JPH1188134A - レベルシフト回路 - Google Patents

レベルシフト回路

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JPH1188134A
JPH1188134A JP9250163A JP25016397A JPH1188134A JP H1188134 A JPH1188134 A JP H1188134A JP 9250163 A JP9250163 A JP 9250163A JP 25016397 A JP25016397 A JP 25016397A JP H1188134 A JPH1188134 A JP H1188134A
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JP
Japan
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terminal
type mosfet
gate
resistance element
gate terminal
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JP9250163A
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English (en)
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Hideo Nagahama
英雄 長浜
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Panasonic Electric Works Co Ltd
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Matsushita Electric Works Ltd
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Publication date
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Publication of JPH1188134A publication Critical patent/JPH1188134A/ja
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 レベルシフト電流が急激に流れた場合におい
ても素子破壊を生じたり、ノイズにより誤動作を発生さ
せることのないレベルシフト回路を提供する。 【解決手段】 レベルシフト回路LSのN型MOSFET3の
ゲート端子と制御素子CR1との間に、N型MOSFET3の
ゲート端子に印加するゲート電圧を2段階に印加する2
段階昇圧スイッチ回路SSを介在させた構成である。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、レベルシフト回路
に関するものである。
【0002】
【従来の技術】図6は、従来例に係るレベルシフト回路
LSを含むインバ−タ回路である。Q1及びQ2はパワ
ー素子であるN型MOSFETであり、ソ−ス端子同士が接続
され、ドレイン端子間には直列電源E4が接続されてい
る。DR1及びDR2は駆動素子であり、これら2つの
駆動素子DR1,DR2から出力される駆動信号により
N型MOSFETQ1,Q2を交互にスイッチングすること
で、直流電源E4を交流電源に変換して負荷回路R9,
R10に供給する。CR1及びCR2は駆動素子DR
1,DR2を制御する制御素子であり、E2及びE3は
駆動電源であり、駆動素子DR1,DR2に電力を供給
する。Pは制御装置であり、N型MOSFETQ1,Q2に対
して制御信号を発生する。制御装置Pと駆動素子DR1
とは、制御素子CR1及びレベルシフト回路LSを介し
て接続され、制御装置Pと駆動素子DR2とは、制御素
子CR1,CR2を介して接続される。
【0003】レベルシフト回路LSは、2つのP型MOSF
ET1,2と、N型MOSFET3と、抵抗素子R1とにより構
成され、P型MOSFET1,2は、カレントミラー回路を構
成する。N型MOSFET3は、P型MOSFET1のドレイン端子
とグランドとの間に接続され、N型MOSFET3がオンする
とP型MOSFET1,2にレベルシフト電流Iが流れる。抵
抗素子R1は、P型MOSFET3のドレイン端子と駆動電源
E2の低電位側との間に接続され、N型MOSFET3のゲー
ト・ソース間に制御装置Pにより制御信号が印加される
と、抵抗素子R1の両端に電圧を発生させる。
【0004】以下、レベルシフト回路LSの動作につい
て説明する。出力電圧Vs及びN型MOSFET3のドレイン
・ソース間電圧Vmが高電位である場合、制御素子CR
1を介して出力される制御信号によってN型MOSFET3が
オンされるとレベルシフト電流Iが流れる。このレベル
シフト電流Iは、カレントミラー回路を構成するP型MO
SFET1,2に流れる。このレベルシフト電流Iによって
抵抗素子R1の両端に電圧が発生し、駆動素子DR1に
入力される。この場合、P型MOSFET1,2は能動領域で
動作し大きな遅延はない。
【0005】また、N型MOSFET3がオフした場合、N型
MOSFET3のドレイン・ソース間の寄生容量に蓄積された
電荷は、P型MOSFET1の寄生ダイオードを介して放電さ
れる。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】ところが、上述のよう
な構成のレベルシフト回路LSでは、N型MOSFET3に高
電圧が印加されている状態でゲート・ソース間に制御素
子CR1を介して出力される制御信号が印加されると、
ドレイン・ソース間電圧の急激な電圧変動によってレベ
ルシフト電流Iが急激に流れ、図7に示すような定格以
上の過電流Ipが瞬時に流れることになる。この過電流
Ipによって素子破壊が発生したり、ノイズを生じ周辺
回路が誤動作を起こすという問題があった。
【0007】本発明は、上記の点に鑑みて成されたもの
であり、その目的とするところは、レベルシフト電流が
急激に流れた場合においても素子破壊を生じたり、ノイ
ズにより誤動作を発生させることのないレベルシフト回
路を提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】請求項1記載の発明は、
第1及び第2のP型MOSFETによりカレントミラー回路を
構成し、前記第1のP型MOSFETとグランドとを第1のN
型MOSFETを介して接続し、前記第2のP型MOSFETのソー
ス端子とドレイン端子とをソース端子側が高電位になる
ように駆動電源を介して接続し、前記第2のP型MOSFET
のドレイン端子と前記駆動電源の低電位側とを第1の抵
抗素子を介して接続して成り、前記第1のN型MOSFETの
ゲート・ソース間に制御素子からの制御信号を印加する
ことで前記第1及び第2のP型MOSFETに流れるレベルシ
フト電流により前記第1の抵抗素子に電圧を発生させる
ことによってレベル変換を行うレベルシフト回路におい
て、前記第1のN型MOSFETのゲート端子に印加されるゲ
ート電圧を段階的に印加する段階昇圧スイッチ回路を前
記第1のN型MOSFETのゲート端子と前記制御素子との間
に設けたことを特徴とするものである。
【0009】請求項2記載の発明は、請求項1記載のレ
ベルシフト回路において、前記段階昇圧スイッチ回路
を、前記制御素子の出力端子に入力端子が接続されたイ
ンバータと、該インバータの出力端子と前記第1のN型
MOSFETのゲート端子との間に第2の抵抗素子を介してア
ノードが接続された第1のダイオードと、前記制御素子
の出力端子にゲート端子が、前記第1のN型MOSFETのゲ
ート端子にドレイン端子が、グランドにソース端子が接
続された第2のN型MOSFETと、前記第2の抵抗素子と前
記第1のダイオードとの接続点に第3の抵抗素子を介し
てドレイン端子が、グランドにソース端子が接続された
第3のN型MOSFETと、前記第3の抵抗素子と前記第3の
N型MOSFETとの接続点に一方の端子が、前記第1のN型
MOSFETのゲート端子に他方の端子が接続された第1のコ
ンデンサと、前記第1のN型MOSFETのゲート端子とグラ
ンドとの間に接続された第4及び第5の抵抗素子から成
る直列回路と、前記第3のN型MOSFETのゲート端子に出
力端子及び非反転入力端子が、前記第4の抵抗素子と前
記第5の抵抗素子との接続点に反転入力端子が接続され
た増幅器とで構成したことを特徴とするものである。
【0010】請求項3記載の発明は、請求項1記載のレ
ベルシフト回路において、前記段階昇圧スイッチ回路
を、前記制御素子の出力端子に入力端子が接続されたイ
ンバータと、該インバータの出力端子と前記第1のN型
MOSFETのゲート端子との間に抵抗素子R2を介してアノ
ードが接続された第1のダイオードと、前記制御素子の
出力端子にゲート端子が、前記第1のN型MOSFETのゲー
ト端子にドレイン端子が、グランドにソース端子が接続
された第2のN型MOSFETと、前記第1のN型MOSFETのゲ
ート端子とグランドとの間に接続された第4及び第5の
抵抗素子から成る直列回路と、前記第1のN型MOSFETの
ゲート端子に第6及び第7の抵抗素子を介してドレイン
端子が、前記第4の抵抗素子と前記第5の抵抗素子との
接続点にゲート端子が、グランドにソース端子が接続さ
れた第4のN型MOSFETと、前記第2の抵抗素子と前記第
1のダイオードとの接続点に第3の抵抗素子を介してド
レイン端子が、前記第6の抵抗素子と前記第7の抵抗素
子との接続点にゲート端子が、グランドにソース端子が
接続された第3のN型MOSFETと、前記第3の抵抗素子と
前記第3のN型MOSFETとの接続点に一方の端子が、前記
第1のN型MOSFETのゲート端子に他方の端子が接続され
た第1のコンデンサと、前記第3のN型MOSFETのゲート
端子とグランドとの間に接続された第2のコンデンサと
で構成したことを特徴とするものである。
【0011】請求項4記載の発明は、請求項1記載のレ
ベルシフト回路において、前記段階昇圧スイッチ回路
を、前記制御素子の出力端子に入力端子が接続されたイ
ンバータと、該インバータの出力端子と前記第1のN型
MOSFETのゲート端子との間に抵抗素子R2を介してアノ
ードが接続された第1のダイオードと、前記制御素子の
出力端子にゲート端子が、前記第1のN型MOSFETのゲー
ト端子にドレイン端子が、グランドにソース端子が接続
された第2のN型MOSFETと、前記第1のN型MOSFETのゲ
ート端子にアノードが接続された第2のダイオードと、
該第2のダイオードのカソードにカソードが接続された
第1のツェナーダイオードと、該第1のツェナーダイオ
ードのアノードにカソードが、グランドにアノードが接
続された第2のツェナーダイオードと、前記第2の抵抗
素子と前記第1のダイオードとの接続点に第3の抵抗素
子を介してドレイン端子が、前記第1のツェナーダイオ
ードと前記第2のツェナーダイオードとの接続点と第8
の抵抗素子を介してゲート端子が、グランドにソース端
子が接続された第3のP型MOSFETと、前記第3の抵抗素
子と前記第3のP型MOSFETとの接続点に一方の端子が、
前記第1のN型MOSFETのゲート端子に他方の端子が接続
された第1のコンデンサと、前記第3のP型MOSFETのゲ
ート端子とグラントとの間に接続された第2のコンデン
サとで構成したことを特徴とするものである。
【0012】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態について
図面に基づき説明する。
【0013】=実施形態1= 図1は、本発明の一実施形態に係るレベルシフト回路L
Sを示す回路図である。本実施形態に係るレベルシフト
回路LSは、従来例として図6に示すレベルシフト回路
LSのN型MOSFET3のゲート端子と制御素子CR1との
間に、N型MOSFET3のゲート端子にゲート電圧を印加す
る際に、2段階に電圧を上げて印加する2段階昇圧スイ
ッチ回路SSを介在させた構成である。
【0014】以下、本実施形態に係るレベルシフト回路
LSの動作について、図1,図2に基づいて説明する。
図2は、本実施形態に係るレベルシフト回路LSのレベ
ルシフト電流を示すグラフである。N型MOSFET3のゲー
ト・ソース間に信号Vgsが入力され、N型MOSFET3がオ
ンすると、P型MOSFET1,2がオン状態に移行し、その
際に、図7に示すように過電流Ipが流れることがあ
る。このオン状態への移行時において、N型MOSFET3の
ゲート端子に印加される制御信号電圧(Vgs)を、2段
階昇圧スイッチ回路SSによって2段階に印加する(V
gs1とVgs2)。
【0015】従って、本実施形態においては、ゲート電
圧(Vgs)を2段階に印加することによってレベルシフ
ト電流Iが2段階に流れ、レベルシフト電流Iの立ち上
がり(dI/dt)を緩和して素子破壊を防止し、この
過電流Ipによるノイズを抑え、周辺回路の誤動作を防
止することができる。
【0016】なお、本実施形態においては、N型MOSFET
3のゲート端子へのゲート電圧の印加を2段階に上げて
印加するようにしたが、これに限定される必要はなく、
3段階以上に上げて印加するようにしてもよい。
【0017】=実施形態2= 図3は、本発明の他の実施形態に係るレベルシフト回路
LSを示す回路図である。本実施形態に係るレベルシフ
ト回路LSは、実施形態1として図1に示すレベルシフ
ト回路LSにおいて、2段階昇圧スイッチ回路SSを、
N型MOSFET4,5と、抵抗素子R2〜R5と、増幅器O
Pと、ダイオードD1と、インバータINと、コンデン
サC1とで構成したものである。
【0018】2段階昇圧スイッチ回路SSのインバータ
INの入力端子は、制御素子CR1の出力端子に接続さ
れ、インバータINの出力端子は抵抗素子R2を介して
ダイオードD1のアノードに接続され、ダイオードD1
のカソードはN型MOSFET3のゲート端子に接続されてい
る。
【0019】そして、制御素子CR1の出力端子にゲー
ト端子が、N型MOSFET3のゲート端子にドレイン端子
が、グランドにソース端子が接続されるようにN型MOSF
ET4が接続され、N型MOSFET4のドレイン端子とソース
端子との間に抵抗素子R4,R5の直列回路が接続され
ている。
【0020】また、抵抗素子R2とダイオードD1との
接続点に抵抗素子R3の一方の端子が接続され、抵抗素
子R3の他方の端子にドレイン端子が、グランドにソー
ス端子が接続されるようにN型MOSFET5が接続されてい
る。
【0021】また、抵抗素子R3とN型MOSFET5の接続
点とN型MOSFET3のゲート端子とはコンデンサC1を介
して接続され、抵抗素子R4と抵抗素子R5との接続点
とN型MOSFET5のゲート端子とは、増幅器OPを介して
接続されている。ここで、増幅器OPは、出力端子及び
非反転入力端子(+)がN型MOSFET5のゲート端子に、
反転入力端子が抵抗素子R4と抵抗素子R5の接続点に
接続されている。
【0022】以下、本実施形態に係るレベルシフト回路
LSの動作について、図3に基づいて説明する。N型MO
SFET3がオフ状態であるとき、制御素子CR1からの出
力は高電位で、インバータINからの出力は低電位、N
型MOSFET4はオン状態であり、N型MOSFET3のゲート電
圧を接地している。この時、増幅器OPは、反転入力端
子(−)が低電位であるため、高電位が出力され、N型
MOSFET5がオン状態である。
【0023】そして、N型MOSFET3のゲート電圧を2段
階に印加するが、先ず第1段階について説明する。N型
MOSFET3のゲート・ソース間に信号Vgsが入力され、
N型MOSFET3がオン状態に移行すると、制御素子CR1
からの出力は低電位で、N型MOSFET4はオフ状態に移行
し、増幅器OPの出力は高電位から低電位へと移行して
いき、N型MOSFET3のゲート端子にゲート電圧が印加さ
れる。
【0024】この時、抵抗素子R2とダイオードD1を
介してコンデンサC1が充電され、抵抗素子R2とコン
デンサC1とで決定される時定数でN型MOSFET3のゲー
ト端子に印加されるゲート電圧が所定の電位(Vgs1)
まで上昇し、それに伴って増幅器OPの反転入力端子
(−)の電位も上昇し、N型MOSFET5はオフ状態にな
り、第2段階に移行する。
【0025】第2段階は、コンデンサC1の低電位側が
高電位まで上昇し、これによりダイオードD1は逆バイ
アスされて非導通状態となり、コンデンサC1に充電さ
れた電圧分だけN型MOSFET3のゲート端子に印加される
ゲート電圧が上昇し、レベルシフト電流Iは定格に達す
る。
【0026】このように、N型MOSFET3のゲート端子に
印加されるゲート電圧を動作周波数の妨げにならないよ
う段階的に印加し、立ち上がり(dVgs/dt)を最適
設計することでレベルシフト電流Iの急激な変動を抑
え、これにより立ち上がり(dI/dt)を緩和するこ
とができる。
【0027】=実施形態3= 図4は、本発明の他の実施形態に係るレベルシフト回路
を示す回路図である。実施形態1として図1に示すレベ
ルシフト回路LSにおいて、増幅器OPの代わりに、N
型MOSFET6と、抵抗素子R6,R7と、コンデンサC2
とを用いた構成である。ここで、抵抗素子R6と抵抗素
子R7とから成る直列回路の一方の端子がN型MOSFET3
のゲート端子に接続され、前記直列回路の他方の端子に
ドレイン端子が、グランドにソース端子が接続されるよ
うにN型MOSFET6が接続され、N型MOSFET6のゲート端
子は抵抗素子R4と抵抗素子R5との接続点に接続さ
れ、抵抗素子R6と抵抗素子R7との接続点はN型MOSF
ET5のゲート端子に接続されている。そして、N型MOSF
ET5のゲート端子とソース端子とはコンデンサC2を介
して接続されている。
【0028】以下、本実施形態に係るレベルシフト回路
LSの動作について、図4に基づいて説明する。なお、
本実施形態における第2段階の動作は、実施形態2と同
様であるので、ここでは第1段階についてのみ説明を行
う。N型MOSFET3がオフ状態であるとき、制御素子CR
1からの出力は高電位で、インバータINからの出力は
低電位、N型MOSFET4はオン状態であり、N型MOSFET3
のゲート電圧を接地している。また、N型MOSFET5,6
はオフ状態である。
【0029】そして、N型MOSFET3のゲート・ソース間
に信号Vgsが入力され、N型MOSFET3がオン状態に移
行すると、制御素子CR1からの出力は低電位で、N型
MOSFET4はオフ状態に移行する。
【0030】この時、抵抗素子R2とダイオードD1を
介してコンデンサC1が充電され、抵抗素子R2とコン
デンサC1とで決定される時定数でN型MOSFET3のゲー
ト端子に印加されるゲート電圧が所定の電位(Vgs1)
まで上昇し、それに伴ってN型MOSFET5,6のゲート端
子に印加されるゲート電圧も上昇し、N型MOSFET5,6
はオン状態に移行する。
【0031】そして、抵抗素子R7とコンデンサC2と
で決定される時定数でN型MOSFET5のゲート端子に印加
されるゲート電圧が下降し、N型MOSFET5はオフ状態に
なり、第2段階に移行する。
【0032】この第2段階に移行するまでの時間は、抵
抗素子R7とコンデンサC2との時定数で決まり、最適
設計を行うことで過電流Ipが発生する領域(期間)を
第1段階で動作させ、過電流Ipが発生しない領域では
第2段階の定格動作をさせることができる。これによ
り、過電流抑制をより確実に行うことができる。
【0033】=実施形態4= 図5は、本発明の他の実施形態に係るレベルシフト回路
LSを示す回路図である。本実施形態に係るレベルシフ
ト回路LSは、実施形態2として図3に示すレベルシフ
ト回路LSにおいて、N型MOSFET5と増幅器OPと抵抗
素子R4,R5の代わりに、P型MOSFET7と、抵抗素子
R8と、ダイオードD2と、ツェナーダイオードZD
1,ZD2とを用いた構成である。ここで、抵抗素子R
3の一方の端子にソース端子が、グランドにドレイン端
子が接続されるようにP型MOSFET7が接続され、p型MO
SFET7のゲート端子とドレイン端子とはコンデンサC2
を介して接続されている。また、N型MOSFET3のゲート
端子にはダイオードD2のアノードが接続され、ダイオ
ードD2のカソードには、ツェナーダイオードZD1の
カソードが接続され、ツェナーダイオードZD1のアノ
ードにはツェナーダイオードZD2のカソードが接続さ
れ、ツェナーダイオードZD2のアノードはグランドに
接続されている。更に、ツェナーダイオードZD1とツ
ェナーダイオードZD2との接続点は、抵抗R8を介し
てP型MOSFET7のゲート端子に接続されている。
【0034】以下、本実施形態に係るレベルシフト回路
LSの動作について、図5に基づいて説明する。なお、
本実施形態における第2段階の動作は、実施形態2と同
様であるので、ここでは第1段階についてのみ説明を行
う。N型MOSFET3がオフ状態であるとき、制御素子CR
1からの出力は高電位で、インバータINからの出力は
低電位、N型MOSFET4はオン状態であり、N型MOSFET3
のゲート電圧を接地している。また、P型MOSFET7はオ
ン状態である。
【0035】そして、N型MOSFET3のゲート・ソース間
に信号Vgsが入力され、N型MOSFET3がオン状態に移
行すると、制御素子CR1からの出力は低電位で、N型
MOSFET4はオフ状態に移行し、N型MOSFET3のゲート端
子にゲート電圧が印加される。
【0036】N型MOSFET3のゲート端子に印加されるゲ
ート電圧は、抵抗素子R2とコンデンサC1とで決定さ
れる時定数でダイオードD2とツェナーダイオードZD
1,ZD2とで決定される電位(Vgs1)まで上昇す
る。これにより、ダイオードD2とツェナーダイオード
ZD1,ZD2は導通状態になり、コンデンサC2は、
ダイオードD2とツェナーダイオードZD1と抵抗素子
R8とを介して充電される。
【0037】この時、抵抗素子R8とコンデンサC2と
で決定される時定数でP型MOSFET7のゲート端子に印加
されるゲート電圧が上昇し、P型MOSFET7はオフ状態と
なって第2段階に移行する。
【0038】この第2段階に移行するまでの時間は、抵
抗素子R8とコンデンサC2とで決定される時定数で決
まり、最適設計を行うことで過電流Ipが発生する領域
(期間)を第1段階で動作させ、過電流Ipが発生しな
い領域では第2段階の定格動作をさせることができる。
これにより、過電流抑制をより確実に行うことができ
る。
【0039】
【発明の効果】請求項1乃至請求項4記載の発明は、第
1及び第2のP型MOSFETによりカレントミラー回路を構
成し、第1のP型MOSFETとグランドとを第1のN型MOSF
ETを介して接続し、第2のP型MOSFETのソース端子とド
レイン端子とをソース端子側が高電位になるように駆動
電源を介して接続し、第2のP型MOSFETのドレイン端子
と駆動電源の低電位側とを第1の抵抗素子を介して接続
して成り、第1のN型MOSFETのゲート・ソース間に制御
素子からの制御信号を印加することで第1及び第2のP
型MOSFETに流れるレベルシフト電流により第1の抵抗素
子に電圧を発生させることによってレベル変換を行うレ
ベルシフト回路において、第1のN型MOSFETのゲート端
子に印加されるゲート電圧を段階的に印加する段階昇圧
スイッチ回路を第1のN型MOSFETのゲート端子と制御素
子との間に設けたので、ゲート電圧を段階的に印加する
ことによってレベルシフト電流が段階的に流れ、レベル
シフト電流の立ち上がりを緩和して素子破壊を防止し、
インバータ動作時に過渡的に流れる過電流によるノイズ
を抑え、周辺回路の誤動作を防止することができ、レベ
ルシフト電流が急激に流れた場合においても素子破壊を
生じたり、ノイズにより誤動作を発生させることのない
レベルシフト回路を提供することができた。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施形態に係るレベルシフト回路を
示す回路図である。
【図2】本実施形態に係るレベルシフト回路のレベルシ
フト電流を示すグラフである。
【図3】本発明の他の実施形態に係るレベルシフト回路
を示す回路図である。
【図4】本発明の他の実施形態に係るレベルシフト回路
を示す回路図である。
【図5】本発明の他の実施形態に係るレベルシフト回路
を示す回路図である。
【図6】従来例に係るレベルシフト回路を含むインバ−
タ回路である。
【図7】従来例に係るレベルシフト回路のレベルシフト
電流を示すグラフである。
【符号の説明】
LS レベルシフト回路 SS 2段階昇圧スイッチ回路 E1 電源 E2,E3 駆動電源 E4 直列電源 CR1,CR2 制御素子 P 制御装置 DR1,DR2 駆動素子 R1〜R8 抵抗素子 R9,R10 負荷回路 C1,C2 コンデンサ D1,D2 ダイオード IN インバータ OP 増幅器 ZD1,ZD2 ツェナーダイオード Q1,Q2 N型MOSFET 1,2 P型MOSFET 3〜6 N型MOSFET 7 P型MOSFET
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成10年3月30日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0002
【補正方法】変更
【補正内容】
【0002】
【従来の技術】図6は、従来例に係るレベルシフト回路
LSを含むインバ−タ回路である。Q1及びQ2はパワ
ー素子であるN型MOSFETであり、N型MOSFETQ1のソー
ス端子とN型MOSFETQ2のドレイン端子とが接続され、
N型MOSFETQ1のドレイン端子は直列電源E4の高電位
側、N型MOSFETQ2のソース端子は直列電源E4の低電
位側に接続されている。DR1及びDR2は駆動素子で
あり、これら2つの駆動素子DR1,DR2から出力さ
れる駆動信号によりN型MOSFETQ1,Q2を交互にスイ
ッチングすることで、直流電源E4を交流電源に変換し
て負荷回路R3,R4に供給する。CR1及びCR2は
駆動素子DR1,DR2を制御する制御素子であり、E
2及びE3は駆動電源であり、駆動素子DR1,DR2
に電力を供給する。Pは制御装置であり、N型MOSFETQ
1,Q2に対して制御信号を発生する。制御装置Pと駆
動素子DR1とは、制御素子CR1及びレベルシフト回
路LSを介して接続され、制御装置Pと駆動素子DR2
とは、制御素子CR1,CR2を介して接続される。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 第1及び第2のP型MOSFETによりカレン
    トミラー回路を構成し、前記第1のP型MOSFETとグラン
    ドとを第1のN型MOSFETを介して接続し、前記第2のP
    型MOSFETのソース端子とドレイン端子とをソース端子側
    が高電位になるように駆動電源を介して接続し、前記第
    2のP型MOSFETのドレイン端子と前記駆動電源の低電位
    側とを第1の抵抗素子を介して接続して成り、前記第1
    のN型MOSFETのゲート・ソース間に制御素子からの制御
    信号を印加することで前記第1及び第2のP型MOSFETに
    流れるレベルシフト電流により前記第1の抵抗素子に電
    圧を発生させることによってレベル変換を行うレベルシ
    フト回路において、前記第1のN型MOSFETのゲート端子
    に印加されるゲート電圧を段階的に印加する段階昇圧ス
    イッチ回路を前記第1のN型MOSFETのゲート端子と前記
    制御素子との間に設けたことを特徴とするレベルシフト
    回路。
  2. 【請求項2】 前記段階昇圧スイッチ回路を、前記制御
    素子の出力端子に入力端子が接続されたインバータと、
    該インバータの出力端子と前記第1のN型MOSFETのゲー
    ト端子との間に第2の抵抗素子を介してアノードが接続
    された第1のダイオードと、前記制御素子の出力端子に
    ゲート端子が、前記第1のN型MOSFETのゲート端子にド
    レイン端子が、グランドにソース端子が接続された第2
    のN型MOSFETと、前記第2の抵抗素子と前記第1のダイ
    オードとの接続点に第3の抵抗素子を介してドレイン端
    子が、グランドにソース端子が接続された第3のN型MO
    SFETと、前記第3の抵抗素子と前記第3のN型MOSFETと
    の接続点に一方の端子が、前記第1のN型MOSFETのゲー
    ト端子に他方の端子が接続された第1のコンデンサと、
    前記第1のN型MOSFETのゲート端子とグランドとの間に
    接続された第4及び第5の抵抗素子から成る直列回路
    と、前記第3のN型MOSFETのゲート端子に出力端子及び
    非反転入力端子が、前記第4の抵抗素子と前記第5の抵
    抗素子との接続点に反転入力端子が接続された増幅器と
    で構成したことを特徴とする請求項1記載のレベルシフ
    ト回路。
  3. 【請求項3】 前記段階昇圧スイッチ回路を、前記制御
    素子の出力端子に入力端子が接続されたインバータと、
    該インバータの出力端子と前記第1のN型MOSFETのゲー
    ト端子との間に抵抗素子R2を介してアノードが接続さ
    れた第1のダイオードと、前記制御素子の出力端子にゲ
    ート端子が、前記第1のN型MOSFETのゲート端子にドレ
    イン端子が、グランドにソース端子が接続された第2の
    N型MOSFETと、前記第1のN型MOSFETのゲート端子とグ
    ランドとの間に接続された第4及び第5の抵抗素子から
    成る直列回路と、前記第1のN型MOSFETのゲート端子に
    第6及び第7の抵抗素子を介してドレイン端子が、前記
    第4の抵抗素子と前記第5の抵抗素子との接続点にゲー
    ト端子が、グランドにソース端子が接続された第4のN
    型MOSFETと、前記第2の抵抗素子と前記第1のダイオー
    ドとの接続点に第3の抵抗素子を介してドレイン端子
    が、前記第6の抵抗素子と前記第7の抵抗素子との接続
    点にゲート端子が、グランドにソース端子が接続された
    第3のN型MOSFETと、前記第3の抵抗素子と前記第3の
    N型MOSFETとの接続点に一方の端子が、前記第1のN型
    MOSFETのゲート端子に他方の端子が接続された第1のコ
    ンデンサと、前記第3のN型MOSFETのゲート端子とグラ
    ンドとの間に接続された第2のコンデンサとで構成した
    ことを特徴とする請求項1記載のレベルシフト回路。
  4. 【請求項4】 前記段階昇圧スイッチ回路を、前記制御
    素子の出力端子に入力端子が接続されたインバータと、
    該インバータの出力端子と前記第1のN型MOSFETのゲー
    ト端子との間に抵抗素子R2を介してアノードが接続さ
    れた第1のダイオードと、前記制御素子の出力端子にゲ
    ート端子が、前記第1のN型MOSFETのゲート端子にドレ
    イン端子が、グランドにソース端子が接続された第2の
    N型MOSFETと、前記第1のN型MOSFETのゲート端子にア
    ノードが接続された第2のダイオードと、該第2のダイ
    オードのカソードにカソードが接続された第1のツェナ
    ーダイオードと、該第1のツェナーダイオードのアノー
    ドにカソードが、グランドにアノードが接続された第2
    のツェナーダイオードと、前記第2の抵抗素子と前記第
    1のダイオードとの接続点に第3の抵抗素子を介してド
    レイン端子が、前記第1のツェナーダイオードと前記第
    2のツェナーダイオードとの接続点と第8の抵抗素子を
    介してゲート端子が、グランドにソース端子が接続され
    た第3のP型MOSFETと、前記第3の抵抗素子と前記第3
    のP型MOSFETとの接続点に一方の端子が、前記第1のN
    型MOSFETのゲート端子に他方の端子が接続された第1の
    コンデンサと、前記第3のP型MOSFETのゲート端子とグ
    ラントとの間に接続された第2のコンデンサとで構成し
    たことを特徴とする請求項1記載のレベルシフト回路。
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