JP2002111322A - Microwave element - Google Patents

Microwave element

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JP2002111322A
JP2002111322A JP2000302587A JP2000302587A JP2002111322A JP 2002111322 A JP2002111322 A JP 2002111322A JP 2000302587 A JP2000302587 A JP 2000302587A JP 2000302587 A JP2000302587 A JP 2000302587A JP 2002111322 A JP2002111322 A JP 2002111322A
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JP
Japan
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solder resist
leg part
strip line
resist film
film
Prior art date
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Pending
Application number
JP2000302587A
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Japanese (ja)
Inventor
Akiyoshi Kashimoto
明宜 樫本
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MAGUNEKUSU KK
Original Assignee
MAGUNEKUSU KK
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a microwave element easily manufactured preferably in automated manufacturing processes. SOLUTION: A garnet ferrite magnet 6 having a diameter similar to a valium ferrite magnet 2 is placed on a conductor plate 3, with one leg part 3b folded back on the garnet ferrite magnet 6. Here, between a strip line 4 of the leg part 3b and the garnet magnet 6, a solder resist film 9 is present. One leg part 3c is folded back on the folded-back leg part 3b. Between the strip line 4 of the leg part 3c and the strip line 4 of the leg part 3b, the solder resist film 9 electrostatic-coated on the strip line 4 of the leg part 3c is present. Further, a remaining leg part 3d is folded back on the folded-back leg part 3c. Between the strip line 4 of the leg part 3d and the strip line 4 of the leg part 3c, the solder resist film 9 electrostatic-coated on the strip line 4 of the leg part 3d is present.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、移動体通信の中継
基地等に使用されるアイソレータ及びサーキュレータ等
のマイクロ波素子に関し、特に、容易に製造することが
できるマイクロ波素子に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a microwave device such as an isolator and a circulator used for a relay station for mobile communication, and more particularly to a microwave device which can be easily manufactured.

【0002】[0002]

【従来の技術】携帯電話機等の移動体通信機器及びその
中継基地局には、信号の送受信に使用されるアンテナが
設けられており、このアンテナには、送信時に送信回路
から伝達された送信信号をアンテナに伝達し受信時にア
ンテナから伝達された受信信号を受信回路に伝達するア
イソレータが接続されている。図6は従来のアイソレー
タの中心導体部を示す図であって(a)は平面図、
(b)は(a)のB−B線に沿った模式的断面図であ
る。また、図7は導体板23を示す平面図である。
2. Description of the Related Art A mobile communication device such as a cellular phone and a relay base station thereof are provided with an antenna used for transmitting and receiving a signal. The antenna is provided with a transmission signal transmitted from a transmission circuit at the time of transmission. Is connected to an antenna, and an isolator that transmits a reception signal transmitted from the antenna to a reception circuit at the time of reception is connected. 6A and 6B are diagrams showing a center conductor of a conventional isolator, wherein FIG.
(B) is a schematic sectional view along the BB line of (a). FIG. 7 is a plan view showing the conductor plate 23.

【0003】従来のアイソレータの中心導体部21にお
いては、導体板23上にガーネット系のフェライト磁石
26が載置されている。導体板23には、ガーネット系
のフェライト磁石26とほぼ同径の円板部23aと、こ
の円板部23aから延びる3本の足部23b、23c及
び23dとが設けられている。3本の足部は円板部23
aの周縁部から、例えば互いに120゜回転した方向に
延びている。各足部には、互いに並行に円板部23aか
ら離間する方向に延びるストリップライン24及びこの
ストリップライン24同士を接続する半田代25が設け
られている。
In the center conductor 21 of the conventional isolator, a garnet-based ferrite magnet 26 is mounted on a conductor plate 23. The conductor plate 23 is provided with a disk portion 23a having substantially the same diameter as the garnet-based ferrite magnet 26, and three legs 23b, 23c and 23d extending from the disk portion 23a. The three feet are the discs 23
a extend from the peripheral edge portion a, for example, in directions rotated by 120 ° with respect to each other. Each leg is provided with a strip line 24 extending in a direction away from the disk portion 23a in parallel with each other, and a soldering allowance 25 for connecting the strip lines 24 to each other.

【0004】そして、1本の足部23bがガーネット系
のフェライト磁石26上に折り返されている。また、折
り返された足部23b上に、ガーネット系のフェライト
磁石26とほぼ同径のポリイミドフィルム27が載置さ
れ、1本の足部23cがポリイミドフィルム27上に折
り返されている。更に、折り返された足部23c上に、
ガーネット系のフェライト磁石26とほぼ同径のポリイ
ミドフィルム28が載置され、残りの足部23dがポリ
イミドフィルム28上に折り返されている。なお、ガー
ネット系のフェライト磁石26の厚さは0.5mm程度
であり、ポリイミドフィルム27及び28の厚さは25
μm程度である。
One foot 23b is folded over a garnet-based ferrite magnet 26. Further, a polyimide film 27 having substantially the same diameter as that of the garnet-based ferrite magnet 26 is placed on the folded foot 23b, and one foot 23c is folded on the polyimide film 27. Furthermore, on the folded back leg 23c,
A polyimide film 28 having substantially the same diameter as the garnet-based ferrite magnet 26 is placed, and the remaining feet 23d are folded over the polyimide film 28. The thickness of the garnet-based ferrite magnet 26 is about 0.5 mm, and the thickness of the polyimide films 27 and 28 is 25 mm.
It is about μm.

【0005】このように構成された従来の中心導体部
は、誘電体からなるケース(図示せず)の中央に形成さ
れた孔に挿入される。ケースの裏面には誘電体からなる
接地体(図示せず)が設けられており、この接地体に円
板部23aが接続される。また、ケースの表面には3個
の電極が設けられており、各電極に各足部の半田代25
が半田付けされる。また、最表面に位置する足部23d
上には、バリウムフェライト等からなる永久磁石(図示
せず)が載置され、3個の足部23b、23c及び23
dは、2個の磁石に挟まれてこれらの磁石により形成さ
れる磁界中に位置することになる。
[0005] The conventional center conductor configured as described above is inserted into a hole formed in the center of a case (not shown) made of a dielectric material. A grounding body (not shown) made of a dielectric is provided on the back surface of the case, and the disk portion 23a is connected to the grounding body. Also, three electrodes are provided on the surface of the case, and each electrode has a soldering allowance of 25 for each foot.
Are soldered. Also, the foot 23d located on the outermost surface
A permanent magnet (not shown) made of barium ferrite or the like is placed on the top, and three feet 23b, 23c and 23
d will be located in the magnetic field formed by these magnets, sandwiched between the two magnets.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
ような従来のアイソレータにおいては、その製造過程に
おけるポリイミドフィルム27及び28の取扱いが困難
であるという問題点がある。例えば、ポリイミドフィル
ムは静電気を帯びやすく、所定の位置に留めにくい。ま
た、ポリイミドフィルムは、例えば大量に袋詰めされて
そこから1枚ずつ取り出されるが、1枚取り出そうとし
た場合に同時に2枚のポリイミドフィルムを重ねて取り
出して足部間に載置しまうこともある。従って、量産し
ようとしても、自動化が極めて困難である。
However, the conventional isolators as described above have a problem that it is difficult to handle the polyimide films 27 and 28 during the manufacturing process. For example, a polyimide film is easily charged with static electricity and is hard to be fixed at a predetermined position. In addition, for example, a polyimide film is packed in a large amount and is taken out one by one from the bag. When trying to take out one, two polyimide films are taken out at the same time and taken out and placed between the feet. . Therefore, it is extremely difficult to automate even mass production.

【0007】本発明はかかる問題点に鑑みてなされたも
のであって、容易に製造することができ、好ましくは製
造工程を自動化することができるマイクロ波素子を提供
することを目的とする。
The present invention has been made in view of the above problems, and has as its object to provide a microwave device that can be easily manufactured, and preferably can automate the manufacturing process.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明に係るマイクロ波
素子は、円板状の永久磁石と、この永久磁石上に互いに
交差するように順次積層された複数個のストリップライ
ンと、前記永久磁石の裏面側に配置され前記複数個のス
トリップラインが接続された円板状の導体部と、を有す
るマイクロ波素子において、前記複数個のストリップラ
インは、少なくともいずれか1個のストリップラインに
形成された絶縁膜により互いに絶縁されていることを特
徴とする。
According to the present invention, there is provided a microwave device comprising: a disk-shaped permanent magnet; a plurality of strip lines sequentially laminated on the permanent magnet so as to cross each other; And a disc-shaped conductor portion connected to the plurality of strip lines and arranged on the back side of the microwave device, wherein the plurality of strip lines are formed in at least one of the strip lines. Characterized by being insulated from each other by the insulating film.

【0009】本発明においては、複数個のストリップラ
インが、それらに形成された絶縁膜により絶縁されてい
る。従って、円形のポリイミドフィルムを使用した場合
の取扱いの煩雑さを生じることなく、ストリップライン
同士が絶縁される。また、薄く静電気を帯びやすいフィ
ルムを1枚ずつ取り分ける必要がないため、自動化する
ことも可能である。
In the present invention, a plurality of strip lines are insulated by an insulating film formed thereon. Therefore, the strip lines are insulated from each other without any troublesome handling when a circular polyimide film is used. In addition, since it is not necessary to separate thin films which are easily charged with static electricity one by one, it is possible to automate the film.

【0010】なお、前記絶縁膜をソルダレジスト膜又は
フォトレジスト膜から形成する場合、フォトエッチング
により絶縁膜自体を加工することができるので、特に容
易に形成することが可能となる。
In the case where the insulating film is formed from a solder resist film or a photoresist film, the insulating film itself can be processed by photoetching, so that it can be formed particularly easily.

【0011】また、前記絶縁膜は、絶縁体の静電塗装、
絶縁シートの貼り付け、絶縁体の液体の滴下、絶縁体の
液体中への浸漬又は絶縁体のスピンコートによって形成
することができる。
[0011] The insulating film may be formed by electrostatic coating of an insulator;
It can be formed by attaching an insulating sheet, dropping an insulator liquid, immersing the insulator in the liquid, or spin coating the insulator.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施例に係るアイ
ソレータ及びサーキュレータについて、添付の図面を参
照して具体的に説明する。図1は本発明の第1の実施例
に係るアイソレータを示す図であって(a)は平面図、
(b)は(a)のA−A線に沿った断面図である。ま
た、図2は導体板3を示す平面図である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, an isolator and a circulator according to an embodiment of the present invention will be specifically described with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is a diagram showing an isolator according to a first embodiment of the present invention, wherein (a) is a plan view,
(B) is a sectional view taken along line AA of (a). FIG. 2 is a plan view showing the conductor plate 3.

【0013】第1の実施例に係るアイソレータの中心導
体部1においては、導体板3上に、例えばガーネット系
のフェライト磁石6が載置されている。導体板3には、
図2に示すように、フェライト磁石6とほぼ同径の円板
部3aと、この円板部3aから延びる3本の足部3b、
3c及び3dとが設けられている。3本の足部は円板部
3aの周縁部から、例えば互いに120゜回転した方向
に延びている。各足部には、互いに並行に円板部3aか
ら離間する方向に延びるストリップライン4及びこのス
トリップライン4同士を接続する半田代5が設けられて
いる。ストリップライン4の上面には、両端部を除いて
静電塗装によりソルダレジスト膜9が形成されている。
ソルダレジスト膜9の厚さは、例えば25乃至50μm
である。導体板3は、例えばリン青銅に銀メッキを施し
たものからなるが、これに限定されるものではない。ま
た、フェライト磁石6としては、ガーネット系のフェラ
イト磁石だけでなく、ニッケル系のフェライト磁石又は
マグネシウム系のフェライト磁石を使用してもよい。但
し、導体板上に載置される磁石としては、高周波特性が
優れたものを使用することが好ましい。
In the center conductor 1 of the isolator according to the first embodiment, for example, a garnet ferrite magnet 6 is mounted on the conductor plate 3. In the conductor plate 3,
As shown in FIG. 2, a disk portion 3a having substantially the same diameter as the ferrite magnet 6, three legs 3b extending from the disk portion 3a,
3c and 3d are provided. The three legs extend from the peripheral edge of the disk portion 3a, for example, in directions rotated by 120 ° from each other. Each leg is provided with a strip line 4 extending in a direction away from the disk portion 3a in parallel with each other and a soldering allowance 5 for connecting the strip lines 4 to each other. A solder resist film 9 is formed on the upper surface of the strip line 4 by electrostatic coating except for both end portions.
The thickness of the solder resist film 9 is, for example, 25 to 50 μm.
It is. The conductor plate 3 is made of, for example, phosphor bronze plated with silver, but is not limited thereto. Further, as the ferrite magnet 6, not only a garnet-based ferrite magnet but also a nickel-based ferrite magnet or a magnesium-based ferrite magnet may be used. However, it is preferable to use a magnet having excellent high-frequency characteristics as the magnet placed on the conductor plate.

【0014】そして、1本の足部3bがガーネット系の
フェライト磁石6上に折り返されている。このとき、足
部3bのストリップライン4とガーネット系磁石6との
間には、ソルダレジスト膜9が介在している。また、折
り返された足部3b上に、1本の足部3cが折り返され
ている。足部3cのストリップライン4と足部3bのス
トリップライン4との間には、足部3cのストリップラ
イン4に静電塗装されたソルダレジスト膜9が介在して
いる。更に、折り返された足部3c上に、残りの足部3
dが折り返されている。足部3dのストリップライン4
と足部3cのストリップライン4との間には、足部3d
のストリップライン4に静電塗装されたソルダレジスト
膜9が介在している。なお、ガーネット系のフェライト
磁石6の厚さは、例えば0.5mm程度であるが、これ
に限定されるものではない。
One foot 3b is folded over the garnet ferrite magnet 6. At this time, a solder resist film 9 is interposed between the strip line 4 of the foot 3b and the garnet-based magnet 6. Further, one foot 3c is folded over the folded foot 3b. A solder resist film 9 electrostatically coated on the strip line 4 of the foot 3c is interposed between the strip line 4 of the foot 3c and the strip line 4 of the foot 3b. Further, the remaining foot 3 is placed on the folded foot 3c.
d is folded back. Strip line 4 of foot 3d
And between the strip line 4 of the foot 3c and the foot 3d
The solder resist film 9 electrostatically coated is interposed in the strip line 4 of FIG. The thickness of the garnet-based ferrite magnet 6 is, for example, about 0.5 mm, but is not limited thereto.

【0015】また、本実施例では、このように構成され
た中心導体部1が、図1に示すように、誘電体からなる
ケース13の中央に形成された孔13aに挿入されてい
る。ケース13の裏面には、誘電体からなる接地体14
が設けられている。そして、円板部3aが接地体14に
接続されている。また、ケース13の表面には、3個の
電極15b、15c及び15dが設けられている。この
うち、例えば電極15cには抵抗体16が接続されてい
る。そして、電極15bに足部3bの半田代5が半田付
けされ、電極15cに足部3cの半田代5が半田付けさ
れ、電極15dに足部3dの半田代5が半田付けされて
いる。更に、最表面に位置する足部3d上には、バリウ
ムフェライト等からなる永久磁石2が載置され、3個の
足部3b、3c及び3dは、ガーネット系のフェライト
磁石6と永久磁石2とによって挟まれてこれらの磁石に
より形成される磁界中に位置している。なお、3本の足
部3b、3c及び3dのうち、例えば電極15cに半田
付けされた足部3cがアンテナに接続され、他の足部3
b及び3dは、夫々送信回路及び受信回路のいずれかに
接続される。また、永久磁石2としては、バリウムフェ
ライト磁石だけでなく、例えばアルニコ磁石又は希土類
磁石等を使用することも可能である。
In this embodiment, the central conductor 1 thus constructed is inserted into a hole 13a formed in the center of a case 13 made of a dielectric, as shown in FIG. A grounding body 14 made of a dielectric is provided on the back of the case 13.
Is provided. Then, the disk part 3 a is connected to the grounding body 14. On the surface of the case 13, three electrodes 15b, 15c and 15d are provided. Among these, for example, the resistor 16 is connected to the electrode 15c. The solder allowance 5 of the foot 3b is soldered to the electrode 15b, the solder allowance 5 of the foot 3c is soldered to the electrode 15c, and the solder allowance 5 of the foot 3d is soldered to the electrode 15d. Further, a permanent magnet 2 made of barium ferrite or the like is placed on the foot 3d located on the outermost surface, and the three feet 3b, 3c, and 3d are connected to the garnet-based ferrite magnet 6 and the permanent magnet 2. And is located in a magnetic field formed by these magnets. Of the three legs 3b, 3c and 3d, for example, the leg 3c soldered to the electrode 15c is connected to the antenna, and the other leg 3c
b and 3d are connected to either the transmission circuit or the reception circuit, respectively. Further, as the permanent magnet 2, not only a barium ferrite magnet but also, for example, an alnico magnet or a rare earth magnet can be used.

【0016】そして、前述のように、送信回路から伝達
された送信信号を受信回路に流すことなくアンテナに伝
達し、アンテナから伝達された受信信号を送信回路に流
すことなく受信回路に伝達する。このとき、足部3bと
足部3cとは、足部3cのストリップライン4に静電塗
装されたソルダレジスト膜9により絶縁されており、足
部3cと足部3dとは、足部3dに静電塗装されたソル
ダレジスト膜9により絶縁されている。従って、短絡が
発生することはなく、信号の伝達は確実に行われる。
Then, as described above, the transmission signal transmitted from the transmission circuit is transmitted to the antenna without flowing to the reception circuit, and the reception signal transmitted from the antenna is transmitted to the reception circuit without flowing to the transmission circuit. At this time, the foot 3b and the foot 3c are insulated by the solder resist film 9 electrostatically coated on the strip line 4 of the foot 3c, and the foot 3c and the foot 3d are connected to the foot 3d. It is insulated by the electrostatically applied solder resist film 9. Therefore, no short circuit occurs, and the signal transmission is performed reliably.

【0017】また、足部間の絶縁のために、ポリイミド
フィルムではなくソルダレジスト膜が使用されている
が、ポリイミドフィルムの取扱いと比較すると、ソルダ
レジスト膜の形成は極めて容易に行うことができる。例
えば、導体板3の全面に感光性のソルダレジスト膜を静
電塗装により形成し、感光性のソルダレジスト膜がポジ
型であればストリップライン9以外の領域に光を照射
し、ネガ型であればストリップライン9に相当する領域
に光を照射し、続いて現像することにより、ストリップ
ライン4上にのみソルダレジスト膜9を残存させればよ
い。
Although a solder resist film is used instead of a polyimide film for insulation between the feet, the formation of the solder resist film can be performed extremely easily as compared with the handling of the polyimide film. For example, a photosensitive solder resist film is formed on the entire surface of the conductive plate 3 by electrostatic coating, and if the photosensitive solder resist film is a positive type, light is irradiated to an area other than the strip line 9 to be a negative type. For example, the solder resist film 9 may be left only on the strip line 4 by irradiating light to a region corresponding to the strip line 9 and then performing development.

【0018】図3は導体板の加工方法を示す平面図であ
る。例えば、リン青銅に銀メッキが施された金属素板1
1に縦横に数100個ずつ、フォトエッチング等により
導体板3のパターン12を形成する。なお、図3では、
金属素板11内部の線描部分がフォトエッチング等によ
り除去した部分である。各パターン12は金属素板11
の残存部分と2箇所で連結されている。その後、金属素
板11の全面に、例えばポジ型の感光性ソルダレジスト
膜(図示せず)を静電塗装し、ストリップライン以外の
領域に光を照射する。次いで、感光性ソルダレジスト膜
を現像することにより、ストリップライン上にのみソル
ダレジスト膜を残存させることができる。この方法によ
れば、ソルダレジスト膜の膜厚を静電塗装によって容易
に制御することができ、具体的には2乃至3μm程度の
調整が可能であり、今後更なる小型化が要請されるであ
ろうアイソレータにとって極めて好都合である。また、
ポリイミドフィルムを取り扱う必要がなく、機械処理が
容易となるため、自動化による大量生産にも好適であ
る。
FIG. 3 is a plan view showing a method for processing a conductive plate. For example, metal plate 1 made of phosphor bronze with silver plating
The pattern 12 of the conductive plate 3 is formed by photo-etching or the like in a number of hundreds in each of the vertical and horizontal directions. In FIG. 3,
The line drawing portion inside the metal base plate 11 is a portion removed by photoetching or the like. Each pattern 12 is made of a metal plate 11
Is connected to the remaining portion at two points. Thereafter, for example, a positive photosensitive solder resist film (not shown) is electrostatically coated on the entire surface of the metal base plate 11, and light is applied to regions other than the strip lines. Next, by developing the photosensitive solder resist film, the solder resist film can be left only on the strip line. According to this method, the thickness of the solder resist film can be easily controlled by electrostatic coating, and specifically, can be adjusted to about 2 to 3 μm. This is very convenient for an isolator that may be used. Also,
Since there is no need to handle the polyimide film and the mechanical processing is easy, it is suitable for mass production by automation.

【0019】なお、ソルダレジスト膜はストリップライ
ンにおいて広範囲に形成されている必要はなく、少なく
とも磁石上に折り返されたときに他の足部との間の絶縁
が確保可能な領域に形成されていればよい。また、ガー
ネット系のフェライト磁石は絶縁体からなるため、ガー
ネット系のフェライト磁石に接するように折り返される
足部にあっては、ストリップラインにソルダレジスト膜
が全く形成されていなくてもよい。図4は本発明の第2
の実施例に係るアイソレータにおけるソルダレジスト膜
を示す平面図である。
It should be noted that the solder resist film does not need to be formed over a wide area in the strip line, but is formed at least in a region where insulation from other feet can be ensured when folded over the magnet. I just need. In addition, since the garnet-based ferrite magnet is made of an insulator, the foot line that is folded back so as to be in contact with the garnet-based ferrite magnet need not have any solder resist film formed on the strip line. FIG. 4 shows a second embodiment of the present invention.
FIG. 9 is a plan view showing a solder resist film in the isolator according to the example of FIG.

【0020】第2の実施例においては、一番下に、即ち
ガーネット系のフェライト磁石直上に折り返される足部
3bには、全くソルダレジスト膜が形成されていない。
一方、足部3cにおいては、ストリップライン4のう
ち、設計上、足部3bと重なり合う部分にソルダレジス
ト膜9aが静電塗装により形成され、足部3dにおいて
は、ストリップライン4のうち、設計上、足部3b又は
3cと重なり合う部分にソルダレジスト膜9aが静電塗
装により形成されている。
In the second embodiment, no solder resist film is formed at the bottom, that is, on the foot 3b that is folded immediately above the garnet-based ferrite magnet.
On the other hand, in the foot 3c, a solder resist film 9a is formed by electrostatic coating on a portion of the strip line 4 overlapping with the foot 3b due to design, and in the foot 3d, a solder resist film 9a is formed in the strip line 4 due to design. A solder resist film 9a is formed by electrostatic coating on a portion overlapping with the foot 3b or 3c.

【0021】ソルダレジスト膜9aが、上述のように形
成されている場合であっても、足部間の絶縁を確保する
ことができ、アイソレータに要求される動作、即ち、ア
ンテナが送信する信号を送信回路から伝達し、アンテナ
が受信した信号を受信回路に伝達することができる。ま
た、製造工程を煩雑化させることもない。
Even when the solder resist film 9a is formed as described above, insulation between the feet can be ensured, and the operation required for the isolator, that is, the signal transmitted by the antenna A signal transmitted from the transmission circuit and received by the antenna can be transmitted to the reception circuit. Further, the manufacturing process is not complicated.

【0022】なお、第1及び第2の実施例では、ソルダ
レジスト膜の厚さは、25乃至50μm程度に限定され
るものではなく、例えば5μm程度であっても絶縁の確
保は可能なので、この程度の厚さでもよい。また、スト
リップラインに形成される絶縁膜は、ソルダレジスト膜
に限定されるものではなく、200℃程度の半田付けの
際に溶融しない程度の耐熱性を具備した絶縁物であれば
よく、例えばポリテトラフルオロエチレン系の樹脂膜又
はフォトレジスト膜等であってもよい。ポリテトラフル
オロエチレン系樹脂膜を使用する場合には、感光性ソル
ダレジスト膜のように直接パターニングすることができ
ないため、マスクを使用して樹脂膜をパターニングすれ
ばよい。更に、これらの絶縁膜を形成する方法は、静電
塗装に限定されるものではない。例えば、前述の金属素
板に絶縁シートを貼り付けてもよく、金属素板を絶縁体
の液体中に含浸してもよく、金属素板に絶縁体をスピン
コートしてもよい。
In the first and second embodiments, the thickness of the solder resist film is not limited to about 25 to 50 μm. For example, even if the thickness is about 5 μm, insulation can be secured. The thickness may be about the same. Further, the insulating film formed on the strip line is not limited to a solder resist film, and may be any insulating material having heat resistance that does not melt at the time of soldering at about 200 ° C. It may be a tetrafluoroethylene-based resin film or a photoresist film. When a polytetrafluoroethylene-based resin film is used, patterning cannot be performed directly as in the case of a photosensitive solder resist film. Therefore, the resin film may be patterned using a mask. Furthermore, the method of forming these insulating films is not limited to electrostatic coating. For example, an insulating sheet may be attached to the above-described metal base plate, the metal base plate may be immersed in a liquid of an insulator, or the metal base plate may be spin-coated with the insulator.

【0023】また、本発明が適用される素子はアイソレ
ータに限定されるものではなく、例えばサーキュレータ
にも適用することができる。図5は本発明の第3の実施
例に係るサーキュレータを示す平面図である。
The element to which the present invention is applied is not limited to an isolator, but can be applied to, for example, a circulator. FIG. 5 is a plan view showing a circulator according to a third embodiment of the present invention.

【0024】第3の実施例のサーキュレータの中心導体
部31は、導体板33及びフェライト磁石36から構成
されている。導体板33には、フェライト磁石36とほ
ぼ同径の円板部(図示せず)と、この円板部から延びる
4本の足部33b、33c、33d及び33eとが設け
られている。各足部には、第1及び第2の実施例と同様
に、ストリップライン34及び半田代35が設けられて
いる。また、ストリップライン34の上面には、両端部
を除いて、例えば静電塗装によりソルダレジスト膜39
が形成されている。そして、4本の足部33b、33
c、33d及び33eがガーネット系のフェライト磁石
36上に順次折り返されている。このとき、足部同士は
各ストリップライン34に形成されたソルダレジスト膜
39により絶縁されている。
The center conductor 31 of the circulator according to the third embodiment comprises a conductor plate 33 and a ferrite magnet 36. The conductor plate 33 is provided with a disk portion (not shown) having substantially the same diameter as the ferrite magnet 36 and four legs 33b, 33c, 33d, and 33e extending from the disk portion. Each leg is provided with a strip line 34 and a solder allowance 35 as in the first and second embodiments. On the upper surface of the strip line 34, except for both ends, for example, a solder resist film 39 by electrostatic painting.
Are formed. And the four feet 33b, 33
c, 33d and 33e are sequentially folded on the garnet-based ferrite magnet 36. At this time, the legs are insulated from each other by the solder resist film 39 formed on each strip line 34.

【0025】このような中心導体部31も、アイソレー
タの場合と同様に、誘電体からなるケース43の孔43
aに挿入され、その上に永久磁石32を載置してサーキ
ュレータが構成される。
As in the case of the isolator, the center conductor 31 is also provided with a hole 43 of a case 43 made of a dielectric material.
a, and a circulator is constructed by mounting the permanent magnet 32 thereon.

【0026】このように構成された第3の実施例のサー
キュレータにおいても、各足部間はソルダレジスト膜3
9により完全に絶縁されている。その一方で、ソルダレ
ジスト膜は、前述のように、従来のポリイミドフィルム
を挟み込む方法と比較すると、極めて形成しやすい。
In the circulator according to the third embodiment, the solder resist film 3 is provided between the legs.
9 completely insulated. On the other hand, as described above, the solder resist film is extremely easy to form as compared with the conventional method of sandwiching a polyimide film.

【0027】なお、本発明をサーキュレータに適用する
場合も、絶縁膜はソルダレジスト膜に限定されるもので
はなく、例えばフォトレジスト膜を使用することができ
る。また、その形成方法も、静電塗装に限定されるもの
ではなく、例えば導体板を構成する金属素板上に絶縁シ
ートを貼り付ける方法等であってもよい。
When the present invention is applied to a circulator, the insulating film is not limited to the solder resist film, but may be, for example, a photoresist film. Further, the forming method is not limited to the electrostatic coating. For example, a method of attaching an insulating sheet on a metal base plate constituting a conductor plate may be used.

【0028】[0028]

【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば、
フェライト磁石上で交差する複数個のストリップライン
をそれらに形成された絶縁膜により絶縁しているので、
円形のポリイミドフィルムを使用した場合の取扱いの煩
雑さを生じることなく、ストリップライン同士の絶縁を
容易に確保することができる。また、薄く静電気を帯び
やすいフィルムを1枚ずつ取り分ける必要がないため、
自動化することもできる。更に、絶縁膜をソルダレジス
ト膜又はフォトレジスト膜から形成する場合には、フォ
トエッチングにより絶縁膜自体を加工することができる
ので、特に容易に形成することができる。
As described in detail above, according to the present invention,
Since multiple strip lines crossing on the ferrite magnet are insulated by the insulating film formed on them,
Insulation between strip lines can be easily secured without causing troublesome handling when a circular polyimide film is used. Also, since it is not necessary to separate thin and easily charged films one by one,
It can also be automated. Further, when the insulating film is formed from a solder resist film or a photoresist film, the insulating film itself can be processed by photoetching, so that the insulating film can be formed particularly easily.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施例に係るアイソレータを示
す図であって(a)は平面図、(b)は(a)のA−A
線に沿った模式的断面図である。
FIG. 1 is a diagram showing an isolator according to a first embodiment of the present invention, wherein (a) is a plan view and (b) is an AA of (a).
FIG. 4 is a schematic cross-sectional view along a line.

【図2】導体板3を示す平面図である。FIG. 2 is a plan view showing a conductor plate 3;

【図3】導体板の加工方法を示す平面図である。FIG. 3 is a plan view showing a method for processing a conductive plate.

【図4】本発明の第2の実施例に係るアイソレータにお
けるソルダレジスト膜を示す平面図である。
FIG. 4 is a plan view showing a solder resist film in an isolator according to a second embodiment of the present invention.

【図5】本発明の第3の実施例に係るサーキュレータを
示す平面図である。
FIG. 5 is a plan view showing a circulator according to a third embodiment of the present invention.

【図6】従来のアイソレータを示す図であって(a)は
平面図、(b)は(a)のB−B線に沿った模式的断面
図である。
6A and 6B are views showing a conventional isolator, wherein FIG. 6A is a plan view and FIG. 6B is a schematic cross-sectional view taken along line BB of FIG.

【図7】導体板23を示す平面図である。FIG. 7 is a plan view showing a conductor plate 23;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1、31;中心導体部 2、32;永久磁石 3、33;導体板 4、34;ストリップライン 5、35;半田代 6、36;フェライト磁石 9;ソルダレジスト膜 11;金属素板 12;パターン 13、43;ケース 13a、43a;孔 14;接地体 15b、15c、15d;電極 1, 31; central conductor part 2, 32; permanent magnet 3, 33; conductor plate 4, 34; strip line 5, 35; soldering allowance 6, 36; ferrite magnet 9; solder resist film 11; 13, 43; Case 13a, 43a; Hole 14, Grounding body 15b, 15c, 15d; Electrode

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 円板状の永久磁石と、この永久磁石上に
互いに交差するように順次積層された複数個のストリッ
プラインと、前記永久磁石の裏面側に配置され前記複数
個のストリップラインが接続された円板状の導体部と、
を有するマイクロ波素子において、前記複数個のストリ
ップラインは、少なくともいずれか1個のストリップラ
インに形成された絶縁膜により互いに絶縁されているこ
とを特徴とするマイクロ波素子。
1. A disk-shaped permanent magnet, a plurality of strip lines sequentially laminated so as to intersect each other on the permanent magnet, and the plurality of strip lines disposed on the back side of the permanent magnet. A connected disk-shaped conductor,
Wherein the plurality of strip lines are insulated from each other by an insulating film formed on at least one of the strip lines.
【請求項2】 前記絶縁膜は、ソルダレジスト膜及びフ
ォトレジスト膜からなる群から選択された1種の膜であ
ることを特徴とする請求項1に記載のマイクロ波素子。
2. The microwave device according to claim 1, wherein the insulating film is one kind of film selected from the group consisting of a solder resist film and a photoresist film.
【請求項3】 前記絶縁膜は、絶縁体の静電塗装、絶縁
シートの貼り付け、絶縁体の液体の滴下、絶縁体の液体
中への浸漬及び絶縁体のスピンコートからなる群から選
択された1種の方法により形成された膜であることを特
徴とする請求項1又は2に記載のマイクロ波素子。
3. The insulating film is selected from the group consisting of electrostatic coating of an insulator, sticking of an insulating sheet, dropping of a liquid of the insulator, immersion of the insulator in the liquid, and spin coating of the insulator. The microwave device according to claim 1, wherein the microwave device is a film formed by one of the above methods.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011091730A (en) * 2009-10-26 2011-05-06 Hitachi Metals Ltd Surface mounting non-reciprocal circuit element

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