JPH1195056A - 分散補償光ファイバ - Google Patents
分散補償光ファイバInfo
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- JPH1195056A JPH1195056A JP9252496A JP25249697A JPH1195056A JP H1195056 A JPH1195056 A JP H1195056A JP 9252496 A JP9252496 A JP 9252496A JP 25249697 A JP25249697 A JP 25249697A JP H1195056 A JPH1195056 A JP H1195056A
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- G02B6/02214—Optical fibres with cladding with or without a coating tailored to obtain the desired dispersion, e.g. dispersion shifted, dispersion flattened
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- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
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- G02B6/02214—Optical fibres with cladding with or without a coating tailored to obtain the desired dispersion, e.g. dispersion shifted, dispersion flattened
- G02B6/0228—Characterised by the wavelength dispersion slope properties around 1550 nm
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- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
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- G02B6/02—Optical fibres with cladding with or without a coating
- G02B6/036—Optical fibres with cladding with or without a coating core or cladding comprising multiple layers
- G02B6/03616—Optical fibres characterised both by the number of different refractive index layers around the central core segment, i.e. around the innermost high index core layer, and their relative refractive index difference
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 分散スロープと伝送損失が小さい分散補償光
ファイバを提供する。 【解決手段】 中心コア部２１ａと、この中心コア部よ
りも低屈折率の中間部２１ｂと、この中間部２１ｂより
も高屈折率で、かつ前記中心コア部２１ａよりも低屈折
率のクラッド２２とからなり、前記中間部２１ｂの外径
ｂが前記中心コア部２１ａの外径ａの２．５〜３．５倍
であり、前記クラッド２２と前記中間部２１ｂとの比屈
折率差Δ−が、このクラッド２２の屈折率をゼロとした
ときに−０．０８〜−０．２％であり、波長１．５５μ
ｍ帯において、実質的にシングルモード伝搬となり、波
長分散が−８０ｐｓ／ｎｍ／ｋｍ以下であり、かつ分散
スロープが＋０．０８ｐｓ／ｎｍ2／ｋｍ以下であり、
かつ曲げ損失が１．０ｄＢ／ｍ以下であることを特徴と
する分散補償光ファイバを構成する。
ファイバを提供する。 【解決手段】 中心コア部２１ａと、この中心コア部よ
りも低屈折率の中間部２１ｂと、この中間部２１ｂより
も高屈折率で、かつ前記中心コア部２１ａよりも低屈折
率のクラッド２２とからなり、前記中間部２１ｂの外径
ｂが前記中心コア部２１ａの外径ａの２．５〜３．５倍
であり、前記クラッド２２と前記中間部２１ｂとの比屈
折率差Δ−が、このクラッド２２の屈折率をゼロとした
ときに−０．０８〜−０．２％であり、波長１．５５μ
ｍ帯において、実質的にシングルモード伝搬となり、波
長分散が−８０ｐｓ／ｎｍ／ｋｍ以下であり、かつ分散
スロープが＋０．０８ｐｓ／ｎｍ2／ｋｍ以下であり、
かつ曲げ損失が１．０ｄＢ／ｍ以下であることを特徴と
する分散補償光ファイバを構成する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は分散補償光ファイバ
に関し、特に分散スロープが小さく、低損失の分散補償
光ファイバに関する。
に関し、特に分散スロープが小さく、低損失の分散補償
光ファイバに関する。
【０００２】
【従来の技術】近年光増幅技術の進歩に伴い、エルビウ
ム添加光ファイバ増幅器を光通信システムの前段、後段
あるいは中途に挿入して用いることによって、波長１．
５５μｍ帯において、伝送光の強度を増大させてよりい
っそうの長距離伝送を行うことが検討されている。例え
ば、超長距離無再生中継、光加入者多分配網などの光増
幅器を用いた光通信システムが実用化にむけて盛んに検
討されている。これらの伝送線路としては、波長１．５
５μｍ帯において波長分散が実質的にゼロとなる特性を
有する分散シフト光ファイバが好適である。しかしなが
ら波長１．５５μｍ帯における分散が小さいと、特に光
ファイバ内の伝送光のエネルギー密度が大きい場合には
非線形効果が発生し、伝送特性が劣化するなどの不都合
が生じることがある。
ム添加光ファイバ増幅器を光通信システムの前段、後段
あるいは中途に挿入して用いることによって、波長１．
５５μｍ帯において、伝送光の強度を増大させてよりい
っそうの長距離伝送を行うことが検討されている。例え
ば、超長距離無再生中継、光加入者多分配網などの光増
幅器を用いた光通信システムが実用化にむけて盛んに検
討されている。これらの伝送線路としては、波長１．５
５μｍ帯において波長分散が実質的にゼロとなる特性を
有する分散シフト光ファイバが好適である。しかしなが
ら波長１．５５μｍ帯における分散が小さいと、特に光
ファイバ内の伝送光のエネルギー密度が大きい場合には
非線形効果が発生し、伝送特性が劣化するなどの不都合
が生じることがある。
【０００３】このため非線形効果を抑制する方法とし
て、通常の波長１．３μｍにおいて波長分散がほとんど
ゼロであるシングルモード光ファイバ（以下１．３μｍ
ＳＭＦと記す）と分散補償光ファイバとを組み合わせて
波長１．５５μｍ帯で伝送する方法が提案されている。
て、通常の波長１．３μｍにおいて波長分散がほとんど
ゼロであるシングルモード光ファイバ（以下１．３μｍ
ＳＭＦと記す）と分散補償光ファイバとを組み合わせて
波長１．５５μｍ帯で伝送する方法が提案されている。
【０００４】例えば１．３μｍＳＭＦの波長分散は、
１．５５μｍにおいて概略＋１７ｐｓ／ｎｍ／ｋｍ（正
の分散値）程度なので、これを用いて波長１．５５μｍ
帯の光通信を行うと大きな波長分散を生じることにな
る。これに対して分散補償光ファイバとは、波長１．５
５μｍ帯で絶対値が比較的大きい負の波長分散を有し、
比較的短い使用長さで、例えば数ｋｍ以上の通常の１．
３μｍＳＭＦで生じた波長分散を打消すことができるも
のである。
１．５５μｍにおいて概略＋１７ｐｓ／ｎｍ／ｋｍ（正
の分散値）程度なので、これを用いて波長１．５５μｍ
帯の光通信を行うと大きな波長分散を生じることにな
る。これに対して分散補償光ファイバとは、波長１．５
５μｍ帯で絶対値が比較的大きい負の波長分散を有し、
比較的短い使用長さで、例えば数ｋｍ以上の通常の１．
３μｍＳＭＦで生じた波長分散を打消すことができるも
のである。
【０００５】そして分散補償光ファイバを通常の１．３
μｍＳＭＦを用いた光通信システムに挿入して用いれ
ば、波長１．５５μｍ帯で光通信を行っても光通信シス
テム全体における波長分散量をほとんどゼロにすること
が可能である。よって、波長１．５５μｍ帯の光通信シ
ステムにおいて、波長分散による波長歪みを抑制するこ
とができる。このため分散補償光ファイバとしては、低
損失で、波長１．５５μｍ帯において比較的大きな負の
波長分散をもつ必要がある。
μｍＳＭＦを用いた光通信システムに挿入して用いれ
ば、波長１．５５μｍ帯で光通信を行っても光通信シス
テム全体における波長分散量をほとんどゼロにすること
が可能である。よって、波長１．５５μｍ帯の光通信シ
ステムにおいて、波長分散による波長歪みを抑制するこ
とができる。このため分散補償光ファイバとしては、低
損失で、波長１．５５μｍ帯において比較的大きな負の
波長分散をもつ必要がある。
【０００６】分散補償光ファイバとしては、単峰型の屈
折率プロファイル（以下単峰型プロファイルと記す）を
有する光ファイバが提案されている。図７は単峰型プロ
ファイルの一例を示すものであり、中心にコア１１が位
置し、その外周にこのコア１１よりも低屈折率のクラッ
ド１２が設けられて構成されている。前記コア１１は、
屈折率を上昇させる作用を有するドーパントとしてゲル
マニウムが添加（ドープ）された石英ガラスからなるも
のである。ゲルマニウムは酸化ゲルマニウム（Ｇｅ
Ｏ2）として添加される。クラッド１２は純石英ガラス
からなるものである。Δはコア１１とクラッド１２との
比屈折率差であって、クラッド１２の屈折率を基準（ゼ
ロ）として示す。
折率プロファイル（以下単峰型プロファイルと記す）を
有する光ファイバが提案されている。図７は単峰型プロ
ファイルの一例を示すものであり、中心にコア１１が位
置し、その外周にこのコア１１よりも低屈折率のクラッ
ド１２が設けられて構成されている。前記コア１１は、
屈折率を上昇させる作用を有するドーパントとしてゲル
マニウムが添加（ドープ）された石英ガラスからなるも
のである。ゲルマニウムは酸化ゲルマニウム（Ｇｅ
Ｏ2）として添加される。クラッド１２は純石英ガラス
からなるものである。Δはコア１１とクラッド１２との
比屈折率差であって、クラッド１２の屈折率を基準（ゼ
ロ）として示す。
【０００７】このような単峰型プロファイルを有する分
散補償光ファイバは、Δが比較的大きく、負の波長分散
を有し、１．３μｍＳＭＦの波長分散を補償することが
できるように設計されているが、分散スロープが大きい
という問題がある。分散補償光ファイバの分散スロープ
が大きい場合、光通信システム全体の分散スロープが大
きくなり、伝送するパルス光の波長によって波長分散が
ばらつくので、波長多重伝送（ＷＤＭ伝送）のように波
長の異なる複数のパルス光を伝送する用途に使用する場
合に不都合である。このため、できるだけ分散スロープ
が小さい分散補償光ファイバが求められている。一方、
１．３μｍＳＭＦの波長１．５５μｍ帯における分散ス
ロープは＋０．０７ｐｓ／ｎｍ2／ｋｍ（正の値）程度
である。したがって、さらに好ましくは分散補償光ファ
イバの分散スロープが負の値であると、１．３μｍＳＭ
Ｆの分散スロープを補償することができる。
散補償光ファイバは、Δが比較的大きく、負の波長分散
を有し、１．３μｍＳＭＦの波長分散を補償することが
できるように設計されているが、分散スロープが大きい
という問題がある。分散補償光ファイバの分散スロープ
が大きい場合、光通信システム全体の分散スロープが大
きくなり、伝送するパルス光の波長によって波長分散が
ばらつくので、波長多重伝送（ＷＤＭ伝送）のように波
長の異なる複数のパルス光を伝送する用途に使用する場
合に不都合である。このため、できるだけ分散スロープ
が小さい分散補償光ファイバが求められている。一方、
１．３μｍＳＭＦの波長１．５５μｍ帯における分散ス
ロープは＋０．０７ｐｓ／ｎｍ2／ｋｍ（正の値）程度
である。したがって、さらに好ましくは分散補償光ファ
イバの分散スロープが負の値であると、１．３μｍＳＭ
Ｆの分散スロープを補償することができる。
【０００８】このように、単峰型プロファイルを有する
ものより分散スロープを小さくすることができる分散補
償光ファイバが求められている。これを解決するものと
して近年開発され、検討が進められているのが、図１に
示すＷ型屈折率プロファイル（以下、Ｗ型プロファイル
とよぶ）を有する分散補償光ファイバである。このＷ型
プロファイルは、中心に位置する中心コア部２１ａと、
その外周に設けられ、この中心コア部２１ａよりも低屈
折率の中間部２１ｂと、この中間部２１ｂの外周に設け
られ、この中間部２１ｂよりも高屈折率で、かつ前記中
心コア部２１ａよりも低屈折率のクラッド２２からなる
ものである。前記中心コア部２１ａはその中央にむかっ
て屈折率が高くなっている釣り鐘状の屈折率分布形状を
有している。前記中間部２１ｂとクラッド２２はともに
リング状となっている。
ものより分散スロープを小さくすることができる分散補
償光ファイバが求められている。これを解決するものと
して近年開発され、検討が進められているのが、図１に
示すＷ型屈折率プロファイル（以下、Ｗ型プロファイル
とよぶ）を有する分散補償光ファイバである。このＷ型
プロファイルは、中心に位置する中心コア部２１ａと、
その外周に設けられ、この中心コア部２１ａよりも低屈
折率の中間部２１ｂと、この中間部２１ｂの外周に設け
られ、この中間部２１ｂよりも高屈折率で、かつ前記中
心コア部２１ａよりも低屈折率のクラッド２２からなる
ものである。前記中心コア部２１ａはその中央にむかっ
て屈折率が高くなっている釣り鐘状の屈折率分布形状を
有している。前記中間部２１ｂとクラッド２２はともに
リング状となっている。
【０００９】一般に中心コア部２１ａは、ドーパントと
して屈折率を上昇させる作用を有するゲルマニウムが添
加された石英ガラスからなり、中間部２１ｂは、ドーパ
ントとして屈折率を低下させる作用を有するフッ素が添
加された石英ガラスからなり、クラッド２２は純石英ガ
ラスからなるものである。またａは中心コア部２１ａの
外径、ｂは中間部２１ｂの外径、Δ−はクラッド２２と
中間部２１ｂとの比屈折率差、Δ＋はクラッド２２と中
心コア部２１ａとの比屈折率差を示す。Δ−、Δ＋はク
ラッド２２の屈折率を基準（ゼロ）として示し、Δ−は
負の値をとり、Δ＋は正の値をとる。
して屈折率を上昇させる作用を有するゲルマニウムが添
加された石英ガラスからなり、中間部２１ｂは、ドーパ
ントとして屈折率を低下させる作用を有するフッ素が添
加された石英ガラスからなり、クラッド２２は純石英ガ
ラスからなるものである。またａは中心コア部２１ａの
外径、ｂは中間部２１ｂの外径、Δ−はクラッド２２と
中間部２１ｂとの比屈折率差、Δ＋はクラッド２２と中
心コア部２１ａとの比屈折率差を示す。Δ−、Δ＋はク
ラッド２２の屈折率を基準（ゼロ）として示し、Δ−は
負の値をとり、Δ＋は正の値をとる。
【００１０】このＷ型プロファイルを有する分散補償光
ファイバは、分散スロープを小さくすることができる
が、中間部２１ｂに添加されるフッ素の影響で、伝送損
失が増加するという問題がある。図２はフッ素の添加に
よるΔ−の変化と伝送損失との関係を示すグラフであ
る。このグラフより、Δ−が−（マイナス）０．２％よ
りも小さくなると伝送損失が著しく大きくなることがわ
かる。従来のＷ型プロファイルにおいては、分散スロー
プを小さくするためにΔ−は−０．３〜−０．４５％程
度に設計されているので、伝送損失が大きくなってしま
うのである。
ファイバは、分散スロープを小さくすることができる
が、中間部２１ｂに添加されるフッ素の影響で、伝送損
失が増加するという問題がある。図２はフッ素の添加に
よるΔ−の変化と伝送損失との関係を示すグラフであ
る。このグラフより、Δ−が−（マイナス）０．２％よ
りも小さくなると伝送損失が著しく大きくなることがわ
かる。従来のＷ型プロファイルにおいては、分散スロー
プを小さくするためにΔ−は−０．３〜−０．４５％程
度に設計されているので、伝送損失が大きくなってしま
うのである。
【００１１】ところで、このＷ型プロファイルを有する
分散補償光ファイバの製造においては、本出願人が提案
した特開平７−１５７３２８号公報に記載されているＶ
ＡＤ法を利用して、プリフォーム（ファイバ母材）の中
心コア部２１ａと中間部２１ｂとなる部分を一連の工程
で製造する方法を採用すると好適であると考えられる。
分散補償光ファイバの製造においては、本出願人が提案
した特開平７−１５７３２８号公報に記載されているＶ
ＡＤ法を利用して、プリフォーム（ファイバ母材）の中
心コア部２１ａと中間部２１ｂとなる部分を一連の工程
で製造する方法を採用すると好適であると考えられる。
【００１２】しかしながら従来のＷ型プロファイルを有
する分散補償光ファイバにおいては、フッ素の添加量が
多量であるためにこの方法を適用できないのが現状であ
る。ところで、ゲルマニウム、フッ素などのドーパント
が添加された石英ガラスの融点は純石英ガラスの融点よ
りも低くなることが知られている。この方法は、この融
点の差を利用してプリフォームを製造するものであっ
て、具体的には以下のような方法を想定することができ
る。以下プリフォームにおいて、中心コア部２１ａとな
る部分を中心コア部母材、中間部２１ｂとなる部分を中
間部母材、クラッド２２となる部分をクラッド母材とい
うことがある。
する分散補償光ファイバにおいては、フッ素の添加量が
多量であるためにこの方法を適用できないのが現状であ
る。ところで、ゲルマニウム、フッ素などのドーパント
が添加された石英ガラスの融点は純石英ガラスの融点よ
りも低くなることが知られている。この方法は、この融
点の差を利用してプリフォームを製造するものであっ
て、具体的には以下のような方法を想定することができ
る。以下プリフォームにおいて、中心コア部２１ａとな
る部分を中心コア部母材、中間部２１ｂとなる部分を中
間部母材、クラッド２２となる部分をクラッド母材とい
うことがある。
【００１３】具体的にはＶＡＤ法によって、中心にゲル
マニウム添加石英ガラスの微粒子を積層させ、この外周
に純石英ガラスの微粒子を積層させた円柱状の多孔質体
を形成する。この多孔質体を、例えば焼却炉中で前記ゲ
ルマニウム添加ガラスの融点よりも高く、かつ純石英ガ
ラスの融点よりも低い温度で加熱すると、中心のゲルマ
ニウム添加ガラス微粒子のみのガラス化を進行させるこ
とができる。
マニウム添加石英ガラスの微粒子を積層させ、この外周
に純石英ガラスの微粒子を積層させた円柱状の多孔質体
を形成する。この多孔質体を、例えば焼却炉中で前記ゲ
ルマニウム添加ガラスの融点よりも高く、かつ純石英ガ
ラスの融点よりも低い温度で加熱すると、中心のゲルマ
ニウム添加ガラス微粒子のみのガラス化を進行させるこ
とができる。
【００１４】ついで、これをフッ素含有ガス雰囲気中で
純石英ガラスの融点よりも高い温度で加熱すると、外周
部の純石英ガラス微粒子が透明ガラス化されるととも
に、この部分に選択的にフッ素が添加された透明ガラス
棒が形成される。このとき中心のゲルマニウム添加石英
ガラスは、先の工程でガラス化され、そのかさ密度が上
昇しているので、外周部の純石英ガラス微粒子にのみフ
ッ素を選択的に添加することができるのである。さらに
この透明ガラス棒の外周上に、ＶＡＤ法により純石英ガ
ラス微粒子を積層させ、純石英ガラスの融点以上に加熱
し、透明ガラス化してクラッド２２となる部分を構成
し、プリフォームとする。最後にこのプリフォームを線
引きして外径約１２５μｍの光ファイバとする。
純石英ガラスの融点よりも高い温度で加熱すると、外周
部の純石英ガラス微粒子が透明ガラス化されるととも
に、この部分に選択的にフッ素が添加された透明ガラス
棒が形成される。このとき中心のゲルマニウム添加石英
ガラスは、先の工程でガラス化され、そのかさ密度が上
昇しているので、外周部の純石英ガラス微粒子にのみフ
ッ素を選択的に添加することができるのである。さらに
この透明ガラス棒の外周上に、ＶＡＤ法により純石英ガ
ラス微粒子を積層させ、純石英ガラスの融点以上に加熱
し、透明ガラス化してクラッド２２となる部分を構成
し、プリフォームとする。最後にこのプリフォームを線
引きして外径約１２５μｍの光ファイバとする。
【００１５】この方法は、一連の工程で、異なるドーパ
ントが添加されている中心コア部母材と中間部母材とを
形成することができるので効率がよい。しかしながら従
来のＷ型プロファイルにおいては、中間部２１ｂに添加
されるフッ素は通常１．２重量％以上であり、多量であ
るために、このフッ素の影響によって中心コア母材の屈
折率が低下するため、この方法を適用することは困難で
ある。例えばこのフッ素の影響を見越して、ゲルマニウ
ムの添加量を多くする方法も考えられるが、コストの上
昇が問題となる。また、材料組成と製造条件を試行錯誤
で求める予備実験が必要となる。
ントが添加されている中心コア部母材と中間部母材とを
形成することができるので効率がよい。しかしながら従
来のＷ型プロファイルにおいては、中間部２１ｂに添加
されるフッ素は通常１．２重量％以上であり、多量であ
るために、このフッ素の影響によって中心コア母材の屈
折率が低下するため、この方法を適用することは困難で
ある。例えばこのフッ素の影響を見越して、ゲルマニウ
ムの添加量を多くする方法も考えられるが、コストの上
昇が問題となる。また、材料組成と製造条件を試行錯誤
で求める予備実験が必要となる。
【００１６】このため、Ｗ型プロファイルを有する分散
補償光ファイバは、中心コア部２１ａとなる中心コア部
母材をＶＡＤ法によって作製した後に、中間部２１ｂと
なるフッ素添加石英ガラスを外づけする方法によって製
造されている。しかしながらこの方法によると、中止コ
ア部母材の外周表面に、多量のゲルマニウムの添加に起
因する凹凸が形成されるため、この表面を外削によって
滑らかにする操作が必要となる。すると、この外削によ
って中心コア部母材に偏心を生じ、偏波分散が大きくな
るという新たな問題が発生する。また製造操作が複雑で
あり、さらには製造途中で中心コア部母材の表面が汚染
される可能性がある。
補償光ファイバは、中心コア部２１ａとなる中心コア部
母材をＶＡＤ法によって作製した後に、中間部２１ｂと
なるフッ素添加石英ガラスを外づけする方法によって製
造されている。しかしながらこの方法によると、中止コ
ア部母材の外周表面に、多量のゲルマニウムの添加に起
因する凹凸が形成されるため、この表面を外削によって
滑らかにする操作が必要となる。すると、この外削によ
って中心コア部母材に偏心を生じ、偏波分散が大きくな
るという新たな問題が発生する。また製造操作が複雑で
あり、さらには製造途中で中心コア部母材の表面が汚染
される可能性がある。
【００１７】
【発明が解決しようとする課題】本発明は前記事情に鑑
みてなされたもので、１．３μｍＳＭＦの波長分散を補
償することができるとともに、分散スロープが小さく、
かつ伝送損失が小さい分散補償光ファイバを提供するこ
とを目的とする。さらにはできるだけ効率よく製造で
き、偏波分散が小さい分散補償光ファイバを提供するこ
とを目的とする。
みてなされたもので、１．３μｍＳＭＦの波長分散を補
償することができるとともに、分散スロープが小さく、
かつ伝送損失が小さい分散補償光ファイバを提供するこ
とを目的とする。さらにはできるだけ効率よく製造で
き、偏波分散が小さい分散補償光ファイバを提供するこ
とを目的とする。
【００１８】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
に、本発明においては、中心コア部と、この中心コア部
の外周に設けられ、この中心コア部よりも低屈折率の中
間部と、この中間部の外周に設けられ、この中間部より
も高屈折率で、かつ前記中心コア部よりも低屈折率のク
ラッドとからなり、前記中間部の外径が前記中心コア部
の外径の２．５〜３．５倍であり、前記クラッドと前記
中間部との比屈折率差が、このクラッドの屈折率をゼロ
としたときに−０．０８〜−０．２％であり、波長１．
５５μｍ帯において、実質的にシングルモード伝搬とな
り、波長分散が−８０ｐｓ／ｎｍ／ｋｍ以下であり、か
つ分散スロープが＋０．０８ｐｓ／ｎｍ2／ｋｍ以下で
あり、かつ曲げ損失が１．０ｄＢ／ｍ以下であることを
特徴とする分散補償光ファイバを提案する。この分散補
償光ファイバにおいては、上述の中間部の外径と中心コ
ア部の外径の比率と、クラッドと中間部との比屈折率差
の数値範囲から適切な値を選択して設計することによっ
て、単峰型プロファイルを有する分散補償光ファイバよ
りも分散スロープを小さくすることができると同時に、
従来のＷ型プロファイルを有する分散補償光ファイバよ
りも伝送損失が小さい分散補償光ファイバを提供するこ
とができる。具体的には波長１．５５μｍ帯における伝
送損失が０．３９ｄＢ／ｋｍ以下の分散補償光ファイバ
が得られる。
に、本発明においては、中心コア部と、この中心コア部
の外周に設けられ、この中心コア部よりも低屈折率の中
間部と、この中間部の外周に設けられ、この中間部より
も高屈折率で、かつ前記中心コア部よりも低屈折率のク
ラッドとからなり、前記中間部の外径が前記中心コア部
の外径の２．５〜３．５倍であり、前記クラッドと前記
中間部との比屈折率差が、このクラッドの屈折率をゼロ
としたときに−０．０８〜−０．２％であり、波長１．
５５μｍ帯において、実質的にシングルモード伝搬とな
り、波長分散が−８０ｐｓ／ｎｍ／ｋｍ以下であり、か
つ分散スロープが＋０．０８ｐｓ／ｎｍ2／ｋｍ以下で
あり、かつ曲げ損失が１．０ｄＢ／ｍ以下であることを
特徴とする分散補償光ファイバを提案する。この分散補
償光ファイバにおいては、上述の中間部の外径と中心コ
ア部の外径の比率と、クラッドと中間部との比屈折率差
の数値範囲から適切な値を選択して設計することによっ
て、単峰型プロファイルを有する分散補償光ファイバよ
りも分散スロープを小さくすることができると同時に、
従来のＷ型プロファイルを有する分散補償光ファイバよ
りも伝送損失が小さい分散補償光ファイバを提供するこ
とができる。具体的には波長１．５５μｍ帯における伝
送損失が０．３９ｄＢ／ｋｍ以下の分散補償光ファイバ
が得られる。
【００１９】
【発明の実施の形態】以下本発明を詳細に説明する。本
発明においては、図２に示すフッ素の添加によるΔ−の
変化と伝送損失との関係から、図１に示すＷ型プロファ
イルにおいて、Δ−が−０．２％以上の範囲であって
も、分散スロープが小さい分散補償光ファイバを設計す
ることができるかどうか検討した。図２に示すグラフか
ら、Δ−が−０．２％以上であれば、フッ素の添加量が
ゼロの場合、すなわち図７に示す単峰型プロファイルを
有するものと同程度の伝送損失となることが予測され
る。またこの場合、プリフォームの製造時にフッ素を添
加するにおいて、例えば焼却炉における雰囲気ガス中の
フッ素ガス濃度は１vol％以下となる。従来のＷ型プロ
ファイルを有するものにおいて、例えばΔ−が−０．３
％の場合、前記フッ素ガス濃度は約６vol量％なので、
大幅なコストダウンが見込まれる。
発明においては、図２に示すフッ素の添加によるΔ−の
変化と伝送損失との関係から、図１に示すＷ型プロファ
イルにおいて、Δ−が−０．２％以上の範囲であって
も、分散スロープが小さい分散補償光ファイバを設計す
ることができるかどうか検討した。図２に示すグラフか
ら、Δ−が−０．２％以上であれば、フッ素の添加量が
ゼロの場合、すなわち図７に示す単峰型プロファイルを
有するものと同程度の伝送損失となることが予測され
る。またこの場合、プリフォームの製造時にフッ素を添
加するにおいて、例えば焼却炉における雰囲気ガス中の
フッ素ガス濃度は１vol％以下となる。従来のＷ型プロ
ファイルを有するものにおいて、例えばΔ−が−０．３
％の場合、前記フッ素ガス濃度は約６vol量％なので、
大幅なコストダウンが見込まれる。
【００２０】このとき、実現すべき分散補償光ファイバ
の特性の目標値は、波長１．５５μｍ帯において、実質
的にシングルモード伝搬となり、波長分散が−８０ｐｓ
／ｎｍ／ｋｍ以下であり、かつ分散スロープが＋０．０
８ｐｓ／ｎｍ2／ｋｍ以下であり、かつ曲げ損失が１．
０ｄＢ／ｍ以下であることとした。
の特性の目標値は、波長１．５５μｍ帯において、実質
的にシングルモード伝搬となり、波長分散が−８０ｐｓ
／ｎｍ／ｋｍ以下であり、かつ分散スロープが＋０．０
８ｐｓ／ｎｍ2／ｋｍ以下であり、かつ曲げ損失が１．
０ｄＢ／ｍ以下であることとした。
【００２１】本発明において波長１．５５μｍ帯とは、
波長１５３０ｎｍから１５８０ｎｍの波長領域を指すも
のである。波長１．５５μｍ帯において、波長分散が−
８０ｐｓ／ｎｍ／ｋｍよりも大きく、ゼロに近い場合に
は、分散補償光ファイバの使用長さが長くなるなどの不
都合がある。また、波長１．５５μｍ帯において分散ス
ロープが＋０．０８ｐｓ／ｎｍ2／ｋｍ以下であること
によって、光通信システム全体の分散スロープを小さく
することができる。
波長１５３０ｎｍから１５８０ｎｍの波長領域を指すも
のである。波長１．５５μｍ帯において、波長分散が−
８０ｐｓ／ｎｍ／ｋｍよりも大きく、ゼロに近い場合に
は、分散補償光ファイバの使用長さが長くなるなどの不
都合がある。また、波長１．５５μｍ帯において分散ス
ロープが＋０．０８ｐｓ／ｎｍ2／ｋｍ以下であること
によって、光通信システム全体の分散スロープを小さく
することができる。
【００２２】曲げ損失は波長１．５５μｍで曲げ直径
（２Ｒ）が２０ｍｍの条件の値をいうものとする。分散
補償光ファイバは、小さなコイルに卷かれた状態で伝送
路中に挿入されることが多く、曲げ損失が１．０ｄＢ／
ｍをこえると損失が大きくなるため好ましくない。
（２Ｒ）が２０ｍｍの条件の値をいうものとする。分散
補償光ファイバは、小さなコイルに卷かれた状態で伝送
路中に挿入されることが多く、曲げ損失が１．０ｄＢ／
ｍをこえると損失が大きくなるため好ましくない。
【００２３】さらに分散補償光ファイバは、通常１．３
μｍＳＭＦを補償するものなので、波長１．５５μｍ帯
の実際の使用状態において常にシングルモード伝搬を行
う必要がある。このためにカットオフ波長は、実際の使
用状態において実質的にシングルモード伝搬を保証する
ものでなければならない。カットオフ波長はＣＣＩＴＴ
の２ｍ法、もしくは実際の使用状態において測定された
値をいうものとする。
μｍＳＭＦを補償するものなので、波長１．５５μｍ帯
の実際の使用状態において常にシングルモード伝搬を行
う必要がある。このためにカットオフ波長は、実際の使
用状態において実質的にシングルモード伝搬を保証する
ものでなければならない。カットオフ波長はＣＣＩＴＴ
の２ｍ法、もしくは実際の使用状態において測定された
値をいうものとする。
【００２４】上述の波長分散、分散スロープ、曲げ損失
の目標値を満す分散補償光ファイバは、光通信システム
などにおいて補償対象となる１．３μｍＳＭＦと組み合
わせたときに、その波長分散を補償することができ、曲
げ損失が小さく、光通信システム全体の分散スロープを
小さくすることができる分散補償光ファイバとなる。
の目標値を満す分散補償光ファイバは、光通信システム
などにおいて補償対象となる１．３μｍＳＭＦと組み合
わせたときに、その波長分散を補償することができ、曲
げ損失が小さく、光通信システム全体の分散スロープを
小さくすることができる分散補償光ファイバとなる。
【００２５】また、図１に示すＷ型プロファイルにおい
て、中心コア部２１ａがゲルマニウムが添加された石英
ガラスからなり、中間部２１ｂがフッ素が添加された石
英ガラスからなり、クラッド２２が純石英ガラスからな
るものを前提として検討した。
て、中心コア部２１ａがゲルマニウムが添加された石英
ガラスからなり、中間部２１ｂがフッ素が添加された石
英ガラスからなり、クラッド２２が純石英ガラスからな
るものを前提として検討した。
【００２６】詳細なデータについては後述するが、本発
明者らはｂ／ａを２．５〜３．５、Δ−を−０．０８〜
−０．２％のそれぞれの範囲から適切に組み合わせて選
択することによって、単峰型プロファイルを有する分散
補償光ファイバよりも分散スロープを小さくすることが
できると同時に、従来のＷ型プロファイルを有する分散
補償光ファイバよりも伝送損失が小さい分散補償光ファ
イバを提供することができることを見い出した。具体的
には波長１．５５μｍ帯において、伝送損失が０．３９
ｄＢ／ｋｍ以下の分散補償光ファイバが得られる。
明者らはｂ／ａを２．５〜３．５、Δ−を−０．０８〜
−０．２％のそれぞれの範囲から適切に組み合わせて選
択することによって、単峰型プロファイルを有する分散
補償光ファイバよりも分散スロープを小さくすることが
できると同時に、従来のＷ型プロファイルを有する分散
補償光ファイバよりも伝送損失が小さい分散補償光ファ
イバを提供することができることを見い出した。具体的
には波長１．５５μｍ帯において、伝送損失が０．３９
ｄＢ／ｋｍ以下の分散補償光ファイバが得られる。
【００２７】ｂ／ａが２．０未満であると、単峰型プロ
ファイルとの差が小さいため、Ｗ型プロファイルとした
特性が得られず、分散スロープを小さくすることができ
ない。ｂ／ａが３．５をこえると波長分散が増加する傾
向があるので、好ましい特性を得ることが難しい。
ファイルとの差が小さいため、Ｗ型プロファイルとした
特性が得られず、分散スロープを小さくすることができ
ない。ｂ／ａが３．５をこえると波長分散が増加する傾
向があるので、好ましい特性を得ることが難しい。
【００２８】また、ａは通常２．３〜３．０μｍとされ
る。２．３μｍ未満であると曲げ損失が大きくなり、損
失が大きくなるため好ましくなく、３．０μｍをこえる
と波長分散が増加する傾向があるので、好ましい特性が
得られないことがある。ｂはａとｂ／ａの値を決定すれ
ば自ずと定まる。Δ＋は＋２．０％〜＋２．８％とされ
る。＋２．０％未満であると単位長さあたりの波長分散
をマイナス側に大きくすることができないので、好まし
い特性を得ることができず、＋２．８％をこえると現実
的には製造が困難となる。
る。２．３μｍ未満であると曲げ損失が大きくなり、損
失が大きくなるため好ましくなく、３．０μｍをこえる
と波長分散が増加する傾向があるので、好ましい特性が
得られないことがある。ｂはａとｂ／ａの値を決定すれ
ば自ずと定まる。Δ＋は＋２．０％〜＋２．８％とされ
る。＋２．０％未満であると単位長さあたりの波長分散
をマイナス側に大きくすることができないので、好まし
い特性を得ることができず、＋２．８％をこえると現実
的には製造が困難となる。
【００２９】図３〜６はΔ−の値ごとに、Ｗ型プロファ
イルを有する分散補償光ファイバの中心コア部２１ａの
外径ａと、波長分散、分散スロープ、曲げ損失との関係
のシュミレーション結果を示すものである。各グラフに
はｂ／ａの値毎にまとめられた曲線がそれぞれ示されて
いる。また、波長分散、分散スロープ、曲げ損失の目標
値の上限値がそれぞれ破線で示されている。さらに各グ
ラフには比較のために単峰型プロファイルを有する分散
補償光ファイバの特性が示されている。このときΔ、Δ
＋は共通して＋２．５５％である。また図８は、Δを変
化させた単峰型プロファイルのシュミレーション結果を
示すグラフである。
イルを有する分散補償光ファイバの中心コア部２１ａの
外径ａと、波長分散、分散スロープ、曲げ損失との関係
のシュミレーション結果を示すものである。各グラフに
はｂ／ａの値毎にまとめられた曲線がそれぞれ示されて
いる。また、波長分散、分散スロープ、曲げ損失の目標
値の上限値がそれぞれ破線で示されている。さらに各グ
ラフには比較のために単峰型プロファイルを有する分散
補償光ファイバの特性が示されている。このときΔ、Δ
＋は共通して＋２．５５％である。また図８は、Δを変
化させた単峰型プロファイルのシュミレーション結果を
示すグラフである。
【００３０】図８より、単峰型プロファイルにおいて
は、本発明の分散補償光ファイバの特性値を満足する範
囲が存在しないことがわかる。Δの値は上限が＋２．８
％とされているが、これをこえると現実的には製造が困
難となる。
は、本発明の分散補償光ファイバの特性値を満足する範
囲が存在しないことがわかる。Δの値は上限が＋２．８
％とされているが、これをこえると現実的には製造が困
難となる。
【００３１】以下図３〜図６に示すＷ型プロファイルを
有する分散補償光ファイバの特性について検討する。図
３はΔ−が−０．２％の場合の結果を示すものである。
図４はΔ−が−０．１％の場合の結果を示すものであ
る。図５はΔ−が−０．０８％の場合の結果を示すもの
である。図６はΔ−が−０．０７％の場合の結果を示す
ものである。これら図３〜図６のグラフにおいて、コア
径と曲げ損失との関係を示すグラフに示されているｂ／
ａ＝２．０，…，４．０の各曲線は、近接しているため
に重なって各々の判別が難しいものもあるが、ｂ／ａの
値が大きいほど曲げ損失が大きい値をとる傾向がある。
有する分散補償光ファイバの特性について検討する。図
３はΔ−が−０．２％の場合の結果を示すものである。
図４はΔ−が−０．１％の場合の結果を示すものであ
る。図５はΔ−が−０．０８％の場合の結果を示すもの
である。図６はΔ−が−０．０７％の場合の結果を示す
ものである。これら図３〜図６のグラフにおいて、コア
径と曲げ損失との関係を示すグラフに示されているｂ／
ａ＝２．０，…，４．０の各曲線は、近接しているため
に重なって各々の判別が難しいものもあるが、ｂ／ａの
値が大きいほど曲げ損失が大きい値をとる傾向がある。
【００３２】図３〜図５においては、一部上述の特性の
目標値を満足する範囲が存在する。図６においては、本
発明の特性の目標値を全て満足するものはない。図３〜
図５からわかるように、ｂ／ａとΔ−の値が上述の範囲
内であっても、本発明の分散補償光ファイバの波長分
散、分散スロープ、曲げ損失の目標値を満足するとは限
らない。すなわち本発明の特性の目標値を満足するため
には、上述のｂ／ａとΔ−の範囲からランダムに数値を
選択すればよいわけではなく、ａ、ｂ、Δ−の適切な組
み合わせを、図３〜図５に示すグラフから求めて設定す
る必要がある。
目標値を満足する範囲が存在する。図６においては、本
発明の特性の目標値を全て満足するものはない。図３〜
図５からわかるように、ｂ／ａとΔ−の値が上述の範囲
内であっても、本発明の分散補償光ファイバの波長分
散、分散スロープ、曲げ損失の目標値を満足するとは限
らない。すなわち本発明の特性の目標値を満足するため
には、上述のｂ／ａとΔ−の範囲からランダムに数値を
選択すればよいわけではなく、ａ、ｂ、Δ−の適切な組
み合わせを、図３〜図５に示すグラフから求めて設定す
る必要がある。
【００３３】したがって、本発明の分散補償光ファイバ
は、ｂ／ａとΔ−の数値範囲から特定することが困難で
ある。このため本発明においては、前記ｂ／ａとΔ−の
数値範囲とともに、波長分散、分散スロープ、曲げ損失
の値を限定することによって発明を特定するものであ
る。このような特性は、従来の単峰型プロファイルある
いはＷ型プロファイルを有する分散補償光ファイバにお
いては取り得ないものである。
は、ｂ／ａとΔ−の数値範囲から特定することが困難で
ある。このため本発明においては、前記ｂ／ａとΔ−の
数値範囲とともに、波長分散、分散スロープ、曲げ損失
の値を限定することによって発明を特定するものであ
る。このような特性は、従来の単峰型プロファイルある
いはＷ型プロファイルを有する分散補償光ファイバにお
いては取り得ないものである。
【００３４】ところで本発明の分散補償光ファイバは、
特開平７−１５７３２８号公報に記載されている方法を
利用し、ＶＡＤ法によって製造することができる。
特開平７−１５７３２８号公報に記載されている方法を
利用し、ＶＡＤ法によって製造することができる。
【００３５】具体的には、ＶＡＤ法によって、中心にゲ
ルマニウム添加石英ガラスの微粒子を積層させ、この外
周上に純石英ガラスの微粒子を積層させた円柱状の多孔
質体を形成する。この多孔質体とは、酸水素バーナーな
どを用い、ＶＡＤ法によって火炎中に発生したガラス微
粒子を補集してできる成形体である。この多孔質体はあ
る程度の機械的強度を有し、気体が流通できる程度の空
隙や気泡が全体にかなり残ったもので、光学的には不透
明な状態となっている。前記多孔質体においては、中心
のゲルマニウム添加石英ガラス微粒子の方が、外周部に
配された純石英ガラス微粒子よりも融点が低くなってい
る。
ルマニウム添加石英ガラスの微粒子を積層させ、この外
周上に純石英ガラスの微粒子を積層させた円柱状の多孔
質体を形成する。この多孔質体とは、酸水素バーナーな
どを用い、ＶＡＤ法によって火炎中に発生したガラス微
粒子を補集してできる成形体である。この多孔質体はあ
る程度の機械的強度を有し、気体が流通できる程度の空
隙や気泡が全体にかなり残ったもので、光学的には不透
明な状態となっている。前記多孔質体においては、中心
のゲルマニウム添加石英ガラス微粒子の方が、外周部に
配された純石英ガラス微粒子よりも融点が低くなってい
る。
【００３６】ついで前記多孔質体を、塩素系ガス含有ヘ
リウムガス雰囲気中などで必要の応じて脱水処理した
後、ヘリウムガス雰囲気中でゲルマニウム添加石英ガラ
ス微粒子からなる中心部のみを透明ガラス化し、これを
必要に応じて加熱延伸し、細く引き伸ばす。前記透明ガ
ラス化温度はゲルマニウム添加石英ガラスの融点以上で
あり、かつ純石英ガラスの融点未満の温度とする。この
ような温度設定により、中心のゲルマニウム添加石英ガ
ラス微粒子のみを透明ガラス化することができる。
リウムガス雰囲気中などで必要の応じて脱水処理した
後、ヘリウムガス雰囲気中でゲルマニウム添加石英ガラ
ス微粒子からなる中心部のみを透明ガラス化し、これを
必要に応じて加熱延伸し、細く引き伸ばす。前記透明ガ
ラス化温度はゲルマニウム添加石英ガラスの融点以上で
あり、かつ純石英ガラスの融点未満の温度とする。この
ような温度設定により、中心のゲルマニウム添加石英ガ
ラス微粒子のみを透明ガラス化することができる。
【００３７】ついで、好ましくは塩素系ガス含有ヘリウ
ムガス雰囲気中で脱水処理した後、ＳｉＦ4ガスとヘリ
ウムガスの混合雰囲気などのフッ素含有雰囲気中で純石
英ガラスの融点以上に加熱し、前記純石英ガラス微粒子
からなる外周部を透明ガラス化するとともに、この外周
部にフッ素を添加し、中心コア部材と中間コア母材とか
らなる透明ガラス棒とする。さらにこの透明ガラス棒の
外周上に、酸水素バーナなどを用いてＶＡＤ法により純
石英ガラス微粒子を積層させ、好ましくは塩素系ガス含
有ヘリウムガス雰囲気中で脱水処理した後、ヘリウムガ
ス雰囲気中で純石英ガラスの融点以上に加熱し、透明ガ
ラス化してクラッド母材を形成し、プリフォームとす
る。最後にこのプリフォームを線引きして外径約１２５
μｍの光ファイバとする。
ムガス雰囲気中で脱水処理した後、ＳｉＦ4ガスとヘリ
ウムガスの混合雰囲気などのフッ素含有雰囲気中で純石
英ガラスの融点以上に加熱し、前記純石英ガラス微粒子
からなる外周部を透明ガラス化するとともに、この外周
部にフッ素を添加し、中心コア部材と中間コア母材とか
らなる透明ガラス棒とする。さらにこの透明ガラス棒の
外周上に、酸水素バーナなどを用いてＶＡＤ法により純
石英ガラス微粒子を積層させ、好ましくは塩素系ガス含
有ヘリウムガス雰囲気中で脱水処理した後、ヘリウムガ
ス雰囲気中で純石英ガラスの融点以上に加熱し、透明ガ
ラス化してクラッド母材を形成し、プリフォームとす
る。最後にこのプリフォームを線引きして外径約１２５
μｍの光ファイバとする。
【００３８】本発明の分散補償光ファイバにおいては、
フッ素添加量が少ないため、中心コア母材にフッ素が混
入することがほどんどない。このため、中間コア母材に
フッ素を選択的に効率よく添加することができ、設計条
件に対応した組成材料を用いることができる。すなわち
ゲルマニウムとフッ素は、屈折率を上昇あるいは低下さ
せるために必要な最低量を用いればよく、また製造条件
を定めるまでの予備実験の回数が少なくなり、低コスト
化を図ることができる。また従来の製造方法と異なり、
外削を行う必要も生じないので、偏波分散の上昇もな
い。
フッ素添加量が少ないため、中心コア母材にフッ素が混
入することがほどんどない。このため、中間コア母材に
フッ素を選択的に効率よく添加することができ、設計条
件に対応した組成材料を用いることができる。すなわち
ゲルマニウムとフッ素は、屈折率を上昇あるいは低下さ
せるために必要な最低量を用いればよく、また製造条件
を定めるまでの予備実験の回数が少なくなり、低コスト
化を図ることができる。また従来の製造方法と異なり、
外削を行う必要も生じないので、偏波分散の上昇もな
い。
【００３９】
【実施例】以下本発明の実施例を示して具体的に説明す
る。 （実施例１）図１に示すＷ型プロファイルを有する光フ
ァイバを作製するにおいて、Δ−が−０．１％となるよ
うにした。またコア径ａを２．７μｍ、ｂ／ａを３．５
とした。製造方法は、中心コア母材と中間部母材を一連
の工程で形成する行うＶＡＤ法を利用した方法を採用し
た。
る。 （実施例１）図１に示すＷ型プロファイルを有する光フ
ァイバを作製するにおいて、Δ−が−０．１％となるよ
うにした。またコア径ａを２．７μｍ、ｂ／ａを３．５
とした。製造方法は、中心コア母材と中間部母材を一連
の工程で形成する行うＶＡＤ法を利用した方法を採用し
た。
【００４０】まずＶＡＤ法により、酸水素バーナーを用
い、中心が２６重量％のゲルマニウムが添加されたゲル
マニウム添加石英ガラス微粒子からなり、その外周部が
純石英ガラス微粒子からなる外径１２０ｍｍの円柱状の
多孔質体を作製した。この多孔質体の密度は０．２ｇ／
ｃｍ3であった。この多孔質体を約１０００℃の温度条
件で、塩素系ガス含有ヘリウムガス雰囲気中にて脱水処
理した後、ヘリウムガス雰囲気中１１５０℃の温度条件
で、中心のゲルマニウム添加石英ガラス微粒子のみのガ
ラス化を進行させ、かさ密度を上昇させた。
い、中心が２６重量％のゲルマニウムが添加されたゲル
マニウム添加石英ガラス微粒子からなり、その外周部が
純石英ガラス微粒子からなる外径１２０ｍｍの円柱状の
多孔質体を作製した。この多孔質体の密度は０．２ｇ／
ｃｍ3であった。この多孔質体を約１０００℃の温度条
件で、塩素系ガス含有ヘリウムガス雰囲気中にて脱水処
理した後、ヘリウムガス雰囲気中１１５０℃の温度条件
で、中心のゲルマニウム添加石英ガラス微粒子のみのガ
ラス化を進行させ、かさ密度を上昇させた。
【００４１】この後約１４２０℃の温度条件で、ＳｉＦ
4ガス（３００ｃｃ／ｍｉｎ）とヘリウムガス（５Ｌ／
ｍｉｎ）の混合雰囲気中にて、外周部の純石英ガラス粒
子を透明ガラス化するとともに、Δ−が−０．１％とな
るように０．４重量％のフッ素を添加した透明ガラス棒
を作製した。この透明ガラス棒の断面のフッ素濃度分析
を行ったところ、その中心の中心コア母材にはフッ素が
ほとんど含まれていないことがわかった。
4ガス（３００ｃｃ／ｍｉｎ）とヘリウムガス（５Ｌ／
ｍｉｎ）の混合雰囲気中にて、外周部の純石英ガラス粒
子を透明ガラス化するとともに、Δ−が−０．１％とな
るように０．４重量％のフッ素を添加した透明ガラス棒
を作製した。この透明ガラス棒の断面のフッ素濃度分析
を行ったところ、その中心の中心コア母材にはフッ素が
ほとんど含まれていないことがわかった。
【００４２】この透明ガラス棒の外周上に、酸水素バー
ナを用いてＶＡＤ法により、純石英ガラス微粒子を積層
させ、再び約１０００℃の温度条件で、塩素系ガス含有
ヘリウムガス雰囲気中にて脱水処理した後、ヘリウムガ
ス雰囲気中、約１５００℃で透明ガラス化するという工
程を３回繰り返して外径４０ｍｍのプリフォームを得
た。最後にこのプリフォームを線引きして外径１２５μ
ｍの光ファイバとした。
ナを用いてＶＡＤ法により、純石英ガラス微粒子を積層
させ、再び約１０００℃の温度条件で、塩素系ガス含有
ヘリウムガス雰囲気中にて脱水処理した後、ヘリウムガ
ス雰囲気中、約１５００℃で透明ガラス化するという工
程を３回繰り返して外径４０ｍｍのプリフォームを得
た。最後にこのプリフォームを線引きして外径１２５μ
ｍの光ファイバとした。
【００４３】（実施例２）Δ−が−０．２％となるよう
に０．８重量％のフッ素を添加することと、フッ素を添
加する際に、ＳｉＦ4ガスの供給速度を６ｃｃ／ｍｉ
ｎ、ヘリウムガスの供給速度を６Ｌ／ｍｉｎとした以外
は、実施例１と同様にして製造した。 （実施例３）中間部母材のフッ素の添加と透明ガラス化
を別々の工程で行った以外は実施例１と同様とした。す
なわち、ゲルマニウム添加石英ガラス微粒子と純石英ガ
ラス微粒子とからなる二層構造の多孔質体を形成し、そ
の中心のゲルマニウム添加石英ガラス微粒子のみのガラ
ス化を１１５０℃の温度条件で進行させ、かさ密度を上
昇させた。ついで約１２００℃の温度条件で、ＳｉＦ4
ガス（１ｃｃ／ｍｉｎ）とヘリウムガス（６Ｌ／ｍｉ
ｎ）の混合雰囲気中にて、外周部の純石英ガラス粒子か
らなる部分にΔ−が−０．１％となるように０．４重量
％のフッ素を添加した後、１４２０℃の温度条件で、ヘ
リウムガス雰囲気中で透明ガラス化して透明ガラス棒を
作製した。
に０．８重量％のフッ素を添加することと、フッ素を添
加する際に、ＳｉＦ4ガスの供給速度を６ｃｃ／ｍｉ
ｎ、ヘリウムガスの供給速度を６Ｌ／ｍｉｎとした以外
は、実施例１と同様にして製造した。 （実施例３）中間部母材のフッ素の添加と透明ガラス化
を別々の工程で行った以外は実施例１と同様とした。す
なわち、ゲルマニウム添加石英ガラス微粒子と純石英ガ
ラス微粒子とからなる二層構造の多孔質体を形成し、そ
の中心のゲルマニウム添加石英ガラス微粒子のみのガラ
ス化を１１５０℃の温度条件で進行させ、かさ密度を上
昇させた。ついで約１２００℃の温度条件で、ＳｉＦ4
ガス（１ｃｃ／ｍｉｎ）とヘリウムガス（６Ｌ／ｍｉ
ｎ）の混合雰囲気中にて、外周部の純石英ガラス粒子か
らなる部分にΔ−が−０．１％となるように０．４重量
％のフッ素を添加した後、１４２０℃の温度条件で、ヘ
リウムガス雰囲気中で透明ガラス化して透明ガラス棒を
作製した。
【００４４】表１に実施例１〜３の分散補償光ファイバ
の特性を示す。ＭＦＤはモードフィールド径、ＦＯＭ
（性能指数）は単位損失あたりの波長分散量を示す。カ
ットオフ波長（λC）はＣＩＴＴの２ｍ法によって測定
した値である。表１より、本発明に係る実施例１〜３の
分散補償光ファイバは、本発明の波長分散、分散スロー
プ、曲げ損失の目標値を満足している。そして、伝送損
失が小さく、偏波分散も小さくなっている。また実施例
１と実施例３においては、中間部母材の透明ガラス化と
フッ素の添加を一度に行っても別々の工程で行ってもほ
ぼ同じ特性値が得られることが確認できた。
の特性を示す。ＭＦＤはモードフィールド径、ＦＯＭ
（性能指数）は単位損失あたりの波長分散量を示す。カ
ットオフ波長（λC）はＣＩＴＴの２ｍ法によって測定
した値である。表１より、本発明に係る実施例１〜３の
分散補償光ファイバは、本発明の波長分散、分散スロー
プ、曲げ損失の目標値を満足している。そして、伝送損
失が小さく、偏波分散も小さくなっている。また実施例
１と実施例３においては、中間部母材の透明ガラス化と
フッ素の添加を一度に行っても別々の工程で行ってもほ
ぼ同じ特性値が得られることが確認できた。
【００４５】（比較例１）単峰型屈折率プロファイルを
有する光ファイバを作製した。ＶＡＤ法により、中心が
２５重量％のゲルマニウムが添加されたゲルマニウム添
加石英ガラス微粒子からなり、外周部が純石英ガラス微
粒子からなる外径１２０ｍｍの円柱状の多孔質体を作製
した。この多孔質体の密度は０．２ｇ／ｃｍ3であっ
た。この多孔質体を約１０００℃の温度条件で、塩素系
ガス含有ヘリウムガス雰囲気中にて脱水処理した後、約
１５００℃の温度条件でヘリウムガス雰囲気中にて透明
ガラス化し、透明ガラス棒とした。
有する光ファイバを作製した。ＶＡＤ法により、中心が
２５重量％のゲルマニウムが添加されたゲルマニウム添
加石英ガラス微粒子からなり、外周部が純石英ガラス微
粒子からなる外径１２０ｍｍの円柱状の多孔質体を作製
した。この多孔質体の密度は０．２ｇ／ｃｍ3であっ
た。この多孔質体を約１０００℃の温度条件で、塩素系
ガス含有ヘリウムガス雰囲気中にて脱水処理した後、約
１５００℃の温度条件でヘリウムガス雰囲気中にて透明
ガラス化し、透明ガラス棒とした。
【００４６】ついでこの透明ガラス棒を加熱延伸し、細
く引き伸ばした。さらにその外周上に、酸水素バーナを
用いてＶＡＤ法により、純石英ガラスの微粒子を積層さ
せ、再び約１０００℃の温度条件で、塩素系ガス含有ヘ
リウムガス雰囲気中にて脱水処理した後、約１５００℃
の温度条件で、ヘリウムガス雰囲気中にて透明ガラス化
するという工程を３回繰り返し、外径４０ｍｍのプリフ
ォームを得た。最後にこのプリフォームを線引きして外
径１２５μｍの光ファイバとした。
く引き伸ばした。さらにその外周上に、酸水素バーナを
用いてＶＡＤ法により、純石英ガラスの微粒子を積層さ
せ、再び約１０００℃の温度条件で、塩素系ガス含有ヘ
リウムガス雰囲気中にて脱水処理した後、約１５００℃
の温度条件で、ヘリウムガス雰囲気中にて透明ガラス化
するという工程を３回繰り返し、外径４０ｍｍのプリフ
ォームを得た。最後にこのプリフォームを線引きして外
径１２５μｍの光ファイバとした。
【００４７】この比較例１の光ファイバは、図７に示す
単峰型の屈折率プロファイルを有し、コア径は２．５μ
ｍで、コアとクラッドとの比屈折率差は２．５％であっ
た。この光ファイバの特性を表２に示す。表２よりこの
単峰型プロファイルを有するものは、分散スロープが大
きいことがわかる。
単峰型の屈折率プロファイルを有し、コア径は２．５μ
ｍで、コアとクラッドとの比屈折率差は２．５％であっ
た。この光ファイバの特性を表２に示す。表２よりこの
単峰型プロファイルを有するものは、分散スロープが大
きいことがわかる。
【００４８】（比較例２）図１に示すＷ型プロファイル
を有する光ファイバを作製するにおいて、Δ−が−０．
３５％、ｂ／ａが２．５となるようにした。製造方法
は、ＶＡＤ法によって中心コア部母材を形成した後、こ
の中心コア部母材の外周に、中間部母材とクラッド母材
を順次別々の工程で製造する方法を採用することとにし
た。
を有する光ファイバを作製するにおいて、Δ−が−０．
３５％、ｂ／ａが２．５となるようにした。製造方法
は、ＶＡＤ法によって中心コア部母材を形成した後、こ
の中心コア部母材の外周に、中間部母材とクラッド母材
を順次別々の工程で製造する方法を採用することとにし
た。
【００４９】まず酸水素バーナを用いてＶＡＤ法によ
り、２５重量％のゲルマニウムが添加されたゲルマニウ
ム添加石英ガラス微粒子からなる外径３０ｍｍ、密度
０．２５ｇ／ｃｍ3の円柱状の多孔質体を作製した。こ
の多孔質体を約１０００℃の温度条件で、塩素系ガス含
有ヘリウムガス雰囲気中にて脱水処理した後、約１４０
０℃の温度条件でヘリウムガス雰囲気中にて透明ガラス
化し、透明ガラス棒とした。この透明ガラス棒は高濃度
にゲルマニウムを含むために表面が円滑ではなかったの
で、外削によって滑らかにした。ついでこの透明ガラス
棒を加熱延伸し、細く引き伸ばした。
り、２５重量％のゲルマニウムが添加されたゲルマニウ
ム添加石英ガラス微粒子からなる外径３０ｍｍ、密度
０．２５ｇ／ｃｍ3の円柱状の多孔質体を作製した。こ
の多孔質体を約１０００℃の温度条件で、塩素系ガス含
有ヘリウムガス雰囲気中にて脱水処理した後、約１４０
０℃の温度条件でヘリウムガス雰囲気中にて透明ガラス
化し、透明ガラス棒とした。この透明ガラス棒は高濃度
にゲルマニウムを含むために表面が円滑ではなかったの
で、外削によって滑らかにした。ついでこの透明ガラス
棒を加熱延伸し、細く引き伸ばした。
【００５０】この延伸された透明ガラス棒の外周上に、
酸水素バーナを用いてＶＡＤ法により、純石英ガラス微
粒子を積層させた。ついで、再び約１０００℃の温度条
件で塩素系ガス含有ヘリウムガス雰囲気中にて脱水処理
した後、約１３８０℃の温度条件でＳｉＦ4ガス（３０
０ｃｃ／ｍｉｎ）とヘリウムガス（５Ｌ／ｍｉｎ）の混
合雰囲気中にて１．２重量％のフッ素を添加するととも
に透明ガラス化した。
酸水素バーナを用いてＶＡＤ法により、純石英ガラス微
粒子を積層させた。ついで、再び約１０００℃の温度条
件で塩素系ガス含有ヘリウムガス雰囲気中にて脱水処理
した後、約１３８０℃の温度条件でＳｉＦ4ガス（３０
０ｃｃ／ｍｉｎ）とヘリウムガス（５Ｌ／ｍｉｎ）の混
合雰囲気中にて１．２重量％のフッ素を添加するととも
に透明ガラス化した。
【００５１】さらにこの透明ガラス棒の外周上に、酸水
素バーナを用いてＶＡＤ法により、純石英ガラス微粒子
を積層させ、再び約１０００℃の温度条件で、塩素系ガ
ス含有ヘリウムガス雰囲気中にて脱水処理した後、約１
５００℃の温度条件でヘリウムガス雰囲気中にて透明ガ
ラス化するという工程を３回繰り返して外径４０ｍｍの
プリフォームを得た。最後にこのプリフォームを線引き
して外径１２５μｍの光ファイバとした。
素バーナを用いてＶＡＤ法により、純石英ガラス微粒子
を積層させ、再び約１０００℃の温度条件で、塩素系ガ
ス含有ヘリウムガス雰囲気中にて脱水処理した後、約１
５００℃の温度条件でヘリウムガス雰囲気中にて透明ガ
ラス化するという工程を３回繰り返して外径４０ｍｍの
プリフォームを得た。最後にこのプリフォームを線引き
して外径１２５μｍの光ファイバとした。
【００５２】表３にこの光ファイバの特性を示す。Δ−
が−０．３５％であり、その絶対値が大きかったのでフ
ッ素の添加量を多くする必要があり、伝送損失が大きく
なった。また偏波分散が大きいのは、中心コア部母材表
面の外削を行ったためである。
が−０．３５％であり、その絶対値が大きかったのでフ
ッ素の添加量を多くする必要があり、伝送損失が大きく
なった。また偏波分散が大きいのは、中心コア部母材表
面の外削を行ったためである。
【００５３】（比較例３）図１に示すＷ型プロファイル
を有する光ファイバを作製するにおいて、Δ−が−０．
３５％、ｂ／ａが２．５となるようにした。製造方法
は、中心コア母材と中間部母材の多孔質体の形成と透明
ガラス化、フッ素の添加を一連の工程で行うＶＡＤ法を
利用した方法を採用した。
を有する光ファイバを作製するにおいて、Δ−が−０．
３５％、ｂ／ａが２．５となるようにした。製造方法
は、中心コア母材と中間部母材の多孔質体の形成と透明
ガラス化、フッ素の添加を一連の工程で行うＶＡＤ法を
利用した方法を採用した。
【００５４】最初に中心が２６重量％のゲルマニウムが
添加されたゲルマニウム添加石英ガラス微粒子からな
り、その外周が純石英ガラス微粒子からなる外径１２０
ｍｍの円柱状の多孔質体を作製した。この多孔質体の密
度は０．２ｇ／ｃｍ3であった。 この多孔質体を１０
００℃の温度条件で、塩素系ガス含有ヘリウムガス雰囲
気中にて脱水処理した後、ヘリウムガス雰囲気中１１５
０℃の温度条件で、中心のゲルマニウム添加石英ガラス
微粒子のみガラス化を進行させ、かさ密度を上昇させ
た。
添加されたゲルマニウム添加石英ガラス微粒子からな
り、その外周が純石英ガラス微粒子からなる外径１２０
ｍｍの円柱状の多孔質体を作製した。この多孔質体の密
度は０．２ｇ／ｃｍ3であった。 この多孔質体を１０
００℃の温度条件で、塩素系ガス含有ヘリウムガス雰囲
気中にて脱水処理した後、ヘリウムガス雰囲気中１１５
０℃の温度条件で、中心のゲルマニウム添加石英ガラス
微粒子のみガラス化を進行させ、かさ密度を上昇させ
た。
【００５５】この後約１３８０℃の温度条件で、ＳｉＦ
4ガス（３００ｃｃ／ｍｉｎ）とヘリウムガス（５Ｌ／
ｍｉｎ）の混合雰囲気中にて、外周部の純石英ガラス粒
子からなる部分を透明ガラス化するとともに、１．２重
量％のフッ素を添加した透明ガラス棒を作製した。
4ガス（３００ｃｃ／ｍｉｎ）とヘリウムガス（５Ｌ／
ｍｉｎ）の混合雰囲気中にて、外周部の純石英ガラス粒
子からなる部分を透明ガラス化するとともに、１．２重
量％のフッ素を添加した透明ガラス棒を作製した。
【００５６】ところがこの透明ガラス棒の各部分の屈折
率を測定したところ、中心コア母材の屈折率がはじめの
ゲルマニウム添加ガラス粒子のものよりも低下してお
り、フッ素の添加の影響をうけていることがわかった。
また、ゲルマニウム添加石英ガラス微粒子のガラス化を
進行させ、そのかさ密度を上昇させるために行った加熱
処理温度を１２００℃としたところ、その外周部の純石
英ガラス粒子部分に充分にフッ素を添加することができ
なかった。このため、この屈折率低下の分を見越して、
最初からゲルマニウムを実際の中心コア部２１ａの屈折
率よりも高くなるように、２９重量％のゲルマニウムを
添加したゲルマニウム添加石英ガラス粒子を用いて、上
述と同様の操作で再び透明ガラス棒を製造したところ、
はじめのゲルマニウム添加石英ガラスの屈折率よりも低
下したものの、所望の中心コア母材の屈折率が得られ
た。
率を測定したところ、中心コア母材の屈折率がはじめの
ゲルマニウム添加ガラス粒子のものよりも低下してお
り、フッ素の添加の影響をうけていることがわかった。
また、ゲルマニウム添加石英ガラス微粒子のガラス化を
進行させ、そのかさ密度を上昇させるために行った加熱
処理温度を１２００℃としたところ、その外周部の純石
英ガラス粒子部分に充分にフッ素を添加することができ
なかった。このため、この屈折率低下の分を見越して、
最初からゲルマニウムを実際の中心コア部２１ａの屈折
率よりも高くなるように、２９重量％のゲルマニウムを
添加したゲルマニウム添加石英ガラス粒子を用いて、上
述と同様の操作で再び透明ガラス棒を製造したところ、
はじめのゲルマニウム添加石英ガラスの屈折率よりも低
下したものの、所望の中心コア母材の屈折率が得られ
た。
【００５７】この透明ガラス棒の外周上に、酸水素バー
ナを用いてＶＡＤ法により、純石英ガラス微粒子を積層
させ、再び約１０００℃の温度条件で、塩素系ガス含有
ヘリウムガス雰囲気中にて脱水処理した後、ヘリウムガ
ス雰囲気中、約１５００℃で透明ガラス化するという工
程を３回繰り返して外径４０ｍｍのプリフォームを得
た。最後にこのプリフォームを線引きして外径１２５μ
ｍの光ファイバとした。
ナを用いてＶＡＤ法により、純石英ガラス微粒子を積層
させ、再び約１０００℃の温度条件で、塩素系ガス含有
ヘリウムガス雰囲気中にて脱水処理した後、ヘリウムガ
ス雰囲気中、約１５００℃で透明ガラス化するという工
程を３回繰り返して外径４０ｍｍのプリフォームを得
た。最後にこのプリフォームを線引きして外径１２５μ
ｍの光ファイバとした。
【００５８】表３にこの光ファイバの特性を示す。Δ−
が−０．３５％であって、フッ素の添加量を多くする必
要があったため、伝送損失が大きくなった。また、上述
のように中心コア母材の屈折率下降分を見越してゲルマ
ニウムの添加量を多くする必要があるため、コストが高
くなることがわかった。
が−０．３５％であって、フッ素の添加量を多くする必
要があったため、伝送損失が大きくなった。また、上述
のように中心コア母材の屈折率下降分を見越してゲルマ
ニウムの添加量を多くする必要があるため、コストが高
くなることがわかった。
【００５９】
【表１】
【００６０】
【表２】
【００６１】
【表３】
【００６２】実施例１〜３、比較例１〜３の結果から、
本発明に係る分散補償光ファイバは、１．３ＳＭＦを補
償することができる充分に小さい負の波長分散の値を有
し、かつ分散スロープが小さいものである。さらにはフ
ッ素の添加量が少ないため、コストが低くなるととも
に、伝送損失が小さいものである。また実際の製造にお
いては、フッ素の添加が影響して中心コア母材の屈折率
が低下することが少ないので、ＶＡＤ法を利用した方法
によって一連の操作で中心コア部母材と中間部母材を作
製することができ、効率的である。このようにドーパン
トが相互に影響し合うことが少ないので、設計条件にあ
わせて材料組成を設定すれば、所望の比屈折率差Δ−、
Δ＋が得られる。したがってドーパントの添加量が少な
く、かつ製造条件を定めるまでの予備実験回数が少なく
なり、さらにコストダウンを図ることができる。
本発明に係る分散補償光ファイバは、１．３ＳＭＦを補
償することができる充分に小さい負の波長分散の値を有
し、かつ分散スロープが小さいものである。さらにはフ
ッ素の添加量が少ないため、コストが低くなるととも
に、伝送損失が小さいものである。また実際の製造にお
いては、フッ素の添加が影響して中心コア母材の屈折率
が低下することが少ないので、ＶＡＤ法を利用した方法
によって一連の操作で中心コア部母材と中間部母材を作
製することができ、効率的である。このようにドーパン
トが相互に影響し合うことが少ないので、設計条件にあ
わせて材料組成を設定すれば、所望の比屈折率差Δ−、
Δ＋が得られる。したがってドーパントの添加量が少な
く、かつ製造条件を定めるまでの予備実験回数が少なく
なり、さらにコストダウンを図ることができる。
【００６３】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の分散補償
光ファイバは、ｂ／ａを２．５〜３．５、Δ−を−０．
０８〜−０．２％のそれぞれの範囲から適切に組み合わ
せて選択することによって、単峰型プロファイルを有す
る分散補償光ファイバよりも分散スロープを小さくする
ことができると同時に、従来のＷ型プロファイルを有す
る分散補償光ファイバよりも伝送損失が小さい分散補償
光ファイバを提供することができる。この結果、光通信
システムなどにおいて補償対象となる１．３μｍＳＭＦ
と組み合わせたときに、その波長分散を補償することが
でき、曲げ損失が小さく、低損失で、分散スロープが小
さい分散補償光ファイバが得られる。また、フッ素の添
加量を従来より大幅に少なくすることができるので低コ
ストである。
光ファイバは、ｂ／ａを２．５〜３．５、Δ−を−０．
０８〜−０．２％のそれぞれの範囲から適切に組み合わ
せて選択することによって、単峰型プロファイルを有す
る分散補償光ファイバよりも分散スロープを小さくする
ことができると同時に、従来のＷ型プロファイルを有す
る分散補償光ファイバよりも伝送損失が小さい分散補償
光ファイバを提供することができる。この結果、光通信
システムなどにおいて補償対象となる１．３μｍＳＭＦ
と組み合わせたときに、その波長分散を補償することが
でき、曲げ損失が小さく、低損失で、分散スロープが小
さい分散補償光ファイバが得られる。また、フッ素の添
加量を従来より大幅に少なくすることができるので低コ
ストである。
【００６４】さらに本発明の分散補償光ファイバは、中
間部のフッ素添加量が少ないため、純石英ガラスの融点
とドーパントが添加された石英ガラスの融点の違いを利
用したＶＡＤ法を利用した製造方法によって、ゲルマニ
ウムとフッ素を選択的に効率よく添加して製造すること
ができる。このためゲルマニウム、フッ素の添加量を必
要最低限にすることができ、また製造条件を定めるまで
の予備実験の回数が少なくなり、低コスト化を図ること
ができる。また従来の製造方法のように、外削を行う必
要も生じないので、偏波分散の上昇もない。
間部のフッ素添加量が少ないため、純石英ガラスの融点
とドーパントが添加された石英ガラスの融点の違いを利
用したＶＡＤ法を利用した製造方法によって、ゲルマニ
ウムとフッ素を選択的に効率よく添加して製造すること
ができる。このためゲルマニウム、フッ素の添加量を必
要最低限にすることができ、また製造条件を定めるまで
の予備実験の回数が少なくなり、低コスト化を図ること
ができる。また従来の製造方法のように、外削を行う必
要も生じないので、偏波分散の上昇もない。
【図１】 本発明の分散補償光ファイバの屈折率プロフ
ァイルであるＷ型プロファイルの一例を示す図である。
ァイルであるＷ型プロファイルの一例を示す図である。
【図２】 Ｗ型プロファイルの中間部へのフッ素の添加
によるΔ−の変化と分散補償光ファイバの伝送損失との
関係を示すグラフである。
によるΔ−の変化と分散補償光ファイバの伝送損失との
関係を示すグラフである。
【図３】 Δ−が−０．２％の場合の、Ｗ型プロファイ
ルの中心コア部の外径ａと、波長分散、分散スロープ、
曲げ損失との関係のシュミレーション結果を示すグラフ
である。
ルの中心コア部の外径ａと、波長分散、分散スロープ、
曲げ損失との関係のシュミレーション結果を示すグラフ
である。
【図４】 Δ−が−０．１％の場合の図３と同様のグラ
フである。
フである。
【図５】 Δ−が−０．０８％の場合の図３と同様のグ
ラフである。
ラフである。
【図６】 Δ−が−０．０７％の場合の図３と同様のグ
ラフである。
ラフである。
【図７】 従来の分散補償光ファイバに用いられる単峰
型の屈折率プロファイルを示す図である。
型の屈折率プロファイルを示す図である。
【図８】 単峰型プロファイルのコア径と、波長分散、
分散スロープ、曲げ損失との関係のシュミレーション結
果を示すグラフである。
分散スロープ、曲げ損失との関係のシュミレーション結
果を示すグラフである。
２１ａ…中心コア部、２１ｂ…中間部、２２…クラッ
ド、ａ…中心コア部の外径、ｂ…中間部の外径、Δ−…
クラッドと中間部との比屈折率差、Δ＋…クラッドと中
心コア部との比屈折率差。
ド、ａ…中心コア部の外径、ｂ…中間部の外径、Δ−…
クラッドと中間部との比屈折率差、Δ＋…クラッドと中
心コア部との比屈折率差。
フロントページの続き (72)発明者 山内 良三 千葉県佐倉市六崎1440番地 株式会社フジ クラ佐倉工場内
Claims (1)
- 【請求項１】 中心コア部と、この中心コア部の外周に
設けられ、この中心コア部よりも低屈折率の中間部と、
この中間部の外周に設けられ、この中間部よりも高屈折
率で、かつ前記中心コア部よりも低屈折率のクラッドと
からなり、 前記中間部の外径が前記中心コア部の外径の２．５〜
３．５倍であり、 前記クラッドと前記中間部との比屈折率差が、このクラ
ッドの屈折率をゼロとしたときに−０．０８〜−０．２
％であり、 波長１．５５μｍ帯において、実質的にシングルモード
伝搬となり、波長分散が−８０ｐｓ／ｎｍ／ｋｍ以下で
あり、かつ分散スロープが＋０．０８ｐｓ／ｎｍ2／ｋ
ｍ以下であり、かつ曲げ損失が１．０ｄＢ／ｍ以下であ
ることを特徴とする分散補償光ファイバ。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25249697A JP3337954B2 (ja) | 1997-09-17 | 1997-09-17 | 分散補償光ファイバ |
| EP98400898A EP0903598A1 (en) | 1997-09-17 | 1998-04-10 | Dispersion compensating optical fiber |
| US09/059,242 US5995695A (en) | 1997-09-17 | 1998-04-13 | Dispersion compensating optical fiber |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25249697A JP3337954B2 (ja) | 1997-09-17 | 1997-09-17 | 分散補償光ファイバ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1195056A true JPH1195056A (ja) | 1999-04-09 |
| JP3337954B2 JP3337954B2 (ja) | 2002-10-28 |
Family
ID=17238191
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25249697A Expired - Fee Related JP3337954B2 (ja) | 1997-09-17 | 1997-09-17 | 分散補償光ファイバ |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5995695A (ja) |
| EP (1) | EP0903598A1 (ja) |
| JP (1) | JP3337954B2 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| US7233728B2 (en) | 2002-03-13 | 2007-06-19 | Fujikura Ltd. | Dispersion compensating optical fiber |
Families Citing this family (33)
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| EP1096279A4 (en) * | 1998-07-07 | 2006-11-02 | Sumitomo Electric Industries | OPTICAL FIBER |
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