JPH1164442A - Jig for electronic component chip inspection - Google Patents

Jig for electronic component chip inspection

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JPH1164442A
JPH1164442A JP9241981A JP24198197A JPH1164442A JP H1164442 A JPH1164442 A JP H1164442A JP 9241981 A JP9241981 A JP 9241981A JP 24198197 A JP24198197 A JP 24198197A JP H1164442 A JPH1164442 A JP H1164442A
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JP
Japan
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inspection
jig
chip
electrode
electronic component
Prior art date
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Application number
JP9241981A
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Japanese (ja)
Inventor
Kenzo Kawaguchi
健藏 川口
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Niterra Co Ltd
Original Assignee
NGK Spark Plug Co Ltd
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Publication date
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    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/22Secondary treatment of printed circuits
    • H05K3/24Reinforcing the conductive pattern
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/30Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor
    • H05K3/32Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits
    • H05K3/325Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits by abutting or pinching, i.e. without alloying process; mechanical auxiliary parts therefor

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a jig capable of performing the electric inspection by a flip chip single body before loading to a wiring board, without disturbing repetitive use in the performance inspection of a flip chip. SOLUTION: Many electrodes 3 for the inspection for bringing the connection terminal of an electronic component chip F into contact are formed on an insulation substrate and the electrodes 3 for the inspection are connected to the separately provided electrodes 7 through internal conductor wiring. Hard Cr plating for which hardness is about Hv500-1,000 is applied to a surface for the electrodes 3 for the inspection and this jig for the inspection is attained. It is connected through the separately provided electrodes 7 to a prescribed inspection device, and the bump of the chip F is positioned to the respective electrodes 3 for the inspection, brought into press-contact and conducted. Thus, the electric inspection is performed by the chip single body before loading to the wiring board.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、電子部品チップ検
査用治具に関し、詳しくは、外部接続端子(以下、接続
端子又は単に端子ともいう)を一主平面に多数備え、フ
リップチップ方式にてICパッケージなどの配線基板に
搭載、接続されるIC等の電子部品チップ(以下、フリ
ップチップ又はチップともいう)について、その性能検
査(以下、電気検査ともいう)をする際に使用される検
査用治具(以下、単に治具ともいう)に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a jig for inspecting an electronic component chip, and more particularly to a jig for inspecting an electronic component chip, which is provided with a large number of external connection terminals (hereinafter, also referred to as connection terminals or simply terminals) on one main plane, and adopts a flip chip method. For inspections used when performing performance inspections (hereinafter also referred to as electrical inspections) of electronic component chips (hereinafter also referred to as flip chips or chips) such as ICs mounted and connected to a wiring board such as an IC package. The present invention relates to a jig (hereinafter, also simply referred to as a jig).

【0002】[0002]

【従来の技術】ワイヤボンディングタイプのICチップ
では、その電気検査はチップの全接続端子に同時にプロ
ーブを当接ないし圧接させることで、問題なくこれを行
うことができる。端子にはワイヤボンド可能なように平
坦面が形成されているからである。また、TAB(Tape
Autonated Bonding)タイプのチップでは、チップをT
ABテープに接合した後、TABテープ上に形成された
テストパターンを利用してチップの電気検査を行うこと
ができる。このように、フリップチップ以外のチップで
はチップ単体で性能検査ができる。したがって、これら
のチップではチップ単体で合否(測定結果)を判定し、
その合格品(良品チップ)のみをICパッケージなどの
配線基板(以下、単にパッケージ或いは配線基板ともい
う)に搭載することができる。
2. Description of the Related Art In a wire bonding type IC chip, the electrical inspection can be performed without any problem by simultaneously contacting or pressing a probe to all connection terminals of the chip. This is because the terminal has a flat surface so that wire bonding can be performed. Also, TAB (Tape
In the case of Autonated Bonding) type chip,
After bonding to the AB tape, electrical inspection of the chip can be performed using the test pattern formed on the TAB tape. As described above, a chip other than a flip chip can perform a performance test on a single chip. Therefore, with these chips, pass / fail (measurement results) are determined by the chip alone,
Only the accepted products (good chips) can be mounted on a wiring board such as an IC package (hereinafter, also simply referred to as a package or a wiring board).

【0003】一方、フリップチップの電気検査は、従
来、これをパッケージに搭載、接合した後に行ってい
た。フリップチップでは、その一主平面に設けられた外
部接続端子(電極)がバンプをなし、これが格子状など
平面的に多数配置されているので、すべてのバンプを一
括してプロービングするように多数のプローブを1つの
装置として組み立てることが困難なためである。このよ
うに、フリップチップにおいては他のチップのようにプ
ロービングができず、チップ単体での性能測定(合否の
判定)はできないため、チップをパッケージに搭載、接
合した後に、そのパッケージのプリント基板接続用の外
部用の電極を検査装置を構成するテストボードの電極に
圧接するなどにより電気的導通を確保し、その下で電気
検査をしていた。このような搭載後の電気検査によれ
ば、質の高い検査となる反面、次のような問題があっ
た。
On the other hand, the electrical inspection of a flip chip has conventionally been carried out after mounting the chip on a package and joining it. In a flip chip, external connection terminals (electrodes) provided on one principal plane form bumps, and a large number of these are arranged in a plane such as in a grid, so that a large number of bumps are collectively probed. This is because it is difficult to assemble the probe as one device. In this way, probing cannot be performed on a flip chip like other chips, and performance measurement (pass / fail judgment) cannot be performed on a single chip. Therefore, after mounting and bonding the chip on a package, the package is connected to the printed circuit board. For example, an electrical connection is ensured by pressing an external electrode for use with an electrode of a test board constituting an inspection apparatus, and an electrical inspection is performed underneath. According to the electrical inspection after the mounting, the inspection is of high quality, but has the following problems.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】すなわち、パッケージ
に搭載した後、不良と判定された場合には、不良チップ
の他にそのパッケージをも廃棄することになってしま
う。したがって、搭載工程やパッケージに無駄が生じる
といった問題があった。また、再リフローすることで接
合を解除して不良チップを取り除いてパッケージを回収
し、別のチップをその回収したパッケージに搭載するこ
とも考えられる。しかし、これでは再リフローして不良
チップをパッケージから除去する手間がかかる上に、前
に接合した際のハンダや金などの残渣がパッケージのパ
ッド上に残るので、たとえ検査で合格となったとしても
装置としての信頼性の低下を招く原因となる。また、不
良判定が繰り返されれば、チップの搭載、接合およびそ
の除去の繰り返しを要するだけでなく、こうした問題は
一層顕著となる。
That is, if it is determined that the package is defective after being mounted on a package, the package is discarded in addition to the defective chip. Therefore, there is a problem that the mounting process and the package are wasted. It is also conceivable that the package is collected by removing the defective chip by re-flowing to remove the defective chip, and another chip is mounted on the collected package. However, this requires time and effort to remove the defective chip from the package by reflowing, and residues such as solder and gold from the previous bonding remain on the package pads. This also causes a reduction in the reliability of the device. In addition, if the defect determination is repeated, not only the mounting, bonding and removal of the chip need to be repeated, but such a problem becomes more remarkable.

【0005】一方、このような問題の解消のためには、
検査対象のチップが搭載される配線基板と同一のものを
治具として使用し、チップの端子をハンダ付けすること
なく配線基板の端子に当接ないし圧接させることで導通
を確保し、その下でチップの電気検査をする、といった
ことが考えられる。しかし、例えばセラミック製パッケ
ージではその端子は厚膜メタライズからなり、通常、そ
の表面には軟質のNiメッキ及び軟質のAuメッキがか
けられており、その硬度はHv(ビッカース硬度)50
〜200程度と低い。
On the other hand, in order to solve such a problem,
Use the same jig as the wiring board on which the chip to be inspected is mounted as a jig, and secure the continuity by abutting or pressing the terminals of the chip against the terminals of the wiring board without soldering. It is conceivable to perform an electrical test on the chip. However, for example, in the case of a ceramic package, its terminals are made of thick film metallized, and its surface is usually coated with soft Ni plating and soft Au plating, and its hardness is Hv (Vickers hardness) 50.
It is as low as about 200.

【0006】このような低硬度の軟質メッキがかけられ
た端子にチップの端子を繰り返し当接ないし圧接すれ
ば、その端子の表面層(メッキ)が早期に摩耗してしま
い、少数チップ(数十個〜数百個程度)の検査をした段
階で導通不良を招いてしまう危険性が高い。一方で、チ
ップの一か月当たりの生産数は百万個単位である。した
がって、パッケージそのものを検査用治具として用いる
ためには、検査の信頼性を低下させないように検査過程
でそれを頻繁に交換せざるを得ないが、これではコスト
の増大や検査効率の低下を招くことは明らかであり、実
用化できない。
If the terminal of the chip is repeatedly contacted or pressed against the terminal on which such low-hardness soft plating is applied, the surface layer (plating) of the terminal is worn out early, and a small number of chips (several tens of There is a high risk that a conduction failure may occur at the stage of inspection of about several to several hundred pieces. On the other hand, the number of chips produced per month is on the order of one million. Therefore, in order to use the package itself as an inspection jig, it must be replaced frequently in the inspection process so as not to reduce the reliability of the inspection, but this will increase the cost and decrease the inspection efficiency. This is obvious and cannot be put to practical use.

【0007】本発明は、フリップチップの性能検査にお
けるこのような問題点に鑑みて成されたもので、その目
的とするところは、多数のチップの電気検査に支障がな
く、配線基板への搭載前にフリップチップ単体でその電
気検査を行うのに好適な電子部品チップ検査用治具(以
下、単に治具ともいう)を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned problems in the performance inspection of flip chips, and an object of the present invention is to provide an electronic inspection of a large number of chips without hindrance to mounting on a wiring board. An object of the present invention is to provide an electronic component chip inspection jig (hereinafter, also simply referred to as a jig) suitable for conducting an electrical inspection of a flip chip alone.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに本発明の電子部品チップ検査用治具は、電子部品チ
ップの電気検査を行うためにその接続端子を接触させる
検査用電極が、一主平面上に絶縁を確保して多数形成さ
れていると共に、その各検査用電極は、内部の導体配線
を介して別設の電極に各々接続されてなり、しかも、前
記各検査用電極は表面に硬度(ビッカース硬度)がHv
500以上の硬質メッキがかけられていることにある。
そして、ここに硬質メッキには、硬質Cr、硬質Au、
パラジウム、ロジウムの各メッキが例示される。
In order to achieve the above object, an electronic component chip inspection jig according to the present invention comprises an inspection electrode for contacting a connection terminal of an electronic component chip for electrical inspection. A large number of electrodes are formed on one main plane while securing insulation, and each of the inspection electrodes is connected to another electrode via an internal conductor wiring. Hardness (Vickers hardness) is Hv on the surface
It is that hard plating of 500 or more is applied.
And here, for hard plating, hard Cr, hard Au,
Palladium and rhodium plating are exemplified.

【0009】上記検査用治具においては、その別設の電
極を、チップ検査装置を構成するテストボードの各端子
にハンダ付けなどにより接続し、検査装置に組込んで電
子部品チップ検査装置を構成する。そして、治具の検査
用電極に検査対象とされるフリップチップの各接続端子
(ハンダバンプなど)の位置を合わせ、所定の力で同電
極と同端子間が圧接されるようにする。こうすること
で、チップの接続端子と治具の検査用電極とが導通し、
フリップチップについて必要な電気検査をすることがで
きる。
In the above-mentioned inspection jig, the separate electrode is connected to each terminal of a test board constituting the chip inspection device by soldering or the like, and incorporated into the inspection device to constitute the electronic component chip inspection device. I do. Then, the position of each connection terminal (solder bump or the like) of the flip chip to be inspected is aligned with the inspection electrode of the jig so that the electrode and the terminal are pressed against each other with a predetermined force. In this way, the connection terminals of the chip and the test electrodes of the jig are brought into conduction,
The required electrical inspection can be performed on the flip chip.

【0010】そして、検査用電極の表面にはHv500
以上の高硬度の硬質メッキがかけられている。一方、チ
ップの接続端子はハンダバンプ、Auバンプなどであ
り、その硬度は高くともHv50以下である。このよう
な硬度の差により、多数のチップを検査することによっ
てその接続端子(ハンダバンプなど)が対応する治具の
検査用電極に繰り返し接触しても、その検査用電極の摩
耗は実質的に発生しないか微量である。これにより、本
発明に係る治具においては、数万個単位の多数のチップ
の検査にも実用上問題なく使用できる。
Then, Hv500 is applied to the surface of the inspection electrode.
Hard plating of high hardness as described above is applied. On the other hand, the connection terminals of the chip are solder bumps, Au bumps, and the like, and the hardness thereof is at most Hv50 or less. Due to such a difference in hardness, even when a large number of chips are inspected and their connection terminals (eg, solder bumps) repeatedly contact the corresponding test electrodes of the jig, the test electrodes are substantially worn. No or trace. As a result, the jig according to the present invention can be used for inspection of a large number of chips of several tens of thousands without any practical problem.

【0011】かくして、本発明に係る検査用治具によれ
ば、フリップチップにおいても各種の電気検査がチップ
単体でできることになる。しかも、本発明にかかる治具
は、チップを搭載するパッケージと実質的に同じもので
構成でき、かつその接続端子に硬質メッキをかけること
で構成(製造)できるから、治具自体の製造も容易であ
る。さらに、チップがパッケージに搭載された場合とま
ったく同一の条件での電気検査ができるから、従来と同
様に検査の質を高めることができる。
Thus, according to the inspection jig of the present invention, various electrical inspections can be performed on a flip chip by itself. In addition, the jig according to the present invention can be constituted by substantially the same as the package on which the chip is mounted, and can be constituted (manufactured) by applying hard plating to its connection terminals, so that the jig itself can be easily manufactured. It is. Further, since the electrical inspection can be performed under exactly the same conditions as when the chip is mounted on a package, the quality of the inspection can be improved as in the related art.

【0012】そして、上記手段においては、前記検査用
電極が絶縁基板の一方の主平面に設けられていると共
に、前記別設の電極(相互間隔)が該絶縁基板の他方の
主平面に前記検査用電極相互の間隔よりも大きい間隔で
設けられているのが好ましい。別設の電極から各種の検
査機器への接続が容易となるからである。
In the above means, the inspection electrode is provided on one main plane of the insulating substrate, and the separate electrode (inter-interval) is provided on the other main plane of the insulating substrate. It is preferable that they are provided at intervals larger than the interval between the electrodes for use. This is because connection from the separately provided electrode to various inspection devices becomes easy.

【0013】また、絶縁基板は、セラミック基板とし、
前記一主平面をなす表面を研磨によって平坦にしておく
のが好ましい。研磨によって、高精度に平坦化できるの
で、接続がより確実となるためである。基板の大きさに
もよるが、平面度は、10μm以下であり、表面粗さは
Ra:0.8μm以下とするのが好ましい。とくに、セ
ラミック基板はセラミック多層配線基板であるとよい。
基板内において、検査が容易なように内部の導体配線
(内部配線ともいう)を引き回して別設の電極に取り出
すことができるためである。
The insulating substrate is a ceramic substrate,
Preferably, the surface forming the one main plane is flattened by polishing. This is because the connection can be made more reliable because the polishing can be flattened with high precision. Although it depends on the size of the substrate, the flatness is preferably 10 μm or less, and the surface roughness Ra is preferably 0.8 μm or less. In particular, the ceramic substrate is preferably a ceramic multilayer wiring substrate.
This is because the internal conductor wiring (also referred to as internal wiring) can be routed and taken out to another electrode for easy inspection in the substrate.

【0014】さらに、上記治具においては、検査用電極
が設けられている一主平面側にチップの位置決め用のマ
ーク(穴やメタライズ層)を形成しておくとよい。この
ようなマークが設けられていれば、これを読み取ること
で治具の検査用電極に対するチップの端子の位置決めが
でき、したがって、チップの実装時と同様に位置決めが
できる。なお、このようなマークは、治具の検査用電極
が設けられている一主平面側において、その外周寄り部
位に3か所以上に分離して設けるのが適切である。
Further, in the above jig, a mark (a hole or a metallized layer) for positioning the chip may be formed on one main plane on which the inspection electrode is provided. If such a mark is provided, by reading the mark, the terminal of the chip can be positioned with respect to the test electrode of the jig, and thus the positioning can be performed in the same manner as when mounting the chip. In addition, it is appropriate that such a mark is provided in three or more places on the one main plane side of the jig where the inspection electrode is provided, near the outer periphery thereof.

【0015】そして、上記のいずれの治具でも、一端
が、前記一主平面の前記検査用電極の群の中央寄り部位
に開口する貫通孔を設けるとよい。このようにしてあれ
ば、検査時において、電子部品チップを位置決めし、そ
の下で、同貫通孔の他端の開口から真空引きすることで
同チップを吸着できるので、検査時におけるチップの移
動防止ないし固定を容易にできるためである。なお、貫
通孔は、治具が絶縁基板からなるものでは、その他端の
開口は検査用電極が設けられている側の主平面と反対側
の主平面とされるのが好ましいが、その他端の開口位置
は治具の構造により適宜に設定すればよい。
[0015] In any of the above jigs, it is preferable that one end is provided with a through hole which is opened at a position near the center of the group of inspection electrodes on the one main plane. With this configuration, the electronic component chip is positioned at the time of inspection, and the chip can be sucked by evacuating from the opening at the other end of the through hole under the chip, thereby preventing movement of the chip during inspection. This is because fixing can be easily performed. In the through hole, when the jig is made of an insulating substrate, the opening at the other end is preferably a main plane opposite to the main plane on which the inspection electrode is provided. The opening position may be appropriately set according to the structure of the jig.

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】本発明の実施の形態例について、
図1〜3を参照して詳細に説明する。図1ないし図3
は、本発明にかかる治具1の一実施形態例を示すもので
ある。この治具1は、フリップチップが搭載されるLG
Aタイプのセラミック製配線基板と同様の平板形状、積
層構造を成し、次のように構成されている。ただし、本
例では詳しくは後述するがアルミナセラミックを主体と
して同時焼成されてなるものである。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments of the present invention will be described.
This will be described in detail with reference to FIGS. 1 to 3
1 shows an embodiment of the jig 1 according to the present invention. This jig 1 is an LG on which a flip chip is mounted.
It has the same plate shape and laminated structure as the A type ceramic wiring board, and is configured as follows. However, in this example, as will be described in detail later, it is made by co-firing mainly alumina ceramic.

【0017】すなわち、本例の治具1は、上部の平坦な
表面(一主平面)2が図2に示したように、検査対象と
されるフリップチップFの載置面とされており、各検査
用電極3,3が、平面視において同チップFの各接続端
子と対面するように、それと同じ微小なピッチP1、配
置で絶縁を確保し、治具1の表面2上に、縦横に多数形
成されている。この検査用電極(群)3は、W(タング
ステン)やMo(モリブデン)などの高融点金属を主成
分とするビア4や内部の導体配線5を介し、治具1の下
部表面(下面)6に導出され、検査用電極3相互間の間
隔(ピッチ)P1より大きな間隔P2で配置された別設
の検査装置接続用の電極7,7にそれぞれ接続されてい
る。本例のように、この電極7,7の間隔P2を大きく
しておくと、この治具1を各種の電気的特性を検査する
検査装置において用いる場合に接続や配線が容易とな
る。
That is, in the jig 1 of this embodiment, the upper flat surface (one main plane) 2 is a mounting surface of the flip chip F to be inspected as shown in FIG. Insulation is ensured at the same fine pitch P1 and arrangement so that the inspection electrodes 3 and 3 face the respective connection terminals of the same chip F in plan view, and are vertically and horizontally placed on the surface 2 of the jig 1. Many are formed. The inspection electrode (group) 3 is connected to a lower surface (lower surface) 6 of the jig 1 via a via 4 mainly composed of a refractory metal such as W (tungsten) or Mo (molybdenum) and an internal conductor wiring 5. And are connected to separate electrodes 7 for connection of inspection devices, which are arranged at an interval P2 larger than the interval (pitch) P1 between the inspection electrodes 3. If the interval P2 between the electrodes 7, 7 is increased as in this example, connection and wiring become easier when the jig 1 is used in an inspection device for inspecting various electrical characteristics.

【0018】さて、このような本例治具1は、複数のセ
ラミック層11〜14を積層、焼結してなると共に(図
2参照)、図3に示したように、表面2すなわち最上層
のセラミック層11の上面11aに、各ビア4の上端に
形成された検査用電極3が形成されている。すなわち、
詳細な製法は後述するが、本例では最上層のセラミック
層11の上面11aは所定の平面度(10μm程度)、
表面粗さ(Ra:0.5μm)となるように焼成後研磨
され、その上面11aの各ビア4の部位に所定の平面形
状(本例では円形)、厚さの平坦な検査用電極3を備え
ている。
The jig 1 of this embodiment is formed by laminating and sintering a plurality of ceramic layers 11 to 14 (see FIG. 2), and as shown in FIG. An inspection electrode 3 formed at the upper end of each via 4 is formed on the upper surface 11 a of the ceramic layer 11. That is,
Although a detailed manufacturing method will be described later, in this example, the upper surface 11a of the uppermost ceramic layer 11 has a predetermined flatness (about 10 μm),
After being baked so as to have a surface roughness (Ra: 0.5 μm), the surface is polished, and an inspection electrode 3 having a predetermined planar shape (circular in this example) and a flat thickness is formed on each upper surface 11 a of each via 4. Have.

【0019】このような検査用電極3の外径D1は例え
ば120μmとされ、検査対象のチップFのハンダバン
プ(端子)Tの基端部の径と略同一に設定されている。
また、検査用電極3は、後述するように形成され、最表
面に本例では硬質Crメッキが厚さ1〜10μmかけら
れ、その硬度がHv500〜1000に確保されてい
る。なお、検査用電極3の厚さ(検査用電極3の上面3
aからセラミック層11の上面11aまでの高さ)は5
〜20μm程度に設定されている。
The outer diameter D1 of the inspection electrode 3 is, for example, 120 μm, and is set to be substantially the same as the diameter of the base end of the solder bump (terminal) T of the chip F to be inspected.
In addition, the inspection electrode 3 is formed as described later, and in this example, hard Cr plating is applied to the outermost surface in a thickness of 1 to 10 μm in this example, and the hardness is secured to Hv 500 to 1000. The thickness of the inspection electrode 3 (the upper surface 3 of the inspection electrode 3)
a to the upper surface 11a of the ceramic layer 11) is 5
It is set to about 20 μm.

【0020】また、治具1の表面2の中央寄り部位であ
ってチップFが搭載されて重ねられる図1中2点鎖線で
示されるチップ搭載エリアEには、治具1の厚さ方向に
貫通する貫通孔8が2か所設けられている(図1及び2
参照)。ただし、その直径は1〜2mm程度とされてい
る。さらに、本例では、フリップチップを搭載する表面
2には検査用電極3と同材質からなる位置決め用マーク
(フィディシャルマーク)9が表面2の外周寄り部位に
複数(本例では4か所)設けられている。このように本
例の治具1は、貫通孔8の存在と検査用電極3の最表面
の硬質メッキを除くと、その材質、構造とも、セラミッ
ク製のLGA配線基板とほぼ同様のものである。
A chip mounting area E indicated by a two-dot chain line in FIG. 1 where the chip F is mounted and overlapped is located near the center of the surface 2 of the jig 1 in the thickness direction of the jig 1. Two through holes 8 are provided (FIGS. 1 and 2).
reference). However, the diameter is about 1 to 2 mm. Further, in this example, a plurality of positioning marks (fiducial marks) 9 made of the same material as that of the inspection electrode 3 are provided on the surface 2 on which the flip chip is mounted (four locations in this example) at a position near the outer periphery of the surface 2. Is provided. As described above, the jig 1 of the present example is almost the same in material and structure as the ceramic LGA wiring board, except for the presence of the through holes 8 and the hard plating on the outermost surface of the inspection electrode 3. .

【0021】このような本形態例の治具1を用いてチッ
プの電気検査をする際には、図4に示したように、その
治具1の外部用の電極7を所定のテストボード201の
各端子(図示せず)にハンダ付けなどにより接続し、リ
レー202、半導体パラメータアナライザ203、コン
トローラ204などを含む所定のチップ検査装置210
に組込み、その下で、検査対象のフリップチップFを治
具1にセットすることで必要な電気検査をすることがで
きる。なお、本例では、治具1の表面2に搭載、セット
されたチップFをその貫通孔8を介して同図中矢印Vで
示したように真空引きして治具1の表面2に吸着するよ
うに、テストボード201には貫通孔8に対応する位置
に吸引用の管路Kが形成されている。そして、治具1の
下面6の外周寄り部位とテストボード201との間には
シール材(図示せず)が介装されて気密が保持されてい
る。
When a chip is inspected using the jig 1 of this embodiment, the external electrodes 7 of the jig 1 are connected to a predetermined test board 201 as shown in FIG. And a predetermined chip inspection device 210 including a relay 202, a semiconductor parameter analyzer 203, a controller 204, and the like.
The required electrical inspection can be performed by setting the flip chip F to be inspected on the jig 1 thereunder. In this example, the chip F mounted and set on the surface 2 of the jig 1 is evacuated through the through hole 8 as shown by an arrow V in FIG. As shown in the drawing, a suction pipe K is formed in the test board 201 at a position corresponding to the through hole 8. A seal (not shown) is interposed between the test board 201 and the outer peripheral portion of the lower surface 6 of the jig 1 to maintain airtightness.

【0022】本例治具1をこのように検査装置に組込ん
でチップFの検査をするに当たっては、治具1にチップ
Fを搭載する際、治具1の4つの位置決め用マーク9の
位置を読取る。この読取りに基づいて各検査用電極3の
位置を検出し、その検出位置にチップFの各バンプTが
正対するようにチップFの位置を修正しながら治具1の
表面2上に正しくセット(載置)し、各バンプTが検査
用電極3に当接するようにする。次いで、矢印Vに示さ
れるように貫通孔8を介してチップFを真空引きする。
すると、チップFは治具1に所定の力Pで吸着され、チ
ップFの全バンプTの頂部(先端)が各検査用電極3に
圧接される。こうして、チップFのハンダバンプTと治
具1の検査用電極3との導通が確保される結果、チップ
Fの電気検査はワイヤボンディングタイプのものやTA
Bタイプのものと同様、本例の治具1を介して配線基板
への搭載前にそれ単独で行うことができる。
In mounting the chip F on the jig 1 by assembling the jig 1 into the inspection apparatus as described above, the position of the four positioning marks 9 of the jig 1 is set. Is read. Based on this reading, the position of each test electrode 3 is detected, and the position of the chip F is corrected so that each bump T of the chip F faces the detected position, and is correctly set on the surface 2 of the jig 1 ( Mounting) so that each bump T comes into contact with the inspection electrode 3. Next, the chip F is evacuated through the through hole 8 as shown by an arrow V.
Then, the chip F is attracted to the jig 1 with a predetermined force P, and the tops (tips) of all the bumps T of the chip F are pressed against the respective test electrodes 3. Thus, conduction between the solder bump T of the chip F and the inspection electrode 3 of the jig 1 is ensured. As a result, the electrical inspection of the chip F is performed by a wire bonding type or a TA.
Like the B type, it can be performed alone before mounting on the wiring board via the jig 1 of this example.

【0023】この際、本例治具1においてはその検査用
電極3の表面にHv500〜1000といった高硬度の
硬質Crメッキがかけられているから、検査用電極3が
摩耗することなく、数万個単位の多数のチップを問題な
く検査することができる。すなわち、本例の治具1によ
り、検査用電極3の摩耗を招くことなくバンプTとのプ
ロービィングが可能となるため、従来実現できなかった
チップ単独での電気検査が可能となり、その検査効率の
格段の向上が図られる。しかも、本例治具1は、チップ
Fが搭載されるパッケージと同一のものを利用し、追加
的な加工をすることで形成できるから、チップが実際に
搭載される場合と同一条件での電気検査が低コストで実
現できる。
At this time, in the jig 1 of the present embodiment, the surface of the inspection electrode 3 is coated with a hard Cr plating having a high hardness of 500 to 1000 Hv. A large number of individual chips can be inspected without any problem. In other words, the jig 1 of the present embodiment enables probing with the bump T without causing wear of the inspection electrode 3, so that an electrical inspection using a chip alone, which could not be realized conventionally, becomes possible. Dramatic improvement is achieved. In addition, since the jig 1 of the present embodiment can be formed by using the same package as the package on which the chip F is mounted and by performing additional processing, the electric jig 1 under the same conditions as when the chip is actually mounted is used. Inspection can be realized at low cost.

【0024】なお、この検査ではチップFのハンダバン
プTは、真空引きすることで頂部がやや圧縮変形する
が、その変形が過剰とならないように、図5に示したよ
うに、治具1の表面2とチップFとの間に、ハンダバン
プTの高さの許容最小高さ(又はこの許容最小高さと検
査用電極3の厚さを加えた高さ)よりやや小さい所定の
厚さTaをもつ間隙保持部材(間隙保持手段)Gを介在
させてもよい。すなわちこのような間隙保持部材Gを介
在し、治具1の表面2とチップFとの間隙が一定に保持
されるようにれば、チップFが治具1に載置(セット)
されて吸着され、バンプTの頂部が圧縮変形する際で
も、バンプの高さはその間隙保持部材Gの存在により、
その厚さTaより小さくなることが防止される。因み
に、ハンダバンプの変形は、その高さの2〜50%の範
囲が適切である。変形が2%より小さいと、バンプと検
査用電極との接触圧力が小さくなり、両者間の接触抵抗
が不安定になりやすいし、50%を超えるようだと変形
(潰れ)も大きく、後工程でのパッケージとの接続に支
障が生じるためである。
In this test, the top of the solder bump T of the chip F is slightly compressed and deformed by evacuation. However, as shown in FIG. Having a predetermined thickness Ta slightly smaller than the allowable minimum height of the solder bump T (or the height obtained by adding the allowable minimum height and the thickness of the inspection electrode 3) between the chip 2 and the chip F. A holding member (gap holding means) G may be interposed. That is, if the gap between the surface 2 of the jig 1 and the chip F is kept constant through such a gap holding member G, the chip F is placed (set) on the jig 1.
Even when the top of the bump T is compressed and deformed, the height of the bump is maintained by the presence of the gap holding member G.
It is prevented that the thickness becomes smaller than Ta. Incidentally, the deformation of the solder bump is appropriately in the range of 2 to 50% of its height. If the deformation is smaller than 2%, the contact pressure between the bump and the test electrode is reduced, and the contact resistance between the two is likely to be unstable. If it exceeds 50%, the deformation (crushing) is large, and the post-process is required. This is because there is a problem in connection with the package at the time.

【0025】また、本例では検査用電極3とバンプTと
の電気的導通を確保するため、治具1に貫通孔8を設
け、これを介してチップFを治具1の表面2側に真空引
きして吸着、固定することとしたが、本発明にかかる治
具ではこのような貫通孔8は必須のものではない。すな
わち、その電気的導通は、チップFの自重やそれに錘を
載せることなどによっても確保できるからである。さら
に、本例では治具1の検査用電極3に対するチップFの
バンプTの位置決めをするために、治具1の表面2に位
置決め用マーク9を形成したが、本発明にかかる治具で
はこのような位置きめ用マーク9は必須のものではな
い。このような位置決めは、治具1の検査用電極3にチ
ップのバンプTが正しく対応すればよく、他にも適宜の
手段を用いることができるためである。例えばチップ搭
載エリアEに外接するようにガイド部材(図示せず)を
立設し、これにチップの側縁を内接させるようにして位
置決めすることもできる。
In this embodiment, the jig 1 is provided with a through-hole 8 in order to secure electrical conduction between the inspection electrode 3 and the bump T, and the chip F is placed on the surface 2 of the jig 1 through the through-hole 8. Although suction and fixation are performed by evacuation, such a through hole 8 is not essential in the jig according to the present invention. That is, the electrical continuity can be ensured also by the weight of the chip F and the weight placed on the chip F. Further, in this embodiment, the positioning mark 9 is formed on the front surface 2 of the jig 1 in order to position the bump T of the chip F with respect to the inspection electrode 3 of the jig 1. Such a positioning mark 9 is not essential. Such positioning is performed so long as the bumps T of the chip properly correspond to the test electrodes 3 of the jig 1, and other appropriate means can be used. For example, a guide member (not shown) may be provided upright so as to circumscribe the chip mounting area E, and the chip may be positioned so that the side edge of the chip is inscribed therein.

【0026】さて、次にこのような治具1の製法例につ
いて説明する。まず、セラミック積層タイプのLGA配
線基板を作るのと同様にして図6に示したようなセラミ
ック基板10を次のようにして製造する。アルミナを主
成分とするグリーンシートに検査用電極位置を含め、ビ
アホールを設け、タングステン、モリブデンを主成分と
するメタライズインクを充填し、スクリーン印刷法にて
電気回路パターンを形成し、さらに、真空引用の貫通孔
を開ける。以上の加工を施したグリーンシートを所定枚
数分、積み重ねて積層加工する。そして、下面6の電極
7位置にメタライズインクを塗布しその後、所定温度で
還元雰囲気中にて同時焼成する。こうして、図6に示し
たような検査用電極用のビア4や内部配線5さらには真
空引用の貫通孔8を備えたセラミック基板10をつく
る。このセラミック基板10は多層配線基板となってい
るので、内部配線5の引き回しが容易であり、間隔P2
が大きくされた検査装置用の電極7へ容易に接続でき
る。
Next, an example of a method of manufacturing such a jig 1 will be described. First, a ceramic substrate 10 as shown in FIG. 6 is manufactured in the same manner as in the case of manufacturing a ceramic laminated type LGA wiring substrate. A via hole is provided in a green sheet containing alumina as a main component, including the positions of test electrodes, filled with metallized ink containing tungsten and molybdenum as a main component, an electric circuit pattern is formed by a screen printing method, and further, a vacuum quote A through hole. A predetermined number of the green sheets subjected to the above processing are stacked and laminated. Then, the metallized ink is applied to the position of the electrode 7 on the lower surface 6 and then fired simultaneously at a predetermined temperature in a reducing atmosphere. Thus, a ceramic substrate 10 having the vias 4 for the inspection electrodes and the internal wiring 5 as shown in FIG. Since the ceramic substrate 10 is a multi-layer wiring substrate, it is easy to route the internal wiring 5, and the spacing P2
Can be easily connected to the electrode 7 for the inspection device whose size has been increased.

【0027】次にこのような基板10に検査用電極3及
び位置決め用マーク9を形成する手法について説明す
る。ただし、両者は検査用電極3がビア4の上端部に形
成されるのに対して位置決め用マーク9がこのようなビ
アと関係なく基板10の外周寄り部位の表面に形成され
る点が相違することを除けば、同一断面構造であり同一
工程で形成できるため、以下においては検査用電極の形
成についてのみ説明する。すなわち、図7−Aに示した
ように、検査用電極を形成する基板10の最上層のセラ
ミック層11の表面11aを要求される平面度(例えば
10μm)および表面あらさ(Ra:0.5μm)とな
るように研磨し、ビア4の端面4aを基板表面11aに
露出させる。焼成によって形成されたセラミック基板1
0は若干反り、うねりを有していることが多いが、セラ
ミック基板10の表面11aを研磨して平面とすること
で、検査用電極が平面度の高い平面上に形成でき、チッ
プのバンプとの接続性が良好となる。
Next, a method of forming the inspection electrodes 3 and the positioning marks 9 on such a substrate 10 will be described. However, they differ in that the inspection electrode 3 is formed at the upper end of the via 4, whereas the positioning mark 9 is formed on the surface of the substrate 10 near the outer periphery irrespective of such a via. Except for the above, since they have the same cross-sectional structure and can be formed in the same process, only the formation of the inspection electrode will be described below. That is, as shown in FIG. 7A, the flatness (for example, 10 μm) and the surface roughness (Ra: 0.5 μm) required for the surface 11a of the uppermost ceramic layer 11 of the substrate 10 on which the inspection electrode is formed are required. Then, the end surface 4a of the via 4 is exposed on the substrate surface 11a. Ceramic substrate 1 formed by firing
0 is often slightly warped and has undulation, but the surface 11a of the ceramic substrate 10 is polished to be a flat surface, so that the inspection electrode can be formed on a flat surface having a high degree of flatness, and the bumps of the chip can be formed. Has good connectivity.

【0028】その後、図7−Bに示したように、その表
面11aの全面にセラミック基板10との密着性のよい
Tiを0.2μm程度の厚さにスパッタリングし、その
上に、Cuを0.5μm程度の厚さにスパッタリング
し、Ti層51、Cu層52を形成する。次いでその上
にレジスト(感光性樹脂)53を塗布し(図7−C参
照)、露光・現像して検査用電極の形成部分を開口させ
る(図7−D参照)。なお、この際には位置決め用マー
クの形成部位も開口させる。
Thereafter, as shown in FIG. 7-B, Ti having good adhesion to the ceramic substrate 10 is sputtered to a thickness of about 0.2 μm on the entire surface 11a, and Cu is reduced to 0 μm. A Ti layer 51 and a Cu layer 52 are formed by sputtering to a thickness of about 0.5 μm. Next, a resist (photosensitive resin) 53 is applied thereon (see FIG. 7-C), and is exposed and developed to open an inspection electrode formation portion (see FIG. 7-D). At this time, the position for forming the positioning mark is also opened.

【0029】次に、その検査用電極部位(及び位置決め
用マーク部位)にCuメッキを厚さ3μm、Niメッキ
を厚さ1μm程度かけ、Cu層54、Ni層55を形成
し、最後に所定の硬度(例えばHv500〜1000)
となる硬質Crメッキを厚さ1〜5μm程度かけ、最表
面に硬質メッキ層としてCr層56を形成する(図7−
E参照)。そして、レジスト53を剥離し除去する(図
7−F参照)。さらに、基板表面11a上のTi層5
1、Cu層52を所定のエッチング液でエッチングして
除去すると、図7−Gに示したように、基板表面11a
には、Ti、Cu、Cu、Niさらには硬質Crの各層
からなる検査用電極(パッド)3及び位置決め用マーク
(図示せず)が形成される。
Next, Cu plating is applied to a thickness of 3 μm and Ni plating is applied to a thickness of about 1 μm on the inspection electrode portion (and the positioning mark portion) to form a Cu layer 54 and a Ni layer 55. Hardness (for example, Hv 500 to 1000)
And a Cr layer 56 is formed on the outermost surface as a hard plating layer.
E). Then, the resist 53 is peeled and removed (see FIG. 7F). Further, the Ti layer 5 on the substrate surface 11a
1. When the Cu layer 52 is removed by etching with a predetermined etching solution, as shown in FIG.
In this case, an inspection electrode (pad) 3 and a positioning mark (not shown) formed of each layer of Ti, Cu, Cu, Ni and hard Cr are formed.

【0030】なお、上記の形態例においてこのような位
置決め用マークを設けず、しかも要求される検査用電極
3の面積(直径)が小さい場合には、このような手法に
よることなく、基板表面11aに、露出しているビア4
の端面4aに、表面11aの研磨後、或いは研磨するこ
となく直接、Niメッキをかけ、その上に硬質Crメッ
キをかけることで表面に硬質メッキをかけてなる検査用
電極としてもよい。
In the above embodiment, when such a positioning mark is not provided and the required area (diameter) of the inspection electrode 3 is small, the substrate surface 11a is not used by such a method. The exposed via 4
The end surface 4a may be subjected to Ni plating directly after polishing of the surface 11a or without polishing, and hard Cr plating may be applied thereon to form an inspection electrode in which the surface is hard plated.

【0031】因みに、このようにビア4の端面4aに直
接、Niメッキ、硬質Crメッキをかけるような場合に
おいて位置決め用マークを設ける場合には、次のように
設けるとよい。すなわち基板表面11aを研磨しない場
合には、最上層のセラミック層をなすグリーンシートの
上面に位置決め用マークのためのメタライズペーストを
印刷しておき、同時焼成後、同マークにも検査用電極と
同時にメッキをかけるのである。また、基板表面11a
を研磨する場合には、位置決め用マークの上面が基板1
0の表面11aより低位となるように、その表面11a
を形成するセラミック層11よりも下のセラミック層
(グリーンシート)の上面にマーク用のメタライズペー
ストを印刷しておくとともに、同マークが形成されたセ
ラミック層より上のセラミック層に、同マークが露出す
るように開口を設けておき、積層、焼成するのである。
このようにしておけば、研磨しても同マーク用のメタラ
イズが消失しないためである。
Incidentally, in the case where the Ni 4 plating or the hard Cr plating is directly applied to the end face 4a of the via 4 as described above, it is preferable to provide the positioning mark as follows. That is, when the substrate surface 11a is not polished, a metallizing paste for a positioning mark is printed on the upper surface of the green sheet forming the uppermost ceramic layer, and after the simultaneous firing, the same mark is simultaneously printed on the same mark as the inspection electrode. It is plated. Also, the substrate surface 11a
When polishing, the upper surface of the positioning mark is
0 so that the surface 11a is lower than the surface 11a.
Is printed on the upper surface of the ceramic layer (green sheet) below the ceramic layer 11 forming the mark, and the mark is exposed on the ceramic layer above the ceramic layer on which the mark is formed. An opening is provided, and lamination and firing are performed.
This is because the metallization for the mark does not disappear even if it is polished.

【0032】上記形態例では、検査用電極3の表面の硬
質メッキとして硬質Crメッキをかけたが、本発明にお
ける硬質メッキは、もちろんこれに限定されない。すな
わち、Hv500以上あり、多数のチップを検査しても
検査用電極の摩耗がないものであればよく、この他パラ
ジウム、ロジウム、硬質Auの各メッキが代表的なもの
として例示される。なお、このような硬質メッキも、図
7−EにおけるNiメッキの後にかけ、その後でレジス
ト53を剥離し、表面のCu層52、Ti層51をエッ
チングにより除去すればよいが、これに限定されるもの
ではない。治具を形成する絶縁材が樹脂であり検査用電
極がCuである場合には、その上にNiメッキ及び硬質
Crメッキをかけてもよいし、検査用電極の素地(C
u)の上に直接硬質Crメッキをかけてもよい。なお、
このような硬質メッキは複数層かけてもよいことはいう
までもない。また、硬質メッキの厚さは、なるべく厚め
とするのが好ましいが、メッキの種類や硬度或いは必要
な耐摩耗性などに応じて適宜に設定すればよい。
In the above embodiment, the hard Cr plating is applied as the hard plating on the surface of the inspection electrode 3, but the hard plating in the present invention is not limited to this. That is, Hv 500 or more is sufficient as long as the electrodes for inspection are not worn even when a large number of chips are inspected. In addition, each plating of palladium, rhodium, and hard Au is exemplified as a typical example. In addition, such hard plating may be applied after Ni plating in FIG. 7-E, then the resist 53 may be peeled off, and the Cu layer 52 and the Ti layer 51 on the surface may be removed by etching, but it is not limited thereto. Not something. When the insulating material forming the jig is resin and the inspection electrode is Cu, Ni plating and hard Cr plating may be applied thereon, or the base of the inspection electrode (C
u) may be directly plated with hard Cr. In addition,
Needless to say, a plurality of such hard platings may be applied. The thickness of the hard plating is preferably as large as possible, but may be appropriately set according to the type and hardness of the plating or the required wear resistance.

【0033】上記では、フリップチップに接続端子とし
てハンダバンプが形成されているものを検査する治具と
して説明したが、Auバンプが形成されているチップを
検査する治具としても使用できることは明らかである。
バンプの種類や形成方法に応じてその形状、大きさが異
なることから、検査用電極のピッチ、大きさは、バンプ
のそれらが正しく対応するように適宜に設計すればよ
い。
In the above description, a jig for inspecting a flip chip on which solder bumps are formed as connection terminals has been described. However, it can be obviously used as a jig for inspecting a chip on which Au bumps are formed. .
Since the shape and size of the bumps vary depending on the type and formation method of the bumps, the pitch and size of the test electrodes may be appropriately designed so that those of the bumps correspond properly.

【0034】なお、上記においては治具の材質、構造
を、LGA配線基板と同様のセラミック多層配線層構造
の平板形状としたが、本発明に係る治具においては、そ
の材質、構造ないし形状は上記のものに限定されるもの
ではない。セラミック以外の適宜の絶縁材(例えば樹
脂)で、適宜の構造、形状のものとして具体化できる。
要求される平面度、表面粗さが確保されるように、適宜
の材質、構造を選定すればよい。さらに、検査用電極の
平面形状は円形に限定されるものではない。
In the above description, the material and structure of the jig are flat plates having the same ceramic multilayer wiring layer structure as that of the LGA wiring board. However, in the jig according to the present invention, the material, structure or shape is It is not limited to the above. It can be embodied as a material having an appropriate structure and shape using an appropriate insulating material (for example, resin) other than ceramic.
An appropriate material and structure may be selected so as to ensure required flatness and surface roughness. Further, the planar shape of the inspection electrode is not limited to a circle.

【0035】また、治具における検査装置との接続用の
別設の検査装置接続用の電極は、検査対象のチップの載
置面と反対側の主平面に形成したが、この位置は、治具
を平板形状とする場合でも、その側面に導出することも
できるし、治具自体を十分大きくすれば検査用電極の形
成面と同一面に形成しても良いなど、治具の形態、構造
に応じ、さらには治具が接続される検査装置側のテスト
ボードなどに応じて適宜に設計すればよい。そして、検
査装置との接続用の電極の形態は、上記においてはLG
A配線基板と同様の電極(パッド)としたが、このよう
な電極にピンをロー付けしてPGA(ピングリッドアレ
イ)配線基板と同様の構造にしておき、検査装置側のテ
ストボードなどへの接続をプラグイン方式としておいて
もよい。
Further, an electrode for connecting a separate inspection device for connection with the inspection device in the jig is formed on the main plane opposite to the mounting surface of the chip to be inspected. Even when the jig has a flat plate shape, it can be led out to the side surface, and if the jig itself is made sufficiently large, it may be formed on the same surface as the inspection electrode formation surface. May be appropriately designed according to the test board of the inspection apparatus to which the jig is connected. And the form of the electrode for connection with the inspection device is LG
The electrodes (pads) were the same as those of the A-wiring board, but pins were soldered to such electrodes to have a structure similar to that of a PGA (pin grid array) wiring board, and a test board or the like for the inspection apparatus was used. The connection may be of a plug-in type.

【0036】なお上記においては、本発明の治具を用い
たフリップチップの検査装置として、半導体パラメータ
アナライザによる検査を行う装置を例示したが、本発明
の治具はこれ以外の装置にも用いることができる。フリ
ップチップの各種の電気的特性や論理的動作の検査等、
フリップチップ単体での特性の検査をバンプを介して電
気的に行う装置であれば、いずれの装置においても使用
できる。本発明は、上記の形態例に限定されるものでは
なく、その要旨を逸脱しない範囲において、種々、設計
変更して実施できる。
In the above description, as an example of a flip chip inspection apparatus using the jig of the present invention, an apparatus for performing an inspection using a semiconductor parameter analyzer is illustrated. However, the jig of the present invention may be used for other apparatuses. Can be. Inspection of various electrical characteristics and logical operation of flip chip, etc.
Any device can be used as long as it is a device that electrically inspects the characteristics of a flip chip alone via bumps. The present invention is not limited to the above embodiment, and can be implemented with various design changes without departing from the spirit of the invention.

【0037】[0037]

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
に係る電子部品チップ検査用治具によれば、多数のチッ
プの電気検査にも支障がない。しかも、配線基板への搭
載前にフリップチップ単体でその電気検査を行うことが
できる。したがって、検査効率が格段と向上する上に、
パッケージの歩留まりの向上と共にチップの搭載工程の
無駄がなくなり、ひいてはIC装置の信頼性の向上も期
待される。
As is apparent from the above description, the jig for inspecting electronic component chips according to the present invention does not hinder the electrical inspection of many chips. In addition, the electrical inspection can be performed on the flip chip alone before mounting on the wiring board. Therefore, while the inspection efficiency is significantly improved,
With the improvement of the package yield, the waste of the chip mounting process is eliminated, and the reliability of the IC device is expected to be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係る電子部品チップ検査用治具の一実
施形態の概略構成斜視図。
FIG. 1 is a schematic configuration perspective view of an embodiment of an electronic component chip inspection jig according to the present invention.

【図2】図1の拡大断面図。FIG. 2 is an enlarged sectional view of FIG.

【図3】図2におけるA部拡大図。FIG. 3 is an enlarged view of a portion A in FIG. 2;

【図4】図1〜3の電子部品チップ検査用治具を用いた
フリップチップ検査装置の説明図及びその検査の状態の
説明図。
FIG. 4 is an explanatory view of a flip chip inspection apparatus using the electronic component chip inspection jig of FIGS.

【図5】治具の表面とチップとの間に間隙保持部材を介
在させた図。
FIG. 5 is a diagram in which a gap holding member is interposed between the surface of the jig and the chip.

【図6】図1の治具をなすセラミック基板の断面図。FIG. 6 is a sectional view of a ceramic substrate forming the jig of FIG. 1;

【図7】図1〜3の治具の製造工程図。FIG. 7 is a manufacturing process diagram of the jig of FIGS.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 電子部品チップ検査用治具 2 表面(主平面) 3 検査用電極 4 ビア 5 内部の導体配線 7 別設の電極 8 貫通孔 9 位置決め用マーク 10 セラミック基板をなす多層配線基板 11a セラミック基板の表面 F フリップチップ T フリップチップのハンダバンプ(接続端子) P1 検査用電極相互の間隔 P2 別設の電極の間隔 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Jig for electronic component chip inspection 2 Surface (main plane) 3 Inspection electrode 4 Via 5 Internal conductor wiring 7 Separate electrode 8 Through hole 9 Positioning mark 10 Multilayer wiring substrate forming ceramic substrate 11a Surface of ceramic substrate F Flip chip T Flip chip solder bump (connection terminal) P1 Spacing between test electrodes P2 Spacing between separate electrodes

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 電子部品チップの電気検査を行うために
その接続端子を接触させる検査用電極が一主平面上に絶
縁を確保して多数形成されていると共に、その検査用電
極は、内部の導体配線を介して別設の電極に接続されて
なり、しかも、前記検査用電極は表面に硬度がHv50
0以上の硬質メッキがかけられていることを特徴とする
電子部品チップ検査用治具。
1. A large number of test electrodes for contacting connection terminals thereof for performing an electric test of an electronic component chip are formed on one main plane while ensuring insulation. The test electrode is connected to a separate electrode via conductor wiring, and the surface of the test electrode has a hardness of Hv50.
A jig for inspecting an electronic component chip, wherein the jig is subjected to hard plating of 0 or more.
【請求項2】 前記検査用電極が絶縁基板の一方の主平
面に設けられていると共に、前記別設の電極が該絶縁基
板の他方の主平面に前記検査用電極相互の間隔よりも大
きい間隔で設けられていることを特徴とする請求項1記
載の電子部品チップ検査用治具。
2. The inspection electrode is provided on one main plane of an insulating substrate, and the separate electrode is provided on the other main plane of the insulating substrate at a distance larger than a distance between the inspection electrodes. The electronic component chip inspection jig according to claim 1, wherein the jig is provided with:
【請求項3】 前記絶縁基板がセラミック多層配線基板
からなることを特徴とする請求項2記載の電子部品チッ
プ検査用治具。
3. The jig for inspecting an electronic component chip according to claim 2, wherein said insulating substrate comprises a ceramic multilayer wiring substrate.
【請求項4】 前記検査用電極が設けられている一主平
面に、電子部品チップの位置決め用マークが形成されて
いることを特徴とする請求項1、2又は3記載の電子部
品チップ検査用治具。
4. The electronic component chip inspection device according to claim 1, wherein a positioning mark for the electronic component chip is formed on one principal plane on which the inspection electrode is provided. jig.
【請求項5】 一端が、前記一主平面であって前記検査
用電極群の中央寄り部位において開口する貫通孔が設け
られていることを特徴とする請求項1、2、3又は4記
載の電子部品チップ検査用治具。
5. The device according to claim 1, wherein one end is provided with a through hole which is the one main plane and is opened at a position near the center of the test electrode group. Jig for electronic component chip inspection.
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