JPH1187402A - Mounting structure and manufacture thereof - Google Patents

Mounting structure and manufacture thereof

Info

Publication number
JPH1187402A
JPH1187402A JP24087997A JP24087997A JPH1187402A JP H1187402 A JPH1187402 A JP H1187402A JP 24087997 A JP24087997 A JP 24087997A JP 24087997 A JP24087997 A JP 24087997A JP H1187402 A JPH1187402 A JP H1187402A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
surface layer
semiconductor device
layer
mounting structure
bonding
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP24087997A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP3176325B2 (en
Inventor
Kazuyoshi Amami
和由 天見
Tsukasa Shiraishi
司 白石
Yoshihiro Bessho
芳宏 別所
Kazuo Eda
和生 江田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=17066066&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=JPH1187402(A) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP24087997A priority Critical patent/JP3176325B2/en
Publication of JPH1187402A publication Critical patent/JPH1187402A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3176325B2 publication Critical patent/JP3176325B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/15Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
    • H01L2224/16Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
    • H01L2224/161Disposition
    • H01L2224/16151Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/16221Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/16225Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/31Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
    • H01L2224/32Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
    • H01L2224/321Disposition
    • H01L2224/32151Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/32221Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/32225Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/73Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
    • H01L2224/732Location after the connecting process
    • H01L2224/73201Location after the connecting process on the same surface
    • H01L2224/73203Bump and layer connectors
    • H01L2224/73204Bump and layer connectors the bump connector being embedded into the layer connector
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/11Printed elements for providing electric connections to or between printed circuits
    • H05K1/111Pads for surface mounting, e.g. lay-out
    • H05K1/112Pads for surface mounting, e.g. lay-out directly combined with via connections

Landscapes

  • Wire Bonding (AREA)
  • Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To disperse the stress developed by the difference in thermal expansion coefficients between sealing resin, wirings and a circuit substrate by a method wherein a substrate terminal is formed on the mounting surface of the region located directly under a semiconductor device, a backside wiring is formed on the backside of the mounting surface and a conductive hole is formed on the circuit substrate located in the region directly under the semiconductor device. SOLUTION: The electrode pad 3 of an IC substrate chip 1 is electronically connected to the input/output terminal electrode 7 to be used as the substrate terminal formed on a two wiring layer substrates 11. A backside wiring layer 9 is formed on the backside of the mounting surface of the wiring layer substrates 11 where an input/output terminal electrode 7 and a surface wiring layer 8 are formed, and the input/output terminal electrode 7 and the surface wiring layer 8 are electrically connected to the backside wiring layer 9 through a conductive via hole 4 as a conductive hole. Accordingly, the malfunction such as breaking of wire, caused by the stress generated by the difference in thermal expansion coefficient of a circuit substrate, sealing resin and wirings, can be prevented.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、集積回路チップ等
の半導体装置がフリップチップ方式で回路基板に実装さ
れた実装構造体及びその製造方法に関するものである。
[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to a mounting structure in which a semiconductor device such as an integrated circuit chip is mounted on a circuit board by a flip chip method, and a method of manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】現在、様々な電子機器に実装構造体が利
用されている。従って、実装構造体の信頼性の向上は、
電子機器の信頼性の向上に貢献する。
2. Description of the Related Art At present, mounting structures are used in various electronic devices. Therefore, the improvement of the reliability of the mounting structure
Contributes to improving the reliability of electronic devices.

【0003】半導体装置を回路基板に実装し、電気的に
接続する方法として、従来では、ワイヤボンディング方
法が利用されてきた。ワイヤボンディング方法とは、半
導体装置に形成された電極とその電極に対応する回路基
板に形成された入出力端子電極とを、Au、Al等を材
料とする細いワイヤを介して、半田づけによって電気的
に接続するものである。
As a method of mounting a semiconductor device on a circuit board and electrically connecting the same, a wire bonding method has been conventionally used. The wire bonding method means that an electrode formed on a semiconductor device and an input / output terminal electrode formed on a circuit board corresponding to the electrode are soldered through a thin wire made of Au, Al, or the like. It is a thing to connect.

【0004】しかし、近年、半導体装置のパッケージの
小型化及び接続端子の増加に伴って接続端子の狭ピッチ
化が進んでいるので、半田づけを必要とする従来の半導
体装置の実装方法で対処することは、次第に困難になり
つつある。
However, in recent years, the pitch of the connection terminals has been narrowed along with the miniaturization of the package of the semiconductor device and the increase in the number of connection terminals. Therefore, a conventional semiconductor device mounting method which requires soldering is used. Things are becoming increasingly difficult.

【0005】この問題点に対処するため、ワイヤを用い
ず、回路基板に形成された入出力端子電極に半導体装置
を直接実装するワイヤレスボンディングが提案されてい
る。
To address this problem, wireless bonding has been proposed in which a semiconductor device is directly mounted on input / output terminal electrodes formed on a circuit board without using wires.

【0006】ワイヤレスボンディングの1種であるフリ
ップチップ方式は、バンプを介して半導体装置の電極と
回路基板の入出力端子電極とが接するフェイスダウン状
態で、半導体装置を回路基板に実装させるものである。
半導体装置と回路基板との電気的接続が一括して実行で
きること、さらにバンプを介する接続が機械的に強固で
あることから、フリップチップ方式は特に注目されてい
る。
In a flip chip method, which is one type of wireless bonding, a semiconductor device is mounted on a circuit board in a face-down state in which an electrode of the semiconductor device and an input / output terminal electrode of a circuit board are in contact via bumps. .
The flip-chip method has attracted particular attention because the electrical connection between the semiconductor device and the circuit board can be performed collectively and the connection via the bumps is mechanically strong.

【0007】1980年1月15日に工業調査会よって
発行された、日本マイクロエレクトロニクス編の「IC
実装技術」は、半田メッキ法を用いるフリップチップ実
装方法を開示している。上記文献で開示された実装方法
を第1の従来例として、図7を参照にして以下に説明す
る。
[0007] "IC" edited by Japan Microelectronics, published by the Industrial Research Council on January 15, 1980.
"Mounting technology" discloses a flip-chip mounting method using a solder plating method. The mounting method disclosed in the above document will be described below as a first conventional example with reference to FIG.

【0008】図7(a)は、半田バンプ20が形成され
たIC基板チップ1の概略断面図を示すものであり、図
7(b)は、第1の従来例に係る実装構造体のIC基板
チップ1と回路基板21との接続部分の概略断面図を示
すものである。
FIG. 7A is a schematic cross-sectional view of the IC substrate chip 1 on which the solder bumps 20 are formed, and FIG. 7B is an IC of a mounting structure according to a first conventional example. FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of a connection portion between a substrate chip 1 and a circuit board 21.

【0009】以下にIC基板チップ1と回路基板21と
を接続する方法について説明する。最初にIC基板チッ
プ1の電極パッド3に蒸着法によって、拡散防止金属膜
18及び密着金属膜19を形成する。続いて、上記両金
属膜に半田を材料とする電気的接続点である半田バンプ
20をメッキ法で形成する。半田バンプ20を形成後、
電極パッド3に対応する回路基板21に形成された入出
力端子電極7に、電極パッド3が半田バンプ20を介し
て接するフェイスダウン状態で、ICチップ1を回路基
板21に戴置する。続いてICチップ1を戴置している
回路基板21を高温で加熱し、半田バンプ20を融着さ
せる。このことによって、IC基板チップ1の電極パッ
ド3とそれに対応する入出力端子電極7との電気的接続
が完了する。同時に、IC基板チップ1の別の各電極パ
ッド(図示せず)が、各々対応する回路基板2の入出力
端子電極(図示せず)に、電気的に接続されるので、フ
リップチップ方式によるIC基板チップ1の回路基板2
1への実装が完了し、実装構造体が完成する。
A method for connecting the IC substrate chip 1 and the circuit board 21 will be described below. First, a diffusion preventing metal film 18 and an adhesion metal film 19 are formed on the electrode pads 3 of the IC substrate chip 1 by a vapor deposition method. Subsequently, solder bumps 20 as electrical connection points made of solder are formed on the two metal films by a plating method. After forming the solder bumps 20,
The IC chip 1 is placed on the circuit board 21 in a face-down state where the electrode pads 3 are in contact with the input / output terminal electrodes 7 formed on the circuit board 21 corresponding to the electrode pads 3 via the solder bumps 20. Subsequently, the circuit board 21 on which the IC chip 1 is mounted is heated at a high temperature to fuse the solder bumps 20. Thus, the electrical connection between the electrode pads 3 of the IC substrate chip 1 and the corresponding input / output terminal electrodes 7 is completed. At the same time, each other electrode pad (not shown) of the IC substrate chip 1 is electrically connected to the corresponding input / output terminal electrode (not shown) of the circuit board 2, so that the flip-chip IC Circuit board 2 of board chip 1
1 is completed, and the mounting structure is completed.

【0010】また、IC基板チップ1と回路基板21と
の間に封止樹脂5を注入し、硬化させることで、IC基
板チップ1の固定を強化する方法が提案されている。
Further, a method has been proposed in which the sealing resin 5 is injected between the IC substrate chip 1 and the circuit board 21 and hardened to strengthen the fixation of the IC substrate chip 1.

【0011】次に第2の従来例に係る実装構造体を説明
する。図8は、第2の従来例に係る実装構造体の概略断
面図を示すものである。第2の従来例に係る実装構造体
は、IC基板チップ1の電極パッド3とそれに対応する
回路基板21の入出力端子電極7とが、Auバンプ22
及び導電性接着剤6を介して電気的に接続されたもので
ある。
Next, a mounting structure according to a second conventional example will be described. FIG. 8 is a schematic cross-sectional view of a mounting structure according to a second conventional example. In the mounting structure according to the second conventional example, the electrode pads 3 of the IC board chip 1 and the corresponding input / output terminal electrodes 7 of the circuit board 21 are formed of Au bumps 22.
And electrically connected via a conductive adhesive 6.

【0012】尚、Auバンプ22は、ワイヤボンディン
グ法又はメッキ法によって電極パッド3に形成されたも
のである。また、IC基板チップ1の回路基板21への
実装は、Auバンプ22に導電性接着剤6を転写後に、
Auバンプ22が対応する入出力端子電極7に当接する
ようにIC基板チップ1を回路基板21に対向させたも
のであり、導電性接着剤6を硬化させることでIC基板
チップ1と回路基板21との電気的接続が完了する。
The Au bumps 22 are formed on the electrode pads 3 by a wire bonding method or a plating method. The mounting of the IC board chip 1 on the circuit board 21 is performed after the conductive adhesive 6 is transferred to the Au bump 22.
The IC board chip 1 is opposed to the circuit board 21 so that the Au bumps 22 are in contact with the corresponding input / output terminal electrodes 7. The conductive adhesive 6 is cured so that the IC board chip 1 and the circuit board 21 are hardened. The electrical connection with is completed.

【0013】また、第1の従来例と同様にIC基板チッ
プ1と回路基板21との間に封止樹脂5を注入し、硬化
させることで、IC基板チップ1の固定を強化する方法
が提案されている。
Further, as in the first conventional example, a method is proposed in which the sealing resin 5 is injected between the IC board chip 1 and the circuit board 21 and cured to strengthen the fixation of the IC board chip 1. Have been.

【0014】次に図9を参照にして、第3の従来例を説
明する。図9は、第3の従来例に係る実装構造体の概略
断面図を示すものである。第3の従来例に係る実装構造
体は、IC基板チップ1の電極パッド3が、回路基板2
1に形成された入出力端子電極7及び表面配線8に、バ
ンプ2及び導電性接着剤6を介して電気的に接するフリ
ップチップ方式で、IC基板チップ1を回路基板21に
実装したものである。さらに、実装を補強する為に封止
樹脂5をIC基板チップ1と回路基板21との間に注入
し、硬化させている。
Next, a third conventional example will be described with reference to FIG. FIG. 9 is a schematic cross-sectional view of a mounting structure according to a third conventional example. In the mounting structure according to the third conventional example, the electrode pads 3 of the IC board chip 1
The IC board chip 1 is mounted on a circuit board 21 by a flip chip method in which the input / output terminal electrode 7 and the surface wiring 8 formed on the IC chip 1 are electrically connected via the bumps 2 and the conductive adhesive 6. . Further, a sealing resin 5 is injected between the IC board chip 1 and the circuit board 21 to reinforce the mounting and is cured.

【0015】[0015]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、先に記
載した半導体装置と回路基板との間に封止樹脂を有する
実装構造体には以下に説明するような問題点がある。図
9を参照にして、この問題点について説明する。
However, the above-described mounting structure having a sealing resin between the semiconductor device and the circuit board has the following problems. This problem will be described with reference to FIG.

【0016】図9に係る実装構造体では、封止樹脂5
が、ICチップ1の周辺の表面配線層8を覆っている。
封止樹脂、配線、回路基板はそれぞれ異なる熱膨張率を
有するので、各部材間の熱膨張率差によって発生する応
力によって、表面配線層8の断線が生ずることがある。
詳細には、発生した応力は表面配線層8の配線幅が変化
している部分に集中する。こうしたことは、実装構造体
の信頼性に悪影響を与える。
In the mounting structure shown in FIG.
Covers the surface wiring layer 8 around the IC chip 1.
Since the sealing resin, the wiring, and the circuit board have different coefficients of thermal expansion, stress generated by the difference in coefficient of thermal expansion between the members may cause disconnection of the surface wiring layer 8.
Specifically, the generated stress concentrates on the portion of the surface wiring layer 8 where the wiring width is changed. This adversely affects the reliability of the mounting structure.

【0017】前述した問題に対処する方法として、封止
樹脂に無機物であるフィラ12を含有させることで、封
止樹脂の熱膨張率を低下させ、配線と封止樹脂との熱膨
張率差を小さくすることで発生する応力を抑制する方法
が実用化されている。さらに実装構造体の信頼性を向上
させる為に、配線に発生する応力を分散させる方法、又
は配線を応力が及ばない領域に配置する方法が考えられ
る。
As a method for addressing the above-mentioned problem, the filler resin 12, which is an inorganic substance, is contained in the sealing resin to lower the coefficient of thermal expansion of the sealing resin and reduce the difference in the coefficient of thermal expansion between the wiring and the sealing resin. A method of suppressing the stress generated by reducing the size has been put to practical use. In order to further improve the reliability of the mounting structure, a method of dispersing the stress generated in the wiring or a method of arranging the wiring in a region where the stress does not reach can be considered.

【0018】本発明の目的は、信頼性の優れた実装構造
体及びその製造方法を提供するものである。
An object of the present invention is to provide a highly reliable mounting structure and a method of manufacturing the same.

【0019】[0019]

【課題を解決するための手段】本発明に係る実装構造体
は、半導体装置が回路基板の実装面にフリップチップ実
装された実装構造体であって、上記半導体装置の直下領
域内で上記実装面に形成され、該半導体装置の電極と電
気的に接続された基板端子、上記実装面の背面に形成さ
れた背面配線、及び上記直下領域内で上記回路基板に形
成され、上記基板端子と上記背面配線とを電気的に接続
する導電孔を含んでいることを特徴とする。
A mounting structure according to the present invention is a mounting structure in which a semiconductor device is flip-chip mounted on a mounting surface of a circuit board, and the mounting surface is located in a region directly below the semiconductor device. And a substrate terminal electrically connected to an electrode of the semiconductor device, a back wiring formed on a back surface of the mounting surface, and the substrate terminal and the back surface formed on the circuit board in the region immediately below the substrate terminal. It is characterized by including a conductive hole for electrically connecting to a wiring.

【0020】本発明に係る実装構造体は、フリップチッ
プ実装するため上記実装面に上記半導体装置を固定する
封止樹脂、上記封止樹脂が上記実装面に接している領域
以外の上記実装面に形成された表面配線、及び上記回路
基板に形成され、上記表面配線と上記背面配線とを電気
的に接続する第2の導電孔を含んでいるのが好ましい。
The mounting structure according to the present invention includes a sealing resin for fixing the semiconductor device on the mounting surface for flip-chip mounting, and a sealing resin on the mounting surface other than a region where the sealing resin is in contact with the mounting surface. It is preferable to include a formed surface wiring and a second conductive hole formed on the circuit board and electrically connecting the surface wiring and the back wiring.

【0021】本発明に係る実装構造体は、第1表面層、
第2表面層、及び上記第1表面層と上記第2表面層とを
接合する接合層を有する多層回路基板に半導体装置がフ
リップチップ実装された実装構造体であって、上記半導
体装置が実装される表面層上の該半導体装置の直下領域
に形成され、該半導体装置の電極と電気的に接続された
基板端子、上記第1表面層と上記接合層とが接する面で
ある第1接合面、及び上記第2表面層と上記接合層とが
接する面である第2接合面の少なくともどちらか一方に
形成された内部配線、及び上記基板端子と上記内部配線
とを電気的に接続する、該基板端子に対応する半導体装
置の直下領域に形成された第1の導電孔を含んでいるこ
とを特徴とする。
The mounting structure according to the present invention comprises a first surface layer,
A mounting structure in which a semiconductor device is flip-chip mounted on a multilayer circuit board having a second surface layer and a bonding layer for bonding the first surface layer and the second surface layer, wherein the semiconductor device is mounted. A substrate terminal formed in a region directly below the semiconductor device on the surface layer and electrically connected to an electrode of the semiconductor device; a first bonding surface which is a surface where the first surface layer and the bonding layer are in contact with each other; And an internal wiring formed on at least one of a second bonding surface that is a surface where the second surface layer and the bonding layer are in contact with each other; and the substrate for electrically connecting the substrate terminal and the internal wiring. The semiconductor device includes a first conductive hole formed in a region directly below the semiconductor device corresponding to the terminal.

【0022】本発明に係る実装構造体は、半導体装置が
回路基板の実装面にフリップチップ実装された実装構造
体であって、上記半導体装置の直下領域を包含し、上記
実装面の背面に形成された金属箔を含んでいることを特
徴とする。
A mounting structure according to the present invention is a mounting structure in which a semiconductor device is flip-chip mounted on a mounting surface of a circuit board, includes a region immediately below the semiconductor device, and is formed on a back surface of the mounting surface. It is characterized by including a metal foil.

【0023】本発明に係る実装構造体は、第1表面層、
第2表面層、及び上記第1表面層と上記第2表面層とを
接合する接合層を有する多層回路基板に半導体装置がフ
リップチップ実装された実装構造体であって、上記第1
表面層にフリップチップ実装された上記第1半導体装
置、上記第1半導体装置の直下領域内で上記第1の表面
層上に形成され、該半導体装置の電極と電気的に接続さ
れた基板端子、上記第1の表面層と上記接合層とが接す
る第1接合面に形成された内部配線、上記直下領域内に
形成され、上記基板端子と上記内部配線とを電気的に接
続する上記第1の導電孔、及び第2の表面層と上記接合
層とが接する第2接合面に形成され、上記半導体装置の
直下領域を包含する金属箔を含んでいることを特徴とす
る。
The mounting structure according to the present invention comprises a first surface layer,
A mounting structure in which a semiconductor device is flip-chip mounted on a multilayer circuit board having a second surface layer and a bonding layer for bonding the first surface layer and the second surface layer,
A first semiconductor device flip-chip mounted on a surface layer, a substrate terminal formed on the first surface layer in a region immediately below the first semiconductor device and electrically connected to an electrode of the semiconductor device; An internal wiring formed on a first bonding surface where the first surface layer and the bonding layer are in contact with each other; a first wiring formed in the region directly below and electrically connecting the substrate terminal and the internal wiring; The semiconductor device is characterized by including a conductive hole and a metal foil formed on a second bonding surface where the second surface layer and the bonding layer are in contact with each other and including a region directly below the semiconductor device.

【0024】本発明に係る実装構造体は、上記半導体装
置をフリップチップ実装するために対応する表面層に固
定する封止樹脂、上記封止樹脂が対応する上記表面層に
接している領域以外の該表面層に形成された表面配線、
及び該表面層に形成され、上記表面配線と上記内部配線
とを電気的に接続する第2の導電孔を含んでいるのが好
ましい。
The mounting structure according to the present invention includes a sealing resin for fixing the semiconductor device to a corresponding surface layer for flip-chip mounting, and a region other than a region where the sealing resin is in contact with the corresponding surface layer. Surface wiring formed on the surface layer,
And a second conductive hole formed in the surface layer and electrically connecting the surface wiring and the internal wiring.

【0025】また、本発明に係る実装構造体は、上記第
1導電孔がインナービアホールであるのが好ましい。
In the mounting structure according to the present invention, the first conductive hole is preferably an inner via hole.

【0026】本発明に係る実装構造体は、上記第2導電
孔がインナービアホールであるのが、さらに好ましい。
In the mounting structure according to the present invention, it is more preferable that the second conductive hole is an inner via hole.

【0027】本発明に係る実装構造体は、上記金属箔が
銅であるのが好ましい。
In the mounting structure according to the present invention, the metal foil is preferably made of copper.

【0028】本発明に係る実装構造体は、第1表面層、
第2表面層、及び上記第1表面層と上記第2表面層とを
接合する接合層を有する多層回路基板に半導体装置がフ
リップチップ実装された実装構造体であって、上記第1
表面層にフリップチップ実装された第1の半導体装置、
及び上記接合層を対称面として、上記第1の半導体装置
が実装された位置に対して面対称となる第2の表面層の
位置にフリップチップ実装された第2の半導体装置を含
むことを特徴とする。
The mounting structure according to the present invention comprises a first surface layer,
A mounting structure in which a semiconductor device is flip-chip mounted on a multilayer circuit board having a second surface layer and a bonding layer for bonding the first surface layer and the second surface layer,
A first semiconductor device flip-chip mounted on the surface layer,
A second semiconductor device flip-chip mounted at a position of a second surface layer which is plane-symmetric with respect to a position at which the first semiconductor device is mounted, with the bonding layer being a plane of symmetry. And

【0029】本発明に係る実装構造体は、上記第1表面
層と上記接合層とが接する面である第1接合面、及び上
記第2表面層と上記接合層とが接する面である第2接合
面の少なくともどちらか一方に内部配線が形成されてい
るのが好ましい。
In the mounting structure according to the present invention, the first bonding surface that is the surface where the first surface layer and the bonding layer are in contact, and the second bonding surface that is the surface where the second surface layer and the bonding layer are in contact with each other. Preferably, an internal wiring is formed on at least one of the joining surfaces.

【0030】また、本発明に係る実装構造体は、上記第
1の半導体装置と上記第2の半導体装置とが、上記多層
回路基板に形成されたインナービアホールを介して電気
的に接続されているのが好ましい。
Further, in the mounting structure according to the present invention, the first semiconductor device and the second semiconductor device are electrically connected via an inner via hole formed in the multilayer circuit board. Is preferred.

【0031】本発明に係る実装構造体は、第1表面層、
第2表面層、及び上記第1表面層と上記第2表面層とを
接合する接合層を有する多層回路基板に半導体装置がフ
リップチップ実装された実装構造体であって、上記第1
表面層にフリップチップ実装された第1の半導体装置、
上記第1の半導体装置の第1の直下領域内で上記第1の
表面層上に形成され、上記第1の半導体装置の電極と電
気的に接続された第1の基板端子、上記第1表面層と上
記接合層が接合する第1接合面に形成された第1内部配
線、上記第1の直下領域内に形成され、上記第1の基板
端子と上記第1内部配線とを電気的に接続する第1の導
電孔、上記接合層を対称面として、上記第1の半導体装
置が実装された位置に対して面対称となる第2の表面層
の位置にフリップチップ実装された第2の半導体装置、
上記第2の半導体装置の第2の直下領域内に形成され、
上記第2の半導体装置の電極と電気的に接続された第2
の基板端子、上記第2表面層と上記接合層が接合する第
2接合面に形成された第2内部配線、及び上記第2の直
下領域内に形成され、第2の基板端子と上記第2の内部
配線とを電気的に接続する第3の導電孔を含んでいるこ
とを特徴とする。
The mounting structure according to the present invention comprises a first surface layer,
A mounting structure in which a semiconductor device is flip-chip mounted on a multilayer circuit board having a second surface layer and a bonding layer for bonding the first surface layer and the second surface layer,
A first semiconductor device flip-chip mounted on the surface layer,
A first substrate terminal formed on the first surface layer in a first region directly below the first semiconductor device and electrically connected to an electrode of the first semiconductor device; A first internal wiring formed on a first bonding surface where the layer and the bonding layer are bonded, formed in the first immediately lower region, and electrically connecting the first substrate terminal and the first internal wiring; A second semiconductor flip-chip mounted at a position of a second surface layer that is plane-symmetric with respect to a position at which the first semiconductor device is mounted, with the first conductive hole to be formed and the bonding layer being a plane of symmetry. apparatus,
Formed in a second region directly below the second semiconductor device;
The second electrically connected electrode of the second semiconductor device
Substrate terminal, a second internal wiring formed on a second bonding surface where the second surface layer and the bonding layer are bonded, and a second substrate terminal formed in the second immediately lower region and the second substrate terminal and the second And a third conductive hole for electrically connecting the internal wiring to the internal wiring.

【0032】本発明に係る実装構造体は、上記第1半導
体装置及び上記第2半導体装置の少なくともどちらか一
方をフリップチップ実装するために対応する表面層に固
定する封止樹脂、上記封止樹脂が対応する上記表面層に
接している領域以外の該表面層に形成された表面配線、
及び該表面層に形成され、上記表面配線と上記内部配線
とを電気的に接続する第2の導電孔を含んでいるのが好
ましい。
The mounting structure according to the present invention includes a sealing resin for fixing at least one of the first semiconductor device and the second semiconductor device to a corresponding surface layer for flip-chip mounting, and the sealing resin. Surface wiring formed on the surface layer other than the region in contact with the corresponding surface layer,
And a second conductive hole formed in the surface layer and electrically connecting the surface wiring and the internal wiring.

【0033】また、本発明に係る実装構造体は、上記第
1導電孔が上記第1表面層に形成されたインナービアホ
ールであり、上記第3導電孔が上記第2表面層に形成さ
れたインナービアホールであるのが好ましい。
Further, in the mounting structure according to the present invention, the first conductive hole is an inner via hole formed in the first surface layer, and the third conductive hole is formed in the inner via hole formed in the second surface layer. It is preferably a via hole.

【0034】本発明に係る実装構造体は、回路基板上で
接続された幅の異なる配線と、上記回路基板に実装され
た半導体装置とを有する実装構造体であって、上記幅の
異なる配線が円弧形状の配線で接続されていることを特
徴とする。
[0034] A mounting structure according to the present invention is a mounting structure comprising a wiring connected on a circuit board and having different widths, and a semiconductor device mounted on the circuit board. It is characterized by being connected by arc-shaped wiring.

【0035】本発明に係る実装構造体の製造方法は、第
1の表面層にフリップチップ実装された第1の半導体装
置の位置と第2の表面層にフリップチップ実装された第
2の半導体装置の位置とが、上記第1の表面層と上記第
2の表面層とを接合する接合層に対して面対称である実
装構造体の製造方法であって、上記第1の半導体装置と
上記第2の半導体装置の少なくともどちらか一方を、対
応する表面層に異方導電性フィルムを用いてフリップチ
ップ実装し、上記異方導電性フィルムを硬化させ、上記
半導体装置を対応する上記表面層に固定することを特徴
とする。
The method for manufacturing a mounting structure according to the present invention is characterized in that the position of the first semiconductor device flip-chip mounted on the first surface layer and the second semiconductor device flip-chip mounted on the second surface layer Wherein the position of the mounting structure is plane-symmetric with respect to a bonding layer that bonds the first surface layer and the second surface layer, wherein the first semiconductor device and the second At least one of the two semiconductor devices is flip-chip mounted on the corresponding surface layer using an anisotropic conductive film, the anisotropic conductive film is cured, and the semiconductor device is fixed to the corresponding surface layer. It is characterized by doing.

【0036】本発明に係る実装構造体の製造方法は、第
1の表面層にフリップチップ実装された第1の半導体装
置の位置と第2の表面層にフリップチップ実装された第
2の半導体装置の位置とが、上記第1の表面層と上記第
2の表面層とを接合する接合層に対して面対称である実
装構造体の製造方法であって、上記第1の表面層と上記
第2の表面層の少なくともどちらか一方の所定の位置に
封止樹脂を注入し、上記所定の位置に対応する半導体装
置をフリップチップ実装し、上記封止樹脂を硬化させ、
上記半導体装置を上記表面層に固定することを特徴とす
る。
The method of manufacturing a mounting structure according to the present invention is characterized in that the position of the first semiconductor device flip-chip mounted on the first surface layer and the second semiconductor device flip-chip mounted on the second surface layer Wherein the position of the mounting structure is plane-symmetric with respect to the joining layer that joins the first surface layer and the second surface layer, wherein the first surface layer and the second surface layer Injecting a sealing resin into at least one predetermined position of the surface layer of No. 2, flip-chip mounting the semiconductor device corresponding to the predetermined position, and curing the sealing resin,
The semiconductor device is fixed to the surface layer.

【0037】本発明に係る実装構造体の製造方法は、第
1の表面層にフリップチップ実装された第1の半導体装
置の位置と第2の表面層にフリップチップ実装された第
2の半導体装置の位置とが、上記第1の表面層と上記第
2の表面層とを接合する接合層に対して面対称である実
装構造体の製造方法であって、上記第1の表面層と上記
第2の表面層の少なくともどちらか一方の所定の位置で
封止樹脂をシート状に形成し、上記所定の位置に対応す
る半導体装置をフリップチップ実装し、上記封止樹脂を
硬化し、上記半導体装置を上記表面層に固定させること
を特徴とする。
According to the method of manufacturing a mounting structure according to the present invention, the position of the first semiconductor device flip-chip mounted on the first surface layer and the second semiconductor device flip-chip mounted on the second surface layer Wherein the position of the mounting structure is plane-symmetric with respect to the joining layer that joins the first surface layer and the second surface layer, wherein the first surface layer and the second surface layer A sealing resin is formed in a sheet shape at a predetermined position of at least one of the surface layers of the second surface layer, a semiconductor device corresponding to the predetermined position is flip-chip mounted, and the sealing resin is cured; Is fixed to the surface layer.

【0038】[0038]

【発明の実施の形態】以下に図面を参照にして、本発明
に係る実装構造体について説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A mounting structure according to the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0039】実施例1 最初に本発明の第1の実施例に係る実装構造体につい
て、図1を参照にして説明する。図1は2配線層基板1
1にIC基板チップ1をフリップチップ方式で実装した
実装構造体の概略断面図を示すものである。
Embodiment 1 First, a mounting structure according to a first embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 1 shows a two-wiring-layer substrate 1
1 is a schematic cross-sectional view of a mounting structure in which an IC substrate chip 1 is mounted by a flip chip method.

【0040】2配線層基板11は、入出力端子電極7、
2配線層基板11上でチップ部品を電気的に接続する表
面配線層8、チップ実装面11aの背面11bに形成さ
れた背面配線層9、及びビアホール4を含んでいる。
The two-wiring-layer substrate 11 includes the input / output terminal electrodes 7,
It includes a surface wiring layer 8 for electrically connecting chip components on the two wiring layer substrate 11, a back wiring layer 9 formed on the back surface 11b of the chip mounting surface 11a, and a via hole 4.

【0041】次にビアホール4について説明する。本実
施例ではビアホール4にインナービアホールを用いる。
ビアホール4の形成には、レーザーを用いて2配線層基
板11のチップ実装領域13b内の所定の位置を貫通さ
せ、係る貫通孔に導電性ペーストを充填させる方法を採
用している。尚、ドリルによって2配線層基板11の所
定の位置を貫通させ、導電性材料で係る貫通孔をメッキ
してビアホールを形成してもよい。
Next, the via hole 4 will be described. In this embodiment, an inner via hole is used as the via hole 4.
The formation of the via hole 4 employs a method of using a laser to penetrate a predetermined position in the chip mounting area 13b of the two-wiring layer substrate 11 and filling the through hole with a conductive paste. Note that a predetermined position of the two-wiring-layer substrate 11 may be penetrated by a drill, and the through-hole may be plated with a conductive material to form a via hole.

【0042】バンプ電極2と導電性接着剤6とを介し
て、IC基板チップ1の電極パッド3は、2配線層基板
11に形成された入出力端子電極7に電気的に接続され
る。バンプ電極2は、公知の方法で電極パッド3に形成
されたものである。背面配線層9は、ビアホール4を介
して入出力端子電極7と表面配線層8とに電気的に接続
される。また、実装面11aに封止樹脂5が接する封止
樹脂領域13aには、表面配線層8は形成されていな
い。2配線層基板11上のチップ実装領域13bの直下
領域内で、背面配線層9と入出力端子電極7とがビアホ
ール4を介して電気的に接続されている。
The electrode pads 3 of the IC substrate chip 1 are electrically connected to the input / output terminal electrodes 7 formed on the two-wiring-layer substrate 11 via the bump electrodes 2 and the conductive adhesive 6. The bump electrode 2 is formed on the electrode pad 3 by a known method. The back wiring layer 9 is electrically connected to the input / output terminal electrode 7 and the front wiring layer 8 via the via hole 4. The surface wiring layer 8 is not formed in the sealing resin region 13a where the sealing resin 5 is in contact with the mounting surface 11a. The back wiring layer 9 and the input / output terminal electrodes 7 are electrically connected via the via holes 4 in a region directly below the chip mounting region 13 b on the two-wiring-layer substrate 11.

【0043】IC基板チップ1を実装面11aに実装す
る際に、IC基板チップ1と実装面11aとの間にシリ
カフィラ12を含有する封止樹脂5を注入し、その後封
止樹脂5を硬化させることで、IC基板チップ1の実装
面11aへの固定が強化される。シリカのフィラ12は
封止樹脂5の熱膨張率を下げ、封止樹脂と配線材料との
熱膨張率差を小さくするものである。この目的に従っ
て、高熱伝導性と低熱膨張率の少なくともどちらか一方
の特性を有する材料をシリカの代わりにフィラ12に用
いてもよい。また、本実施例でIC基板チップ1と2配
線層基板11との電気的接続に用いられる導電性接着剤
6の代替品として半田等を用いてもよい。
When mounting the IC substrate chip 1 on the mounting surface 11a, the sealing resin 5 containing the silica filler 12 is injected between the IC substrate chip 1 and the mounting surface 11a, and then the sealing resin 5 is cured. By doing so, the fixation of the IC substrate chip 1 to the mounting surface 11a is strengthened. The silica filler 12 reduces the coefficient of thermal expansion of the sealing resin 5 and reduces the difference in coefficient of thermal expansion between the sealing resin and the wiring material. To this end, a material having at least one of high thermal conductivity and low thermal expansion coefficient may be used for the filler 12 instead of silica. Further, in this embodiment, solder or the like may be used as a substitute for the conductive adhesive 6 used for electrical connection between the IC substrate chip 1 and the two-wiring-layer substrate 11.

【0044】表面配線層8を封止樹脂領域13a以外に
形成することで、回路基板、封止樹脂、及び配線の熱膨
張率差よって発生する応力が配線を断線するといった不
具合を防止し、実装構造体の信頼性を向上させることが
できる。
By forming the surface wiring layer 8 in a region other than the sealing resin region 13a, it is possible to prevent a problem that a stress generated due to a difference in thermal expansion coefficient between the circuit board, the sealing resin, and the wiring breaks the wiring, and to mount the wiring. The reliability of the structure can be improved.

【0045】実施例2 次に図2を参照にして、本発明に係る第2の実施例につ
いて説明する。図2は、IC基板チップ1が4配線層基
板16にフリップチップ方式で実装された実装構造体の
概略断面図を示すものである。また4配線層基板16
は、チップ部品を実装する表面層10、表面層10を接
合する接合層14、入出力端子電極7、表面層10と接
合層14との間に形成されている内部配線層15、表面
層10上のチップ部品を電気的に接続する表面配線層
8、及びビアホール4を含んでいる。
Embodiment 2 Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 2 is a schematic sectional view of a mounting structure in which the IC substrate chip 1 is mounted on the four-wiring-layer substrate 16 by a flip-chip method. In addition, four wiring layer substrates 16
Are a surface layer 10 on which chip components are mounted, a bonding layer 14 for bonding the surface layer 10, an input / output terminal electrode 7, an internal wiring layer 15 formed between the surface layer 10 and the bonding layer 14, and a surface layer 10. It includes a surface wiring layer 8 for electrically connecting the upper chip components, and a via hole 4.

【0046】次にビアホール4について説明する。本実
施例ではビアホール4にインナービアホールを用いる。
ビアホール4の形成には、レーザーを用いて表面層10
のチップ実装領域内13bの所定の位置を貫通させ、次
に導電性ペーストを係る貫通孔に充填させるといった方
法を採用している。尚、ドリルによって表面層10の所
定の位置を貫通させ、導電性材料で係る貫通孔をメッキ
することでビアホールを形成してもよい。
Next, the via hole 4 will be described. In this embodiment, an inner via hole is used as the via hole 4.
The formation of the via hole 4 is performed by using a surface layer 10 using a laser.
Of the chip mounting area 13b, and then filling the through-hole with a conductive paste. Note that a via hole may be formed by penetrating a predetermined position of the surface layer 10 with a drill and plating the through hole with a conductive material.

【0047】パンブ電極2と導電性接着剤6を介して、
電極パッド3は表面層10上に形成された入出力端子電
極7に電気的に接続される。バンプ電極2は、公知の方
法で電極パッド3に形成されたものである。内層配線層
15は、ビアホール4を介して入出力端子電極7と表面
配線層8とに電気的に接続されている。本実施例でIC
基板チップ1と表面層10との電気的接続に用いられて
いる導電性接着剤6の代替品として半田等を用いてもよ
い。
Through the pump electrode 2 and the conductive adhesive 6,
The electrode pads 3 are electrically connected to input / output terminal electrodes 7 formed on the surface layer 10. The bump electrode 2 is formed on the electrode pad 3 by a known method. The inner wiring layer 15 is electrically connected to the input / output terminal electrode 7 and the surface wiring layer 8 via the via hole 4. In this embodiment, the IC
As an alternative to the conductive adhesive 6 used for electrical connection between the substrate chip 1 and the surface layer 10, solder or the like may be used.

【0048】IC基板チップ1を表面層10に実装する
際に、IC基板チップ1と表面層10との間にシリカフ
ィラ12を含有する封止樹脂5を注入し、その後封止樹
脂5を硬化させることで、IC基板チップ1の表面層1
0への固定が強化される。シリカのフィラ12は封止樹
脂5の熱膨張率を下げ、封止樹脂と配線材料との熱膨張
率差を小さくするものである。この目的に従って、高熱
伝導性と低熱膨張率の少なくともどちらか一方の特性を
有する材料をシリカの代わりにフィラ12に用いてもよ
い。
When mounting the IC substrate chip 1 on the surface layer 10, the sealing resin 5 containing the silica filler 12 is injected between the IC substrate chip 1 and the surface layer 10, and then the sealing resin 5 is cured. The surface layer 1 of the IC substrate chip 1
Fixation to zero is strengthened. The silica filler 12 reduces the coefficient of thermal expansion of the sealing resin 5 and reduces the difference in coefficient of thermal expansion between the sealing resin and the wiring material. To this end, a material having at least one of high thermal conductivity and low thermal expansion coefficient may be used for the filler 12 instead of silica.

【0049】表面層10に封止樹脂5が接している封止
樹脂領域13aでは、表面配線層8は形成されていな
い。さらに2配線層基板11上のチップ実装領域13b
の直下領域内で、ビアホール4を介して内部配線層15
と入出力端子電極7とが電気的に接続されている。
In the sealing resin region 13a where the sealing resin 5 is in contact with the surface layer 10, the surface wiring layer 8 is not formed. Further, a chip mounting area 13b on the two wiring layer substrate 11
Of the internal wiring layer 15 via the via hole 4
And the input / output terminal electrode 7 are electrically connected.

【0050】表面配線層8を封止樹脂領域13a以外に
形成することで、回路基板、封止樹脂、及び配線の熱膨
張率差よって発生する応力が配線を断線するといった不
具合を防止し、実装構造体の信頼性を向上させることが
できる。さらにインナービアホールを用いることで、半
導体装置用のインナービアホールを容易に設計すること
ができる。
By forming the surface wiring layer 8 in a region other than the sealing resin region 13a, it is possible to prevent a problem that a stress generated due to a difference in thermal expansion coefficient between the circuit board, the sealing resin, and the wiring breaks the wiring, and to mount the wiring. The reliability of the structure can be improved. Further, by using the inner via hole, the inner via hole for the semiconductor device can be easily designed.

【0051】実施例3 次に本発明に係る第3の実施例について、図3を参照に
して説明する。図3は、IC基板チップ1が2配線層基
板11のチップ実装面11aにフリップチップ方式で実
装された実装構造体の概略断面図を示すものである。2
配線層基板11は、2配線層基板11上のチップ部品を
電気的に接続する表面配線層8、及びチップ実装面11
aの背面11bに形成された金属箔23を含んでいる。
金属箔23はチップ実装領域13bの直下領域を包含す
るものである。またIC基板チップ1は、封止樹脂5で
2配線層基板11に固定されている。
Embodiment 3 Next, a third embodiment according to the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of a mounting structure in which the IC substrate chip 1 is mounted on the chip mounting surface 11a of the two-layer wiring board 11 by a flip-chip method. 2
The wiring layer substrate 11 includes a surface wiring layer 8 for electrically connecting chip components on the two wiring layer substrate 11, and a chip mounting surface 11.
a includes a metal foil 23 formed on the back surface 11b.
The metal foil 23 includes a region immediately below the chip mounting region 13b. The IC substrate chip 1 is fixed to the two-wiring-layer substrate 11 with a sealing resin 5.

【0052】パンブ電極2と導電性接着剤6を介して、
IC基板チップ1の電極パッド3は、表面層10上に形
成された表面配線層8に電気的に接続される。バンプ電
極2は、公知の方法で電極パッド3に形成されたもので
ある。本実施例においてIC基板チップ1と表面層10
との電気的接続に用いられている導電性接着剤6の代替
品として半田等を用いてもよい。
Through the pump electrode 2 and the conductive adhesive 6,
The electrode pads 3 of the IC substrate chip 1 are electrically connected to a surface wiring layer 8 formed on the surface layer 10. The bump electrode 2 is formed on the electrode pad 3 by a known method. In this embodiment, the IC substrate chip 1 and the surface layer 10
Solder or the like may be used as a substitute for the conductive adhesive 6 used for electrical connection with the semiconductor device.

【0053】次に金属箔23について説明する。金属箔
23はチップ実装領域13bの2倍の広さで、18μm
の厚さの銅箔である。本実施例では、金属箔23の広さ
はチップ実装領域13bの2倍としたが、対応するチッ
プ実装領域13bの直下領域を含んでいれば効果的であ
り、金属箔23の面積は2倍に限定されるものではな
い。また、銅箔の代わりにメッキ法等で形成した銅膜を
用いてよく、銅以上の熱伝導率又は銅以上のヤング率を
有する材料で形成されたものでもよい。
Next, the metal foil 23 will be described. The metal foil 23 is twice as large as the chip mounting area 13b and is 18 μm
Of copper foil. In the present embodiment, the area of the metal foil 23 is twice as large as the chip mounting area 13b. However, it is effective if the area immediately below the corresponding chip mounting area 13b is included, and the area of the metal foil 23 is twice as large. However, the present invention is not limited to this. Further, a copper film formed by a plating method or the like may be used in place of the copper foil, and may be formed of a material having a thermal conductivity higher than copper or a Young's modulus higher than copper.

【0054】IC基板チップ1を実装面11aに実装す
る際、IC基板チップ1と実装面11aとの間にシリカ
フィラ12を含有する封止樹脂5を注入し、その後封止
樹脂5を硬化させることで、IC基板チップ1の実装面
11aへの固定が強化される。シリカのフィラ12は封
止樹脂5の熱膨張率を下げ、封止樹脂と配線材料との熱
膨張率差を小さくするものである。この目的に従って、
高熱伝導性と低熱膨張率の少なくともどちらか一方の特
性を有する材料をシリカの代わりにフィラ12に用いて
もよい。
When mounting the IC substrate chip 1 on the mounting surface 11a, the sealing resin 5 containing the silica filler 12 is injected between the IC substrate chip 1 and the mounting surface 11a, and then the sealing resin 5 is cured. Thereby, the fixation of the IC substrate chip 1 to the mounting surface 11a is strengthened. The silica filler 12 reduces the coefficient of thermal expansion of the sealing resin 5 and reduces the difference in coefficient of thermal expansion between the sealing resin and the wiring material. According to this purpose,
A material having at least one of high thermal conductivity and low coefficient of thermal expansion may be used for the filler 12 instead of silica.

【0055】金属箔23を形成することで、実装面11
aで発生する応力を抑制し、表面配線8に影響を少なく
する。さら金属箔23の材料を配線層8と同じ材料の銅
とすることで、金属箔形成工程を特別に設けることなし
に回路基板を製造することができる。
By forming the metal foil 23, the mounting surface 11
The stress generated at a is suppressed, and the influence on the surface wiring 8 is reduced. Further, by using copper of the same material as the wiring layer 8 as the material of the metal foil 23, it is possible to manufacture a circuit board without specially providing a metal foil forming step.

【0056】実施例4 次に図4を参照にして、本発明の第4の実施例に係る実
装構造体を説明する。図4は、IC基板チップ1が4配
線層基板16にフリップチップ方式で実装された実装構
造体の概略断面図を示すものである。4配線層基板16
は、チップ部品を実装する表面層10、表面層10を接
続する接合層14、入出力端子電極7、表面層10と接
合層14との間に形成されている内部配線層15と金属
箔23、表面層10上のチップ部品を電気的に接続する
表面配線層8、及びビアホール4を含んでいる。本実施
例ではビアホール4にインナービアホールを用いる。
Embodiment 4 Next, a mounting structure according to a fourth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 4 is a schematic sectional view of a mounting structure in which the IC substrate chip 1 is mounted on the four-wiring-layer substrate 16 by a flip-chip method. 4 wiring layer substrate 16
Are a surface layer 10 on which chip components are mounted, a bonding layer 14 for connecting the surface layer 10, an input / output terminal electrode 7, an internal wiring layer 15 formed between the surface layer 10 and the bonding layer 14, and a metal foil 23. , A surface wiring layer 8 for electrically connecting chip components on the surface layer 10, and via holes 4. In this embodiment, an inner via hole is used as the via hole 4.

【0057】表面層10に封止樹脂5が接している封止
樹脂領域13aには、表面配線層8は形成されていな
い。表面層10のチップ実装領域13bの直下領域内
で、ビアホール4を介して入出力端子電極7が内部配線
層15と表面配線層8とに電気的に接続されている。金
属箔23はチップ実装領域13bの直下領域を包含する
ものである。ビアホール4の形成方法、IC基板チップ
1の実装方法、及び封止樹脂5に含まれるフィラ12と
金属箔23の材料は、前述の実施例2と同様である。
The surface wiring layer 8 is not formed in the sealing resin region 13a where the sealing resin 5 is in contact with the surface layer 10. The input / output terminal electrode 7 is electrically connected to the internal wiring layer 15 and the surface wiring layer 8 via the via hole 4 in a region directly below the chip mounting region 13 b of the surface layer 10. The metal foil 23 includes a region immediately below the chip mounting region 13b. The method of forming the via hole 4, the method of mounting the IC substrate chip 1, and the materials of the filler 12 and the metal foil 23 included in the sealing resin 5 are the same as those in the second embodiment.

【0058】表面配線層8を封止樹脂領域13a以外に
形成することで、回路基板、封止樹脂、及び配線の熱膨
張率差よって発生する応力が配線を断線するといった不
具合を防止し、実装構造体の信頼性を向上させることが
できる。さらに金属箔23を形成することで、表面層1
0で発生する応力を抑制することができる。
By forming the surface wiring layer 8 in a region other than the sealing resin region 13a, it is possible to prevent a problem that a stress generated due to a difference in thermal expansion coefficient between the circuit board, the sealing resin, and the wiring breaks the wiring, and to mount the wiring. The reliability of the structure can be improved. Further, by forming the metal foil 23, the surface layer 1
The stress generated at 0 can be suppressed.

【0059】実施例5 次に図5を参照にして、本発明に係る第5の実施例につ
いて説明する。図5は、4配線層基板16の第1の表面
層10a、第2の表面層10bにそれぞれ第1のIC基
板チップ1a、第2のIC基板チップ1bが実装されて
いる実装構造体の概略断面図を示すものである。第1の
IC基板チップ1aと第2のIC基板チップ1bとは、
接合層14に対して対称の位置に実装されている。
Fifth Embodiment Next, a fifth embodiment according to the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 5 is a schematic diagram of a mounting structure in which a first IC substrate chip 1a and a second IC substrate chip 1b are mounted on the first surface layer 10a and the second surface layer 10b of the four wiring layer substrate 16, respectively. FIG. The first IC substrate chip 1a and the second IC substrate chip 1b
It is mounted at a position symmetrical with respect to the bonding layer 14.

【0060】バンプ電極2と導電性接着剤6とを介して
第1のIC基板チップ1aの電極パッド3が、入出力端
子電極7及び表面配線層8に電気的に接続されるフリッ
プチップ方式で、第1のIC基板チップ1aが第1表面
層10aに実装されている。バンプ電極2は公知の方法
で形成されたものである。
The flip-chip system in which the electrode pads 3 of the first IC substrate chip 1 a are electrically connected to the input / output terminal electrodes 7 and the surface wiring layer 8 via the bump electrodes 2 and the conductive adhesive 6. The first IC substrate chip 1a is mounted on the first surface layer 10a. The bump electrode 2 is formed by a known method.

【0061】第1のIC基板チップ1aを第1の表面層
10aに実装する際、第1のIC基板チップ1aと第1
の表面層10aとの間にシリカフィラ12を含有する封
止樹脂5を注入し、その後封止樹脂5を硬化させること
で、第1のIC基板チップ1aの第1の表面層10aへ
の固定が強化される。シリカのフィラ12は封止樹脂5
の熱膨張率を下げ、封止樹脂と配線材料との熱膨張率差
を小さくするものである。この目的に従って、高熱伝導
性と低熱膨張率の少なくともどちらか一方の特性を有す
る材料をシリカの代わりにフィラ12に用いてもよい。
When mounting the first IC substrate chip 1a on the first surface layer 10a, the first IC substrate chip 1a and the first
Of the first IC substrate chip 1a to the first surface layer 10a by injecting the sealing resin 5 containing the silica filler 12 between the first IC chip 1a and the first surface layer 10a. Is strengthened. Silica filler 12 is sealing resin 5
Is reduced, and the difference in the coefficient of thermal expansion between the sealing resin and the wiring material is reduced. To this end, a material having at least one of high thermal conductivity and low thermal expansion coefficient may be used for the filler 12 instead of silica.

【0062】同様にして、バンプ電極2と導電性接着剤
7とを介して第2のIC基板チップ1bの電極パッド3
が、入出力端子電極6及び表面配線層8に電気的に接続
されるフリップチップ方式で、第2のIC基板チップ1
bが第2表面層10bに実装されている。バンプ電極2
は公知の方法で形成されたものである。
Similarly, the electrode pads 3 of the second IC substrate chip 1 b are interposed via the bump electrodes 2 and the conductive adhesive 7.
Is a flip-chip type electrically connected to the input / output terminal electrode 6 and the surface wiring layer 8, and the second IC substrate chip 1
b is mounted on the second surface layer 10b. Bump electrode 2
Is formed by a known method.

【0063】第2のIC基板チップ1bの第2表面層1
0bへの実装には、異方導電性フィルム17を用いる。
また第1のIC基板チップ1aと第2のIC基板チップ
1bとは、内部配線層15とビアホール4とを介して電
気的に接続されている。本実施例では、ビアホールには
インナービアホールを用いる。
Second surface layer 1 of second IC substrate chip 1b
For mounting on Ob, an anisotropic conductive film 17 is used.
The first IC substrate chip 1a and the second IC substrate chip 1b are electrically connected via the internal wiring layer 15 and the via hole 4. In this embodiment, an inner via hole is used as the via hole.

【0064】本実施例では、第1のIC基板チップ1a
を実装するのに導電性接着剤6を、第2のIC基板チッ
プ1bを実装するのに異方導電フィルム17を用いてい
るが、本発明は2つのIC基板チップを異なる方法で実
装することで限定するものではなく、2つのIC基板チ
ップを両方、導電性接着剤又は異方導電フィルムを用い
て実装してもよい。また、本実施例で第1のIC基板チ
ップ1aと第1表面層10aとの電気的接続に用いられ
ている導電性接着剤9の代替品として半田等を用いても
よい。
In this embodiment, the first IC substrate chip 1a
The conductive adhesive 6 is used to mount the second IC board chip 1b, and the anisotropic conductive film 17 is used to mount the second IC board chip 1b. However, the present invention is not limited thereto, and both of the two IC substrate chips may be mounted using a conductive adhesive or an anisotropic conductive film. In addition, solder or the like may be used as a substitute for the conductive adhesive 9 used for the electrical connection between the first IC substrate chip 1a and the first surface layer 10a in this embodiment.

【0065】2つのIC基板チップを両方導電性接着剤
を用いて実装する場合、半導体装置と表面層との間に封
止樹脂を注入するため、封止樹脂を表面層上の所定位置
に吸引注入した後に、又は表面層上の所定の位置に封止
樹脂をシート状に形成した後に、半導体装置を導電性接
着剤で実装する必要がある。
When both IC substrate chips are mounted using a conductive adhesive, the sealing resin is suctioned to a predetermined position on the surface layer in order to inject the sealing resin between the semiconductor device and the surface layer. After the injection or after the sealing resin is formed in a sheet shape at a predetermined position on the surface layer, the semiconductor device needs to be mounted with a conductive adhesive.

【0066】2つの半導体装置を対称の位置に形成する
ことで、各表面層の配線に発生する応力、変形を抑制す
ることが可能となり、さらにインナービアホールを用い
ることで、2つの半導体装置を容易に電気的に接続する
ことができる。
By forming the two semiconductor devices at symmetrical positions, it is possible to suppress the stress and deformation generated in the wiring of each surface layer. Further, by using the inner via holes, the two semiconductor devices can be easily manufactured. Can be electrically connected to

【0067】実施例6 次に図6を参照にして、本発明に係る第6の実施例につ
いて説明する。図6は、4配線層基板16の第1の表面
層10a、第2の表面層10bにそれぞれ第1のIC基
板チップ1a、第2のIC基板チップ1bが実装された
実装構造体の概略断面図を示すものである。第1のIC
基板チップ1aと第2のIC基板チップ1bとは、接合
層14に対して対称となる位置に実装されている。
Embodiment 6 Next, with reference to FIG. 6, a sixth embodiment according to the present invention will be described. FIG. 6 is a schematic cross section of a mounting structure in which a first IC substrate chip 1a and a second IC substrate chip 1b are mounted on a first surface layer 10a and a second surface layer 10b of a four-wiring layer substrate 16, respectively. FIG. First IC
The substrate chip 1a and the second IC substrate chip 1b are mounted at positions symmetrical with respect to the bonding layer 14.

【0068】前述した実施例5と同様に、第1のIC基
板チップ1a、第2のIC基板チップ1bは、それぞれ
第1の表面層10a、第2の表面層10bにフリップチ
ップ方式で実装されている。上記2つのIC基板チップ
は、封止樹脂5によって、表面層への固定が強化されて
いる。
As in the fifth embodiment, the first IC substrate chip 1a and the second IC substrate chip 1b are mounted on the first surface layer 10a and the second surface layer 10b by a flip chip method, respectively. ing. The fixing of the two IC board chips to the surface layer is enhanced by the sealing resin 5.

【0069】第1表面層10a及び第2表面層10bに
封止樹脂5が接する封止樹脂領域13aには、表面配線
層8は形成されていない。さらに両チップ実装領域13
bの直下部領域内でビアホール4を介して、入出力端子
電極7と内部配線層15が電気的に接続されている。封
止樹脂5に含まれるフィラ12の材質及びビアホール4
は、前述した実施例1〜6に記載したものと同様のもの
である。
The surface wiring layer 8 is not formed in the sealing resin region 13a where the sealing resin 5 contacts the first surface layer 10a and the second surface layer 10b. Further, both chip mounting areas 13
The input / output terminal electrode 7 and the internal wiring layer 15 are electrically connected to each other via the via hole 4 in a region immediately below the area b. Material of filler 12 and via hole 4 included in sealing resin 5
Is the same as that described in Examples 1 to 6 described above.

【0070】実施例7 次に本発明に係る第7の実施例について説明する。第7
の実施例に係る実装構造体は、回路基板の実装面に半導
体装置を実装したものである。前述の実施例と同様に、
半導体装置の電極パッドと実装面に形成された各電極パ
ッドに対応する入出力端子電極又は表面配線層とが、バ
ンプ電極と導電性接着剤とを介して電気的に接続するフ
リップチップ方式で、半導体装置が回路基板に実装され
ている。また、表面配線は一様な幅を有するものでな
く、異なる幅を有し、幅の異なる配線は円弧形に形成さ
れた配線で接続されている。尚バンプ電極は公知の方法
で半導体装置の電極パッドに形成されたものである。
Embodiment 7 Next, a seventh embodiment according to the present invention will be described. Seventh
The mounting structure according to the embodiment has a semiconductor device mounted on a mounting surface of a circuit board. As in the previous embodiment,
In the flip chip method, the electrode pads of the semiconductor device and the input / output terminal electrodes or surface wiring layers corresponding to the respective electrode pads formed on the mounting surface are electrically connected via bump electrodes and a conductive adhesive. A semiconductor device is mounted on a circuit board. Further, the surface wirings do not have a uniform width, but have different widths, and the wirings having different widths are connected by wirings formed in an arc shape. The bump electrodes are formed on the electrode pads of the semiconductor device by a known method.

【0071】また半導体装置は、シリカフィラを含有す
るを熱硬化性封止樹脂で表面層に固定されている。封止
樹脂に含まれるフィラの材質に関しては、前述した実施
例1〜6と同種類のものである。本実施例で半導体装置
と実装面との電気的接続に用いられている導電性接着剤
の代替品として半田等を挙げることができる。
The semiconductor device contains silica filler and is fixed to the surface layer with a thermosetting sealing resin. The material of the filler contained in the sealing resin is of the same type as in Examples 1 to 6 described above. As an alternative to the conductive adhesive used for the electrical connection between the semiconductor device and the mounting surface in this embodiment, solder or the like can be mentioned.

【0072】表面配線層の幅の異なる配線を円弧形の配
線で接続することによって、封止樹脂、配線及び回路基
板間の熱膨張率差によって発生する応力を分散させ、配
線の断線を抑制することができる。
By connecting the wirings having different widths of the surface wiring layer by arc-shaped wirings, the stress generated due to the difference in thermal expansion coefficient between the sealing resin, the wirings and the circuit board is dispersed, and the disconnection of the wirings is suppressed. can do.

【0073】[0073]

【発明の効果】本発明に係る実装構造体は、半導体装置
の封止樹脂領域内の表面配線を排除し、係る配線を実装
面の背面に背面配線として形成したものである。このこ
とによって、回路基板、封止樹脂、及び配線の熱膨張率
差よって発生する応力が配線を断線するといった不具合
を防止し、実装構造体の信頼性を向上させることができ
る。
According to the mounting structure of the present invention, the surface wiring in the sealing resin region of the semiconductor device is eliminated, and the wiring is formed as the rear wiring on the rear surface of the mounting surface. Accordingly, it is possible to prevent a problem that a stress generated due to a difference in thermal expansion coefficient between the circuit board, the sealing resin, and the wiring breaks the wiring, thereby improving the reliability of the mounting structure.

【0074】本発明に係る実装構造体は、表面層の封止
樹脂領域以外に表面配線を形成したものである。このこ
とによって、回路基板、封止樹脂、及び配線の熱膨張率
差よって発生する応力が配線を断線するといった不具合
を防止し、実装構造体の信頼性を向上させることができ
る。
The mounting structure according to the present invention is one in which a surface wiring is formed on the surface layer other than the sealing resin region. Accordingly, it is possible to prevent a problem that a stress generated due to a difference in thermal expansion coefficient between the circuit board, the sealing resin, and the wiring breaks the wiring, thereby improving the reliability of the mounting structure.

【0075】本発明に係る実装構造体は、半導体装置の
実装領域内の表面配線を排除し、係る配線を表面層と接
合層との間に内部配線として形成したものである。こう
することで、回路基板、封止樹脂、及び配線の熱膨張率
差よって発生する応力が配線を断線するといった不具合
を防止し、実装構造体の信頼性を向上させることができ
る。
The mounting structure according to the present invention excludes surface wiring in the mounting region of the semiconductor device, and forms such wiring as an internal wiring between the surface layer and the bonding layer. By doing so, it is possible to prevent a problem that a stress generated due to a difference in thermal expansion coefficient between the circuit board, the sealing resin, and the wiring breaks the wiring, thereby improving the reliability of the mounting structure.

【0076】本発明に係る実装構造体は、半導体装置の
直下領域を包含する金属箔を実装面の背面に形成したも
のである。こうすることで、回路基板の熱膨張率を大き
くし、回路基板と封止樹脂との熱膨張率差を小さくする
ことで、表面層の配線に発生する応力を小さくする。さ
らに回路基板に剛性をもたせることで発生する応力を抑
制することができる。
In the mounting structure according to the present invention, a metal foil including a region directly below the semiconductor device is formed on the back surface of the mounting surface. This increases the coefficient of thermal expansion of the circuit board and reduces the difference in coefficient of thermal expansion between the circuit board and the sealing resin, thereby reducing the stress generated in the wiring on the surface layer. Further, the stress generated by giving the circuit board rigidity can be suppressed.

【0077】本発明に係る実装構造体は、金属箔で表面
層と接合層との間の半導体装置の直下領域を包含させた
ものであり、半導体の実装領域内の表面配線を排除し、
係る配線を表面層と接合層との間に内部配線層として形
成したものである。このことで、封止樹脂領域に発生す
る応力が表面配線に影響をあたえることなく、さらに発
生する応力も抑制することができる。
The mounting structure according to the present invention includes a region immediately below the semiconductor device between the surface layer and the bonding layer with a metal foil, and eliminates surface wiring in the semiconductor mounting region.
Such a wiring is formed as an internal wiring layer between the surface layer and the bonding layer. Thus, the stress generated in the sealing resin region does not affect the surface wiring, and the generated stress can be suppressed.

【0078】本発明に係る実装構造体は、表面層の封止
樹脂領域以外に半導体装置と電気的に接続された表面配
線層を形成したものである。このことによって、回路基
板、封止樹脂、及び配線の熱膨張率差よって発生する応
力が配線を断線するといった不具合を防止し、実装構造
体の信頼性を向上させることができる。
The mounting structure according to the present invention has a surface wiring layer electrically connected to a semiconductor device other than the sealing resin region of the surface layer. Accordingly, it is possible to prevent a problem that a stress generated due to a difference in thermal expansion coefficient between the circuit board, the sealing resin, and the wiring breaks the wiring, thereby improving the reliability of the mounting structure.

【0079】本発明に係る実装構造体は、内部配線と半
導体装置の電極との電気的接続にインナービアホールを
用いたものである。こうすることで、半導体装置の実装
用ビアホールの形成位置を容易に設計することが可能と
なり、半導体装置の電極と内部配線との電気的接続を半
導体装置の直下領域で実行することができる。
A mounting structure according to the present invention uses an inner via hole for electrical connection between an internal wiring and an electrode of a semiconductor device. By doing so, it is possible to easily design the formation position of the mounting via hole of the semiconductor device, and the electrical connection between the electrode of the semiconductor device and the internal wiring can be performed in a region directly below the semiconductor device.

【0080】本発明に係る実装構造体は、内部配線と表
面配線との電気的接続にインナービアホールを用いたも
のである。こうすることで、半導体装置の実装用ビアホ
ールの形成位置を容易に設計することが可能となる。
The mounting structure according to the present invention uses an inner via hole for electrical connection between the internal wiring and the surface wiring. This makes it possible to easily design the formation position of the mounting via hole of the semiconductor device.

【0081】本発明に係る実装構造体は、金属箔を銅と
するのが好ましい。銅は回路基板の配線としても用いら
れるので、金属箔形成工程を特別に設ける必要なしに回
路基板を製造することができる。
In the mounting structure according to the present invention, the metal foil is preferably made of copper. Since copper is also used as the wiring of the circuit board, the circuit board can be manufactured without specially providing a metal foil forming step.

【0082】本発明に係る実装構造体は、2つの半導体
装置が対向する2つの表面層上の対称となる位置に実装
されたものである。このことで、各表面層の配線に発生
する応力、変形を抑制することができる。
The mounting structure according to the present invention is one in which two semiconductor devices are mounted at symmetrical positions on two opposing surface layers. Thereby, stress and deformation generated in the wiring of each surface layer can be suppressed.

【0083】本発明に係る実装構造体は、2つの半導体
装置が対向する2つの表面層上の対称となる位置に実装
し、さらに少なくとも1つの内部配線層を有するように
したものである。このことで、内部配線を有する実装構
造体の各表面層の配線に発生する応力、変形を抑制する
ことができる。
The mounting structure according to the present invention has two semiconductor devices mounted at symmetrical positions on two opposing surface layers, and further has at least one internal wiring layer. Thus, it is possible to suppress the stress and deformation generated in the wiring of each surface layer of the mounting structure having the internal wiring.

【0084】本発明に係る実装構造体は、上記2つの半
導体装置がインナービアホールを介して電気的に接続さ
れたものである。このことで、2つの半導体装置を容易
に電気的に接続することができる。
The mounting structure according to the present invention is one in which the above two semiconductor devices are electrically connected via an inner via hole. This makes it possible to easily electrically connect the two semiconductor devices.

【0085】本発明に係る実装構造体は、2つの半導体
装置が対向する2つの表面層上の対称となる位置に実装
されたものである。さらに2つの半導体装置の実装領域
内の表面配線層を排除し、係る配線を表面層と接合層と
の間に内部配線として形成したものである。このことに
よって、表面層上に発生する応力、変形が緩和され、実
装構造体の信頼性がさらに向上する。
The mounting structure according to the present invention is obtained by mounting two semiconductor devices at symmetrical positions on two opposing surface layers. Further, the surface wiring layer in the mounting regions of the two semiconductor devices is eliminated, and the wiring is formed as an internal wiring between the surface layer and the bonding layer. This alleviates the stress and deformation generated on the surface layer, and further improves the reliability of the mounting structure.

【0086】本発明に係る実装構造体は、表面層の封止
樹脂領域以外に半導体装置と電気的に接続された表面配
線層を形成したものである。このことによって、回路基
板、封止樹脂、及び配線の熱膨張率差よって発生する応
力が配線を断線するといった不具合を防止し、実装構造
体の信頼性を向上させることができる。
The mounting structure according to the present invention has a surface wiring layer electrically connected to the semiconductor device other than the sealing resin region of the surface layer. Accordingly, it is possible to prevent a problem that a stress generated due to a difference in thermal expansion coefficient between the circuit board, the sealing resin, and the wiring breaks the wiring, thereby improving the reliability of the mounting structure.

【0087】本発明に係る実装構造体は、内部配線と半
導体装置の電極との電気的接続にインナービアホールを
用いたものである。こうすることで、半導体装置の実装
用ビアホールの形成位置を容易に設計することが可能と
なり、半導体装置の電極と内部配線との電気的接続を半
導体装置の直下領域で実行することができる。
A mounting structure according to the present invention uses an inner via hole for electrical connection between an internal wiring and an electrode of a semiconductor device. By doing so, it is possible to easily design the formation position of the mounting via hole of the semiconductor device, and the electrical connection between the electrode of the semiconductor device and the internal wiring can be performed in a region directly below the semiconductor device.

【0088】本発明に係る実装構造体は、半導体装置が
実装されている実装面上の幅が異なる配線を円弧形状の
配線で接続したものである。このことによって配線にか
かる応力を分散させることができる。
The mounting structure according to the present invention is obtained by connecting wirings having different widths on the mounting surface on which the semiconductor device is mounted by arc-shaped wirings. Thereby, the stress applied to the wiring can be dispersed.

【0089】本発明に係る実装構造体の製造方法は、回
路基板に実装された2つの半導体装置の少なくとも一方
を異方導電フィルムを用いて実装するものである。この
ことによって、半導体装置の回路基板への実装が容易と
なる。
In the method for manufacturing a mounting structure according to the present invention, at least one of two semiconductor devices mounted on a circuit board is mounted using an anisotropic conductive film. This facilitates mounting of the semiconductor device on a circuit board.

【0090】本発明に係る実装構造体の製造方法は、第
1の表面層、第2の表面層の少なくともどちらか一方の
所定の位置に封止樹脂を注入後に、対応する半導体装置
を実装し、封止樹脂を硬化させて半導体装置を固定する
ものである。このことによって、信頼性の高い実装構造
体を製造することができる。
In the method for manufacturing a mounting structure according to the present invention, after injecting a sealing resin into a predetermined position of at least one of the first surface layer and the second surface layer, the corresponding semiconductor device is mounted. Then, the semiconductor device is fixed by curing the sealing resin. As a result, a highly reliable mounting structure can be manufactured.

【0091】本発明に係る実装構造体の製造方法は、第
1の表面層、第2の表面層の少なくともどちらか一方の
所定の位置に樹脂材料をシート状に形成した後に、対応
する半導体装置を実装するものである。このことによっ
て、信頼性の高い実装構造体を製造することができる。
In the method for manufacturing a mounting structure according to the present invention, a resin material is formed in a sheet shape at a predetermined position on at least one of the first surface layer and the second surface layer, and then the corresponding semiconductor device is formed. Is to implement. As a result, a highly reliable mounting structure can be manufactured.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明の第1の実施例に係る実装構造体の概
略断面図を示すものである。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a mounting structure according to a first embodiment of the present invention.

【図2】 本発明の第2の実施例に係る実装構造体の概
略断面図を示すものである。
FIG. 2 is a schematic sectional view of a mounting structure according to a second embodiment of the present invention.

【図3】 本発明の第3の実施例に係る実装構造体の概
略断面図を示すものである。
FIG. 3 is a schematic sectional view of a mounting structure according to a third embodiment of the present invention.

【図4】 本発明の第4の実施例に係る実装構造体の概
略断面図を示すものである。
FIG. 4 is a schematic sectional view of a mounting structure according to a fourth embodiment of the present invention.

【図5】 本発明の第5の実施例に係る実装構造体の概
略断面図を示すものである。
FIG. 5 is a schematic sectional view of a mounting structure according to a fifth embodiment of the present invention.

【図6】 本発明の第6の実施例に係る実装構造体の概
略断面図を示すものである。
FIG. 6 is a schematic sectional view of a mounting structure according to a sixth embodiment of the present invention.

【図7】 (a)、(b)は、第1の従来例に係る実装
構造体を示すものである。
FIGS. 7A and 7B show a mounting structure according to a first conventional example.

【図8】 第2の従来例に係る実装構造体の概略断面図
を示すものである。
FIG. 8 is a schematic cross-sectional view of a mounting structure according to a second conventional example.

【図9】 第3の従来例に係る実装構造体の概略断面図
を示すものである。
FIG. 9 is a schematic cross-sectional view of a mounting structure according to a third conventional example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…IC基板チップ 2…バンプ電極 3…電極パッド 4…ビアホール 5…封止樹脂 6…導電性接着剤 7…入出力端子電極 8…表面配線層 9…背面配線層 10…表面層 11…2配線層基板 12…フィラ 13a…封止樹脂領域 13b…半導体装置実装領域 14…接合層 15…内部配線層 16…4配線層基板 17…異方導電フィルム 18…拡散防止金属フィルム 19…密着金属膜 20…半田バンプ 21…回路基板 22…Auバンプ 23…金属箔 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... IC board chip 2 ... Bump electrode 3 ... Electrode pad 4 ... Via hole 5 ... Seal resin 6 ... Conductive adhesive 7 ... Input / output terminal electrode 8 ... Surface wiring layer 9 ... Back wiring layer 10 ... Surface layer 11 ... 2 Wiring layer substrate 12 Filler 13a Sealing resin region 13b Semiconductor device mounting region 14 Bonding layer 15 Internal wiring layer 16 Four wiring layer substrate 17 Anisotropic conductive film 18 Diffusion preventing metal film 19 Adhesive metal film Reference Signs List 20 solder bump 21 circuit board 22 Au bump 23 metal foil

フロントページの続き (72)発明者 江田 和生 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内Continued on the front page (72) Inventor Kazuo Eda 1006 Kazuma Kadoma, Kadoma City, Osaka Matsushita Electric Industrial Co., Ltd.

Claims (19)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 半導体装置が回路基板の実装面にフリッ
プチップ実装された実装構造体であって、 上記半導体装置の直下領域内で上記実装面に形成され、
上記半導体装置の電極と電気的に接続された基板端子、 上記実装面の背面に形成された背面配線、 及び上記直下領域内で上記回路基板に形成され、上記基
板端子と上記背面配線とを電気的に接続する第1の導電
孔を含んでいることを特徴とする実装構造体。
1. A mounting structure in which a semiconductor device is flip-chip mounted on a mounting surface of a circuit board, wherein the semiconductor device is formed on the mounting surface in a region directly below the semiconductor device,
A substrate terminal electrically connected to the electrode of the semiconductor device, a back wiring formed on the back surface of the mounting surface, and an electrical connection between the substrate terminal and the back wiring formed on the circuit board in the region immediately below A mounting structure, comprising: a first conductive hole that is electrically connected.
【請求項2】 フリップチップ実装するため上記実装面
に上記半導体装置を固定する封止樹脂、 上記封止樹脂が上記実装面に接している領域以外の上記
実装面に形成された表面配線、 及び上記回路基板に形成され、上記表面配線と上記背面
配線とを電気的に接続する第2の導電孔を含んでいる請
求項1記載の実装構造体。
2. A sealing resin for fixing the semiconductor device to the mounting surface for flip-chip mounting, a surface wiring formed on the mounting surface other than a region where the sealing resin is in contact with the mounting surface, and The mounting structure according to claim 1, further comprising a second conductive hole formed on the circuit board and electrically connecting the front surface wiring and the rear surface wiring.
【請求項3】 第1表面層、第2表面層、及び上記第1
表面層と上記第2表面層とを接合する接合層を有する多
層回路基板に半導体装置がフリップチップ実装された実
装構造体であって、 上記半導体装置が実装される表面層上の該半導体装置の
直下領域に形成され、該半導体装置の電極と電気的に接
続された基板端子、 上記第1表面層と上記接合層とが接する面である第1接
合面、及び上記第2表面層と上記接合層とが接する面で
ある第2接合面の少なくともどちらか一方に形成された
内部配線、 及び上記基板端子と上記内部配線とを電気的に接続す
る、該基板端子に対応する半導体装置の直下領域に形成
された第1の導電孔を含んでいることを特徴とする実装
構造体。
3. The first surface layer, the second surface layer, and the first surface layer.
A mounting structure in which a semiconductor device is flip-chip mounted on a multilayer circuit board having a bonding layer for bonding a surface layer and the second surface layer, wherein the semiconductor device is mounted on the surface layer on which the semiconductor device is mounted. A substrate terminal formed in a region directly below and electrically connected to an electrode of the semiconductor device; a first bonding surface which is a surface where the first surface layer and the bonding layer are in contact; and a bonding between the second surface layer and the second surface layer An internal wiring formed on at least one of the second bonding surfaces that is in contact with the layer, and a region directly below the semiconductor device corresponding to the substrate terminal, for electrically connecting the substrate terminal and the internal wiring. A first conductive hole formed in the mounting structure.
【請求項4】 半導体装置が回路基板の実装面にフリッ
プチップ実装された実装構造体であって、 上記半導体装置の直下領域を包含し、上記実装面の背面
に形成された金属箔を含んでいることを特徴とする実装
構造体。
4. A mounting structure in which a semiconductor device is flip-chip mounted on a mounting surface of a circuit board, including a region immediately below the semiconductor device and including a metal foil formed on a back surface of the mounting surface. Mounting structure characterized by the following.
【請求項5】 第1表面層、第2表面層、及び上記第1
表面層と上記第2表面層とを接合する接合層を有する多
層回路基板に半導体装置がフリップチップ実装された実
装構造体であって、 上記第1表面層にフリップチップ実装された上記第1半
導体装置、 上記第1半導体装置の直下領域内で上記第1の表面層上
に形成され、該半導体装置の電極と電気的に接続された
基板端子、 上記第1の表面層と上記接合層とが接する第1接合面に
形成された内部配線、 上記直下領域内に形成され、上記基板端子と上記内部配
線とを電気的に接続する上記第1の導電孔、 及び第2の表面層と上記接合層とが接する第2接合面に
形成され、上記半導体装置の直下領域を包含する金属箔
を含んでいることを特徴とする実装構造体。
5. A first surface layer, a second surface layer, and the first surface layer.
A mounting structure in which a semiconductor device is flip-chip mounted on a multilayer circuit board having a bonding layer for bonding a surface layer and the second surface layer, wherein the first semiconductor flip-chip mounted on the first surface layer A device, a substrate terminal formed on the first surface layer in a region directly below the first semiconductor device, and electrically connected to an electrode of the semiconductor device, wherein the first surface layer and the bonding layer are An internal wiring formed on a first bonding surface that is in contact with the first conductive hole formed in the region directly below and electrically connecting the substrate terminal and the internal wiring; and a bonding between the second conductive layer and a second surface layer. A mounting structure comprising a metal foil formed on a second bonding surface in contact with a layer and including a region immediately below the semiconductor device.
【請求項6】 上記半導体装置をフリップチップ実装す
るために対応する表面層に固定する封止樹脂、 上記封止樹脂が対応する上記表面層に接している領域以
外の該表面層に形成された表面配線、 及び該表面層に形成され、上記表面配線と上記内部配線
とを電気的に接続する第2の導電孔を含んでいる請求項
3又は5に記載の実装構造体。
6. A sealing resin for fixing the semiconductor device to a corresponding surface layer for flip-chip mounting, wherein the sealing resin is formed on the surface layer other than a region in contact with the corresponding surface layer. The mounting structure according to claim 3, further comprising: a surface wiring; and a second conductive hole formed in the surface layer and electrically connecting the surface wiring and the internal wiring.
【請求項7】 上記第1導電孔がインナービアホールで
ある請求項3〜6のいずれか1つに記載の実装構造体。
7. The mounting structure according to claim 3, wherein the first conductive hole is an inner via hole.
【請求項8】 上記第2導電孔がインナービアホールで
ある請求項6又は7に記載の実装構造体。
8. The mounting structure according to claim 6, wherein the second conductive hole is an inner via hole.
【請求項9】 上記金属箔が銅である請求項4〜8記載
のいずれか1つに記載の実装構造体。
9. The mounting structure according to claim 4, wherein the metal foil is copper.
【請求項10】 第1表面層、第2表面層、及び上記第
1表面層と上記第2表面層とを接合する接合層を有する
多層回路基板に半導体装置がフリップチップ実装された
実装構造体であって、 上記第1表面層にフリップチップ実装された第1の半導
体装置、 及び上記接合層を対称面として、上記第1の半導体装置
が実装された位置に対して面対称となる第2の表面層の
位置にフリップチップ実装された第2の半導体装置を含
むことを特徴とする実装構造体。
10. A mounting structure in which a semiconductor device is flip-chip mounted on a multilayer circuit board having a first surface layer, a second surface layer, and a bonding layer for bonding the first surface layer and the second surface layer. A first semiconductor device flip-chip mounted on the first surface layer, and a second surface which is plane-symmetric with respect to a position where the first semiconductor device is mounted, with the bonding layer being a plane of symmetry. A second semiconductor device which is flip-chip mounted at the position of the surface layer.
【請求項11】 上記第1表面層と上記接合層とが接す
る面である第1接合面、及び上記第2表面層と上記接合
層とが接する面である第2接合面の少なくともどちらか
一方に内部配線が形成されている請求項10記載の実装
構造体。
11. A bonding surface between the first surface layer and the bonding layer, and a second bonding surface between the second surface layer and the bonding layer. The mounting structure according to claim 10, wherein an internal wiring is formed in the mounting structure.
【請求項12】 上記第1の半導体装置と上記第2の半
導体装置とが、上記多層回路基板に形成されたインナー
ビアホールを介して電気的に接続されている請求項10
又は11に記載の実装構造体。
12. The semiconductor device according to claim 10, wherein the first semiconductor device and the second semiconductor device are electrically connected via an inner via hole formed in the multilayer circuit board.
Or the mounting structure according to 11.
【請求項13】 第1表面層、第2表面層、及び上記第
1表面層と上記第2表面層とを接合する接合層を有する
多層回路基板に半導体装置がフリップチップ実装された
実装構造体であって、 上記第1表面層にフリップチップ実装された第1の半導
体装置、 上記第1の半導体装置の第1の直下領域内で上記第1の
表面層上に形成され、上記第1の半導体装置の電極と電
気的に接続された第1の基板端子、 上記第1表面層と上記接合層が接合する第1接合面に形
成された第1内部配線、 上記第1の直下領域内に形成され、上記第1の基板端子
と上記第1内部配線とを電気的に接続する第1の導電
孔、 上記接合層を対称面として、上記第1の半導体装置が実
装された位置に対して面対称となる第2の表面層の位置
にフリップチップ実装された第2の半導体装置、 上記第2の半導体装置の第2の直下領域内に形成され、
上記第2の半導体装置の電極と電気的に接続された第2
の基板端子、 上記第2表面層と上記接合層が接合する第2接合面に形
成された第2内部配線、 及び上記第2の直下領域内に形成され、第2の基板端子
と上記第2の内部配線とを電気的に接続する第3の導電
孔を含んでいることを特徴とする実装構造体。
13. A mounting structure in which a semiconductor device is flip-chip mounted on a multilayer circuit board having a first surface layer, a second surface layer, and a bonding layer for bonding the first surface layer and the second surface layer. A first semiconductor device flip-chip mounted on the first surface layer; a first semiconductor device formed on the first surface layer in a first region directly below the first semiconductor device; A first substrate terminal electrically connected to an electrode of the semiconductor device; a first internal wiring formed on a first bonding surface where the first surface layer and the bonding layer are bonded; A first conductive hole formed to electrically connect the first substrate terminal and the first internal wiring; and a position where the first semiconductor device is mounted, with the bonding layer being a plane of symmetry. A second flip-chip mounted flip-chip mounted at the position of the second surface layer that is plane-symmetric Semiconductor device, is formed in the second immediately below the region of the second semiconductor device,
The second electrically connected electrode of the second semiconductor device
A second internal wiring formed on a second bonding surface where the second surface layer and the bonding layer are bonded to each other; a second internal terminal formed in the second immediately lower region; A third conductive hole for electrically connecting the internal wiring to the internal wiring.
【請求項14】 上記第1半導体装置及び上記第2半導
体装置の少なくともどちらか一方をフリップチップ実装
するために対応する表面層に固定する封止樹脂、 上記封止樹脂が対応する上記表面層に接している領域以
外の該表面層に形成された表面配線、 及び該表面層に形成され、上記表面配線と上記内部配線
とを電気的に接続する第2の導電孔を含んでいる請求項
13記載の実装構造体。
14. A sealing resin for fixing at least one of the first semiconductor device and the second semiconductor device to a corresponding surface layer for flip-chip mounting, wherein the sealing resin corresponds to the corresponding surface layer. 14. A surface wiring formed on the surface layer other than the contacting region, and a second conductive hole formed on the surface layer and electrically connecting the surface wiring and the internal wiring. The described mounting structure.
【請求項15】 上記第1導電孔が上記第1表面層に形
成されたインナービアホールであり、上記第3導電孔が
上記第2表面層に形成されたインナービアホールである
請求項13又は14記載の実装構造体。
15. The semiconductor device according to claim 13, wherein the first conductive hole is an inner via hole formed in the first surface layer, and the third conductive hole is an inner via hole formed in the second surface layer. Mounting structure.
【請求項16】 回路基板上で接続された幅の異なる配
線と、上記回路基板に実装された半導体装置とを有する
実装構造体であって、 上記幅の異なる配線が円弧形状の配線で接続されている
ことを特徴とする実装構造体。
16. A mounting structure comprising a wiring having different widths connected on a circuit board and a semiconductor device mounted on the circuit board, wherein the wirings having different widths are connected by arc-shaped wiring. A mounting structure, characterized in that:
【請求項17】 第1の表面層にフリップチップ実装さ
れた第1の半導体装置の位置と第2の表面層にフリップ
チップ実装された第2の半導体装置の位置とが、上記第
1の表面層と上記第2の表面層とを接合する接合層に対
して面対称である実装構造体の製造方法であって、 上記第1の半導体装置と上記第2の半導体装置の少なく
ともどちらか一方を、対応する表面層に異方導電性フィ
ルムを用いてフリップチップ実装し、 上記異方導電性フィルムを硬化させ、上記半導体装置を
対応する上記表面層に固定することを特徴とする実装構
造体の製造方法。
17. The position of the first semiconductor device flip-chip mounted on the first surface layer and the position of the second semiconductor device flip-chip mounted on the second surface layer correspond to the first surface. A method of manufacturing a mounting structure which is plane-symmetric with respect to a bonding layer for bonding a layer and the second surface layer, wherein at least one of the first semiconductor device and the second semiconductor device is formed. A flip-chip mounting using an anisotropic conductive film on a corresponding surface layer, curing the anisotropic conductive film, and fixing the semiconductor device to the corresponding surface layer. Production method.
【請求項18】 第1の表面層にフリップチップ実装さ
れた第1の半導体装置の位置と第2の表面層にフリップ
チップ実装された第2の半導体装置の位置とが、上記第
1の表面層と上記第2の表面層とを接合する接合層に対
して面対称である実装構造体の製造方法であって、 上記第1の表面層と上記第2の表面層の少なくともどち
らか一方の所定の位置に封止樹脂を注入し、 上記所定の位置に対応する半導体装置をフリップチップ
実装し、 上記封止樹脂を硬化させ、上記半導体装置を上記表面層
に固定することを特徴とする実装構造体の製造方法。
18. The position of the first semiconductor device flip-chip mounted on the first surface layer and the position of the second semiconductor device flip-chip mounted on the second surface layer correspond to the first surface. A method of manufacturing a mounting structure which is plane-symmetric with respect to a bonding layer for bonding a layer and the second surface layer, wherein at least one of the first surface layer and the second surface layer is provided. Injecting a sealing resin into a predetermined position, flip-chip mounting a semiconductor device corresponding to the predetermined position, curing the sealing resin, and fixing the semiconductor device to the surface layer. The method of manufacturing the structure.
【請求項19】 第1の表面層にフリップチップ実装さ
れた第1の半導体装置の位置と第2の表面層にフリップ
チップ実装された第2の半導体装置の位置とが、上記第
1の表面層と上記第2の表面層とを接合する接合層に対
して面対称である実装構造体の製造方法であって、 上記第1の表面層と上記第2の表面層の少なくともどち
らか一方の所定の位置で封止樹脂をシート状に形成し、 上記所定の位置に対応する半導体装置をフリップチップ
実装し、 上記封止樹脂を硬化し、上記半導体装置を上記表面層に
固定させることを特徴とする実装構造体の製造方法。
19. The position of the first semiconductor device flip-chip mounted on the first surface layer and the position of the second semiconductor device flip-chip mounted on the second surface layer are the first surface. A method of manufacturing a mounting structure which is plane-symmetric with respect to a bonding layer for bonding a layer and the second surface layer, wherein at least one of the first surface layer and the second surface layer is provided. Forming a sealing resin at a predetermined position in a sheet shape, flip-chip mounting a semiconductor device corresponding to the predetermined position, curing the sealing resin, and fixing the semiconductor device to the surface layer. Manufacturing method of the mounting structure.
JP24087997A 1997-09-05 1997-09-05 Mounting structure and manufacturing method thereof Expired - Fee Related JP3176325B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP24087997A JP3176325B2 (en) 1997-09-05 1997-09-05 Mounting structure and manufacturing method thereof

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP24087997A JP3176325B2 (en) 1997-09-05 1997-09-05 Mounting structure and manufacturing method thereof

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH1187402A true JPH1187402A (en) 1999-03-30
JP3176325B2 JP3176325B2 (en) 2001-06-18

Family

ID=17066066

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP24087997A Expired - Fee Related JP3176325B2 (en) 1997-09-05 1997-09-05 Mounting structure and manufacturing method thereof

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3176325B2 (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7022913B2 (en) 2004-01-09 2006-04-04 Seiko Epson Corporation Electronic component, method of manufacturing the electronic component, and electronic apparatus
JP2007504663A (en) * 2003-09-03 2007-03-01 ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ Thermally conductive materials using conductive nanoparticles

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007504663A (en) * 2003-09-03 2007-03-01 ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ Thermally conductive materials using conductive nanoparticles
US7022913B2 (en) 2004-01-09 2006-04-04 Seiko Epson Corporation Electronic component, method of manufacturing the electronic component, and electronic apparatus

Also Published As

Publication number Publication date
JP3176325B2 (en) 2001-06-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3704864B2 (en) Semiconductor element mounting structure
US6262489B1 (en) Flip chip with backside electrical contact and assembly and method therefor
JP2755252B2 (en) Semiconductor device package and semiconductor device
JP2002198395A (en) Semiconductor device, its manufacturing method, circuit board, and electronic appliance
JP3509507B2 (en) Mounting structure and mounting method of electronic component with bump
JP2001185640A (en) Surface mounting package, electronic device and method for manufacturing electronic device
US6528889B1 (en) Electronic circuit device having adhesion-reinforcing pattern on a circuit board for flip-chip mounting an IC chip
JP2000277649A (en) Semiconductor and manufacture of the same
JPH1116949A (en) Acf-bonding structure
JP3176325B2 (en) Mounting structure and manufacturing method thereof
JP4085572B2 (en) Semiconductor device and manufacturing method thereof
JP4035949B2 (en) Wiring board, semiconductor device using the same, and manufacturing method thereof
JP2004087936A (en) Semiconductor device, manufacturing method thereof, and electronic appliance
JP3547270B2 (en) Mounting structure and method of manufacturing the same
KR100516815B1 (en) Semiconductor device
JPH0951018A (en) Semiconductor device and its manufacturing method
JPH0831871A (en) Interface sealing film used for surface mount electronic device and surface mount structure
JP2965496B2 (en) Semiconductor unit and semiconductor element mounting method
JP2822987B2 (en) Electronic circuit package assembly and method of manufacturing the same
JP2721790B2 (en) Semiconductor device sealing method
JP2637684B2 (en) Semiconductor device sealing method
JP2000252414A (en) Semiconductor device
JP2859036B2 (en) Hybrid integrated circuit device
JP3099767B2 (en) Electronic component assembly and method of manufacturing the same
JP2000200848A (en) Electronic component mounting circuit board and semiconductor device

Legal Events

Date Code Title Description
FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080406

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090406

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100406

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110406

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120406

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120406

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130406

Year of fee payment: 12

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees