JPH1171336A - アミド誘導体 - Google Patents
アミド誘導体Info
- Publication number
- JPH1171336A JPH1171336A JP10165165A JP16516598A JPH1171336A JP H1171336 A JPH1171336 A JP H1171336A JP 10165165 A JP10165165 A JP 10165165A JP 16516598 A JP16516598 A JP 16516598A JP H1171336 A JPH1171336 A JP H1171336A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- methylcarbamoylphenyl
- group
- salt
- compound
- solvate
- Prior art date
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- Pending
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-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02A—TECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE
- Y02A50/00—TECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE in human health protection, e.g. against extreme weather
- Y02A50/30—Against vector-borne diseases, e.g. mosquito-borne, fly-borne, tick-borne or waterborne diseases whose impact is exacerbated by climate change
Landscapes
- Pyridine Compounds (AREA)
- Pyrrole Compounds (AREA)
- Heterocyclic Compounds That Contain Two Or More Ring Oxygen Atoms (AREA)
- Heterocyclic Compounds Containing Sulfur Atoms (AREA)
- Quinoline Compounds (AREA)
- Furan Compounds (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Other In-Based Heterocyclic Compounds (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
- Indole Compounds (AREA)
- Acyclic And Carbocyclic Compounds In Medicinal Compositions (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 抗ヘリコバクター・ピロリ活性を有し、消化
器疾患の治療のための医薬の有効成分として有用な化合
物を提供する。 【解決手段】 下記式（Ｉ）（Ｒ1 はＣ3 〜Ｃ8 のシク
ロアルキル基、置換基を有していてもよいＣ6 〜Ｃ14の
アリール基などを表わし；Ｒ2 及びＲ3 は水素原子若し
くはＣ1 〜Ｃ5 のアルキル基などを表わし；Ｒ4 及びＲ
5 は水素原子又はＣ1 〜Ｃ5 のアルキル基を表わし；Ｒ
6 は水素原子、水酸基で置換されていてもよいＣ1 〜Ｃ
5 のアルキル基、水酸基、又はＣ1 〜Ｃ5 のアルコキシ
基を表わす）で示される化合物又はその塩。 【化１】
器疾患の治療のための医薬の有効成分として有用な化合
物を提供する。 【解決手段】 下記式（Ｉ）（Ｒ1 はＣ3 〜Ｃ8 のシク
ロアルキル基、置換基を有していてもよいＣ6 〜Ｃ14の
アリール基などを表わし；Ｒ2 及びＲ3 は水素原子若し
くはＣ1 〜Ｃ5 のアルキル基などを表わし；Ｒ4 及びＲ
5 は水素原子又はＣ1 〜Ｃ5 のアルキル基を表わし；Ｒ
6 は水素原子、水酸基で置換されていてもよいＣ1 〜Ｃ
5 のアルキル基、水酸基、又はＣ1 〜Ｃ5 のアルコキシ
基を表わす）で示される化合物又はその塩。 【化１】
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はヘリコバクター・ピ
ロリに対して特異的な抗菌作用を有する新規なアミド誘
導体に関する。
ロリに対して特異的な抗菌作用を有する新規なアミド誘
導体に関する。
【０００２】
【従来の技術】ヘリコバクター・ピロリは、近年人の胃
粘膜より分離されたグラム陰性の微好気性細菌であり、
消化管における炎症、潰瘍の形成及び再発、さらには胃
癌との関連が示唆される報告が数多く発表されている
（Ｍｏｌｅｃｕｌａｒ Ｍｅｄｉｃｉｎｅ、３１巻、１
３０４−１３７４ページ、１９９４年）。
粘膜より分離されたグラム陰性の微好気性細菌であり、
消化管における炎症、潰瘍の形成及び再発、さらには胃
癌との関連が示唆される報告が数多く発表されている
（Ｍｏｌｅｃｕｌａｒ Ｍｅｄｉｃｉｎｅ、３１巻、１
３０４−１３７４ページ、１９９４年）。
【０００３】これまで、消化管の潰瘍の治療には、Ｈ2
ブロッカーやプロトンポンプインヒビターなどの薬剤が
用いられてきたが、上述のヘリコバクター・ピロリ感染
と胃潰瘍の関連が明らかになりつつあるため、特に再発
予防の観点からアモキシシリンなどの抗菌剤が併用され
るようになってきている。しかしながら、現在用いられ
ている抗菌剤で完全に除菌できた例は少なく、また、抗
菌スペクトルが広いために腸内細菌等にも影響を与え、
下痢などの副作用が頻発している。したがって、消化管
内での抗菌力が強く、かつヘリコバクター・ピロリに対
して特異的な抗菌剤の開発が望まれている。
ブロッカーやプロトンポンプインヒビターなどの薬剤が
用いられてきたが、上述のヘリコバクター・ピロリ感染
と胃潰瘍の関連が明らかになりつつあるため、特に再発
予防の観点からアモキシシリンなどの抗菌剤が併用され
るようになってきている。しかしながら、現在用いられ
ている抗菌剤で完全に除菌できた例は少なく、また、抗
菌スペクトルが広いために腸内細菌等にも影響を与え、
下痢などの副作用が頻発している。したがって、消化管
内での抗菌力が強く、かつヘリコバクター・ピロリに対
して特異的な抗菌剤の開発が望まれている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題及び課題を解決するため
の手段】そこで本発明らは、新規な抗ヘリコバクター・
ピロリ剤の研究を進めた結果、下記の一般式で表される
化合物がヘリコバクター・ピロリに対して優れた抗菌作
用を有しており、消化管内で強い抗菌作用を発揮するこ
とができることを見出した。本発明は上記の知見を基に
して完成されたものである。
の手段】そこで本発明らは、新規な抗ヘリコバクター・
ピロリ剤の研究を進めた結果、下記の一般式で表される
化合物がヘリコバクター・ピロリに対して優れた抗菌作
用を有しており、消化管内で強い抗菌作用を発揮するこ
とができることを見出した。本発明は上記の知見を基に
して完成されたものである。
【０００５】すなわち、本発明は、下記一般式（Ｉ）：
【化２】 （式中、Ｒ1 はＣ3 〜Ｃ8 のシクロアルキル基、置換基
を有していてもよいＣ6〜Ｃ14のアリール基、置換基を
有していてもよい複素環残基、置換基を有していてもよ
いＣ6 〜Ｃ14のアリールオキシ基、又は置換基を有して
いてもよいＣ7 〜Ｃ15のアリールメチル基を表わし；Ｒ
2 及びＲ3 はそれぞれ独立して水素原子若しくはＣ1 〜
Ｃ5 のアルキル基を表わすか、又はＲ2 とＲ3 はいっし
ょになってＣ2 〜Ｃ7 のアルキレン基を表わし；Ｒ4 及
びＲ5 はそれぞれ独立して水素原子又はＣ1 〜Ｃ5 のア
ルキル基を表わし；Ｒ6 は水素原子、水酸基で置換され
ていてもよいＣ1 〜Ｃ5 のアルキル基、水酸基、又はＣ
1 〜Ｃ5 のアルコキシ基を表わす）で示されるアミド誘
導体若しくはその塩、又はそれらの溶媒和物若しくはそ
れらの水和物を提供するものである。
を有していてもよいＣ6〜Ｃ14のアリール基、置換基を
有していてもよい複素環残基、置換基を有していてもよ
いＣ6 〜Ｃ14のアリールオキシ基、又は置換基を有して
いてもよいＣ7 〜Ｃ15のアリールメチル基を表わし；Ｒ
2 及びＲ3 はそれぞれ独立して水素原子若しくはＣ1 〜
Ｃ5 のアルキル基を表わすか、又はＲ2 とＲ3 はいっし
ょになってＣ2 〜Ｃ7 のアルキレン基を表わし；Ｒ4 及
びＲ5 はそれぞれ独立して水素原子又はＣ1 〜Ｃ5 のア
ルキル基を表わし；Ｒ6 は水素原子、水酸基で置換され
ていてもよいＣ1 〜Ｃ5 のアルキル基、水酸基、又はＣ
1 〜Ｃ5 のアルコキシ基を表わす）で示されるアミド誘
導体若しくはその塩、又はそれらの溶媒和物若しくはそ
れらの水和物を提供するものである。
【０００６】別の観点からは、本発明により、上記のア
ミド誘導体及び薬学的に許容されるその塩、並びにそれ
らの溶媒和物及びそれらの水和物からなる群から選ばれ
る物質を有効成分として含む医薬、好ましくは胃疾患
（例えば胃炎、胃潰瘍、又は胃癌など）の治療のための
医薬が提供される。この医薬は、好ましくは、有効成分
である上記の物質と薬学的に許容される１又は２以上の
製剤用添加物とを含む医薬組成物として提供される。ま
た、この医薬は抗ヘリコバクター・ピロリ剤として、ヘ
リコバクター・ピロリの感染が関与する消化器疾患（例
えば、胃炎、胃潰瘍、胃癌、胃の悪性リンパ腫、ＭＡＬ
Ｔリンパ腫、十二指腸潰瘍、十二指腸癌、又は腸炎な
ど）の治療及び／又は予防に使用することができる。
ミド誘導体及び薬学的に許容されるその塩、並びにそれ
らの溶媒和物及びそれらの水和物からなる群から選ばれ
る物質を有効成分として含む医薬、好ましくは胃疾患
（例えば胃炎、胃潰瘍、又は胃癌など）の治療のための
医薬が提供される。この医薬は、好ましくは、有効成分
である上記の物質と薬学的に許容される１又は２以上の
製剤用添加物とを含む医薬組成物として提供される。ま
た、この医薬は抗ヘリコバクター・ピロリ剤として、ヘ
リコバクター・ピロリの感染が関与する消化器疾患（例
えば、胃炎、胃潰瘍、胃癌、胃の悪性リンパ腫、ＭＡＬ
Ｔリンパ腫、十二指腸潰瘍、十二指腸癌、又は腸炎な
ど）の治療及び／又は予防に使用することができる。
【０００７】さらに別の観点からは、ヘリコバクター・
ピロリの感染が関与する消化器疾患の治療方法であっ
て、上記のアミド誘導体及び薬学的に許容されるその
塩、並びにそれらの溶媒和物及びそれらの水和物からな
る群から選ばれる物質の治療有効量をヒトを含む哺乳類
動物に投与する工程を含む方法；及び、上記の医薬の製
造のための上記のアミド誘導体及び薬学的に許容される
その塩、並びにそれらの溶媒和物及びそれらの水和物か
らなる群から選ばれる物質の使用が提供される。
ピロリの感染が関与する消化器疾患の治療方法であっ
て、上記のアミド誘導体及び薬学的に許容されるその
塩、並びにそれらの溶媒和物及びそれらの水和物からな
る群から選ばれる物質の治療有効量をヒトを含む哺乳類
動物に投与する工程を含む方法；及び、上記の医薬の製
造のための上記のアミド誘導体及び薬学的に許容される
その塩、並びにそれらの溶媒和物及びそれらの水和物か
らなる群から選ばれる物質の使用が提供される。
【０００８】
【発明の実施の形態】上記一般式（Ｉ）において、Ｒ1
で表わされるＣ3 〜Ｃ8 のシクロアルキル基としては、
例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペ
ンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、又は
シクロオクチル基を挙げることができる。Ｃ6 〜Ｃ14の
アリール基としては、単環又は２〜３個程度の縮合環を
有する芳香族炭化水素基、例えば、フェニル基、ナフチ
ル基、又はアントリル基を挙げることができる。
で表わされるＣ3 〜Ｃ8 のシクロアルキル基としては、
例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペ
ンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、又は
シクロオクチル基を挙げることができる。Ｃ6 〜Ｃ14の
アリール基としては、単環又は２〜３個程度の縮合環を
有する芳香族炭化水素基、例えば、フェニル基、ナフチ
ル基、又はアントリル基を挙げることができる。
【０００９】複素環残基としては、酸素原子、硫黄原
子、窒素原子から選ばれるヘテロ原子を１〜４個有し、
環を構成する総原子数が５〜10の複素環化合物の残基を
用いることができる。より具体的には、複素環残基とし
て、例えば、フラン環、ジヒドロフラン環、テトラヒド
ロフラン環、ピラン環、ジヒドロピラン環、テトラヒド
ロピラン環、ベンゾフラン環、ジヒドロベンゾフラン
環、イソベンゾフラン環、クロメン環、クロマン環、イ
ソクロマン環、チオフェン環、ベンゾチオフェン環、ピ
ロール環、ピロリン環、ピロリジン環、イミダゾール
環、イミダゾリン環、イミダゾリジン環、ピラゾール
環、ピラゾリン環、ピラゾリジン環、トリアゾール環、
テトラゾール環、ピリジン環、ピリジンオキシド環、ピ
ペリジン環、ピラジン環、ピペラジン環、ピリミジン
環、ピリダジン環、インドリジン環、インドール環、イ
ンドリン環、イソインドール環、イソインドリン環、イ
ンダゾール環、ベンゾイミダゾール環、プリン環、キノ
リジン環、キノリン環、フタラジン環、ナフチリジン
環、キノキサリン環、キナゾリン環、シンノリン環、プ
テリジン環、オキサゾール環、オキサゾリジン環、イソ
キサゾール環、イソキサゾリジン環、チアゾール環、チ
アジリジン環、イソチアゾール環、イソチアゾリジン
環、ジオキサン環、ジチアン環、モルホリン環、又はチ
オモルホリン環を挙げることができる。Ｃ6 〜Ｃ14のア
リールオキシ基としては、例えば、フェニルオキシ基、
ナフチルオキシ基、又はアントリルオキシ基を挙げるこ
とができ、Ｃ7 〜Ｃ15のアリールメチル基としては、例
えば、ベンジル基、ナフチルメチル基、アントリルメチ
ル基を挙げることができる。
子、窒素原子から選ばれるヘテロ原子を１〜４個有し、
環を構成する総原子数が５〜10の複素環化合物の残基を
用いることができる。より具体的には、複素環残基とし
て、例えば、フラン環、ジヒドロフラン環、テトラヒド
ロフラン環、ピラン環、ジヒドロピラン環、テトラヒド
ロピラン環、ベンゾフラン環、ジヒドロベンゾフラン
環、イソベンゾフラン環、クロメン環、クロマン環、イ
ソクロマン環、チオフェン環、ベンゾチオフェン環、ピ
ロール環、ピロリン環、ピロリジン環、イミダゾール
環、イミダゾリン環、イミダゾリジン環、ピラゾール
環、ピラゾリン環、ピラゾリジン環、トリアゾール環、
テトラゾール環、ピリジン環、ピリジンオキシド環、ピ
ペリジン環、ピラジン環、ピペラジン環、ピリミジン
環、ピリダジン環、インドリジン環、インドール環、イ
ンドリン環、イソインドール環、イソインドリン環、イ
ンダゾール環、ベンゾイミダゾール環、プリン環、キノ
リジン環、キノリン環、フタラジン環、ナフチリジン
環、キノキサリン環、キナゾリン環、シンノリン環、プ
テリジン環、オキサゾール環、オキサゾリジン環、イソ
キサゾール環、イソキサゾリジン環、チアゾール環、チ
アジリジン環、イソチアゾール環、イソチアゾリジン
環、ジオキサン環、ジチアン環、モルホリン環、又はチ
オモルホリン環を挙げることができる。Ｃ6 〜Ｃ14のア
リールオキシ基としては、例えば、フェニルオキシ基、
ナフチルオキシ基、又はアントリルオキシ基を挙げるこ
とができ、Ｃ7 〜Ｃ15のアリールメチル基としては、例
えば、ベンジル基、ナフチルメチル基、アントリルメチ
ル基を挙げることができる。
【００１０】Ｒ2 及びＲ3 がそれぞれ独立に表わすＣ1
〜Ｃ5 のアルキル基は直鎖又は分枝鎖のいずれでもよ
く、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプ
ロピル基、ブチル基、イソブチル基、ペンチル基、又は
イソペンチル基を挙げることができる。Ｒ2 とＲ3 がい
っしょになって表わすＣ2 〜Ｃ7 のアルキレン基として
は、例えば、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチ
レン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、ヘプタ
メチレン基を挙げることができ、これらは分枝鎖を有し
ていてもよい。
〜Ｃ5 のアルキル基は直鎖又は分枝鎖のいずれでもよ
く、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプ
ロピル基、ブチル基、イソブチル基、ペンチル基、又は
イソペンチル基を挙げることができる。Ｒ2 とＲ3 がい
っしょになって表わすＣ2 〜Ｃ7 のアルキレン基として
は、例えば、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチ
レン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、ヘプタ
メチレン基を挙げることができ、これらは分枝鎖を有し
ていてもよい。
【００１１】Ｒ4 及びＲ5 で表わされるＣ1 〜Ｃ5 のア
ルキル基としては、それぞれ独立にＲ2 及びＲ3 につい
て説明したものを用いることができる。Ｒ6 で表わされ
るＣ1 〜Ｃ5 のアルキル基としては、Ｒ2 及びＲ3 につ
いて説明したものを用いることができ、このアルキル基
は１個又は２個以上、好ましくは１個の水酸基で置換さ
れていてもよい。Ｒ6 で表わされるＣ1 〜Ｃ5 のアルコ
キシ基は直鎖又は分枝鎖のいずれでもよく、例えば、メ
トキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ
基、ブトキシ基、イソブトシキ基、tert- ブトキシ基、
ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基を挙げること
ができる。
ルキル基としては、それぞれ独立にＲ2 及びＲ3 につい
て説明したものを用いることができる。Ｒ6 で表わされ
るＣ1 〜Ｃ5 のアルキル基としては、Ｒ2 及びＲ3 につ
いて説明したものを用いることができ、このアルキル基
は１個又は２個以上、好ましくは１個の水酸基で置換さ
れていてもよい。Ｒ6 で表わされるＣ1 〜Ｃ5 のアルコ
キシ基は直鎖又は分枝鎖のいずれでもよく、例えば、メ
トキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ
基、ブトキシ基、イソブトシキ基、tert- ブトキシ基、
ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基を挙げること
ができる。
【００１２】上記のシクロアルキル基、アリール基、複
素環残基、アリールオキシ基、又はアリールメチル基
は、その環上の任意の位置に１個又は２個以上の置換基
を有していてもよい。このような置換基としては、例え
ば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原
子；メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル
基、ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert- ブ
チル基、ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル
基、tert- ペンチル基等のＣ1 〜Ｃ5 のアルキル基；ベ
ンジル基、フェニルエチル基、ナフチルメチル基等のＣ
7 〜Ｃ15のアラルキル基；トリフルオロメチル基；メト
キシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ
基、ブトキシ基、イソブトシキ基、tert- ブトキシ基、
ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基等のＣ1 〜Ｃ
5 のアルコキシ基；ベンジルオキシ基、フェニルエチル
オキシ基、ナフチルメチルオキシ基等のＣ7 〜Ｃ15のア
ラルキルオキシ基；メチレンジオキシ基、エチレンジオ
キシ基、プロプレンジオキシ基等のＣ1 〜Ｃ5 のアルキ
レンジオキシ基；水酸基；ニトロ基；アセトキシ基、プ
ロピオニルオキシ基、ブチリルオキシ基、バレリルオキ
シ基等のＣ2 〜Ｃ6 のアルキルカルボニルオキシ基；カ
ルボキシル基；メトキシカルボニル基、エトキシカルボ
ニル基、プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカル
ボニル基、ブトキシカルボニル基、イソブトキシカルボ
ニル基、tert- ブトキシカルボニル基、ペンチルオキシ
カルボニル基等のＣ2 〜Ｃ6 のアルコキシカルボニル
基；ベンジルオキシカルボニル基、フェニルエチルオキ
シカルボニル基、ナフチルメチルオキシカルボニル基等
のＣ7 〜Ｃ15のアラルキルオキシカルボニル基；オキソ
基；アセチル基、プルピオニル基、ブチリル基、バレリ
ル基等のＣ2 〜Ｃ6 のアルキルカルボニル基；アミノ
基；メチルアミノ基、エチルアミノ基、プロピルアミノ
基、イソプロピルアミノ基、ブチルアミノ基、イソブチ
ルアミノ基、tert- ブチルアミノ基、ペンチルアミノ
基、イソペンチルアミノ基等のＣ1 〜Ｃ5 のモノアルキ
ルアミノ基；ジメチルアミノ基、エチルメチルアミノ
基、ジエチルアミノ基、メチルプロピルアミノ基、ジイ
ソプロピルアミノ基等のＣ2 〜Ｃ10のジアルキルアミノ
基；アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基、イソプ
ロピオニルアミノ基、ブチリルアミノ基、バレリルアミ
ノ基等のＣ2 〜Ｃ6 のアルキルカルボニルアミノ基；メ
トキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ
基、プロポキシカルボニルアミノ基、イソプロポキシカ
ルボニルアミノ基、ブトキシカルボニルアミノ基、イソ
ブトキシカルボニルアミノ基、tert- ブトキシカルボニ
ルアミノ基、ペンチルオキシカルボニルアミノ基等のＣ
2 〜Ｃ6 のアルコキシカルボニルアミノ基；ベンジルオ
キシカルボニルアミノ基、フェニルエチルオキシカルボ
ニルアミノ基、ナフチルメチルオキシカルボニルアミノ
基等のＣ7 〜Ｃ15のアラルキルオキシカルボニルアミノ
基；カルバモイル基；メチルカルバモイル基、エチルカ
ルバモイル基、プロピルカルバモイル基、ブチルカルバ
モイル基、tert- ブチルカルバモイル基、ペンチルカル
バモイル基等のＣ2 〜Ｃ6 のアルキルカルバモイル基及
びフェニル基、ナフチル基等のＣ6 〜Ｃ12のアリール基
などを挙げることができる。
素環残基、アリールオキシ基、又はアリールメチル基
は、その環上の任意の位置に１個又は２個以上の置換基
を有していてもよい。このような置換基としては、例え
ば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原
子；メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル
基、ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert- ブ
チル基、ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル
基、tert- ペンチル基等のＣ1 〜Ｃ5 のアルキル基；ベ
ンジル基、フェニルエチル基、ナフチルメチル基等のＣ
7 〜Ｃ15のアラルキル基；トリフルオロメチル基；メト
キシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ
基、ブトキシ基、イソブトシキ基、tert- ブトキシ基、
ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基等のＣ1 〜Ｃ
5 のアルコキシ基；ベンジルオキシ基、フェニルエチル
オキシ基、ナフチルメチルオキシ基等のＣ7 〜Ｃ15のア
ラルキルオキシ基；メチレンジオキシ基、エチレンジオ
キシ基、プロプレンジオキシ基等のＣ1 〜Ｃ5 のアルキ
レンジオキシ基；水酸基；ニトロ基；アセトキシ基、プ
ロピオニルオキシ基、ブチリルオキシ基、バレリルオキ
シ基等のＣ2 〜Ｃ6 のアルキルカルボニルオキシ基；カ
ルボキシル基；メトキシカルボニル基、エトキシカルボ
ニル基、プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカル
ボニル基、ブトキシカルボニル基、イソブトキシカルボ
ニル基、tert- ブトキシカルボニル基、ペンチルオキシ
カルボニル基等のＣ2 〜Ｃ6 のアルコキシカルボニル
基；ベンジルオキシカルボニル基、フェニルエチルオキ
シカルボニル基、ナフチルメチルオキシカルボニル基等
のＣ7 〜Ｃ15のアラルキルオキシカルボニル基；オキソ
基；アセチル基、プルピオニル基、ブチリル基、バレリ
ル基等のＣ2 〜Ｃ6 のアルキルカルボニル基；アミノ
基；メチルアミノ基、エチルアミノ基、プロピルアミノ
基、イソプロピルアミノ基、ブチルアミノ基、イソブチ
ルアミノ基、tert- ブチルアミノ基、ペンチルアミノ
基、イソペンチルアミノ基等のＣ1 〜Ｃ5 のモノアルキ
ルアミノ基；ジメチルアミノ基、エチルメチルアミノ
基、ジエチルアミノ基、メチルプロピルアミノ基、ジイ
ソプロピルアミノ基等のＣ2 〜Ｃ10のジアルキルアミノ
基；アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基、イソプ
ロピオニルアミノ基、ブチリルアミノ基、バレリルアミ
ノ基等のＣ2 〜Ｃ6 のアルキルカルボニルアミノ基；メ
トキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ
基、プロポキシカルボニルアミノ基、イソプロポキシカ
ルボニルアミノ基、ブトキシカルボニルアミノ基、イソ
ブトキシカルボニルアミノ基、tert- ブトキシカルボニ
ルアミノ基、ペンチルオキシカルボニルアミノ基等のＣ
2 〜Ｃ6 のアルコキシカルボニルアミノ基；ベンジルオ
キシカルボニルアミノ基、フェニルエチルオキシカルボ
ニルアミノ基、ナフチルメチルオキシカルボニルアミノ
基等のＣ7 〜Ｃ15のアラルキルオキシカルボニルアミノ
基；カルバモイル基；メチルカルバモイル基、エチルカ
ルバモイル基、プロピルカルバモイル基、ブチルカルバ
モイル基、tert- ブチルカルバモイル基、ペンチルカル
バモイル基等のＣ2 〜Ｃ6 のアルキルカルバモイル基及
びフェニル基、ナフチル基等のＣ6 〜Ｃ12のアリール基
などを挙げることができる。
【００１３】上記式（Ｉ）で表される本発明の化合物の
うち、好ましい化合物としては、Ｒ1 が置換基を有して
いてもよいＣ6 〜Ｃ14のアリール基、置換基を有してい
てもよい複素環残基、置換基を有していてもよいＣ6 〜
Ｃ14のアリールオキシ基、又は置換基を有していてもよ
いＣ7 〜Ｃ15のアリールメチル基であり、Ｒ2 、Ｒ3、
Ｒ4 、及びＲ5 が水素原子であり、Ｒ6 がＣ1 〜Ｃ5 の
アルキル基である化合物を挙げることができる。さらに
好ましい化合物としては、Ｒ1 が置換基を有していても
よいＣ6 〜Ｃ14のアリール基、置換基を有していてもよ
い複素環残基、置換基を有していてもよいＣ6 〜Ｃ14の
アリールオキシ基、又は置換基を有していてもよいＣ7
〜Ｃ15のアリールメチル基であり、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、
及びＲ5が水素原子であり、Ｒ6 がメチル基である化合
物を挙げることができる。
うち、好ましい化合物としては、Ｒ1 が置換基を有して
いてもよいＣ6 〜Ｃ14のアリール基、置換基を有してい
てもよい複素環残基、置換基を有していてもよいＣ6 〜
Ｃ14のアリールオキシ基、又は置換基を有していてもよ
いＣ7 〜Ｃ15のアリールメチル基であり、Ｒ2 、Ｒ3、
Ｒ4 、及びＲ5 が水素原子であり、Ｒ6 がＣ1 〜Ｃ5 の
アルキル基である化合物を挙げることができる。さらに
好ましい化合物としては、Ｒ1 が置換基を有していても
よいＣ6 〜Ｃ14のアリール基、置換基を有していてもよ
い複素環残基、置換基を有していてもよいＣ6 〜Ｃ14の
アリールオキシ基、又は置換基を有していてもよいＣ7
〜Ｃ15のアリールメチル基であり、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、
及びＲ5が水素原子であり、Ｒ6 がメチル基である化合
物を挙げることができる。
【００１４】特に好ましい化合物としては、Ｎ−（３−
メチルカルバモイルフェニル）−３−クロロフェニルア
セトアミド；Ｎ−（３−メチルカルバモイルフェニル）
−４−クロロフェニルアセトアミド；Ｎ−（３−メチル
カルバモイルフェニル）−３−ブロモフェニルアセトア
ミド；Ｎ−（３−メチルカルバモイルフェニル）−４−
ブロモフェニルアセトアミド；Ｎ−（３−メチルカルバ
モイルフェニル）−３−メチルフェニルアセトアミド；
Ｎ−（３−メチルカルバモイルフェニル）−４−メチル
フェニルアセトアミド；Ｎ−（３−メチルカルバモイル
フェニル）−３−メトキシフェニルアセトアミド；Ｎ−
（３−メチルカルバモイルフェニル）−４−メトキシフ
ェニルアセトアミド；Ｎ−（３−メチルカルバモイルフ
ェニル）−３，４，５−トリメトキシフェニルアセトア
ミド；Ｎ−（３−メチルカルバモイルフェニル）−３−
ベンジルオキシフェニルアセトアミド；Ｎ−（３−メチ
ルカルバモイルフェニル）−１−ナフチルアセトアミ
ド；Ｎ−（３−メチルカルバモイルフェニル）−２−ナ
フチルアセトアミド；Ｎ−（３−メチルカルバモイルフ
ェニル）−３−インドリルアセトアミド；Ｎ−（３−メ
チルカルバモイルフェニル）−３−ベンゾチエニルアセ
トアミド；Ｎ−（３−メチルカルバモイルフェニル）−
４−ベンゾチエニルアセトアミド；Ｎ−（３−メチルカ
ルバモイルフェニル）−３，４−メチレンジオキシフェ
ニルアセトアミド；Ｎ−（３−メチルカルバモイルフェ
ニル）−２−クロロフェノキシアセトアミド；Ｎ−（３
−メチルカルバモイルフェニル）−２，３−ジクロロフ
ェノキシアセトアミド；Ｎ−（３−メチルカルバモイル
フェニル）−１−ナフチルオキシアセトアミド；Ｎ−
（３−メチルカルバモイルフェニル）−２−ナフチルオ
キシアセトアミド；及びＮ−（３−メチルカルバモイル
フェニル）−３−（２−メトキシフェニル）プロピオン
アミドを挙げることができる。
メチルカルバモイルフェニル）−３−クロロフェニルア
セトアミド；Ｎ−（３−メチルカルバモイルフェニル）
−４−クロロフェニルアセトアミド；Ｎ−（３−メチル
カルバモイルフェニル）−３−ブロモフェニルアセトア
ミド；Ｎ−（３−メチルカルバモイルフェニル）−４−
ブロモフェニルアセトアミド；Ｎ−（３−メチルカルバ
モイルフェニル）−３−メチルフェニルアセトアミド；
Ｎ−（３−メチルカルバモイルフェニル）−４−メチル
フェニルアセトアミド；Ｎ−（３−メチルカルバモイル
フェニル）−３−メトキシフェニルアセトアミド；Ｎ−
（３−メチルカルバモイルフェニル）−４−メトキシフ
ェニルアセトアミド；Ｎ−（３−メチルカルバモイルフ
ェニル）−３，４，５−トリメトキシフェニルアセトア
ミド；Ｎ−（３−メチルカルバモイルフェニル）−３−
ベンジルオキシフェニルアセトアミド；Ｎ−（３−メチ
ルカルバモイルフェニル）−１−ナフチルアセトアミ
ド；Ｎ−（３−メチルカルバモイルフェニル）−２−ナ
フチルアセトアミド；Ｎ−（３−メチルカルバモイルフ
ェニル）−３−インドリルアセトアミド；Ｎ−（３−メ
チルカルバモイルフェニル）−３−ベンゾチエニルアセ
トアミド；Ｎ−（３−メチルカルバモイルフェニル）−
４−ベンゾチエニルアセトアミド；Ｎ−（３−メチルカ
ルバモイルフェニル）−３，４−メチレンジオキシフェ
ニルアセトアミド；Ｎ−（３−メチルカルバモイルフェ
ニル）−２−クロロフェノキシアセトアミド；Ｎ−（３
−メチルカルバモイルフェニル）−２，３−ジクロロフ
ェノキシアセトアミド；Ｎ−（３−メチルカルバモイル
フェニル）−１−ナフチルオキシアセトアミド；Ｎ−
（３−メチルカルバモイルフェニル）−２−ナフチルオ
キシアセトアミド；及びＮ−（３−メチルカルバモイル
フェニル）−３−（２−メトキシフェニル）プロピオン
アミドを挙げることができる。
【００１５】上記一般式（Ｉ）で表される本発明のアミ
ド誘導体は塩を形成することができる。塩の具体例とし
ては、酸性基が存在する場合には、例えば、リチウム
塩、ナトリウム塩、カリウム塩、マグネシウム塩、カル
シウム塩等の金属塩、又はアンモニウム塩、メチルアン
モニウム塩、ジメチルアンモニウム塩、トリメチルアン
モニウム塩、ジシクロヘキシルアンモニウム塩等のアン
モニウム塩を挙げることができ、塩基性基が存在する場
合には、例えば、塩酸塩、臭酸塩、硫酸塩、硝酸塩、リ
ン酸塩等の鉱酸塩、あるいはメタンスルホン酸塩、ベン
ゼンスルホン酸塩、パラトルエンスルホン酸塩、酢酸
塩、プロピオン酸塩、酒石酸塩、フマール酸塩、マレイ
ン酸塩、リンゴ酸塩、シュウ酸塩、コハク酸塩、クエン
酸塩、安息香酸塩、マンデル酸塩、ケイ皮酸塩、乳酸塩
等の有機酸塩を挙げることができる。本発明の医薬の有
効成分としては、薬学的に許容される塩が好適である。
また、上記一般式（Ｉ）で表される本発明のアミド誘導
体又はその塩は、溶媒和物又は水和物として存在するこ
ともできる。遊離形態の化合物のほか、塩の形態、又は
水和物若しくは溶媒和物の形態の物質も本発明の範囲に
包含される。
ド誘導体は塩を形成することができる。塩の具体例とし
ては、酸性基が存在する場合には、例えば、リチウム
塩、ナトリウム塩、カリウム塩、マグネシウム塩、カル
シウム塩等の金属塩、又はアンモニウム塩、メチルアン
モニウム塩、ジメチルアンモニウム塩、トリメチルアン
モニウム塩、ジシクロヘキシルアンモニウム塩等のアン
モニウム塩を挙げることができ、塩基性基が存在する場
合には、例えば、塩酸塩、臭酸塩、硫酸塩、硝酸塩、リ
ン酸塩等の鉱酸塩、あるいはメタンスルホン酸塩、ベン
ゼンスルホン酸塩、パラトルエンスルホン酸塩、酢酸
塩、プロピオン酸塩、酒石酸塩、フマール酸塩、マレイ
ン酸塩、リンゴ酸塩、シュウ酸塩、コハク酸塩、クエン
酸塩、安息香酸塩、マンデル酸塩、ケイ皮酸塩、乳酸塩
等の有機酸塩を挙げることができる。本発明の医薬の有
効成分としては、薬学的に許容される塩が好適である。
また、上記一般式（Ｉ）で表される本発明のアミド誘導
体又はその塩は、溶媒和物又は水和物として存在するこ
ともできる。遊離形態の化合物のほか、塩の形態、又は
水和物若しくは溶媒和物の形態の物質も本発明の範囲に
包含される。
【００１６】上記一般式（Ｉ）で表される本発明のアミ
ド誘導体に存在する不斉炭素の立体化学については、そ
れぞれ独立して（Ｒ）体、（Ｓ）体、あるいは（ＲＳ）
体をとることができる。１個又は２個以上の不斉炭素に
基づく光学活性体又はジアステレオ異性体などの純粋な
形態の異性体、異性体の任意の混合物、又はラセミ体な
どはいずれも本発明の範囲に包含される。上記一般式
（Ｉ）で表される本発明のアミド誘導体の具体的例とし
ては、下記表−１に示す化合物を挙げることができる。
ド誘導体に存在する不斉炭素の立体化学については、そ
れぞれ独立して（Ｒ）体、（Ｓ）体、あるいは（ＲＳ）
体をとることができる。１個又は２個以上の不斉炭素に
基づく光学活性体又はジアステレオ異性体などの純粋な
形態の異性体、異性体の任意の混合物、又はラセミ体な
どはいずれも本発明の範囲に包含される。上記一般式
（Ｉ）で表される本発明のアミド誘導体の具体的例とし
ては、下記表−１に示す化合物を挙げることができる。
【００１７】
【表１】
【００１８】
【表２】
【００１９】
【表３】
【００２０】
【表４】
【００２１】
【表５】
【００２２】
【表６】
【００２３】
【表７】
【００２４】
【表８】
【００２５】
【表９】
【００２６】
【表１０】
【００２７】
【表１１】
【００２８】
【表１２】
【００２９】
【表１３】
【００３０】
【表１４】
【００３１】
【表１５】
【００３２】
【表１６】
【００３３】
【表１７】
【００３４】
【表１８】
【００３５】
【表１９】
【００３６】
【表２０】
【００３７】
【表２１】
【００３８】
【表２２】
【００３９】
【表２３】
【００４０】
【表２４】
【００４１】
【表２５】
【００４２】
【表２６】
【００４３】上記一般式（Ｉ）で表される本発明のアミ
ド誘導体は、例えば、以下の方法で製造することができ
る（スキーム中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 、及び
Ｒ6は既に定義した通りである。）。
ド誘導体は、例えば、以下の方法で製造することができ
る（スキーム中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 、及び
Ｒ6は既に定義した通りである。）。
【化３】
【００４４】上記一般式（II）で示されるカルボン酸誘
導体を、必要に応じてトリエチルアミン、ピリジン等の
塩基の存在下、ジシクロヘキシルカルボジイミド、ジフ
ェニルホスホリルアジド、カルボニルジイミダゾール、
オキサリルクロリド、クロル蟻酸イソブチル、塩化チオ
ニル等の縮合剤と反応させてカルボン酸を活性化させ、
つぎに、必要に応じてトリエチルアミン、ピリジン等の
塩基の存在下、上記一般式（III ）で示されるアニリン
誘導体を反応させると、上記一般式（Ｉ）で示される化
合物が得られる。この縮合反応に用いる溶媒は、各縮合
剤に適した溶媒を適宜選んで使用すればよく、また反応
条件等も各縮合剤に適した条件で行なえばよい。上記の
一連の操作において、官能基の保護及び脱保護が必要に
なる場合もあるが、その際の保護基はその官能基に適し
たものを選択し、実験操作も文献公知の方法を用いて行
なえばよい。
導体を、必要に応じてトリエチルアミン、ピリジン等の
塩基の存在下、ジシクロヘキシルカルボジイミド、ジフ
ェニルホスホリルアジド、カルボニルジイミダゾール、
オキサリルクロリド、クロル蟻酸イソブチル、塩化チオ
ニル等の縮合剤と反応させてカルボン酸を活性化させ、
つぎに、必要に応じてトリエチルアミン、ピリジン等の
塩基の存在下、上記一般式（III ）で示されるアニリン
誘導体を反応させると、上記一般式（Ｉ）で示される化
合物が得られる。この縮合反応に用いる溶媒は、各縮合
剤に適した溶媒を適宜選んで使用すればよく、また反応
条件等も各縮合剤に適した条件で行なえばよい。上記の
一連の操作において、官能基の保護及び脱保護が必要に
なる場合もあるが、その際の保護基はその官能基に適し
たものを選択し、実験操作も文献公知の方法を用いて行
なえばよい。
【００４５】上記一般式（Ｉ）で示される本発明の化合
物はヘリコバクター・ピロリに対して優れた抗菌作用を
有しており、胃内に存在するヘリコバクター・ピロリに
対して高い除菌効果を発揮できる。従って、本発明の医
薬は、ヘリコバクター・ピロリの感染が関与する各種消
化器疾患、例えば、胃炎、胃潰瘍、胃癌、胃の悪性リン
パ腫、ＭＡＬＴリンパ腫、十二指腸潰瘍、及び十二指腸
癌からなる群から選ばれる疾患の治療及び／又は予防に
有用である。より具体的には、胃炎、胃潰瘍、十二指腸
潰瘍、胃癌、十二指腸癌、又は胃の悪性リンパ腫の治療
薬、胃潰瘍、十二指腸潰瘍、胃癌、又は十二指腸癌の予
防薬、あるいは胃潰瘍や十二指腸潰瘍などの再発防止の
ための予防薬として好適に用いることができる。
物はヘリコバクター・ピロリに対して優れた抗菌作用を
有しており、胃内に存在するヘリコバクター・ピロリに
対して高い除菌効果を発揮できる。従って、本発明の医
薬は、ヘリコバクター・ピロリの感染が関与する各種消
化器疾患、例えば、胃炎、胃潰瘍、胃癌、胃の悪性リン
パ腫、ＭＡＬＴリンパ腫、十二指腸潰瘍、及び十二指腸
癌からなる群から選ばれる疾患の治療及び／又は予防に
有用である。より具体的には、胃炎、胃潰瘍、十二指腸
潰瘍、胃癌、十二指腸癌、又は胃の悪性リンパ腫の治療
薬、胃潰瘍、十二指腸潰瘍、胃癌、又は十二指腸癌の予
防薬、あるいは胃潰瘍や十二指腸潰瘍などの再発防止の
ための予防薬として好適に用いることができる。
【００４６】本発明の医薬の有効成分としては、上記一
般式（Ｉ）で示される化合物及び薬学的に許容されるそ
の塩、並びにそれらの溶媒和物及びそれらの水和物から
なる群から選ばれる物質の１種又は２種以上を用いるこ
とができる。本発明の医薬は、好適には、有効成分であ
る上記の物質と１又は２以上の薬学的に許容される製剤
用添加物とを含む医薬組成物の形態で提供される。上記
医薬組成物において、製剤用添加物に対する有効成分の
割合は、１重量％から90重量％程度である。
般式（Ｉ）で示される化合物及び薬学的に許容されるそ
の塩、並びにそれらの溶媒和物及びそれらの水和物から
なる群から選ばれる物質の１種又は２種以上を用いるこ
とができる。本発明の医薬は、好適には、有効成分であ
る上記の物質と１又は２以上の薬学的に許容される製剤
用添加物とを含む医薬組成物の形態で提供される。上記
医薬組成物において、製剤用添加物に対する有効成分の
割合は、１重量％から90重量％程度である。
【００４７】本発明の医薬は、例えば、顆粒剤、細粒
剤、散剤、硬カプセル剤、軟カプセル剤、シロップ剤、
乳剤、懸濁剤、又は液剤などの経口投与用の医薬組成物
として投与してもよいし、静脈内投与、筋肉内投与、若
しくは皮下投与用の注射剤、点滴剤、又は坐剤などの非
経口投与用の医薬組成物として投与することもできる。
粉末の形態の医薬組成物として調製された製剤を用時に
溶解して注射剤又は点滴剤として使用してもよい。
剤、散剤、硬カプセル剤、軟カプセル剤、シロップ剤、
乳剤、懸濁剤、又は液剤などの経口投与用の医薬組成物
として投与してもよいし、静脈内投与、筋肉内投与、若
しくは皮下投与用の注射剤、点滴剤、又は坐剤などの非
経口投与用の医薬組成物として投与することもできる。
粉末の形態の医薬組成物として調製された製剤を用時に
溶解して注射剤又は点滴剤として使用してもよい。
【００４８】医薬用組成物の製造には、固体又は液体の
製剤用添加物を用いることができる。製剤用添加物は有
機又は無機のいずれであってもよい。固体製剤を製造す
る際に用いられる賦形剤としては、例えば、乳糖、蔗
糖、デンプン、タルク、セルロース、デキストリン、カ
オリン、炭酸カルシウムを挙げることができる。経口投
与のための液体製剤、例えば、乳剤、シロップ剤、懸濁
剤、液剤の製造には、一般的に用いられる不活性な希釈
剤、例えば水又は植物油を用いることができる。この製
剤には、不活性な希釈剤以外に、補助剤、例えば湿潤
剤、懸濁補助剤、甘味剤、芳香剤、着色剤又は保存剤を
配合することができる。液体製剤を調製した後、ゼラチ
ンのような吸収されうる物質のカプセル中に充填しても
よい。非経口投与用の製剤、例えば注射剤又は坐剤等の
製造に用いられる溶剤又は懸濁剤としては、例えば、
水、プロピレングリコール、ポリエチレングリコール、
ベンジルアルコール、オレイン酸エチル、レシチンを挙
げることができる。坐剤の製造に用いられる基剤として
は、例えば、カカオ脂、乳化カカオ脂、ラウリン脂、ウ
ィテップゾールを挙げることができる。製剤の調製方法
は特に限定されず、当業界で汎用されている方法はいず
れも利用可能である。
製剤用添加物を用いることができる。製剤用添加物は有
機又は無機のいずれであってもよい。固体製剤を製造す
る際に用いられる賦形剤としては、例えば、乳糖、蔗
糖、デンプン、タルク、セルロース、デキストリン、カ
オリン、炭酸カルシウムを挙げることができる。経口投
与のための液体製剤、例えば、乳剤、シロップ剤、懸濁
剤、液剤の製造には、一般的に用いられる不活性な希釈
剤、例えば水又は植物油を用いることができる。この製
剤には、不活性な希釈剤以外に、補助剤、例えば湿潤
剤、懸濁補助剤、甘味剤、芳香剤、着色剤又は保存剤を
配合することができる。液体製剤を調製した後、ゼラチ
ンのような吸収されうる物質のカプセル中に充填しても
よい。非経口投与用の製剤、例えば注射剤又は坐剤等の
製造に用いられる溶剤又は懸濁剤としては、例えば、
水、プロピレングリコール、ポリエチレングリコール、
ベンジルアルコール、オレイン酸エチル、レシチンを挙
げることができる。坐剤の製造に用いられる基剤として
は、例えば、カカオ脂、乳化カカオ脂、ラウリン脂、ウ
ィテップゾールを挙げることができる。製剤の調製方法
は特に限定されず、当業界で汎用されている方法はいず
れも利用可能である。
【００４９】本発明医薬の投与量は、経口投与の場合に
は、成人一日あたり本発明化合物重量として一般的には
0.01〜5,000 mgであるが、患者の年令、病態、症状に応
じて適宜増減することが好ましい。前記一日量は一日に
一回、又は適当な間隔をおいて一日に２〜３回に分けて
投与してもよいし、数日おきに間欠投与してもよい。注
射剤として用いる場合には、成人一日あたり本発明化合
物重量として0.001 〜100mg 程度である。
は、成人一日あたり本発明化合物重量として一般的には
0.01〜5,000 mgであるが、患者の年令、病態、症状に応
じて適宜増減することが好ましい。前記一日量は一日に
一回、又は適当な間隔をおいて一日に２〜３回に分けて
投与してもよいし、数日おきに間欠投与してもよい。注
射剤として用いる場合には、成人一日あたり本発明化合
物重量として0.001 〜100mg 程度である。
【００５０】
【実施例】以下、実施例により本発明をさらに具体的に
説明するが、本発明の範囲はこれらの実施例に限定され
ることはない。 実施例１：Ｎ−（３−メチルカルバモイルフェニル）−
３−クロロフェニルアセトアミド（表−１の化合物番号
１７）の製造 ３−クロロフェニル酢酸１９２ｍｇを塩化メチレン８ｍ
ｌに溶かし、オキサリルクロリド０．１０ｍｌ及びジメ
チルホルムアミドを１滴加えた。室温で１時間撹拌した
後、３ーアミノベンゾイルメチルアミド１６７ｍｇ及び
ピリジン０．１９ｍｌを加え、室温で一晩撹拌した。溶
媒を減圧留去した後、水１０ｍｌ及び２規定塩酸水１ｍ
ｌを加え、生成した結晶を濾過して水で洗った。この結
晶を乾燥後、酢酸エチル６ｍｌに加えて１０分間加熱還
流した。これを室温まで冷却し、結晶を濾過して酢酸エ
チルで洗うと目的物２３３ｍｇが得られた。収率６８
％。 融点：１６５−１６６℃ ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：３３２４，１６４２，１５９
３，１５５５． ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ）：２．７６（ｄ，Ｊ＝
４．５Ｈｚ，３Ｈ），３．６８（ｓ，２Ｈ），７．２５
−７．４２（ｍ，５Ｈ），７．４８（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈ
ｚ，１Ｈ），７．７４（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），
８．０２（ｄｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ，１．８Ｈｚ，１
Ｈ），８．３６（ｄ，Ｊ＝４．５Ｈｚ，１Ｈ），１０．
３１（ｓ，１Ｈ）．
説明するが、本発明の範囲はこれらの実施例に限定され
ることはない。 実施例１：Ｎ−（３−メチルカルバモイルフェニル）−
３−クロロフェニルアセトアミド（表−１の化合物番号
１７）の製造 ３−クロロフェニル酢酸１９２ｍｇを塩化メチレン８ｍ
ｌに溶かし、オキサリルクロリド０．１０ｍｌ及びジメ
チルホルムアミドを１滴加えた。室温で１時間撹拌した
後、３ーアミノベンゾイルメチルアミド１６７ｍｇ及び
ピリジン０．１９ｍｌを加え、室温で一晩撹拌した。溶
媒を減圧留去した後、水１０ｍｌ及び２規定塩酸水１ｍ
ｌを加え、生成した結晶を濾過して水で洗った。この結
晶を乾燥後、酢酸エチル６ｍｌに加えて１０分間加熱還
流した。これを室温まで冷却し、結晶を濾過して酢酸エ
チルで洗うと目的物２３３ｍｇが得られた。収率６８
％。 融点：１６５−１６６℃ ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：３３２４，１６４２，１５９
３，１５５５． ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ）：２．７６（ｄ，Ｊ＝
４．５Ｈｚ，３Ｈ），３．６８（ｓ，２Ｈ），７．２５
−７．４２（ｍ，５Ｈ），７．４８（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈ
ｚ，１Ｈ），７．７４（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），
８．０２（ｄｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ，１．８Ｈｚ，１
Ｈ），８．３６（ｄ，Ｊ＝４．５Ｈｚ，１Ｈ），１０．
３１（ｓ，１Ｈ）．
【００５１】実施例１と同様の方法により、実施例２〜
実施例５０の化合物を合成した。以下、その物性値を記
す。 実施例２：Ｎ−（３−メチルカルバモイルフェニル）シ
クロヘキシルアセトアミド（表−１の化合物番号４）の
製造 融点：１８３℃ ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：３２９３，１６５７，１６４
０，１５８８，１５３５． ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ）：０．９９（ｍ，２
Ｈ），１．０３−１．３８（ｍ，３Ｈ），１．５５−
１．９０（ｍ，６Ｈ），２．１９（ｄ，Ｊ＝７．０Ｈ
ｚ，２Ｈ），２．７６（ｄ，Ｊ＝４．５Ｈｚ，３Ｈ），
７．３４（ｄｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，７．８Ｈｚ，１
Ｈ），７．４５（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．７
４（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），８．０１（ｓ，１
Ｈ），８．３４（ｄ，Ｊ＝４．５Ｈｚ，１Ｈ），９．９
５（ｓ，１Ｈ）．
実施例５０の化合物を合成した。以下、その物性値を記
す。 実施例２：Ｎ−（３−メチルカルバモイルフェニル）シ
クロヘキシルアセトアミド（表−１の化合物番号４）の
製造 融点：１８３℃ ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：３２９３，１６５７，１６４
０，１５８８，１５３５． ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ）：０．９９（ｍ，２
Ｈ），１．０３−１．３８（ｍ，３Ｈ），１．５５−
１．９０（ｍ，６Ｈ），２．１９（ｄ，Ｊ＝７．０Ｈ
ｚ，２Ｈ），２．７６（ｄ，Ｊ＝４．５Ｈｚ，３Ｈ），
７．３４（ｄｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，７．８Ｈｚ，１
Ｈ），７．４５（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．７
４（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），８．０１（ｓ，１
Ｈ），８．３４（ｄ，Ｊ＝４．５Ｈｚ，１Ｈ），９．９
５（ｓ，１Ｈ）．
【００５２】実施例３：Ｎ−（３−メチルカルバモイル
フェニル）フェニルアセトアミド（表−１の化合物番号
７）の製造 融点：１４０−１４２℃ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ）：２．７５（ｄ，Ｊ＝
４．５Ｈｚ，３Ｈ），３．６３（ｓ，２Ｈ），７．２２
−７．４８（ｍ，７Ｈ），７．７４（ｍ，１Ｈ），８．
０１（ｓ，１Ｈ），８．３７（ｄ，Ｊ＝４．５Ｈｚ，１
Ｈ），１０．３０（ｓ，１Ｈ）．
フェニル）フェニルアセトアミド（表−１の化合物番号
７）の製造 融点：１４０−１４２℃ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ）：２．７５（ｄ，Ｊ＝
４．５Ｈｚ，３Ｈ），３．６３（ｓ，２Ｈ），７．２２
−７．４８（ｍ，７Ｈ），７．７４（ｍ，１Ｈ），８．
０１（ｓ，１Ｈ），８．３７（ｄ，Ｊ＝４．５Ｈｚ，１
Ｈ），１０．３０（ｓ，１Ｈ）．
【００５３】実施例４：Ｎ−（３−メチルカルバモイル
フェニル）−１−フェニルシクロペンタンカルボキサミ
ド（表−１の化合物番号１１）の製造 融点：１４７℃ ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：３３３９，３２７５，１６３
８，１５８６，１５５７，１５２８． ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ）：１．６７（ｍ，４
Ｈ），１．９４（ｍ，２Ｈ），２．６５（ｍ，２Ｈ），
２．７５（ｄ，Ｊ＝４．５Ｈｚ，３Ｈ），７．２０−
７．６０（ｍ，７Ｈ），７．７６（ｄ，Ｊ＝７．２Ｈ
ｚ，１Ｈ），７．９８（ｓ，１Ｈ），８．３３（ｄ，Ｊ
＝４．５Ｈｚ，１Ｈ），９．３２（ｓ，１Ｈ）．
フェニル）−１−フェニルシクロペンタンカルボキサミ
ド（表−１の化合物番号１１）の製造 融点：１４７℃ ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：３３３９，３２７５，１６３
８，１５８６，１５５７，１５２８． ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ）：１．６７（ｍ，４
Ｈ），１．９４（ｍ，２Ｈ），２．６５（ｍ，２Ｈ），
２．７５（ｄ，Ｊ＝４．５Ｈｚ，３Ｈ），７．２０−
７．６０（ｍ，７Ｈ），７．７６（ｄ，Ｊ＝７．２Ｈ
ｚ，１Ｈ），７．９８（ｓ，１Ｈ），８．３３（ｄ，Ｊ
＝４．５Ｈｚ，１Ｈ），９．３２（ｓ，１Ｈ）．
【００５４】実施例５：Ｎ−（３−メチルカルバモイル
フェニル）−３−フルオロフェニルアセトアミド（表−
１の化合物番号１４）の製造 融点：１４７−１４８℃ ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：３３１４，１６６１，１６３
６，１５８７，１５３０． ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ）：２．７６（ｄ，Ｊ＝
４．２Ｈｚ，３Ｈ），３．６９（ｓ，２Ｈ），７．０８
（ｄｄ，Ｊ＝５．７Ｈｚ，５．７Ｈｚ，１Ｈ），７．１
４（ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，２Ｈ），７．３８（ｍ，２
Ｈ），７．４７（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，１Ｈ），７．７
４（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，１Ｈ），８．０２（ｓ，１
Ｈ），８．３５（ｄ，Ｊ＝４．２Ｈｚ，１Ｈ），１０．
３０（ｓ，１Ｈ）．
フェニル）−３−フルオロフェニルアセトアミド（表−
１の化合物番号１４）の製造 融点：１４７−１４８℃ ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：３３１４，１６６１，１６３
６，１５８７，１５３０． ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ）：２．７６（ｄ，Ｊ＝
４．２Ｈｚ，３Ｈ），３．６９（ｓ，２Ｈ），７．０８
（ｄｄ，Ｊ＝５．７Ｈｚ，５．７Ｈｚ，１Ｈ），７．１
４（ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，２Ｈ），７．３８（ｍ，２
Ｈ），７．４７（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，１Ｈ），７．７
４（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，１Ｈ），８．０２（ｓ，１
Ｈ），８．３５（ｄ，Ｊ＝４．２Ｈｚ，１Ｈ），１０．
３０（ｓ，１Ｈ）．
【００５５】実施例６：Ｎ−（３−メチルカルバモイル
フェニル）−４−フルオロフェニルアセトアミド（表−
１の化合物番号１５）の製造 融点：１５５−１５６℃ ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：３２９３，１６５７，１６３
４，１５８８，１５３５，１５１２． ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ）：２．７６（ｄ，Ｊ＝
３．９Ｈｚ，３Ｈ），３．６５（ｓ，２Ｈ），７．１５
（ｄｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ，９．０Ｈｚ，２Ｈ），７．２
５−７．４１（ｍ，３Ｈ），７．４７（ｄ，Ｊ＝７．５
Ｈｚ，１Ｈ），７．７５（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，１
Ｈ），８．０２（ｓ，１Ｈ），８．３５（ｄ，Ｊ＝３．
９Ｈｚ，１Ｈ），１０．２８（ｓ，１Ｈ）．
フェニル）−４−フルオロフェニルアセトアミド（表−
１の化合物番号１５）の製造 融点：１５５−１５６℃ ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：３２９３，１６５７，１６３
４，１５８８，１５３５，１５１２． ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ）：２．７６（ｄ，Ｊ＝
３．９Ｈｚ，３Ｈ），３．６５（ｓ，２Ｈ），７．１５
（ｄｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ，９．０Ｈｚ，２Ｈ），７．２
５−７．４１（ｍ，３Ｈ），７．４７（ｄ，Ｊ＝７．５
Ｈｚ，１Ｈ），７．７５（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，１
Ｈ），８．０２（ｓ，１Ｈ），８．３５（ｄ，Ｊ＝３．
９Ｈｚ，１Ｈ），１０．２８（ｓ，１Ｈ）．
【００５６】実施例７：Ｎ−（３−メチルカルバモイル
フェニル）−２−クロロフェニルアセトアミド（表−１
の化合物番号１６）の製造 融点：２１１−２１２℃ ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：３２６８，１６５９，１６４
２，１５８６，１５３５． ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ）：２．７７（ｄ，Ｊ＝
３．６Ｈｚ，３Ｈ），３．８５（ｓ，２Ｈ），７．２５
−７．５５（ｍ，６Ｈ），７．７４（ｄ，Ｊ＝７．５Ｈ
ｚ，１Ｈ），８．０４（ｓ，１Ｈ），８．３６（ｄ，Ｊ
＝３．６Ｈｚ，１Ｈ），１０．３４（ｓ，１Ｈ）．
フェニル）−２−クロロフェニルアセトアミド（表−１
の化合物番号１６）の製造 融点：２１１−２１２℃ ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：３２６８，１６５９，１６４
２，１５８６，１５３５． ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ）：２．７７（ｄ，Ｊ＝
３．６Ｈｚ，３Ｈ），３．８５（ｓ，２Ｈ），７．２５
−７．５５（ｍ，６Ｈ），７．７４（ｄ，Ｊ＝７．５Ｈ
ｚ，１Ｈ），８．０４（ｓ，１Ｈ），８．３６（ｄ，Ｊ
＝３．６Ｈｚ，１Ｈ），１０．３４（ｓ，１Ｈ）．
【００５７】実施例８：Ｎ−（３−メチルカルバモイル
フェニル）−４−クロロフェニルアセトアミド（表−１
の化合物番号１８）の製造 融点：１６３−１６４℃ ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：３２７９，１６６３，１６４
０，１５８８，１５３５． ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ）：２．７６（ｄ，Ｊ＝
３．９Ｈｚ，３Ｈ），３．６６（ｓ，２Ｈ），７．３５
−７．４２（ｍ，５Ｈ），７．４７（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈ
ｚ，１Ｈ），７．７５（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），
８．０２（ｄｄ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１．５Ｈｚ，１
Ｈ），８．３６（ｄ，Ｊ＝３．９Ｈｚ，１Ｈ），１０．
３０（ｓ，１Ｈ）．
フェニル）−４−クロロフェニルアセトアミド（表−１
の化合物番号１８）の製造 融点：１６３−１６４℃ ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：３２７９，１６６３，１６４
０，１５８８，１５３５． ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ）：２．７６（ｄ，Ｊ＝
３．９Ｈｚ，３Ｈ），３．６６（ｓ，２Ｈ），７．３５
−７．４２（ｍ，５Ｈ），７．４７（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈ
ｚ，１Ｈ），７．７５（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），
８．０２（ｄｄ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１．５Ｈｚ，１
Ｈ），８．３６（ｄ，Ｊ＝３．９Ｈｚ，１Ｈ），１０．
３０（ｓ，１Ｈ）．
【００５８】実施例９：Ｎ−（３−カルバモイルフェニ
ル）−３−ブロモフェニルアセトアミド（表−１の化合
物番号２０）の製造 融点：２０２℃ ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：３３７８，３２９５，１６５
９，１６２４，１５８６．１５３４． ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ）：３．６７（ｓ，２
Ｈ），７．２０−７．６０（ｍ，７Ｈ），７．７６
（ｄ，Ｊ＝９．３Ｈｚ，１Ｈ），７．９４（ｓ，１
Ｈ），８．０３（ｓ，１Ｈ），１０．３３（ｓ，１
Ｈ）．
ル）−３−ブロモフェニルアセトアミド（表−１の化合
物番号２０）の製造 融点：２０２℃ ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：３３７８，３２９５，１６５
９，１６２４，１５８６．１５３４． ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ）：３．６７（ｓ，２
Ｈ），７．２０−７．６０（ｍ，７Ｈ），７．７６
（ｄ，Ｊ＝９．３Ｈｚ，１Ｈ），７．９４（ｓ，１
Ｈ），８．０３（ｓ，１Ｈ），１０．３３（ｓ，１
Ｈ）．
【００５９】実施例１０：Ｎ−（３−メチルカルバモイ
ルフェニル）−３−ブロモフェニルアセトアミド（表−
１の化合物番号２２）の製造 融点：１７６−１７８℃ ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：３３２４，３２５４，１６４
２，１５９１．１５５４． ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ）：２．７６（ｄ，Ｊ＝
４．５Ｈｚ，３Ｈ），３．６８（ｓ，２Ｈ），７７．２
７−７．４１（ｍ，３Ｈ），７．４５−７．５０（ｍ，
２Ｈ），７．５６（ｓ，１Ｈ），７．７５（ｄ，Ｊ＝
８．０Ｈｚ，１Ｈ），８．０３（ｓ，１Ｈ），８．４２
（ｄ，Ｊ＝４．５Ｈｚ，１Ｈ），１０．３５（ｓ，１
Ｈ）．
ルフェニル）−３−ブロモフェニルアセトアミド（表−
１の化合物番号２２）の製造 融点：１７６−１７８℃ ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：３３２４，３２５４，１６４
２，１５９１．１５５４． ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ）：２．７６（ｄ，Ｊ＝
４．５Ｈｚ，３Ｈ），３．６８（ｓ，２Ｈ），７７．２
７−７．４１（ｍ，３Ｈ），７．４５−７．５０（ｍ，
２Ｈ），７．５６（ｓ，１Ｈ），７．７５（ｄ，Ｊ＝
８．０Ｈｚ，１Ｈ），８．０３（ｓ，１Ｈ），８．４２
（ｄ，Ｊ＝４．５Ｈｚ，１Ｈ），１０．３５（ｓ，１
Ｈ）．
【００６０】実施例１１：Ｎ−（３−ジメチルカルバモ
イルフェニル）−３−ブロモフェニルアセトアミド（表
−１の化合物番号２３）の製造 融点：１１９−１２０℃ ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：１６７８，１６１３，１５８
８．１５５７． ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ）：２．９０（ｓ，３
Ｈ），２．９６（ｓ，３Ｈ），３．６８（ｓ，２Ｈ），
７．０６（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．２５−
７．４１（ｍ，３Ｈ），７．４７（ｍ，１Ｈ），７．５
３−７．６０（ｍ，２Ｈ），７．６８（ｓ，１Ｈ），１
０．３０（ｓ，１Ｈ）．
イルフェニル）−３−ブロモフェニルアセトアミド（表
−１の化合物番号２３）の製造 融点：１１９−１２０℃ ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：１６７８，１６１３，１５８
８．１５５７． ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ）：２．９０（ｓ，３
Ｈ），２．９６（ｓ，３Ｈ），３．６８（ｓ，２Ｈ），
７．０６（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．２５−
７．４１（ｍ，３Ｈ），７．４７（ｍ，１Ｈ），７．５
３−７．６０（ｍ，２Ｈ），７．６８（ｓ，１Ｈ），１
０．３０（ｓ，１Ｈ）．
【００６１】実施例１２：Ｎ−（３−エチルカルバモイ
ルフェニル）−３−ブロモフェニルアセトアミド（表−
１の化合物番号２４）の製造 融点：１５５℃ ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：３３２９，３２６８，１６６
５，１６４０，１５４９． ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ）：１．１１（ｔ，Ｊ＝
６．９Ｈｚ，３Ｈ），３．２９（ｍ，２Ｈ），３．６７
（ｓ，２Ｈ），７．２０−７．４０（ｍ，３Ｈ），７．
４７（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，１Ｈ），７．４９（ｄ，Ｊ
＝８．１Ｈｚ，１Ｈ），７．５６（ｓ，１Ｈ），７．７
５（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），８．００（ｓ，１
Ｈ），８．４１（ｔ，Ｊ＝５．１Ｈｚ，１Ｈ），１０．
３２（ｓ，１Ｈ）．
ルフェニル）−３−ブロモフェニルアセトアミド（表−
１の化合物番号２４）の製造 融点：１５５℃ ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：３３２９，３２６８，１６６
５，１６４０，１５４９． ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ）：１．１１（ｔ，Ｊ＝
６．９Ｈｚ，３Ｈ），３．２９（ｍ，２Ｈ），３．６７
（ｓ，２Ｈ），７．２０−７．４０（ｍ，３Ｈ），７．
４７（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，１Ｈ），７．４９（ｄ，Ｊ
＝８．１Ｈｚ，１Ｈ），７．５６（ｓ，１Ｈ），７．７
５（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），８．００（ｓ，１
Ｈ），８．４１（ｔ，Ｊ＝５．１Ｈｚ，１Ｈ），１０．
３２（ｓ，１Ｈ）．
【００６２】実施例１３：Ｎ−（３−（２−ヒドロキシ
エチル）カルバモイルフェニル）−３−ブロモフェニル
アセトアミド（表−１の化合物番号２８）の製造 融点：２０２℃ ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：３４０７，３３５８，３２７
９，１６７１，１６４０，１５８９，１５３９． ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ）：３．２６（ｍ，２
Ｈ），３．４７（ｍ，２Ｈ），３．６５（ｓ，２Ｈ），
４．６７（ｔ，Ｊ＝５．７Ｈｚ，１Ｈ），７．２０−
７．６０（ｍ，６Ｈ），７．７３（ｄ，Ｊ＝７．２Ｈ
ｚ，１Ｈ），７．９９（ｓ，１Ｈ），８．３２（ｍ，１
Ｈ），１０．２８（ｓ，１Ｈ）．
エチル）カルバモイルフェニル）−３−ブロモフェニル
アセトアミド（表−１の化合物番号２８）の製造 融点：２０２℃ ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：３４０７，３３５８，３２７
９，１６７１，１６４０，１５８９，１５３９． ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ）：３．２６（ｍ，２
Ｈ），３．４７（ｍ，２Ｈ），３．６５（ｓ，２Ｈ），
４．６７（ｔ，Ｊ＝５．７Ｈｚ，１Ｈ），７．２０−
７．６０（ｍ，６Ｈ），７．７３（ｄ，Ｊ＝７．２Ｈ
ｚ，１Ｈ），７．９９（ｓ，１Ｈ），８．３２（ｍ，１
Ｈ），１０．２８（ｓ，１Ｈ）．
【００６３】実施例１４：Ｎ−（３−ヒドロキシカルバ
モイルフェニル）−３−ブロモフェニルアセトアミド
（表−１の化合物番号２９）の製造 融点：１８４−１８６℃（分解） ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：３３１４，３２３１，１６６
３，１６３２，１５８２，１５３５． ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ）：３．６８（ｓ，２
Ｈ），７．２５−７．６０（ｍ，６Ｈ），７．７５
（ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，１Ｈ），７．９８（ｓ，１
Ｈ），９．０１（ｓ，１Ｈ），１０．３３（ｓ，１
Ｈ），１１．１２（ｓ，１Ｈ）．
モイルフェニル）−３−ブロモフェニルアセトアミド
（表−１の化合物番号２９）の製造 融点：１８４−１８６℃（分解） ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：３３１４，３２３１，１６６
３，１６３２，１５８２，１５３５． ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ）：３．６８（ｓ，２
Ｈ），７．２５−７．６０（ｍ，６Ｈ），７．７５
（ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，１Ｈ），７．９８（ｓ，１
Ｈ），９．０１（ｓ，１Ｈ），１０．３３（ｓ，１
Ｈ），１１．１２（ｓ，１Ｈ）．
【００６４】実施例１５：Ｎ−（メトキシカルバモイル
フェニル）−３−ブロモフェニルアセトアミド（表−１
の化合物番号３０）の製造 融点：１６６℃ ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：３２９９，３１８７，１６５
９，１６１１，１５９５，１５６０． ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ）：３．６９（ｓ，５
Ｈ），７．２２−７．６０（ｍ，６Ｈ），７．７７
（ｓ，１Ｈ），８．００（ｓ，１Ｈ），１０．３７
（ｓ，１Ｈ），１１．６９（ｓ，１Ｈ）．
フェニル）−３−ブロモフェニルアセトアミド（表−１
の化合物番号３０）の製造 融点：１６６℃ ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：３２９９，３１８７，１６５
９，１６１１，１５９５，１５６０． ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ）：３．６９（ｓ，５
Ｈ），７．２２−７．６０（ｍ，６Ｈ），７．７７
（ｓ，１Ｈ），８．００（ｓ，１Ｈ），１０．３７
（ｓ，１Ｈ），１１．６９（ｓ，１Ｈ）．
【００６５】実施例１６：Ｎ−（３−メチルカルバモイ
ルフェニル）−４−ブロモフェニルアセトアミド（表−
１の化合物番号３３）の製造 融点：１６５−１６６℃ ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：３２８３，１６６５，１６４
２，１５８８，１５３４． ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ）：２．７７（ｄ，Ｊ＝
４．５Ｈｚ，３Ｈ），３．６４（ｓ，２Ｈ），７．２３
−７．４０（ｍ，３Ｈ），７．４０−７．５８（ｍ，３
Ｈ），７．７５（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），８．０
１（ｓ，１Ｈ），８．３７（ｄ，Ｊ＝４．５Ｈｚ，１
Ｈ），１０．３０（ｓ，１Ｈ）．
ルフェニル）−４−ブロモフェニルアセトアミド（表−
１の化合物番号３３）の製造 融点：１６５−１６６℃ ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：３２８３，１６６５，１６４
２，１５８８，１５３４． ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ）：２．７７（ｄ，Ｊ＝
４．５Ｈｚ，３Ｈ），３．６４（ｓ，２Ｈ），７．２３
−７．４０（ｍ，３Ｈ），７．４０−７．５８（ｍ，３
Ｈ），７．７５（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），８．０
１（ｓ，１Ｈ），８．３７（ｄ，Ｊ＝４．５Ｈｚ，１
Ｈ），１０．３０（ｓ，１Ｈ）．
【００６６】実施例１７：Ｎ−（３−メチルカルバモイ
ルフェニル）−３−メチルフェニルアセトアミド（表−
１の化合物番号４２）の製造 融点：１３１℃ ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：３２９９，１６５９，１６３
４，１５８６，１５３０． ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ）：２．２９（ｓ，３
Ｈ），２．７６（ｄ，Ｊ＝４．５Ｈｚ，３Ｈ），３．６
０（ｓ，２Ｈ），７．０６（ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，１
Ｈ），７．０９−７．２２（ｍ，３Ｈ），７．３６（ｄ
ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．４７
（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．７５（ｄ，Ｊ＝
７．８Ｈｚ，１Ｈ），８．０２（ｓ，１Ｈ），８．３５
（ｄ，Ｊ＝４．５Ｈｚ，１Ｈ），１０．２６（ｓ，１
Ｈ）．
ルフェニル）−３−メチルフェニルアセトアミド（表−
１の化合物番号４２）の製造 融点：１３１℃ ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：３２９９，１６５９，１６３
４，１５８６，１５３０． ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ）：２．２９（ｓ，３
Ｈ），２．７６（ｄ，Ｊ＝４．５Ｈｚ，３Ｈ），３．６
０（ｓ，２Ｈ），７．０６（ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，１
Ｈ），７．０９−７．２２（ｍ，３Ｈ），７．３６（ｄ
ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．４７
（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．７５（ｄ，Ｊ＝
７．８Ｈｚ，１Ｈ），８．０２（ｓ，１Ｈ），８．３５
（ｄ，Ｊ＝４．５Ｈｚ，１Ｈ），１０．２６（ｓ，１
Ｈ）．
【００６７】実施例１８：Ｎ−（３−メチルカルバモイ
ルフェニル）−４−メチルフェニルアセトアミド（表−
１の化合物番号４３）の製造 融点：１７４−１７５℃ ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：３３３９，３２９５，１６５
９，１６３９，１５８６，１５２８． ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ）：２．２７（ｓ，３
Ｈ），２．７６（ｄ，Ｊ＝４．５Ｈｚ，３Ｈ），３．５
９（ｓ，２Ｈ），７．１２（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２
Ｈ），７．２２（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ），７．３
６（ｄｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．
４７（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．７５（ｄ，Ｊ
＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），８．０１（ｓ，１Ｈ），８．３
５（ｄ，Ｊ＝４．５Ｈｚ，１Ｈ），１０．２４（ｓ，１
Ｈ）．
ルフェニル）−４−メチルフェニルアセトアミド（表−
１の化合物番号４３）の製造 融点：１７４−１７５℃ ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：３３３９，３２９５，１６５
９，１６３９，１５８６，１５２８． ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ）：２．２７（ｓ，３
Ｈ），２．７６（ｄ，Ｊ＝４．５Ｈｚ，３Ｈ），３．５
９（ｓ，２Ｈ），７．１２（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２
Ｈ），７．２２（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ），７．３
６（ｄｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．
４７（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．７５（ｄ，Ｊ
＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），８．０１（ｓ，１Ｈ），８．３
５（ｄ，Ｊ＝４．５Ｈｚ，１Ｈ），１０．２４（ｓ，１
Ｈ）．
【００６８】実施例１９：Ｎ−（３−メチルカルバモイ
ルフェニル）−３−メトキシフェニルアセトアミド（表
−１の化合物番号５９）の製造 融点：１０４−１０６℃ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ）：２．７６（ｄ，Ｊ＝
４．５Ｈｚ，３Ｈ），３．６０（ｓ，２Ｈ），３．７３
（ｓ，３Ｈ），６．８１（ｍ，１Ｈ），６．８９−６．
９２（ｍ，２Ｈ），７．２３（ｍ，２Ｈ），７．３５
（ｍ，１Ｈ），７．４７（ｍ，１Ｈ），７．７６（ｍ，
１Ｈ），８．０２（ｓ，１Ｈ），８．３８（ｍ，１
Ｈ），１０．２８（ｓ，１Ｈ）．
ルフェニル）−３−メトキシフェニルアセトアミド（表
−１の化合物番号５９）の製造 融点：１０４−１０６℃ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ）：２．７６（ｄ，Ｊ＝
４．５Ｈｚ，３Ｈ），３．６０（ｓ，２Ｈ），３．７３
（ｓ，３Ｈ），６．８１（ｍ，１Ｈ），６．８９−６．
９２（ｍ，２Ｈ），７．２３（ｍ，２Ｈ），７．３５
（ｍ，１Ｈ），７．４７（ｍ，１Ｈ），７．７６（ｍ，
１Ｈ），８．０２（ｓ，１Ｈ），８．３８（ｍ，１
Ｈ），１０．２８（ｓ，１Ｈ）．
【００６９】実施例２０：Ｎ−（３−メチルカルバモイ
ルフェニル）−４−メトキシフェニルアセトアミド（表
−１の化合物番号６０）の製造 融点：１５５−１５７℃ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ）：２．７５（ｄ，Ｊ＝
４．５Ｈｚ，３Ｈ），３．５５（ｓ，２Ｈ），３．７１
（ｓ，３Ｈ），６．８８（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，２
Ｈ），７．２４（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，２Ｈ），７．３
５（ｍ，１Ｈ），７．４５（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１
Ｈ），７．７４（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），８．０
０（ｓ，１Ｈ），８．３７（ｍ，１Ｈ），１０．２４
（ｓ，１Ｈ）．
ルフェニル）−４−メトキシフェニルアセトアミド（表
−１の化合物番号６０）の製造 融点：１５５−１５７℃ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ）：２．７５（ｄ，Ｊ＝
４．５Ｈｚ，３Ｈ），３．５５（ｓ，２Ｈ），３．７１
（ｓ，３Ｈ），６．８８（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，２
Ｈ），７．２４（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，２Ｈ），７．３
５（ｍ，１Ｈ），７．４５（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１
Ｈ），７．７４（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），８．０
０（ｓ，１Ｈ），８．３７（ｍ，１Ｈ），１０．２４
（ｓ，１Ｈ）．
【００７０】実施例２１：Ｎ−（３−メチルカルバモイ
ルフェニル）−３、４−ジメトキシフェニルアセトアミ
ド（表−１の化合物番号６１）の製造 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ）：２．７５（ｄ，Ｊ＝
４．５Ｈｚ，３Ｈ），３．５５（ｓ，２Ｈ），３．７１
（ｓ，３Ｈ），３．７３（ｓ，３Ｈ），６．８２−６．
９４（ｍ，３Ｈ），７．３５（ｍ，１Ｈ），７．４６
（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．７５（ｄ，Ｊ＝
７．８Ｈｚ，１Ｈ），８．００（ｓ，１Ｈ），８．３７
（ｍ，１Ｈ），１０．２２（ｓ，１Ｈ）．
ルフェニル）−３、４−ジメトキシフェニルアセトアミ
ド（表−１の化合物番号６１）の製造 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ）：２．７５（ｄ，Ｊ＝
４．５Ｈｚ，３Ｈ），３．５５（ｓ，２Ｈ），３．７１
（ｓ，３Ｈ），３．７３（ｓ，３Ｈ），６．８２−６．
９４（ｍ，３Ｈ），７．３５（ｍ，１Ｈ），７．４６
（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．７５（ｄ，Ｊ＝
７．８Ｈｚ，１Ｈ），８．００（ｓ，１Ｈ），８．３７
（ｍ，１Ｈ），１０．２２（ｓ，１Ｈ）．
【００７１】実施例２２：Ｎ−（３−メチルカルバモイ
ルフェニル）−３，５−ジメトキシフェニルアセトアミ
ド（表−１の化合物番号６２）の製造 融点；１４６−１４７℃ ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：３３４１，３２４６，１６６
７，１６３８，１５８９，１５４７． ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ）：２．７６（ｄ，Ｊ＝
４．２Ｈｚ，３Ｈ），３．５６（ｓ，２Ｈ），３．７３
（ｓ，６Ｈ），６．３９（ｓ，１Ｈ），６．５１（ｓ，
２Ｈ），７．３６（ｄｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，７．８Ｈ
ｚ，１Ｈ），７．４７（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），
７．７５（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），８．０１
（ｓ，１Ｈ），８．３５（ｄ，Ｊ＝４．２Ｈｚ，１
Ｈ），１０．２３（ｓ，１Ｈ）．
ルフェニル）−３，５−ジメトキシフェニルアセトアミ
ド（表−１の化合物番号６２）の製造 融点；１４６−１４７℃ ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：３３４１，３２４６，１６６
７，１６３８，１５８９，１５４７． ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ）：２．７６（ｄ，Ｊ＝
４．２Ｈｚ，３Ｈ），３．５６（ｓ，２Ｈ），３．７３
（ｓ，６Ｈ），６．３９（ｓ，１Ｈ），６．５１（ｓ，
２Ｈ），７．３６（ｄｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，７．８Ｈ
ｚ，１Ｈ），７．４７（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），
７．７５（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），８．０１
（ｓ，１Ｈ），８．３５（ｄ，Ｊ＝４．２Ｈｚ，１
Ｈ），１０．２３（ｓ，１Ｈ）．
【００７２】実施例２３：Ｎ−（３−メチルカルバモイ
ルフェニル）−３，４，５−トリメトキシフェニルアセ
トアミド（表−１の化合物番号６３）の製造 融点；８１−８２℃ ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：３３０４，１６４２，１５８
９，１５５４，１５０８． ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ）：２．７６（ｄ，Ｊ＝
４．５Ｈｚ，３Ｈ），３．５７（ｓ，２Ｈ），３．６３
（ｓ，３Ｈ），３．７７（ｓ，６Ｈ），６．６６（ｓ，
２Ｈ），７．３９（ｄｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，７．８Ｈ
ｚ，１Ｈ），７．４７（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），
７．７６（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），８．０３
（ｓ，１Ｈ），８．３７（ｄ，Ｊ＝４．５Ｈｚ，１
Ｈ），１０．２３（ｓ，１Ｈ）．
ルフェニル）−３，４，５−トリメトキシフェニルアセ
トアミド（表−１の化合物番号６３）の製造 融点；８１−８２℃ ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：３３０４，１６４２，１５８
９，１５５４，１５０８． ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ）：２．７６（ｄ，Ｊ＝
４．５Ｈｚ，３Ｈ），３．５７（ｓ，２Ｈ），３．６３
（ｓ，３Ｈ），３．７７（ｓ，６Ｈ），６．６６（ｓ，
２Ｈ），７．３９（ｄｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，７．８Ｈ
ｚ，１Ｈ），７．４７（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），
７．７６（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），８．０３
（ｓ，１Ｈ），８．３７（ｄ，Ｊ＝４．５Ｈｚ，１
Ｈ），１０．２３（ｓ，１Ｈ）．
【００７３】実施例２４：Ｎ−（３−メチルカルバモイ
ルフェニル）−３−ベンジルオキシフェニルアセトアミ
ド（表−１の化合物番号６８）の製造 融点；１５０℃ ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：３３０２，１６６１，１６３
４，１５８６，１５３０． ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ）：２．７６（ｄ，Ｊ＝
４．５Ｈｚ，３Ｈ），３．６１（ｓ，２Ｈ），５．０９
（ｓ，２Ｈ），６．９１（ｄｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，７．
８Ｈｚ，２Ｈ），７．０１（ｓ，１Ｈ），７．２７（ｄ
ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．２５−
７．５２（ｍ，７Ｈ），７．７４（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈ
ｚ，１Ｈ），８．０２（ｓ，１Ｈ），８．３６（ｄ，Ｊ
＝４．５Ｈｚ，１Ｈ），１０．２７（ｓ，１Ｈ）．
ルフェニル）−３−ベンジルオキシフェニルアセトアミ
ド（表−１の化合物番号６８）の製造 融点；１５０℃ ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：３３０２，１６６１，１６３
４，１５８６，１５３０． ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ）：２．７６（ｄ，Ｊ＝
４．５Ｈｚ，３Ｈ），３．６１（ｓ，２Ｈ），５．０９
（ｓ，２Ｈ），６．９１（ｄｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，７．
８Ｈｚ，２Ｈ），７．０１（ｓ，１Ｈ），７．２７（ｄ
ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．２５−
７．５２（ｍ，７Ｈ），７．７４（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈ
ｚ，１Ｈ），８．０２（ｓ，１Ｈ），８．３６（ｄ，Ｊ
＝４．５Ｈｚ，１Ｈ），１０．２７（ｓ，１Ｈ）．
【００７４】実施例２５：Ｎ−（３−カルバモイルフェ
ニル）−３−ヒドロキシフェニルアセトアミド（表−１
の化合物番号７１）の製造 融点；１８８−１８９℃ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ）：３．５２（ｓ，２
Ｈ），６．６２（ｍ，１Ｈ），６．７２−６．７５
（ｍ，２Ｈ），７．０８（ｍ，１Ｈ），７．３２−７．
３７（ｍ，２Ｈ），７．５１（ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，１
Ｈ），７．７６（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．９
２（ｓ，１Ｈ），８．０２（ｓ，１Ｈ），９．３４
（ｓ，１Ｈ），１０．２５（ｓ，１Ｈ）．
ニル）−３−ヒドロキシフェニルアセトアミド（表−１
の化合物番号７１）の製造 融点；１８８−１８９℃ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ）：３．５２（ｓ，２
Ｈ），６．６２（ｍ，１Ｈ），６．７２−６．７５
（ｍ，２Ｈ），７．０８（ｍ，１Ｈ），７．３２−７．
３７（ｍ，２Ｈ），７．５１（ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，１
Ｈ），７．７６（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．９
２（ｓ，１Ｈ），８．０２（ｓ，１Ｈ），９．３４
（ｓ，１Ｈ），１０．２５（ｓ，１Ｈ）．
【００７５】実施例２６：Ｎ−（３−メチルカルバモイ
ルフェニル）−３−ヒドロキシフェニルアセトアミド
（表−１の化合物番号７２）の製造 融点；１６３℃ ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：３３３３，３２９３，１６７
６，１６４０，１５８８，１５６２． ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ）：２．７４（ｄ，Ｊ＝
４．２Ｈｚ，３Ｈ），３．５３（ｓ，２Ｈ），６．６１
（ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，１Ｈ），６．７２（ｄ，Ｊ＝
７．２Ｈｚ，１Ｈ），６．７４（ｓ，１Ｈ），７．０８
（ｄｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，７．２Ｈｚ，１Ｈ），７．３
４（ｄｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．
４５（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．７３（ｄ，Ｊ
＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．８０（ｓ，１Ｈ），８．３
４（ｄ，Ｊ＝４．２Ｈｚ，１Ｈ），９．３０（ｓ，１
Ｈ），１０．２２（ｓ，１Ｈ）．
ルフェニル）−３−ヒドロキシフェニルアセトアミド
（表−１の化合物番号７２）の製造 融点；１６３℃ ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：３３３３，３２９３，１６７
６，１６４０，１５８８，１５６２． ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ）：２．７４（ｄ，Ｊ＝
４．２Ｈｚ，３Ｈ），３．５３（ｓ，２Ｈ），６．６１
（ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，１Ｈ），６．７２（ｄ，Ｊ＝
７．２Ｈｚ，１Ｈ），６．７４（ｓ，１Ｈ），７．０８
（ｄｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，７．２Ｈｚ，１Ｈ），７．３
４（ｄｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．
４５（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．７３（ｄ，Ｊ
＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．８０（ｓ，１Ｈ），８．３
４（ｄ，Ｊ＝４．２Ｈｚ，１Ｈ），９．３０（ｓ，１
Ｈ），１０．２２（ｓ，１Ｈ）．
【００７６】実施例２７：Ｎ−（３−メチルカルバモイ
ルフェニル）−４−ヒドロキシフェニルアセトアミド
（表−１の化合物番号７３）の製造 融点；１９５−１９６℃ ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：３３９３，３２８３，１６６
１，１６３８，１５４１，１５１８． ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ）：２．７３（ｄ，Ｊ＝
４．５Ｈｚ，３Ｈ），３．４８（ｓ，２Ｈ），６．６８
（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ），７．１０（ｄ，Ｊ＝
８．４Ｈｚ，２Ｈ），７．３３（ｄｄ，Ｊ＝７．８Ｈ
ｚ，７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．４３（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈ
ｚ，１Ｈ），７．７２（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），
７．９８（ｓ，１Ｈ），８．３２（ｄ，Ｊ＝４．５Ｈ
ｚ，１Ｈ），９．２０（ｓ，１Ｈ），１０．１４（ｓ，
１Ｈ）．
ルフェニル）−４−ヒドロキシフェニルアセトアミド
（表−１の化合物番号７３）の製造 融点；１９５−１９６℃ ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：３３９３，３２８３，１６６
１，１６３８，１５４１，１５１８． ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ）：２．７３（ｄ，Ｊ＝
４．５Ｈｚ，３Ｈ），３．４８（ｓ，２Ｈ），６．６８
（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ），７．１０（ｄ，Ｊ＝
８．４Ｈｚ，２Ｈ），７．３３（ｄｄ，Ｊ＝７．８Ｈ
ｚ，７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．４３（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈ
ｚ，１Ｈ），７．７２（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），
７．９８（ｓ，１Ｈ），８．３２（ｄ，Ｊ＝４．５Ｈ
ｚ，１Ｈ），９．２０（ｓ，１Ｈ），１０．１４（ｓ，
１Ｈ）．
【００７７】実施例２８：Ｎ−（３−メチルカルバモイ
ルフェニル）３−ニトロフェニルアセトアミド（表−１
の化合物番号７４）の製造 融点：１３９℃ ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：３３２２，３２５０，１６６
５，１６４０，１５５５，１５２４． ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ）：２．７６（ｄ，Ｊ＝
４．５Ｈｚ，３Ｈ），３．８６（ｓ，２Ｈ），７．３７
（ｄｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．４
９（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．６４（ｄｄ，Ｊ
＝８．１Ｈｚ，８．１Ｈｚ，１Ｈ），７．７５（ｄ，Ｊ
＝８．１Ｈｚ，１Ｈ），７．８０（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈ
ｚ，１Ｈ），８．０３（ｓ，１Ｈ），８．１３（ｄ，Ｊ
＝８．１Ｈｚ，１Ｈ），８．２４（ｓ，１Ｈ），８．３
７（ｄ，Ｊ＝４．５Ｈｚ，１Ｈ），１０．３９（ｓ，１
Ｈ）．
ルフェニル）３−ニトロフェニルアセトアミド（表−１
の化合物番号７４）の製造 融点：１３９℃ ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：３３２２，３２５０，１６６
５，１６４０，１５５５，１５２４． ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ）：２．７６（ｄ，Ｊ＝
４．５Ｈｚ，３Ｈ），３．８６（ｓ，２Ｈ），７．３７
（ｄｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．４
９（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．６４（ｄｄ，Ｊ
＝８．１Ｈｚ，８．１Ｈｚ，１Ｈ），７．７５（ｄ，Ｊ
＝８．１Ｈｚ，１Ｈ），７．８０（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈ
ｚ，１Ｈ），８．０３（ｓ，１Ｈ），８．１３（ｄ，Ｊ
＝８．１Ｈｚ，１Ｈ），８．２４（ｓ，１Ｈ），８．３
７（ｄ，Ｊ＝４．５Ｈｚ，１Ｈ），１０．３９（ｓ，１
Ｈ）．
【００７８】実施例２９：Ｎ−（３−メチルカルバモイ
ルフェニル）−４−ニトロフェニルアセトアミド（表−
１の化合物番号７５）の製造 融点：１４８−１５１℃ ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：３２７７，１６６３，１６４
０，１５８８，１５２２． ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ）：２．７４（ｄ，Ｊ＝
４．２Ｈｚ，３Ｈ），３．８３（ｓ，２Ｈ），７．３５
（ｄｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．４
５（ｍ，１Ｈ），７．６０（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２
Ｈ），７．７２（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），８．０
０（ｓ，１Ｈ），８．１９（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２
Ｈ），８．３３（ｄ，Ｊ＝４．２Ｈｚ，１Ｈ），１０．
３６（ｓ，１Ｈ）．
ルフェニル）−４−ニトロフェニルアセトアミド（表−
１の化合物番号７５）の製造 融点：１４８−１５１℃ ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：３２７７，１６６３，１６４
０，１５８８，１５２２． ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ）：２．７４（ｄ，Ｊ＝
４．２Ｈｚ，３Ｈ），３．８３（ｓ，２Ｈ），７．３５
（ｄｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．４
５（ｍ，１Ｈ），７．６０（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２
Ｈ），７．７２（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），８．０
０（ｓ，１Ｈ），８．１９（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２
Ｈ），８．３３（ｄ，Ｊ＝４．２Ｈｚ，１Ｈ），１０．
３６（ｓ，１Ｈ）．
【００７９】実施例３０：Ｎ−（３−メチルカルバモイ
ルフェニル）−１−ナフチルアセトアミド（表−１の化
合物番号１１３）の製造 融点：２０１−２０２℃ ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：３２７４，１６５７，１６４
０，１５８８，１５３２． ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ）：２．７５（ｄ，Ｊ＝
４．５Ｈｚ，３Ｈ），４．１６（ｓ，２Ｈ），７．３６
（ｄｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，８．１Ｈｚ，１Ｈ），７．４
０−７．６０（ｍ，５Ｈ），７．７４（ｄ，Ｊ＝７．８
Ｈｚ，１Ｈ），７．８４（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１
Ｈ），７．９７（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），８．０
３（ｓ，１Ｈ），８．３５（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１
Ｈ），８．３７（ｄ，Ｊ＝４．５Ｈｚ，１Ｈ），１０．
４４（ｓ，１Ｈ）．
ルフェニル）−１−ナフチルアセトアミド（表−１の化
合物番号１１３）の製造 融点：２０１−２０２℃ ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：３２７４，１６５７，１６４
０，１５８８，１５３２． ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ）：２．７５（ｄ，Ｊ＝
４．５Ｈｚ，３Ｈ），４．１６（ｓ，２Ｈ），７．３６
（ｄｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，８．１Ｈｚ，１Ｈ），７．４
０−７．６０（ｍ，５Ｈ），７．７４（ｄ，Ｊ＝７．８
Ｈｚ，１Ｈ），７．８４（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１
Ｈ），７．９７（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），８．０
３（ｓ，１Ｈ），８．３５（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１
Ｈ），８．３７（ｄ，Ｊ＝４．５Ｈｚ，１Ｈ），１０．
４４（ｓ，１Ｈ）．
【００８０】実施例３１：Ｎ−（３−メチルカルバモイ
ルフェニル）−２−ナフチルアセトアミド（表−１の化
合物番号１１４）の製造 融点：１７５−１７６℃ ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：３３９３，１６５５，１６３
４，１５８８，１５３０． ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ）：２．７６（ｄ，Ｊ＝
４．５Ｈｚ，３Ｈ），３．８３（ｓ，２Ｈ），７．３７
（ｄｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．４
０−７．５５（ｍ，４Ｈ），７．７７（ｄ，Ｊ＝８．４
Ｈｚ，１Ｈ），７．８１−７．９６（ｍ，４Ｈ），８．
０４（ｓ，１Ｈ），８．３６（ｄ，Ｊ＝４．５Ｈｚ，１
Ｈ），１０．３７（ｓ，１Ｈ）．
ルフェニル）−２−ナフチルアセトアミド（表−１の化
合物番号１１４）の製造 融点：１７５−１７６℃ ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：３３９３，１６５５，１６３
４，１５８８，１５３０． ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ）：２．７６（ｄ，Ｊ＝
４．５Ｈｚ，３Ｈ），３．８３（ｓ，２Ｈ），７．３７
（ｄｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．４
０−７．５５（ｍ，４Ｈ），７．７７（ｄ，Ｊ＝８．４
Ｈｚ，１Ｈ），７．８１−７．９６（ｍ，４Ｈ），８．
０４（ｓ，１Ｈ），８．３６（ｄ，Ｊ＝４．５Ｈｚ，１
Ｈ），１０．３７（ｓ，１Ｈ）．
【００８１】実施例３２：Ｎ−（３−メチルカルバモイ
ルフェニル）−３−インドリルアセトアミド（表−１の
化合物番号１４０）の製造 融点：１６８−１６９℃ ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：３３８２，３２８７，１６５
５，１６３６，１５８８，１５５５，１５２８． ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ）：２．７３（ｄ，Ｊ＝
４．５Ｈｚ，３Ｈ），３．７２（ｓ，２Ｈ），６．９６
（ｄｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，７．５Ｈｚ，１Ｈ），７．０
５（ｄｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．
２４（ｓ，１Ｈ），７．２７−７．３８（ｍ，２Ｈ），
７．４３（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．５９
（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．７５（ｄ，Ｊ＝
８．７Ｈｚ，１Ｈ），８．００（ｓ，１Ｈ），８．３２
（ｄ，Ｊ＝４．５Ｈｚ，１Ｈ），１０．１８（ｓ，１
Ｈ），１０．８８（ｓ，１Ｈ）．
ルフェニル）−３−インドリルアセトアミド（表−１の
化合物番号１４０）の製造 融点：１６８−１６９℃ ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：３３８２，３２８７，１６５
５，１６３６，１５８８，１５５５，１５２８． ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ）：２．７３（ｄ，Ｊ＝
４．５Ｈｚ，３Ｈ），３．７２（ｓ，２Ｈ），６．９６
（ｄｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，７．５Ｈｚ，１Ｈ），７．０
５（ｄｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．
２４（ｓ，１Ｈ），７．２７−７．３８（ｍ，２Ｈ），
７．４３（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．５９
（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．７５（ｄ，Ｊ＝
８．７Ｈｚ，１Ｈ），８．００（ｓ，１Ｈ），８．３２
（ｄ，Ｊ＝４．５Ｈｚ，１Ｈ），１０．１８（ｓ，１
Ｈ），１０．８８（ｓ，１Ｈ）．
【００８２】実施例３３：Ｎ−（３−メチルカルバモイ
ルフェニル）−３−ベンゾチエニルアセトアミド（表−
１の化合物番号１４６）の製造 融点；１９４℃ ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：３２８５，１６６３，１６３
６，１５８８，１５３２． ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ）：２．７５（ｄ，Ｊ＝
４．２Ｈｚ，３Ｈ），３．９４（ｓ，２Ｈ），７．３２
−７．５３（ｍ，４Ｈ），７．６１（ｓ，１Ｈ），７．
７６（ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，１Ｈ），７．９１（ｄ，Ｊ
＝７．２Ｈｚ，１Ｈ），７．９８（ｄ，Ｊ＝７．２Ｈ
ｚ，１Ｈ），８．０４（ｓ，１Ｈ），８．３５（ｄ，Ｊ
＝４．２Ｈｚ，１Ｈ），１０．４０（ｓ，１Ｈ）．
ルフェニル）−３−ベンゾチエニルアセトアミド（表−
１の化合物番号１４６）の製造 融点；１９４℃ ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：３２８５，１６６３，１６３
６，１５８８，１５３２． ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ）：２．７５（ｄ，Ｊ＝
４．２Ｈｚ，３Ｈ），３．９４（ｓ，２Ｈ），７．３２
−７．５３（ｍ，４Ｈ），７．６１（ｓ，１Ｈ），７．
７６（ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，１Ｈ），７．９１（ｄ，Ｊ
＝７．２Ｈｚ，１Ｈ），７．９８（ｄ，Ｊ＝７．２Ｈ
ｚ，１Ｈ），８．０４（ｓ，１Ｈ），８．３５（ｄ，Ｊ
＝４．２Ｈｚ，１Ｈ），１０．４０（ｓ，１Ｈ）．
【００８３】実施例３４：Ｎ−（３−メチルカルバモイ
ルフェニル）−４−ベンゾチエニルアセトアミド（表−
１の化合物番号１４８）の製造 融点：１９２℃ ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：３２９５，１６７６，１６３
２，１５９５，１５５９． ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ）：２．７６（ｄ，Ｊ＝
４．２Ｈｚ，３Ｈ），４．０３（ｓ，２Ｈ），７．３０
−７．４１（ｍ，３Ｈ），７．４７（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈ
ｚ，１Ｈ），７．６５（ｄ，Ｊ＝５．４Ｈｚ，１Ｈ），
７．７５（ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，１Ｈ），７．７７
（ｄ，Ｊ＝５．４Ｈｚ，１Ｈ），７．９１（ｍ，１
Ｈ），８．０２（ｓ，１Ｈ），８．３５（ｄ，Ｊ＝４．
２Ｈｚ，１Ｈ），１０．３９（ｓ，１Ｈ）．
ルフェニル）−４−ベンゾチエニルアセトアミド（表−
１の化合物番号１４８）の製造 融点：１９２℃ ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：３２９５，１６７６，１６３
２，１５９５，１５５９． ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ）：２．７６（ｄ，Ｊ＝
４．２Ｈｚ，３Ｈ），４．０３（ｓ，２Ｈ），７．３０
−７．４１（ｍ，３Ｈ），７．４７（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈ
ｚ，１Ｈ），７．６５（ｄ，Ｊ＝５．４Ｈｚ，１Ｈ），
７．７５（ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，１Ｈ），７．７７
（ｄ，Ｊ＝５．４Ｈｚ，１Ｈ），７．９１（ｍ，１
Ｈ），８．０２（ｓ，１Ｈ），８．３５（ｄ，Ｊ＝４．
２Ｈｚ，１Ｈ），１０．３９（ｓ，１Ｈ）．
【００８４】実施例３５：Ｎ−（３−メチルカルバモイ
ルフェニル）−２，２−ジメチルー２、３ージヒドロー
５ーベンゾフラニルアセトアミド（表−１の化合物番号
１５７）の製造 融点；９２−９３℃ ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：３２８９，１６６５，１６１
１，１５８９，１５５５． ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ）：１．３９（ｓ，６
Ｈ），１．５３（ｓ，６Ｈ），２．７５（ｄ，Ｊ＝４．
５Ｈｚ，３Ｈ），２．９９（ｓ，２Ｈ），６．６５
（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．０５（ｄ，Ｊ＝
８．１Ｈｚ，１Ｈ），７．１８（ｓ，１Ｈ），７．３４
（ｄｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．４
５（ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，１Ｈ），７．８０（ｄ，Ｊ＝
７．８Ｈｚ，１Ｈ），８．０２（ｓ，１Ｈ），８．３３
（ｄ，Ｊ＝４．５Ｈｚ，１Ｈ），９．１８（ｓ，１
Ｈ）．
ルフェニル）−２，２−ジメチルー２、３ージヒドロー
５ーベンゾフラニルアセトアミド（表−１の化合物番号
１５７）の製造 融点；９２−９３℃ ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：３２８９，１６６５，１６１
１，１５８９，１５５５． ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ）：１．３９（ｓ，６
Ｈ），１．５３（ｓ，６Ｈ），２．７５（ｄ，Ｊ＝４．
５Ｈｚ，３Ｈ），２．９９（ｓ，２Ｈ），６．６５
（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．０５（ｄ，Ｊ＝
８．１Ｈｚ，１Ｈ），７．１８（ｓ，１Ｈ），７．３４
（ｄｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．４
５（ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，１Ｈ），７．８０（ｄ，Ｊ＝
７．８Ｈｚ，１Ｈ），８．０２（ｓ，１Ｈ），８．３３
（ｄ，Ｊ＝４．５Ｈｚ，１Ｈ），９．１８（ｓ，１
Ｈ）．
【００８５】実施例３６：Ｎ−（３−メチルカルバモイ
ルフェニル）−３，４−メチレンジオキシフェニルアセ
トアミド（表−１の化合物番号１５９）の製造 融点：１７４−１７５℃ ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：３３３７，３２９１，１６５
９，１６３４，１５８６，１５３０，１５０５． ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ）：２．７６（ｄ，Ｊ＝
４．５Ｈｚ，３Ｈ），３．５５（ｓ，２Ｈ），５．９８
（ｓ，２Ｈ），６．７４−６．９３（ｍ，３Ｈ），７．
３６（ｄｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，７．８Ｈｚ，１Ｈ），
７．４７（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．７５
（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），８．０１（ｓ，１
Ｈ），８．３５（ｄ，Ｊ＝４．５Ｈｚ，１Ｈ），１０．
２０（ｓ，１Ｈ）．
ルフェニル）−３，４−メチレンジオキシフェニルアセ
トアミド（表−１の化合物番号１５９）の製造 融点：１７４−１７５℃ ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：３３３７，３２９１，１６５
９，１６３４，１５８６，１５３０，１５０５． ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ）：２．７６（ｄ，Ｊ＝
４．５Ｈｚ，３Ｈ），３．５５（ｓ，２Ｈ），５．９８
（ｓ，２Ｈ），６．７４−６．９３（ｍ，３Ｈ），７．
３６（ｄｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，７．８Ｈｚ，１Ｈ），
７．４７（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．７５
（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），８．０１（ｓ，１
Ｈ），８．３５（ｄ，Ｊ＝４．５Ｈｚ，１Ｈ），１０．
２０（ｓ，１Ｈ）．
【００８６】実施例３７：Ｎ−（３−メチルカルバモイ
ルフェニル）フェノキシアセトアミド（表−１の化合物
番号１７６）の製造 融点：１３１℃ ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：３３７８、３２８３，１６６
９，１６４０，１５８８，１５３５． ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ）：２．７５（ｄ，Ｊ＝
４．５Ｈｚ，３Ｈ），４．６９（ｓ，２Ｈ），６．６３
ー７．０１（ｍ，３Ｈ），７．２２−７．４０（ｍ，３
Ｈ），７．５０（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．７
７（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），８．０５（ｓ，１
Ｈ），８．３６（ｄ，Ｊ＝４．５Ｈｚ，１Ｈ），１０．
１８（ｓ，１Ｈ）．
ルフェニル）フェノキシアセトアミド（表−１の化合物
番号１７６）の製造 融点：１３１℃ ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：３３７８、３２８３，１６６
９，１６４０，１５８８，１５３５． ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ）：２．７５（ｄ，Ｊ＝
４．５Ｈｚ，３Ｈ），４．６９（ｓ，２Ｈ），６．６３
ー７．０１（ｍ，３Ｈ），７．２２−７．４０（ｍ，３
Ｈ），７．５０（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．７
７（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），８．０５（ｓ，１
Ｈ），８．３６（ｄ，Ｊ＝４．５Ｈｚ，１Ｈ），１０．
１８（ｓ，１Ｈ）．
【００８７】実施例３８：Ｎ−（３−メチルカルバモイ
ルフェニル）−２−クロロフェノキシアセトアミド（表
−１の化合物番号１７７）の製造 融点：１７２〜１７３℃ ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：３３８５，３２９７，１６８
８，１６４０，１５９１，１５４９． ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ）：２．７７（ｄ，Ｊ＝
４．５Ｈｚ，３Ｈ），４．８５（ｓ，２Ｈ），６．９９
（ｄｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，７．５Ｈｚ，１Ｈ），７．０
８（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，１Ｈ），７．３０（ｄｄ，Ｊ
＝７．５Ｈｚ，７．５Ｈｚ，１Ｈ），７．３８ー７．６
０（ｍ，３Ｈ），７．７６（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１
Ｈ），８．０６（ｓ，１Ｈ），８．４２（ｄ，Ｊ＝４．
５Ｈｚ，１Ｈ），１０．３１（ｓ，１Ｈ）．
ルフェニル）−２−クロロフェノキシアセトアミド（表
−１の化合物番号１７７）の製造 融点：１７２〜１７３℃ ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：３３８５，３２９７，１６８
８，１６４０，１５９１，１５４９． ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ）：２．７７（ｄ，Ｊ＝
４．５Ｈｚ，３Ｈ），４．８５（ｓ，２Ｈ），６．９９
（ｄｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，７．５Ｈｚ，１Ｈ），７．０
８（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，１Ｈ），７．３０（ｄｄ，Ｊ
＝７．５Ｈｚ，７．５Ｈｚ，１Ｈ），７．３８ー７．６
０（ｍ，３Ｈ），７．７６（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１
Ｈ），８．０６（ｓ，１Ｈ），８．４２（ｄ，Ｊ＝４．
５Ｈｚ，１Ｈ），１０．３１（ｓ，１Ｈ）．
【００８８】実施例３９：Ｎ−（３−メチルカルバモイ
ルフェニル）−２−メチルフェノキシアセトアミド（表
−１の化合物番号１８３）の製造 融点：１４８℃ ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：３３９９，３２８５，１６９
６，１６４０，１５４７． ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ）：２．２４（ｓ，３
Ｈ），２．７５（ｄ，Ｊ＝４．５Ｈｚ，３Ｈ），４．７
０（ｓ，２Ｈ），６．８０−６．９０（ｍ，２Ｈ），
７．０７−７．１９（ｍ，２Ｈ），７．３７（ｄｄ，Ｊ
＝８．１Ｈｚ，７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．４９（ｄ，Ｊ
＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．７５（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈ
ｚ，１Ｈ），８．０５（ｓ，１Ｈ），８．３５（ｄ，Ｊ
＝４．５Ｈｚ，１Ｈ），１０．１４（ｓ，１Ｈ）．
ルフェニル）−２−メチルフェノキシアセトアミド（表
−１の化合物番号１８３）の製造 融点：１４８℃ ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：３３９９，３２８５，１６９
６，１６４０，１５４７． ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ）：２．２４（ｓ，３
Ｈ），２．７５（ｄ，Ｊ＝４．５Ｈｚ，３Ｈ），４．７
０（ｓ，２Ｈ），６．８０−６．９０（ｍ，２Ｈ），
７．０７−７．１９（ｍ，２Ｈ），７．３７（ｄｄ，Ｊ
＝８．１Ｈｚ，７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．４９（ｄ，Ｊ
＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．７５（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈ
ｚ，１Ｈ），８．０５（ｓ，１Ｈ），８．３５（ｄ，Ｊ
＝４．５Ｈｚ，１Ｈ），１０．１４（ｓ，１Ｈ）．
【００８９】実施例４０：Ｎ−（３−メチルカルバモイ
ルフェニル）−２−メトキシフェノキシアセトアミド
（表−１の化合物番号１８７）の製造 融点：１３３℃ ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：３３８５，３２６８，１６９
０，１６３８，１５９１，１５４７． ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ）：２．７５（ｄ，Ｊ＝
４．５Ｈｚ，３Ｈ），３，７９（ｓ，３Ｈ），４．６６
（ｓ，２Ｈ），６．８２−７．０２（ｍ，４Ｈ），７，
３８（ｄｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，７．８Ｈｚ，１Ｈ），
７．４９（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．７５
（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），８．０５（ｓ，１
Ｈ），８．３８（ｄ，Ｊ＝４．５Ｈｚ，１Ｈ），１０．
１８（ｓ，１Ｈ）．
ルフェニル）−２−メトキシフェノキシアセトアミド
（表−１の化合物番号１８７）の製造 融点：１３３℃ ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：３３８５，３２６８，１６９
０，１６３８，１５９１，１５４７． ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ）：２．７５（ｄ，Ｊ＝
４．５Ｈｚ，３Ｈ），３，７９（ｓ，３Ｈ），４．６６
（ｓ，２Ｈ），６．８２−７．０２（ｍ，４Ｈ），７，
３８（ｄｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，７．８Ｈｚ，１Ｈ），
７．４９（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．７５
（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），８．０５（ｓ，１
Ｈ），８．３８（ｄ，Ｊ＝４．５Ｈｚ，１Ｈ），１０．
１８（ｓ，１Ｈ）．
【００９０】実施例４１：Ｎ−（３−メチルカルバモイ
ルフェニル）−１−ナフチルオキシアセトアミド（表−
１の化合物番号１９１）の製造 融点：１９４℃ ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ−１）：３４０５，３３０４，１６
９６，１６３８，１５４１． ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ）：２．７５（ｄ，Ｊ＝
４．２Ｈｚ，３Ｈ），４．９２（ｓ，２Ｈ），６．９２
（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．３３−７．６２
（ｍ，６Ｈ），７．７９（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，１
Ｈ），７．８８（ｍ，１Ｈ），８．０８（ｓ，１Ｈ），
８．３１（ｍ，１Ｈ），８．４１（ｄ，Ｊ＝４．２Ｈ
ｚ，１Ｈ），１０．３６（ｓ，１Ｈ）．
ルフェニル）−１−ナフチルオキシアセトアミド（表−
１の化合物番号１９１）の製造 融点：１９４℃ ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ−１）：３４０５，３３０４，１６
９６，１６３８，１５４１． ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ）：２．７５（ｄ，Ｊ＝
４．２Ｈｚ，３Ｈ），４．９２（ｓ，２Ｈ），６．９２
（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．３３−７．６２
（ｍ，６Ｈ），７．７９（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，１
Ｈ），７．８８（ｍ，１Ｈ），８．０８（ｓ，１Ｈ），
８．３１（ｍ，１Ｈ），８．４１（ｄ，Ｊ＝４．２Ｈ
ｚ，１Ｈ），１０．３６（ｓ，１Ｈ）．
【００９１】実施例４２：Ｎ−（３−メチルカルバモイ
ルフェニル）−２−ナフチルオキシアセトアミド（表−
１の化合物番号１９２）の製造 融点：１７４℃ ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：３３８２，３２７５，１６７
２，１６３８，１５８８，１５５７，１５３４． ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ）：２．７５（ｄ，Ｊ＝
４．５Ｈｚ，３Ｈ），４．８２（ｓ，２Ｈ），７．２２
−７．５８（ｍ，６Ｈ），７．７８−７．９５（ｍ，４
Ｈ），８．０９（ｓ，１Ｈ），８．４０（ｄ，Ｊ＝４．
５Ｈｚ，１Ｈ），１０．２８（ｓ，１Ｈ）．
ルフェニル）−２−ナフチルオキシアセトアミド（表−
１の化合物番号１９２）の製造 融点：１７４℃ ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：３３８２，３２７５，１６７
２，１６３８，１５８８，１５５７，１５３４． ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ）：２．７５（ｄ，Ｊ＝
４．５Ｈｚ，３Ｈ），４．８２（ｓ，２Ｈ），７．２２
−７．５８（ｍ，６Ｈ），７．７８−７．９５（ｍ，４
Ｈ），８．０９（ｓ，１Ｈ），８．４０（ｄ，Ｊ＝４．
５Ｈｚ，１Ｈ），１０．２８（ｓ，１Ｈ）．
【００９２】実施例４３：Ｎ−（３−メチルカルバモイ
ルフェニル）−２，３−ジクロロフェノキシアセトアミ
ド（表−１の化合物番号２０４）の製造 融点：１９２〜１９３℃ ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：３３８５，３２９１，１６９
２，１６４４，１５４７． ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ）：２．７７（ｄ，Ｊ＝
４．５Ｈｚ，３Ｈ），４．９１（ｓ，２Ｈ），７．０８
（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，１Ｈ），７．２０ー７．４５
（ｍ，３Ｈ），７．５２（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１
Ｈ），７．７４（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，１Ｈ），８．０
５（ｓ，１Ｈ），８．４２（ｄ，Ｊ＝４．５Ｈｚ，１
Ｈ），１０．３４（ｓ，１Ｈ）．
ルフェニル）−２，３−ジクロロフェノキシアセトアミ
ド（表−１の化合物番号２０４）の製造 融点：１９２〜１９３℃ ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：３３８５，３２９１，１６９
２，１６４４，１５４７． ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ）：２．７７（ｄ，Ｊ＝
４．５Ｈｚ，３Ｈ），４．９１（ｓ，２Ｈ），７．０８
（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，１Ｈ），７．２０ー７．４５
（ｍ，３Ｈ），７．５２（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１
Ｈ），７．７４（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，１Ｈ），８．０
５（ｓ，１Ｈ），８．４２（ｄ，Ｊ＝４．５Ｈｚ，１
Ｈ），１０．３４（ｓ，１Ｈ）．
【００９３】実施例４４：Ｎ−（３−メチルカルバモイ
ルフェニル）−２−メチルー１−ナフチルアセトアミド
（表−１の化合物番号２１６）の製造 融点：２３０−２３１℃ ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：３２９９，３０７１，１６８
４，１６３８，１５８９、１５６０． ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ）：２．５０（ｓ，３
Ｈ），２．７３（ｄ，Ｊ＝４．５Ｈｚ，３Ｈ），４．２
１（ｓ，２Ｈ），７．２２−７．５５（ｍ，５Ｈ），
７．６５−７．７８（ｍ，２Ｈ），７．８５（ｄ，Ｊ＝
７．８Ｈｚ，１Ｈ），８．０１−８．１５（ｍ，２
Ｈ），８．３６（ｄ，Ｊ＝４．５Ｈｚ，１Ｈ），１０．
５０（ｓ，１Ｈ）．
ルフェニル）−２−メチルー１−ナフチルアセトアミド
（表−１の化合物番号２１６）の製造 融点：２３０−２３１℃ ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：３２９９，３０７１，１６８
４，１６３８，１５８９、１５６０． ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ）：２．５０（ｓ，３
Ｈ），２．７３（ｄ，Ｊ＝４．５Ｈｚ，３Ｈ），４．２
１（ｓ，２Ｈ），７．２２−７．５５（ｍ，５Ｈ），
７．６５−７．７８（ｍ，２Ｈ），７．８５（ｄ，Ｊ＝
７．８Ｈｚ，１Ｈ），８．０１−８．１５（ｍ，２
Ｈ），８．３６（ｄ，Ｊ＝４．５Ｈｚ，１Ｈ），１０．
５０（ｓ，１Ｈ）．
【００９４】実施例４５：Ｎ−（３−メチルカルバモイ
ルフェニル）−２−ヒドロキシー１−ナフチルアセトア
ミド（表−１の化合物番号２１９）の製造 融点：２２９−２３０℃ ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：３３１０，１６８６，１６１
３，１５８２、１５６１． ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ）：２．７５（ｄ，Ｊ＝
４．２Ｈｚ，３Ｈ），４．１１（ｓ，２Ｈ），７．１９
（ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ，１Ｈ），７．２０−７．５０
（ｍ，４Ｈ），７．６６−７．８２（ｍ，３Ｈ），７．
８７（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），８．０４（ｓ，１
Ｈ），８．３７（ｄ，Ｊ＝４．５Ｈｚ，１Ｈ），９．７
９（ｓ，１Ｈ），１０．３２（ｓ，１Ｈ）．
ルフェニル）−２−ヒドロキシー１−ナフチルアセトア
ミド（表−１の化合物番号２１９）の製造 融点：２２９−２３０℃ ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：３３１０，１６８６，１６１
３，１５８２、１５６１． ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ）：２．７５（ｄ，Ｊ＝
４．２Ｈｚ，３Ｈ），４．１１（ｓ，２Ｈ），７．１９
（ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ，１Ｈ），７．２０−７．５０
（ｍ，４Ｈ），７．６６−７．８２（ｍ，３Ｈ），７．
８７（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），８．０４（ｓ，１
Ｈ），８．３７（ｄ，Ｊ＝４．５Ｈｚ，１Ｈ），９．７
９（ｓ，１Ｈ），１０．３２（ｓ，１Ｈ）．
【００９５】実施例４６：Ｎ−（３−メチルカルバモイ
ルフェニル）−３−フェニルプロピオンアミド（表−１
の化合物番号２３３）の製造 融点：１４２〜１４３℃ ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：３２９５，１６５７，１６１
３，１５９３，１５４５． ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ）：２．６２（ｔ，Ｊ＝
７．８Ｈｚ，２Ｈ），２．７５（ｄ，Ｊ＝４．５Ｈｚ，
３Ｈ），２．９０（ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，２Ｈ），７．
１０ー７．４０（ｍ，６Ｈ），７．４４（ｄ，Ｊ＝７．
５Ｈｚ，１Ｈ），７．７２（ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，１
Ｈ），７．９９（ｓ，１Ｈ），８．３３（ｄ，Ｊ＝４．
５Ｈｚ，１Ｈ），１０．００（ｓ，１Ｈ）．
ルフェニル）−３−フェニルプロピオンアミド（表−１
の化合物番号２３３）の製造 融点：１４２〜１４３℃ ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：３２９５，１６５７，１６１
３，１５９３，１５４５． ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ）：２．６２（ｔ，Ｊ＝
７．８Ｈｚ，２Ｈ），２．７５（ｄ，Ｊ＝４．５Ｈｚ，
３Ｈ），２．９０（ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，２Ｈ），７．
１０ー７．４０（ｍ，６Ｈ），７．４４（ｄ，Ｊ＝７．
５Ｈｚ，１Ｈ），７．７２（ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，１
Ｈ），７．９９（ｓ，１Ｈ），８．３３（ｄ，Ｊ＝４．
５Ｈｚ，１Ｈ），１０．００（ｓ，１Ｈ）．
【００９６】実施例４７：Ｎ−（３−メチルカルバモイ
ルフェニル）−３−（２−メチルフェニル）プロピオン
アミド（表−１の化合物番号２４０）の製造 融点：１３１℃ ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：３２８９，１６７４，１６４
０，１５５５． ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ）：２．２９（ｓ，３
Ｈ），２．５７（ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，２Ｈ），２．７
５（ｄ，Ｊ＝４．２Ｈｚ，３Ｈ），２．８８（ｔ，Ｊ＝
７．８Ｈｚ，２Ｈ），７．０２ー７．１８（ｍ，４
Ｈ），７．３４（ｄｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，７．２Ｈｚ，
１Ｈ），７．４４（ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，１Ｈ），７．
７３（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．９８（ｓ，１
Ｈ），８．３３（ｄ，Ｊ＝４．２Ｈｚ，１Ｈ），１０．
０１（ｓ，１Ｈ）．
ルフェニル）−３−（２−メチルフェニル）プロピオン
アミド（表−１の化合物番号２４０）の製造 融点：１３１℃ ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：３２８９，１６７４，１６４
０，１５５５． ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ）：２．２９（ｓ，３
Ｈ），２．５７（ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，２Ｈ），２．７
５（ｄ，Ｊ＝４．２Ｈｚ，３Ｈ），２．８８（ｔ，Ｊ＝
７．８Ｈｚ，２Ｈ），７．０２ー７．１８（ｍ，４
Ｈ），７．３４（ｄｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，７．２Ｈｚ，
１Ｈ），７．４４（ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，１Ｈ），７．
７３（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．９８（ｓ，１
Ｈ），８．３３（ｄ，Ｊ＝４．２Ｈｚ，１Ｈ），１０．
０１（ｓ，１Ｈ）．
【００９７】実施例４８：Ｎ−（３−メチルカルバモイ
ルフェニル）−３−（４−ヒドロキシフェニル）プロピ
オンアミド（表−１の化合物番号２４５）の製造 融点：１５８℃ ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：３４２４，３２８５，１６４
７，１５５３． ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ）：２．５４（ｔ，Ｊ＝
７．８Ｈｚ，２Ｈ），２．７４（ｄ，Ｊ＝４．２Ｈｚ，
３Ｈ），２．７８（ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，２Ｈ），６．
６４（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ），７．０１（ｄ，Ｊ
＝８．１Ｈｚ，２Ｈ），７．３３（ｄｄ，Ｊ＝８．１Ｈ
ｚ，７．５Ｈｚ，１Ｈ），７．４３（ｄ，Ｊ＝７．５Ｈ
ｚ，１Ｈ），７．７１（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，１Ｈ），
７．９８（ｓ，１Ｈ），８．３２（ｄ，Ｊ＝４．２Ｈ
ｚ，１Ｈ），９．１０（ｓ，１Ｈ），９．９７（ｓ，１
Ｈ）．
ルフェニル）−３−（４−ヒドロキシフェニル）プロピ
オンアミド（表−１の化合物番号２４５）の製造 融点：１５８℃ ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：３４２４，３２８５，１６４
７，１５５３． ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ）：２．５４（ｔ，Ｊ＝
７．８Ｈｚ，２Ｈ），２．７４（ｄ，Ｊ＝４．２Ｈｚ，
３Ｈ），２．７８（ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，２Ｈ），６．
６４（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ），７．０１（ｄ，Ｊ
＝８．１Ｈｚ，２Ｈ），７．３３（ｄｄ，Ｊ＝８．１Ｈ
ｚ，７．５Ｈｚ，１Ｈ），７．４３（ｄ，Ｊ＝７．５Ｈ
ｚ，１Ｈ），７．７１（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，１Ｈ），
７．９８（ｓ，１Ｈ），８．３２（ｄ，Ｊ＝４．２Ｈ
ｚ，１Ｈ），９．１０（ｓ，１Ｈ），９．９７（ｓ，１
Ｈ）．
【００９８】実施例４９：Ｎ−（３−メチルカルバモイ
ルフェニル）−３−（２−メトキシフェニル）プロピオ
ンアミド（表−１の化合物番号２４６）の製造 融点：１５０℃ ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：３２９７，１６５８，１６４
４，１５５０． ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ）：２．５６（ｔ，Ｊ＝
７．２Ｈｚ，２Ｈ），２．７５（ｄ，Ｊ＝３．９Ｈｚ，
３Ｈ），２．８５（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），３．
７８（ｓ，３Ｈ），６．８４（ｄｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，
７．５Ｈｚ，１Ｈ），６．９３（ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，
１Ｈ），７．０５−７．２０（ｍ，２Ｈ），７．２６
（ｄｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，８．１Ｈｚ，１Ｈ），７．３
４（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，１Ｈ），７．７２（ｄ，Ｊ＝
８．１Ｈｚ，１Ｈ），７．９９（ｓ，１Ｈ），８．３８
（ｄ，Ｊ＝３．９Ｈｚ，１Ｈ），９．６７（ｓ，１
Ｈ）．
ルフェニル）−３−（２−メトキシフェニル）プロピオ
ンアミド（表−１の化合物番号２４６）の製造 融点：１５０℃ ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：３２９７，１６５８，１６４
４，１５５０． ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ）：２．５６（ｔ，Ｊ＝
７．２Ｈｚ，２Ｈ），２．７５（ｄ，Ｊ＝３．９Ｈｚ，
３Ｈ），２．８５（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），３．
７８（ｓ，３Ｈ），６．８４（ｄｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，
７．５Ｈｚ，１Ｈ），６．９３（ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，
１Ｈ），７．０５−７．２０（ｍ，２Ｈ），７．２６
（ｄｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，８．１Ｈｚ，１Ｈ），７．３
４（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，１Ｈ），７．７２（ｄ，Ｊ＝
８．１Ｈｚ，１Ｈ），７．９９（ｓ，１Ｈ），８．３８
（ｄ，Ｊ＝３．９Ｈｚ，１Ｈ），９．６７（ｓ，１
Ｈ）．
【００９９】実施例５０：Ｎ−（３−メチルカルバモイ
ルフェニル）−３−（４−メトキシフェニル）プロピオ
ンアミド（表−１の化合物番号２４８）の製造 融点：１５１−１５２℃ ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：３２８９，１６６９，１６３
４，１６１３，１５５７，１５１４． ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ）：２．５７（ｔ，Ｊ＝
７．５Ｈｚ，２Ｈ），２．７７（ｄ，Ｊ＝４．２Ｈｚ，
３Ｈ），２．８５（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，２Ｈ），３．
７１（ｓ，３Ｈ），６．８４（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２
Ｈ），７．１６（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ），７．３
５（ｄｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．
４５（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．７４（ｄ，Ｊ
＝７．５Ｈｚ，１Ｈ），８．０１（ｓ，１Ｈ），８．３
４（ｄ，Ｊ＝４．２Ｈｚ，１Ｈ），１０．００（ｓ，１
Ｈ）．
ルフェニル）−３−（４−メトキシフェニル）プロピオ
ンアミド（表−１の化合物番号２４８）の製造 融点：１５１−１５２℃ ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：３２８９，１６６９，１６３
４，１６１３，１５５７，１５１４． ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ，δ）：２．５７（ｔ，Ｊ＝
７．５Ｈｚ，２Ｈ），２．７７（ｄ，Ｊ＝４．２Ｈｚ，
３Ｈ），２．８５（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，２Ｈ），３．
７１（ｓ，３Ｈ），６．８４（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２
Ｈ），７．１６（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ），７．３
５（ｄｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．
４５（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．７４（ｄ，Ｊ
＝７．５Ｈｚ，１Ｈ），８．０１（ｓ，１Ｈ），８．３
４（ｄ，Ｊ＝４．２Ｈｚ，１Ｈ），１０．００（ｓ，１
Ｈ）．
【０１００】試験例１：抗ヘリコバクター・ピロリ活性
の測定 牛胎児血清１０％を含むブレインハートインフューショ
ン培地（Ｄｉｆｃｏ社製）５ｍｌを試験管に分注し、ヒ
トより分離されたヘリコバクター・ピロリ３１Ａ株（都
立衛生研究所 微生物部 細菌第一研究科より入手）を
接種して、微好気条件下（酸素５％、二酸化炭素１０
％、窒素８５％）に３７℃で４８時間振とう培養した。
次にこの培養液を牛胎児血清１０％を含むブレインハー
トインフューション培地に５％接種し、１０％ジメチル
スルホキシドにて溶解した被験化合物を添加して、微好
気条件下に３７℃で４８時間振とう培養したのち、ヘリ
コバクター・ピロリの成育状況を調べた。活性は成育阻
害がみられた最も低い濃度（最小生育阻止濃度：ＭＩ
Ｃ）で記述した。その結果を表−２に示す。表−２に示
された結果から、本発明の化合物はヘリコバクター・ピ
ロリに対して強い阻害活性を有することがわかる。
の測定 牛胎児血清１０％を含むブレインハートインフューショ
ン培地（Ｄｉｆｃｏ社製）５ｍｌを試験管に分注し、ヒ
トより分離されたヘリコバクター・ピロリ３１Ａ株（都
立衛生研究所 微生物部 細菌第一研究科より入手）を
接種して、微好気条件下（酸素５％、二酸化炭素１０
％、窒素８５％）に３７℃で４８時間振とう培養した。
次にこの培養液を牛胎児血清１０％を含むブレインハー
トインフューション培地に５％接種し、１０％ジメチル
スルホキシドにて溶解した被験化合物を添加して、微好
気条件下に３７℃で４８時間振とう培養したのち、ヘリ
コバクター・ピロリの成育状況を調べた。活性は成育阻
害がみられた最も低い濃度（最小生育阻止濃度：ＭＩ
Ｃ）で記述した。その結果を表−２に示す。表−２に示
された結果から、本発明の化合物はヘリコバクター・ピ
ロリに対して強い阻害活性を有することがわかる。
【０１０１】
【表２７】
【０１０２】試験例２：抗カンピロバクター・ジェジュ
ニ活性の測定 試験例１と同様の方法により、カンピロバクター・ジェ
ジュニに対する本発明化合物の阻害活性を測定した。そ
の結果、実施例３１の化合物のＭＩＣは０．００８μｇ
／ｍｌであった。この結果から、本発明の化合物はカン
ピロバクター・ジェジュニに対して強い阻害活性を有す
ることがわかる。
ニ活性の測定 試験例１と同様の方法により、カンピロバクター・ジェ
ジュニに対する本発明化合物の阻害活性を測定した。そ
の結果、実施例３１の化合物のＭＩＣは０．００８μｇ
／ｍｌであった。この結果から、本発明の化合物はカン
ピロバクター・ジェジュニに対して強い阻害活性を有す
ることがわかる。
【０１０３】試験例３：急性毒性試験 ＳＤ雌雄ラットに本発明の化合物を０．５％ＣＭＣ−Ｎ
ａ水溶液に懸濁させたものを強制経口投与し、７日間症
状観察を行った。その結果、実施例３０及び３１の化合
物のＬＤ50値はいずれも２，０００mg／kg以上であっ
た。
ａ水溶液に懸濁させたものを強制経口投与し、７日間症
状観察を行った。その結果、実施例３０及び３１の化合
物のＬＤ50値はいずれも２，０００mg／kg以上であっ
た。
【０１０４】製剤例 （１）錠剤 下記の成分を常法に従って混合し、慣用の装置により打
錠した。 実施例３１の化合物 １００mg 結晶セルロース １８０mg コーンスターチ ３００mg 乳糖 ６００mg ステアリン酸マグネシウム １５mg
錠した。 実施例３１の化合物 １００mg 結晶セルロース １８０mg コーンスターチ ３００mg 乳糖 ６００mg ステアリン酸マグネシウム １５mg
【０１０５】（２）軟カプセル剤 下記の成分を常法に従って混合し、軟カプセルに充填し
た。 実施例４１の化合物 １００mg オリーブ油 ９００mg レシチン ６０mg
た。 実施例４１の化合物 １００mg オリーブ油 ９００mg レシチン ６０mg
【０１０６】
【発明の効果】本発明のアミド誘導体はヘリコバクター
・ピロリ菌に対して強い抗菌活性を示すので、医薬の有
効成分として有用である。
・ピロリ菌に対して強い抗菌活性を示すので、医薬の有
効成分として有用である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ａ６１Ｋ 31/335 Ａ６１Ｋ 31/335 31/34 31/34 31/40 ＡＣＪ 31/40 ＡＣＪ 31/405 31/405 31/47 31/47 Ｃ０７Ｃ 271/28 Ｃ０７Ｃ 271/28 323/62 323/62 Ｃ０７Ｄ 207/337 Ｃ０７Ｄ 207/337 209/18 209/18 213/56 213/56 213/61 213/61 213/89 213/89 215/14 215/14 217/02 217/02 217/16 217/16 307/54 307/54 307/80 307/80 317/60 317/60 319/18 319/18 333/24 333/24 (72)発明者 渡辺 和俊 神奈川県横浜市青葉区鴨志田町1000番地 三菱化学株式会社横浜総合研究所内
Claims (24)
- 【請求項１】 下記一般式（Ｉ）： 【化１】 （式中、Ｒ1 はＣ3 〜Ｃ8 のシクロアルキル基、置換基
を有していてもよいＣ6〜Ｃ14のアリール基、置換基を
有していてもよい複素環残基、置換基を有していてもよ
いＣ6 〜Ｃ14のアリールオキシ基、又は置換基を有して
いてもよいＣ7 〜Ｃ15のアリールメチル基を表わし；Ｒ
2 及びＲ3 はそれぞれ独立して水素原子若しくはＣ1 〜
Ｃ5 のアルキル基を表わすか、又はＲ2 とＲ3 はいっし
ょになってＣ2 〜Ｃ7 のアルキレン基を表わし；Ｒ4 及
びＲ5 はそれぞれ独立して水素原子又はＣ1 〜Ｃ5 のア
ルキル基を表わし；Ｒ6 は水素原子、水酸基で置換され
ていてもよいＣ1 〜Ｃ5 のアルキル基、水酸基、又はＣ
1 〜Ｃ5 のアルコキシ基を表わす）で示される化合物若
しくはその塩、又はそれらの溶媒和物若しくはそれらの
水和物。 - 【請求項２】 Ｒ4 が水素原子である請求項１記載の化
合物若しくはその塩、又はそれらの溶媒和物若しくはそ
れらの水和物。 - 【請求項３】 Ｒ2 及びＲ3 が水素原子である請求項２
記載の化合物若しくはその塩、又はそれらの溶媒和物若
しくはそれらの水和物。 - 【請求項４】 Ｒ5 が水素原子である請求項３記載の化
合物若しくはその塩、又はそれらの溶媒和物若しくはそ
れらの水和物。 - 【請求項５】 Ｒ6 がＣ1 〜Ｃ5 のアルキル基である請
求項４記載の化合物若しくはその塩、又はそれらの溶媒
和物若しくはそれらの水和物。 - 【請求項６】 Ｒ6 がメチル基である請求項４記載の化
合物若しくはその塩、又はそれらの溶媒和物若しくはそ
れらの水和物。 - 【請求項７】 Ｒ1 が置換基を有していてもよいＣ6 〜
Ｃ14のアリール基である請求項６記載の化合物若しくは
その塩、又はそれらの溶媒和物若しくはそれらの水和
物。 - 【請求項８】 Ｒ1 が置換基を有していてもよい複素環
残基である請求項６記載の化合物若しくはその塩、又は
それらの溶媒和物若しくはそれらの水和物。 - 【請求項９】 Ｒ1 が置換基を有していてもよいＣ6 〜
Ｃ14のアリールオキシ基である請求項６記載の化合物若
しくはその塩、又はそれらの溶媒和物若しくはそれらの
水和物。 - 【請求項１０】 Ｒ1 が置換基を有していてもよいＣ7
〜Ｃ15のアリールメチル基である請求項６記載の化合物
若しくはその塩、又はそれらの溶媒和物若しくはそれら
の水和物。 - 【請求項１１】 Ｎ−（３−メチルカルバモイルフェニ
ル）−３−クロロフェニルアセトアミド；Ｎ−（３−メ
チルカルバモイルフェニル）−４−クロロフェニルアセ
トアミド；Ｎ−（３−メチルカルバモイルフェニル）−
３−ブロモフェニルアセトアミド；Ｎ−（３−メチルカ
ルバモイルフェニル）−４−ブロモフェニルアセトアミ
ド；Ｎ−（３−メチルカルバモイルフェニル）−３−メ
チルフェニルアセトアミド；Ｎ−（３−メチルカルバモ
イルフェニル）−４−メチルフェニルアセトアミド；Ｎ
−（３−メチルカルバモイルフェニル）−３−メトキシ
フェニルアセトアミド；Ｎ−（３−メチルカルバモイル
フェニル）−４−メトキシフェニルアセトアミド；Ｎ−
（３−メチルカルバモイルフェニル）−３，４，５−ト
リメトキシフェニルアセトアミド；Ｎ−（３−メチルカ
ルバモイルフェニル）−３−ベンジルオキシフェニルア
セトアミド；Ｎ−（３−メチルカルバモイルフェニル）
−１−ナフチルアセトアミド；Ｎ−（３−メチルカルバ
モイルフェニル）−２−ナフチルアセトアミド；Ｎ−
（３−メチルカルバモイルフェニル）−３−インドリル
アセトアミド；Ｎ−（３−メチルカルバモイルフェニ
ル）−３−ベンゾチエニルアセトアミド；Ｎ−（３−メ
チルカルバモイルフェニル）−４−ベンゾチエニルアセ
トアミド；Ｎ−（３−メチルカルバモイルフェニル）−
３，４−メチレンジオキシフェニルアセトアミド；Ｎ−
（３−メチルカルバモイルフェニル）−２−クロロフェ
ノキシアセトアミド；Ｎ−（３−メチルカルバモイルフ
ェニル）−２，３−ジクロロフェノキシアセトアミド；
Ｎ−（３−メチルカルバモイルフェニル）−１−ナフチ
ルオキシアセトアミド；Ｎ−（３−メチルカルバモイル
フェニル）−２−ナフチルオキシアセトアミド；及びＮ
−（３−メチルカルバモイルフェニル）−３−（２−メ
トキシフェニル）プロピオンアミドからなる群から選ば
れる化合物若しくはその塩、又はそれらの溶媒和物若し
くはそれらの水和物。 - 【請求項１２】 Ｎ−（３−メチルカルバモイルフェニ
ル）−１−ナフチルアセトアミド若しくはその塩、又は
それらの溶媒和物若しくはそれらの水和物。 - 【請求項１３】 Ｎ−（３−メチルカルバモイルフェニ
ル）−２−ナフチルアセトアミド若しくはその塩、又は
それらの溶媒和物若しくはそれらの水和物。 - 【請求項１４】 Ｎ−（３−メチルカルバモイルフェニ
ル）−３−ベンゾチエニルアセトアミド若しくはその
塩、又はそれらの溶媒和物若しくはそれらの水和物。 - 【請求項１５】 Ｎ−（３−メチルカルバモイルフェニ
ル）−４−ベンゾチエニルアセトアミド若しくはその
塩、又はそれらの溶媒和物若しくはそれらの水和物。 - 【請求項１６】 Ｎ−（３−メチルカルバモイルフェニ
ル）−１−ナフチルオキシアセトアミド若しくはその
塩、又はそれらの溶媒和物若しくはそれらの水和物。 - 【請求項１７】 請求項１ないし16のいずれか１項に記
載の化合物及びその塩、並びにそれらの溶媒和物及びそ
れらの水和物からなる群から選ばれる物質を有効成分と
して含む医薬。 - 【請求項１８】 有効成分である上記物質と１又は２以
上の製剤用添加物とを含む医薬組成物の形態の請求項17
に記載の医薬。 - 【請求項１９】 抗菌活性を有する請求項17又は18に記
載の医薬。 - 【請求項２０】 ヘリコバクター属及び／又はカンピロ
バクター属に属する微生物に対して抗菌活性を有する請
求項17ないし19のいずれか１項に記載の医薬。 - 【請求項２１】 抗ヘリコバクター・ピロリ活性及び／
又は抗カンピロバクター・ジェジュニ活性を有する請求
項20に記載の医薬。 - 【請求項２２】 消化器疾患の治療及び／又は予防のた
めの請求項17ないし21のいずれか１項に記載の医薬。 - 【請求項２３】 消化器疾患が、胃炎、胃潰瘍、胃癌、
胃の悪性リンパ腫、ＭＡＬＴリンパ腫、十二指腸潰瘍、
十二指腸癌、及び腸炎からなる群から選ばれる１又は２
以上の疾患である請求項22に記載の医薬。 - 【請求項２４】 消化器疾患の再発予防に用いる請求項
22又は23に記載の医薬。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10165165A JPH1171336A (ja) | 1997-06-25 | 1998-06-12 | アミド誘導体 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16848497 | 1997-06-25 | ||
| JP9-168484 | 1997-06-25 | ||
| JP10165165A JPH1171336A (ja) | 1997-06-25 | 1998-06-12 | アミド誘導体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1171336A true JPH1171336A (ja) | 1999-03-16 |
Family
ID=26490004
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10165165A Pending JPH1171336A (ja) | 1997-06-25 | 1998-06-12 | アミド誘導体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1171336A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002098401A1 (fr) * | 2001-06-01 | 2002-12-12 | Mitsubishi Pharma Corporation | Composition medicinale comprenant de la mucine |
| JP2003500399A (ja) * | 1999-05-25 | 2003-01-07 | アストラゼネカ・アクチエボラーグ | 免疫抑制活性を有する置換フェニル化合物および医薬組成物 |
| JP2003519676A (ja) * | 2000-01-13 | 2003-06-24 | トゥラリック インコーポレイテッド | 抗菌剤 |
| JP2004517098A (ja) * | 2000-12-21 | 2004-06-10 | グラクソ グループ リミテッド | インドール誘導体 |
| KR20180008408A (ko) * | 2015-04-17 | 2018-01-24 | 다우 아그로사이언시즈 엘엘씨 | 살충 유용성을 갖는 분자, 및 그와 관련된 중간체, 조성물 및 방법 |
-
1998
- 1998-06-12 JP JP10165165A patent/JPH1171336A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003500399A (ja) * | 1999-05-25 | 2003-01-07 | アストラゼネカ・アクチエボラーグ | 免疫抑制活性を有する置換フェニル化合物および医薬組成物 |
| JP2003519676A (ja) * | 2000-01-13 | 2003-06-24 | トゥラリック インコーポレイテッド | 抗菌剤 |
| JP2004517098A (ja) * | 2000-12-21 | 2004-06-10 | グラクソ グループ リミテッド | インドール誘導体 |
| WO2002098401A1 (fr) * | 2001-06-01 | 2002-12-12 | Mitsubishi Pharma Corporation | Composition medicinale comprenant de la mucine |
| KR20180008408A (ko) * | 2015-04-17 | 2018-01-24 | 다우 아그로사이언시즈 엘엘씨 | 살충 유용성을 갖는 분자, 및 그와 관련된 중간체, 조성물 및 방법 |
| JP2018516241A (ja) * | 2015-04-17 | 2018-06-21 | ダウ アグロサイエンシィズ エルエルシー | 農薬の効用を有する分子ならびに関連する中間体、組成物及びプロセス |
| JP2018516242A (ja) * | 2015-04-17 | 2018-06-21 | ダウ アグロサイエンシィズ エルエルシー | 農薬の効用を有する分子ならびに関連する中間体、組成物及びプロセス |
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