JPH1184332A - 液晶表示装置の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 画像のコントラストむら特性の向上が可能
な、多面取りによるアクティブマトリクス基板および対
向基板を用いて形成される液晶表示装置の製造方法を提
供する。 【解決手段】 複数のアクティブマトリクス基板を形成
する石英基板１１上に、ポリシリコンＴＦＴ、付加容
量、画素電極等で構成する表示部と、信号サンプルホー
ルド回路部と、垂直走査回路部等により構成される駆動
素子部１０を形成し、その後オフセット印刷法により、
駆動素子部１０上のみに、第１の配向膜５０を形成する
ための配向膜形成溶液を塗布し、続いて第１の配向膜５
０上のみに、第２の配向膜５１を形成するための配向膜
形成溶液を、短時間の塗布間隔を置いて塗布すること
で、第１の配向膜５０と第２の配向膜５１とで構成され
る配向膜５２表面を平坦化する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は液晶表示装置の製造
方法に関し、さらに詳しくは、多面取り法でアクティブ
マトリクス基板および対向基板を形成する際の、配向膜
の形成方法に特徴を有する液晶表示装置の製造方法に関
する。

【０００２】

【従来の技術】近年、液晶表示装置は、カメラ一体型Ｖ
ＴＲ用のビューファインダやプロジェクタ用の小型表示
装置から、ＴＶモニタ用やパソコンの表示用等の大型表
示装置まで各種の表示装置として盛んに用いられてい
る。この液晶表示装置で、特にアクティブマトリクス基
板を用いるアクティブマトリクス型液晶表示装置はカラ
ー画面化、高画素数化、高画質化の実現を目指す研究開
発が進められており、実用化もなされている。

【０００３】上述したアクティブマトリクス型液晶表示
装置の高画質化を実現するために、画素数や画素間等の
液晶の電界配向性等に関係する解像度の向上や、スイッ
チイング用素子としてのＴＦＴ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ
Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）特性の分布や液晶の配向性分布
等に関係した画像のコントラストむら（カラー表示にお
いては色むら）の低減や、スイッチイングＴＦＴ特性不
良や液晶の配向性不良に関係する画像欠陥の低減等への
検討がなされている。

【０００４】ここで、カメラ一体型ＶＴＲ用のビューフ
ァインダ等に使用される液晶表示装置で、従来の多面取
り法により形成されるアクティブマトリクス基板および
対向基板を用いたアクティブマトリクス型液晶表示装置
の製造方法の例を、図８〜図１４を参照して説明する。
まず、液晶表示装置のアクティブマトリクス基板の形成
法を説明する。図８（ａ）に示すように、アクティブマ
トリクス基板を多面取りするための、透明な石英基板１
１上に、マトリクスアレイ状に配列した、スイッチイン
グ素子用ＴＦＴ、例えばポリシリコンＴＦＴ、付加容
量、液晶に対向する透明電極、例えばＩＴＯ（Ｉｎｄｉ
ｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）膜の透明電極による画素電
極等で構成された複数の画素部がマトリクス状に配列し
ている表示部、表示部の各水平ラインごとの信号を与え
るための、ポリシリコンＴＦＴ回路で構成された信号サ
ンプルホールド回路部、および各水平ラインを切り換え
る、ポリシリコンＴＦＴ回路構成の垂直走査回路部とを
有して構成された、液晶表示装置のアクティブマトリク
ス基板の駆動素子部１０を複数形成する。

【０００５】上記の駆動素子部１０が形成された状態の
石英基板１１の概略平面構造を示したのが図９で、図９
（ａ）は石英基板１１全体の概略平面図であり、図９
（ｂ）は駆動素子部１０を拡大した概略平面図である。
即ち、図９（ｂ）に示す、表示部１０ａ、信号サンプル
ホールド回路部１０ｂおよび垂直走査回路部１０ｃとで
構成される駆動素子部１０が、図９（ａ）に示すよう
に、石英基板１１上に複数配列された状態となってい
る。

【０００６】次に、図８（ｂ）に示すように、石英基板
１１上の駆動素子部１０のみに、配向膜形成溶液を塗布
して配向膜１２を形成し、その後配向膜１２中に含まれ
ている溶媒を除去するための加熱焼成を行う。次に、こ
の配向膜１２表面を布等で一方向に摩擦する（ラビング
処理）工程を行う。この配向膜１２の形成と、この配向
膜１２のラビング処理工程とは、液晶分子にプレチルト
角（液晶分子の分子軸と配向膜表面のなす角）を予め与
え、液晶への電圧印加時に、液晶を一軸方向に配向させ
ることができる。

【０００７】上記の配向膜形成溶液の塗布方法は、図１
０に示す配向膜塗布装置３０によるオフセット印刷法を
用い、下記のようにして塗布する。ここで図１０は、配
向膜塗布装置３０の概略斜視図である。まず、図１０に
示す配向膜塗布装置３０の配向膜溶液の入った容器３１
より、グラビアローラ３２とドクターローラ３３が密着
して回転している密着部付近に配向膜溶液を滴下する。
この滴下された配向膜溶液は密着して回転しているグラ
ビアローラ３２とドクターローラ３３とにより均一にな
るように引き伸ばされ、グラビアローラ３２表面上に均
一な配向膜が形成される。次に、グラビアローラ３２を
版胴３４の方向に移動させ、版胴３４上の、上述した石
英基板１１の駆動素子部１０に対応させて凸部３６が設
けられた印刷版３５の、凸部３６表面に配向膜を転写さ
せる。次に、上述の駆動素子部１０が形成された石英基
板１１を載置した移動台３７を版胴３４の方向に移動さ
せて、版胴３４の印刷版３５の凸部３６表面の配向膜を
石英基板１１上の駆動素子部１０上に転写することで、
駆動素子部１０上にのみ、配向膜形成溶液が塗布された
状態で配向膜１２が形成される。

【０００８】ラビング処理工程終了後に、駆動素子部１
０が形成された石英基板１１をカッテングすることで、
駆動素子部１０を含む部分を各々分離させ、複数個のア
クティブマトリクス基板を形成する。図１２は、この石
英基板１１のカッテングで形成されたアクティブマトリ
クス基板１の概略断面図である。

【０００９】一方、液晶表示装置の対向基板の形成法は
下記のようにする。図１１（ａ）に示すように、対向基
板を多面取りするための、透明なガラス基板２１上に、
上述した駆動素子部１０の表示部１０ａに対応する部分
の顔料等によるカラーフィルタと、上述した駆動素子部
１０に対応する部分のアクリル系樹脂による平坦化膜
と、液晶に対向する透明電極、例えばＩＴＯ電極とで構
成された、駆動素子部１０の対応する、対向基板の対向
電極部２０を形成する。

【００１０】次に、図１１（ｂ）に示すように、ガラス
基板２１上の対向電極部２０のみに、上述した石英基板
１１の駆動素子部１０への配向膜１２の形成と同様にし
て、配向膜２２を形成し、その後配向膜２２中に含まれ
ている溶媒を除去するための加熱焼成を行う。次に、こ
の配向膜２２表面を布等で一方向に摩擦する（ラビング
処理）工程を行う。

【００１１】ラビング処理工程終了後に、対向電極部２
０が形成されたガラス基板２１をカッテングすること
で、対向電極部２０を含む部分を各々分離させ、複数個
の対向基板を形成する。図１３は、このガラス基板２１
をカッテングして形成した対向基板２の概略断面図であ
る。

【００１２】次に、図１４に示すように、アクティブマ
トリクス基板１と対向基板２とを所定間隔をおいて対向
させ、アクティブマトリクス基板１や対向基板２の外周
部に塗布されたシール材３によりシールし、アクティブ
マトリクス基板１と対向基板２間に液晶４を封入し、そ
の後アクティブマトリクス基板１と対向基板２とに、図
１４に示すように偏光板５、６を貼り合わせて、液晶表
示装置１００を作製する。

【００１３】しかしながら、上述した石英基板１１に複
数のアクティブマトリクス基板１を形成し、ガラス基板
２１に複数の対向基板２を形成し、これらのアクティブ
マトリクス基板１と対向基板２とを用いて形成する液晶
表示装置の製造方法においては、この製法で作製された
液晶表示装置１００の画像特性、特に液晶の配向性の不
均一に起因した、画像のコントラストむら特性は、必ず
しも良好な状態とならないという問題があり、この画像
のコントラストむら特性の不良は、液晶表示装置１００
の製造歩留を低下させるという問題を発生させる。

【００１４】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上述した液
晶表示装置の製造方法における問題点を解決することを
その目的とする。即ち本発明の課題は、画像のコントラ
ストむら特性の向上が可能な、多面取り法によるアクテ
ィブマトリクス基板および対向基板を用いて形成される
液晶表示装置の製造方法を提供することを目的とする。

【００１５】

【課題を解決するための手段】本発明の液晶表示装置の
製造方法は、上述の課題を解決するために提案するもの
であり、第１の被処理基板に複数のアクティブマトリク
ス基板を形成し、第２の被処理基板に複数の対向基板を
形成し、アクティブマトリクス基板と対向基板を有して
形成される液晶表示装置の製造方法において、第１の被
処理基板上に、複数のアクティブマトリクス基板の駆動
素子部を形成する工程と、第１の被処理基板上の複数の
駆動素子部上に、複数回に分けて配向膜形成溶液を塗布
し、配向膜を形成する工程とを有すると共に、第２の被
処理基板に、アクティブマトリクス基板の駆動素子部に
対応する、複数の対向基板の対向電極部を形成する工程
と、第２の被処理基板上の複数の対向電極部上に、複数
回に分けて配向膜形成溶液を塗布し、配向膜を形成する
工程とを有し、第１の被処理基板および第２の被処理基
板を各々分割し、アクティブマトリクス基板および対向
基板を形成する工程と、アクティブマトリクス基板と対
向基板とを対向させ、アクティブマトリクス基板と対向
基板間に液晶を封入する工程とを有することを特徴とす
るものである。

【００１６】本発明によれば、多面取り法によるアクテ
ィブマトリクス基板の配向膜を、短時間の塗布間隔をお
いた、配向膜形成溶液の複数回の塗布により形成し、又
多面取りによる対向基板の配向膜も、短時間の塗布間隔
をおいた、配向膜形成溶液の複数回の塗布により形成す
ることで、各々の配向膜表面を平坦化できるため、これ
ら配向膜のラビング後における、配向膜上の液晶分子は
プレチルト角の面内分布が殆どなく、均一な配向性を示
す。従って、この様にして作製したアクティブマトリク
ス基板と対向基板とを用いて形成される液晶表示装置の
画像は、コントラストむらの殆どない良好な画像が得ら
れ、液晶表示装置の製造歩留が向上する。

【００１７】

【発明の実施の形態】以下、本発明の具体的実施の形態
例につき、添付図面を参照して説明する。なお従来技術
の説明で参照した図８〜図１４中の構成部分と同様の構
成部分には、同一の参照符号を付すものとする。

【００１８】本実施の形態例は、多面取り法により形成
されるアクティブマトリクス基板および対向基板を用い
たアクティブマトリクス型液晶表示装置に本発明を適用
した例であり、これを従来の説明で使用した図９および
図１０と、図１〜図７を参照して説明する。まず、液晶
表示装置のアクティブマトリクス基板の形成法を説明す
る。図１に示すように、アクティブマトリクス基板を多
面取りするための第１の被処理基板、例えば透明な石英
基板１１上に、マトリクスアレイ状に配列した、スイッ
チイング用ＴＦＴ、例えばポリシリコンＴＦＴ、付加容
量、液晶に対向する透明電極、例えばＩＴＯ（Ｉｎｄｉ
ｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）膜の透明電極による画素電
極等で構成された複数の画素部が配列している表示部、
表示部の各水平ラインごとの信号を与えるための、ポリ
シリコンＴＦＴ回路で構成された信号サンプルホールド
回路部、および各水平ラインを切り換える、ポリシリコ
ンＴＦＴ回路構成の垂直走査回路部とを有して構成され
た、液晶表示装置のアクティブマトリクス基板の駆動素
子部１０を複数形成する。なお、上記の駆動素子部１０
が形成された状態の石英基板１１の概略平面構造は、従
来の説明で使用した図９の様な構成である。

【００１９】次に、図１（ｂ）に示すように、石英基板
１１上の駆動素子部１０上のみに、第１の配向膜５０
を、従来の説明で使用した図１０の配向膜塗布装置３０
によるオフセット印刷法により形成する。上記の配向膜
塗布装置３０によるオフセット印刷法での第１の配向膜
５０の形成は、まず、図１０に示す配向膜塗布装置３０
を用い、配向膜形成溶液、例えばガンマーブチルラクト
ンで希釈されたポリイミド系樹脂で、粘度ηが５ｃＰ≦
η≦３０ｃＰの配向膜形成溶液の入った容器３１より、
グラビアローラ３２とドクターローラ３３が密着して回
転している密着部付近に配向膜溶液を滴下する。この滴
下された配向膜形成溶液は密着して回転しているグラビ
アローラ３２とドクターローラ３３とにより均一になる
ように引き伸ばされ、グラビアローラ３２表面上に均一
な配向膜（配向膜形成溶液）が形成される。

【００２０】次に、グラビアローラ３２を版胴３４の方
向に移動させ、版胴３４上の、上述した石英基板１１の
駆動素子部１０に対応させて凸部３６が設けられた印刷
版３５の、凸部３６表面に配向膜を転写させる。次に、
上述の駆動素子部１０が形成された石英基板１１を載置
した移動台３７を版胴３４の方向に移動させて、版胴３
４の印刷版３５の凸部３６表面の配向膜を石英基板１１
上の駆動素子部１０上に転写することで、駆動素子部１
０上に第１の配向膜５０を形成する。

【００２１】この第１の配向膜５０が形成された状態に
おける、図１（ｂ）のＰ部の拡大図が図２である。図２
に示すように、第１の配向膜５０表面は、駆動素子部の
表面形状の影響や、配向膜が塗布されている版胴３４の
印刷版３５の凸部３６表面と石英基板１１上の駆動素子
部１０表面との接触圧力の変化等による転写の不均一性
の影響等を受けて、凹凸のある表面となってしまうこと
が多い。

【００２２】次に、図１（ｃ）に示すように、石英基板
１１上の駆動素子部１０の第１の配向膜５０上のみに、
第２の配向膜５１を、従来の説明で使用した図１０の配
向膜塗布装置３０によるオフセット印刷法で形成する。
この第２の配向膜５１の形成は、移動台３７に載置され
た石英基板１１上の駆動素子部１０上への第１の配向膜
５０形成後、直ちに、移動台３７を元の位置に移動し
て、その後上述した配向膜塗布装置３０による第１の配
向膜５０形成と同様の工程を経ることで行われる。第１
の配向膜５０形成のための、１回目の配向膜形成溶液の
塗布と、次に第２の配向膜５１形成のための、２回目の
配向膜形成溶液の塗布との塗布間隔Ｔは、３ｓｅｃ≦Ｔ
≦３０ｓｅｃとする。

【００２３】この第２の配向膜５１が形成された状態に
おける、図１（ｃ）のＱ部の拡大図が図３である。図３
に示すように、第１の配向膜５０と第２の配向膜５１と
で構成される配向膜５２表面は平坦化された状態とな
る。この配向膜５２表面が平坦化される理由は明らかで
はないが、上述した粘度による配向膜形成溶液を用い
て、第１の配向膜５０の塗布後に、短時間の塗布間隔を
おいて、第２の配向膜を塗布する時点で、第２の配向膜
となる、版胴３４の印刷版３５の凸部３６表面に塗布さ
れている配向膜が第１の配向膜５０表面に接すると、第
１の配向膜５０表面が部分的に溶融状態となり、この状
態で第１の配向膜５０上に第２の配向膜５１が形成され
ることと関係するものと推察される。

【００２４】次に、配向膜５２中の溶媒を除去するため
の加熱焼成、例えば約１６０℃、９０ｍｉｎの加熱焼成
を行う。なお、この加熱焼成後の配向膜５２表面は平坦
であり、膜厚としては、約５０ｎｍ程度である。その
後、この配向膜５２表面を布等で一方向に摩擦する（ラ
ビング処理）工程を行う。

【００２５】次に、駆動素子部１０が形成された石英基
板１１をカッテングすることで、駆動素子部１０を含む
部分を各々分離させ、複数個のアクティブマトリクス基
板を形成する。石英基板１１のカッテングで形成された
アクティブマトリクス基板１の構造を示したのが図５で
ある。

【００２６】一方、液晶表示装置の対向基板の形成法は
下記のようにする。図４（ａ）に示すように、対向基板
を多面取りするための第２の被処理基板、例えば透明な
ガラス基板２１上に、例えば駆動素子部１０の表示部に
対応する部分の顔料等によるカラーフィルタと、駆動素
子部１０に対応する部分のアクリル系樹脂による平坦化
膜と、透明電極、例えばＩＴＯ電極とで構成された駆動
素子部１０の対応する、対向基板の対向電極部２０を形
成する。

【００２７】次に、図４（ｂ）に示すように、ガラス基
板２１上の対向電極部２０上のみに、第１の配向膜６０
を、従来の説明で使用した図１０の配向膜塗布装置３０
によるオフセット印刷法で、形成する。この第１の配向
膜６０の形成方法は、上述した石英基板１１上の駆動素
子部１０上への第１の配向膜５０の形成方法と同様なの
で、説明を省略する。

【００２８】次に、図４（ｃ）に示すように、第１の配
向膜６０形成後、直ちに、対向電極部２０上の第１の配
向膜６０上のみに、第２の配向膜６１を、従来の説明で
使用した図１０の配向膜塗布装置３０によるオフセット
印刷法で、形成する。この第２の配向膜６１の形成方法
は、第１の配向膜６０の形成方法と同様である。なお、
この第１の配向膜６０形成のための、１回目の配向膜形
成溶液の塗布と、次に第２の配向膜６１形成のための、
２回目の配向膜形成溶液の塗布との塗布間隔Ｔは、３ｓ
ｅｃ≦Ｔ≦３０ｓｅｃとする。上述した第１の配向膜６
０と第２の配向膜６１とで構成される配向膜６２表面
は、上述した駆動素子部１０上の配向膜５２表面と同様
に、平坦化された表面となっている。

【００２９】次に、配向膜６２中の溶媒を除去するため
の加熱焼成、例えば約１６０℃、９０ｍｉｎの加熱焼成
を行う。なお、この加熱焼成後の配向膜６２表面は平坦
であり、膜厚としては、約５０ｎｍである。その後、こ
の配向膜６２表面を布等で一方向に摩擦する（ラビング
処理）工程を行う。

【００３０】次に、対向電極部２０が形成されたガラス
基板２１をカッテングすることで、対向電極部２０を含
む部分を各々分離させ、複数個の対向基板を形成する。
このガラス基板２１のカッテングで形成された対向基板
２の構造を示したのが図６である。

【００３１】次に、図７に示すように、アクティブマト
リクス基板１と対向基板２とを所定間隔で対向させ、ア
クティブマトリクス基板１や対向基板２の外周部に塗布
されたシール材３によりシールし、アクティブマトリク
ス基板１と対向基板２間に液晶４を封入し、その後アク
ティブマトリクス基板１と対向基板２とに、図７に示す
ように偏光板５、６を貼り合わせて、液晶表示装置１０
０を作製する。

【００３２】上述した液晶表示装置の製造方法によれ
ば、石英基板１１より複数のアクティブマトリクス基板
１を形成する際の、アクティブマトリクス基板１の配向
膜５２を、短時間の塗布間隔をおいた、上述した粘度の
配向膜形成溶液の複数回の塗布により形成することで、
配向膜５２表面を平坦化でき、又ガラス基板２１より複
数の対向基板２を形成する際の、対向基板２の配向膜
も、短時間の塗布間隔をおいた、上述した粘度の配向膜
形成溶液の複数回の塗布により形成することで、配向膜
６２表面を平坦化できるため、これら配向膜５２、６２
のラビング後における、配向膜５２、６２上の配向膜上
の液晶分子はプレチルト角の面内分布が殆どなく、均一
な配向性を示す。従って、この様にして作製したアクテ
ィブマトリクス基板１と対向基板２とを用いて形成され
る液晶表示装置の画像は、コントラストむらの殆どない
良好な画像が得られ、液晶表示装置の製造歩留が向上す
る。

【００３３】以上、本発明を実施の形態例により説明し
たが、本発明はこの実施の形態例に何ら限定されるもの
ではない。例えば、本発明の実施の形態例では、アクテ
ィブマトリクス基板の配向膜および対向基板の配向膜を
２回の連続する配向膜形成溶液の塗布工程で形成すると
して説明したが、配向膜の膜厚をあまり厚くしない範囲
で、３回以上の連続する塗布工程で配向膜を形成しても
よい。また、本発明の実施の形態例では、対向基板の対
向電極部がカラーフィルタ、平坦化膜およびＩＴＯ膜に
よる対向電極により構成されるとして説明したが、ＩＴ
Ｏ膜による対向電極のみの対向電極部であってもよい。
更に、本発明の実施の形態例では、アクティブマトリク
ス基板を形成する被処理基板を石英基板として説明した
が、駆動素子部のＴＦＴスイッチング素子等をａ−Ｓｉ
ＴＦＴやエキシマレーザ照射等を用いて形成する低温ポ
リシリコンＴＦＴで形成する場合は、ガラス基板として
のよい。その他、本発明の技術的思想の範囲内で、プロ
セス条件は適宜変更が可能である。

【００３４】

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
の多面取り法によるアクティブマトリクス基板および対
向基板を用いて形成される液晶表示装置の製造方法は、
アクティブマトリクス基板の配向膜および対向基板の配
向膜を、短時間の塗布間隔をおいた、配向膜形成溶液の
複数回の塗布により形成することで、各々の配向膜表面
を平坦化できるため、これら配向膜のラビング後におけ
る、配向膜上の液晶分子はプレチルト角の面内分布が殆
どなく、均一な配向性を示す。従って、この様にして作
製したアクティブマトリクス基板と対向基板とを用いて
形成される液晶表示装置の画像は、コントラストむらの
殆どない良好な画像が得られ、液晶表示装置の製造歩留
が向上する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明を適用した実施の形態例のアクティブマ
トリクス基板の形成工程を工程順に説明する、複数のア
クティブマトリクス基板を含む石英基板の概略断面図
で、（ａ）はアクティブマトリクス基板の駆動素子部を
形成した状態、（ｂ）は駆動素子部上に第１の配向膜を
塗布した状態、（ｃ）は第１の配向膜上に第２の配向膜
を塗布した状態である。

【図２】図１（ｂ）のＰ部の拡大図である。

【図３】図１（ｃ）のＱ部の拡大図である。

【図４】本発明を適用した実施の形態例の対向基板の形
成工程を工程順に説明する、複数の対向基板を含むガラ
ス基板の概略断面図で、（ａ）は対向基板の対向電極部
を形成した状態、（ｂ）は対向電極部上に第１の配向膜
を塗布した状態、（ｃ）は第１の配向膜上に第２の配向
膜を塗布した状態である。

【図５】実施の形態例のアクティブマトリクス基板の概
略断面図である。

【図６】実施の形態例の対向基板の概略断面図である。

【図７】実施の形態例の液晶表示装置の概略断面図であ
る。

【図８】従来例の液晶表示装置のアクティブマトリクス
基板の形成工程を工程順に説明する、複数のアクティブ
マトリクス基板を含む石英基板の概略断面図で、（ａ）
はアクティブマトリクス基板の駆動素子部を形成した状
態、（ｂ）は駆動素子部上に配向膜を塗布した状態であ
る。

【図９】従来例の複数のアクティブマトリクス基板を含
む石英基板の、図８（ａ）に示す状態の平面構造図で、
（ａ）は全体の概略平面図、（ｂ）は図９（ａ）の駆動
素子部を拡大して示した概略平面図である。

【図１０】配向膜塗布装置の概略斜視図である。

【図１１】従来例の液晶表示装置の対向基板の形成工程
を工程順に説明する、複数の対向基板を含むガラス基板
の概略断面図で、（ａ）は対向基板の対向電極部を形成
した状態、（ｂ）は対向電極部上に配向膜を塗布した状
態である。

【図１２】従来例のアクティブマトリクス基板の概略断
面図である。

【図１３】従来例の対向基板の概略断面図である。

【図１４】従来例の液晶表示装置の概略断面図である。

【符号の説明】

１…アクティブマトリクス基板、２…対向基板、３…シ
ール材、４…液晶、５，６…偏光板、１０…駆動素子
部、１１…石英基板、１０ａ…表示部、１０ｂ…信号サ
ンプルホールド回路部、１０ｃ…垂直走査回路部、１
２，２２，５２，６２…配向膜、２０…対向電極部、２
１…ガラス基板、３０…配向膜塗布装置、３１…容器、
３２…グラビアローラ、３３…ドクターローラ、３４…
版胴、３５…印刷版、３６…凸部、３７…移動台、５
０，６０…第１の配向膜、５１，６１…第２の配向膜、
１００…液晶表示装置

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 第１の被処理基板に複数のアクティブマ
   トリクス基板を形成し、第２の被処理基板に複数の対向
   基板を形成し、前記アクティブマトリクス基板と前記対
   向基板を有して形成される液晶表示装置の製造方法にお
   いて、 前記第１の被処理基板上に、複数の前記アクティブマト
   リクス基板の駆動素子部を形成する工程と、 前記第１の被処理基板上の複数の前記駆動素子部上に、
   複数回に分けて配向膜形成溶液を塗布し、配向膜を形成
   する工程とを有すると共に、 前記第２の被処理基板に、前記アクティブマトリクス基
   板の前記駆動素子部に対応する、複数の前記対向基板の
   対向電極部を形成する工程と、 前記第２の被処理基板上の複数の前記対向電極部上に、
   複数回に分けて配向膜形成溶液を塗布し、配向膜を形成
   する工程とを有し、 前記第１の被処理基板および前記第２の被処理基板を各
   々分割し、前記アクティブマトリクス基板および前記対
   向基板を形成する工程と、 前記アクティブマトリクス基板と前記対向基板とを対向
   させ、前記アクティブマトリクス基板と前記対向基板間
   に液晶を封入する工程とを有することを特徴とする液晶
   表示装置の製造方法。
2. 【請求項２】 前記配向膜形成溶液の塗布法は、オフセ
   ット印刷法を用いることを特徴とする、請求項１に記載
   の液晶表示装置の製造方法。
3. 【請求項３】 前記配向膜形成溶液の粘度ηは、５ｃＰ
   ≦η≦３０ｃＰであることを特徴とする、請求項１に記
   載の液晶表示装置の製造方法。
4. 【請求項４】 複数回に分けた前記配向膜形成溶液の塗
   布間隔Ｔを、３ｓｅｃ≦Ｔ≦３０ｓｅｃとしたことを特
   徴とする、請求項１に記載の液晶表示装置の製造方法。
5. 【請求項５】 前記駆動素子部上への配向膜形成溶液の
   塗布回数および前記対向電極部上への配向膜形成溶液の
   塗布回数は、それぞれ２回であることを特徴とする、請
   求項１に記載の液晶表示装置の製造方法。