JPH1187810A - 磁気軸受け支持ファンを有するエキシマレーザ - Google Patents
磁気軸受け支持ファンを有するエキシマレーザInfo
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- G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
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- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
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- F16C—SHAFTS; FLEXIBLE SHAFTS; ELEMENTS OR CRANKSHAFT MECHANISMS; ROTARY BODIES OTHER THAN GEARING ELEMENTS; BEARINGS
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- F16C32/044—Active magnetic bearings
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- H01S3/041—Arrangements for thermal management for gas lasers
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 高繰り返し数電気放電ガスレーザを提供する
ことにある。 【解決手段】 レーザガス及びレーザガスを循環させる
ためのファン(46)を収容したレーザキャビティを有
する電気放電ガスレーザを提供する。ファンは能動磁気
軸受け装置(20、22)で支持され、ブラシレス直流
モータで駆動され、モータのロータ(134)及び少な
くとも2つの軸受けのロータ(28)がレーザキャビテ
ィのガス環境内で密封され、モータのステータ(14
0)及び軸受け磁石のコイルがガス環境の外側に置かれ
る。
ことにある。 【解決手段】 レーザガス及びレーザガスを循環させる
ためのファン(46)を収容したレーザキャビティを有
する電気放電ガスレーザを提供する。ファンは能動磁気
軸受け装置(20、22)で支持され、ブラシレス直流
モータで駆動され、モータのロータ(134)及び少な
くとも2つの軸受けのロータ(28)がレーザキャビテ
ィのガス環境内で密封され、モータのステータ(14
0)及び軸受け磁石のコイルがガス環境の外側に置かれ
る。
Description
【0001】
【発明の属する分野】本発明はレーザに関し、特に、高
繰り返し数の電気放電ガスレーザに関する。
繰り返し数の電気放電ガスレーザに関する。
【0002】
電気放電ガスレーザ 電気放電ガスレーザは周知であり、レーザが1960年
代に発明されたずっと後になってから利用されてきた。
2つの電極間の高電圧放電がガス利得媒体を刺激する励
起する。利得媒体を収容する共鳴空洞は光の誘導増幅を
可能にし、次いで、この光は共鳴空洞からレーザビーム
き形態で抽出される。これらの電気放電ガスレーザは連
続モード又はパルスモードで作動される。 エキシマレーザ エキシマレーザは特殊なタイプの電気ガス放電レーザで
あり、1970年代中頃から知られてきた。集積回路の
リトグラフィーに有用なカキシマレーザの説明が「コン
パクトなエキシマレーザ」と題して1991年6月11
日に付与された米国特許第5,023,884号になさ
れている。この特許は本出願人に譲渡されており、この
特許をここに援用する。米国特許第5,023,884
号に記載されたエキシマレーザは高繰り返し数パルスレ
ーザである。レーザ10の主な要素を米国特許第5,0
23,884号の図1に相当する図1に示す。放電22
は約5/8インチだけ間隔を隔てた二本の長い(約23
インチ)電極18と20との間である。記載されたサー
ザと同様に、先行技術のレーザの繰り返し数は典型的に
は、毎秒約100乃至1000パルスの範囲内である。
これらの高繰り返し数レーザは通常は、各パルス間で電
極間の領域のガスを置き替えるガス循環装置を備える。
上記のレーザでは、これは、図1及び米国特許第5,0
23,884号の図7に相当する図2に示すヨウニ、ブ
レード48を有する長いかご形ファン46でなされる。
ファンは電極18及び20よりも僅かに長く、そして、
100乃至1000Hzのパルス数で、電極間のガスを
パルス間で一掃するように十分な循環を行う。ファン4
6のシャフト130は米国特許第5,023,884号
の図9である図3に示すように、2つの軸受け132で
支持される。レーザに使用されるガスは極めて反応性で
あるフッ素を含有する。ファンシャフト130を駆動す
るファンロータは、ハウジング構造部材2、12と14
によって作られる同じ環境系統内で、米国特許第5,0
23,884号の第9欄第45行に説明されているよう
に密封部材136によって、密封され、モータステータ
140は密封部材136の外側であり、かくして、フッ
素ガスの腐食作用から保護される。しかしながら、軸受
け132は、軸受けに使用されるどんな潤滑の場合に
も、チャンバーガスの腐食作用を受ける。加えて、軸受
けの潤滑はカスを汚染することがある。
代に発明されたずっと後になってから利用されてきた。
2つの電極間の高電圧放電がガス利得媒体を刺激する励
起する。利得媒体を収容する共鳴空洞は光の誘導増幅を
可能にし、次いで、この光は共鳴空洞からレーザビーム
き形態で抽出される。これらの電気放電ガスレーザは連
続モード又はパルスモードで作動される。 エキシマレーザ エキシマレーザは特殊なタイプの電気ガス放電レーザで
あり、1970年代中頃から知られてきた。集積回路の
リトグラフィーに有用なカキシマレーザの説明が「コン
パクトなエキシマレーザ」と題して1991年6月11
日に付与された米国特許第5,023,884号になさ
れている。この特許は本出願人に譲渡されており、この
特許をここに援用する。米国特許第5,023,884
号に記載されたエキシマレーザは高繰り返し数パルスレ
ーザである。レーザ10の主な要素を米国特許第5,0
23,884号の図1に相当する図1に示す。放電22
は約5/8インチだけ間隔を隔てた二本の長い(約23
インチ)電極18と20との間である。記載されたサー
ザと同様に、先行技術のレーザの繰り返し数は典型的に
は、毎秒約100乃至1000パルスの範囲内である。
これらの高繰り返し数レーザは通常は、各パルス間で電
極間の領域のガスを置き替えるガス循環装置を備える。
上記のレーザでは、これは、図1及び米国特許第5,0
23,884号の図7に相当する図2に示すヨウニ、ブ
レード48を有する長いかご形ファン46でなされる。
ファンは電極18及び20よりも僅かに長く、そして、
100乃至1000Hzのパルス数で、電極間のガスを
パルス間で一掃するように十分な循環を行う。ファン4
6のシャフト130は米国特許第5,023,884号
の図9である図3に示すように、2つの軸受け132で
支持される。レーザに使用されるガスは極めて反応性で
あるフッ素を含有する。ファンシャフト130を駆動す
るファンロータは、ハウジング構造部材2、12と14
によって作られる同じ環境系統内で、米国特許第5,0
23,884号の第9欄第45行に説明されているよう
に密封部材136によって、密封され、モータステータ
140は密封部材136の外側であり、かくして、フッ
素ガスの腐食作用から保護される。しかしながら、軸受
け132は、軸受けに使用されるどんな潤滑の場合に
も、チャンバーガスの腐食作用を受ける。加えて、軸受
けの潤滑はカスを汚染することがある。
【0003】磁気軸受け 能動磁気軸受けが多年良く知られてきた。かかる装置は
1938年ごろ作られ、今日、多くの工業応用に使用さ
れている。これらの軸受けの周知の利点は長寿命、少な
い保守、小さい軸受けロスを含み、潤滑を必要としない
ために汚染源を除去する。代表的な先行技術の能動ラジ
アル軸受けが図4に記載されている。センサー2は軟鉄
のロータ4の位置を感知し、信号をコントローラ6に送
り、コントローラは、ロータ4を所望位置でバランスさ
せるのに必要とされる正確な磁界を生じさせるために、
電力増幅器10で電磁石8の電流を制御する。米国特許
第5,023,884号に記載されているタイプのエキ
シマレーザを含むガス放電レーザのパルス繰り返しを増
す必要があり、またそれに対応してより高いファン速度
の必要がある。これはファンシャフト軸受けの荷重を増
大させ、より良い軸受け及びもっと強力なファンモータ
を必要とする。また、高繰り返し数ガス放電レーザの汚
染源を減らす必要がある。
1938年ごろ作られ、今日、多くの工業応用に使用さ
れている。これらの軸受けの周知の利点は長寿命、少な
い保守、小さい軸受けロスを含み、潤滑を必要としない
ために汚染源を除去する。代表的な先行技術の能動ラジ
アル軸受けが図4に記載されている。センサー2は軟鉄
のロータ4の位置を感知し、信号をコントローラ6に送
り、コントローラは、ロータ4を所望位置でバランスさ
せるのに必要とされる正確な磁界を生じさせるために、
電力増幅器10で電磁石8の電流を制御する。米国特許
第5,023,884号に記載されているタイプのエキ
シマレーザを含むガス放電レーザのパルス繰り返しを増
す必要があり、またそれに対応してより高いファン速度
の必要がある。これはファンシャフト軸受けの荷重を増
大させ、より良い軸受け及びもっと強力なファンモータ
を必要とする。また、高繰り返し数ガス放電レーザの汚
染源を減らす必要がある。
【0004】
【問題点を解決するための手段】本発明はレーザガス及
びレーザガスを循環させるためのファンを収容したレー
ザキャビティを有する電気放電ガスレーザを提供する。
ファンは能動磁気軸受け装置で支持され、ブラシレス直
流モータで駆動され、モータのロータ及び少なくとも2
つの軸受けのロータがレーザキャビティのガス環境内で
密封され、モータのステータ及び軸受け磁石のコイルが
ガス環境の外側に置かれる。
びレーザガスを循環させるためのファンを収容したレー
ザキャビティを有する電気放電ガスレーザを提供する。
ファンは能動磁気軸受け装置で支持され、ブラシレス直
流モータで駆動され、モータのロータ及び少なくとも2
つの軸受けのロータがレーザキャビティのガス環境内で
密封され、モータのステータ及び軸受け磁石のコイルが
ガス環境の外側に置かれる。
【0005】
【発明の実施形態】本発明の好ましい実施形態を図面を
参照して説明することができる。図5は本発明の好まし
い実施形態の重要な特徴を示す図である。この図は米国
特許第5,023,884号に詳細に記載されたタイプ
のエキシマレーザーのガス循環用ファン装置を示す。こ
のガスはフッ素、緩衝ガス、ネオン、及びクリプトンか
アルゴンのいずれでも良い貴ガスからなる。先行技術の
ユニットにおけるように、ロータ134がシャフト13
0の端に位置し、ロータ134はシャフト130を駆動
し、それによって、26インチファン46を駆動し、フ
ァンの中央部分は図5では切除されている。一連の捲線
であるステータ140がロータ134の端及び密封部材
136を囲んでいる。ステータ140及びロータ134
は一緒になって ブラシレスDCモータを形成し、
該モータは基本的には普通の方法で作動する。普通のブ
ラシレスDCモータとこのモータとの間の主要な違い
は、ロータをステータ140に対して密封するようにス
テータとロータとの間に置かれた密封部材136の使用
である。この構成により、DCモータが米国特許第5,
023,884号に記載されたと同じ方法で回転シール
の使用なしにファン46を駆動させる。モータはまた米
国特許第5,023,884号に説明されているよう
に、回路板142、電力入力接続部144、及びホール
検出器146を含む。
参照して説明することができる。図5は本発明の好まし
い実施形態の重要な特徴を示す図である。この図は米国
特許第5,023,884号に詳細に記載されたタイプ
のエキシマレーザーのガス循環用ファン装置を示す。こ
のガスはフッ素、緩衝ガス、ネオン、及びクリプトンか
アルゴンのいずれでも良い貴ガスからなる。先行技術の
ユニットにおけるように、ロータ134がシャフト13
0の端に位置し、ロータ134はシャフト130を駆動
し、それによって、26インチファン46を駆動し、フ
ァンの中央部分は図5では切除されている。一連の捲線
であるステータ140がロータ134の端及び密封部材
136を囲んでいる。ステータ140及びロータ134
は一緒になって ブラシレスDCモータを形成し、
該モータは基本的には普通の方法で作動する。普通のブ
ラシレスDCモータとこのモータとの間の主要な違い
は、ロータをステータ140に対して密封するようにス
テータとロータとの間に置かれた密封部材136の使用
である。この構成により、DCモータが米国特許第5,
023,884号に記載されたと同じ方法で回転シール
の使用なしにファン46を駆動させる。モータはまた米
国特許第5,023,884号に説明されているよう
に、回路板142、電力入力接続部144、及びホール
検出器146を含む。
【0006】本発明のこの実施形態はファン46のシャ
フト130の各端を支持する2つのラジアル磁気軸受け
20及び22を含む。シャフト130の軸線方向位置決
めはスラスト軸受け装置24によってなされる。ラジア
ル磁気軸受け20、22は各々4つの電磁石26(その
内の2つを図5に示す)。好ましくは、電磁石は45
゛、135゛、225゛及び315゛の半径方向位置に
位置決めされる。ロータ28及びステータ要素は積層軟
鉄で作られている。事実、電磁石は上記のブラシレスD
Cモータと大変似ている。しかしながら、電磁石の機能
はファンシャフトを回転させるのではなくファンシャフ
トをその適切な半径方向位置に保持することにある。電
磁石は好ましくは一定なバイアス電流(動的制御力を生
じさせるために制御電流によって対象的に動揺される最
大電流の約半分)で賦勢される。一定なバイアス電流は
軸受けによって発生される磁力を線形化にする。電磁石
と整列した90゛隔たった半径方向位置センサー32は
周知技術に従って電磁石に対する電流を制御する制御ユ
ニット(図示せず)に位置の情報を与える。スラスト軸
受け装置24はシャフト130に軸線方向安定性を与え
る。この実施形態のスラスト軸受けは2つのコイルから
なり、その各々は軸線方向位置センサー34によって制
御ユニット(図示せず)に与えられた位置の情報に基づ
いて軟鉄タブユニット30に引力を付与する。
フト130の各端を支持する2つのラジアル磁気軸受け
20及び22を含む。シャフト130の軸線方向位置決
めはスラスト軸受け装置24によってなされる。ラジア
ル磁気軸受け20、22は各々4つの電磁石26(その
内の2つを図5に示す)。好ましくは、電磁石は45
゛、135゛、225゛及び315゛の半径方向位置に
位置決めされる。ロータ28及びステータ要素は積層軟
鉄で作られている。事実、電磁石は上記のブラシレスD
Cモータと大変似ている。しかしながら、電磁石の機能
はファンシャフトを回転させるのではなくファンシャフ
トをその適切な半径方向位置に保持することにある。電
磁石は好ましくは一定なバイアス電流(動的制御力を生
じさせるために制御電流によって対象的に動揺される最
大電流の約半分)で賦勢される。一定なバイアス電流は
軸受けによって発生される磁力を線形化にする。電磁石
と整列した90゛隔たった半径方向位置センサー32は
周知技術に従って電磁石に対する電流を制御する制御ユ
ニット(図示せず)に位置の情報を与える。スラスト軸
受け装置24はシャフト130に軸線方向安定性を与え
る。この実施形態のスラスト軸受けは2つのコイルから
なり、その各々は軸線方向位置センサー34によって制
御ユニット(図示せず)に与えられた位置の情報に基づ
いて軟鉄タブユニット30に引力を付与する。
【0007】ファンシャフト130の両端のロータキャ
ビティは密封部材136、、36、及びOーリング13
8によって密封される。かくして、モータユニット14
0の捲線及び軸受け20、22、及び24内の電磁石は
レーザチャンバー内の腐食性フッ素ガスから保護され
る。この好ましい実施形態では、ファンは長さ2.3イ
ンチの9つの等しい円筒形(中空の)セグメントで作ら
れた26インチ長さの単体軸流ファンである。各セグメ
ントは外径3.75インチ、内径2.75インチの2つ
のリング/フランジで作られる。これらのリング間に3
60°のまわりに23個のベーン/ブレードが位置す
る。ベーンは長さ2.3インチ、幅(湾曲した)0.5
インチ、厚さ0.03インチである。ファンはアルミニ
ウム合金で作られ、1.5Ibsの重量を有している。
他を参酌して最終的な重量は2.0Ibsまで行くかも
しれない。ファンの好ましい速度は3300RPM乃至
5000RPMである。
ビティは密封部材136、、36、及びOーリング13
8によって密封される。かくして、モータユニット14
0の捲線及び軸受け20、22、及び24内の電磁石は
レーザチャンバー内の腐食性フッ素ガスから保護され
る。この好ましい実施形態では、ファンは長さ2.3イ
ンチの9つの等しい円筒形(中空の)セグメントで作ら
れた26インチ長さの単体軸流ファンである。各セグメ
ントは外径3.75インチ、内径2.75インチの2つ
のリング/フランジで作られる。これらのリング間に3
60°のまわりに23個のベーン/ブレードが位置す
る。ベーンは長さ2.3インチ、幅(湾曲した)0.5
インチ、厚さ0.03インチである。ファンはアルミニ
ウム合金で作られ、1.5Ibsの重量を有している。
他を参酌して最終的な重量は2.0Ibsまで行くかも
しれない。ファンの好ましい速度は3300RPM乃至
5000RPMである。
【0008】ファンは約60℃の温度で約0.1%のフ
ッ素含有量を有するレーザガス環境内で3300RPM
乃至5000RPMの速度で作動する。これらの軸受け
で、発明者は、95%の信頼レベルをもって少なくとも
30,000時間の故障のない運転及び99%の信頼レ
ベルをもって10,000時間の運転を期待する。先行
技術の玉軸受けて支持されたファンと比較して本発明発
明は多くの利点を有する。軸受けの寿命が相当に増す。
ロータ位置の磁石軸受けの有効制御は振動を実質的に除
去する。潤滑汚染問題が除去される。ファンの入念な平
衡の必要性が回避される。先行技術のブロワーは典型的
には、3800RPMのような一定速度で作動する。本
発明は5000RPM又はそれ以上の速度で作動する。
好ましい作動モードでは、速度、例えば、4000RP
M乃至5000RPMが、チャンバーガスの混合をより
良くするために、連続的に又は周期的に自動的に循環さ
れる。ファン速度の自動循環はまた長いファンに起こる
振動を回避するのにも利用される。
ッ素含有量を有するレーザガス環境内で3300RPM
乃至5000RPMの速度で作動する。これらの軸受け
で、発明者は、95%の信頼レベルをもって少なくとも
30,000時間の故障のない運転及び99%の信頼レ
ベルをもって10,000時間の運転を期待する。先行
技術の玉軸受けて支持されたファンと比較して本発明発
明は多くの利点を有する。軸受けの寿命が相当に増す。
ロータ位置の磁石軸受けの有効制御は振動を実質的に除
去する。潤滑汚染問題が除去される。ファンの入念な平
衡の必要性が回避される。先行技術のブロワーは典型的
には、3800RPMのような一定速度で作動する。本
発明は5000RPM又はそれ以上の速度で作動する。
好ましい作動モードでは、速度、例えば、4000RP
M乃至5000RPMが、チャンバーガスの混合をより
良くするために、連続的に又は周期的に自動的に循環さ
れる。ファン速度の自動循環はまた長いファンに起こる
振動を回避するのにも利用される。
【0009】必要ならば、ファンの速度を戦略的に置か
れたセンサーによってコントローラに送られた情報から
制御することができる。これは、回転しているファン部
品がチャンバー内の他の構成要素の部品に近づき過ぎる
ようになる時に有用である。ファンの速度を制御し及び
又は変えるのには他の多くの理由があるけれども、音波
及び又は衝撃波の影響を減じ及び又は制御する理由はレ
ーザ操作において著しく重要なものである。本発明を現
在のところ好ましいと考えられるものと関連して説明し
たけれども、本発明墓維持した実施形態に限られない
が、反対に、特許請求の範囲の精神及び範囲内に含まれ
る種々の修正及び均等物を含むことを理解すべきであ
る。例えば、能動ラジアル磁気軸受けのたった1つの例
を示した。多くの代替磁気軸受けの設計が良く知られて
おり、ここに開示した概念を使用してガス放電レーザに
適用することができる。例えば、スラスト軸受けの必要
性を除去する軸線方向制御をも行うラジアル軸受けが利
用できる。従って、この分野の通常の知識を有する者
は、請求の範囲内にかかるあらゆる均等物が含まれるこ
とを理解すべきである。
れたセンサーによってコントローラに送られた情報から
制御することができる。これは、回転しているファン部
品がチャンバー内の他の構成要素の部品に近づき過ぎる
ようになる時に有用である。ファンの速度を制御し及び
又は変えるのには他の多くの理由があるけれども、音波
及び又は衝撃波の影響を減じ及び又は制御する理由はレ
ーザ操作において著しく重要なものである。本発明を現
在のところ好ましいと考えられるものと関連して説明し
たけれども、本発明墓維持した実施形態に限られない
が、反対に、特許請求の範囲の精神及び範囲内に含まれ
る種々の修正及び均等物を含むことを理解すべきであ
る。例えば、能動ラジアル磁気軸受けのたった1つの例
を示した。多くの代替磁気軸受けの設計が良く知られて
おり、ここに開示した概念を使用してガス放電レーザに
適用することができる。例えば、スラスト軸受けの必要
性を除去する軸線方向制御をも行うラジアル軸受けが利
用できる。従って、この分野の通常の知識を有する者
は、請求の範囲内にかかるあらゆる均等物が含まれるこ
とを理解すべきである。
【図1】先行技術のレーザ装置を示す。
【図2】図1のレーザ内のかご形ファンの位置を示す。
【図3】ファンを駆動するためのブラシレス直流モータ
を示す。
を示す。
【図4】先行技術の能動ラジアル磁気軸受け装置の機能
を示す。
を示す。
【図5】本発明の好ましい実施形態の図である。
【符号の説明】 20 ラジアル磁気軸受け 22 ラジアル磁気軸受け 24 スラスト軸受け装置 26 電磁石 28 ロータ 34 軸線方向位置センサー 36 密封部材 46 ファン 130 シャフト 134 ロータ 136 密封部材 140 ステータ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 リチャード シー ウイザドウスキー アメリカ合衆国 カリフォルニア州 92128−4451 サン ディエゴ グラニー ト クリーク ロード 13420 (72)発明者 パラシュ ピー ダス アメリカ合衆国 カリフォルニア州 92084 ヴィスタ パセオ デ アンザ 2029 (72)発明者 ドナルド ジー ラーソン アメリカ合衆国 カリフォルニア州 92024−4831 エンシニタス オルメーダ ストリート 1664
Claims (1)
- 【請求項1】 A. 内部レーザキャビティを形成する
壁を有するハウジング構造、 B. レーザキャビティ内に位置した、レーザ作用の可
能なガス、 C. レーザキャビティ内に位置し、間に電気放電領域
を形成する一対の間隔を隔てた細長い電極、前記電気放
電領域は、該放電領域内なのガスを、電極間の電気放電
に従ってレーザ作用まで励起し、 D. レーザキャビティ内に位置したシャフトを有し、
ガスを放電領域を通して循環させるためのファン、 E. ステータと、ファンに回転を与えるためのロータ
とを有するブラシレス直流モータ、 F. 各々、ステータと、モータと、位置センサーとを
有し、半径方向支持を前記シャフトに与えるための、少
なくとも2つ磁気軸受け、 G. 前記モータのロータ及び前記少なくとも2つの磁
気軸受けは各々前記軸に直接又は間接的に連結され、 H. 前記ロータと前記ステータとの間に介在され、前
記ロータを包囲する少なくとも1つの密封部材、前記密
封部材は、前記ロータをガス環境内に効果的に密封さ
せ、ロータをガス環境の外に置くためにハウジング構造
に対して密封する、電気放電ガスレーザ。
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Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6809448B2 (en) | 2000-04-26 | 2004-10-26 | Ebara Corporation | Excimer laser apparatus |
KR100708925B1 (ko) * | 1999-05-25 | 2007-04-17 | 가부시키가이샤 에바라 세이사꾸쇼 | 방전펌핑된 엑시머 레이저 장치 |
US8814522B2 (en) | 2007-06-15 | 2014-08-26 | Cymer, Llc | Cross-flow fan impeller for a transversley excited, pulsed, gas discharge laser |
US9059554B2 (en) | 2012-10-15 | 2015-06-16 | Gigaphoton Inc. | Discharge-pumped gas laser device |
US10250008B2 (en) | 2015-03-12 | 2019-04-02 | Gigaphoton Inc. | Discharge excitation gas laser apparatus |
Families Citing this family (34)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6128323A (en) * | 1997-04-23 | 2000-10-03 | Cymer, Inc. | Reliable modular production quality narrow-band high REP rate excimer laser |
US6757316B2 (en) * | 1999-12-27 | 2004-06-29 | Cymer, Inc. | Four KHz gas discharge laser |
US6853653B2 (en) * | 1997-07-22 | 2005-02-08 | Cymer, Inc. | Laser spectral engineering for lithographic process |
JP3930170B2 (ja) | 1998-02-18 | 2007-06-13 | 株式会社荏原製作所 | 循環ファン装置 |
US6477193B2 (en) * | 1998-07-18 | 2002-11-05 | Cymer, Inc. | Extreme repetition rate gas discharge laser with improved blower motor |
AU5583999A (en) * | 1998-09-02 | 2000-03-21 | Visx Incorporated | Electromagnetic drive system and method for gas laser fans |
JP2000138404A (ja) * | 1998-10-29 | 2000-05-16 | Komatsu Ltd | エキシマレーザ装置用の貫流ファン |
US6539043B1 (en) * | 1998-11-30 | 2003-03-25 | Ebara Corporation | Discharge-pumped excimer laser device |
JP2000183436A (ja) * | 1998-12-18 | 2000-06-30 | Komatsu Ltd | エキシマレ―ザ装置 |
US6490304B1 (en) * | 1999-03-05 | 2002-12-03 | Ntn Corporation | Excimer laser device |
US6026103A (en) * | 1999-04-13 | 2000-02-15 | Cymer, Inc. | Gas discharge laser with roller bearings and stable magnetic axial positioning |
US6104735A (en) * | 1999-04-13 | 2000-08-15 | Cymer, Inc. | Gas discharge laser with magnetic bearings and magnetic reluctance centering for fan drive assembly |
US6795474B2 (en) * | 2000-11-17 | 2004-09-21 | Cymer, Inc. | Gas discharge laser with improved beam path |
US6556600B2 (en) | 1999-09-27 | 2003-04-29 | Cymer, Inc. | Injection seeded F2 laser with centerline wavelength control |
US6590922B2 (en) | 1999-09-27 | 2003-07-08 | Cymer, Inc. | Injection seeded F2 laser with line selection and discrimination |
JP2001077446A (ja) * | 1999-09-07 | 2001-03-23 | Nsk Ltd | エキシマレーザ装置 |
US6359922B1 (en) * | 1999-10-20 | 2002-03-19 | Cymer, Inc. | Single chamber gas discharge laser with line narrowed seed beam |
JP2001111138A (ja) * | 1999-10-04 | 2001-04-20 | Ebara Corp | エキシマレーザ装置 |
EP2341423A1 (en) | 1999-11-02 | 2011-07-06 | Canon Kabushiki Kaisha | Print control method and apparatus |
US6765946B2 (en) * | 2000-01-25 | 2004-07-20 | Cymer, Inc. | Fan for gas discharge laser |
EP1119082A3 (en) * | 2000-01-18 | 2004-05-26 | Ushiodenki Kabushiki Kaisha | Cross-flow fan for discharge excited gas laser |
JP2001210896A (ja) * | 2000-01-28 | 2001-08-03 | Ebara Corp | エキシマレーザ装置 |
US6847671B1 (en) | 2000-03-29 | 2005-01-25 | Lambda Physik Ag | Blower for gas laser |
JP2001352114A (ja) * | 2000-06-08 | 2001-12-21 | Ebara Corp | エキシマレーザ装置用磁気軸受装置 |
EP1188932A3 (en) | 2000-09-19 | 2003-05-02 | Ntn Corporation | Bearing structure for laser fan |
US6839372B2 (en) * | 2000-11-17 | 2005-01-04 | Cymer, Inc. | Gas discharge ultraviolet laser with enclosed beam path with added oxidizer |
JP2003056489A (ja) * | 2001-08-21 | 2003-02-26 | Ntn Corp | エキシマレーザ装置のガス循環ファン |
EP1295910A1 (en) | 2001-09-25 | 2003-03-26 | Borealis GmbH | Insulating foam composition |
JP2003106333A (ja) * | 2001-09-28 | 2003-04-09 | Ntn Corp | 磁気軸受装置 |
US8379687B2 (en) | 2005-06-30 | 2013-02-19 | Cymer, Inc. | Gas discharge laser line narrowing module |
JP5104305B2 (ja) | 2005-07-01 | 2012-12-19 | 株式会社ニコン | 露光装置、露光方法及びデバイス製造方法 |
US7321607B2 (en) * | 2005-11-01 | 2008-01-22 | Cymer, Inc. | External optics and chamber support system |
CN110447149B (zh) * | 2017-04-18 | 2021-07-16 | 极光先进雷射株式会社 | 气体激光装置及磁轴承控制方法 |
CN111879517B (zh) * | 2020-08-31 | 2022-02-22 | 合肥工业大学 | 一种屏蔽泵中轴承磨损检测装置及其检测方法 |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61203688A (ja) * | 1985-03-07 | 1986-09-09 | Mitsubishi Electric Corp | ガス循環型レ−ザ発振装置 |
DE3580275D1 (de) * | 1985-07-09 | 1990-11-29 | Howden James & Co Ltd | Gasumwaelzanlage. |
US4891818A (en) * | 1987-08-31 | 1990-01-02 | Acculase, Inc. | Rare gas-halogen excimer laser |
US5023884A (en) * | 1988-01-15 | 1991-06-11 | Cymer Laser Technologies | Compact excimer laser |
US4959840A (en) * | 1988-01-15 | 1990-09-25 | Cymer Laser Technologies | Compact excimer laser including an electrode mounted in insulating relationship to wall of the laser |
JPH01189974A (ja) * | 1988-01-26 | 1989-07-31 | Fanuc Ltd | レーザ発振装置 |
JPH0521866A (ja) * | 1991-07-12 | 1993-01-29 | Komatsu Ltd | ガスレーザ装置 |
US5377215A (en) * | 1992-11-13 | 1994-12-27 | Cymer Laser Technologies | Excimer laser |
DE9215696U1 (de) * | 1992-11-18 | 1994-03-17 | Anton Piller GmbH & Co KG, 37520 Osterode | Stromgewinnungsanlage |
JP3427571B2 (ja) * | 1995-06-14 | 2003-07-22 | 松下電器産業株式会社 | 高速軸流型ガスレーザ発振器 |
CA2190697C (en) * | 1996-01-31 | 2000-07-25 | Donald Glenn Larson | Blower motor with adjustable timing |
-
1997
- 1997-07-11 US US08/893,904 patent/US5848089A/en not_active Expired - Lifetime
-
1998
- 1998-06-26 AU AU81695/98A patent/AU8169598A/en not_active Abandoned
- 1998-06-26 EP EP98931615A patent/EP0993692B1/en not_active Revoked
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- 1998-06-26 WO PCT/US1998/013271 patent/WO1999003176A1/en active IP Right Grant
- 1998-07-04 TW TW087110855A patent/TW398103B/zh not_active IP Right Cessation
- 1998-07-13 JP JP10197140A patent/JP2981210B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100708925B1 (ko) * | 1999-05-25 | 2007-04-17 | 가부시키가이샤 에바라 세이사꾸쇼 | 방전펌핑된 엑시머 레이저 장치 |
US6809448B2 (en) | 2000-04-26 | 2004-10-26 | Ebara Corporation | Excimer laser apparatus |
US8814522B2 (en) | 2007-06-15 | 2014-08-26 | Cymer, Llc | Cross-flow fan impeller for a transversley excited, pulsed, gas discharge laser |
US9059554B2 (en) | 2012-10-15 | 2015-06-16 | Gigaphoton Inc. | Discharge-pumped gas laser device |
US9225139B2 (en) | 2012-10-15 | 2015-12-29 | Gigaphoton Inc. | Discharge-pumped gas laser device |
US10250008B2 (en) | 2015-03-12 | 2019-04-02 | Gigaphoton Inc. | Discharge excitation gas laser apparatus |
Also Published As
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