JP3841951B2 - 液晶表示装置およびその製造方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、層間絶縁膜を備えた液晶表示装置及びその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
近年、液晶表示装置は小型、薄型、低消費電力、軽量といった特徴を持ち各種電子機器に広く用いられるようになっている。特にスイッチング素子を能動素子として有するアクティブマトリクス型液晶表示装置はCRTと同等の表示特性が得られるためパソコン等のOA機種、携帯テレビ等のAV機種に広く応用されている。
【0003】
このようなアクティブマトリクス型液晶表示装置の具体例を図2を用いて説明する。
TFT基板は、ガラス基板等からなる透明絶縁性基板2上に、ソースバスライン3、ドレイン電極4、図示しないゲートバスライン及びTFTを形成した後、層間絶縁膜5を形成し、層間絶縁膜5にコンタクトホールを形成した後、層間絶縁膜5上に画素電極6を形成することによりドレイン電極4と画素電極6が電気的に接続される。さらにその表面を覆うように配向膜7を形成した後、配向膜7をラビング処理する。
【0004】
対向基板となる透明絶縁性基板11上に透明電極10を形成し、透明電極上に配向膜9を形成した後、配向膜9をラビング処理する。
液晶8を上記TFT基板と対向基板の間に封入する。
その後、偏光板1および偏光板12を設けることにより液晶表示装置が完成する。カラー表示する場合には対向基板11側にカラーフィルタを設ける。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
図2に示す液晶表示装置では、液晶表示装置に注入された液晶を配向させるためには、ラビング処理された配向膜7および配向膜9を液晶に接するように設ける必要があった。
【0006】
従って、TFT基板の製造の最後に配向膜を設ける工程が必要なため、配向膜の形成によって不良品が発生したり、配向膜を形成するための工程が必要なため液晶表示装置の製造に時間がかかってしまう。
【0007】
【課題を解決するための手段】
請求項1に記載の発明は、透明絶縁性基板上に互いに交差するように形成されたゲートライン及びソースラインと、該ゲートライン及びソースラインに接続された薄膜トランジスタと、該薄膜トランジスタのドレイン電極上に形成された層間絶縁膜と、該層間絶縁膜上に形成され該層間絶縁膜のコンタクトホールによって前記ドレイン電極と電気的に接続される画素電極とを有する液晶表示装置において、樹脂材料からなる前記層間絶縁膜がラビング処理されていることを特徴とする。
【0008】
請求項2に記載の発明は、透明絶縁性基板上に互いに交差するように形成されたゲートライン及びソースラインと、該ゲートライン及びソースラインに接続された薄膜トランジスタと、該薄膜トランジスタのドレイン電極上に形成された層間絶縁膜と、該層間絶縁膜上に形成され該層間絶縁膜のコンタクトホールによって前記ドレイン電極と電気的に接続される画素電極とを有する液晶表示装置の製造方法において、樹脂材料からなる前記層間絶縁膜を形成した後に前記層間絶縁膜をラビング処理する工程と、前記層間絶縁膜のコンタクホール上に画素電極を形成しドレイン電極と画素電極を電気的に接続する工程を有する。
【0009】
以下に本発明による作用について説明する。
樹脂材料からなる層間絶縁膜をラビング材によりラビング処理を行うことにより、層間絶縁膜上に画素電極が形成されても液晶の配向制御が可能となる。
【0010】
【発明の実施の形態】
図1に本実施形態のアクティブマトリクス型液晶表示装置を示す。
液晶表示装置は、偏光板1と、透明絶縁性基板2と、透明絶縁性基板2上に設けられたソースバスライン3とドレイン電極4と図示しないTFT及びゲートバスラインと、ソースバスライン3等の上に形成された層間絶縁膜5と、ドレイン電極4にコンタクトホールを介して電気的に接続された画素電極6と、液晶8と、配向膜9と、透明電極10と、透明絶縁性基板11と、偏光板12が設けられている。
【0011】
ゲートバスラインとソースバスライン3は図示しないゲート絶縁膜を介して交差するように形成されている。
画素電極6と透明電極10の間に電圧をかけ、液晶8の配向状態を変化させることにより表示を行う。
樹脂材料からなる層間絶縁膜5はラビング処理されており、液晶8の配向状態が制御される。
【0012】
本実施形態の液晶表示装置の製造方法を以下に説明する。
透明絶縁性基板2上にゲートバスライン3、ドレイン電極4及び図示しないTFTとソースバスラインとを形成した後に、透明絶縁性基板の全面に層間絶縁膜5を形成し、層間絶縁膜5をラビング材を用いてラビング処理を行う。
【0013】
層間絶縁膜5をラビング処理することにより、層間絶縁膜5が配向膜として機能する。
次に、ドレイン電極4上の層間絶縁膜5にコンタクトホールを形成した後、画素電極6を形成する。ドレイン電極4と画素電極6はコンタクトホール部で電気的に接続されている。
透明絶縁性基板2に対向する透明絶縁性基板11に透明電極10と、配向膜9を形成し、配向膜9にラビング処理を行う。
【0014】
透明絶縁性基板2と透明絶縁性基板11の間に液晶8を封入し、透明絶縁性基板2及び透明絶縁性基板11の外側に偏光板1および偏光板12を形成する。
【0015】
本実施形態の液晶表示装置では、ラビング処理された層間絶縁膜5上に画素電極6を形成しても、プレチルト角3°で液晶8の配向制御が十分に行えることが確認された。
このように、樹脂材料からなる層間絶縁膜を配向膜として利用することにより、図2の液晶表示装置に示す配向膜7を設けなくても配向処理ができ、工程及び材料削減によるコストダウンが可能となる。
【0016】
【発明の効果】
本発明は、薄膜トランジスタを備えた液晶表示装置において、薄膜トランジスタのドレイン電極と画素電極の間に介在された樹脂材料の層間絶縁膜を液晶の配向を制御する配向膜として利用することができる。
【0017】
よって、従来設置されていた2枚の配向膜のうち薄膜トランジスタを有する基板上の配向膜を省略することができ、工程削減によるコストダウン及び配向膜を形成する場合に発生する不良を無くすことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本実施形態の液晶表示装置の構成を示す図である。
【図2】従来の液晶表示装置の構成を示す図である。
【符号の説明】
1 偏光板
2 透明絶縁性基板
3 ソースバスライン
4 ドレイン電極
5 層間絶縁膜
6 画素電極
7 配向膜
8 液晶
9 配向膜
10 透明電極
11 透明絶縁性基板
12 偏光板
Claims (2)
- 透明絶縁性基板上に互いに交差するように形成されたゲートライン及びソースラインと、該ゲートライン及びソースラインに接続された薄膜トランジスタと、該薄膜トランジスタのドレイン電極上に形成された層間絶縁膜と、該層間絶縁膜上に形成され該層間絶縁膜のコンタクトホールによって前記ドレイン電極と電気的に接続される画素電極とを有する液晶表示装置において、
樹脂材料からなる前記層間絶縁膜がラビング処理されていることを特徴とする液晶表示装置。 - 透明絶縁性基板上に互いに交差するように形成されたゲートライン及びソースラインと、該ゲートライン及びソースラインに接続された薄膜トランジスタと、該薄膜トランジスタのドレイン電極上に形成された層間絶縁膜と、該層間絶縁膜上に形成され該層間絶縁膜のコンタクトホールによって前記ドレイン電極と電気的に接続される画素電極とを有する液晶表示装置の製造方法において、
樹脂材料からなる前記層間絶縁膜を形成した後に前記層間絶縁膜をラビング処理する工程と、前記層間絶縁膜のコンタクホール上に画素電極を形成しドレイン電極と画素電極を電気的に接続する工程を有することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
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JP5312098A JP3841951B2 (ja) | 1998-03-05 | 1998-03-05 | 液晶表示装置およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
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JP5312098A JP3841951B2 (ja) | 1998-03-05 | 1998-03-05 | 液晶表示装置およびその製造方法 |
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JPH11249140A JPH11249140A (ja) | 1999-09-17 |
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ID=12933953
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP5312098A Expired - Fee Related JP3841951B2 (ja) | 1998-03-05 | 1998-03-05 | 液晶表示装置およびその製造方法 |
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Country | Link |
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JP (1) | JP3841951B2 (ja) |
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1998
- 1998-03-05 JP JP5312098A patent/JP3841951B2/ja not_active Expired - Fee Related
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