JPH1170320A - ダイオキシン含有ガスの処理方法及び装置 - Google Patents
ダイオキシン含有ガスの処理方法及び装置Info
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- JPH1170320A JPH1170320A JP10117020A JP11702098A JPH1170320A JP H1170320 A JPH1170320 A JP H1170320A JP 10117020 A JP10117020 A JP 10117020A JP 11702098 A JP11702098 A JP 11702098A JP H1170320 A JPH1170320 A JP H1170320A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 排ガス中のダイオキシンをきわめて効率良く
除去することができるダイオキシン除去方法及び装置を
提供する。 【解決手段】 排ガスは乾式集塵機１で粉塵が除去され
た後、前段液接触室２でポンプ３による水と接触してダ
イオキシンが吸収される。洗浄塔４内では、並列に２個
の液接触室６，６′が設けられ、活性炭分散水８，８′
を循環させるように循環ライン５Ｃ、５′Ｃが接続され
ている。循環ライン５′Ｃには水冷却器１５が設けられ
ており、循環水が冷却される。このため、液接触室６′
を通過したガスは液接触室６を通過したガスよりも低温
となる。液接触室６、６′を通過したガスは水蒸気で飽
和しているので、液接触室６，６′を通過したガスを混
合室１２で混合することにより大量の白煙が発生する。
これにより、ガス中の粒子が成長し、集塵機１３で確実
に除去される。
除去することができるダイオキシン除去方法及び装置を
提供する。 【解決手段】 排ガスは乾式集塵機１で粉塵が除去され
た後、前段液接触室２でポンプ３による水と接触してダ
イオキシンが吸収される。洗浄塔４内では、並列に２個
の液接触室６，６′が設けられ、活性炭分散水８，８′
を循環させるように循環ライン５Ｃ、５′Ｃが接続され
ている。循環ライン５′Ｃには水冷却器１５が設けられ
ており、循環水が冷却される。このため、液接触室６′
を通過したガスは液接触室６を通過したガスよりも低温
となる。液接触室６、６′を通過したガスは水蒸気で飽
和しているので、液接触室６，６′を通過したガスを混
合室１２で混合することにより大量の白煙が発生する。
これにより、ガス中の粒子が成長し、集塵機１３で確実
に除去される。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ごみ焼却場等で発
生する排ガス中のダイオキシンを捕集する方法及び装置
に関するものである。
生する排ガス中のダイオキシンを捕集する方法及び装置
に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】ごみ焼却場等の排ガス中には有害なダイ
オキシンが含まれるので、その除去処理を行う必要があ
る。なお、この排ガスは、通常の場合１５０〜２５０℃
の温度であり、湿度は２０〜３０％程度である。
オキシンが含まれるので、その除去処理を行う必要があ
る。なお、この排ガスは、通常の場合１５０〜２５０℃
の温度であり、湿度は２０〜３０％程度である。
【０００３】ダイオキシンの沸点は４００〜４５０℃、
融点は３００℃程度であるから、排ガス温度が７０〜８
０℃程度にまで低下すればダイオキシンは固体となるは
ずであるが、排ガスに含まれるダイオキシンは数ｎｇ〜
数１０ｎｇ（ナノグラム、１０-9グラム）／Ｎｍ3程度
の微量であるから、蒸気圧から見て一部はガス状、一部
は固体もしくは液滴、一部は粉塵に吸着された固体とし
て共存するものと考えられる。
融点は３００℃程度であるから、排ガス温度が７０〜８
０℃程度にまで低下すればダイオキシンは固体となるは
ずであるが、排ガスに含まれるダイオキシンは数ｎｇ〜
数１０ｎｇ（ナノグラム、１０-9グラム）／Ｎｍ3程度
の微量であるから、蒸気圧から見て一部はガス状、一部
は固体もしくは液滴、一部は粉塵に吸着された固体とし
て共存するものと考えられる。
【０００４】ダイオキシンの水に対する溶解度はきわめ
て低いが、上記程度の微量であれば、これを水と接触さ
せてガス状のダイオキシンを全て水に吸収させることが
可能である。
て低いが、上記程度の微量であれば、これを水と接触さ
せてガス状のダイオキシンを全て水に吸収させることが
可能である。
【０００５】ダイオキシンを湿式で除去する湿式処理方
法の代表的な方法及び装置は、第７図で示したように、
湿式減温装置５１で高温ガス中に水５２をスプレーして
２００〜３００℃中間温度まで冷却し、ベンチュリース
クラバ５３で洗浄水５４と接触させて飽和温度まで冷却
し、充填層５５で更に洗浄する。
法の代表的な方法及び装置は、第７図で示したように、
湿式減温装置５１で高温ガス中に水５２をスプレーして
２００〜３００℃中間温度まで冷却し、ベンチュリース
クラバ５３で洗浄水５４と接触させて飽和温度まで冷却
し、充填層５５で更に洗浄する。
【０００６】この際に、排気の白煙発生量を減らす目的
から、充填層５５の洗浄液５６を冷却機５７で冷却し、
その排気ガス５８を加熱器５９で加熱した後、より性能
の高いダイオキシン除去装置６０（たとえば、集塵機、
活性炭層、等）に導入して放出させる。
から、充填層５５の洗浄液５６を冷却機５７で冷却し、
その排気ガス５８を加熱器５９で加熱した後、より性能
の高いダイオキシン除去装置６０（たとえば、集塵機、
活性炭層、等）に導入して放出させる。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】上記従来のダイオキシ
ン含有の処理方法及び装置には次のような課題があっ
た。
ン含有の処理方法及び装置には次のような課題があっ
た。
【０００８】 ダイオキシンは８００〜８５０℃程度
以上で燃焼させれば発生せず、それが１５０〜５００℃
程度まで低下するときに発生することが知られている。
以上で燃焼させれば発生せず、それが１５０〜５００℃
程度まで低下するときに発生することが知られている。
【０００９】ところが、従来の湿式減温装置５１はその
ような配慮がなく、この区間をガスが数秒間の時間を経
て経過するため、これがむしろダイオキシンの発生を助
長している可能性すらある。
ような配慮がなく、この区間をガスが数秒間の時間を経
て経過するため、これがむしろダイオキシンの発生を助
長している可能性すらある。
【００１０】 従来のスクラバ５３は、単にガスの温
度を後段の充填層５５に安全な範囲まで下げることが主
目的であって、循環洗浄水５４の量やそれによってガス
が十分に飽和しているか等については必ずしも安全な配
慮がされていない。
度を後段の充填層５５に安全な範囲まで下げることが主
目的であって、循環洗浄水５４の量やそれによってガス
が十分に飽和しているか等については必ずしも安全な配
慮がされていない。
【００１１】 充填層５５の目的は充填層の構造その
ものでガスと粒子の吸収と捕集を行わせるもので、循環
洗浄液５６によるガスの冷却は主目的が排気の白煙の減
少にあるから、その冷却温度差はせいぜい１０〜１５℃
である。
ものでガスと粒子の吸収と捕集を行わせるもので、循環
洗浄液５６によるガスの冷却は主目的が排気の白煙の減
少にあるから、その冷却温度差はせいぜい１０〜１５℃
である。
【００１２】そして、この装置のみでダイオキシンを湿
式吸収させようとする場合には、洗浄液がダイオキシン
を吸収する能力を低下させないために、ダイオキシンの
溶解度に留意しつつ排水６１の量を定め、それを系外に
排出させる必要があり、しかもこの排水６１にはダイオ
キシンが含まれるため、その除去装置が必要である。
式吸収させようとする場合には、洗浄液がダイオキシン
を吸収する能力を低下させないために、ダイオキシンの
溶解度に留意しつつ排水６１の量を定め、それを系外に
排出させる必要があり、しかもこの排水６１にはダイオ
キシンが含まれるため、その除去装置が必要である。
【００１３】 このような理由から、従来の方法によ
るスクラバ５３と充填層５５だけでダイオキシンを完全
に除去することは困難であり、後段に性能の高いダイオ
キシン除去装置６０を設置することが多い。
るスクラバ５３と充填層５５だけでダイオキシンを完全
に除去することは困難であり、後段に性能の高いダイオ
キシン除去装置６０を設置することが多い。
【００１４】本発明は、上記〜の点を解決し、ダイ
オキシンを効率良く除去することができる方法及び装置
を提供することを目的とする。
オキシンを効率良く除去することができる方法及び装置
を提供することを目的とする。
【００１５】
【課題を解決するための手段】請求項１の本発明のダイ
オキシン含有ガスの処理方法は、ダイオキシン含有ガス
を、ダイオキシン吸着材を含み、かつ乾きガスの重量比
で７倍以上の量の水と接触させて急冷した後、４５℃以
下の温度の水で洗浄するダイオキシン含有ガスの処理方
法であるこの急冷の程度は５００℃以上のダイオキシン
含有ガスを１秒以内に１００℃以下まで急冷するもので
あることが望ましい(請求項２)。
オキシン含有ガスの処理方法は、ダイオキシン含有ガス
を、ダイオキシン吸着材を含み、かつ乾きガスの重量比
で７倍以上の量の水と接触させて急冷した後、４５℃以
下の温度の水で洗浄するダイオキシン含有ガスの処理方
法であるこの急冷の程度は５００℃以上のダイオキシン
含有ガスを１秒以内に１００℃以下まで急冷するもので
あることが望ましい(請求項２)。
【００１６】請求項３の本発明は、ダイオキシン含有ガ
スを、ダイオキシン吸着材を含み、かつ乾きガスの重量
比の７倍以上の量の水で急冷後、その一部を４５℃以下
の温度の水で洗浄した後、残部のガスと混合するダイオ
キシン含有ガスの処理方法である。
スを、ダイオキシン吸着材を含み、かつ乾きガスの重量
比の７倍以上の量の水で急冷後、その一部を４５℃以下
の温度の水で洗浄した後、残部のガスと混合するダイオ
キシン含有ガスの処理方法である。
【００１７】本発明者が行った種々の研究の結果、この
請求項１〜３のガス処理方法のように、ダイオキシン含
有ガスを例えばスクラバによって大量のダイオキシン吸
着材含有水と接触させて急冷し、次いで４５℃以下の水
で洗浄して冷却することによりダイオキシンを９０〜９
５％程度除去できることが認められた。
請求項１〜３のガス処理方法のように、ダイオキシン含
有ガスを例えばスクラバによって大量のダイオキシン吸
着材含有水と接触させて急冷し、次いで４５℃以下の水
で洗浄して冷却することによりダイオキシンを９０〜９
５％程度除去できることが認められた。
【００１８】請求項４の本発明のダイオキシン含有ガス
の処理方法は、ダイオキシン含有ガスとダイオキシン吸
着材の分散水とを接触させ、ダイオキシンを水に吸収さ
せると共に該吸着材に吸着させる接触工程と、この接触
工程からのガスを集塵処理する工程とを有するダイオキ
シン除去方法において、該接触工程後のガスを冷却する
ことにより水蒸気を凝縮させて白煙を発生させ、この白
煙を含むガスを前記集塵工程に供給することを特徴とす
るものである。
の処理方法は、ダイオキシン含有ガスとダイオキシン吸
着材の分散水とを接触させ、ダイオキシンを水に吸収さ
せると共に該吸着材に吸着させる接触工程と、この接触
工程からのガスを集塵処理する工程とを有するダイオキ
シン除去方法において、該接触工程後のガスを冷却する
ことにより水蒸気を凝縮させて白煙を発生させ、この白
煙を含むガスを前記集塵工程に供給することを特徴とす
るものである。
【００１９】請求項５のダイオキシン含有ガスの処理方
法は、請求項４において、前記接触工程においてガスの
一部をガスの他部よりも低温の前記分散水と接触させ、
これによって該接触工程後に比較的低温のガスと比較的
高温のガスとを生じさせ、これらのガス同士を混合させ
ることにより前記白煙を発生させるようにしたことを特
徴とするものである。
法は、請求項４において、前記接触工程においてガスの
一部をガスの他部よりも低温の前記分散水と接触させ、
これによって該接触工程後に比較的低温のガスと比較的
高温のガスとを生じさせ、これらのガス同士を混合させ
ることにより前記白煙を発生させるようにしたことを特
徴とするものである。
【００２０】請求項６のダイオキシン含有ガスの処理方
法は、請求項４において、前記接触工程は第１接触工程
と第２接触工程からなり、被処理ガスを第１接触工程に
て処理し、この第１接触工程からのガスの一部を第２接
触工程にて処理すると共に冷却し、第１接触工程からの
ガスの他部を該第２接触工程からのガスと混合して前記
白煙を生じさせるようにしたことを特徴とするものであ
る。
法は、請求項４において、前記接触工程は第１接触工程
と第２接触工程からなり、被処理ガスを第１接触工程に
て処理し、この第１接触工程からのガスの一部を第２接
触工程にて処理すると共に冷却し、第１接触工程からの
ガスの他部を該第２接触工程からのガスと混合して前記
白煙を生じさせるようにしたことを特徴とするものであ
る。
【００２１】請求項７の本発明のダイオキシン含有ガス
の処理装置は、ダイオキシン含有ガスとダイオキシン吸
着材の分散水とを接触させる気液接触手段と、該気液接
触手段からのガスを冷却することにより水蒸気を凝縮さ
せて白煙を発生させる手段と、この白煙を含むガスを集
塵処理する手段とを備えてなることを特徴とするもので
ある。
の処理装置は、ダイオキシン含有ガスとダイオキシン吸
着材の分散水とを接触させる気液接触手段と、該気液接
触手段からのガスを冷却することにより水蒸気を凝縮さ
せて白煙を発生させる手段と、この白煙を含むガスを集
塵処理する手段とを備えてなることを特徴とするもので
ある。
【００２２】請求項８のダイオキシン含有ガスの処理装
置は、ダイオキシン含有ガスとダイオキシン吸着材の分
散水とを接触させる第１の気液接触手段と、該第１の気
液接触手段からのガスの一部を比較的低温のダイオキシ
ン吸着材分散水と接触させる第２の気液接触手段と、該
第１の気液接触手段からのガスの他部を比較的高温のダ
イオキシン吸着材分散水と接触させる第３の気液接触手
段と、該第２の気液接触手段からの比較的低温のガスと
第３の気液接触手段からの比較的高温のガスとを混合
し、これにより水蒸気を凝縮させて白煙を発生させる手
段と、この白煙を含むガスを集塵処理する手段とを備え
てなるダイオキシン含有ガスの処理装置である。
置は、ダイオキシン含有ガスとダイオキシン吸着材の分
散水とを接触させる第１の気液接触手段と、該第１の気
液接触手段からのガスの一部を比較的低温のダイオキシ
ン吸着材分散水と接触させる第２の気液接触手段と、該
第１の気液接触手段からのガスの他部を比較的高温のダ
イオキシン吸着材分散水と接触させる第３の気液接触手
段と、該第２の気液接触手段からの比較的低温のガスと
第３の気液接触手段からの比較的高温のガスとを混合
し、これにより水蒸気を凝縮させて白煙を発生させる手
段と、この白煙を含むガスを集塵処理する手段とを備え
てなるダイオキシン含有ガスの処理装置である。
【００２３】請求項９のダイオキシン含有ガスの処理装
置は、ダイオキシン含有ガスとダイオキシン吸着材分散
水とを接触させる第１の気液接触手段と、該第１の気液
接触手段からのガスの一部をダイオキシン吸着材分散水
と接触させる第２の気液接触手段と、該第１の気液接触
手段からのガスの他部と該第２の気液接触手段からのガ
スとを混合し、これにより水蒸気を凝縮させて白煙を発
生させる手段と、この白煙を含むガスを集塵処理する手
段と、を備えてなるダイオキシン含有ガスの処理装置で
ある。
置は、ダイオキシン含有ガスとダイオキシン吸着材分散
水とを接触させる第１の気液接触手段と、該第１の気液
接触手段からのガスの一部をダイオキシン吸着材分散水
と接触させる第２の気液接触手段と、該第１の気液接触
手段からのガスの他部と該第２の気液接触手段からのガ
スとを混合し、これにより水蒸気を凝縮させて白煙を発
生させる手段と、この白煙を含むガスを集塵処理する手
段と、を備えてなるダイオキシン含有ガスの処理装置で
ある。
【００２４】かかる請求項４〜９のダイオキシン含有ガ
スの処理方法及び装置にあっては、気液接触処理により
大部分のダイオキシンを吸収除去する。また、この気液
接触処理により、ほぼ水分が飽和状態となっているガス
をその後冷却して白煙（大量の微小水滴）を発生させ
る。この水滴が固体を包み込むように発生するところか
ら、粒子の見かけの粒径（表面に付着した水分を含めた
粒子径）が大きくなる。また、この水分付着により粒子
同士が結合（凝集、会合）して粒子が成長する。このよ
うに粒径が大きくなった粒子は後段の集塵手段で確実に
捕集され、これによりダイオキシンの大気放出量が著し
く減少する。
スの処理方法及び装置にあっては、気液接触処理により
大部分のダイオキシンを吸収除去する。また、この気液
接触処理により、ほぼ水分が飽和状態となっているガス
をその後冷却して白煙（大量の微小水滴）を発生させ
る。この水滴が固体を包み込むように発生するところか
ら、粒子の見かけの粒径（表面に付着した水分を含めた
粒子径）が大きくなる。また、この水分付着により粒子
同士が結合（凝集、会合）して粒子が成長する。このよ
うに粒径が大きくなった粒子は後段の集塵手段で確実に
捕集され、これによりダイオキシンの大気放出量が著し
く減少する。
【００２５】白煙を効率良く発生させるには、例えば排
ガスを吸着材分散水と１次接触させた後、一部のガスを
低温の吸着材分散水と２次接触させて低温のガスとし、
他部のガスをそれよりも温度の高い吸着材分散水と２次
接触させてそれよりも高温のガスとし、これらの２次接
触後の比較的低温のガス及び比較的高温のガス同士を混
合する。この比較的高温のガス中の水蒸気が比較的低温
のガスによって急速に冷却され、多量の白煙が効率良く
発生する（請求項５、８）。
ガスを吸着材分散水と１次接触させた後、一部のガスを
低温の吸着材分散水と２次接触させて低温のガスとし、
他部のガスをそれよりも温度の高い吸着材分散水と２次
接触させてそれよりも高温のガスとし、これらの２次接
触後の比較的低温のガス及び比較的高温のガス同士を混
合する。この比較的高温のガス中の水蒸気が比較的低温
のガスによって急速に冷却され、多量の白煙が効率良く
発生する（請求項５、８）。
【００２６】また、白煙を発生させる別の方法にあって
は、排ガスを吸着材分散水と１次接触させた後、一部の
ガスを吸着材分散水と２次接触させて比較的低温にする
と共に、他部のガスは２次接触させず、比較的高温のま
まとしておく。そして、該他部の比較的高温のガスを該
２次接触後の比較的低温のガスと混合させる。これによ
り、比較的高温のガス中の水蒸気が比較的低温のガスに
よって急速に冷却され、多量の白煙が効率良く発生する
(請求項６、９)。
は、排ガスを吸着材分散水と１次接触させた後、一部の
ガスを吸着材分散水と２次接触させて比較的低温にする
と共に、他部のガスは２次接触させず、比較的高温のま
まとしておく。そして、該他部の比較的高温のガスを該
２次接触後の比較的低温のガスと混合させる。これによ
り、比較的高温のガス中の水蒸気が比較的低温のガスに
よって急速に冷却され、多量の白煙が効率良く発生する
(請求項６、９)。
【００２７】
【発明の実施の形態】第１図を参照して実施の形態に係
るダイオキシン含有ガスの処理方法及び装置について説
明する。
るダイオキシン含有ガスの処理方法及び装置について説
明する。
【００２８】ダイオキシンを含む排ガス１は、前段液接
触室（スクラバ）２でポンプ３による循環水（ダイオキ
シン吸着材としての粉末活性炭の分散水）７と接触して
ダイオキシンが吸収される。このガスは、水蒸気の飽和
状態となって洗浄塔４に流入する。
触室（スクラバ）２でポンプ３による循環水（ダイオキ
シン吸着材としての粉末活性炭の分散水）７と接触して
ダイオキシンが吸収される。このガスは、水蒸気の飽和
状態となって洗浄塔４に流入する。
【００２９】洗浄塔４内には充填層６ｂが設けられてい
る。充填層６ｂには循環水（粉末活性炭の分散水）８を
循環させるように循環水ポンプ５を有した循環ライン５
Ｃが接続されている。
る。充填層６ｂには循環水（粉末活性炭の分散水）８を
循環させるように循環水ポンプ５を有した循環ライン５
Ｃが接続されている。
【００３０】前記前段液接触室２の循環水７及び該循環
水８の双方又はどちらか一方には、補給ポンプ１０によ
って、タンク９内の粉末活性炭と水との混合液（分散
水）が補給される。
水８の双方又はどちらか一方には、補給ポンプ１０によ
って、タンク９内の粉末活性炭と水との混合液（分散
水）が補給される。
【００３１】循環ライン５Ｃには水冷却器１５が設けら
れており、循環水が冷却される。このため、充填層６ｂ
を通過したガスは低温となる。充填層６ｂを通過したガ
スは水蒸気で飽和しているので、加熱器１６で加熱した
後、必要に応じ電気集塵機等の集塵機１７にて集塵した
後、放出する。なお、本発明においては、循環水８に粉
末活性炭を添加しない場合には、集塵機１７を経由せ
ず、直接大気に放出しても良い。
れており、循環水が冷却される。このため、充填層６ｂ
を通過したガスは低温となる。充填層６ｂを通過したガ
スは水蒸気で飽和しているので、加熱器１６で加熱した
後、必要に応じ電気集塵機等の集塵機１７にて集塵した
後、放出する。なお、本発明においては、循環水８に粉
末活性炭を添加しない場合には、集塵機１７を経由せ
ず、直接大気に放出しても良い。
【００３２】かかる第１図の構成において、排ガスは熱
エネルギーを持った状態でスクラバ２に流入し、循環水
７によって冷却減温洗浄される。
エネルギーを持った状態でスクラバ２に流入し、循環水
７によって冷却減温洗浄される。
【００３３】これに使用される循環水７の量は、重量比
で乾きガスの７倍以上、望ましくは１０〜１５倍が使用
される。一般に、ガス中のダイオキシンが水に吸収され
る速度は、ガスに接触する液の量に比例するから７〜１
０倍以上の液の存在は、ダイオキシンの吸収に大きく貢
献する。
で乾きガスの７倍以上、望ましくは１０〜１５倍が使用
される。一般に、ガス中のダイオキシンが水に吸収され
る速度は、ガスに接触する液の量に比例するから７〜１
０倍以上の液の存在は、ダイオキシンの吸収に大きく貢
献する。
【００３４】このように大量の循環水７と高速で接触し
たガスは、一気に温度が低下して飽和状態となり、ガス
中のガス状ダイオキシンも温度の低下と共に液化もしく
は固化して循環水７に吸収される。
たガスは、一気に温度が低下して飽和状態となり、ガス
中のガス状ダイオキシンも温度の低下と共に液化もしく
は固化して循環水７に吸収される。
【００３５】この時の冷却は瞬時に行われるため、ダイ
オキシンが新たに発生することは殆どない。もし、元の
ガスが８００℃程度以上であって、ダイオキシンのほと
んどない状態であれば、そのままダイオキシンのほとん
どない状態のまま低温ガスとなる。
オキシンが新たに発生することは殆どない。もし、元の
ガスが８００℃程度以上であって、ダイオキシンのほと
んどない状態であれば、そのままダイオキシンのほとん
どない状態のまま低温ガスとなる。
【００３６】このように処理されたガスは、通常６５〜
７５℃程度の飽和ガスで、多量の水蒸気を含んでいる
が、これを次の充填層６ｂで冷却減湿する。
７５℃程度の飽和ガスで、多量の水蒸気を含んでいる
が、これを次の充填層６ｂで冷却減湿する。
【００３７】充填層６ｂの循環水８は冷却器１５で冷却
され、それとスクラバ２からの飽和ガスが充填層６ｂ内
で接触してガス温度を下げるが、その冷却した後のガス
温度が、ダイオキシンの吸収に大きく影響している。
され、それとスクラバ２からの飽和ガスが充填層６ｂ内
で接触してガス温度を下げるが、その冷却した後のガス
温度が、ダイオキシンの吸収に大きく影響している。
【００３８】第１表は、スクラバ２の入口から充填層６
ｂの出口までの除去効率を測定した実測値である。
ｂの出口までの除去効率を測定した実測値である。
【００３９】
【表１】
【００４０】この表に見られる通り、ダストよりも粒子
が小さいはずのダイオキシンの方が除去効率がはるかに
良い。それは、ダイオキシンが粒子として捕集されると
同時に、ガスから水への直接吸収として行われるからで
あると想像される。
が小さいはずのダイオキシンの方が除去効率がはるかに
良い。それは、ダイオキシンが粒子として捕集されると
同時に、ガスから水への直接吸収として行われるからで
あると想像される。
【００４１】しかも、そのガスからの吸収は、冷却後の
温度が低いほど顕著になる。
温度が低いほど顕著になる。
【００４２】その理由としてまず第１に考えられるの
は、水蒸気の液化に伴うダイオキシンの吸収である。
は、水蒸気の液化に伴うダイオキシンの吸収である。
【００４３】第２表は、上記の実験で発生した各飽和温
度における飽和湿度である。
度における飽和湿度である。
【００４４】
【表２】
【００４５】前記実験において、スクラバの飽和温度は
６５℃であったから、上記第２表をもとに各温度におけ
る充填層上の水滴の発生量を見ると、第３表のようにな
る。
６５℃であったから、上記第２表をもとに各温度におけ
る充填層上の水滴の発生量を見ると、第３表のようにな
る。
【００４６】
【表３】
【００４７】この水滴の発生量の差がダイオキシンの吸
収に影響していることが想像される。
収に影響していることが想像される。
【００４８】次に第２の理由として考えられるのは、ダ
イオキシンの蒸気圧と温度の関係である。
イオキシンの蒸気圧と温度の関係である。
【００４９】一般に「ダイオキシン」といわれて制御の
対象とされているものは、厳密にいうと「ダイオキシン
類」でありそれは、化学式でいうところの「塩素化ジベ
ンゾパラジオキシンとその同族体ＰＣＤＤS」と「塩素
化ジベンゾフランとその同族体ＰＣＤＰS」を総称した
もので、この全ての同族体をそれぞれに測定し、それに
一定の換算率をかけて、その中でもっとも毒性の高い
２，３，７，８−ＴＣＤＤの毒性値に換算し集計したも
のが等価毒性ＴＥＱ−ｎｇ／Ｎｍ3として表示されてい
る。
対象とされているものは、厳密にいうと「ダイオキシン
類」でありそれは、化学式でいうところの「塩素化ジベ
ンゾパラジオキシンとその同族体ＰＣＤＤS」と「塩素
化ジベンゾフランとその同族体ＰＣＤＰS」を総称した
もので、この全ての同族体をそれぞれに測定し、それに
一定の換算率をかけて、その中でもっとも毒性の高い
２，３，７，８−ＴＣＤＤの毒性値に換算し集計したも
のが等価毒性ＴＥＱ−ｎｇ／Ｎｍ3として表示されてい
る。
【００５０】従って、たとえば１ＴＥＱ−ｎｇ／Ｎｍ3
の「ダイオキシン」があると測定されたということは、
その数１００倍のダイオキシン類の同族体がガス中に存
在することを意味する。
の「ダイオキシン」があると測定されたということは、
その数１００倍のダイオキシン類の同族体がガス中に存
在することを意味する。
【００５１】ダイオキシン類全てが共存しているときの
蒸気圧はわからないが、たとえばその中の代表的な２，
３，７，８−ＴＣＤＤが単独で存在したときの蒸気圧に
ついて、発明者等が調査した数値を近似法で計算する
と、次の第４表の通りとなる。
蒸気圧はわからないが、たとえばその中の代表的な２，
３，７，８−ＴＣＤＤが単独で存在したときの蒸気圧に
ついて、発明者等が調査した数値を近似法で計算する
と、次の第４表の通りとなる。
【００５２】
【表４】
【００５３】この表で見ると、ダイオキシンのような高
沸点の物質では、６５℃のガスを４５℃に下げると、蒸
気圧は一桁、３５℃に下げると二桁小さくなる。
沸点の物質では、６５℃のガスを４５℃に下げると、蒸
気圧は一桁、３５℃に下げると二桁小さくなる。
【００５４】蒸気圧の低下によって減少する残留ガスの
量がそのまま除去効率に反映されると仮定すると、蒸気
圧が一桁下がることは、除去効率が９０％となり、二桁
下がることは除去効率が９９％となることを意味する。
量がそのまま除去効率に反映されると仮定すると、蒸気
圧が一桁下がることは、除去効率が９０％となり、二桁
下がることは除去効率が９９％となることを意味する。
【００５５】この蒸気圧は２，３，７，８−ＴＣＤＤが
単独に存在したときの数値であって、実際には共存する
水やダイオキシンの同族体によって影響されるのでこれ
とは違った数値になる。
単独に存在したときの数値であって、実際には共存する
水やダイオキシンの同族体によって影響されるのでこれ
とは違った数値になる。
【００５６】また、蒸気圧の差がそのまま除去効率とな
ることもありえないが、傾向としてこれと類似の反応が
起こりうるものと想像される。
ることもありえないが、傾向としてこれと類似の反応が
起こりうるものと想像される。
【００５７】以上二つの理由を総合的に見て、本発明で
は、冷却減湿して得られるガスの温度を４５℃以下、望
ましくは４０℃以下にすることによってスクラバ２の入
口から充填層６ｂ出口までの総合ダイオキシン除去効率
を９０％以上とすることができるものと判断される。
は、冷却減湿して得られるガスの温度を４５℃以下、望
ましくは４０℃以下にすることによってスクラバ２の入
口から充填層６ｂ出口までの総合ダイオキシン除去効率
を９０％以上とすることができるものと判断される。
【００５８】冷却減湿後の温度を下げるには、必ずしも
前段のスクラバ２が断熱冷却である必要はなく、第２図
のように、スクラバ循環水７の回路に冷却器７Ｃを入れ
て、スクラバ２での飽和温度を前もって下げた後、後段
の充填層６ｂで冷却しても、同様の効果が得られる。
前段のスクラバ２が断熱冷却である必要はなく、第２図
のように、スクラバ循環水７の回路に冷却器７Ｃを入れ
て、スクラバ２での飽和温度を前もって下げた後、後段
の充填層６ｂで冷却しても、同様の効果が得られる。
【００５９】更に、本発明によれば、第１図で示すよう
に、スクラバ２の循環水７、あるいは充填層６ｂの循環
水８に粉末活性炭等のダイオキシン吸着材を添加し、そ
れを液中に分散させることによって、液に吸収されたダ
イオキシンを速やかに吸着し、液がダイオキシンで飽和
することを防ぎ、装置のダイオキシン除去性能を保持す
ると同時に、排水ライン１１から排出される排水中の吸
着材を固液分離するだけで無害の排水となり、そのまま
放流することができる。
に、スクラバ２の循環水７、あるいは充填層６ｂの循環
水８に粉末活性炭等のダイオキシン吸着材を添加し、そ
れを液中に分散させることによって、液に吸収されたダ
イオキシンを速やかに吸着し、液がダイオキシンで飽和
することを防ぎ、装置のダイオキシン除去性能を保持す
ると同時に、排水ライン１１から排出される排水中の吸
着材を固液分離するだけで無害の排水となり、そのまま
放流することができる。
【００６０】このようにして清浄化されたガスは、元の
ガスの含有するダストやダイオキシンが少ない場合には
そのまま大気に放出するか、あるいは更にガスを浄化す
るために、後段の集塵機１７を経由して排気されるが、
その際に、大気中で白煙が発生しないようにガスを加熱
することがしばしば行われる。
ガスの含有するダストやダイオキシンが少ない場合には
そのまま大気に放出するか、あるいは更にガスを浄化す
るために、後段の集塵機１７を経由して排気されるが、
その際に、大気中で白煙が発生しないようにガスを加熱
することがしばしば行われる。
【００６１】この加熱は、加熱器１６によって行っても
良く、また、例えば、第３図のようにスクラバ２の入口
に熱交換器２０を設置し、そこで得られた温風２１を排
気ライン１８に混入しても良い。
良く、また、例えば、第３図のようにスクラバ２の入口
に熱交換器２０を設置し、そこで得られた温風２１を排
気ライン１８に混入しても良い。
【００６２】本発明においては、その加熱の手段として
もとのガスの一部をバイパスして排ガスに混合すること
もできる。その際には、第４図のように、高温集塵機２
５を設置し、それに高温ダイオキシン及びその前駆物質
吸着材２６を投入して、無害化した高温ガスとする。
もとのガスの一部をバイパスして排ガスに混合すること
もできる。その際には、第４図のように、高温集塵機２
５を設置し、それに高温ダイオキシン及びその前駆物質
吸着材２６を投入して、無害化した高温ガスとする。
【００６３】このように、第１図〜第４図の方法及び装
置によれば、ダイオキシンの除去を、単純で安価な装置
で行うことができるものである。
置によれば、ダイオキシンの除去を、単純で安価な装置
で行うことができるものである。
【００６４】第５図は本発明の別の実施の形態について
説明する。
説明する。
【００６５】ダイオキシンを含む排ガスは乾式集塵機１
で粉塵が除去された後、前段液接触室２でポンプ３によ
る循環水（粉末活性炭の分散水）７と接触してダイオキ
シンが吸収される。（なお、粉末活性炭を含む水は前段
液接触室２の内壁面に付着したダイオキシンをこすり取
るという効果も有する。）このガスは、水蒸気の飽和状
態となって洗浄塔４に流入する。
で粉塵が除去された後、前段液接触室２でポンプ３によ
る循環水（粉末活性炭の分散水）７と接触してダイオキ
シンが吸収される。（なお、粉末活性炭を含む水は前段
液接触室２の内壁面に付着したダイオキシンをこすり取
るという効果も有する。）このガスは、水蒸気の飽和状
態となって洗浄塔４に流入する。
【００６６】洗浄塔４内では、ガスが並列に通過するよ
うに２個の液接触室６，６′が設けられている。各液接
触室６，６′には循環水（粉末活性炭の分散水）８，
８′を循環させるように循環水ポンプ５，５′を有した
循環ライン５Ｃ、５′Ｃが接続されている。
うに２個の液接触室６，６′が設けられている。各液接
触室６，６′には循環水（粉末活性炭の分散水）８，
８′を循環させるように循環水ポンプ５，５′を有した
循環ライン５Ｃ、５′Ｃが接続されている。
【００６７】前記前段液接触室２の循環水７及び該循環
水８，８′には、補給ポンプ１０によって、タンク９内
の活性炭と水との混合液（分散水）が補給される。
水８，８′には、補給ポンプ１０によって、タンク９内
の活性炭と水との混合液（分散水）が補給される。
【００６８】一方の循環ライン５′Ｃには水冷却器１５
が設けられており、循環水が冷却される。このため、液
接触室６′を通過したガスは液接触室６を通過したガス
よりも低温となる。これらの液接触室６，６′を通過し
たガスは水蒸気で飽和しているので、液接触室６からの
比較的高温のガスと液接触室６′からの比較的低温のガ
スが混合室１２内で混合されることにより大量の白煙が
発生する。この白煙（微小水滴）がガス中の微粒子を包
み込み、見かけの粒径が大きくなったり、粒子が結合し
て粒子成長する。このように成長した粒子を含むガスが
電気集塵機１３に流入することにより、粒子の大部分が
効率良く除去される。これにより、ダイオキシンの大気
への放出量が著しく減少する。
が設けられており、循環水が冷却される。このため、液
接触室６′を通過したガスは液接触室６を通過したガス
よりも低温となる。これらの液接触室６，６′を通過し
たガスは水蒸気で飽和しているので、液接触室６からの
比較的高温のガスと液接触室６′からの比較的低温のガ
スが混合室１２内で混合されることにより大量の白煙が
発生する。この白煙（微小水滴）がガス中の微粒子を包
み込み、見かけの粒径が大きくなったり、粒子が結合し
て粒子成長する。このように成長した粒子を含むガスが
電気集塵機１３に流入することにより、粒子の大部分が
効率良く除去される。これにより、ダイオキシンの大気
への放出量が著しく減少する。
【００６９】図中の１４は、電気集塵機１３の極板を定
期的に洗浄するための洗浄回路であり、バルブ１４Ｖを
開くことにより水冷却器１５から集塵機１３へ水が供給
される。
期的に洗浄するための洗浄回路であり、バルブ１４Ｖを
開くことにより水冷却器１５から集塵機１３へ水が供給
される。
【００７０】なお、循環ライン５Ｃ，５′Ｃを循環する
液８，８′のガス接触開始時の温度差が大きいほど白煙
が大量に発生するが、水冷却器１５としてクーリングタ
ワーを利用すれば、液８′の温度を３５〜４０℃にする
ことは容易であり、液８，８′のガス接触開始時の温度
差を２５〜３０℃にすることができる。
液８，８′のガス接触開始時の温度差が大きいほど白煙
が大量に発生するが、水冷却器１５としてクーリングタ
ワーを利用すれば、液８′の温度を３５〜４０℃にする
ことは容易であり、液８，８′のガス接触開始時の温度
差を２５〜３０℃にすることができる。
【００７１】また、白煙の発生には、比較的温度の高い
ガスと比較的温度の低いガスの混合比率にも好適範囲が
あり、通常では、低い温度のガス１容量部に対する高い
温度のガスの量を、乾きガスで換算して０．２５〜０．
５容量部程度にするのが望ましい。
ガスと比較的温度の低いガスの混合比率にも好適範囲が
あり、通常では、低い温度のガス１容量部に対する高い
温度のガスの量を、乾きガスで換算して０．２５〜０．
５容量部程度にするのが望ましい。
【００７２】前段液接触室におけるガスに対する循環水
の量は対象ガスと液の熱収支と物質収支と吸収能力で定
められ、通常は対象ガスの乾きガス量に対し重量比で５
〜１５程度にするのが好ましい。
の量は対象ガスと液の熱収支と物質収支と吸収能力で定
められ、通常は対象ガスの乾きガス量に対し重量比で５
〜１５程度にするのが好ましい。
【００７３】循環水７，８，８′としては、水に０．０
５％以上、望ましくは０．０５〜０．３％とくに０．１
％程度の粉末活性炭を混入したものが好適であり、水に
吸収されたダイオキシンは効果的に活性炭に吸着され
る。
５％以上、望ましくは０．０５〜０．３％とくに０．１
％程度の粉末活性炭を混入したものが好適であり、水に
吸収されたダイオキシンは効果的に活性炭に吸着され
る。
【００７４】第６図は、本発明の第２の実施の形態に係
るダイオキシン除去装置の系統図である。
るダイオキシン除去装置の系統図である。
【００７５】この実施の形態は、前段液接触室２のダイ
オキシン吸収機能が十分であり、それによってガスが水
蒸気で飽和し、またガス状のダイオキシンがこの接触室
２で実質的に全て吸収されている場合に採用される。
オキシン吸収機能が十分であり、それによってガスが水
蒸気で飽和し、またガス状のダイオキシンがこの接触室
２で実質的に全て吸収されている場合に採用される。
【００７６】この実施の形態では、洗浄塔４内の液接触
室６を１個にし、その循環水８を水冷却器１５で冷却し
ている。前段液接触室２からのガスの一部はこの洗浄塔
４の下部に導入され、液接触室６を通って低温のガスと
なる。前段液接触室２からのガスの他部は、バルブ１６
Ｖを有したバイパスライン１６を介して比較的高温のま
ま洗浄塔４の上部に直接に導入され、液接触室６からの
比較的低温のガスと混合される。両ガスとも水蒸気で飽
和しているので、両ガスが混合されることにより大量の
白煙が発生する。この白煙を含んだガスが集塵機１３に
導入されることにより、第１図の場合と同様にガス中の
粒子の大部分が効率良く除去される。そして、これによ
りダイオキシンの大気への放出量が著しく減少する。
室６を１個にし、その循環水８を水冷却器１５で冷却し
ている。前段液接触室２からのガスの一部はこの洗浄塔
４の下部に導入され、液接触室６を通って低温のガスと
なる。前段液接触室２からのガスの他部は、バルブ１６
Ｖを有したバイパスライン１６を介して比較的高温のま
ま洗浄塔４の上部に直接に導入され、液接触室６からの
比較的低温のガスと混合される。両ガスとも水蒸気で飽
和しているので、両ガスが混合されることにより大量の
白煙が発生する。この白煙を含んだガスが集塵機１３に
導入されることにより、第１図の場合と同様にガス中の
粒子の大部分が効率良く除去される。そして、これによ
りダイオキシンの大気への放出量が著しく減少する。
【００７７】なお、第６図のその他の構成は第５図と同
様であり、同一符号は同一部分を示している。
様であり、同一符号は同一部分を示している。
【００７８】本発明において、ダイオキシン吸着材とし
ては粉末活性炭以外に火山灰、粉末シリカ系化合物、粉
末粘土鉱物などを用いることもできる。
ては粉末活性炭以外に火山灰、粉末シリカ系化合物、粉
末粘土鉱物などを用いることもできる。
【００７９】
実施例１ 温度５００℃、湿度０．２ｋｇ／ｋｇ、ダイオキシン濃
度５．０ｎｇ／Ｎｍ3のガスを第５図の装置で処理し
た。なお、洗浄塔４では低温側の液接触室６′のガス通
過量１容量部に対し高温側の液接触室６のガス通過量を
０．４容量部とした。ダイオキシン吸収用の循環水７，
８，８′として粉末活性炭の０．１％分散水を用いた。
室６に供給される循環水８の温度７０℃、室６′に供給
される循環水８′の温度３５℃の条件下で装置を稼働さ
せたところ、電気集塵機１３出口のダイオキシン濃度は
０．０６ｎｇ／Ｎｍ3であった。
度５．０ｎｇ／Ｎｍ3のガスを第５図の装置で処理し
た。なお、洗浄塔４では低温側の液接触室６′のガス通
過量１容量部に対し高温側の液接触室６のガス通過量を
０．４容量部とした。ダイオキシン吸収用の循環水７，
８，８′として粉末活性炭の０．１％分散水を用いた。
室６に供給される循環水８の温度７０℃、室６′に供給
される循環水８′の温度３５℃の条件下で装置を稼働さ
せたところ、電気集塵機１３出口のダイオキシン濃度は
０．０６ｎｇ／Ｎｍ3であった。
【００８０】比較例１ 実施例１において、水冷却器１５の運転を停止し、循環
水８，８′の温度をいずれも７０℃としたところ、集塵
機１３出口のダイオキシン濃度は０．４５ｎｇ／Ｎｍ3
と約７倍に上昇した。
水８，８′の温度をいずれも７０℃としたところ、集塵
機１３出口のダイオキシン濃度は０．４５ｎｇ／Ｎｍ3
と約７倍に上昇した。
【００８１】実施例２ 第６図の装置を用い、実施例１と同一のガスを処理し
た。前段液接触室２からのガスのうち７０％を洗浄塔４
の下部に導入して液接触室６を通し、残りの３０％をバ
イパスライン１６を介して洗浄塔４の上部に導入した。
液接触室６に供給される循環水８は０．１％活性炭分散
水とし、その温度は３５℃とした。
た。前段液接触室２からのガスのうち７０％を洗浄塔４
の下部に導入して液接触室６を通し、残りの３０％をバ
イパスライン１６を介して洗浄塔４の上部に導入した。
液接触室６に供給される循環水８は０．１％活性炭分散
水とし、その温度は３５℃とした。
【００８２】その結果、集塵機１３出口のダイオキシン
濃度は０．０８ｎｇ／Ｎｍ3であった。
濃度は０．０８ｎｇ／Ｎｍ3であった。
【００８３】比較例２ 実施例２において、バイパスライン１６のバルブ１６Ｖ
を全閉とし、前段液接触室２からのガスの全量を液接触
室６を通すようにしたほかは同様にして排ガス処理を行
ったところ、集塵機１３出口のダイオキシン濃度は０．
１２ｎｇ／Ｎｍ3と約１．５倍に上昇した。
を全閉とし、前段液接触室２からのガスの全量を液接触
室６を通すようにしたほかは同様にして排ガス処理を行
ったところ、集塵機１３出口のダイオキシン濃度は０．
１２ｎｇ／Ｎｍ3と約１．５倍に上昇した。
【００８４】実施例３ 温度６００℃、湿度０．２ｋｇ／ｋｇ、ダイオキシン濃
度１．０ｎｇ／Ｎｍ3のガスを第２図の装置で処理し
た。なお、前段液接触室２ではガス通過量と循環水を重
量比で１：９の割合で１秒以内に接触させた。また、ダ
イオキシン吸着材の分散水として循環水７に粉末活性炭
を０．１％添加し、室６に供給される循環水８の温度３
５℃の条件下で装置を稼動させたところ、塔４出口のダ
イオキシン濃度は０．０９ｎｇ／Ｎｍ3であった。
度１．０ｎｇ／Ｎｍ3のガスを第２図の装置で処理し
た。なお、前段液接触室２ではガス通過量と循環水を重
量比で１：９の割合で１秒以内に接触させた。また、ダ
イオキシン吸着材の分散水として循環水７に粉末活性炭
を０．１％添加し、室６に供給される循環水８の温度３
５℃の条件下で装置を稼動させたところ、塔４出口のダ
イオキシン濃度は０．０９ｎｇ／Ｎｍ3であった。
【００８５】比較例３ 実施例３において、水冷却器１５の運転を停止し、循環
水８の温度をいずれも７５℃としたところ塔４出口のダ
イオキシン濃度は０．８０ｎｇ／Ｎｍ3と約９倍に上昇
した。
水８の温度をいずれも７５℃としたところ塔４出口のダ
イオキシン濃度は０．８０ｎｇ／Ｎｍ3と約９倍に上昇
した。
【００８６】
【発明の効果】以上の通り、本発明のダイオキシン除去
方法及び装置によると排ガス中のダイオキシンをきわめ
て効率良く除去することができる。
方法及び装置によると排ガス中のダイオキシンをきわめ
て効率良く除去することができる。
【図１】第１の実施の形態を示す系統図である。
【図２】第２の実施の形態を示す系統図である。
【図３】第３の実施の形態を示す系統図である。
【図４】第４の実施の形態を示す系統図である。
【図５】第５の実施の形態を示す系統図である。
【図６】第６の実施の形態を示す系統図である。
【図７】従来例を示す系統図である。
１ 乾式集塵機 ２ 前段液接触室 ４ 洗浄塔 ６，６′ 液接触室 ７，８，８′ 循環水（粉末活性炭の分散水） １１ 排水ライン １２ 混合室 １３ 電気集塵機 １５ 水冷却器 １６ バイパスライン
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｆ２３Ｊ 15/00 Ｆ２７Ｄ 17/00 １０５Ａ 15/06 Ｂ０１Ｄ 53/34 ＺＡＢ 15/04 Ｆ２３Ｊ 15/00 Ｊ Ｆ２７Ｄ 17/00 １０４ Ｋ Ｄ １０５ (72)発明者 中川 健一 奈良県生駒市新旭が丘16−49 (72)発明者 角田 昌彦 神奈川県横浜市港北区下田町３−６−10
Claims (9)
- 【請求項１】 ダイオキシン含有ガスを、ダイオキシン
吸着材を含み、かつ乾きガスの重量比で７倍以上の量の
水と接触させて急冷した後、４５℃以下の温度の水で洗
浄するダイオキシン含有ガスの処理方法。 - 【請求項２】 請求項１において、５００℃以上のダイ
オキシン含有ガスを１秒以内に１００℃以下まで急冷す
ることを特徴とするダイオキシン含有ガスの処理方法。 - 【請求項３】 ダイオキシン含有ガスを、ダイオキシン
吸着材を含み、かつ乾きガスの重量比で７倍以上の量の
水で急冷後、その一部を４５℃以下の温度の水で洗浄し
た後、残部のガスと混合するダイオキシン含有ガスの処
理方法。 - 【請求項４】 ダイオキシン含有ガスとダイオキシン吸
着材の分散水とを接触させ、ダイオキシンを水に吸収さ
せると共に該吸着材に吸収させる接触工程と、 この接触工程からのガスを集塵処理する工程とを有する
ダイオキシン除去方法において、 該接触工程後のガスを冷却することにより水蒸気を凝縮
させて白煙を発生させ、この白煙を含むガスを前記集塵
工程に供給することを特徴とするダイオキシン含有ガス
の処理方法。 - 【請求項５】 請求項４において、前記接触工程におい
てガスの一部をガスの他部よりも低温の前記分散水と接
触させ、これによって該接触工程後に比較的低温のガス
と比較的高温のガスとを生じさせ、これらのガス同士を
混合させることにより前記白煙を発生させるようにした
ことを特徴とするダイオキシン含有ガスの処理方法。 - 【請求項６】 請求項４において、前記接触工程は第１
接触工程と第２接触工程からなり、 被処理ガスを第１接触工程にて処理し、この第１接触工
程からのガスの一部を第２接触工程にて処理すると共に
冷却し、第１接触工程からのガスの他部を該第２接触工
程からのガスと混合して前記白煙を生じさせるようにし
たことを特徴とするダイオキシン含有ガスの処理方法。 - 【請求項７】 ダイオキシン含有ガスとダイオキシン吸
着材の分散水とを接触させる気液接触手段と、 該気液接触手段からのガスを冷却することにより水蒸気
を凝縮させて白煙を発生させる手段と、 この白煙を含むガスを集塵処理する手段とを備えてなる
ダイオキシン含有ガスの処理装置。 - 【請求項８】 ダイオキシン含有ガスとダイオキシン吸
着材の分散水とを接触させる第１の気液接触手段と、 該第１の気液接触手段からのガスの一部を比較的低温の
ダイオキシン吸着材分散水と接触させる第２の気液接触
手段と、 該第１の気液接触手段からのガスの他部を比較的高温の
ダイオキシン吸着材分散水と接触させる第３の気液接触
手段と、 該第２の気液接触手段からの比較的低温のガスと第３の
気液接触手段からの比較的高温のガスとを混合し、これ
により水蒸気を凝縮させて白煙を発生させる手段と、 この白煙を含むガスを集塵処理する手段と、を備えてな
るダイオキシン含有ガスの処理装置。 - 【請求項９】 ダイオキシン含有ガスとダイオキシン吸
着材分散水とを接触させる第１の気液接触手段と、 該第１の気液接触手段からのガスの一部をダイオキシン
吸着材分散水と接触させる第２の気液接触手段と、 該第１の気液接触手段からのガスの他部と該第２の気液
接触手段からのガスとを混合し、これにより水蒸気を凝
縮させて白煙を発生させる手段と、 この白煙を含むガスを集塵処理する手段と、を備えてな
るダイオキシン含有ガスの処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10117020A JPH1170320A (ja) | 1997-06-26 | 1998-04-27 | ダイオキシン含有ガスの処理方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17012097 | 1997-06-26 | ||
| JP9-170120 | 1997-06-26 | ||
| JP10117020A JPH1170320A (ja) | 1997-06-26 | 1998-04-27 | ダイオキシン含有ガスの処理方法及び装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1170320A true JPH1170320A (ja) | 1999-03-16 |
Family
ID=26455217
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10117020A Pending JPH1170320A (ja) | 1997-06-26 | 1998-04-27 | ダイオキシン含有ガスの処理方法及び装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1170320A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004506832A (ja) * | 2000-08-11 | 2004-03-04 | アプリカツイオ−ンス− ウント・テヒニックツエントルーム・フユール・エネルギーフエルフアーレンス− ウムウエルト− ウント・シユトレームングステヒニック | 熱エネルギーを機械的作用に変換する方法 |
| CN108895467A (zh) * | 2018-08-24 | 2018-11-27 | 深圳市山水乐环保科技有限公司 | 运用毛细管处理焚烧炉烟气中二噁英气体的装置和方法 |
-
1998
- 1998-04-27 JP JP10117020A patent/JPH1170320A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004506832A (ja) * | 2000-08-11 | 2004-03-04 | アプリカツイオ−ンス− ウント・テヒニックツエントルーム・フユール・エネルギーフエルフアーレンス− ウムウエルト− ウント・シユトレームングステヒニック | 熱エネルギーを機械的作用に変換する方法 |
| CN108895467A (zh) * | 2018-08-24 | 2018-11-27 | 深圳市山水乐环保科技有限公司 | 运用毛细管处理焚烧炉烟气中二噁英气体的装置和方法 |
| CN108895467B (zh) * | 2018-08-24 | 2024-03-15 | 深圳市山水乐环保科技有限公司 | 运用毛细管处理焚烧炉烟气中二噁英气体的装置和方法 |
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