JPH1187770A - Lighting appliance, reader, projector, purifier and display device - Google Patents

Lighting appliance, reader, projector, purifier and display device

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JPH1187770A
JPH1187770A JP23625797A JP23625797A JPH1187770A JP H1187770 A JPH1187770 A JP H1187770A JP 23625797 A JP23625797 A JP 23625797A JP 23625797 A JP23625797 A JP 23625797A JP H1187770 A JPH1187770 A JP H1187770A
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semiconductor light
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semiconductor
light
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本 聡 河
Hideto Sugawara
原 秀 人 菅
Koichi Nitta
田 康 一 新
Chisato Furukawa
川 千 里 古
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Toshiba Development and Engineering Corp
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Toshiba Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain lighting appliance using a light source device having a long life while easily reducing the size and weight by a simple constitution by including a fluorescent body absorbing ultraviolet rays emitted by a semicon ductor light emitting element and emitting secondary light having a wavelength longer than that of the ultraviolet rays. SOLUTION: Lighting appliance 100 has a wiring board 110 received inside a housing 120A and an envelope 120B. The housing 120A is a translucent cover, while the envelope 120B serves as a base attached to a ceiling or the like. Semiconductor devices 130, 130 emitting white light are placed on a principal surface of the wiring board 110. The semiconductor device 130 includes a light emitting diode and a fluorescent body for emitting ultraviolet rays. Such a semiconductor device 130 desirably has so-called 'three-wavelength-type' white light emission characteristics with a strength peak in each of wavelength regions of red, green and blue, for example.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、照明装置、読み取
り装置、投影装置、浄化装置、および表示装置に関す
る。より詳しくは、本発明は、紫外線を発光する半導体
発光素子を種々の形態に応用することにより得られる高
効率、長寿命、小型軽量の照明装置、読み取り装置、投
影装置、浄化装置、および表示装置に関する。
The present invention relates to a lighting device, a reading device, a projection device, a cleaning device, and a display device. More specifically, the present invention relates to a high-efficiency, long-life, compact and lightweight lighting device, a reading device, a projection device, a purification device, and a display device obtained by applying a semiconductor light emitting element that emits ultraviolet light to various forms. About.

【0002】[0002]

【従来の技術】照明装置を始めとする種々の装置におい
て、光源として用いる発光装置には、種々の方式が採用
されている。これらの従来技術のうちで、代表的なもの
に蛍光灯システムがある。
2. Description of the Related Art In various devices such as lighting devices, various types of light emitting devices used as light sources are employed. Among these conventional techniques, a typical one is a fluorescent lamp system.

【0003】図15は、従来の蛍光灯システムの概略構
成を表す模式図である。すなわち、蛍光灯システム90
0は、蛍光灯910と電源920とにより構成される。
蛍光灯910としては、ガラス管911の内部に、水銀
蒸気とアルゴン(Ar)などの希ガスとの混合ガス91
2が封入され、ガラス管911の内壁面に蛍光物質91
3が塗布されているものが一般的である。このような蛍
光灯910は、両端に設けられている電極915、91
5を介して、外部に設けられた電源920に接続されて
いる。電源920は、高周波の交流電圧を発生し、この
電圧が印加されることによって水銀蒸気がグロー放電を
起こし、紫外線が放出される。放出された紫外線は、蛍
光物質913に吸収されて可視光に波長変換され、ガラ
ス管911を透過して外部に放出される。
FIG. 15 is a schematic diagram showing a schematic configuration of a conventional fluorescent lamp system. That is, the fluorescent lamp system 90
0 is constituted by a fluorescent lamp 910 and a power supply 920.
As the fluorescent lamp 910, a mixed gas 91 of mercury vapor and a rare gas such as argon (Ar) is provided inside a glass tube 911.
2 is sealed, and a fluorescent substance 91 is placed on the inner wall surface of the glass tube 911.
3 is generally applied. Such a fluorescent lamp 910 includes electrodes 915 and 91 provided at both ends.
5 is connected to a power supply 920 provided outside. The power supply 920 generates a high-frequency AC voltage, and when this voltage is applied, the mercury vapor causes a glow discharge to emit ultraviolet rays. The emitted ultraviolet light is absorbed by the fluorescent substance 913, is converted into a visible light, and is transmitted to the glass tube 911 to be emitted to the outside.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかし、図15に示し
たような従来の蛍光灯システムにおいては、電源920
において高周波電圧を発生するために、インバータなど
を用いた昇圧、高周波発生回路が必要となる。そのため
に、電源920の構成が複雑となり、コストが高く、信
頼性も低下しやすく、寿命も短いなどという問題があっ
た。
However, in the conventional fluorescent lamp system as shown in FIG.
In order to generate a high-frequency voltage, a boosting and high-frequency generation circuit using an inverter or the like is required. For this reason, the configuration of the power supply 920 is complicated, the cost is high, the reliability is easily lowered, and the life is short.

【0005】また、蛍光灯910は、水銀蒸気のグロー
放電を利用しているために、点灯時間に遅延が生じると
ともに、点灯直後に放電が不安定で光量が安定しないと
いう問題もあった。さらに、周囲温度によって、放電状
態が変化するために、特に低温において、光量が低下し
やすいという問題もあった。
In addition, since the fluorescent lamp 910 uses glow discharge of mercury vapor, there is a problem that a lighting time is delayed, and that the discharge is unstable immediately after lighting and the light amount is not stable. Furthermore, since the discharge state changes depending on the ambient temperature, there is a problem that the light amount tends to decrease particularly at a low temperature.

【0006】さらに、蛍光灯910は、ガラス管に水銀
蒸気を封入した構成を有するために、小型軽量化が容易
でなく、寿命も短く、振動や衝撃などの機械的強度を十
分に確保することも困難で、水銀による環境汚染を防止
する対策も必要とされていた。
Further, since the fluorescent lamp 910 has a configuration in which mercury vapor is sealed in a glass tube, it is not easy to reduce the size and weight, the life is short, and the mechanical strength such as vibration and impact is sufficiently ensured. It was also difficult, and measures were needed to prevent environmental pollution from mercury.

【0007】一方、従来技術として幅広く用いられてき
たもうひとつの技術として電球を挙げることができる。
しかし、電球においても、ガラス球の内部に熱フィラメ
ントを封入した構成であるが故に、消費電力、発光効
率、発熱量、寿命、機械的強度、サイズおよび重量など
の多くの点で改善すべき多くの問題点があった。
On the other hand, another technique which has been widely used as a conventional technique is a light bulb.
However, even in a light bulb, since a configuration in which a heat filament is sealed inside a glass bulb, there are many points to be improved in many points such as power consumption, luminous efficiency, heat generation, life, mechanical strength, size and weight. There was a problem.

【0008】本発明は、かかる点に鑑みてなされたもの
である。すなわち、本発明は、簡素な構成により小型軽
量化が容易で、発光波長や光量も極めて安定し、しか
も、極めて長寿命な光源装置を用いた照明装置、その他
各種の応用装置を提供することを目的とする。
[0008] The present invention has been made in view of such a point. That is, the present invention is to provide a lighting device using a light source device having a very simple configuration, which can be easily reduced in size and weight, has a very stable emission wavelength and light amount, and has a very long life, and various other applied devices. Aim.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】すなわち、本発明による
照明装置は、紫外線を放出する半導体発光素子と、前記
半導体発光素子が放出する前記紫外線を吸収して、前記
紫外線よりも長い波長を有する2次光を放出する蛍光体
と、を備えたことを特徴とし、高効率で長寿命、小型軽
量などの多くの利点を有する。
That is, a lighting device according to the present invention comprises: a semiconductor light emitting element which emits ultraviolet light; and a semiconductor element which absorbs the ultraviolet light emitted by the semiconductor light emitting element and has a longer wavelength than the ultraviolet light. And a phosphor that emits the next light, and has many advantages such as high efficiency, long life, small size and light weight.

【0010】また、本発明による照明装置は、配線基板
と、前記配線基板上に設けられた複数の半導体発光装置
と、前記配線基板の周囲を覆うように設けられた透光性
を有する外囲器と、を備え、前記半導体発光装置は、紫
外線を放出する半導体発光素子と、前記半導体発光素子
が放出する前記紫外線を吸収して、前記紫外線よりも長
い波長を有する2次光を放出する蛍光体と、を有するこ
とを特徴とし、高効率で長寿命、小型軽量などの多くの
利点を有する。
The lighting device according to the present invention is a wiring board, a plurality of semiconductor light emitting devices provided on the wiring board, and a light-transmitting enclosure provided to cover the periphery of the wiring board. A semiconductor light emitting device that emits ultraviolet light; and a fluorescent light that absorbs the ultraviolet light emitted by the semiconductor light emitting element and emits secondary light having a longer wavelength than the ultraviolet light. And has many advantages such as high efficiency, long life, small size and light weight.

【0011】また、前記半導体発光装置を表面実装型と
することにより、さらに明るく小型化を可能とすること
ができる。
Further, by making the semiconductor light emitting device a surface mount type, it is possible to make the device brighter and smaller.

【0012】また、前記複数の半導体発光装置のうちの
所定数の前記半導体発光装置が直列に接続されてなる複
数のユニットを形成し、前記複数のユニットを互いに並
列に接続することにより、信頼性を向上させ、駆動電圧
も抑えることができる。
Further, by forming a plurality of units in which a predetermined number of the semiconductor light emitting devices among the plurality of semiconductor light emitting devices are connected in series and connecting the plurality of units in parallel with each other, the reliability is improved. And the driving voltage can be suppressed.

【0013】一方、本発明による照明装置は、配線基板
と、前記配線基板上に設けられた紫外線を放出する複数
の半導体発光素子と、前記配線基板の周囲を覆うように
設けられた透光性を有する外囲器と、を備え、さらに、
前記外囲器の内壁面には蛍光体が設けられ、前記半導体
発光素子が放出する前記紫外線を吸収して、前記紫外線
よりも長い波長を有する2次光を放出するようにして
も、高効率で長寿命、小型軽量などの多くの利点を得る
ことができる。
On the other hand, a lighting device according to the present invention comprises a wiring board, a plurality of semiconductor light emitting elements provided on the wiring board for emitting ultraviolet light, and a light-transmitting member provided to cover the periphery of the wiring board. And an envelope having:
Even if a phosphor is provided on the inner wall surface of the envelope to absorb the ultraviolet light emitted by the semiconductor light emitting element and emit secondary light having a longer wavelength than the ultraviolet light, high efficiency can be achieved. Thus, many advantages such as long life, small size and light weight can be obtained.

【0014】ここで、前記複数の半導体発光素子のうち
の所定数の前記半導体発光素子が直列に接続されてなる
複数のユニットを形成し、前記複数のユニットを互いに
並列に接続することによっても、信頼性を向上させ、駆
動電圧も抑えることができる。
Here, it is also possible to form a plurality of units formed by connecting a predetermined number of the semiconductor light emitting elements of the plurality of semiconductor light emitting elements in series, and connect the plurality of units in parallel with each other. The reliability can be improved and the driving voltage can be suppressed.

【0015】また、前記2次光を、可視光とすれば、高
性能の可視光源を構成することができる。
If the secondary light is visible light, a high-performance visible light source can be constructed.

【0016】さらに、前記可視光は、赤色、緑色、およ
び青色の波長領域にそれぞれ強度ピークを有するように
すれば、いわゆる「3波長型」の白色光源を構成するこ
とができる。
Furthermore, if the visible light has intensity peaks in the red, green and blue wavelength regions, a so-called "three-wavelength" white light source can be constituted.

【0017】一方、高周波電圧を直流電圧に変換する変
換回路をさらに備え、蛍光灯の電源に接続して前記半導
体発光素子を駆動できるようにすると、従来の蛍光灯シ
ステムと互換性を得ることができ、極めて便利である。
On the other hand, if a conversion circuit for converting a high-frequency voltage to a DC voltage is further provided so that the semiconductor light-emitting device can be driven by connecting to a power supply of a fluorescent lamp, compatibility with a conventional fluorescent lamp system can be obtained. It is very convenient.

【0018】一方、紫外線を放出する半導体発光素子
と、前記半導体発光素子が放出する前記紫外線を吸収し
て、可視光領域の波長を有する2次光を放出する蛍光体
と、前記半導体発光素子にパルス状の駆動電流を供給す
るパルス発生器と、を備えることにより、高効率で長寿
命、小型軽量などの多くの利点を有する写真機用閃光装
置としての照明装置を構成することができる。
On the other hand, a semiconductor light emitting device that emits ultraviolet light, a phosphor that absorbs the ultraviolet light emitted by the semiconductor light emitting device and emits secondary light having a wavelength in the visible light region, By providing a pulse generator that supplies a pulsed drive current, a lighting device as a flash device for a camera having many advantages such as high efficiency, long life, small size, and light weight can be configured.

【0019】また、紫外線を放出する半導体発光素子
と、前記半導体発光素子が放出する前記紫外線を吸収し
て、可視光領域の波長を有する2次光を放出する蛍光体
と、前記可視光を反射して、所定の方向に照射する凹面
鏡と、を備えることにより、高効率で長寿命、小型軽量
などの多くの利点を有するランプ・ユニットとしての照
明装置を構成することができる。
Also, a semiconductor light emitting device that emits ultraviolet light, a phosphor that absorbs the ultraviolet light emitted by the semiconductor light emitting device and emits secondary light having a wavelength in the visible light region, and reflects the visible light By providing a concave mirror for irradiating in a predetermined direction, a lighting device as a lamp unit having many advantages such as high efficiency, long life, small size and light weight can be configured.

【0020】さらに、前記半導体発光素子と、前記蛍光
体との間に、前記紫外線を透過し、前記蛍光体から放出
される前記2次光を反射するような波長選択性を有する
第1の光反射膜をさらに備えることにより、波長変換効
率を向上することができる。また、前記蛍光体からみて
前記半導体発光素子と反対側に、前記紫外線を反射し、
前記蛍光体から放出される前記2次光を透過するような
波長選択性を有する第2の光反射膜をさらに備えること
により、さらに波長変換効率を向上させ、紫外線の漏洩
を防ぐこともできる。
Further, a first light having wavelength selectivity between the semiconductor light emitting element and the phosphor, which transmits the ultraviolet light and reflects the secondary light emitted from the phosphor. By further providing the reflective film, the wavelength conversion efficiency can be improved. Further, on the side opposite to the semiconductor light emitting element viewed from the phosphor, reflects the ultraviolet light,
By further providing a second light reflection film having a wavelength selectivity such that the secondary light emitted from the phosphor is transmitted, the wavelength conversion efficiency can be further improved, and leakage of ultraviolet rays can be prevented.

【0021】また、前記蛍光体からみて前記半導体発光
素子と反対側に、前記紫外線を吸収し、前記蛍光体から
放出される前記2次光を透過するような波長選択性を有
する光吸収体をさらに備えることにより、紫外線の漏洩
を防ぎ外乱光による不要な発光を防ぐこともできる。
A light absorber having a wavelength selectivity that absorbs the ultraviolet light and transmits the secondary light emitted from the phosphor is provided on a side opposite to the semiconductor light emitting element when viewed from the phosphor. By further providing, it is possible to prevent leakage of ultraviolet rays and to prevent unnecessary light emission due to disturbance light.

【0022】前記半導体発光素子としては、発光層に窒
化ガリウム系半導体を含むことにより、紫外線を高い効
率で放出することができる。
The semiconductor light emitting device can emit ultraviolet rays with high efficiency by including a gallium nitride based semiconductor in the light emitting layer.

【0023】また、前記半導体発光素子としては、発光
層にホウ素とガリウムと窒素とを含むことにより、さら
に高い効率で紫外線を放出することができる。
The semiconductor light emitting device can emit ultraviolet light with higher efficiency by including boron, gallium and nitrogen in the light emitting layer.

【0024】その具体的な構成としては、基板と、前記
基板上に堆積された第1導電型のGaN層と、アルミニ
ウムを含むGaNからなる第1導電型のクラッド層と、
ホウ素を含むGaNからなる発光層と、アルミニウムを
含むGaNからなる第2導電型のクラッド層と、を少な
くとも有するものであることが望ましい。
As a specific configuration, a substrate, a first conductivity type GaN layer deposited on the substrate, a first conductivity type clad layer made of GaN containing aluminum,
It is desirable to have at least a light emitting layer made of GaN containing boron and a cladding layer of the second conductivity type made of GaN containing aluminum.

【0025】また、その発光波長は、約330nmであ
ることが望ましい。
The emission wavelength is desirably about 330 nm.

【0026】紫外線を放出する半導体発光素子と、照明
装置に関して前述したような構成は、その他、読み取り
装置、投影装置、浄化装置、および表示装置についても
同様に適用して、同様の効果を得ることができる。
The configuration described above with respect to the semiconductor light emitting element that emits ultraviolet light and the illumination device can be similarly applied to a reading device, a projection device, a purification device, and a display device to obtain the same effect. Can be.

【0027】[0027]

【発明の実施の形態】本発明は、紫外線を発光する半導
体発光素子を利用し、必要に応じて蛍光体などの波長変
換機能を有する材料と組み合わせることにより、小型軽
量化が容易で、発光波長や光量も極めて安定し、しか
も、極めて長寿命な光源装置を用いた照明装置などの各
種応用装置を提供するものである。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention utilizes a semiconductor light emitting device which emits ultraviolet light and, if necessary, is combined with a material having a wavelength conversion function such as a phosphor, so that it is easy to reduce the size and weight of the device. An object of the present invention is to provide various applied devices such as a lighting device using a light source device having extremely stable light quantity and extremely long life.

【0028】以下、図面を参照しつつ、本発明の実施の
形態について説明する。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

【0029】図1は、本発明の第1の実施の形態に係る
照明装置を表す概略図である。すなわち、同図(a)
は、その全体斜視図であり、同図(b)は、その横断面
図、同図(c)は、その配線基板の概略平面図である。
FIG. 1 is a schematic diagram showing a lighting device according to a first embodiment of the present invention. That is, FIG.
1 is an overall perspective view, FIG. 1 (b) is a cross-sectional view thereof, and FIG. 1 (c) is a schematic plan view of the wiring board.

【0030】本実施形態による照明装置100は、配線
基板110が外囲器120Aおよび外囲器120Bの内
部に収容された構成を有する。外囲器120Aおよび1
20Bは、それぞれ、例えば樹脂により形成することが
できる。外囲器120Aは、透光性を有するカバーであ
り、外囲器120Bは、天井などに取り付けるためのベ
ースとしての役割を有する。
The lighting device 100 according to the present embodiment has a configuration in which the wiring board 110 is housed inside the envelopes 120A and 120B. Enclosures 120A and 1
20B can be formed of, for example, a resin. The envelope 120A is a translucent cover, and the envelope 120B has a role as a base for attaching to a ceiling or the like.

【0031】配線基板110の主面上には、白色の発光
を放出する半導体発光装置130、130、・・・が配
置されている。この半導体発光装置130は、後に詳述
するように、紫外線を発光する発光ダイオード(LE
D)と蛍光体とを備える。このような半導体発光装置1
30は、例えば、赤色、緑色および青色のそれぞれの波
長領域に強度ピークをを有するような、いわゆる「3波
長型」の白色発光特性を有することが望ましい。
On the main surface of the wiring board 110, semiconductor light emitting devices 130, 130,... Which emit white light are arranged. The semiconductor light emitting device 130 includes a light emitting diode (LE) that emits ultraviolet light, as described later in detail.
D) and a phosphor. Such a semiconductor light emitting device 1
For example, it is preferable that the light emitting element 30 has a so-called “three-wavelength type” white light emission characteristic having an intensity peak in each of red, green, and blue wavelength regions.

【0032】図2は、本発明において用いて好適な半導
体発光装置の構成を表す概略断面図である。すなわち、
半導体発光装置130は、少なくとも半導体発光素子1
32と、蛍光体136とを備える。半導体発光素子13
2は、例えばリード・フレームなどの実装部材134の
上にマウントされている。そして、半導体発光素子13
2の光取り出し経路上に蛍光体136が配置されてい
る。半導体発光素子132は、例えば、樹脂138など
により封止するようにしても良い。
FIG. 2 is a schematic sectional view showing the structure of a semiconductor light emitting device suitable for use in the present invention. That is,
The semiconductor light emitting device 130 includes at least the semiconductor light emitting element 1
32 and a phosphor 136. Semiconductor light emitting device 13
2 is mounted on a mounting member 134 such as a lead frame. And the semiconductor light emitting element 13
The phosphor 136 is disposed on the second light extraction path. The semiconductor light emitting element 132 may be sealed with a resin 138, for example.

【0033】半導体発光素子132は、紫外線を放出
し、蛍光体136は、その紫外線を吸収して波長変換
し、所定の波長を有する可視光あるいは赤外線を外部に
放出する。
The semiconductor light emitting element 132 emits ultraviolet light, and the phosphor 136 absorbs the ultraviolet light, converts the wavelength, and emits visible light or infrared light having a predetermined wavelength to the outside.

【0034】蛍光体から放出される光の波長は、蛍光体
の材料を適宜選択することにより、調節することができ
る。半導体発光素子132から放出される紫外線を吸収
して、効率良く2次光を放出する蛍光体としては、例え
ば、赤色の発光を生ずるものとしては、Y22S:E
u、青色の発光を生ずるものとしては、(Sr、Ca、
Ba、Eu)10(PO46・Cl2、緑色の発光を生ず
るものとしては、3(Ba、Mg、Eu、Mn)O・8
Al23などを挙げることができる。これらの蛍光物質
を適当な割合で混合すれば、可視光領域の殆どすべての
色調を表現することができる。
The wavelength of light emitted from the phosphor can be adjusted by appropriately selecting the material of the phosphor. As a phosphor that absorbs ultraviolet light emitted from the semiconductor light emitting element 132 and efficiently emits secondary light, for example, as a phosphor that emits red light, Y 2 O 2 S: E
u, which emit blue light include (Sr, Ca,
Ba (Eu) 10 (PO 4 ) 6 .Cl 2 , which emits green light, includes 3 (Ba, Mg, Eu, Mn) O · 8
Al 2 O 3 and the like can be mentioned. By mixing these fluorescent substances in an appropriate ratio, almost all colors in the visible light region can be expressed.

【0035】また、これらの蛍光体は、330nm付近
の波長帯において吸収ピークを有する場合が多い。従っ
て、これらの蛍光物質により効率的に波長変換を行うた
めには、半導体発光素子132が330nm付近の波長
帯の紫外線を放出するようにすることが望ましい。この
ような特性を有する半導体発光素子132としては、ホ
ウ素(B)を含んだGaNを発光層として用いたものを
挙げることができ、この好適な構成については後に詳述
する。
Further, these phosphors often have an absorption peak in a wavelength band around 330 nm. Therefore, in order to perform wavelength conversion efficiently with these fluorescent substances, it is desirable that the semiconductor light emitting element 132 emits ultraviolet rays in a wavelength band around 330 nm. Examples of the semiconductor light emitting device 132 having such characteristics include a device using GaN containing boron (B) as a light emitting layer, and a preferable configuration thereof will be described later in detail.

【0036】一方、このような蛍光体136は、半導体
発光素子132から離れてその放出光の経路上に配置し
ても良く、半導体発光素子132の表面上に堆積しても
良く、半導体発光素子132の内部に配置あるいは含有
させても良い。
On the other hand, such a phosphor 136 may be disposed on the path of the emitted light away from the semiconductor light emitting device 132 or may be deposited on the surface of the semiconductor light emitting device 132. 132 may be arranged or contained.

【0037】ここで、再び図1に戻ると、各半導体発光
装置130は、必要とされる照明光量や、サイズ、電力
などの条件に応じて、配線基板110の主面上に、所定
の間隔で配置されている。基板110の上にコンパクト
且つ高密度に実装するためには、半導体発光装置130
は、いわゆる「表面実装型(SMD)」のランプ構造を
有することが望ましい。このように個々の光源を小さく
することにより、それぞれについて光反射体などを設け
て光源からの光を集光することができるようになり、効
率が高く明るい照明装置を実現できる。
Returning to FIG. 1 again, each semiconductor light emitting device 130 has a predetermined distance on the main surface of the wiring board 110 according to the required conditions such as the amount of illumination light, size, and power. It is arranged in. For compact and high-density mounting on the substrate 110, the semiconductor light emitting device 130
Preferably has a so-called “surface mount type (SMD)” lamp structure. By thus reducing the size of each light source, a light reflector or the like can be provided for each of the light sources to collect light from the light source, and a highly efficient and bright lighting device can be realized.

【0038】また、基板110の上に実装される半導体
発光装置130、130、・・・の相互間の接続関係と
しては、例えば、図1(c)に示したように、所定数の
半導体発光素子130を直列に接続したユニットを形成
し、それぞれのユニットを並列に接続するという接続関
係が望ましい。このような接続関係を採用すれば、電源
電圧や駆動用電流を極端に高く設定する必要がなく、ま
た、いずれかの半導体発光装置130が故障した場合に
おいても、他の半導体発光装置130に与える駆動電圧
の変化などの影響を低減することができる。すなわち、
いずれかのユニットが故障した場合においても、残りの
ユニットは正常に動作することができ、従来の蛍光灯の
ように全体がだめになることがないので、信頼性の点で
格段に有利となる。しかし、本発明はこれに限定される
ものではなく、この他にも、配線基板110上のすべて
の半導体発光装置130を直列あるいは並列に接続して
も良い。
The connection relation between the semiconductor light emitting devices 130, 130,... Mounted on the substrate 110 is, for example, as shown in FIG. It is desirable to form a unit in which the elements 130 are connected in series, and connect the units in parallel. By adopting such a connection relationship, it is not necessary to set the power supply voltage or the driving current to an extremely high level, and even if one of the semiconductor light emitting devices 130 breaks down, it is given to another semiconductor light emitting device 130. It is possible to reduce the influence such as a change in the driving voltage. That is,
Even if one of the units fails, the remaining units can operate normally and the entire unit is not damaged unlike conventional fluorescent lamps, which is a significant advantage in terms of reliability. . However, the present invention is not limited to this, and all the semiconductor light emitting devices 130 on the wiring board 110 may be connected in series or in parallel.

【0039】また、上述した例においては、白色に発光
する半導体発光装置130を採用しているが、本発明は
これに限定されるものではない。この他にも、例えば、
紫外線を放出する半導体発光装置を配線基板110の上
に配置し、樹脂カバー120Aの内壁面上に蛍光体を堆
積して、紫外線を吸収、波長変換し、白色光を外部に放
出するようにしても良い。
Further, in the above-described example, the semiconductor light emitting device 130 that emits white light is employed, but the present invention is not limited to this. In addition, for example,
A semiconductor light emitting device that emits ultraviolet light is arranged on the wiring substrate 110, a phosphor is deposited on the inner wall surface of the resin cover 120A, the ultraviolet light is absorbed, the wavelength is converted, and white light is emitted to the outside. Is also good.

【0040】また、従来の蛍光灯との互換性を確保する
ために、蛍光灯に印加される高周波駆動電圧を直流電圧
に変換して半導体発光装置130に供給する変換回路を
併せて設けると、極めて便利である。本実施形態による
照明装置は、家庭・事務所用の室内灯のみならず、街
灯、サークライト、マスク・アライナなどの各種製造装
置用の光源、植物栽培用光源など、極めて幅広い分野に
おいて利用することができる。
In order to ensure compatibility with a conventional fluorescent lamp, a conversion circuit for converting a high-frequency drive voltage applied to the fluorescent lamp into a DC voltage and supplying the DC voltage to the semiconductor light emitting device 130 is additionally provided. Extremely convenient. The lighting device according to the present embodiment can be used in a very wide range of fields, such as light sources for various manufacturing devices such as street lights, circulators, and mask aligners, and plant cultivation light sources, as well as indoor lights for homes and offices. Can be.

【0041】本発明者の試算によれば、従来の40W型
の蛍光灯に相当する光量を得るためには、例えば、66
個の半導体発光装置130を4列配置すれば良い。本発
明によれば、従来の蛍光灯よりも消費電力が低く、寿命
が極めて長くなるとともに、小型化、軽量化が容易であ
り、衝撃や振動などに対する機械的強度を顕著に改善す
ることができる。さらに、水銀による環境汚染も解消す
ることができる。
According to the estimation of the present inventor, in order to obtain the light amount corresponding to the conventional 40 W fluorescent lamp, for example, 66
The semiconductor light emitting devices 130 may be arranged in four rows. Advantageous Effects of Invention According to the present invention, power consumption is lower than conventional fluorescent lamps, the life is extremely long, miniaturization and weight reduction are easy, and mechanical strength against shock and vibration can be significantly improved. . In addition, environmental pollution due to mercury can be eliminated.

【0042】次に、本発明の第2の実施の形態について
説明する。図3は、本発明の第2の実施の形態に係る写
真機用閃光装置を表す模式図である。すなわち、同図に
表した写真機150は、レンズ152、ファインダ15
4とともに、いわゆるフラッシュとして、本発明による
半導体発光装置130を備える。半導体発光装置130
は、図2に関して前述したように、半導体発光素子と蛍
光体とにより所定波長分布を有する白色光を放出する。
また、半導体発光装置130に用いる蛍光体136の種
類によっては、特定の発光波長を強調したり、場合によ
っては赤外線カメラなどに対しても応用が可能となる。
半導体発光装置130は、パルス発生器158に接続さ
れ、パルス状の駆動電流を供給されることによりフラッ
シュとして用いることができる。
Next, a second embodiment of the present invention will be described. FIG. 3 is a schematic view illustrating a flash device for a camera according to a second embodiment of the present invention. That is, the camera 150 shown in FIG.
4 together with a semiconductor light emitting device 130 according to the present invention as a so-called flash. Semiconductor light emitting device 130
Emits white light having a predetermined wavelength distribution by the semiconductor light emitting element and the phosphor as described above with reference to FIG.
Further, depending on the type of the phosphor 136 used in the semiconductor light emitting device 130, a specific emission wavelength can be emphasized, and in some cases, application to an infrared camera or the like is possible.
The semiconductor light emitting device 130 can be used as a flash by being connected to the pulse generator 158 and being supplied with a pulsed drive current.

【0043】本発明によれば、従来の電球を利用した写
真機用閃光装置と比較して、消費電力が小さく、寿命が
極めて長いという利点が得られる。さらに、半導体発光
素子の特性を生かして、超高速撮影カメラなどの特殊用
途への応用も可能となる。
According to the present invention, advantages such as low power consumption and extremely long life can be obtained as compared with a conventional flash device for a camera using a light bulb. Further, by utilizing the characteristics of the semiconductor light emitting element, it can be applied to a special use such as an ultra-high-speed photographing camera.

【0044】次に、本発明の第3の実施の形態について
説明する。図4は、本発明の第3の実施の形態に係るラ
ンプを表す模式図である。すなわち、本発明によるラン
プ・ユニット200においては、凹面鏡210の焦点付
近に半導体発光装置130が配置されている。半導体発
光装置130の内部においては、半導体発光素子から放
出される紫外線が蛍光体により波長変換され、白色光な
どの光として外部に放出される。この光は凹面鏡210
により、所定の方向に集光され、放出される。半導体発
光装置130の内部において、光源となる蛍光物質を凹
面鏡の焦点近傍に集中して設けることにより、集光性を
改善することができる。
Next, a third embodiment of the present invention will be described. FIG. 4 is a schematic diagram illustrating a lamp according to a third embodiment of the present invention. That is, in the lamp unit 200 according to the present invention, the semiconductor light emitting device 130 is arranged near the focal point of the concave mirror 210. Inside the semiconductor light emitting device 130, ultraviolet light emitted from the semiconductor light emitting element is wavelength-converted by the phosphor and emitted to the outside as light such as white light. This light is reflected by the concave mirror 210
As a result, the light is collected and emitted in a predetermined direction. By arranging a fluorescent substance as a light source in the vicinity of the focal point of the concave mirror inside the semiconductor light emitting device 130, it is possible to improve the light collecting property.

【0045】本発明によるランプ・ユニット200は、
例えば車載用のヘッドランプや、懐中電灯などに応用す
ることができる。図2に示したような半導体発光装置1
30は、従来の電球と比較して、小型化が極めて容易で
ある。従って、異なる発光色を有する半導体発光装置1
30を凹面鏡210の焦点付近に隣接して配置すること
ができるようになる。その結果として、一つのランプ2
00により、複数の発光色を実現できる。たとえば、ヘ
ッドランプとフォグランプを共通のランプ・ユニットに
組込むことも可能である。また、バックランプとストッ
プランプの組み合わせなども可能となる。
The lamp unit 200 according to the present invention comprises:
For example, it can be applied to an in-vehicle headlamp or a flashlight. Semiconductor light emitting device 1 as shown in FIG.
30 is extremely easy to miniaturize as compared with a conventional light bulb. Therefore, the semiconductor light emitting device 1 having different emission colors
30 can be placed adjacent to the focal point of the concave mirror 210. As a result, one lamp 2
00 allows a plurality of emission colors to be realized. For example, a headlamp and a fog lamp can be incorporated in a common lamp unit. Also, a combination of a back lamp and a stop lamp can be made.

【0046】また、半導体発光装置130の代わりに、
紫外線を放出する半導体発光素子132を配置し、その
紫外線を直接凹面鏡210で反射した後、蛍光体で波長
変換するようにしても良い。この場合には、蛍光体は、
例えば、凹面鏡210の反射面上に堆積したり、ランプ
・ユニットの光出射窓部に配置すれば良い。
Further, instead of the semiconductor light emitting device 130,
A semiconductor light emitting element 132 that emits ultraviolet light may be arranged, and the ultraviolet light may be directly reflected by the concave mirror 210 and then subjected to wavelength conversion by a phosphor. In this case, the phosphor is
For example, it may be deposited on the reflecting surface of the concave mirror 210 or may be arranged at the light exit window of the lamp unit.

【0047】本発明によれば、従来の電球を利用したラ
ンプ・ユニットと比較して、消費電力が小さく、寿命が
極めて長いとともに、振動や衝撃などに対する機械的強
度が顕著に改善されるという利点が得られる。さらに、
光源を小さくすることができるため、集光性を飛躍的に
高めることが可能となり、遠方を高い照度で照らしたい
場合などに特に有利となる。
According to the present invention, as compared with a lamp unit using a conventional light bulb, the power consumption is small, the life is extremely long, and the mechanical strength against vibration and impact is remarkably improved. Is obtained. further,
Since the size of the light source can be reduced, the light-collecting property can be dramatically improved, which is particularly advantageous when illuminating a distant place with high illuminance is desired.

【0048】次に、本発明の第4の実施の形態について
説明する。図5は、本発明の第4の実施の形態に係る読
み取り装置を表す模式図である。すなわち、本発明によ
る読み取り装置250においては、赤色の光を放出する
半導体発光装置130Aと、緑色の光を放出する半導体
発光装置130Bと、青色の光を放出する半導体発光装
置130Cとがそれぞれ配置されている。半導体発光装
置130A、B、Cは、それぞれ内蔵する蛍光体136
の材料を変えることによって、それぞれの発光色を得る
ことができる。
Next, a fourth embodiment of the present invention will be described. FIG. 5 is a schematic diagram illustrating a reading device according to the fourth embodiment of the present invention. That is, in the reading device 250 according to the present invention, the semiconductor light emitting device 130A that emits red light, the semiconductor light emitting device 130B that emits green light, and the semiconductor light emitting device 130C that emits blue light are arranged. ing. The semiconductor light emitting devices 130A, 130B, and 130C each have a built-in phosphor 136.
By changing the material of the above, each emission color can be obtained.

【0049】半導体発光装置130A、B、Cからの赤
色光、緑色光、青色光は、図示しない原稿に向けて照射
され、それぞれの反射光が、受光部260A、B、Cに
より検出されるようにされている。受光部260A、
B、Cは、例えば、感光型素子やCCDなどにより構成
することができる。本発明による読み取り装置は、ファ
ックス(FAX)やスキャナ、あるいはコピ−機などに
組込まれ、所定の原稿を読みとって電気信号に変換する
ことができる。
The red light, green light, and blue light from the semiconductor light emitting devices 130A, 130B, and 130C are emitted toward a document (not shown), and the respective reflected lights are detected by the light receiving units 260A, 260B, and 260C. Has been. Light receiving section 260A,
B and C can be composed of, for example, a photosensitive element or a CCD. The reading apparatus according to the present invention is incorporated in a facsimile (FAX), a scanner, a copying machine, or the like, and can read a predetermined document and convert it into an electric signal.

【0050】本発明によれば、従来の蛍光灯を利用した
読み取り装置と比較して、消費電力が小さく、寿命が極
めて長いとともに、振動や衝撃などに対する機械的強度
が顕著に改善されるという利点が得られる。
According to the present invention, as compared with the conventional reading apparatus using a fluorescent lamp, the power consumption is small, the life is extremely long, and the mechanical strength against vibration and impact is remarkably improved. Is obtained.

【0051】次に、本発明の第5の実施の形態について
説明する。図6は、本発明の第5の実施の形態に係る投
影装置を表す模式図である。すなわち、本発明による投
影装置300においては、凹面鏡310の焦点付近に半
導体発光装置130が配置され、その前方に投影レンズ
320が配置されている。半導体発光装置130から放
出された光は、凹面鏡310により集光され、透光性シ
ートなどに描かれた所定の原稿340の透過パターン
を、投影レンズ320により、スクリーン342上に投
影する。
Next, a fifth embodiment of the present invention will be described. FIG. 6 is a schematic diagram illustrating a projection device according to a fifth embodiment of the present invention. That is, in the projection device 300 according to the present invention, the semiconductor light emitting device 130 is disposed near the focal point of the concave mirror 310, and the projection lens 320 is disposed in front of the semiconductor light emitting device 130. Light emitted from the semiconductor light emitting device 130 is condensed by the concave mirror 310, and the transmission pattern of a predetermined document 340 drawn on a translucent sheet or the like is projected on the screen 342 by the projection lens 320.

【0052】本発明によれば、従来の電球を利用した読
み取り装置と比較して、消費電力が小さく、発熱が少な
く、寿命が極めて長いとともに、小型軽量化が容易で、
振動や衝撃などに対する機械的強度が顕著に改善される
という利点が得られる。
According to the present invention, power consumption is small, heat generation is small, the life is extremely long, and miniaturization and weight reduction are easy, as compared with a conventional reading apparatus using a light bulb.
The advantage is obtained that the mechanical strength against vibration and impact is significantly improved.

【0053】次に、本発明の第6の実施の形態について
説明する。図7は、本発明の第6の実施の形態に係る浄
化装置を表す模式図である。すなわち、本発明による浄
化装置350においては、浄化回路360に沿って、オ
ゾン発生器370と半導体発光素子132とが配置され
ている。浄化回路360に水355Aを供給した場合に
は、半導体発光素子132からの紫外線により殺菌・浄
化され浄化水355Bとして排出される。また紫外線照
射の前に、オゾン発生器370によりオゾンを水に溶か
しておくと、才ゾンによる殺菌・浄化効果に加え紫外線
照射による活性酸素化を促し、殺菌・浄化効果はさらに
高まる。
Next, a sixth embodiment of the present invention will be described. FIG. 7 is a schematic diagram illustrating a purification device according to a sixth embodiment of the present invention. That is, in the purification device 350 according to the present invention, the ozone generator 370 and the semiconductor light emitting element 132 are arranged along the purification circuit 360. When water 355A is supplied to the purification circuit 360, the water 355A is sterilized and purified by ultraviolet rays from the semiconductor light emitting element 132 and is discharged as purified water 355B. Further, if ozone is dissolved in water by the ozone generator 370 before the ultraviolet irradiation, in addition to the sterilizing / purifying effect of the gen-zhong, the activation of active oxygen by ultraviolet irradiation is promoted, and the sterilizing / purifying effect is further enhanced.

【0054】一方、本発明による浄化装置350は、空
気の清浄化にも適する。すなわち、浄化回路360に空
気を供給することにより、空気に半導体発光素子132
からの紫外線を照射して、空気の殺菌・浄化を行うこと
もできる。また、図示しない加熱機構により、供給した
空気の温度を上げて熱風として排気することにより、殺
菌効果を高めた浄化装置としても良い。本発明による浄
化装置350は、例えば、医療用、各種保存用ケ−ス
内、冷蔵庫内などの殺菌・浄化用にも応用できる。
On the other hand, the purifying device 350 according to the present invention is also suitable for purifying air. That is, by supplying air to the purification circuit 360, the semiconductor light emitting element 132
Irradiation of ultraviolet rays from the air can sterilize and purify the air. Further, a purifying device having a higher sterilizing effect may be provided by raising the temperature of the supplied air and exhausting it as hot air by a heating mechanism (not shown). The purifying device 350 according to the present invention can also be applied to sterilization / purification for medical use, various storage cases, refrigerators, and the like.

【0055】本発明によれば、従来の紫外線蛍光灯を利
用した浄化装置と比較して、紫外線の強度が大きく浄化
能力が高いとともに、消費電力が小さく、寿命が極めて
長いとともに、振動や衝撃などに対する機械的強度が顕
著に改善されるという利点が得られる。また、半導体発
光素子132の点灯直後に瞬時に所定の安定した出力を
得ることができる。さらに、装置全体を小型化すること
ができるので設置が容易となり、鑑賞魚用水槽や家庭用
風呂水浄化などの用途について特に有利となる。
According to the present invention, as compared with a conventional purifying apparatus using an ultraviolet fluorescent lamp, the intensity of ultraviolet light is high, the purifying ability is high, the power consumption is small, the life is extremely long, and vibration, impact, etc. The advantage is that the mechanical strength is significantly improved. Further, a predetermined stable output can be obtained instantaneously immediately after the semiconductor light emitting element 132 is turned on. Furthermore, since the whole apparatus can be miniaturized, installation becomes easy, which is particularly advantageous for uses such as aquarium for aquarium fish and purification of bath water for home use.

【0056】次に、本発明の第7の実施の形態について
説明する。図8は、本発明の第7の実施の形態に係る紫
外線照射装置を表す模式図である。すなわち、本発明に
よる紫外線照射装置400においては、凹面鏡410の
焦点付近に半導体発光素子132が配置されている。半
導体発光素子132から放出された紫外線は凹面鏡41
0により反射・集光されて、ターゲット440に高い照
射強度で照射される。このようにして、例えば、樹脂成
型用や日焼け用、消毒用などの用途に応用することがで
きる。また、後述するBGaN系の半導体発光素子を用
いれば、人体内でビタミンDの生成に役立つ300nm
付近の紫外線を高い効率で発生することができるので、
健康器具としての応用も可能となる。
Next, a seventh embodiment of the present invention will be described. FIG. 8 is a schematic diagram illustrating an ultraviolet irradiation device according to a seventh embodiment of the present invention. That is, in the ultraviolet irradiation device 400 according to the present invention, the semiconductor light emitting element 132 is arranged near the focal point of the concave mirror 410. The ultraviolet light emitted from the semiconductor light emitting device 132 is
The light is reflected and condensed by 0, and irradiates the target 440 with high irradiation intensity. Thus, for example, it can be applied to uses such as resin molding, tanning, and disinfection. In addition, if a BGaN-based semiconductor light emitting device described later is used, 300 nm is useful for generating vitamin D in the human body.
Because it can generate nearby ultraviolet rays with high efficiency,
Application as a health appliance is also possible.

【0057】本発明によれば、従来の紫外線蛍光灯を利
用した紫外線照射装置と比較して、紫外線の強度が高い
とともに、消費電力が小さく、寿命が極めて長いととも
に、振動や衝撃などに対する機械的強度が顕著に改善さ
れるという利点が得られる。さらに、本発明によれば、
光源を極めて小さくすることができるので、集光性を高
めて紫外線照射密度を飛躍的に高めることができる。
According to the present invention, as compared with a conventional ultraviolet irradiation apparatus using an ultraviolet fluorescent lamp, the intensity of the ultraviolet light is high, the power consumption is small, the life is extremely long, and the mechanical strength against vibration and shock is high. The advantage is obtained that the strength is significantly improved. Furthermore, according to the present invention,
Since the light source can be made extremely small, the light condensing property can be increased and the ultraviolet irradiation density can be dramatically increased.

【0058】次に、本発明の第8の実施の形態について
説明する。図9は、本発明の第8の実施の形態に係る表
示装置を表す模式図である。すなわち、本発明による表
示装置450は、紫外線を放出する半導体発光素子13
2と表示パネル460とを有する。表示パネル460の
裏面には、発光色の異なる複数の蛍光体により、所定の
文字や図絵などが描かれている。半導体発光素子132
から放出された紫外線は、表示パネル460の裏面の蛍
光体により波長変換され、所定の文字や図絵などのパタ
ーンを表示する。
Next, an eighth embodiment of the present invention will be described. FIG. 9 is a schematic diagram illustrating a display device according to the eighth embodiment of the present invention. That is, the display device 450 according to the present invention includes the semiconductor light emitting device 13 emitting ultraviolet light.
2 and a display panel 460. On the back surface of the display panel 460, predetermined characters, pictures, and the like are drawn by a plurality of phosphors having different emission colors. Semiconductor light emitting device 132
Emitted from the display panel 460 is subjected to wavelength conversion by the phosphor on the back surface of the display panel 460 to display a pattern such as a predetermined character or picture.

【0059】また、紫外線を放出する半導体発光素子1
32の代わりに半導体発光装置130を配置しても良
い。この場合には、半導体発光装置130から放出され
る白色光などの可視光をバックライトとして、表示パネ
ル上の所定の文字や図絵などを表示することができる。
Further, the semiconductor light emitting device 1 emitting ultraviolet light
A semiconductor light emitting device 130 may be arranged in place of 32. In this case, predetermined characters or pictures on the display panel can be displayed using visible light such as white light emitted from the semiconductor light emitting device 130 as a backlight.

【0060】本発明による表示装置450は、例えば、
車載用インジケ−タ・ランプや、各種玩具用表示ラン
プ、各種警告灯、非常灯など極めて幅広に用途に応用す
ることができる。
The display device 450 according to the present invention includes, for example,
It can be applied to a very wide range of applications such as in-vehicle indicator lamps, display lamps for various toys, various warning lights, and emergency lights.

【0061】本発明によれば、従来の蛍光灯や電球を利
用した表示装置と比較して、表示輝度が高いとともに、
消費電力が小さく、寿命が極めて長いとともに、振動や
衝撃などに対する機械的強度が顕著に改善されるという
利点が得られる。
According to the present invention, display luminance is higher than that of a conventional display device using a fluorescent lamp or a light bulb, and
The advantage is that the power consumption is small, the life is extremely long, and the mechanical strength against vibration, impact and the like is remarkably improved.

【0062】次に、本発明の第9の実施の形態について
説明する。図10は、本発明の第9の実施の形態に係る
半導体発光装置を表す模式図である。すなわち、本発明
による半導体発光装置500は、紫外線を放出する半導
体発光素子132と第1の光反射部510、波長変換部
520、第2の光反射部530、および光吸収部540
がこの順序で設けられている。
Next, a ninth embodiment of the present invention will be described. FIG. 10 is a schematic diagram illustrating a semiconductor light emitting device according to a ninth embodiment of the present invention. That is, the semiconductor light emitting device 500 according to the present invention includes the semiconductor light emitting element 132 that emits ultraviolet light, the first light reflection unit 510, the wavelength conversion unit 520, the second light reflection unit 530, and the light absorption unit 540.
Are provided in this order.

【0063】本実施形態における第1の光反射部510
は、半導体発光素子132から放出される紫外線を透過
し、波長変換部520において波長変換され放出される
可視光などの2次光は反射するような波長選択性を有す
る。すなわち、半導体発光素子132からの紫外線に対
する反射率は低く、波長変換部520からの2次光の波
長の光に対する反射率が高くなるように構成されてい
る。
The first light reflecting section 510 in the present embodiment
Has wavelength selectivity such that ultraviolet light emitted from the semiconductor light emitting element 132 is transmitted, and secondary light such as visible light, which is wavelength-converted and emitted by the wavelength converter 520, is reflected. That is, the configuration is such that the reflectance for ultraviolet light from the semiconductor light emitting element 132 is low and the reflectance for light of the secondary light wavelength from the wavelength conversion unit 520 is high.

【0064】このような波長選択性は、例えば、ブラッ
グ反射鏡を利用することにより実現することができる。
すなわち、屈折率が異なる2種類の薄膜を交互に積層す
ることにより、特定の波長領域の光に対する反射率が高
い反射鏡を形成することができる。例えば、1次光の波
長をλ、薄膜層の光屈折率をnとした場合に、膜厚をそ
れぞれλ/(4n)とした2種類の薄膜を交互に積層す
ることにより、1次光に対する反射率が極めて高い反射
鏡を形成することができる。このような2種類の薄膜
は、光屈折率の差が大きいことが望ましい。その組み合
わせとしては、例えば、酸化シリコン(SiO2)と酸
化チタン(TiO2)、窒化アルミニウム(AlN)と
窒化インジウム(InN)、あるいはこれらのうちのい
ずれかの材料からなる薄膜と、アルミニウム・ガリウム
砒素、アルミニウム・ガリウム燐、五酸化タンタル、多
結晶シリコン、非晶質シリコンなどのいずれか材料の薄
膜とを適宜組み合わせても良い。
Such wavelength selectivity can be realized, for example, by using a Bragg reflector.
That is, by alternately laminating two types of thin films having different refractive indexes, it is possible to form a reflecting mirror having a high reflectance for light in a specific wavelength region. For example, assuming that the wavelength of the primary light is λ and the light refractive index of the thin film layer is n, two types of thin films each having a film thickness of λ / (4n) are alternately laminated, whereby the primary light It is possible to form a reflector having a very high reflectance. It is desirable that the two types of thin films have a large difference in optical refractive index. As a combination thereof, for example, silicon oxide (SiO 2 ) and titanium oxide (TiO 2 ), aluminum nitride (AlN) and indium nitride (InN), or a thin film made of any of these materials, aluminum gallium A thin film of any material such as arsenic, aluminum / gallium phosphide, tantalum pentoxide, polycrystalline silicon, and amorphous silicon may be appropriately combined.

【0065】波長変換部520は、半導体発光素子13
2から放出された紫外線を吸収して、より長波長の2次
光を放出する役割を有する。その構成としては、例え
ば、所定の媒体に蛍光体を含有させた層とすることがで
きる。この蛍光体は、半導体発光素子132から放出さ
れる紫外線を吸収して励起され、所定の波長を有する2
次光を放出する。例えば、半導体発光素子132から放
出される紫外線が、波長約330nmの光であり、蛍光
体により波長変換された2次光は、可視光あるいは赤外
線領域の所定の波長を有するようにすることができる。
2次光の波長は、蛍光体の材料を適宜選択することによ
り、調節することができる。紫外線領域の1次光を吸収
して、効率良く2次光を放出する蛍光体としては、例え
ば、赤色の発光を生ずるものとしては、Y22S:E
u、青色の発光を生ずるものとしては、(Sr、Ca、
Ba、Eu)10(PO46・Cl2、緑色の発光を生ず
るものとしては、3(Ba、Mg、Eu、Mn)O・8
Al23などを挙げることができる。これらの蛍光物質
を適当な割合で混合すれば、可視光領域の殆どすべての
色調を表現することができる。
The wavelength converter 520 is provided for the semiconductor light emitting device 13.
2 has a role of absorbing the ultraviolet light emitted from 2 and emitting secondary light of a longer wavelength. The structure can be, for example, a layer in which a predetermined medium contains a phosphor. The phosphor absorbs ultraviolet light emitted from the semiconductor light emitting element 132 and is excited to emit light having a predetermined wavelength.
The next light is emitted. For example, the ultraviolet light emitted from the semiconductor light emitting element 132 is light having a wavelength of about 330 nm, and the secondary light wavelength-converted by the phosphor can have a predetermined wavelength in the visible light or infrared region. .
The wavelength of the secondary light can be adjusted by appropriately selecting the material of the phosphor. As a phosphor that efficiently absorbs primary light in the ultraviolet region and emits secondary light efficiently, for example, as a phosphor that emits red light, Y 2 O 2 S: E
u, which emit blue light include (Sr, Ca,
Ba (Eu) 10 (PO 4 ) 6 .Cl 2 , which emits green light, includes 3 (Ba, Mg, Eu, Mn) O · 8
Al 2 O 3 and the like can be mentioned. By mixing these fluorescent substances in an appropriate ratio, almost all colors in the visible light region can be expressed.

【0066】また、これらの蛍光物質は、330nm付
近の波長帯において吸収ピークを有する場合が多い。従
って、これらの蛍光物質により効率的に波長変換を行う
ためには、半導体発光素子132が330nm付近の波
長帯の紫外線を放出するようにすることが望ましい。
These fluorescent materials often have an absorption peak in a wavelength band around 330 nm. Therefore, in order to perform wavelength conversion efficiently with these fluorescent substances, it is desirable that the semiconductor light emitting element 132 emits ultraviolet rays in a wavelength band around 330 nm.

【0067】次に、第2の光反射部530について説明
する。光反射部530は波長選択性を有する反射鏡であ
り、波長変換部520から入射する光のうちで、紫外線
を反射し、2次光を透過させる役割を有する。すなわ
ち、光反射部530は、紫外線の波長の光を反射し、2
次光の波長の光を透過するカット・オフ・フィルタ、あ
るいはバンドパス・フィルタとして作用する。その具体
的な構成としては、例えば、前述したようなブラッグ反
射鏡とすることができる。
Next, the second light reflecting section 530 will be described. The light reflecting unit 530 is a reflecting mirror having wavelength selectivity, and has a role of reflecting ultraviolet light and transmitting secondary light in light incident from the wavelength converting unit 520. That is, the light reflecting portion 530 reflects the light of the ultraviolet wavelength,
It functions as a cut-off filter or a band-pass filter that transmits light of the wavelength of the next light. As a specific configuration, for example, a Bragg reflector as described above can be used.

【0068】このような光反射部530を配置すること
により、波長変換部520を透過して漏洩した紫外線を
高い効率で反射して、波長変換部520に再び戻すこと
ができる。このようにして戻された紫外線は、波長変換
部520において波長変換され、2次光として、光反射
部530を透過する。つまり、波長変換部520の光出
射側に光反射部530を配置することにより、紫外線の
外部への漏洩を防止するとともに、波長変換部520を
透過した紫外線を戻して高い効率で波長変換することが
できるようになる。また、外部からの紫外線も光反射部
530により反射できるので、外乱光により波長変換部
520が励起されて不要な発光を生ずるという問題を解
消することもできる。
By arranging such a light reflecting section 530, the ultraviolet rays that have passed through the wavelength converting section 520 and leaked can be reflected with high efficiency and returned to the wavelength converting section 520 again. The ultraviolet light returned in this manner is wavelength-converted in the wavelength conversion unit 520 and passes through the light reflection unit 530 as secondary light. That is, by arranging the light reflecting portion 530 on the light emission side of the wavelength converting portion 520, it is possible to prevent the ultraviolet rays from leaking to the outside, and to return the ultraviolet light transmitted through the wavelength converting portion 520 to perform wavelength conversion with high efficiency. Will be able to Further, since ultraviolet light from the outside can be reflected by the light reflecting section 530, the problem that the wavelength converting section 520 is excited by disturbance light to generate unnecessary light can also be solved.

【0069】次に、光吸収部540について説明する。
光吸収部は、波長選択性を有する吸収体であり、紫外線
を高い効率で吸収するとともに2次光は透過させる役割
を有する。すなわち、紫外線の波長の光に対する吸収率
が高く、2次光の波長の光に対する吸収率は低いような
吸収特性を有する。この具体的な構成としては、例え
ば、透光性の媒体に所定の吸収体を分散させたものを挙
げることができる。このような吸収体としては、例え
ば、2次光が赤色の光の場合には、カドミウム・レッド
や弁柄を挙げることができ、2次光が青色の光の場合に
は、コバルト・ブルーや群青などを挙げることができ
る。
Next, the light absorbing section 540 will be described.
The light absorbing portion is an absorber having wavelength selectivity, and has a role of absorbing ultraviolet light with high efficiency and transmitting secondary light. That is, it has absorption characteristics such that the absorptance for light of the wavelength of ultraviolet light is high and the absorptivity for light of the wavelength of secondary light is low. As a specific configuration, for example, a configuration in which a predetermined absorber is dispersed in a translucent medium can be given. Examples of such an absorber include cadmium red and red iron oxide when the secondary light is red light, and cobalt blue and red light when the secondary light is blue light. Ultramarine and the like.

【0070】このような光吸収部540を設けることに
より、光反射部530を透過した紫外線を吸収して外部
への漏洩を防止することができるとともに、外部に取り
出す光のスペクトルを調節して、純色性を改善すること
も可能となる。また、外部からの紫外線も光吸収部54
0により吸収されるので、外乱光により波長変換部52
0が励起されて不要な発光を生ずるという問題を解消す
ることもできる。
By providing such a light absorbing portion 540, it is possible to absorb ultraviolet rays transmitted through the light reflecting portion 530 to prevent leakage to the outside, and to adjust the spectrum of light to be taken out to the outside. It is also possible to improve the color purity. Also, external ultraviolet light is absorbed by the light absorbing portion 54.
0, the wavelength conversion unit 52
It is also possible to solve the problem that unnecessary light emission is caused by excitation of 0.

【0071】本実施形態によれば、半導体発光素子13
2から放出された紫外線は第1の光反射部510を透過
して波長変換部520に入射し、2次光に波長変換され
る。また、波長変換部520において波長変換されずに
透過した紫外線は、第2の光反射部530により反射さ
れて再び波長変換部520に戻される。さらに、第2の
光反射部530も透過した紫外線は、光吸収部540に
おいて吸収され、外部への漏洩が防止される。
According to the present embodiment, the semiconductor light emitting device 13
The ultraviolet light emitted from 2 passes through the first light reflection unit 510 and enters the wavelength conversion unit 520, where the wavelength is converted into secondary light. The ultraviolet light transmitted without wavelength conversion in the wavelength conversion unit 520 is reflected by the second light reflection unit 530 and returned to the wavelength conversion unit 520 again. Further, the ultraviolet light transmitted through the second light reflection portion 530 is absorbed by the light absorption portion 540, and leakage to the outside is prevented.

【0072】一方、波長変換部520から放出された2
次光のうちで第2の光反射部510の方向に出射した光
成分は、光反射部530および光吸収部540を透過し
て外部に取り出すことができる。また、波長変換部52
0から放出された2次光のうちで半導体発光素子132
の方向に出射した光成分は、第1の光反射部510によ
り反射され、波長変換部520、光反射部530および
光吸収部540を透過して外部に取り出すことができる
ようになる。
On the other hand, the 2
Of the next light, the light component emitted in the direction of the second light reflecting portion 510 can be extracted through the light reflecting portion 530 and the light absorbing portion 540 to the outside. Further, the wavelength converter 52
Semiconductor light emitting element 132 of the secondary light emitted from
The light component emitted in the direction of is reflected by the first light reflection unit 510, and can be extracted to the outside through the wavelength conversion unit 520, the light reflection unit 530, and the light absorption unit 540.

【0073】ここで、第1の光反射部510を設けない
場合には、波長変換部520から半導体発光素子132
の方向に放出された2次光は、半導体発光素子132に
より吸収され、あるいは乱反射されて、外部に有効に取
り出すことができない。これに対して、本実施形態によ
れば、第1の光反射部510を設けることにより、波長
変換部520から半導体発光素子132の方向に放出さ
れる2次光を光反射部510により反射して、外部に効
率良く取り出すことができるようになる。すなわち、光
は2つの光反射部の間で多重反射したりして最終的には
大部分が波長変換され、外部へ取り出されることにな
る。よって取り出し効率の極めて高い高効率発光装置を
実現することができる。
Here, when the first light reflecting section 510 is not provided, the semiconductor light emitting element 132
The secondary light emitted in the direction is absorbed or irregularly reflected by the semiconductor light emitting element 132 and cannot be effectively extracted to the outside. On the other hand, according to the present embodiment, by providing the first light reflecting section 510, the secondary light emitted from the wavelength converting section 520 in the direction of the semiconductor light emitting element 132 is reflected by the light reflecting section 510. As a result, it can be efficiently taken out to the outside. That is, the light is subjected to multiple reflection between the two light reflecting portions, and finally most of the light is wavelength-converted and extracted to the outside. Therefore, a highly efficient light emitting device with extremely high extraction efficiency can be realized.

【0074】次に、本発明に用いて好適な紫外線を発光
する半導体発光素子132の詳細について説明する。
Next, the details of the semiconductor light emitting element 132 that emits ultraviolet light suitable for use in the present invention will be described.

【0075】図11は、本発明に用いて好適な半導体発
光素子132の断面構成を表す模式図である。すなわ
ち、半導体発光素子132は、紫外波長域で発光する発
光ダイオ−ド(LED)である。図11に示したよう
に、半導体発光素子132は、サファイア基板1001
上に半導体層1002〜1008が積層された構成を有
する。各半導体層の結晶成長は、例えば有料金属化学気
相成長法(MOCVD法)により行うことができる。そ
れぞれの半導体層の膜厚と成長温度について以下に例示
する。
FIG. 11 is a schematic diagram showing a sectional structure of a semiconductor light emitting device 132 suitable for use in the present invention. That is, the semiconductor light emitting device 132 is a light emitting diode (LED) that emits light in the ultraviolet wavelength region. As shown in FIG. 11, the semiconductor light emitting device 132 includes a sapphire substrate 1001
It has a configuration in which semiconductor layers 1002 to 1008 are stacked thereon. The crystal growth of each semiconductor layer can be performed by, for example, a charged metal chemical vapor deposition (MOCVD) method. The thickness and growth temperature of each semiconductor layer will be exemplified below.

【0076】 GaNバッファ層 1002・・0.05μm、 550℃ n−GaNコンタクト層 1003・・4.0μm、 1100℃ n−AlGaNクラッド層 1004・・0.2μm、 ll00℃ n−BGaN活性層 1005・・0.5μm、 1200℃ p−AlGaN第1クラッド層1006・・0.05μm、1100℃ p−AlGaN第2クラッド層1007・・0.2μm、 1100℃ p−GaNコンタクト層 1008・・0.05μm、1100℃ また、電流注入用の電極1009および1010は、そ
れぞれ、n−GaNコンタクト層1003およびp−G
aNコンタクト層1008上に形成されている。半導体
発光素子132が従来の素子と異なる点は、活性層10
05にホウ素(B)を含む窒化ガリウム系半導体を用
い、さらにその隣接する層にAlGaNを用いている点
にある。従来、Bを含む結晶はBNを中心に開発が進め
られてきており、その基板結晶としてはSiCが用いら
れ、結晶成長温度としては約1300℃という高い成長
温度が必要であった。しかしながら、BをGaNに混入
させようと試みると、BはGaN結晶中への溶解度が低
く、また基板に用いるSiCとの格子不整合が大きいと
いう問題があった。このため、例えば結晶の表面モフォ
ロジの平坦性などの点で品質の高いBGaNの3元混晶
は、これまで得られていなかった。
GaN buffer layer 1002... 0.05 μm, 550 ° C. n-GaN contact layer 1003... 4.0 μm, 1100 ° C. n-AlGaN cladding layer 1004... 0.2 μm, 110 ° C. n-BGaN active layer 1005. 0.5 μm, 1200 ° C. p-AlGaN first cladding layer 1006... 0.05 μm, 1100 ° C. p-AlGaN second cladding layer 1007... 0.2 μm, 1100 ° C. p-GaN contact layer 1008. The electrodes 1009 and 1010 for current injection are respectively composed of an n-GaN contact layer 1003 and a p-G
It is formed on the aN contact layer 1008. The difference between the semiconductor light emitting device 132 and the conventional device is that the active layer 10
A point is that a gallium nitride based semiconductor containing boron (B) is used in 05 and AlGaN is used in an adjacent layer. Conventionally, the development of a crystal containing B has been focused on BN, and SiC is used as the substrate crystal, and a high growth temperature of about 1300 ° C. is required as a crystal growth temperature. However, when trying to mix B into GaN, there is a problem that B has low solubility in the GaN crystal and has a large lattice mismatch with SiC used for the substrate. For this reason, for example, a ternary mixed crystal of BGaN having high quality in terms of the flatness of the surface morphology of the crystal has not been obtained.

【0077】本半導体発光素子132の優れた点は、B
GaNの下地層に耐熱性の高いAlを含むAlGaNを
用いることにより、高品質のBGaN結晶を成長するこ
とができる点にある。つまり、AlGaNを1100℃
で成長した後、成長温度を窒化ガリウム系の成長として
は比較的高い1200℃に昇温しても、その結晶表面の
平坦性が保たれることから、良質のBGaN結晶を平坦
性よく成長できる。
The advantage of the present semiconductor light emitting device 132 is that B
By using AlGaN containing Al with high heat resistance for the GaN underlayer, a high-quality BGaN crystal can be grown. That is, AlGaN is heated to 1100 ° C.
Even if the growth temperature is raised to 1200 ° C., which is relatively high for gallium nitride-based growth, the flatness of the crystal surface is maintained, so that a good-quality BGaN crystal can be grown with good flatness. .

【0078】本発明者の実験によれば、更に成長温度を
上げた場合には、AlGaNの表面からのNの抜けによ
るものと考えられる表面荒れが顕著になり、加えてAl
GaNとの格子不整合率が増加するために、成長したB
GaN層の表面の平坦性が劣化した。ここでBの濃度を
増加するほど、結晶表面の平坦性は劣化する傾向が認め
られ、平坦な表面を有する結晶が得られたBxGa1-x
のB混晶比(X)は0.1以下であった。これ以上の濃
度のBの混晶化は未だ困難である。
According to the experiment of the present inventor, when the growth temperature was further increased, the surface roughness considered to be due to the escape of N from the AlGaN surface became remarkable.
Since the lattice mismatch with GaN increases, the grown B
The surface flatness of the GaN layer deteriorated. Here, as the concentration of B increases, the flatness of the crystal surface tends to deteriorate, and B x Ga 1 -xN in which a crystal having a flat surface is obtained.
The B mixed crystal ratio (X) was 0.1 or less. It is still difficult to mix B at a higher concentration.

【0079】しかし、本発明者が得た混晶組成は、紫外
波長領域での発光素子としては十分な混晶比であり、そ
の波長は365〜300nmに対応することが分かっ
た。
However, it has been found that the mixed crystal composition obtained by the present inventors has a sufficient mixed crystal ratio for a light emitting device in the ultraviolet wavelength region, and that the wavelength corresponds to 365 to 300 nm.

【0080】本構造が有するもう一つの利点は、比較的
厚くに成長したn−GaNコンタクト層1003の上に
BGaNを含む発光部を成長出来る点にある。図11の
ような素子構造を作成する際には、n側電極1009の
形成にあたって、半導体層をエッチングしてn型コンタ
クト層1003を露出させる必要がある。このエッチン
グ工程の加工精度の許容度を拡大するためには、n型コ
ンタクト層1003をある程度厚く成長することが望ま
しい。しかし、BGaN混晶では厚膜成長が困難であり
エッチング・プロセスの歩留まりを低下させてしまうた
め、n型コンタクト層として用いることが適さない。
Another advantage of this structure is that a light emitting portion containing BGaN can be grown on the n-GaN contact layer 1003 which has been grown relatively thick. In forming the element structure as shown in FIG. 11, it is necessary to expose the n-type contact layer 1003 by etching the semiconductor layer when forming the n-side electrode 1009. In order to increase the tolerance of the processing accuracy in this etching step, it is desirable to grow the n-type contact layer 1003 to a certain thickness. However, BGaN mixed crystals make it difficult to grow a thick film and lower the yield of the etching process, so that it is not suitable for use as an n-type contact layer.

【0081】BGaN混晶は、6H型のSiC基板に格
子整合するB混晶比を有しており、導電性を有するSi
C基板上に成長する場合には、電極形成のためのエッチ
ング・プロセスが必要でなく、必ずしも厚い結晶は必要
とされない。しかし、その際のB混晶比は0.2と高く
結晶成長自身が困難であり、また、SiC基板が紫外線
の波長に対し不透明となることから単純に素子特性向上
に結び付くわけではない。
The BGaN mixed crystal has a B mixed crystal ratio lattice-matched to a 6H SiC substrate, and has a conductive Si
When growing on a C substrate, an etching process for forming an electrode is not required, and a thick crystal is not necessarily required. However, the B mixed crystal ratio at that time is as high as 0.2, and crystal growth itself is difficult, and the SiC substrate becomes opaque to the wavelength of ultraviolet light, which does not simply lead to improvement in device characteristics.

【0082】以上説明したような事情により、本発明に
よる半導体発光素子132における、GaN層/AlG
aN層の上にBGaN発光層を積層した構造は、格子整
合条件を必要とせずに厚膜で平坦なGaN層/AlGa
N層を成長することができ、BGaNを発光層とするL
EDを実現するにあたって非常に有効である。
Under the circumstances described above, the GaN layer / AlG in the semiconductor light emitting device 132 according to the present invention.
The structure in which the BGaN light emitting layer is laminated on the aN layer has a thick and flat GaN layer / AlGa layer without requiring lattice matching conditions.
N layer can be grown, and L
It is very effective in realizing ED.

【0083】図11に示した構成において、BxGa1-x
N活性層1005のB混晶比(X)を0.05とし、p
−AlyGa1-yN第1クラッド層1006のAl混晶比
(Y)を0.3、n−AlzGa1-zNクラッド層100
4およびp−AlzGa1-zNクラッド層1007のAl
混晶比(Z)を0.2とした半導体積層構造を作成し、
350μm角のチップに加工してLEDを試作した結
果、発光スペクトルピ−クが約330nmの紫外線発光
を得ることができた。動作電流を20mAにしたときの
発光強度は約10μWであった。
In the configuration shown in FIG. 11, B x Ga 1 -x
When the B mixed crystal ratio (X) of the N active layer 1005 is set to 0.05, p
-Al y Ga 1 -yN first cladding layer 1006 has an Al mixed crystal ratio (Y) of 0.3 and n-Al z Ga 1 -z N cladding layer 100
4 and Al of p-Al z Ga 1-z N cladding layer 1007
A semiconductor multilayer structure with a mixed crystal ratio (Z) of 0.2 is created,
As a result of processing the chip into a 350 μm square chip to produce an LED, it was possible to obtain ultraviolet light having an emission spectrum peak of about 330 nm. The emission intensity when the operating current was 20 mA was about 10 μW.

【0084】図12は、BGaNに対してシリコン(S
i)をド−ビングした場合のシリコン濃度とフォトルミ
ネッセンス(PL)発光強度との関係を示すグラフ図で
ある。すなわち、同図の横軸はBGaN中のシリコン濃
度を表し、縦軸はPL発光強度を任意単位で表す。同図
からわかるようにシリコン濃度によって、LEDの発光
強度が変化する。すなわち、シリコン濃度の増加にとも
なって、1E16cm-3付近から急激に発光強度が増加
し、約1E18から1E20cm-3付近で発光強度は最
大となり、それ以上高いシリコン濃度では、発光強度は
急激に減少する。本発明者の実験によれば、このような
傾向はB混晶比を変化させても変わらず、同様の結果が
得られた。図11に示した層構造において、BGaN活
性層1005に対してシリコンを1E19cm-3ドーピ
ングしたところ、発光波長は330nmで変わらず、2
0mAでの発光強度は約2mWまで向上した。さらに活
性層1005のシリコン濃度を変化させた実験の結果、
シリコン濃度としては、1E17cm-3から1E21c
-3の範囲において、特性向上および積層構造を作成す
る上で実用上適当であることがわかった。
FIG. 12 shows that silicon (S
It is a graph which shows the relationship between the silicon concentration and photoluminescence (PL) luminescence intensity at the time of doping i). That is, the horizontal axis in the figure represents the silicon concentration in BGaN, and the vertical axis represents the PL emission intensity in arbitrary units. As can be seen from the figure, the light emission intensity of the LED changes depending on the silicon concentration. That is, with the increase of silicon concentration, rapidly emission intensity increases from around 1E16 cm -3, the emission intensity at around 1E20 cm -3 to about 1E18 is maximized, the more high silicon concentration, the emission intensity sharply decreased I do. According to experiments performed by the present inventors, such a tendency does not change even when the B mixed crystal ratio is changed, and similar results were obtained. In the layer structure shown in FIG. 11, when the BGaN active layer 1005 was doped with 1E19 cm −3 of silicon, the emission wavelength remained unchanged at 330 nm and was 2 nm.
The emission intensity at 0 mA improved to about 2 mW. Further, as a result of an experiment in which the silicon concentration of the active layer 1005 was changed,
The silicon concentration is from 1E17 cm -3 to 1E21c
In the range of m -3 , it was found to be practically suitable for improving characteristics and forming a laminated structure.

【0085】図13は、本発明の異なる実施の形態に関
わる紫外線発光型の半導体発光素子の概略断面構造を表
す図である。すなわち、半導体発光素子132Bは、6
H型SiC基板1101上に成長させた積層構造を有す
る。各層の膜厚および成長温度は図11に関して前述し
たものとほぼ同様であり、異なる点はGaNバッファ層
1102がn型にドーピングされ、n側電極1109が
SiC基板1101の裏面側に形成されている点であ
る。結晶成長は、例えば有機金属化学気相成長法(MO
CVD法)により行うことができる。前述したように、
6H型SiC基板1101を採用した場合においては、
紫外線波長域において不透明になるので、基板側へ放射
された光を発光素子の外部に取り出すことができなくな
るというデメリットが生ずる。しかし、GaNとの実効
格子不整合率はサファイア基板の13.8%に対して
3.4%と6H型−SiC基板の方が小さく、格子不整
合に起因する転位や各種の結晶欠陥の密度を低減するこ
とができる。このようにBGaN活性層1105の下地
の結晶層の品質が向上することから、BGaN結晶11
05の結晶品質も向上し、発光素子の発光特性を改善す
ることができる。すなわち、6H型SiC基板1101
を採用する利点は、結晶性の改善に起因する発光特性の
向上である。
FIG. 13 is a diagram showing a schematic sectional structure of an ultraviolet light emitting semiconductor light emitting device according to another embodiment of the present invention. That is, the semiconductor light emitting element 132B has
It has a laminated structure grown on an H-type SiC substrate 1101. The film thickness and growth temperature of each layer are almost the same as those described above with reference to FIG. 11, except that the GaN buffer layer 1102 is doped n-type and the n-side electrode 1109 is formed on the back side of the SiC substrate 1101. Is a point. Crystal growth is performed, for example, by metal organic chemical vapor deposition (MO).
CVD method). As previously mentioned,
When the 6H SiC substrate 1101 is adopted,
Since it becomes opaque in the ultraviolet wavelength region, there is a disadvantage that light emitted to the substrate side cannot be taken out of the light emitting element. However, the effective lattice mismatch ratio with GaN is 3.4% compared to 13.8% of the sapphire substrate, which is smaller in the 6H-SiC substrate, and the density of dislocations and various crystal defects caused by the lattice mismatch. Can be reduced. Since the quality of the underlying crystal layer of the BGaN active layer 1105 is improved in this manner, the BGaN crystal 11
In addition, the crystal quality of the light-emitting element 05 can be improved and the light-emitting characteristics of the light-emitting element can be improved. That is, the 6H SiC substrate 1101
The advantage of employing is that the light emission characteristics are improved due to the improvement in crystallinity.

【0086】図13に示した構造において、BxGa1-x
N活性層1105のB混晶比(X)を0.05とし、p
−AlyGa1-yN第1クラッド層1106のAl混晶比
(Y)を0.3、n−AlzGa1-zNクラッド層110
4およびp−AlzGa1-zNクラッド層1107のAl
混晶比(Z)を0.2とした層構造を作成し、350μ
m角のチップに加工してLEDを作成したところ、発光
スペクトルピ−クが330nmの発光を得ることができ
た。
In the structure shown in FIG. 13, B x Ga 1 -x
When the B mixed crystal ratio (X) of the N active layer 1105 is 0.05, p
-Al y Ga 1 -yN first cladding layer 1106 has an Al composition ratio (Y) of 0.3 and n-Al z Ga 1 -zN cladding layer 110
4 and p-Al z Al of Ga 1-z N cladding layer 1107
A layer structure with a mixed crystal ratio (Z) of 0.2 was created,
When an LED was fabricated by processing the chip into an m-square chip, light emission having a light emission spectrum peak of 330 nm could be obtained.

【0087】BxGa1-xN活性層1105に対してシリ
コンをドーピングして結晶中のシリコン濃度を1E19
cm-3として作成した素子においては、動作電流を20
mAにしたときの発光強度は約1.3mWであった。
The B x Ga 1 -xN active layer 1105 is doped with silicon to reduce the silicon concentration in the crystal to 1E19.
In the device prepared as cm −3 , the operating current was 20
The emission intensity at the time of mA was about 1.3 mW.

【0088】図14は、図13に示した半導体発光素子
132Bの変型例を表す断面模式図である。すなわち、
半導体発光素子132Cは、図13に示した半導体発光
素子32Bの半導体積層構造を表面側からエッチングし
てn−GaNコンタクト層1103を露出させ、n側電
極1109を形成したものである。この構造においても
素子特性に重要なBGaN活性層に与える影響は同様で
あり、その有用性は大きい。
FIG. 14 is a schematic sectional view showing a modified example of the semiconductor light emitting device 132B shown in FIG. That is,
The semiconductor light emitting device 132C is obtained by etching the semiconductor laminated structure of the semiconductor light emitting device 32B shown in FIG. 13 from the front side to expose the n-GaN contact layer 1103 and form the n-side electrode 1109. In this structure, the effect on the BGaN active layer which is important for the device characteristics is the same, and its usefulness is great.

【0089】なお、以上説明した本発明の実施の形態
は、図示した構造や前述した製造方法に限定されるもの
ではない。すなわち、発光層としてBGaN混晶につい
て記したが、BlnAlGaN系の材料を用いて、注入
キャリアの閉じ込めが可能なへテ口接合が形成されれば
良く、BGaNの3元系に限られるものではない。
The embodiments of the present invention described above are not limited to the illustrated structure or the above-described manufacturing method. That is, although a BGaN mixed crystal is described as the light emitting layer, a BnAlGaN-based material may be used to form a metal junction capable of confining injected carriers, and is not limited to a BGaN ternary system. .

【0090】また、p側電極を形成するコンタクト層も
GaN層に限定されず、InAlGaN系から選ばれる
材料であれば、その特性は満足され、活性層からの発光
に対して吸収損失を有する材料系の場合は膜厚を薄くす
ることにより対応すれば十分に特性を満足することがで
きる。また、前述した具体例においてはLEDについて
説明したが窒化ガリウム系半導体レーザ(LD)への適
用も可能である。その他、本発明の要旨を逸脱しない範
囲で種々変形して実施可能である。
The contact layer forming the p-side electrode is not limited to the GaN layer. Any material selected from InAlGaN-based materials can satisfy the characteristics, and can absorb light from the active layer. In the case of a system, the characteristics can be sufficiently satisfied by reducing the film thickness. Further, in the above-described specific example, an LED has been described, but application to a gallium nitride based semiconductor laser (LD) is also possible. In addition, various modifications can be made without departing from the spirit of the present invention.

【0091】[0091]

【発明の効果】本発明は、以上説明したような形態で実
施され、以下に説明する効果を奏する。
The present invention is embodied in the form described above, and has the following effects.

【0092】まず、本発明によれば、従来の蛍光灯や電
球に比べて、高効率で、消費電力が低く、寿命も極めて
長い照明装置などの各種応用装置を提供することができ
る。
First, according to the present invention, it is possible to provide various kinds of applied devices such as a lighting device having higher efficiency, lower power consumption, and an extremely longer life than conventional fluorescent lamps and electric bulbs.

【0093】さらに、本発明によれば、衝撃や振動など
に対する機械的強度が高く、信頼性に優れた照明装置な
どを提供することができる。
Further, according to the present invention, it is possible to provide a lighting device or the like which has high mechanical strength against shocks and vibrations and has excellent reliability.

【0094】また、本発明によれば、小型、軽量化が容
易であり、製造コスト、輸送コストも低減することがで
きる。
Further, according to the present invention, the size and weight can be easily reduced, and the manufacturing cost and the transportation cost can be reduced.

【0095】また、本発明によれば、半導体発光素子の
発光層からの発光を直接取り出すことがなく、蛍光物質
により波長変換することとしているので、半導体発光素
子の製造パラメータのばらつき、駆動電流、温度などに
依存して、発光波長が変動するという問題を解消するこ
とができる。すなわち、本発明によれば、発光波長が極
めて安定で、発光輝度と発光波長とを独立して制御する
ことができるようになる。
Further, according to the present invention, the light emission from the light emitting layer of the semiconductor light emitting element is not directly extracted, but the wavelength is converted by the fluorescent substance. The problem that the emission wavelength varies depending on the temperature or the like can be solved. That is, according to the present invention, the emission wavelength is extremely stable, and the emission luminance and the emission wavelength can be controlled independently.

【0096】また、本発明によれば、用いる蛍光物質を
適宜組み合わせることによって、容易に複数の発光波長
を得ることができる。例えば、赤(R)、緑(G)、青
(B)の蛍光物質を適宜混合して、発光素子に含有させ
れば、白色光の発光を容易に得ることができる。
According to the present invention, a plurality of emission wavelengths can be easily obtained by appropriately combining the fluorescent substances used. For example, by appropriately mixing red (R), green (G), and blue (B) fluorescent substances and incorporating them into a light-emitting element, white light can be easily emitted.

【0097】さらに、本発明によれば、発光層にホウ素
を含んだGaNを用いることにより、蛍光体を極めて効
率的に励起することができる330nm付近の紫外線を
極めて高い強度で得ることができる。
Further, according to the present invention, by using GaN containing boron for the light emitting layer, it is possible to obtain ultraviolet rays having a wavelength of about 330 nm with extremely high intensity, which can excite the phosphor extremely efficiently.

【0098】さらに、本発明によれば、半導体発光素子
が放出する紫外線を反射して閉じこめ、また蛍光体が放
出する2次光を反射して外部に導くことにより、極めて
効率的に波長変換を行い、2次光を外部に取り出すこと
ができるようになる。
Further, according to the present invention, the wavelength conversion is extremely efficiently performed by reflecting and confining the ultraviolet light emitted by the semiconductor light emitting element and by guiding the secondary light emitted by the phosphor to the outside. As a result, secondary light can be extracted to the outside.

【0099】さらに、本発明によれば、発光波長に応じ
て、内蔵する半導体発光素子の材料や構造を適宜選択
し、変更する必要がなくなる。例えば、従来は、赤色に
おいて発光させるためには、AlGaAs系材料を用
い、黄色においてはGaAsP系またはlnGaAlP
系材料、緑色系においてはInGaAlP系またはGa
P系材料、青色においてはInGaN系材料の如く、最
適な材料をその波長に併せて選択しなければならないと
いう問題があった。これに対して、本発明によれば、発
光波長に応じて蛍光物質の種類を適宜選択すれば良く、
半導体発光素子を変更する必要がなくなる。
Further, according to the present invention, it is not necessary to appropriately select and change the material and structure of the built-in semiconductor light emitting element according to the emission wavelength. For example, conventionally, an AlGaAs-based material is used to emit light in red, and a GaAsP-based or InGaAlP-based material is used for yellow.
Material, InGaAlP or Ga
There is a problem that an optimum material such as a P-based material and a blue-colored InGaN-based material must be selected according to the wavelength. In contrast, according to the present invention, the type of the fluorescent substance may be appropriately selected according to the emission wavelength,
There is no need to change the semiconductor light emitting element.

【0100】また、本発明によれば、異なる発光色を有
する半導体発光素子を並べる必要がある場合において
も、発光色の変更は、用いる蛍光体の種類を変えるだけ
で済み、半導体発光素子の材料や構造は同一とすること
ができる。従って、発光装置の構成を極めて簡略化する
ことが可能となり、製造コストを顕著に低減することが
できるとともに、信頼性も高く、また、駆動電流や、供
給電圧、あるいは素子のサイズなどを共通にすることに
より、応用範囲を顕著に拡大することができるという利
点も生ずる。
Further, according to the present invention, even when it is necessary to arrange semiconductor light-emitting elements having different light-emitting colors, it is sufficient to change the light-emitting color only by changing the kind of the phosphor to be used. And the structure can be the same. Therefore, the configuration of the light emitting device can be extremely simplified, the manufacturing cost can be significantly reduced, the reliability is high, and the driving current, the supply voltage, the element size, and the like are commonly used. This also has the advantage that the range of application can be significantly expanded.

【0101】このように、本発明によれば、比較的簡略
な構成により、発光波長が極めて安定で、しかも、可視
光から赤外線領域までの種々の波長において高い輝度で
発光させることができる照明装置、その他各種の応用装
置を提供することができ、産業上のメリットは多大であ
る。
As described above, according to the present invention, with a relatively simple configuration, an illuminating device that can emit light with extremely stable emission wavelengths and with high luminance at various wavelengths from the visible light to the infrared region. , And various other applied devices can be provided, and the industrial merits are great.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施の形態に係る照明装置を表
す概略図である。すなわち、同図(a)は、その全体斜
視図であり、同図(b)は、その横断面図、同図(c)
は、その配線基板の概略平面図である。
FIG. 1 is a schematic diagram illustrating a lighting device according to a first embodiment of the present invention. That is, FIG. 2A is an overall perspective view, FIG. 2B is a cross-sectional view thereof, and FIG.
FIG. 3 is a schematic plan view of the wiring board.

【図2】本発明において用いて好適な半導体発光装置の
構成を表す概略断面図である。
FIG. 2 is a schematic sectional view illustrating a configuration of a semiconductor light emitting device suitable for use in the present invention.

【図3】本発明の第2の実施の形態に係る写真機用閃光
装置を表す模式図である。
FIG. 3 is a schematic view illustrating a flash device for a camera according to a second embodiment of the present invention.

【図4】本発明の第3の実施の形態に係るランプを表す
模式図である。
FIG. 4 is a schematic diagram illustrating a lamp according to a third embodiment of the present invention.

【図5】本発明の第4の実施の形態に係る読み取り装置
を表す模式図である。
FIG. 5 is a schematic diagram illustrating a reading device according to a fourth embodiment of the present invention.

【図6】本発明の第5の実施の形態に係る投影装置を表
す模式図である。
FIG. 6 is a schematic diagram illustrating a projection device according to a fifth embodiment of the present invention.

【図7】本発明の第6の実施の形態に係る浄化装置を表
す模式図である。
FIG. 7 is a schematic diagram illustrating a purification device according to a sixth embodiment of the present invention.

【図8】本発明の第7の実施の形態に係る紫外線照射装
置を表す模式図である。
FIG. 8 is a schematic diagram illustrating an ultraviolet irradiation device according to a seventh embodiment of the present invention.

【図9】本発明の第8の実施の形態に係る表示装置を表
す模式図である。
FIG. 9 is a schematic view illustrating a display device according to an eighth embodiment of the present invention.

【図10】本発明の第9の実施の形態に係る発光装置を
表す模式図である。
FIG. 10 is a schematic diagram illustrating a light emitting device according to a ninth embodiment of the present invention.

【図11】本発明に用いて好適な半導体発光素子132
の断面構成を表す模式図である。
FIG. 11 shows a semiconductor light emitting device 132 suitable for use in the present invention.
It is a schematic diagram showing the cross-sectional configuration of FIG.

【図12】BGaNに対してシリコン(Si)をド−ビ
ングした場合のシリコン濃度とフォトルミネッセンス
(PL)発光強度との関係を示すグラフ図である。
FIG. 12 is a graph showing the relationship between silicon concentration and photoluminescence (PL) emission intensity when silicon (Si) is doped to BGaN.

【図13】本発明の異なる実施の形態に関わる紫外線発
光型の半導体発光素子の概略断面構造を表す図である。
FIG. 13 is a diagram illustrating a schematic cross-sectional structure of an ultraviolet light emitting semiconductor light emitting device according to another embodiment of the present invention.

【図14】図13に示した半導体発光素子132Bの変
型例を表す断面模式図である。
FIG. 14 is a schematic cross-sectional view showing a modification of the semiconductor light emitting device 132B shown in FIG.

【図15】従来の蛍光灯システムの概略構成を表す模式
図である。
FIG. 15 is a schematic diagram illustrating a schematic configuration of a conventional fluorescent lamp system.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

100 照明装置 110 配線基板 120A、120B 外囲器 130 半導体発光装置 132 半導体発光素子 134 リード・フレーム 136 蛍光体 138 樹脂 150 写真機 152 レンズ 154 ファインダ 158 パルス発生器 200 ランプ・ユニット 210 凹面鏡 250 読み取り装置 260A、B、C 受光部 300 投影装置 310 凹面鏡 320 投影レンズ 340 原稿 342 スクリーン 350 浄化装置 355A 水 355B 浄化水 360 浄化回路 370 オゾン発生器 400 紫外線照射装置 410 凹面鏡 440 ターゲット 450 表示装置 460 表示パネル 500 半導体発光装置 510 第1の光反射部 520 波長変換部 530 第2の光反射部 540 光吸収部 1001 基板 1002 バッファ層 1003 n型層 1004、1006、1007 クラッド層 1005 発光層 1008 コンタクト層 1009、1010 電極 Reference Signs List 100 lighting device 110 wiring board 120A, 120B envelope 130 semiconductor light emitting device 132 semiconductor light emitting element 134 lead frame 136 phosphor 138 resin 150 camera 152 lens 154 finder 158 pulse generator 200 lamp unit 210 concave mirror 250 reading device 260A , B, C light receiving unit 300 projection device 310 concave mirror 320 projection lens 340 document 342 screen 350 purification device 355A water 355B purified water 360 purification circuit 370 ozone generator 400 ultraviolet irradiation device 410 concave mirror 440 target 450 display device 460 display panel 500 semiconductor light emission Apparatus 510 First light reflecting section 520 Wavelength converting section 530 Second light reflecting section 540 Light absorbing section 1001 Substrate 1002 Buffer layer 1003 n Layers 1004,1006,1007 cladding layer 1005 emitting layer 1008 contact layer 1009 and 1010 electrodes

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI C02F 1/78 C02F 1/78 F21M 1/00 F21M 1/00 A F21V 19/00 F21V 19/00 P // H01S 3/18 H01S 3/18 (72)発明者 新 田 康 一 神奈川県川崎市幸区堀川町72番地 株式会 社東芝川崎事業所内 (72)発明者 古 川 千 里 神奈川県川崎市川崎区日進町7番地1 東 芝電子エンジニアリング株式会社内──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code FI C02F 1/78 C02F 1/78 F21M 1/00 F21M 1/00 A F21V 19/00 F21V 19/00 P // H01S 3/18 H01S 3/18 (72) Inventor Koichi Nitta 72 Horikawa-cho, Saiwai-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa Prefecture Inside the Toshiba Kawasaki Office (72) Inventor Chisato Furukawa 7-1 Nisshin-cho, Kawasaki-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa-ken Toshiba Electronics Engineering Corporation

Claims (40)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】紫外線を放出する半導体発光素子と、 前記半導体発光素子が放出する前記紫外線を吸収して、
前記紫外線よりも長い波長を有する2次光を放出する蛍
光体と、 を備えたことを特徴とする照明装置。
A semiconductor light emitting device that emits ultraviolet light; and a semiconductor light emitting device that absorbs the ultraviolet light emitted by the semiconductor light emitting device.
A phosphor that emits secondary light having a longer wavelength than the ultraviolet light.
【請求項2】配線基板と、 前記配線基板上に設けられた複数の半導体発光装置と、 前記配線基板の周囲を覆うように設けられた透光性を有
する外囲器と、を備え、 前記半導体発光装置は、 紫外線を放出する半導体発光素子と、 前記半導体発光素子が放出する前記紫外線を吸収して、
前記紫外線よりも長い波長を有する2次光を放出する蛍
光体と、 を有することを特徴とする照明装置。
2. A circuit board comprising: a wiring board; a plurality of semiconductor light emitting devices provided on the wiring board; and a light-transmitting envelope provided to cover a periphery of the wiring board. The semiconductor light emitting device includes: a semiconductor light emitting element that emits ultraviolet light; and a semiconductor light emitting element that absorbs the ultraviolet light emitted by the semiconductor light emitting element.
A phosphor that emits secondary light having a wavelength longer than the ultraviolet light.
【請求項3】前記半導体発光装置は表面実装型であるこ
とを特徴とする請求項2記載の照明装置。
3. The lighting device according to claim 2, wherein said semiconductor light emitting device is a surface mount type.
【請求項4】前記複数の半導体発光装置のうちの所定数
の前記半導体発光装置が直列に接続されてなる複数のユ
ニットが形成され、前記複数のユニットが互いに並列に
接続されていることを特徴とする請求項2または3に記
載の照明装置。
4. A plurality of units formed by connecting a predetermined number of said semiconductor light emitting devices out of said plurality of semiconductor light emitting devices in series, and said plurality of units are connected in parallel with each other. The lighting device according to claim 2 or 3, wherein:
【請求項5】配線基板と、 前記配線基板上に設けられた紫外線を放出する複数の半
導体発光素子と、 前記配線基板の周囲を覆うように設けられた透光性を有
する外囲器と、を備え、さらに、 前記外囲器の内壁面には蛍光体が設けられ、前記半導体
発光素子が放出する前記紫外線を吸収して、前記紫外線
よりも長い波長を有する2次光を放出するようにしたこ
とを特徴とする照明装置。
5. A wiring board, a plurality of semiconductor light emitting elements emitting ultraviolet light provided on the wiring board, and a light-transmitting envelope provided so as to cover the periphery of the wiring board. A phosphor is provided on an inner wall surface of the envelope, and absorbs the ultraviolet light emitted by the semiconductor light emitting element, and emits secondary light having a longer wavelength than the ultraviolet light. A lighting device, comprising:
【請求項6】前記複数の半導体発光素子のうちの所定数
の前記半導体発光素子が直列に接続されてなる複数のユ
ニットが形成され、前記複数のユニットが互いに並列に
接続されていることを特徴とする請求項5記載の照明装
置。
6. A plurality of units formed by connecting a predetermined number of the semiconductor light emitting devices among the plurality of semiconductor light emitting devices in series are formed, and the plurality of units are connected in parallel with each other. The lighting device according to claim 5, wherein
【請求項7】前記2次光は、可視光であることを特徴と
する請求項1〜6のいずれか1つに記載の照明装置。
7. The lighting device according to claim 1, wherein the secondary light is visible light.
【請求項8】前記可視光は、赤色、緑色、および青色の
波長領域にそれぞれ強度ピークを有することを特徴とす
る請求項7記載の照明装置。
8. The illumination device according to claim 7, wherein said visible light has intensity peaks in red, green, and blue wavelength regions, respectively.
【請求項9】高周波電圧を直流電圧に変換する変換回路
をさらに備え、蛍光灯の電源に接続して前記半導体発光
素子を駆動できるようにしたことを特徴とする請求項1
〜8のいずれか1つに記載の照明装置。
9. The semiconductor light-emitting device according to claim 1, further comprising a conversion circuit for converting a high-frequency voltage to a DC voltage, wherein said conversion circuit is connected to a power supply of a fluorescent lamp so as to drive said semiconductor light-emitting device.
The lighting device according to any one of Items 1 to 8,
【請求項10】紫外線を放出する半導体発光素子と、 前記半導体発光素子が放出する前記紫外線を吸収して、
可視光領域の波長を有する2次光を放出する蛍光体と、 前記半導体発光素子にパルス状の駆動電流を供給するパ
ルス発生器と、を備えたことを特徴とする照明装置。
10. A semiconductor light emitting device that emits ultraviolet light, and the semiconductor light emitting device absorbs the ultraviolet light emitted by the semiconductor light emitting device,
A lighting device, comprising: a phosphor that emits secondary light having a wavelength in a visible light region; and a pulse generator that supplies a pulsed drive current to the semiconductor light emitting element.
【請求項11】紫外線を放出する半導体発光素子と、 前記半導体発光素子が放出する前記紫外線を吸収して、
可視光領域の波長を有する2次光を放出する蛍光体と、 前記可視光を反射して、所定の方向に照射する凹面鏡
と、 を備えたことを特徴とする照明装置。
11. A semiconductor light emitting device that emits ultraviolet light, and wherein the semiconductor light emitting device absorbs the ultraviolet light emitted by the semiconductor light emitting device.
A lighting device, comprising: a phosphor that emits secondary light having a wavelength in the visible light region; and a concave mirror that reflects the visible light and irradiates the phosphor in a predetermined direction.
【請求項12】前記半導体発光素子と、前記蛍光体との
間に、前記紫外線を透過し、前記蛍光体から放出される
前記2次光を反射するような波長選択性を有する第1の
光反射膜をさらに備えたことを特徴とする請求項1〜1
1のいずれかに記載の照明装置。
12. A first light having a wavelength selectivity between the semiconductor light emitting element and the phosphor, which transmits the ultraviolet light and reflects the secondary light emitted from the phosphor. The reflective film is further provided with a reflective film.
2. The lighting device according to claim 1.
【請求項13】前記蛍光体からみて前記半導体発光素子
と反対側に、前記紫外線を反射し、前記蛍光体から放出
される前記2次光を透過するような波長選択性を有する
第2の光反射膜をさらに備えたことを特徴とする請求項
1〜12のいずれか1つに記載の照明装置。
13. A second light having a wavelength selectivity such that the ultraviolet light is reflected and the secondary light emitted from the phosphor is transmitted to a side opposite to the semiconductor light emitting element as viewed from the phosphor. The lighting device according to claim 1, further comprising a reflective film.
【請求項14】前記蛍光体からみて前記半導体発光素子
と反対側に、前記紫外線を吸収し、前記蛍光体から放出
される前記2次光を透過するような波長選択性を有する
光吸収体をさらに備えたことを特徴とする請求項1〜1
3のいずれか1つに記載の照明装置。
14. A light-absorbing material having a wavelength selectivity that absorbs the ultraviolet light and transmits the secondary light emitted from the fluorescent material is provided on a side opposite to the semiconductor light-emitting element when viewed from the fluorescent material. 2. The method according to claim 1, further comprising:
3. The lighting device according to any one of 3.
【請求項15】前記半導体発光素子は、発光層に窒化ガ
リウム系半導体を含むことを特徴とする請求項1〜14
のいずれか1つに記載の照明装置。
15. The semiconductor light emitting device according to claim 1, wherein the light emitting layer contains a gallium nitride based semiconductor.
The lighting device according to any one of the above.
【請求項16】前記半導体発光素子は、発光層にホウ素
とガリウムと窒素とを含むことを特徴とする請求項1〜
14のいずれか1つに記載の照明装置。
16. The semiconductor light emitting device according to claim 1, wherein the light emitting layer contains boron, gallium, and nitrogen.
15. The lighting device according to any one of 14.
【請求項17】前記半導体発光素子は、 基板と、 前記基板上に堆積された第1導電型のGaN層と、 アルミニウムを含むGaNからなる第1導電型のクラッ
ド層と、 ホウ素を含むGaNからなる発光層と、 アルミニウムを含むGaNからなる第2導電型のクラッ
ド層と、 を少なくとも有することを特徴とする請求項16記載の
照明装置。
17. A semiconductor light emitting device comprising: a substrate; a first conductivity type GaN layer deposited on the substrate; a first conductivity type cladding layer made of GaN containing aluminum; and a GaN containing boron. 17. The lighting device according to claim 16, further comprising: a light emitting layer made of GaN, and a cladding layer of a second conductivity type made of GaN containing aluminum.
【請求項18】前記半導体発光素子の発光波長は、約3
30nmであることを特徴とする請求項1〜17のいず
れか1つに記載の照明装置。
18. The light emitting wavelength of the semiconductor light emitting device is about 3
The lighting device according to claim 1, wherein the thickness is 30 nm.
【請求項19】紫外線を放出する半導体発光素子と、 前記半導体発光素子が放出する前記紫外線を吸収して、
前記紫外線よりも波長の長い光を放出する蛍光体と、 外部において反射された前記波長の長い光を検出する受
光部と、 を備え、前記蛍光体が放出した光を原稿に照射すること
によって読みとるよあにしたことを特徴とする読み取り
装置。
19. A semiconductor light emitting device that emits ultraviolet light, and the semiconductor light emitting device absorbs the ultraviolet light emitted by the semiconductor light emitting device,
A phosphor that emits light having a wavelength longer than the ultraviolet light; and a light receiving unit that detects light having the longer wavelength reflected externally, and irradiates the document with light emitted by the phosphor to read the document. A reading device characterized by being improved.
【請求項20】前記半導体発光素子は、発光層に窒化ガ
リウム系半導体を含むことを特徴とする請求項19記載
の読み取り装置。
20. The reading device according to claim 19, wherein the semiconductor light emitting element includes a gallium nitride based semiconductor in a light emitting layer.
【請求項21】前記半導体発光素子は、発光層にホウ素
とガリウムと窒素とを含むことを特徴とする請求項19
または20に記載の読み取り装置。
21. The semiconductor light emitting device according to claim 19, wherein the light emitting layer contains boron, gallium, and nitrogen.
Or the reading device according to 20.
【請求項22】前記半導体発光素子は、 基板と、 前記基板上に堆積された第1導電型のGaN層と、 アルミニウムを含むGaNからなる第1導電型のクラッ
ド層と、 ホウ素を含むGaNからなる発光層と、 アルミニウムを含むGaNからなる第2導電型のクラッ
ド層と、 を少なくとも有することを特徴とする請求項21記載の
読み取り装置。
22. A semiconductor light emitting device comprising: a substrate; a first conductivity type GaN layer deposited on the substrate; a first conductivity type clad layer made of GaN containing aluminum; and GaN containing boron. 22. The reader according to claim 21, further comprising: a light-emitting layer formed of a second conductive type made of GaN containing aluminum.
【請求項23】前記半導体発光素子の発光波長は、約3
30nmであることを特徴とする請求項19〜22のい
ずれか1つに記載の読み取り装置。
23. An emission wavelength of the semiconductor light emitting device is about 3
23. The reading device according to claim 19, wherein the reading device has a thickness of 30 nm.
【請求項24】紫外線を放出する半導体発光素子と、 前記半導体発光素子が放出する前記紫外線を吸収して、
可視光を放出する蛍光体と、 前記可視光を集光してスクリーンに投影する光学系と、 を備え、透光性の媒体上のパターンを拡大投影するよう
にしたことを特徴とする投影装置。
24. A semiconductor light emitting device that emits ultraviolet light, and the semiconductor light emitting device absorbs the ultraviolet light emitted by the semiconductor light emitting device,
A projection device, comprising: a phosphor that emits visible light; and an optical system that collects the visible light and projects the same on a screen, wherein the pattern on the translucent medium is enlarged and projected. .
【請求項25】前記半導体発光素子は、発光層に窒化ガ
リウム系半導体を含むことを特徴とする請求項24記載
の投影装置。
25. The projection apparatus according to claim 24, wherein said semiconductor light emitting element includes a gallium nitride based semiconductor in a light emitting layer.
【請求項26】前記半導体発光素子は、発光層にホウ素
とガリウムと窒素とを含むことを特徴とする請求項24
または25に記載の投影装置。
26. The semiconductor light emitting device according to claim 24, wherein the light emitting layer contains boron, gallium, and nitrogen.
Or the projection device according to 25.
【請求項27】前記半導体発光素子は、 基板と、 前記基板上に堆積された第1導電型のGaN層と、 アルミニウムを含むGaNからなる第1導電型のクラッ
ド層と、 ホウ素を含むGaNからなる発光層と、 アルミニウムを含むGaNからなる第2導電型のクラッ
ド層と、 を少なくとも有することを特徴とする請求項26記載の
投影装置。
27. A semiconductor light emitting device comprising: a substrate; a first conductivity type GaN layer deposited on the substrate; a first conductivity type clad layer made of GaN containing aluminum; and GaN containing boron. 27. The projection apparatus according to claim 26, further comprising: a light emitting layer made of GaN, and a second conductivity type clad layer made of GaN containing aluminum.
【請求項28】前記半導体発光素子の発光波長は、約3
30nmであることを特徴とする請求項24〜27のい
ずれか1つに記載の投影装置。
28. An emission wavelength of the semiconductor light emitting device is about 3
The projection device according to any one of claims 24 to 27, wherein the projection device has a thickness of 30 nm.
【請求項29】液体あるいは気体を通過させる浄化回路
と、 前記浄化回路上に設けられた紫外線を放出する半導体発
光素子と、 を備えた浄化装置。
29. A purifying apparatus comprising: a purifying circuit through which a liquid or a gas passes; and a semiconductor light emitting element which emits ultraviolet light provided on the purifying circuit.
【請求項30】前記浄化回路上に、オゾン発生器をさら
に備え、前記オゾン発生器により発生したオゾンを含有
した液体に前記紫外線を照射するようにした請求項29
記載の浄化装置。
30. An ozone generator is further provided on the purification circuit, and the ultraviolet light is applied to a liquid containing ozone generated by the ozone generator.
Purification device according to the above.
【請求項31】前記浄化回路上に、加熱装置をさらに備
え、前記浄化回路において浄化された気体を昇温して排
気するようにした請求項29記載の浄化装置。
31. The purifying apparatus according to claim 29, further comprising a heating device on the purifying circuit, wherein the gas purified in the purifying circuit is heated and exhausted.
【請求項32】前記半導体発光素子は、発光層に窒化ガ
リウム系半導体を含むことを特徴とする請求項29〜3
1のいずれか1つに記載の浄化装置。
32. The semiconductor light emitting device according to claim 29, wherein the light emitting layer contains a gallium nitride based semiconductor.
Purification device according to any one of the preceding claims.
【請求項33】前記半導体発光素子は、発光層にホウ素
とガリウムと窒素とを含むことを特徴とする請求項29
〜32のいずれか1つに記載の浄化装置。
33. The semiconductor light emitting device according to claim 29, wherein the light emitting layer contains boron, gallium, and nitrogen.
33. The purifying device according to any one of -32.
【請求項34】前記半導体発光素子は、 基板と、 前記基板上に堆積された第1導電型のGaN層と、 アルミニウムを含むGaNからなる第1導電型のクラッ
ド層と、 ホウ素を含むGaNからなる発光層と、 アルミニウムを含むGaNからなる第2導電型のクラッ
ド層と、 を少なくとも有することを特徴とする請求項33記載の
浄化装置。
34. A semiconductor light emitting device comprising: a substrate; a first conductivity type GaN layer deposited on the substrate; a first conductivity type cladding layer made of GaN containing aluminum; and a GaN containing boron. 34. The purification device according to claim 33, further comprising at least: a light emitting layer made of a GaN containing aluminum and a second conductivity type clad layer made of GaN containing aluminum.
【請求項35】前記半導体発光素子の発光波長は、約3
30nmであることを特徴とする請求項29〜34のい
ずれか1つに記載の浄化装置。
35. An emission wavelength of the semiconductor light emitting device is about 3
The purification device according to any one of claims 29 to 34, wherein the thickness is 30 nm.
【請求項36】紫外線を放出する半導体発光素子と、 前記半導体発光素子が放出する前記紫外線を吸収して、
可視光を放出する蛍光体が堆積された表示パネルと、 を備えたことを特徴とする表示装置。
36. A semiconductor light emitting device that emits ultraviolet light, and the semiconductor light emitting device absorbs the ultraviolet light emitted by the semiconductor light emitting device,
A display device, comprising: a display panel on which a phosphor that emits visible light is deposited.
【請求項37】前記半導体発光素子は、発光層に窒化ガ
リウム系半導体を含むことを特徴とする請求項36記載
の表示装置。
37. The display device according to claim 36, wherein the semiconductor light emitting element includes a gallium nitride based semiconductor in a light emitting layer.
【請求項38】前記半導体発光素子は、発光層にホウ素
とガリウムと窒素とを含むことを特徴とする請求項36
または37に記載の表示装置。
38. The semiconductor light emitting device according to claim 36, wherein the light emitting layer contains boron, gallium, and nitrogen.
Or the display device according to 37.
【請求項39】前記半導体発光素子は、 基板と、 前記基板上に堆積された第1導電型のGaN層と、 アルミニウムを含むGaNからなる第1導電型のクラッ
ド層と、 ホウ素を含むGaNからなる発光層と、 アルミニウムを含むGaNからなる第2導電型のクラッ
ド層と、 を少なくとも有することを特徴とする請求項38記載の
表示装置。
39. A semiconductor light emitting device comprising: a substrate; a first conductivity type GaN layer deposited on the substrate; a first conductivity type cladding layer made of GaN containing aluminum; and GaN containing boron. 39. The display device according to claim 38, further comprising at least: a light-emitting layer formed of a second conductive type made of GaN including aluminum.
【請求項40】前記半導体発光素子の発光波長は、約3
30nmであることを特徴とする請求項36〜39のい
ずれか1つに記載の表示装置。
40. An emission wavelength of the semiconductor light emitting device is about 3
The display device according to any one of claims 36 to 39, wherein the thickness is 30 nm.
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