JPH1180997A - Formation of insulating part and conductive molding having insulating part - Google Patents

Formation of insulating part and conductive molding having insulating part

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JPH1180997A
JPH1180997A JP26112197A JP26112197A JPH1180997A JP H1180997 A JPH1180997 A JP H1180997A JP 26112197 A JP26112197 A JP 26112197A JP 26112197 A JP26112197 A JP 26112197A JP H1180997 A JPH1180997 A JP H1180997A
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JP
Japan
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photoresist
parts
mask
conductor
insulating
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JP26112197A
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Japanese (ja)
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Susumu Yamada
進 山田
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ARONSHIYA KK
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To form insulating parts of various kinds of patterns of a uniform thickness having an excellent adhesion property regardless of shapes, sizes, etc., by sticking a photoresist by electrodeposition to the surface of a conductive molding, exposing this resist to cure the resist. SOLUTION: The photoresist 2 is stuck by electrodeposition to the entire surface of a metallic sheet 1, for example, a copper sheet, which is the conductive molding. A mask 3 having the patterns of non-photosensitive parts is brought near to the desired part on the formed photoresist 2 and is exposed by a light source 4. The photoresist 2 of the parts not subjected to light shielding by the mask 3 is cured by this treatment. After the mask 3 is removed, the photoresist 2 of the uncured parts (unexposed parts) is removed by development to allow only the cured photoresist 2 of the desired patterns to remain. The remaining parts are formed as the insulating parts. The photoresist 2 forming the insulating parts is subjected to a heat treatment in order to improve the acid resistance and wear resistance thereof.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、被処理物の形状や
大きさ等にかかわらず、導電性を有する成形体表面の所
望部位に、均一な厚さの絶縁層を形成することができる
絶縁部の形成方法に関する。また、本発明は、前記方法
を適用して得られる絶縁部を有する導電性成形体に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an insulating material capable of forming an insulating layer having a uniform thickness on a desired portion of the surface of a molded article having conductivity regardless of the shape and size of an object to be processed. The present invention relates to a method for forming a part. Further, the present invention relates to a conductive molded article having an insulating portion obtained by applying the method.

【0002】[0002]

【従来の技術】金属導体間に絶縁層を形成する場合、通
常は、導体間に絶縁物を挟み込んだり又は一方もしくは
両方の接触面に絶縁物を貼着したり、塗布したりする方
法が採用されている。これらの方法は、例えば、平板状
の導体の場合には適用が容易であるが、複雑な形状の導
体又は微小な導体に完全な絶縁層を形成しようとすれ
ば、その作業は非常に煩雑なものとなりコスト的に折り
合わず、工業的であるとはいえない。また、立体物や表
面に微小な凹凸があるような導体の場合には、均一な厚
さの絶縁層を形成することが困難であり、絶縁層にピン
ホール等が生じて絶縁が不完全になるような場合もあ
る。
2. Description of the Related Art When an insulating layer is formed between metal conductors, a method is generally employed in which an insulator is sandwiched between conductors, or an insulating material is adhered to or applied to one or both contact surfaces. Have been. These methods are easy to apply, for example, in the case of a flat conductor, but the operation is very complicated if a complete insulating layer is to be formed on a conductor having a complicated shape or a minute conductor. It is not economical, and it cannot be said that it is industrial. In the case of a three-dimensional object or a conductor having minute irregularities on the surface, it is difficult to form an insulating layer having a uniform thickness. It may be.

【0003】このような複雑な形状の導体に絶縁層を形
成する方法としては、例えば自動車電話、携帯電話等の
移動体通信においてアイソレータ、サーキュレータとし
て用いる非可逆回路素子の中心導体のような場合には、
前記問題がより顕著に発現することになる。この非可逆
回路素子には種々の構造のものが知られているが、特開
平6−196907号公報に記載のものを例にとって説
明する。
As a method of forming an insulating layer on a conductor having such a complicated shape, for example, in the case of a center conductor of a non-reciprocal circuit device used as an isolator or a circulator in mobile communication such as a car phone or a mobile phone. Is
The above-mentioned problem will appear more remarkably. Various structures of the non-reciprocal circuit device are known. The structure described in JP-A-6-196907 will be described as an example.

【0004】この非可逆回路素子は、図8に示すよう
に、金属製下側ケース100上にアース板101が半田
付され、その上に誘導体基板102が半田付され、誘導
体基板102の中央孔102a内に、フェリ磁性体であ
るフェライトコア103と中心導体104とが挿入され
て半田付けされている。そして、フェライトコア103
に垂直に直流磁界を印加するため、磁石105が配設さ
れ、さらに金属製上側ケース106が装着されてなるも
のである。
In this non-reciprocal circuit device, as shown in FIG. 8, a ground plate 101 is soldered on a metal lower case 100, a dielectric substrate 102 is soldered thereon, and a central hole of the dielectric substrate 102 is formed. A ferrite core 103, which is a ferrimagnetic material, and a center conductor 104 are inserted and soldered into 102a. And the ferrite core 103
In order to apply a direct current magnetic field to the vertical direction, a magnet 105 is provided, and a metal upper case 106 is further mounted.

【0005】このうち、誘導体基板102の中央孔10
2a内に挿入されるフェライトコア103と中心導体1
04は、より詳細には図9に示すような構造をしてい
る。すなわち、中心導体104は、中央の円形シールド
板104aと120度の間隔をおいて該シールド板10
4aから放射状に突出する導体片104bとから構成さ
れている。そして、フェライトコア103は、シールド
板104a上に載置され、各導体片104bがシールド
板104aとの境界部から折り曲げられてフェライトコ
ア103の周面を通って、フェライトコア103の上面
で互いに120度ごとに順に交差して重なるように折り
曲げられている。また、このフェライトコア103の上
面で折り曲げられている各導体片104bは、互いに絶
縁状態となるよう、各導体片104b間に、ポリイミド
等からなるシート状の絶縁体107が介在配設されてい
る。
Among them, the central hole 10 of the dielectric substrate 102
2a and the center conductor 1
04 has a structure as shown in FIG. 9 in more detail. That is, the center conductor 104 is spaced apart from the central circular shield plate 104a by 120 degrees.
4a and a conductor piece 104b projecting radially from the conductor piece 104b. Then, the ferrite core 103 is placed on the shield plate 104a, and each conductor piece 104b is bent from the boundary with the shield plate 104a, passes through the peripheral surface of the ferrite core 103, and is placed on the upper surface of the ferrite core 103. It is bent so as to intersect and overlap at each degree. Also, a sheet-like insulator 107 made of polyimide or the like is interposed between the conductor pieces 104b so that the conductor pieces 104b bent on the upper surface of the ferrite core 103 are insulated from each other. .

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】中心導体の導体片をフ
ェリ磁性体で折り曲げて重ね合わせるためには、上記し
たように各導体片間に絶縁体を貼着したり、挟み込んだ
りして配設しなければならない。したがって、導体片の
数に合わせた絶縁体を準備する必要があるとともに、そ
の数、すなわち折り畳む回数に応じて、絶縁体を貼着し
たり挟み込んだりする作業が必要であり、導体片の折畳
作業にはかなりの手間と時間を要することになる。ま
た、図9に示すようなシート状の絶縁体は、シールド板
と同じ程度の大きさを有するものであるため、絶縁部は
導体片同士が重なり合う部分にのみ設けるだけでよいに
もかかわらず、余分な部分が存在することになる。この
ため、コスト的にも無駄なものとなる。その一方、導体
片の重なり合う部分のみに対応した大きさの絶縁体を配
設する場合には、貼着したり挟み込んだりする際の位置
合わせが非常に面倒なものとなる。さらに、シート状の
絶縁体は、一般には、ずれたり、剥がれたりし易いとい
う問題がある。
In order to bend the conductor piece of the center conductor with a ferrimagnetic material and to overlap the conductor piece, as described above, the insulator is attached or sandwiched between the conductor pieces. Must. Therefore, it is necessary to prepare insulators in accordance with the number of conductor pieces, and it is necessary to attach or sandwich the insulators according to the number, that is, the number of times of folding, and the folding of the conductor pieces is required. This requires a lot of work and time. Further, since the sheet-shaped insulator as shown in FIG. 9 has the same size as the shield plate, the insulating portion may be provided only in a portion where the conductor pieces overlap each other. There will be extra parts. For this reason, cost is also wasted. On the other hand, when an insulator having a size corresponding to only the overlapping portion of the conductor pieces is provided, positioning when attaching or sandwiching is very troublesome. Further, the sheet-shaped insulator generally has a problem that it is easily shifted or peeled off.

【0007】そこで本発明は、被処理物となる導体の形
状、大きさ等にかかわらず、密着性に優れ、かつ均一な
厚さで、微細なパターンを含めて種々のパターンの絶縁
部を有する導電性成形体を得ることができる絶縁部の形
成方法を提供することを目的とする。また、本発明は、
前記方法を適用して得られる絶縁部を有する導電性成形
体を提供することを他の目的とする。
Therefore, the present invention has an insulating portion of various patterns including a fine pattern having excellent adhesion and a uniform thickness regardless of the shape and size of the conductor to be processed. It is an object of the present invention to provide a method for forming an insulating portion from which a conductive molded body can be obtained. Also, the present invention
It is another object to provide a conductive molded article having an insulating portion obtained by applying the above method.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明は、課題を解決す
るための手段として、導電性を有する成形体表面に、電
着によりホトレジストを付着させる工程、ホトレジスト
を露光して硬化させる工程を具備することを特徴とする
絶縁部の形成方法を提供する。また、本発明は、課題を
解決するための手段として、導電性を有する成形体表面
に、電着によりホトレジストを付着させる工程、所望パ
ターンのマスクを介してホトレジストを露光して硬化さ
せる工程及び不要部分のホトレジストを除去する工程を
具備することを特徴とする絶縁部の形成方法を提供す
る。
Means for Solving the Problems The present invention comprises, as means for solving the problems, a step of attaching a photoresist to the surface of a molded article having conductivity by electrodeposition, and a step of exposing and curing the photoresist. A method for forming an insulating portion is provided. Further, the present invention provides, as means for solving the problems, a step of attaching a photoresist to the surface of a molded article having conductivity by electrodeposition, a step of exposing and curing the photoresist through a mask of a desired pattern, and an unnecessary step. A method for forming an insulating portion, comprising a step of removing a portion of photoresist.

【0009】さらに、本発明は、上記の各方法におい
て、さらに、残部のホトレジストを加熱処理する工程を
具備する絶縁部の形成方法を提供する。
Further, the present invention provides a method for forming an insulating portion, further comprising a step of heating the remaining photoresist in each of the above methods.

【0010】また、本発明は、課題を解決するための他
の手段として、導電性を有する成形体表面に、所望パタ
ーンのホトレジストからなる絶縁部が形成されているこ
とを特徴とする絶縁部を有する導電性成形体を提供す
る。
The present invention also provides, as another means for solving the problems, an insulating portion, wherein an insulating portion made of a photoresist having a desired pattern is formed on a surface of a molded body having conductivity. Provided is a conductive molded article having the same.

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】以下、図面に示した実施の形態に
基づき、本発明を更に詳細に説明する。図1は、本発明
の絶縁部の形成方法の基本的な実施の形態を説明するた
めの工程図で、(a)は電着を説明するための概略概念
図であり、(b)〜(d)は各工程を説明するための断
面図である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, the present invention will be described in more detail based on embodiments shown in the drawings. FIG. 1 is a process diagram for explaining a basic embodiment of a method for forming an insulating portion according to the present invention, in which (a) is a schematic conceptual diagram for explaining electrodeposition, and (b) to (b). d) is a cross-sectional view for explaining each step.

【0012】まず第1工程において、図1の(a)に示
すとおり、導電性を有する成形体としての金属板(例え
ば、銅板)1の全表面に、電着によりホトレジストを付
着させる。この電着により、図1の(b)に示すよう
に、導電性を有する成形体としての金属板1の全表面に
ホトレジスト2を付着させることができる。なお、本発
明において用いる導電性を有する成形体は、用途等に応
じた組成及び形状、大きさ等を有するもので、特に制限
されるものではない。また、本発明で用いるホトレジス
トはネガ型、ポジ型のいずれでもよいが、以下において
はネガ型のホトレジストを用いた場合について説明す
る。なお、この第1工程における電着としては、カチオ
ン型電着法、アニオン型電着法のいずれでも適用するこ
とができる。
First, in a first step, as shown in FIG. 1A, a photoresist is deposited on the entire surface of a metal plate (eg, a copper plate) 1 as a conductive molded body by electrodeposition. By this electrodeposition, as shown in FIG. 1B, the photoresist 2 can be attached to the entire surface of the metal plate 1 as a conductive molded body. The conductive molded body used in the present invention has a composition, a shape, a size, and the like according to the use and the like, and is not particularly limited. Further, the photoresist used in the present invention may be either a negative type or a positive type. Hereinafter, the case where a negative type photoresist is used will be described. As the electrodeposition in the first step, either a cationic electrodeposition method or an anion electrodeposition method can be applied.

【0015】次に、第2工程において、図1の(c)に
示すように、金属板1の表面に形成されたホトレジスト
2上の所望の部分に、非感光部のパターンを有するマス
ク3を近接し、光源4により露光させる。この処理によ
って、マスク3により遮光されていない部分のホトレジ
スト2が硬化する。
Next, in a second step, as shown in FIG. 1C, a mask 3 having a pattern of a non-photosensitive portion is formed on a desired portion on the photoresist 2 formed on the surface of the metal plate 1. It comes close and is exposed by the light source 4. By this process, the photoresist 2 in a portion not shielded by the mask 3 is hardened.

【0016】次に、第3工程において、図1の(d)に
示すように、マスク3を取り去ったのち、不要部分、こ
の場合には未硬化部(未露光部)のホトレジスト2を現
像により除去して、所望パターンの硬化したホトレジス
ト2のみを残す。この硬化したホトレジスト2が絶縁部
となる。
Next, in a third step, as shown in FIG. 1D, after the mask 3 is removed, an unnecessary portion, in this case, an uncured portion (unexposed portion) of the photoresist 2 is developed. After removal, only the hardened photoresist 2 having the desired pattern is left. The cured photoresist 2 becomes an insulating portion.

【0017】その後、必要に応じて、絶縁部を形成する
硬化したホトレジスト2の耐酸性及び耐摩耗性を向上さ
せるため、加熱処理をすることができる。この加熱処理
の条件はホトレジストの種類等により異なるものである
が、例えば、遠赤外線ヒーターにより、約220〜28
0℃で約2〜5分間加熱することにより行うことができ
る。
Thereafter, if necessary, a heat treatment can be performed to improve the acid resistance and the wear resistance of the cured photoresist 2 forming the insulating portion. The conditions for this heat treatment vary depending on the type of photoresist and the like.
It can be performed by heating at 0 ° C. for about 2 to 5 minutes.

【0018】このようにして、均一な厚さを有し、ピン
ホール等の不良部分のない絶縁部2が形成された導電性
成形体(金属板)1を得ることができる。このような絶
縁部の形成方法によれば、被処理物となる導電性を有す
る成形体の形状や大きさにかかわらず、前記成形体の所
望部分に所望パターンの絶縁部を形成することができ
る。よって、本発明の絶縁部の形成方法を適用すれば、
例えば、図2に示すような半導体用導通チェッカー50
のように、非常に小さな針51(幅約200μm、太さ
約150μm)を除いた部分52のみを絶縁状態にする
こともできる。半導体に設けられた複数のピン(図示せ
ず)の導通チェックを行う場合、この半導体導通チェッ
カー50を複数隣接して配置するが、この際、隣り合う
半導体導通チェッカー50同士が接触しても、針51を
除いた絶縁部が形成された部分52同士が接することに
なるため、短絡を防ぐことができる。
In this way, it is possible to obtain the conductive molded body (metal plate) 1 having the uniform thickness and having the insulating portion 2 free of defective portions such as pinholes. According to such a method for forming an insulating portion, an insulating portion having a desired pattern can be formed on a desired portion of the molded body regardless of the shape or size of the conductive molded body to be processed. . Therefore, if the method for forming an insulating portion of the present invention is applied,
For example, a continuity checker 50 for a semiconductor as shown in FIG.
As described above, only the portion 52 excluding the very small needle 51 (about 200 μm in width and about 150 μm in thickness) can be insulated. When conducting continuity of a plurality of pins (not shown) provided on a semiconductor, the plurality of semiconductor continuity checkers 50 are arranged adjacent to each other. Since the portions 52 except the needles 51 where the insulating portions are formed are in contact with each other, a short circuit can be prevented.

【0019】次に、より複雑な形状の被処理物の一例と
しての非可逆回路素子用中心導体への絶縁部の形成を、
図3〜6に基づいて説明する。図3〜6は、本発明の絶
縁部の形成方法のより複雑な実施の形態を説明するため
の工程図である。図3及び図5は、各工程ごとの正面図
であり、図4及び図6は、それぞれ図3及び図5に対応
する各工程の断面図である。なお、図5(a)は、電着
を説明するための概念図である。
Next, formation of an insulating portion on a center conductor for a non-reciprocal circuit device as an example of an object having a more complicated shape,
This will be described with reference to FIGS. 3 to 6 are process diagrams for explaining a more complicated embodiment of the method for forming an insulating portion according to the present invention. 3 and 5 are front views for each step, and FIGS. 4 and 6 are cross-sectional views of each step corresponding to FIGS. 3 and 5, respectively. FIG. 5A is a conceptual diagram for explaining electrodeposition.

【0020】まず第1工程において、図3(a)及び図
4(a)に示すように、原板である金属板11の両面
に、図1(a)に示した電着法により、ホトレジスト1
2を付着させる。なお、このホトレジスト12はそのま
ま絶縁部を形成するものではないため、ドライフィルム
レジストを貼着する方法、液状レジストに浸漬した後に
引き上げる方法等、他の方法によって付着させることも
できる。
First, in a first step, as shown in FIGS. 3A and 4A, a photoresist 1 is formed on both surfaces of a metal plate 11 as an original plate by the electrodeposition method shown in FIG.
2 is deposited. Since the photoresist 12 does not directly form an insulating portion, the photoresist 12 may be attached by another method such as a method of attaching a dry film resist, a method of dipping in a liquid resist, and then pulling up.

【0021】次に第2工程において、図3(b)及び図
4(b)に示すように、図5(e)に示すような所望の
中心導体(製品部21)の展開状態の形状に沿ったパタ
ーン31、すなわち、円形のシールド板対応部位の周囲
31a、各導体片対応部位の周囲31b、各導体片の打
ち抜き部の対応部位31cを有する非感光部のパターン
31を有するマスク13(非感光部のパターン31を除
いた部分は透明なもの)を金属板11の両面に付着され
ている各ホトレジスト12の表面に近接する。なお、パ
ターン31のうち各導体片対応部位の周囲31bの一部
31dは、作業性の観点から、原板である金属板11の
うち製品部21にならない不要部分22と連結されたブ
リッジ接続部23として残すため(図3(e)参照)、
感光部となっている。そして、このマスク13を近接し
た状態で光源14により露光させる。
Next, in the second step, as shown in FIGS. 3 (b) and 4 (b), a desired central conductor (product part 21) is formed into a desired shape as shown in FIG. 5 (e). A mask 13 having a pattern 31 along the periphery, that is, a pattern 31 of a non-photosensitive portion having a periphery 31a of a portion corresponding to a circular shield plate, a periphery 31b of a portion corresponding to each conductor piece, and a corresponding portion 31c of a punched portion of each conductor piece. The portion excluding the pattern 31 of the photosensitive portion is transparent) is brought close to the surface of each photoresist 12 attached to both surfaces of the metal plate 11. In the pattern 31, a part 31d of a periphery 31b of each conductor piece corresponding part is formed from a bridge connection part 23 connected to an unnecessary part 22 which does not become the product part 21 of the original metal plate 11 from the viewpoint of workability. (See FIG. 3 (e)).
It is a photosensitive section. Then, the mask 13 is exposed by the light source 14 in a state of being close to the mask 13.

【0022】次に、第3工程において、図3(c)及び
図4(c)に示すように、現像し、パターン31に従っ
て硬化しなかったホトレジスト12を除去し、パターン
31に沿ったホトレジスト除去部28を形成する。
Next, in a third step, as shown in FIGS. 3C and 4C, the photoresist 12 which has been developed and is not cured according to the pattern 31 is removed, and the photoresist along the pattern 31 is removed. The part 28 is formed.

【0023】次に、第4工程において、図3(d)及び
図4(d)に示すように、エッチング液を用いて、レジ
スト除去部28に対応する部分の金属板11を貫通エッ
チングし、貫通部25を形成する。
Next, in a fourth step, as shown in FIG. 3D and FIG. 4D, a portion of the metal plate 11 corresponding to the resist removing portion 28 is through-etched using an etching solution, A through portion 25 is formed.

【0024】次に、第5工程において、図3(e)及び
図4(e)に示すように、残存しているホトレジストを
アルカリ水溶液等で洗浄して取り除く。この状態では、
図3(e)から明らかなように、製品部21と不要部分
22とがブリッジ接続部23を介して部分的につながっ
ている。
Next, in a fifth step, as shown in FIGS. 3E and 4E, the remaining photoresist is removed by washing with an alkaline aqueous solution or the like. In this state,
As apparent from FIG. 3E, the product part 21 and the unnecessary part 22 are partially connected via the bridge connection part 23.

【0025】次に、第6工程において、図5(a)に示
すように、図3(e)及び図4(e)に示す状態のもの
を電着浴15中に入れ、電着により新たにホトレジスト
を付着させる。その結果、図5(b)及び図6(a)に
示すように、ホトレジスト16が付着する。
Next, in the sixth step, as shown in FIG. 5A, the state shown in FIG. 3E and FIG. A photoresist is deposited on the substrate. As a result, as shown in FIGS. 5B and 6A, the photoresist 16 adheres.

【0026】次に、第7工程において、図5(c)及び
図6(b)に示すようなパターン71を有するマスク1
7を金属板11の両面に近接し、光源14により露光さ
せる。このパターン71は、絶縁体となるレジスト残部
61を形成する部分、すなわち、導体片21bを形成
し、打ち抜き部21cを介して対抗する2つの直線部に
対応する部分のホトレジスト16のみが硬化するよう、
当該部分に対応する部分のみ光が透過可能なパターンと
なっている(図5(e)参照)。
Next, in a seventh step, a mask 1 having a pattern 71 as shown in FIG. 5 (c) and FIG.
7 is brought close to both sides of the metal plate 11 and exposed by the light source 14. This pattern 71 is formed so that only the photoresist 16 at the portion forming the resist remaining portion 61 serving as an insulator, that is, the portion corresponding to the two straight portions opposed to each other through the punched portion 21c, forming the conductor piece 21b is cured. ,
Only a portion corresponding to the portion has a pattern through which light can be transmitted (see FIG. 5E).

【0027】次に、第8工程において、現像し、未硬化
ホトレジスト16を除去すると、図5(d)及び図6
(c)に示すように、導体片の所望部位に硬化したホト
レジスト残部61が残存することになる。
Next, in an eighth step, after the development and the removal of the uncured photoresist 16, the steps shown in FIGS.
As shown in (c), the hardened photoresist residue 61 remains at a desired portion of the conductor piece.

【0028】次に、金属板11の不要部分22からブリ
ッジ接続部23を切断して、製品部21を切り離せば、
図5(e)に示したように、各導体片21bの直線部の
両面及び内外端面に絶縁体としてホトレジスト残部61
が残存付着している展開状態の中心導体を得ることがで
きる。なお、図5(e)に示すものに対しても、必要に
応じて、上記したような加熱処理をすることができる。
Next, by cutting the bridge connection portion 23 from the unnecessary portion 22 of the metal plate 11 and separating the product portion 21,
As shown in FIG. 5 (e), a photoresist remaining portion 61 is provided as an insulator on both surfaces and inner and outer end surfaces of the linear portion of each conductor piece 21b.
Can be obtained. Note that the heat treatment described above can be performed on the one shown in FIG.

【0029】図7に示すように、このようにして得られ
た製品部(中心導体)21の中央に形成された円形のシ
ールド板21a上に、フェライト、YIG(イットリウ
ム−鉄−ガーネット)等のフェリ磁性体18を載せる。
そして、各導体片21bをシールド板21aとの境界部
から折り曲げ、フェリ磁性体18の周面を通過させ、更
にフェリ磁性体18の上面で、各導体片21bが相互に
重なるように折り曲げる。このとき、各導体片21bが
重なる部分には、上記したように絶縁体としてのホトレ
ジスト残部61が付着しているため、絶縁が保持され
る。よって、別途シート状の絶縁体を配設する必要がな
く、各導体片21bの折り畳み作業だけで非可逆回路素
子の部品となる中心導体及びフェリ磁性体を必要な形状
に組み合わせることができる。
As shown in FIG. 7, a ferrite, YIG (yttrium-iron-garnet), or the like is placed on a circular shield plate 21a formed at the center of the product portion (center conductor) 21 obtained in this manner. The ferrimagnetic material 18 is placed.
Then, each conductor piece 21b is bent from the boundary with the shield plate 21a, passes through the peripheral surface of the ferrimagnetic body 18, and is further folded on the upper surface of the ferrimagnetic body 18 so that the conductor pieces 21b overlap each other. At this time, since the remaining photoresist 61 as an insulator is attached to the portion where the conductor pieces 21b overlap as described above, insulation is maintained. Therefore, it is not necessary to separately arrange a sheet-shaped insulator, and the center conductor and the ferrimagnetic material, which are parts of the non-reciprocal circuit element, can be combined into a required shape only by folding the conductor pieces 21b.

【0030】[0030]

【発明の効果】本発明の絶縁部の形成方法によれば、被
処理物となる導電性を有する成形体の形状や大きさ等に
かかわらず、前記成形体の所望部分に所望パターンの絶
縁部を形成することができる。また、密着性に優れてい
るため、ずれたり、剥がれたりするおそれがほとんどな
い。しかも、本発明の方法により形成された絶縁部は、
均一な厚みで、ピンホール等もなく、良好な絶縁状体を
保持することができる。
According to the method of forming an insulating portion of the present invention, an insulating portion having a desired pattern is formed on a desired portion of a molded body having conductivity, irrespective of the shape, size, etc. of the molded body having conductivity. Can be formed. In addition, since the adhesiveness is excellent, there is almost no possibility of displacement or peeling. Moreover, the insulating part formed by the method of the present invention is:
It is possible to hold a good insulating body with a uniform thickness and no pinholes.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の絶縁部の形成方法を説明するための工
程図である。
FIG. 1 is a process chart for explaining a method of forming an insulating portion according to the present invention.

【図2】本発明の絶縁部の形成方法を適用して得られる
半導体用導通チェッカーの斜視図である。
FIG. 2 is a perspective view of a conduction checker for a semiconductor obtained by applying the method of forming an insulating part according to the present invention.

【図3】本発明の絶縁部の形成方法を、一実施形態であ
る非可逆回路素子用中心導体に適用した場合の工程を説
明するための平面図である。
FIG. 3 is a plan view for explaining a process in a case where the method of forming an insulating portion of the present invention is applied to a central conductor for a non-reciprocal circuit device according to one embodiment.

【図4】本発明の絶縁部の形成方法を、一実施形態であ
る非可逆回路素子用中心導体に適用した場合の工程を説
明するための断面図である。
FIG. 4 is a cross-sectional view for explaining a process in a case where the method for forming an insulating portion of the present invention is applied to a central conductor for a non-reciprocal circuit device according to an embodiment.

【図5】本発明の絶縁部の形成方法を、一実施形態であ
る非可逆回路素子用中心導体に適用した場合の工程を説
明するための平面図である。
FIG. 5 is a plan view for explaining a process in a case where the method for forming an insulating portion of the present invention is applied to a central conductor for a non-reciprocal circuit device according to an embodiment.

【図6】本発明の絶縁部の形成方法を、一実施形態であ
る非可逆回路素子用中心導体に適用した場合の工程を説
明するための断面図である。
FIG. 6 is a cross-sectional view for explaining a process in a case where the method of forming an insulating portion according to the present invention is applied to a central conductor for a non-reciprocal circuit device according to an embodiment.

【図7】同実施形態により製造された中心導体をフェリ
磁性体と組み合わせた状態を示す斜視図である。
FIG. 7 is a perspective view showing a state where the center conductor manufactured according to the embodiment is combined with a ferrimagnetic material.

【図8】従来用いられている非可逆回路素子の一般的な
構造を示す分解斜視図である。
FIG. 8 is an exploded perspective view showing a general structure of a conventionally used non-reciprocal circuit device.

【図9】従来用いられている非可逆回路素子で使用され
ている中心導体とフェリ磁性体との一般的な構造を示す
分解斜視図である。
FIG. 9 is an exploded perspective view showing a general structure of a center conductor and a ferrimagnetic material used in a conventionally used nonreciprocal circuit device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 金属板 2 ホトレジスト 3 マスク 4 光源 5 電着浴 11 金属板 12 ホトレジスト 13 マスク 14 光源 16 ホトレジスト 61 ホトレジスト残部 17 マスク 18 フェリ磁性体 21 製品部 21a シールド板 21b 導体片 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Metal plate 2 Photoresist 3 Mask 4 Light source 5 Electrodeposition bath 11 Metal plate 12 Photoresist 13 Mask 14 Light source 16 Photoresist 61 Photoresist remainder 17 Mask 18 Ferrimagnetic material 21 Product part 21a Shield plate 21b Conductor piece

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 導電性を有する成形体表面に、電着によ
りホトレジストを付着させる工程、ホトレジストを露光
して硬化させる工程を具備することを特徴とする絶縁部
の形成方法。
1. A method for forming an insulating part, comprising the steps of: attaching a photoresist to the surface of a molded article having conductivity by electrodeposition; and exposing and curing the photoresist.
【請求項2】 導電性を有する成形体表面に、電着によ
りホトレジストを付着させる工程、所望パターンのマス
クを介してホトレジストを露光して硬化させる工程及び
不要部分のホトレジストを除去する工程を具備すること
を特徴とする絶縁部の形成方法。
2. A process for attaching a photoresist to the surface of a molded article having conductivity by electrodeposition, exposing and curing the photoresist through a mask having a desired pattern, and removing an unnecessary portion of the photoresist. A method for forming an insulating part, comprising:
【請求項3】 さらに、残部のホトレジストを加熱処理
する工程を具備する請求項1又は2記載の絶縁部の形成
方法。
3. The method according to claim 1, further comprising the step of heat-treating the remaining photoresist.
【請求項4】 導電性を有する成形体表面に、所望パタ
ーンのホトレジストからなる絶縁部が形成されているこ
とを特徴とする絶縁部を有する導電性成形体。
4. A conductive molded article having an insulating part, wherein an insulating part made of a photoresist having a desired pattern is formed on the surface of the molded article having conductivity.
JP26112197A 1997-09-10 1997-09-10 Formation of insulating part and conductive molding having insulating part Pending JPH1180997A (en)

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