JPH1167867A - エンクロージャ内で対象物を複数の位置に位置決めする装置及び方法 - Google Patents
エンクロージャ内で対象物を複数の位置に位置決めする装置及び方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ウェハカセットをインデックス配置又は位置
決めし、従来の真空と大気とのインターフェースを排除
する装置を提供することを目的とする。 【解決手段】 対象物をエンクロージャ内の複数の位置
に位置決めする装置は、リニアモータに取り付けられた
移動可能な位置決め部材を備え、これらの部材は共にエ
ンクロージャ内に配置されている。この位置決め部材
は、対象物を受容し保持する。制御信号は、位置決め部
材、すなわち対象物を移動させるリニアモータを直接移
動させる。絶縁された導体はエンクロージャの壁を貫通
して延び、壁を介した電気的導通を可能とする。絶縁さ
れた導体は、エンクロージャ外部の電源及び制御機構に
接続されている。可撓性の通信ラインは、エンクロージ
ャとの接触を避けるために採用され、絶縁された導体と
リニアモータとを接続する。これにより、リニアモータ
は電源及び制御機構に接続される。
決めし、従来の真空と大気とのインターフェースを排除
する装置を提供することを目的とする。 【解決手段】 対象物をエンクロージャ内の複数の位置
に位置決めする装置は、リニアモータに取り付けられた
移動可能な位置決め部材を備え、これらの部材は共にエ
ンクロージャ内に配置されている。この位置決め部材
は、対象物を受容し保持する。制御信号は、位置決め部
材、すなわち対象物を移動させるリニアモータを直接移
動させる。絶縁された導体はエンクロージャの壁を貫通
して延び、壁を介した電気的導通を可能とする。絶縁さ
れた導体は、エンクロージャ外部の電源及び制御機構に
接続されている。可撓性の通信ラインは、エンクロージ
ャとの接触を避けるために採用され、絶縁された導体と
リニアモータとを接続する。これにより、リニアモータ
は電源及び制御機構に接続される。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、集積回路ウェハの
処理及びその処理に有用な装置に関する。特に本発明
は、真空環境下におけるカセットを配置するための方法
及び装置に関するものである。本発明は、真空エンクロ
ージャ内に完全に配置された動作アクチュエータを使用
し、従来装置に見られる大型の真空−大気インターフェ
ースを排除するものである。
処理及びその処理に有用な装置に関する。特に本発明
は、真空環境下におけるカセットを配置するための方法
及び装置に関するものである。本発明は、真空エンクロ
ージャ内に完全に配置された動作アクチュエータを使用
し、従来装置に見られる大型の真空−大気インターフェ
ースを排除するものである。
【０００２】
【従来の技術】半導体ウェハの処理において、処理はし
ばしば真空中で行われ、ウェハが曝される微粒子レベル
が減少される。真空プロセスシステムへのウェハの導入
は、大気圧下で行わなければならない。その時、真空プ
ロセスシステムは、所望の真空度に減圧しなければなら
ない。従って、ウェハが真空プロセスシステムに導入さ
れる度毎に、このシステムを減圧してスループットの１
回分（hit、ヒット）を行わなければならず、又はシス
テムを空転させなければならない時間を遅らせることに
なる。各スループットヒットは、システム及び製造方法
の効率を減少させる。
ばしば真空中で行われ、ウェハが曝される微粒子レベル
が減少される。真空プロセスシステムへのウェハの導入
は、大気圧下で行わなければならない。その時、真空プ
ロセスシステムは、所望の真空度に減圧しなければなら
ない。従って、ウェハが真空プロセスシステムに導入さ
れる度毎に、このシステムを減圧してスループットの１
回分（hit、ヒット）を行わなければならず、又はシス
テムを空転させなければならない時間を遅らせることに
なる。各スループットヒットは、システム及び製造方法
の効率を減少させる。
【０００３】スループット効率は重要であるため、各減
圧サイクルにおいてできるだけ多数のウェハがシステム
に導入される。これは、水平方向に配向し垂直方向に並
置して保持するカセット中にウェハを配置することによ
って達成される。次いでカセットは、ロードロックの受
け取りトレイ上に置かれ、引き続き密閉シールされて所
望の真空度まで減圧される。
圧サイクルにおいてできるだけ多数のウェハがシステム
に導入される。これは、水平方向に配向し垂直方向に並
置して保持するカセット中にウェハを配置することによ
って達成される。次いでカセットは、ロードロックの受
け取りトレイ上に置かれ、引き続き密閉シールされて所
望の真空度まで減圧される。
【０００４】しかし、真空プロセスシステムは、通常単
一の水平面上で動作される。システム中のロボットは、
システムを通ってウェハを水平方向に移動させ、ウェハ
は一連のプロセスが実行される一連のプロセスステーシ
ョンに位置決めされる。
一の水平面上で動作される。システム中のロボットは、
システムを通ってウェハを水平方向に移動させ、ウェハ
は一連のプロセスが実行される一連のプロセスステーシ
ョンに位置決めされる。
【０００５】従って、カセット内で垂直に配置されたウ
ェハは、水平動作平面に順次インデックス配置（inde
x）されなければならず、これにより、ロボットはイン
デックス配置されたウェハにアクセスすることができ、
システムを通してウェハを移動できる。従って、ロード
ロックは、カセットの垂直位置を調節し、カセット内の
各ウェハを水平動作平面上に揃えるインデックス配置装
置を含まなければならない。
ェハは、水平動作平面に順次インデックス配置（inde
x）されなければならず、これにより、ロボットはイン
デックス配置されたウェハにアクセスすることができ、
システムを通してウェハを移動できる。従って、ロード
ロックは、カセットの垂直位置を調節し、カセット内の
各ウェハを水平動作平面上に揃えるインデックス配置装
置を含まなければならない。
【０００６】従来技術における通常の装置の例は図１に
例示され、インデックス配置装置は、ウェハカセットを
支持する受け取りトレイの底部に取り付けられた、支持
シャフトを使用する。この支持シャフトは、真空エンク
ロージャの底部を貫通して延び、その結果、所望の真空
レベルまでエンクロージャを減圧できるようなシールが
必要となる。ロードロックの外側に位置決めされた動作
アクチュエータは、応答信号に対応して支持シャフトを
垂直に動かし、これにより、ウェハカセットをインデッ
クス配置する。ウェハカセットをインデックス配置する
ために使用される従来の動作アクチュエータは、親ねじ
又は油圧式のオフセット機構を使用する。
例示され、インデックス配置装置は、ウェハカセットを
支持する受け取りトレイの底部に取り付けられた、支持
シャフトを使用する。この支持シャフトは、真空エンク
ロージャの底部を貫通して延び、その結果、所望の真空
レベルまでエンクロージャを減圧できるようなシールが
必要となる。ロードロックの外側に位置決めされた動作
アクチュエータは、応答信号に対応して支持シャフトを
垂直に動かし、これにより、ウェハカセットをインデッ
クス配置する。ウェハカセットをインデックス配置する
ために使用される従来の動作アクチュエータは、親ねじ
又は油圧式のオフセット機構を使用する。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】これら従来の装置で
は、折り畳み式ベローズが受け取りトレイとロードロッ
クの底部との間を伸張し、支持シャフトがロードロック
壁を貫く場所で真空から大気圧までのシールを提供す
る。受け取りトレイがシール状態を維持して上下する
時、折り畳み式ベローズは伸張及び縮小する。しかし、
この真空から大気圧へのインターフェースは、システム
を非効率にし休止時間を招くリーク源となる。
は、折り畳み式ベローズが受け取りトレイとロードロッ
クの底部との間を伸張し、支持シャフトがロードロック
壁を貫く場所で真空から大気圧までのシールを提供す
る。受け取りトレイがシール状態を維持して上下する
時、折り畳み式ベローズは伸張及び縮小する。しかし、
この真空から大気圧へのインターフェースは、システム
を非効率にし休止時間を招くリーク源となる。
【０００８】さらに、従来の親ねじ又は油圧式のオフセ
ット機構は、比較的不正確であり、カセットの配置及び
機構の再現性をより不正確なものとする。また、これら
の親ねじ又は油圧式のオフセット機構は、ロードロック
壁の外側に伸張し、従って、付加的なスペースが必要と
なり、クリーンルームを製造する際に貴重な資材を必要
とする。
ット機構は、比較的不正確であり、カセットの配置及び
機構の再現性をより不正確なものとする。また、これら
の親ねじ又は油圧式のオフセット機構は、ロードロック
壁の外側に伸張し、従って、付加的なスペースが必要と
なり、クリーンルームを製造する際に貴重な資材を必要
とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上述に鑑み、本発明の目
的は、ウェハカセットをインデックス配置又は位置決め
し、従来の真空と大気とのインターフェースを排除する
装置を提供することを目的とする。本発明の他の目的
は、改良された再現性を有し、親ねじ又は油圧式のオフ
セット機構を使用した従来の装置に比べウェハカセット
を正確に配置する装置を提供することを目的とする。本
発明のさらに他の目的は、よりコンパクトなロードロッ
クと動作アクチュエータ構造体を提供することを目的と
する。本発明のさらに他の目的は、休止時間の短いより
効率的なシステムを提供することを目的とする。本発明
のその他の目的は、発明の詳細な説明及び特許請求の範
囲から明らかになるであろう。
的は、ウェハカセットをインデックス配置又は位置決め
し、従来の真空と大気とのインターフェースを排除する
装置を提供することを目的とする。本発明の他の目的
は、改良された再現性を有し、親ねじ又は油圧式のオフ
セット機構を使用した従来の装置に比べウェハカセット
を正確に配置する装置を提供することを目的とする。本
発明のさらに他の目的は、よりコンパクトなロードロッ
クと動作アクチュエータ構造体を提供することを目的と
する。本発明のさらに他の目的は、休止時間の短いより
効率的なシステムを提供することを目的とする。本発明
のその他の目的は、発明の詳細な説明及び特許請求の範
囲から明らかになるであろう。
【００１０】本発明による装置は、動作アクチュエータ
が完全にエンクロージャ内に配置されることにより、真
空から大気への大きなインターフェースは排除される。
エンクロージャ内で移動される対象物は、エンクロージ
ャ内に配置されかつ動作アクチュエータが取り付けられ
た移動可能な位置決め部材上に載置される。動作アクチ
ュエータは、移動可能な位置決め部材を移動させるため
に用いられる。
が完全にエンクロージャ内に配置されることにより、真
空から大気への大きなインターフェースは排除される。
エンクロージャ内で移動される対象物は、エンクロージ
ャ内に配置されかつ動作アクチュエータが取り付けられ
た移動可能な位置決め部材上に載置される。動作アクチ
ュエータは、移動可能な位置決め部材を移動させるため
に用いられる。
【００１１】本発明に好適な実施形態において、本発明
の装置は、真空を維持し得るロードロック装置として構
成される。従って、対象物はウェハカセットであり、こ
れは複数のウェハを水平方向に移動可能に、かつ垂直方
向に互いに並置して支持する。移動可能な位置決め部材
は、対象物をその上に受容する平らな表面を有するプラ
ットホームを備えている。
の装置は、真空を維持し得るロードロック装置として構
成される。従って、対象物はウェハカセットであり、こ
れは複数のウェハを水平方向に移動可能に、かつ垂直方
向に互いに並置して支持する。移動可能な位置決め部材
は、対象物をその上に受容する平らな表面を有するプラ
ットホームを備えている。
【００１２】さらに、エンクロージャ内で動作アクチュ
エータの配置を容易にするために、動作アクチュエータ
は好適には固定子及びリアクションプレートを有するリ
ニアモータである。リニアモータを使用することによっ
て、嵩張るシャフト配置を排除することによって、エン
クロージャに必要な寸法を減少すると共に、より再現性
よくカセットをより正確に位置決めする。エンクロージ
ャ内への配置は、真空から大気への大きなインターフェ
ースを排除し、これにより界面からのリークを排除す
る。固定子はエンクロージャの壁に取り付けられ、プラ
ットホームは固定子に対して移動可能なリアクションプ
レートに取り付けられている。絶縁された導体は、シー
ルされた界面を画成するエンクロージャの壁を貫通して
延びる。エンクロージャとの接触を避けるために使用さ
れる可撓性の通信ラインは、絶縁された導体と動作アク
チュエータとを接続する。
エータの配置を容易にするために、動作アクチュエータ
は好適には固定子及びリアクションプレートを有するリ
ニアモータである。リニアモータを使用することによっ
て、嵩張るシャフト配置を排除することによって、エン
クロージャに必要な寸法を減少すると共に、より再現性
よくカセットをより正確に位置決めする。エンクロージ
ャ内への配置は、真空から大気への大きなインターフェ
ースを排除し、これにより界面からのリークを排除す
る。固定子はエンクロージャの壁に取り付けられ、プラ
ットホームは固定子に対して移動可能なリアクションプ
レートに取り付けられている。絶縁された導体は、シー
ルされた界面を画成するエンクロージャの壁を貫通して
延びる。エンクロージャとの接触を避けるために使用さ
れる可撓性の通信ラインは、絶縁された導体と動作アク
チュエータとを接続する。
【００１３】上述した本発明の特徴、利点及び目的は、
本発明の実施形態及び図面からより詳細に理解されるだ
ろう。
本発明の実施形態及び図面からより詳細に理解されるだ
ろう。
【００１４】しかし、図面は本発明の代表的な実施形態
を例示するに過ぎず、本発明の範囲をこれに限定して解
釈してはならず、本発明は他の実施形態をも包含するも
のである。本発明に目的及び利点は、添付の図面を併せ
て考慮することにより、明らかとなるであろう。
を例示するに過ぎず、本発明の範囲をこれに限定して解
釈してはならず、本発明は他の実施形態をも包含するも
のである。本発明に目的及び利点は、添付の図面を併せ
て考慮することにより、明らかとなるであろう。
【００１５】
【発明の実施の形態】本発明の好適な実施形態を、真空
プロセスシステム中にウェハが導入されたロードロック
装置又はチャンバに関して、以下に説明する。しかしな
がら、本発明は、プロセスチャンバを含む多くのエンク
ロージャタイプに適用し得る装置の正確な形態に限定さ
れるものではない。さらに、以下の記載は、カリフォル
ニア州サンタクララのＡｐｐｌｉｅｄ Ｍａｔｅｒｉａ
ｌｓ，Ｉｎｃ．により製造された「ＥＮＤＵＲＡ」（登
録商標名）プラットホームにおけるように、ウェハが水
平方向に処理されるシステムを参照するものである。本
発明は、ウェハが垂直面で処理される他のプラットホー
ムに対しても、適用できる。
プロセスシステム中にウェハが導入されたロードロック
装置又はチャンバに関して、以下に説明する。しかしな
がら、本発明は、プロセスチャンバを含む多くのエンク
ロージャタイプに適用し得る装置の正確な形態に限定さ
れるものではない。さらに、以下の記載は、カリフォル
ニア州サンタクララのＡｐｐｌｉｅｄ Ｍａｔｅｒｉａ
ｌｓ，Ｉｎｃ．により製造された「ＥＮＤＵＲＡ」（登
録商標名）プラットホームにおけるように、ウェハが水
平方向に処理されるシステムを参照するものである。本
発明は、ウェハが垂直面で処理される他のプラットホー
ムに対しても、適用できる。
【００１６】図４は、真空プロセスシステムを示す平面
図である。半導体デバイスの製造は、通常ウェハ層で実
行される。多数の単一のデバイスが形成された半導体材
料から成るディスク状のウェハ４０（図１及び５に示す
ように）は、マイクロプロセッサのような個々のデバイ
スに分離される前に、全体として製造プロセスを経る。
大きなスループットと清浄な製造プロセスの探求によ
り、真空プロセス環境の適用はもちろん、製造プロセス
の大規模な自動化に至っている。この真空プロセスシス
テム１５０において、単一の水平面上で動作するロボッ
トは、各ウェハ４０を製造プロセスを通って入口ポート
から１つ以上のプロセスチャンバ１５２に移動し、集積
回路を形成する全プロセスの工程がウェハに対して実施
される。
図である。半導体デバイスの製造は、通常ウェハ層で実
行される。多数の単一のデバイスが形成された半導体材
料から成るディスク状のウェハ４０（図１及び５に示す
ように）は、マイクロプロセッサのような個々のデバイ
スに分離される前に、全体として製造プロセスを経る。
大きなスループットと清浄な製造プロセスの探求によ
り、真空プロセス環境の適用はもちろん、製造プロセス
の大規模な自動化に至っている。この真空プロセスシス
テム１５０において、単一の水平面上で動作するロボッ
トは、各ウェハ４０を製造プロセスを通って入口ポート
から１つ以上のプロセスチャンバ１５２に移動し、集積
回路を形成する全プロセスの工程がウェハに対して実施
される。
【００１７】真空プロセスシステム１５０は所望の圧力
に減圧された後、大気圧においてウェハ４０は真空プロ
セスシステム１５０内に導入される。従って、減圧サイ
クルの回数を減少させるために、多数のウェハ４０が一
度にシステム内に導入される。これは通常、ウェハ４０
をウェハカセット３２内に配置することにより達成さ
れ、ウェハカセット３２は複数のウェハ４０を水平方向
に保持し、垂直方向に互いに並置する。図１は、ウェハ
カセット３２をその内部に有する従来のロードロック２
０を示す概略図である。ロードロック２０の構成に依存
して、ウェハカセット３２はロードロック２０から取り
外し可能又は不可能としてもよい。カセット３２が取り
外し可能なロードロック２０において、カセット３２が
ロードロック２０に挿入される前に、ウェハ４０はカセ
ット３２内に配置される。他のタイプのロードロック２
０では、カセット３２がロードロック２０内に配置され
ている時、ウェハ４０は個々にカセット３２内に挿入さ
れる。簡便かつ明瞭に理解できるように、以下では取り
外しタイプのカセット３２について主に記載するが、本
発明は全てのタイプのカセットに対して同様に適用でき
る。これらのシステムにおいて、ウェハ４０はカセット
内に配置された後、カセット３２はロードロック２０に
置かれ、システム１５０は所望の真空に減圧される。し
かし、一旦システム１５０内に置かれると、カセット３
２は、スリット開口に隣接した水平動作平面上において
各ウェハ４０を連続した位置にインデックス配置しなけ
ればならない。これにより、システムロボットは、各ウ
ェハ４０にアクセスすることができ、システム１５０を
介してウェハ４０を移動することができる。
に減圧された後、大気圧においてウェハ４０は真空プロ
セスシステム１５０内に導入される。従って、減圧サイ
クルの回数を減少させるために、多数のウェハ４０が一
度にシステム内に導入される。これは通常、ウェハ４０
をウェハカセット３２内に配置することにより達成さ
れ、ウェハカセット３２は複数のウェハ４０を水平方向
に保持し、垂直方向に互いに並置する。図１は、ウェハ
カセット３２をその内部に有する従来のロードロック２
０を示す概略図である。ロードロック２０の構成に依存
して、ウェハカセット３２はロードロック２０から取り
外し可能又は不可能としてもよい。カセット３２が取り
外し可能なロードロック２０において、カセット３２が
ロードロック２０に挿入される前に、ウェハ４０はカセ
ット３２内に配置される。他のタイプのロードロック２
０では、カセット３２がロードロック２０内に配置され
ている時、ウェハ４０は個々にカセット３２内に挿入さ
れる。簡便かつ明瞭に理解できるように、以下では取り
外しタイプのカセット３２について主に記載するが、本
発明は全てのタイプのカセットに対して同様に適用でき
る。これらのシステムにおいて、ウェハ４０はカセット
内に配置された後、カセット３２はロードロック２０に
置かれ、システム１５０は所望の真空に減圧される。し
かし、一旦システム１５０内に置かれると、カセット３
２は、スリット開口に隣接した水平動作平面上において
各ウェハ４０を連続した位置にインデックス配置しなけ
ればならない。これにより、システムロボットは、各ウ
ェハ４０にアクセスすることができ、システム１５０を
介してウェハ４０を移動することができる。
【００１８】カセット３２のインデックス配置は、図２
及び３において「１０」で示されるインデックス装置を
使用して行われ、又はエンクロージャ内で対象物を複数
の位置に位置決めする装置を使用して行われる。図２及
び３に示すように、インデックス装置１０は一般に、動
作アクチュエータ６０に取り付けられた移動可能な位置
決め部材５０を備え、これら動作アクチュエータ６０及
び位置決め部材５０は共にエンクロージャ２０内に配置
されている。基本的に、改良点は動作アクチュエータ６
０の配置を完全にエンクロージャ２０内としたことであ
る。
及び３において「１０」で示されるインデックス装置を
使用して行われ、又はエンクロージャ内で対象物を複数
の位置に位置決めする装置を使用して行われる。図２及
び３に示すように、インデックス装置１０は一般に、動
作アクチュエータ６０に取り付けられた移動可能な位置
決め部材５０を備え、これら動作アクチュエータ６０及
び位置決め部材５０は共にエンクロージャ２０内に配置
されている。基本的に、改良点は動作アクチュエータ６
０の配置を完全にエンクロージャ２０内としたことであ
る。
【００１９】ここで、動作アクチュエータ６０は一般
に、移動可能な位置決め部材５０を作動することができ
る種々のタイプの機械又は機構を意味する。従って、動
作アクチュエータ６０の可能な例としては、従来技術に
おけるねじ又は油圧式のオフセット機構はもちろん、リ
ニアモータ７０も使用でき、後者は本発明の動作アクチ
ュエータ６０として好適である。
に、移動可能な位置決め部材５０を作動することができ
る種々のタイプの機械又は機構を意味する。従って、動
作アクチュエータ６０の可能な例としては、従来技術に
おけるねじ又は油圧式のオフセット機構はもちろん、リ
ニアモータ７０も使用でき、後者は本発明の動作アクチ
ュエータ６０として好適である。
【００２０】エンクロージャ２０は、エンクロージャ２
０に対して内室（interior）２４を画成する壁２２を有
する。代表的には、エンクロージャ２０の扉２６は、エ
ンクロージャ壁２２内で選択的に開き、シールされて閉
じる開口部２８を備えている（図３に示す）。開口部２
８は、エンクロージャ２０内に配置される対象物３０が
その開口部２８を通過できるように、十分大きい。ロー
ドロック用とは、開口部２８が十分大きく、ウェハカセ
ット３２は開口部２８を通ってロードロック内で位置決
めされてもよいことを意味する。さらに、ロードロック
装置の内室２４全体の大きさは、移動可能な位置決め部
材５０、動作アクチュエータ６０、及びウェハカセット
３２の垂直方向の並置位置に拘わらず、これらを収容す
るために十分大きい。従って、内室２４は、垂直配置さ
れたウェハカセット３２も収容できなければならない。
しかし、真空を形成する際のスペース及びエネルギーを
保存するために、ロードロック装置２０の内室２４は、
予め定められた間隙のみを残してコンポーネントを囲む
ように構成される。ある応用では、開口部２８が例えば
他のシールされたエンクロージャのみに流体で連通して
いる場合、開口部２８従ってエンクロージャ２０から扉
２６を省略してもよい。例えば、真空プロセスシステム
１５０の中間コンポーネントを適用することができ、図
４の例では、シールされ真空状態にある他のエンクロー
ジャ及び通路のみに連通している。上述したように、一
旦ウェハカセット３２が内部に配置されると、ロードロ
ック装置２０内は真空にされる。ウェハカセット３２
は、大気圧下においてロードロック装置２０内に配置さ
れ、かつ取り出される。従って、ロードロック装置２０
は真空を維持できるように気密でなければならない。ま
た、ロードロック装置２０は少なくとも１つの通気口２
９を備えなければならず、これにより、ロードロック装
置２０から空気が除去又は置換され、あるいは内室２４
を真空排気しかつ大気圧に戻す。結果として、ウェハカ
セット３２をロードロック装置２０内に挿入又は除去す
る基本的な手順は、（１）扉２６を開け、（２）開口部
２８を介してウェハカセット３２をロードロック装置２
０内に配置して扉２６をシールし、（３）ロードロック
装置２０の内室２４から空気を排気して真空とし、及び
（４）ウェハカセット３２を取り出す用意ができた時、
ロードロック装置２０に通気して大気圧とし、扉２６を
開ける手順を含む。
０に対して内室（interior）２４を画成する壁２２を有
する。代表的には、エンクロージャ２０の扉２６は、エ
ンクロージャ壁２２内で選択的に開き、シールされて閉
じる開口部２８を備えている（図３に示す）。開口部２
８は、エンクロージャ２０内に配置される対象物３０が
その開口部２８を通過できるように、十分大きい。ロー
ドロック用とは、開口部２８が十分大きく、ウェハカセ
ット３２は開口部２８を通ってロードロック内で位置決
めされてもよいことを意味する。さらに、ロードロック
装置の内室２４全体の大きさは、移動可能な位置決め部
材５０、動作アクチュエータ６０、及びウェハカセット
３２の垂直方向の並置位置に拘わらず、これらを収容す
るために十分大きい。従って、内室２４は、垂直配置さ
れたウェハカセット３２も収容できなければならない。
しかし、真空を形成する際のスペース及びエネルギーを
保存するために、ロードロック装置２０の内室２４は、
予め定められた間隙のみを残してコンポーネントを囲む
ように構成される。ある応用では、開口部２８が例えば
他のシールされたエンクロージャのみに流体で連通して
いる場合、開口部２８従ってエンクロージャ２０から扉
２６を省略してもよい。例えば、真空プロセスシステム
１５０の中間コンポーネントを適用することができ、図
４の例では、シールされ真空状態にある他のエンクロー
ジャ及び通路のみに連通している。上述したように、一
旦ウェハカセット３２が内部に配置されると、ロードロ
ック装置２０内は真空にされる。ウェハカセット３２
は、大気圧下においてロードロック装置２０内に配置さ
れ、かつ取り出される。従って、ロードロック装置２０
は真空を維持できるように気密でなければならない。ま
た、ロードロック装置２０は少なくとも１つの通気口２
９を備えなければならず、これにより、ロードロック装
置２０から空気が除去又は置換され、あるいは内室２４
を真空排気しかつ大気圧に戻す。結果として、ウェハカ
セット３２をロードロック装置２０内に挿入又は除去す
る基本的な手順は、（１）扉２６を開け、（２）開口部
２８を介してウェハカセット３２をロードロック装置２
０内に配置して扉２６をシールし、（３）ロードロック
装置２０の内室２４から空気を排気して真空とし、及び
（４）ウェハカセット３２を取り出す用意ができた時、
ロードロック装置２０に通気して大気圧とし、扉２６を
開ける手順を含む。
【００２１】対象物３０は、エンクロージャ内で持ち上
げる必要のある対象物でもよいが、ロードロック装置の
場合にはウェハカセット３２である。図５は、ウェハカ
セット３２の側面図である。真空プロセスシステム１５
０内における他の応用では、対象物３０は単一のウェハ
４０又はウェハ支持部材例えばペデスタル又はヒータを
含む。通常ウェハカセット３２は、複数のウェハ４０を
水平方向に、かつ垂直方向に互いに並置して、取り外し
可能に受容及び保持する。上述したように、ウェハカセ
ット３２はロードロック装置２０から取り外し可能でも
不可能でもよい。ウェハカセット３２は、水平方向の平
行接続部材３４によって頂部と底部が接続され一対の垂
直方向を向いた平行側部３３を有する。側部３３の内側
表面に取り付けられた支持部材３５は、互いに等間隔に
延びて支持部材３５間に溝３６を形成する。各溝３６
は、ウェハ４０を受容するのに十分な大きさであり、ウ
ェハ４０を垂直方向に支持する。ウェハカセット３２の
少なくとも１つの端部は、ウェハ４０が溝３６に置かれ
かつ除去されるように、開放されている。ウェハカセッ
ト３２の他の多くの部材は、既知である。例えばあるウ
ェハカセット３２では、その側壁から中央に延びてウェ
ハ４０を支持するアームを有するコーナーポストで、側
壁が置き換えられている。
げる必要のある対象物でもよいが、ロードロック装置の
場合にはウェハカセット３２である。図５は、ウェハカ
セット３２の側面図である。真空プロセスシステム１５
０内における他の応用では、対象物３０は単一のウェハ
４０又はウェハ支持部材例えばペデスタル又はヒータを
含む。通常ウェハカセット３２は、複数のウェハ４０を
水平方向に、かつ垂直方向に互いに並置して、取り外し
可能に受容及び保持する。上述したように、ウェハカセ
ット３２はロードロック装置２０から取り外し可能でも
不可能でもよい。ウェハカセット３２は、水平方向の平
行接続部材３４によって頂部と底部が接続され一対の垂
直方向を向いた平行側部３３を有する。側部３３の内側
表面に取り付けられた支持部材３５は、互いに等間隔に
延びて支持部材３５間に溝３６を形成する。各溝３６
は、ウェハ４０を受容するのに十分な大きさであり、ウ
ェハ４０を垂直方向に支持する。ウェハカセット３２の
少なくとも１つの端部は、ウェハ４０が溝３６に置かれ
かつ除去されるように、開放されている。ウェハカセッ
ト３２の他の多くの部材は、既知である。例えばあるウ
ェハカセット３２では、その側壁から中央に延びてウェ
ハ４０を支持するアームを有するコーナーポストで、側
壁が置き換えられている。
【００２２】従来のエンクロージャは、エンクロージャ
２０の壁２２を貫通して延びる動作アクチュエータ６０
（例えばねじ又は油圧式のオフセット機構）を有してい
るが、本発明では動作アクチュエータ６０を完全にエン
クロージャ２０内に配置することにより、結果として真
空から大気圧へのインターフェイスを排除するものであ
る。従来のシステムでは、インターフェイスを形成する
相対的な動作のために、特に漏洩が起こる傾向にある。
インターフェイスに必要なシールを形成するために、従
来のシステムはインターフェイスを囲み、かつエンクロ
ージャ２０内に配置された動作アクチュエータ６０の移
動可能なコンポーネントに接続する、折り畳み式ベロー
ズを使用しなければならなかった。本発明は、動作アク
チュエータ６０（例えばリニアモータ７０及びねじ又は
油圧式のオフセット機構）を完全にエンクロージャ２０
内に配置することによって、ベローズシール、比較的大
きなインターフェイス、及びエンクロージャ２０のシー
ルされたインターフェイスにおける相対的な移動を排除
する。
２０の壁２２を貫通して延びる動作アクチュエータ６０
（例えばねじ又は油圧式のオフセット機構）を有してい
るが、本発明では動作アクチュエータ６０を完全にエン
クロージャ２０内に配置することにより、結果として真
空から大気圧へのインターフェイスを排除するものであ
る。従来のシステムでは、インターフェイスを形成する
相対的な動作のために、特に漏洩が起こる傾向にある。
インターフェイスに必要なシールを形成するために、従
来のシステムはインターフェイスを囲み、かつエンクロ
ージャ２０内に配置された動作アクチュエータ６０の移
動可能なコンポーネントに接続する、折り畳み式ベロー
ズを使用しなければならなかった。本発明は、動作アク
チュエータ６０（例えばリニアモータ７０及びねじ又は
油圧式のオフセット機構）を完全にエンクロージャ２０
内に配置することによって、ベローズシール、比較的大
きなインターフェイス、及びエンクロージャ２０のシー
ルされたインターフェイスにおける相対的な移動を排除
する。
【００２３】これは、既知システムのエンクロージャ２
０の寸法を増大させて、動作アクチュエータ６０（例え
ばねじ又は油圧式のオフセット機構）を収容することに
よって達成される。しかし好適には、図２及び３に示す
ように、既知のエンクロージャ２０の寸法を増大させる
ことなく動作アクチュエータ６０を完全にエンクロージ
ャ２０内に配置する。これら既知のエンクロージャ２０
は、従来システムで使用された動作アクチュエータ６０
例えばねじ又は油圧式のオフセット機構のタイプを現実
に収容している。本発明の好適な実施形態では、従来シ
ステムの動作アクチュエータ６０をリニアモータ７０タ
イプの動作アクチュエータ６０で置き換えるものであ
る。リニアモータ７０を使用することによって、その比
較的コンパクトな構造のために、エンクロージャ２０を
拡大する必要性を軽減する。さらに、リニアモータ７０
はエンクロージャ２０の下部に延びないため、従来シス
テムの動作アクチュエータ６０では必要とされたエンク
ロージャ２０下部のスペースを、リニアモータ７０の使
用により排除することができる。
０の寸法を増大させて、動作アクチュエータ６０（例え
ばねじ又は油圧式のオフセット機構）を収容することに
よって達成される。しかし好適には、図２及び３に示す
ように、既知のエンクロージャ２０の寸法を増大させる
ことなく動作アクチュエータ６０を完全にエンクロージ
ャ２０内に配置する。これら既知のエンクロージャ２０
は、従来システムで使用された動作アクチュエータ６０
例えばねじ又は油圧式のオフセット機構のタイプを現実
に収容している。本発明の好適な実施形態では、従来シ
ステムの動作アクチュエータ６０をリニアモータ７０タ
イプの動作アクチュエータ６０で置き換えるものであ
る。リニアモータ７０を使用することによって、その比
較的コンパクトな構造のために、エンクロージャ２０を
拡大する必要性を軽減する。さらに、リニアモータ７０
はエンクロージャ２０の下部に延びないため、従来シス
テムの動作アクチュエータ６０では必要とされたエンク
ロージャ２０下部のスペースを、リニアモータ７０の使
用により排除することができる。
【００２４】リニアモータ７０は、回転誘導モータと本
質的に同一の原理で動作する。しかし回転磁界の代わり
に、磁界が平らなモータ面を走査する。リニアモータ７
０は、固定子７２及びリアクションプレート７４を有す
る。固定子７２は通常、積層鉄心に巻かれた三相巻線で
ある。ＡＣ電源により固定子７２に電圧が印加される
と、進行波（traveling wave）磁界が生じる。リアクシ
ョンプレート７４は、回転誘導モータにおける回転子と
等価であり、裏打材の平板をしばしば有する導電性材料
のシートからなる。磁界は、リアクションプレート７４
を固定子７２の表面に沿って直線上に進行させる力を生
ずる。電源の２つの位相を逆転させることにより、磁
界、従ってリアクションプレート７４の方向を逆転す
る。
質的に同一の原理で動作する。しかし回転磁界の代わり
に、磁界が平らなモータ面を走査する。リニアモータ７
０は、固定子７２及びリアクションプレート７４を有す
る。固定子７２は通常、積層鉄心に巻かれた三相巻線で
ある。ＡＣ電源により固定子７２に電圧が印加される
と、進行波（traveling wave）磁界が生じる。リアクシ
ョンプレート７４は、回転誘導モータにおける回転子と
等価であり、裏打材の平板をしばしば有する導電性材料
のシートからなる。磁界は、リアクションプレート７４
を固定子７２の表面に沿って直線上に進行させる力を生
ずる。電源の２つの位相を逆転させることにより、磁
界、従ってリアクションプレート７４の方向を逆転す
る。
【００２５】このような構成の結果として、リニアモー
タ７０は直線動作が必要な場所へ位置決めされる。リア
クションプレート７４は、リニア固定子７２に沿って動
く。従って、固定子７２及びリアクションプレート７４
は、エンクロージャ２０内で対象物が直線上及び垂直動
作が必要な場所に配置される。しかし、リニアモータ７
０は、比較的小型であり、例えばロードロック装置内で
その内室２４内に取り付けられる。
タ７０は直線動作が必要な場所へ位置決めされる。リア
クションプレート７４は、リニア固定子７２に沿って動
く。従って、固定子７２及びリアクションプレート７４
は、エンクロージャ２０内で対象物が直線上及び垂直動
作が必要な場所に配置される。しかし、リニアモータ７
０は、比較的小型であり、例えばロードロック装置内で
その内室２４内に取り付けられる。
【００２６】リニアモータ７０に精通した当業者に知ら
れている他の利点には、使用及び制御が容易であり、応
答が早く、加速度の調節も可能であることが含まれる。
リニアモータ７０は、固定子７２とリアクションプレー
ト７４との間に空気のベアリングを有し機械的に単純で
あり、従来のシステムで必要とされる潤滑又はメンテナ
ンスを排除する。さらに、リニアモータ７０は極めて高
い精度及び再現性を有する。ウェハカセット３２及びウ
ェハ４０の正確な位置決めは、ロボットブレードとウェ
ハ４０との衝突を防止し、ウェハ４０の適切なシーケン
スを保証する。
れている他の利点には、使用及び制御が容易であり、応
答が早く、加速度の調節も可能であることが含まれる。
リニアモータ７０は、固定子７２とリアクションプレー
ト７４との間に空気のベアリングを有し機械的に単純で
あり、従来のシステムで必要とされる潤滑又はメンテナ
ンスを排除する。さらに、リニアモータ７０は極めて高
い精度及び再現性を有する。ウェハカセット３２及びウ
ェハ４０の正確な位置決めは、ロボットブレードとウェ
ハ４０との衝突を防止し、ウェハ４０の適切なシーケン
スを保証する。
【００２７】好適な実施形態において、固定子７２はエ
ンクロージャ２０の壁部２２に取り付けられ、その垂直
方向に延在する。固定子７２は細長く、通常一対の平行
なレールからなり、その長さは対象物の必要な移動距離
によって決定される。リアクションプレート７４は、固
定子７２に沿って垂直方向に自由に動けるように、固定
子７２に取り付けられている。固定子７２に対するリア
クションプレート７４の位置及び移動は、外部の制御信
号により決定される。
ンクロージャ２０の壁部２２に取り付けられ、その垂直
方向に延在する。固定子７２は細長く、通常一対の平行
なレールからなり、その長さは対象物の必要な移動距離
によって決定される。リアクションプレート７４は、固
定子７２に沿って垂直方向に自由に動けるように、固定
子７２に取り付けられている。固定子７２に対するリア
クションプレート７４の位置及び移動は、外部の制御信
号により決定される。
【００２８】移動可能な位置決め部材５０は、リアクシ
ョンプレート７４に取り付けられ、かつリアクションプ
レート７４と共に動く。移動可能な位置決め部材５０
は、対象物３０がエンクロージャ２０内にある時、対象
物３０を支持するために使用される。ウェハカセット３
２が移動できないロードロック装置２０では、ウェハカ
セット３２は移動可能な位置決め部材５０に固定して取
り付けてもよいことに注目すべきである。必要な支持体
を提供するために、移動可能な位置決め部材５０の好適
な実施形態では、実質上平らな上面５４を備えたプラッ
トホーム５２を有する。上面５４は、平らな対象物３０
の底部を受容できるように水平面上にある。従ってロー
ドロック装置２０では、移動可能な位置決め部材５０は
取り外し可能なタイプのウェハカセット３２をその上面
５４で受容し支持するのに好適なプラットホーム５２と
共に構成される。
ョンプレート７４に取り付けられ、かつリアクションプ
レート７４と共に動く。移動可能な位置決め部材５０
は、対象物３０がエンクロージャ２０内にある時、対象
物３０を支持するために使用される。ウェハカセット３
２が移動できないロードロック装置２０では、ウェハカ
セット３２は移動可能な位置決め部材５０に固定して取
り付けてもよいことに注目すべきである。必要な支持体
を提供するために、移動可能な位置決め部材５０の好適
な実施形態では、実質上平らな上面５４を備えたプラッ
トホーム５２を有する。上面５４は、平らな対象物３０
の底部を受容できるように水平面上にある。従ってロー
ドロック装置２０では、移動可能な位置決め部材５０は
取り外し可能なタイプのウェハカセット３２をその上面
５４で受容し支持するのに好適なプラットホーム５２と
共に構成される。
【００２９】ロードロック装置２０の高さは、ウェハカ
セット３２の高さと、ウェハカセット３２の必要な移動
距離（通常、カセットの高さとほぼ等しい）と、移動可
能な位置決め部材５０のために必要な間隔と、及び位置
決め部材５０が最も高い位置にある時にエンクロージャ
２０と接触するのを避けるための、リニアモータ７０の
ための位置決め部材５０下の小さな間隔及びウェハカセ
ット３２の頂部上の間隔とを加えた高さに、少なくとも
等しくなければならない。この高さの計算は、プラット
ホーム５２が実質的にリアクションプレート７４の上に
延びないことを前提としている。他の実施形態では、リ
ニアモータ７０が使用されるスペースを除き、実質的に
リアクションプレート７４上のプラットホームの延長上
の位置を含むスペースが減少する。このように、リニア
モータ７０はプラットホーム５２の下に保持され、対象
物３０があらゆる方向から近接するのを許容する。
セット３２の高さと、ウェハカセット３２の必要な移動
距離（通常、カセットの高さとほぼ等しい）と、移動可
能な位置決め部材５０のために必要な間隔と、及び位置
決め部材５０が最も高い位置にある時にエンクロージャ
２０と接触するのを避けるための、リニアモータ７０の
ための位置決め部材５０下の小さな間隔及びウェハカセ
ット３２の頂部上の間隔とを加えた高さに、少なくとも
等しくなければならない。この高さの計算は、プラット
ホーム５２が実質的にリアクションプレート７４の上に
延びないことを前提としている。他の実施形態では、リ
ニアモータ７０が使用されるスペースを除き、実質的に
リアクションプレート７４上のプラットホームの延長上
の位置を含むスペースが減少する。このように、リニア
モータ７０はプラットホーム５２の下に保持され、対象
物３０があらゆる方向から近接するのを許容する。
【００３０】リニアモータ７０のための電源及び制御信
号は、リアクションプレート７４に取り付けられかつ交
信される通信接合器７６で受け取られる。可撓性の通信
ライン１１０は、電源及び制御信号を絶縁された導体９
０から通信接合器７６へ伝達する。絶縁された導体９０
は、エンクロージャ２０の壁２２を貫通して延びてい
る。絶縁材料９２の層は、導体９０の導電性材料９４を
エンクロージャ２０から絶縁する。絶縁された導体９０
は、エンクロージャ壁２２の壁開口部２３を貫通して延
び、これにより、真空から大気への固定したインターフ
ェイス１００を形成する。このインターフェイス１００
はシールされ、エンクロージャ２０内に真空を容易に形
成、維持する。絶縁された導体９０は、電力を供給する
電源及びリニアモータ７０に制御信号を供給する制御機
構に接続されている。
号は、リアクションプレート７４に取り付けられかつ交
信される通信接合器７６で受け取られる。可撓性の通信
ライン１１０は、電源及び制御信号を絶縁された導体９
０から通信接合器７６へ伝達する。絶縁された導体９０
は、エンクロージャ２０の壁２２を貫通して延びてい
る。絶縁材料９２の層は、導体９０の導電性材料９４を
エンクロージャ２０から絶縁する。絶縁された導体９０
は、エンクロージャ壁２２の壁開口部２３を貫通して延
び、これにより、真空から大気への固定したインターフ
ェイス１００を形成する。このインターフェイス１００
はシールされ、エンクロージャ２０内に真空を容易に形
成、維持する。絶縁された導体９０は、電力を供給する
電源及びリニアモータ７０に制御信号を供給する制御機
構に接続されている。
【００３１】粒子の発生を防止するために、通信ライン
１１０が採用され、エンクロージャ２０への接触を避け
ている。図１に示す通信ライン１１０の好適な実施形態
では、リアクションプレート７４が最も上の位置にある
時、絶縁された導体９０と通信接合器７６との接続が維
持できるのに丁度十分な長さを有する。可撓性の通信ラ
イン１１０は、比較的堅く特定の方向に曲がって傾いて
おり、移動可能な位置決め部材５０が低い位置にあると
き、通信ライン１１０はエンクロージャ２０内で所定の
形状及び位置に曲げられている。従って、エンクロージ
ャ２０内で不規則に動くことはむしろまれであり、通信
ライン１１０の位置は予め決められ、エンクロージャ２
０との接触が避けられる。
１１０が採用され、エンクロージャ２０への接触を避け
ている。図１に示す通信ライン１１０の好適な実施形態
では、リアクションプレート７４が最も上の位置にある
時、絶縁された導体９０と通信接合器７６との接続が維
持できるのに丁度十分な長さを有する。可撓性の通信ラ
イン１１０は、比較的堅く特定の方向に曲がって傾いて
おり、移動可能な位置決め部材５０が低い位置にあると
き、通信ライン１１０はエンクロージャ２０内で所定の
形状及び位置に曲げられている。従って、エンクロージ
ャ２０内で不規則に動くことはむしろまれであり、通信
ライン１１０の位置は予め決められ、エンクロージャ２
０との接触が避けられる。
【００３２】エンクロージャ２０内に動作可能に配置さ
れた時、ウェハカセット３２はプラットホーム５２の上
面５４上に載置される。システムコントローラにおいて
予め定義されプログラムされた制御信号に応答するリニ
アモータ７０は、プラットホーム５２を複数の位置の間
で移動させる。このような各位置は、真空プロセスシス
テム１５０がウェハ４０を処理する水平動作平面におけ
る各ウェハ４０の配置によって定められる。制御信号
は、リニアモータ７０に直接送られウェハカセット３２
を各複数の位置に順次移動させ、これにより、真空プロ
セスシステム１５０内のロボットは処理のために各ウェ
ハ４０に近接することができる。
れた時、ウェハカセット３２はプラットホーム５２の上
面５４上に載置される。システムコントローラにおいて
予め定義されプログラムされた制御信号に応答するリニ
アモータ７０は、プラットホーム５２を複数の位置の間
で移動させる。このような各位置は、真空プロセスシス
テム１５０がウェハ４０を処理する水平動作平面におけ
る各ウェハ４０の配置によって定められる。制御信号
は、リニアモータ７０に直接送られウェハカセット３２
を各複数の位置に順次移動させ、これにより、真空プロ
セスシステム１５０内のロボットは処理のために各ウェ
ハ４０に近接することができる。
【００３３】
【発明の効果】上述は本発明の好適な実施形態に関して
説明したが、本発明の他の実施形態であっても本発明の
範囲から離れることなく案出してもよい。本発明の範囲
は、特許請求の範囲により定められる。
説明したが、本発明の他の実施形態であっても本発明の
範囲から離れることなく案出してもよい。本発明の範囲
は、特許請求の範囲により定められる。
【図１】従来技術におけるロードロックを示す概略図で
ある。
ある。
【図２】インデックス装置を示す部分断面正面図であ
る。
る。
【図３】インデックス装置を示す部分断面側面図であ
る。
る。
【図４】真空プロセスシステムを示す平面図である。
【図５】ウェハカセットを示す側面図である。
１０…インデックス装置、２０…ロードロック（装
置）、２４…内室、２６…扉、２８…開口部、２９…通
気口、３０…対象物、３２…ウェハカセット、３３平行
側部、３４…平行接続部材、３５…支持部材、３６…
溝、４０…ウェハ、５０…位置決め部材、５２…プラッ
トホーム、５４…上面、６０…動作アクチュエータ、７
０…リニアモータ、７２…固定子、７４…リアクション
プレート、７６…通信接合器、９０…導体、９２…絶縁
材料、９４…導電性材料、１００…インターフェース、
１１０…通信ライン、１５０…真空プロセスシステム、
１５２…プロセスチャンバ。
置）、２４…内室、２６…扉、２８…開口部、２９…通
気口、３０…対象物、３２…ウェハカセット、３３平行
側部、３４…平行接続部材、３５…支持部材、３６…
溝、４０…ウェハ、５０…位置決め部材、５２…プラッ
トホーム、５４…上面、６０…動作アクチュエータ、７
０…リニアモータ、７２…固定子、７４…リアクション
プレート、７６…通信接合器、９０…導体、９２…絶縁
材料、９４…導電性材料、１００…インターフェース、
１１０…通信ライン、１５０…真空プロセスシステム、
１５２…プロセスチャンバ。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 トーマス ブレゾツキー アメリカ合衆国， カリフォルニア州， サン ノゼ， エルドリッジ ドライヴ 6836 (72)発明者 ディーパック マノハーラル アメリカ合衆国， カリフォルニア州， サンタ クララ， ポインシアナ ドライ ヴ 3707， ナンバー105
Claims (18)
- 【請求項１】 エンクロージャ内で複数の位置に対象物
を位置決めする装置であって、 前記エンクロージャ内に配置された移動可能な位置決め
部材と、 前記エンクロージャ内に配置され、前記移動可能な位置
決め部材に接続されかつ、前記移動可能な位置決め部材
を移動させる動作アクチュエータとを備えることを特徴
とする装置。 - 【請求項２】 前記移動可能な位置決め部材は、ウェハ
カセットを支持することを特徴とする請求項１に記載の
装置。 - 【請求項３】 前記ウェハカセットは、複数のウェハを
水平方向に移動可能に、かつ垂直方向に互いに並置して
支持することを特徴とする請求項２に記載の装置。 - 【請求項４】 前記エンクロージャは、真空に維持でき
ることを特徴とする請求項１に記載の装置。 - 【請求項５】 前記エンクロージャは、ロードロック装
置であることを特徴とする請求項１に記載の装置。 - 【請求項６】 前記移動可能な位置決め部材は、その上
に前記対象物を受容するプラットホームを備え、このプ
ラットホームの上面は実質的に平らであり水平面をなす
ことを特徴とする請求項１に記載の装置。 - 【請求項７】 前記動作アクチュエータは、リニアモー
タであることを特徴とする請求項１に記載の装置。 - 【請求項８】 前記リニアモータは固定子及びリアクシ
ョンプレートを備え、前記固定子は前記エンクロージャ
に取り付けられ、前記リアクションプレートは前記固定
子に対して移動可能であり、かつ前記移動可能な位置決
め部材は前記リアクションプレートに取り付けられてい
ることを特徴とする請求項７に記載の装置。 - 【請求項９】 前記エンクロージャは内室を画成する壁
と、 シールされたインターフェイスを形成する前記壁を貫通
して延びる絶縁された導体とをさらに備えることを特徴
とする請求項１に記載の装置。 - 【請求項１０】 前記絶縁された導体及び前記動作アク
チュエータを接続する可撓性の通信ラインをさらに備
え、この可撓性の通信ラインは前記エンクロージャとの
接触を避けるように適合されていることを特徴とする請
求項９に記載の装置。 - 【請求項１１】 チャンバ装置であって、 エンクロージャと、 このエンクロージャ内に完全に収納された動作アクチュ
エータと、及びこの動作アクチュエータに取り付けら
れ、前記エンクロージャ内で位置決め可能な対象物を受
容する移動可能な位置決め部材とを備えたことを特徴と
する装置。 - 【請求項１２】 前記動作アクチュエータはリニアモー
タであり、このリニアモータは固定子及びリアクション
プレートを備え、このリアクションプレートは前記固定
子に対して移動可能であり、前記固定子は前記エンクロ
ージャに取り付けられ、前記移動可能な位置決め部材は
前記リアクションプレートに取り付けられていることを
特徴とする請求項１１に記載の装置。 - 【請求項１３】 前記エンクロージャは内室を画成する
壁をさらに有し、絶縁された導体は前記壁を貫通して延
び、前記壁と前記絶縁された導体との間のインターフェ
ースはシールを形成し、可撓性通信ラインは前記絶縁さ
れた導体と前記リニアモータとを接続し、前記可撓性通
信ラインは前記エンクロージャとの接触を回避するよう
に適合されていることを特徴とする請求項１２に記載の
装置。 - 【請求項１４】 エンクロージャ内で複数の位置に対象
物を位置決めする方法であって、 移動可能な位置決め部材を前記エンクロージャ内に配置
する工程と、 前記移動可能な位置決め部材に取り付けられた動作アク
チュエータを完全に前記エンクロージャ内に配置する工
程と、 前記対象物を前記エンクロージャ内でかつ前記移動可能
な位置決め部材の上に位置決めする工程と、 前記動作アクチュエータを作動して前記移動可能な位置
決め部材を複数の位置に移動させ、これにより、前記対
象物を複数の位置に移動させる工程とを含むことを特徴
とする方法。 - 【請求項１５】 所定の外部制御信号を使用して、前記
移動可能な位置決め部材の位置を制御する工程をさらに
含むことを特徴とする請求項１４に記載の方法。 - 【請求項１６】 前記エンクロージャをシールする工程
と、 前記エンクロージャ内を真空にする工程とをさらに含む
ことを特徴とする請求項１４に記載の方法。 - 【請求項１７】 前記対象物は、その中で水平方向に配
向された複数のウェハを有するウェハカセットであり、
前記ウェハは垂直方向に互いに並置されていることを特
徴とする請求項１４に記載の方法。 - 【請求項１８】 前記移動可能な位置決め部材を移動さ
せ、前記各ウェハを水平動作平面に順次配列する工程を
さらに含むことを特徴とする請求項１７に記載の方法。
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|---|---|---|---|
| US08/882567 | 1997-06-25 | ||
| US08/882,567 US6106582A (en) | 1997-06-25 | 1997-06-25 | Apparatus and method for positioning an object at multiple positions within an enclosure |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
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Family
ID=25380863
Family Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP10178651A Withdrawn JPH1167867A (ja) | 1997-06-25 | 1998-06-25 | エンクロージャ内で対象物を複数の位置に位置決めする装置及び方法 |
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| Country | Link |
|---|---|
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| JP (1) | JPH1167867A (ja) |
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1997
- 1997-06-25 US US08/882,567 patent/US6106582A/en not_active Expired - Fee Related
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1998
- 1998-06-25 JP JP10178651A patent/JPH1167867A/ja not_active Withdrawn
-
2000
- 2000-05-11 US US09/569,738 patent/US6348073B1/en not_active Expired - Fee Related
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
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