 mol), 4,4'-diphenyl ether diisonanate 25-21 (0.1 mol),
xylylene diiso νane) 18.8 g (0.1 mol), boric acid 4.9. 400 g of m-cresol was charged and the temperature was raised to 200'C over about 1 hour in a nitrogen stream.

70℃付近より著るしい発泡が160〜170℃にかけ
て泡出水がみられた。
Significant foaming was observed from around 70°C, and bubbling water was observed from 160 to 170°C.

200℃で10時間反応を続けた。The reaction was continued at 200°C for 10 hours.

次いでクレゾール680 I!、ソルベントナフサ(丸
善石油製スワゾール# 1000 ) 3009を加え
充分攪拌して不揮発分(200℃X 1.5 H)  
2G、1%、粘度(25℃)45ボイズの赤褐色透明な
樹脂溶液を得た。
Next, Cresol 680 I! , solvent naphtha (Maruzen Sekiyu Swasol #1000) 3009 was added and thoroughly stirred to remove the nonvolatile content (200°C x 1.5 H).
A reddish brown transparent resin solution of 2G, 1%, viscosity (25° C.) 45 voids was obtained.

この樹脂溶液100.9に(I[)で得られたマスク体
8gとm−クレゾール8yを加え室温で充分攪拌して均
一な溶液を得た。
To 100.9 g of this resin solution were added 8 g of the mask obtained in (I[) and 8 y of m-cresol, and the mixture was thoroughly stirred at room temperature to obtain a uniform solution.

得られた樹脂溶液を帆1fi厚さの銅板上に200℃で
20分、250℃で30分間焼付けて得られた塗膜は充
分な可撓性を有し、その赤外線吸収スペクトルニは17
80 (X7”  Eイミド基、1650 cR−’ 
 ニアミド基の吸収が各々認められた。
The resulting resin solution was baked on a 1fi thick copper plate at 200°C for 20 minutes and at 250°C for 30 minutes.The resulting coating film had sufficient flexibility, and its infrared absorption spectrum was 17.
80 (X7” E imido group, 1650 cR-'
Absorption of niamide groups was observed in each case.

また得られた樹脂溶液を1.0mx$の軟銅線上に塗布
焼付けて得られた絶縁電線の特性は第1表に示す通りで
あった。
The properties of the insulated wire obtained by coating and baking the obtained resin solution on a 1.0 m x $ annealed copper wire were as shown in Table 1.

比較例1 実施例1で得られたマスク体を加える前の樹脂溶液を用
い、実施例1と同一条件で絶縁電線を得た。
Comparative Example 1 Using the resin solution obtained in Example 1 before adding the mask body, an insulated wire was obtained under the same conditions as in Example 1.

その特性は第1表に示す通りであった。Its characteristics were as shown in Table 1.

比較例2 実施例2で得られたマスク体を加える前の樹脂溶液を用
い、実施例2と同一条件で絶縁電線を得た。
Comparative Example 2 An insulated wire was obtained under the same conditions as in Example 2 using the resin solution obtained in Example 2 before adding the mask body.

その粘性は@1表に示す通りであった。The viscosity was as shown in Table 1.

以下余白 第  1  表 注)絶縁電線は炉長7m、炉温400℃で皮膜厚38μ
となるよう製造した。
Table 1 Note: The insulated wire has a coating thickness of 38μ at a furnace length of 7m and a furnace temperature of 400℃.
Manufactured to be.

絶縁電線の試験はJ I8 C3003に準じて測定し
た。
The insulated wire test was carried out in accordance with J I8 C3003.

第  2  表Table 2

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、クエン酸を含むポリカルボン酸および/又はその誘
導体とジイソシアネートおよび/又はその誘導体との反
応生成物ベニマスクされたポリイソンアネート化合物を
加えて成ることを特徴とするポリアミドイミド樹脂組成
物。 2、クエン酸を含むポリカルボン酸および/又はその誘
導体が少なくとも5モル%のクエン酸を含み、残りが芳
香族トリカルボン酸および/又はその誘導体である特許
請求の範囲第1項記載のポリアミドイミド樹脂組成物。 6、クエン酸を含むポリカルボン酸および/又はその誘
導体が10モル%〜90モル%のクエン酸を含むトリカ
ルボン酸および/又はその誘導体と、  90モル%〜
lOモル%のテトラカルボン酸および/又はその誘導体
である特許請求の範囲第1項又は第2項記載のポリアミ
ドイミド樹脂組成物。 4、クエン酸を含むポリカルボン酸および/又はその誘
導体が、10モル%〜90モル%のクエン酸を含むトリ
カルボン酸および/又はその誘導体と、90モル%〜1
0モル%のジカルボン酸および/又はその誘導体である
特許請求の範囲第1項又は第2項記載のポリアミドイミ
ド樹脂組成物。 5、芳香族トリカルボン酸および/又はその誘導体がト
リメジット酸無水物である特許請求の範囲第1項ないし
第4項のいずれか1項記載のポリアミドイミド樹脂組成
物。 6、ジイソシアネートおよび/又はその誘導体が芳香族
ジイソシアネートおよび/又はフェノール類でマスクさ
れた芳香族ジイソシアネートである特許請求の範囲第1
項ないし第4項のいずれか1項記載のポリアミドイミド
樹脂組成物。 7、芳香族ジイソシアネートおよび/又はその誘導体が
、4..4’−ジフェニルメタンジイソシアネート、4
 、4’−ジフェニルエーテルジイソシアネート、トリ
レンジイソシアネ烙ト、又はキシリレンジイソシアネー
ト、これらのジイソシアネートがフェノール類でマスク
されたジイソシアネート誘導体から選ばれた1種又は2
種以上から成る特許請求の範囲第1項ないし第6項のい
ずれか1項記載のポリアミドイミド樹脂組成物。 8、クエン酸を含むポリカルボン酸および/又はその誘
導体とジイソシアネートおよび/又はその誘導体との反
応生成物に加えるマスクされたポリイソシアネート化合
物がフェノール類でマスクされた芳香族ポリイソシアネ
ート化合物であり、かつその配合量は反応生成樹脂分1
00重量部に対し、ポリイソシアネートに換算して5〜
150重量部である特許請求の範囲第1項ないし第7項
のいずれか1項記載のポリアミドイミド樹脂組成物。 9、クエン酸を含むポリカルボン酸および/又はその誘
導体と芳香族ジインシアネートおよび/又はその誘導体
とをフェノール系溶剤中で加熱反応させ、次いで反応生
成物の樹脂分100重量部に対し、フェノール類でマス
クされた芳香族ポリイソシアネートのポリイソシアネー
トに換算して5〜4150重量部を、140℃以下の温
度で加えることを特徴とするポリアミドイミド樹脂の製
造方法。 10、クエン酸を含むポリカルボン酸および/又はその
誘導体が少なくとも5モル%のクエン酸を含むトリメリ
ット酸無水物である特許請求の範囲第9項記載のポリア
ミドイミド樹脂の製造方法。
[Claims] 1. A polyamide-imide characterized by adding a polyisonanate compound which is a reaction product of a polycarboxylic acid containing citric acid and/or a derivative thereof and a diisocyanate and/or a derivative thereof, and which is venimasked. Resin composition. 2. The polyamide-imide resin according to claim 1, wherein the polycarboxylic acid containing citric acid and/or its derivative contains at least 5 mol% of citric acid, and the remainder is aromatic tricarboxylic acid and/or its derivative. Composition. 6. The polycarboxylic acid and/or its derivative containing citric acid contains 10 mol% to 90 mol% of the tricarboxylic acid and/or its derivative containing citric acid, and 90 mol% to 90 mol%.
The polyamide-imide resin composition according to claim 1 or 2, which contains 1O mol % of tetracarboxylic acid and/or its derivative. 4. The polycarboxylic acid and/or its derivative containing citric acid contains 10 mol% to 90 mol% of tricarboxylic acid and/or its derivative containing citric acid, and 90 mol% to 1
The polyamide-imide resin composition according to claim 1 or 2, which contains 0 mol% of dicarboxylic acid and/or its derivative. 5. The polyamide-imide resin composition according to any one of claims 1 to 4, wherein the aromatic tricarboxylic acid and/or its derivative is trimesitic anhydride. 6. Claim 1, wherein the diisocyanate and/or its derivative is an aromatic diisocyanate and/or an aromatic diisocyanate masked with a phenol.
The polyamide-imide resin composition according to any one of Items 1 to 4. 7. aromatic diisocyanate and/or its derivative; 4. .. 4'-diphenylmethane diisocyanate, 4
, 4'-diphenyl ether diisocyanate, tolylene diisocyanate, or xylylene diisocyanate, and one or two diisocyanate derivatives in which these diisocyanates are masked with phenols.
The polyamide-imide resin composition according to any one of claims 1 to 6, comprising at least one species. 8. The masked polyisocyanate compound added to the reaction product of a polycarboxylic acid containing citric acid and/or its derivative and a diisocyanate and/or its derivative is an aromatic polyisocyanate compound masked with a phenol, and The blending amount is 1 part for the reaction generated resin.
5 to 00 parts by weight in terms of polyisocyanate
150 parts by weight of the polyamide-imide resin composition according to any one of claims 1 to 7. 9. A polycarboxylic acid containing citric acid and/or its derivative and an aromatic diincyanate and/or its derivative are heated and reacted in a phenolic solvent, and then a phenol is added to 100 parts by weight of the resin content of the reaction product. A method for producing a polyamide-imide resin, characterized in that 5 to 4150 parts by weight, calculated as polyisocyanate, of an aromatic polyisocyanate masked with is added at a temperature of 140° C. or lower. 10. The method for producing a polyamide-imide resin according to claim 9, wherein the polycarboxylic acid containing citric acid and/or its derivative is trimellitic acid anhydride containing at least 5 mol % of citric acid.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010235785A (en) * 2009-03-31 2010-10-21 Osaka Gas Co Ltd Polyimide resin precursor and cured product of the same

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