JPH1161099A - ガラス用補修剤 - Google Patents
ガラス用補修剤Info
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- JPH1161099A JPH1161099A JP10051006A JP5100698A JPH1161099A JP H1161099 A JPH1161099 A JP H1161099A JP 10051006 A JP10051006 A JP 10051006A JP 5100698 A JP5100698 A JP 5100698A JP H1161099 A JPH1161099 A JP H1161099A
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- meth
- resin
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- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】自動車、鉄道車両などの窓ガラスの欠損部など
に好適に使用できる近赤外光硬化型のガラス用補修剤を
提供する。 【解決手段】ウレタンアクリレ−ト樹脂（Ａ）、重合性
不飽和化合物（Ｂ）、及び近赤外光重合開始剤（Ｃ）を
含有し、樹脂（Ａ）と化合物（Ｂ）の重量固形分比が９
０／１０〜３／９７である。
に好適に使用できる近赤外光硬化型のガラス用補修剤を
提供する。 【解決手段】ウレタンアクリレ−ト樹脂（Ａ）、重合性
不飽和化合物（Ｂ）、及び近赤外光重合開始剤（Ｃ）を
含有し、樹脂（Ａ）と化合物（Ｂ）の重量固形分比が９
０／１０〜３／９７である。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ガラス用補修剤に
関し、特に自動車、鉄道車両などの窓ガラスの欠損部な
どに好適に使用できる近赤外光硬化型のガラス用補修剤
に関する。
関し、特に自動車、鉄道車両などの窓ガラスの欠損部な
どに好適に使用できる近赤外光硬化型のガラス用補修剤
に関する。
【０００２】
【従来技術及びその課題】近年、自動車のフロントガラ
スには、安全性を向上させるために高価な合わせガラス
が使用されている。この合わせガラスは２枚の板ガラス
の間に透明の薄いポリマ−膜を挟んだもので割れにくい
ものであるが、路上の砂利や小石が衝突して表面のガラ
スに傷やヒビが入ることは防止できない。フロントガラ
スにヒビが入った場合には、フロントガラスを全面交換
しなければならず経済的負担が大きくなるという問題が
あった。
スには、安全性を向上させるために高価な合わせガラス
が使用されている。この合わせガラスは２枚の板ガラス
の間に透明の薄いポリマ−膜を挟んだもので割れにくい
ものであるが、路上の砂利や小石が衝突して表面のガラ
スに傷やヒビが入ることは防止できない。フロントガラ
スにヒビが入った場合には、フロントガラスを全面交換
しなければならず経済的負担が大きくなるという問題が
あった。
【０００３】これに対し、フロントガラスの傷口からガ
ラス内に樹脂注入物を注入しこれを硬化させ修復箇所を
磨いて補修することが提案されており、かかる注入物と
しては、速硬化性、無溶剤型、一液型であるなどの理由
で、従来、紫外線硬化型の樹脂液が用いられてきた。
ラス内に樹脂注入物を注入しこれを硬化させ修復箇所を
磨いて補修することが提案されており、かかる注入物と
しては、速硬化性、無溶剤型、一液型であるなどの理由
で、従来、紫外線硬化型の樹脂液が用いられてきた。
【０００４】しかしながら紫外線硬化型の場合、ヒビが
深いと内部に紫外線が透過せず表面しか硬化しないため
深部の硬化性に劣り、また屋外使用に供すると残存二重
結合のため耐候性、耐黄変性などが十分でなく、耐候性
確保のために紫外線吸収剤等を配合すると、これが硬化
時の紫外光を吸収してしまい硬化性が低下するため、紫
外線吸収剤等が配合できないという不具合があった。
深いと内部に紫外線が透過せず表面しか硬化しないため
深部の硬化性に劣り、また屋外使用に供すると残存二重
結合のため耐候性、耐黄変性などが十分でなく、耐候性
確保のために紫外線吸収剤等を配合すると、これが硬化
時の紫外光を吸収してしまい硬化性が低下するため、紫
外線吸収剤等が配合できないという不具合があった。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記問題
を解決すべく鋭意検討した結果、上記樹脂注入物として
特定の組成の近赤外光硬化型の補修剤を用いることによ
り、ヒビの深部まで十分に硬化し、耐候性、耐黄変性に
優れ、また硬化性を低下させることなく紫外線吸収剤等
も配合可能であることを見出し本発明に到達した。
を解決すべく鋭意検討した結果、上記樹脂注入物として
特定の組成の近赤外光硬化型の補修剤を用いることによ
り、ヒビの深部まで十分に硬化し、耐候性、耐黄変性に
優れ、また硬化性を低下させることなく紫外線吸収剤等
も配合可能であることを見出し本発明に到達した。
【０００６】即ち本発明は、ウレタンアクリレ−ト樹脂
（Ａ）、重合性不飽和化合物（Ｂ）、及び近赤外光重合
開始剤（Ｃ）を含有し、樹脂（Ａ）と化合物（Ｂ）の重
量固形分比が９０／１０〜３／９７であることを特徴と
する近赤外光硬化型ガラス用補修剤を提供するものであ
る。
（Ａ）、重合性不飽和化合物（Ｂ）、及び近赤外光重合
開始剤（Ｃ）を含有し、樹脂（Ａ）と化合物（Ｂ）の重
量固形分比が９０／１０〜３／９７であることを特徴と
する近赤外光硬化型ガラス用補修剤を提供するものであ
る。
【０００７】以下、本発明を詳細に説明する。
【０００８】本発明で使用しうるウレタンアクリレ−ト
樹脂（Ａ）は、１分子中に少なくとも１個以上の（メ
タ）アクリロイル基を有するウレタン樹脂であり、例え
ば（ｉ）ポリオ−ルとポリイソシアネ−ト化合物とを反
応させて得られるポリウレタンポリオ−ルにイソシアネ
−ト基含有（メタ）アクリレ−トモノマ−を反応させ
る、（ii）ポリオ−ルとポリイソシアネ−ト化合物とを
反応させて得られるポリウレタンポリイソシアネ−トに
ヒドロキシル基含有（メタ）アクリレ−トモノマ−を反
応させる、などの公知の方法により製造されるものが挙
げられる。
樹脂（Ａ）は、１分子中に少なくとも１個以上の（メ
タ）アクリロイル基を有するウレタン樹脂であり、例え
ば（ｉ）ポリオ−ルとポリイソシアネ−ト化合物とを反
応させて得られるポリウレタンポリオ−ルにイソシアネ
−ト基含有（メタ）アクリレ−トモノマ−を反応させ
る、（ii）ポリオ−ルとポリイソシアネ−ト化合物とを
反応させて得られるポリウレタンポリイソシアネ−トに
ヒドロキシル基含有（メタ）アクリレ−トモノマ−を反
応させる、などの公知の方法により製造されるものが挙
げられる。
【０００９】上記樹脂（Ａ）の製造に使用されるポリオ
−ルとしては、例えばエチレングリコ−ル、プロピレン
グリコ−ル、ブチレングリコ−ル、ネオペンチルグリコ
−ル、１，６−ヘキサンジオ−ル、トリメチロ−ルプロ
パン、グリセリン、ペンタエリスリト−ル、ポリカプロ
ラクトンジオ−ル、ポリエステルポリオ−ル、ポリエ−
テルポリオ−ルなどが挙げられる。ポリイソシアネ−ト
化合物としては、例えばヘキサメチレンジイソシアネ−
ト、トリメチレンジイソシアネ−ト、１，４−テトラメ
チレンジイソシアネ−ト、ペンタメチレンジイソシアネ
−ト、リジンジイソシアネ−トなどの脂肪族ジイソシア
ネ−ト類、イソホロンジイソシアネ−ト、４，４´−メ
チレンビス（シクロヘキシルイソシアネ−ト）などの脂
環族ジイソシアネ−ト類、これらのジイソシアネ−トの
ビュレットタイプ付加物やイソシアヌレ−ト環タイプ付
加物などが挙げられる。
−ルとしては、例えばエチレングリコ−ル、プロピレン
グリコ−ル、ブチレングリコ−ル、ネオペンチルグリコ
−ル、１，６−ヘキサンジオ−ル、トリメチロ−ルプロ
パン、グリセリン、ペンタエリスリト−ル、ポリカプロ
ラクトンジオ−ル、ポリエステルポリオ−ル、ポリエ−
テルポリオ−ルなどが挙げられる。ポリイソシアネ−ト
化合物としては、例えばヘキサメチレンジイソシアネ−
ト、トリメチレンジイソシアネ−ト、１，４−テトラメ
チレンジイソシアネ−ト、ペンタメチレンジイソシアネ
−ト、リジンジイソシアネ−トなどの脂肪族ジイソシア
ネ−ト類、イソホロンジイソシアネ−ト、４，４´−メ
チレンビス（シクロヘキシルイソシアネ−ト）などの脂
環族ジイソシアネ−ト類、これらのジイソシアネ−トの
ビュレットタイプ付加物やイソシアヌレ−ト環タイプ付
加物などが挙げられる。
【００１０】上記樹脂（Ａ）の製造法（ｉ）に使用され
るイソシアネ−ト基含有（メタ）アクリレ−トモノマ−
としては、例えばイソシアネ−トエチル（メタ）アクリ
レ−ト、イソシアネ−トプロピル（メタ）アクリレ−
ト、さらにヒドロキシエチル（メタ）アクリレ−ト等の
活性水素含有重合性モノマ−にヘキサメチレンジイソシ
アネ−ト等のポリイソシアネ−ト化合物を付加してなる
不飽和化合物などが挙げられる。また上記樹脂（Ａ）の
製造法（ii）に使用されるヒドロキシル基含有（メタ）
アクリレ−トモノマ−としては例えばヒドロキシエチル
（メタ）アクリレ−ト、ヒドロキシプロピル（メタ）ア
クリレ−ト等の（メタ）アクリル酸のＣ２〜Ｃ８のヒド
ロキシアルキルエステル、ポリアルキレングリコ−ルモ
ノ（メタ）アクリレ−ト、及びこれらモノマ−とε−カ
プロラクトンとの付加物などが挙げられる。
るイソシアネ−ト基含有（メタ）アクリレ−トモノマ−
としては、例えばイソシアネ−トエチル（メタ）アクリ
レ−ト、イソシアネ−トプロピル（メタ）アクリレ−
ト、さらにヒドロキシエチル（メタ）アクリレ−ト等の
活性水素含有重合性モノマ−にヘキサメチレンジイソシ
アネ−ト等のポリイソシアネ−ト化合物を付加してなる
不飽和化合物などが挙げられる。また上記樹脂（Ａ）の
製造法（ii）に使用されるヒドロキシル基含有（メタ）
アクリレ−トモノマ−としては例えばヒドロキシエチル
（メタ）アクリレ−ト、ヒドロキシプロピル（メタ）ア
クリレ−ト等の（メタ）アクリル酸のＣ２〜Ｃ８のヒド
ロキシアルキルエステル、ポリアルキレングリコ−ルモ
ノ（メタ）アクリレ−ト、及びこれらモノマ−とε−カ
プロラクトンとの付加物などが挙げられる。
【００１１】上記ウレタンアクリレ−ト樹脂（Ａ）の数
平均分子量は、３００〜１０，０００、好ましくは５０
０〜２，０００であることが好適である。該数平均分子
量が３００未満では、耐候性が低下する恐れがあり、一
方１０，０００を越えると高粘度となり補修作業性の面
から好ましくない。
平均分子量は、３００〜１０，０００、好ましくは５０
０〜２，０００であることが好適である。該数平均分子
量が３００未満では、耐候性が低下する恐れがあり、一
方１０，０００を越えると高粘度となり補修作業性の面
から好ましくない。
【００１２】本発明で使用しうる重合性不飽和化合物
（Ｂ）としては、エチレン性不飽和基を有するモノマ−
もしくはオリゴマ−であり、例えばエチル（メタ）アク
リレ−ト、ブチル（メタ）アクリレ−ト、２−エチルヘ
キシル（メタ）アクリレ−ト、シクロヘキシル（メタ）
アクリレ−ト、イソボルニル（メタ）アクリレ−ト、ノ
ルボルニル（メタ）アクリレ−ト、アダマンチル（メ
タ）アクリレ−ト、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレ
−ト、トリメチロ−ルプロパントリ（メタ）アクリレ−
ト、テトラメチロ−ルメタンテトラ（メタ）アクリレ−
ト、テトラメチロ−ルメタンテトラ（メタ）アクリレ−
ト、ジペンタエリスリト−ル（メタ）アクリレ−ト、ト
リシクロデカンジメタノ−ルジ（メタ）アクリレ−ト、
２，２−ビス（４−（３−メタクリロキシ−２−ヒドロ
キシプロポキシ）−フェニル）プロパン、ジ（メタクリ
ロキシエチル）トリメチルヘキサメチレンジウレタン、
２，２−ビス（４−メタクリロキシポリエトキシフェニ
ル）プロパンなどの１価又は多価アルコ−ルの（メタ）
アクリル酸エステル；フェノ−ルエチレンオキサイド変
性（メタ）アクリレ−ト、ブトキシエチル（メタ）アク
リレ−ト、フェノキシエチル（メタ）アクリレ−ト、２
−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリ
レ−ト；エチレングリコ−ルジマレ−ト、プロピレング
リコ−ルジイタコネ−トなど；４−（メタ）アクリロイ
ルオキシメトキシカルボニルフタル酸、４−（メタ）ア
クリロイルオキシエトキシカルボニルフタル酸などの４
−（メタ）アクリロイルオキシル基含有芳香族ポリカル
ボン酸及びその酸無水物；スチレン、α−メチルスチレ
ン、クロロスチレン、ビニルトルエン、ｔ−ブチルスチ
レン、ジビニルベンゼンなどの芳香族ビニル化合物；ジ
アリルフタレ−ト、ジアリルイソフタレ−ト、トリアリ
ルフタレ−ト；アクリロイルモルホリン、Ｎ−ビニルピ
ロリドン、Ｎ−ビニルカプロラクタム、ジアセトンアク
リルアミド；エポキシアクリレ−ト、ポリエステルアク
リレ−ト、ポリジメチルシリコンジ（メタ）アクリレ−
トなどが挙げられ、これらは１種又は２種以上併用して
使用できる。さらに化合物（Ｂ）として、ガラスとの密
着性向上の点から、アルコキシシリル基含有モノマ−が
使用でき、該モノマ−としては、例えばビニルトリエト
キシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリス
（メトキシエトキシ）シラン、γ−（メタ）アクリロイ
ルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−（メタ）ア
クリロイルオキシプロピルフェニルメチルメトキシシラ
ン、２−スチリルエチルトリメトキシシラン、及びこれ
らにメチルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシ
シランなどのアルコキシシラン化合物を反応させてなる
シロキサン系マクロモノマ−などが挙げられる。
（Ｂ）としては、エチレン性不飽和基を有するモノマ−
もしくはオリゴマ−であり、例えばエチル（メタ）アク
リレ−ト、ブチル（メタ）アクリレ−ト、２−エチルヘ
キシル（メタ）アクリレ−ト、シクロヘキシル（メタ）
アクリレ−ト、イソボルニル（メタ）アクリレ−ト、ノ
ルボルニル（メタ）アクリレ−ト、アダマンチル（メ
タ）アクリレ−ト、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレ
−ト、トリメチロ−ルプロパントリ（メタ）アクリレ−
ト、テトラメチロ−ルメタンテトラ（メタ）アクリレ−
ト、テトラメチロ−ルメタンテトラ（メタ）アクリレ−
ト、ジペンタエリスリト−ル（メタ）アクリレ−ト、ト
リシクロデカンジメタノ−ルジ（メタ）アクリレ−ト、
２，２−ビス（４−（３−メタクリロキシ−２−ヒドロ
キシプロポキシ）−フェニル）プロパン、ジ（メタクリ
ロキシエチル）トリメチルヘキサメチレンジウレタン、
２，２−ビス（４−メタクリロキシポリエトキシフェニ
ル）プロパンなどの１価又は多価アルコ−ルの（メタ）
アクリル酸エステル；フェノ−ルエチレンオキサイド変
性（メタ）アクリレ−ト、ブトキシエチル（メタ）アク
リレ−ト、フェノキシエチル（メタ）アクリレ−ト、２
−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリ
レ−ト；エチレングリコ−ルジマレ−ト、プロピレング
リコ−ルジイタコネ−トなど；４−（メタ）アクリロイ
ルオキシメトキシカルボニルフタル酸、４−（メタ）ア
クリロイルオキシエトキシカルボニルフタル酸などの４
−（メタ）アクリロイルオキシル基含有芳香族ポリカル
ボン酸及びその酸無水物；スチレン、α−メチルスチレ
ン、クロロスチレン、ビニルトルエン、ｔ−ブチルスチ
レン、ジビニルベンゼンなどの芳香族ビニル化合物；ジ
アリルフタレ−ト、ジアリルイソフタレ−ト、トリアリ
ルフタレ−ト；アクリロイルモルホリン、Ｎ−ビニルピ
ロリドン、Ｎ−ビニルカプロラクタム、ジアセトンアク
リルアミド；エポキシアクリレ−ト、ポリエステルアク
リレ−ト、ポリジメチルシリコンジ（メタ）アクリレ−
トなどが挙げられ、これらは１種又は２種以上併用して
使用できる。さらに化合物（Ｂ）として、ガラスとの密
着性向上の点から、アルコキシシリル基含有モノマ−が
使用でき、該モノマ−としては、例えばビニルトリエト
キシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリス
（メトキシエトキシ）シラン、γ−（メタ）アクリロイ
ルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−（メタ）ア
クリロイルオキシプロピルフェニルメチルメトキシシラ
ン、２−スチリルエチルトリメトキシシラン、及びこれ
らにメチルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシ
シランなどのアルコキシシラン化合物を反応させてなる
シロキサン系マクロモノマ−などが挙げられる。
【００１３】上記樹脂（Ａ）と化合物（Ｂ）の重量固形
分比は、９０／１０〜３／９７、好ましくは５０／５０
〜５／９５である。これよりも樹脂（Ａ）の使用比が小
さいと硬化性が不十分となり、また大きいと高粘度とな
り補修作業性の面から好ましくない。
分比は、９０／１０〜３／９７、好ましくは５０／５０
〜５／９５である。これよりも樹脂（Ａ）の使用比が小
さいと硬化性が不十分となり、また大きいと高粘度とな
り補修作業性の面から好ましくない。
【００１４】本発明に使用される近赤外光重合開始剤
（Ｃ）としては、例えばシアニン系色素、フタロシアニ
ン系色素、ピリリウム系色素、スクアリリウム系色素、
インドフェノ−ル系色素等のカチオン色素類の錯体が使
用でき、具体的には特開昭６２−１４３０４４号、特開
平２−１１６０７号、特開平３−１１１４０２号、特開
平４−７７５０３号、特開平５−１９４６１９号公報等
に開示されている近赤外光吸収性陽イオン染料−ボレ−
ト陰イオン錯体などが挙げられる。
（Ｃ）としては、例えばシアニン系色素、フタロシアニ
ン系色素、ピリリウム系色素、スクアリリウム系色素、
インドフェノ−ル系色素等のカチオン色素類の錯体が使
用でき、具体的には特開昭６２−１４３０４４号、特開
平２−１１６０７号、特開平３−１１１４０２号、特開
平４−７７５０３号、特開平５−１９４６１９号公報等
に開示されている近赤外光吸収性陽イオン染料−ボレ−
ト陰イオン錯体などが挙げられる。
【００１５】該近赤外光吸収性陽イオン染料−ボレ−ト
陰イオン錯体として、具体的には、下記表１〜８のもの
が好適に使用できる。
陰イオン錯体として、具体的には、下記表１〜８のもの
が好適に使用できる。
【００１６】
【表１】
【００１７】
【表２】
【００１８】
【表３】
【００１９】
【表４】
【００２０】
【表５】
【００２１】
【表６】
【００２２】
【表７】
【００２３】
【表８】
【００２４】λは吸収波長を表わす。Ｐｈは、フェニル
基を表わす。ＴＭＰＴはトリメチロ−ルプロパントリメ
タクリレ−トを表わす。
基を表わす。ＴＭＰＴはトリメチロ−ルプロパントリメ
タクリレ−トを表わす。
【００２５】上記近赤外光重合開始剤（Ｃ）の配合量
は、（Ａ）及び（Ｂ）の合計量に対して０．０１〜１０
重量％程度が適当である。
は、（Ａ）及び（Ｂ）の合計量に対して０．０１〜１０
重量％程度が適当である。
【００２６】上記開始剤（Ｃ）には、必要に応じて、テ
トラメチルアンモニウムｎ−ブチルトリフェニルホウ
素、テトラｎ−ブチルアンモニウムｎ−ブチルトリフェ
ニルホウ素、テトラｎ−ブチルフォスフォニウムｎ−ブ
チルトリフェニルホウ素等のホウ素系増感剤、さらにフ
ォスフィン、フォスファイト、フォスフォネ−ト等の酸
素除去剤や３級アミン、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアニリン、
Ｎ，Ｎ，２，４，６−ペンタメチルアニリン等の連鎖移
動剤、有機過酸化物などを併用してもよい。
トラメチルアンモニウムｎ−ブチルトリフェニルホウ
素、テトラｎ−ブチルアンモニウムｎ−ブチルトリフェ
ニルホウ素、テトラｎ−ブチルフォスフォニウムｎ−ブ
チルトリフェニルホウ素等のホウ素系増感剤、さらにフ
ォスフィン、フォスファイト、フォスフォネ−ト等の酸
素除去剤や３級アミン、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアニリン、
Ｎ，Ｎ，２，４，６−ペンタメチルアニリン等の連鎖移
動剤、有機過酸化物などを併用してもよい。
【００２７】本発明の補修剤は上記（Ａ）、（Ｂ）、及
び（Ｃ）成分を必須として含有するものであり、さらに
必要に応じて紫外線吸収剤及び／又は光安定剤を配合す
ることができる。該紫外線吸収剤としては、従来から公
知のものが使用でき、例えばフェニルサリシレ−ト、ｐ
−オクチルフェニルサリシレ−ト、４−ｔｅｒｔ−ブチ
ルフェニルサリシレ−トなどのサリチル酸誘導体；２，
４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４
−メトキシベンゾフェノン、２，２´−ジヒドロキシ−
４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メ
トキシ−２´−カルボキシベンゾフェノン、２−ヒドロ
キシ−４−メトキシ−５−スルホベンゾフェノントリヒ
ドレ−ト、２，２´−ジヒドロキシ−４，４´−ジメト
キシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクトキシ
ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクタデシロキ
シベンゾフェノン、ナトリウム２，２´−ジヒドロキシ
−４，４´−ジメトキシ−５−スルホベンゾフェノン、
２，２´，４，４´−テトラヒドロキシベンゾフェノ
ン、４−ドデシロキシ−２−ヒドロキシベンゾフェノ
ン、５−クロロ−２−ヒドロキシベンゾフェノン、レゾ
ルシノ−ルモノベンゾエ−ト、２，４−ジベンゾイルレ
ゾルシノ−ル、４，６−ジベンゾイルレゾルシノ−ル、
ヒドロキシドデシルベンゾフェノン、２，２´−ジヒド
ロキシ−４（３−メタクリルオキシ−２−ヒドロキシプ
ロポキシ）ベンゾフェノンなどのベンゾフェノン系；２
−（２´−ヒドロキシ−５´−メチルフェニル）ベンゾ
トリアゾ−ルなどのベンゾトリアゾ−ル系及びその他
（シュウ酸アニリド、シアノアクリレ−トなど）の化合
物などが挙げられる。
び（Ｃ）成分を必須として含有するものであり、さらに
必要に応じて紫外線吸収剤及び／又は光安定剤を配合す
ることができる。該紫外線吸収剤としては、従来から公
知のものが使用でき、例えばフェニルサリシレ−ト、ｐ
−オクチルフェニルサリシレ−ト、４−ｔｅｒｔ−ブチ
ルフェニルサリシレ−トなどのサリチル酸誘導体；２，
４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４
−メトキシベンゾフェノン、２，２´−ジヒドロキシ−
４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メ
トキシ−２´−カルボキシベンゾフェノン、２−ヒドロ
キシ−４−メトキシ−５−スルホベンゾフェノントリヒ
ドレ−ト、２，２´−ジヒドロキシ−４，４´−ジメト
キシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクトキシ
ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクタデシロキ
シベンゾフェノン、ナトリウム２，２´−ジヒドロキシ
−４，４´−ジメトキシ−５−スルホベンゾフェノン、
２，２´，４，４´−テトラヒドロキシベンゾフェノ
ン、４−ドデシロキシ−２−ヒドロキシベンゾフェノ
ン、５−クロロ−２−ヒドロキシベンゾフェノン、レゾ
ルシノ−ルモノベンゾエ−ト、２，４−ジベンゾイルレ
ゾルシノ−ル、４，６−ジベンゾイルレゾルシノ−ル、
ヒドロキシドデシルベンゾフェノン、２，２´−ジヒド
ロキシ−４（３−メタクリルオキシ−２−ヒドロキシプ
ロポキシ）ベンゾフェノンなどのベンゾフェノン系；２
−（２´−ヒドロキシ−５´−メチルフェニル）ベンゾ
トリアゾ−ルなどのベンゾトリアゾ−ル系及びその他
（シュウ酸アニリド、シアノアクリレ−トなど）の化合
物などが挙げられる。
【００２８】光安定剤としては、従来から公知のものが
使用でき、主としてヒンダ−ドアミン誘導体であるが、
例えばビス−（２，２´，６，６´−テトラメチル−４
−ピペリジニル）セバテ−ト、４−ベンゾイルオキシ−
２，２´，６，６´−テトラメチルピペリジンなどが好
適である。
使用でき、主としてヒンダ−ドアミン誘導体であるが、
例えばビス−（２，２´，６，６´−テトラメチル−４
−ピペリジニル）セバテ−ト、４−ベンゾイルオキシ−
２，２´，６，６´−テトラメチルピペリジンなどが好
適である。
【００２９】紫外線吸収剤と光安定剤の配合量は、適宜
に選択できるが、組成物中の樹脂固形分１００重量部に
対して、紫外線吸収剤が０．１〜５重量部、好ましくは
０．３〜３重量部、光安定剤が０．１〜５重量部、好ま
しくは０．３〜３重量部が適当である。
に選択できるが、組成物中の樹脂固形分１００重量部に
対して、紫外線吸収剤が０．１〜５重量部、好ましくは
０．３〜３重量部、光安定剤が０．１〜５重量部、好ま
しくは０．３〜３重量部が適当である。
【００３０】本発明補修剤は、さらに必要に応じて表面
調整剤等の添加剤を含有することができる。有機溶剤な
どの揮発成分はできるだけ含有しないことが望ましい。
調整剤等の添加剤を含有することができる。有機溶剤な
どの揮発成分はできるだけ含有しないことが望ましい。
【００３１】本発明補修剤は、ガラスの傷、ヒビの内部
まで注入・充填しやすいように低粘度液とすることが望
ましく、具体的には２００ｍＰａ・ｓ以下の粘度とする
ことが望ましい。
まで注入・充填しやすいように低粘度液とすることが望
ましく、具体的には２００ｍＰａ・ｓ以下の粘度とする
ことが望ましい。
【００３２】上記の通り得られる補修剤は、従来公知の
ガラスの補修方法に準じて使用でき、具体的には該補修
剤を、傷、ヒビの入ったガラス内に注入し浸み込ませ、
近赤外光を照射して硬化せしめ、修復箇所を磨いて、も
との状態にガラスを補修するものである。
ガラスの補修方法に準じて使用でき、具体的には該補修
剤を、傷、ヒビの入ったガラス内に注入し浸み込ませ、
近赤外光を照射して硬化せしめ、修復箇所を磨いて、も
との状態にガラスを補修するものである。
【００３３】補修剤の注入に先立って、損傷部は汚れや
ガラス破片を取り除き、該部を乾燥させておく。注入
時、損傷部内の空気を吸引し脱気・加圧注入したり、ま
た超音波で振動させながら完全に損傷部内を補修剤で充
填する。これをガラスの裏側より亀裂が見えなくなるま
で繰り返す。
ガラス破片を取り除き、該部を乾燥させておく。注入
時、損傷部内の空気を吸引し脱気・加圧注入したり、ま
た超音波で振動させながら完全に損傷部内を補修剤で充
填する。これをガラスの裏側より亀裂が見えなくなるま
で繰り返す。
【００３４】近赤外光の照射に使用する光源としては、
６００〜１５００ｎｍの波長を出すものであれば特に制
限なく使用でき、例えばハロゲンランプ、半導体レ−ザ
−、発光ダイオ−ドなどが挙げられる。照射条件は補修
剤の組成などにより適宜選択することができる。照射
時、ガラスの温度が高くなってしまうので照射部以外は
アルミホイルなどでラッピングする等して断熱すること
が望ましい。
６００〜１５００ｎｍの波長を出すものであれば特に制
限なく使用でき、例えばハロゲンランプ、半導体レ−ザ
−、発光ダイオ−ドなどが挙げられる。照射条件は補修
剤の組成などにより適宜選択することができる。照射
時、ガラスの温度が高くなってしまうので照射部以外は
アルミホイルなどでラッピングする等して断熱すること
が望ましい。
【００３５】
【実施例】以下、実施例を挙げて本発明をさらに詳細に
説明する。尚、「部」及び「％」はそれぞれ「重量部」
及び「重量％」を示す。
説明する。尚、「部」及び「％」はそれぞれ「重量部」
及び「重量％」を示す。
【００３６】実施例１ ウレタンアクリレ−ト（「ＵＸ−２２０１」、日本化薬
社製）３０部、イソボルニルアクリレ−ト５０部、及び
フェノキシエチルアクリレ−ト２０部を混合撹拌し、さ
らに近赤外光吸収性陽イオン染料Ａ（注１）２部、テト
ラｎ−ブチルアンモニウムｎ−ブチルトリフェニルホウ
素５部、Ｎ，Ｎ，２，４，６−ペンタメチルアニリン１
部、紫外線吸収剤「チヌビン１１３０」（チバガイギ−
社製）１部、及び光安定剤「ＨＡＬＳ２９２」（チバガ
イギ−社製）１部を添加・混合してガラス用補修剤を得
た。
社製）３０部、イソボルニルアクリレ−ト５０部、及び
フェノキシエチルアクリレ−ト２０部を混合撹拌し、さ
らに近赤外光吸収性陽イオン染料Ａ（注１）２部、テト
ラｎ−ブチルアンモニウムｎ−ブチルトリフェニルホウ
素５部、Ｎ，Ｎ，２，４，６−ペンタメチルアニリン１
部、紫外線吸収剤「チヌビン１１３０」（チバガイギ−
社製）１部、及び光安定剤「ＨＡＬＳ２９２」（チバガ
イギ−社製）１部を添加・混合してガラス用補修剤を得
た。
【００３７】実施例２〜９及び比較例１、２ 実施例１において、樹脂、モノマ−、開始剤等配合成分
を表９に示す配合組成とする以外は実施例１と同様にし
て各ガラス用補修剤を得た。
を表９に示す配合組成とする以外は実施例１と同様にし
て各ガラス用補修剤を得た。
【００３８】表９中の（注１）〜（注７）は下記の通り
である。
である。
【００３９】（注１）近赤外光吸収性陽イオン染料 Ａ：（吸収波長：８２２ｎｍ）
【００４０】
【化１】
【００４１】Ｂ：（吸収波長：７８７ｎｍ）
【００４２】
【化２】
【００４３】Ｃ：（吸収波長：８７４ｎｍ）
【００４４】
【化３】
【００４５】（注２）ウレタンアクリレ−ト、「ＵＸ−
８１０１」、日本化薬社製 （注３）ウレタンアクリレ−ト、「ＣＮ−９８４」、サ
−トマ−社製 （注４）ウレタンアクリレ−ト、「ＣＮ−９８５」、サ
−トマ−社製 （注５）芳香族アクリレ−ト、「ＣＮ−１３１」、サ−
トマ−社製 （注６）表面調整剤、「ＢＹＫ−３３３」、ビックケミ
−社製 （注７）紫外光開始剤、「Ｉｒｇａｃｕｒｅ−１８
４」、チバガイギ−社製 性能試験 上記で得られた実施例１〜９の各ガラス用補修剤をアル
ミ板をスペ−サ−として厚さ２ｍｍとなるようにガラス
板上に塗布し、透明ＰＥＴフィルムでカバ−をして、次
いでこれに出力１００Ｗのハロゲンランプにて照射距離
１０ｃｍで１０分間照射し、夫々の硬化性について評価
した（○：良好、×：硬化せず）。尚、比較例１，２の
ガラス用補修剤についても、上記ハロゲンランプ照射の
代わりに出力４Ｗのブラックライトにて照射距離１ｃｍ
で１５分間照射する以外は上記と同様の操作により、硬
化性について評価した。
８１０１」、日本化薬社製 （注３）ウレタンアクリレ−ト、「ＣＮ−９８４」、サ
−トマ−社製 （注４）ウレタンアクリレ−ト、「ＣＮ−９８５」、サ
−トマ−社製 （注５）芳香族アクリレ−ト、「ＣＮ−１３１」、サ−
トマ−社製 （注６）表面調整剤、「ＢＹＫ−３３３」、ビックケミ
−社製 （注７）紫外光開始剤、「Ｉｒｇａｃｕｒｅ−１８
４」、チバガイギ−社製 性能試験 上記で得られた実施例１〜９の各ガラス用補修剤をアル
ミ板をスペ−サ−として厚さ２ｍｍとなるようにガラス
板上に塗布し、透明ＰＥＴフィルムでカバ−をして、次
いでこれに出力１００Ｗのハロゲンランプにて照射距離
１０ｃｍで１０分間照射し、夫々の硬化性について評価
した（○：良好、×：硬化せず）。尚、比較例１，２の
ガラス用補修剤についても、上記ハロゲンランプ照射の
代わりに出力４Ｗのブラックライトにて照射距離１ｃｍ
で１５分間照射する以外は上記と同様の操作により、硬
化性について評価した。
【００４６】また、上記得られた各ガラス用補修剤を１
００μｍ厚となるようにガラス板上に塗布し、透明ＰＥ
Ｔフィルムでカバ−をして、上記と同様の硬化条件にて
各試験板を作成し、下記の性能試験に供した。結果を表
９に示す。
００μｍ厚となるようにガラス板上に塗布し、透明ＰＥ
Ｔフィルムでカバ−をして、上記と同様の硬化条件にて
各試験板を作成し、下記の性能試験に供した。結果を表
９に示す。
【００４７】密着性：各試験板を温度２０℃・湿度７５
％ＲＨの恒温恒湿室内に１晩放置後、該試験板にクロス
カットを行い、これをセロハンテ−プで剥離した際の状
態を観察した。
％ＲＨの恒温恒湿室内に１晩放置後、該試験板にクロス
カットを行い、これをセロハンテ−プで剥離した際の状
態を観察した。
【００４８】 ○：異常なし △：一部に剥離あり ×：全面に剥離あり 耐水性：各試験板を温度２０℃・湿度７５％ＲＨの恒温
恒湿室内に１晩放置後、該試験板を２０℃の脱イオン水
に７日間浸漬後、塗面状態を観察した。
恒湿室内に１晩放置後、該試験板を２０℃の脱イオン水
に７日間浸漬後、塗面状態を観察した。
【００４９】 ○：異常なし △：一部にブリスタ−発生 ×：全面にブリスタ−発生 促進耐候性：各試験板を温度２０℃・湿度７５％ＲＨの
恒温恒湿室内に１晩放置後、該試験板をデュ−パネルに
て１０００時間試験後、塗面状態を観察した。 ○：異常なし ×：黄変著しい
恒温恒湿室内に１晩放置後、該試験板をデュ−パネルに
て１０００時間試験後、塗面状態を観察した。 ○：異常なし ×：黄変著しい
【００５０】
【発明の効果】本発明のガラス用補修剤によれば、ヒビ
の深部まで十分に硬化し、耐候性、耐黄変性に優れ、ま
た硬化性を低下させることなく紫外線吸収剤等も配合可
能である。
の深部まで十分に硬化し、耐候性、耐黄変性に優れ、ま
た硬化性を低下させることなく紫外線吸収剤等も配合可
能である。
【００５１】
【表９】
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｃ０８Ｆ 290/06 Ｃ０８Ｆ 290/06 Ｃ０９Ｊ 4/06 Ｃ０９Ｊ 4/06
Claims (3)
- 【請求項１】 ウレタンアクリレ−ト樹脂（Ａ）、重合
性不飽和化合物（Ｂ）、及び近赤外光重合開始剤（Ｃ）
を含有し、樹脂（Ａ）と化合物（Ｂ）の重量固形分比が
９０／１０〜３／９７であることを特徴とするガラス用
補修剤。 - 【請求項２】 重合性不飽和化合物（Ｂ）として、アル
コキシシリル基含有モノマ−を含んでなる請求項１記載
のガラス用補修剤。 - 【請求項３】 紫外線吸収剤及び／又は光安定剤を含有
する請求項１又は２記載のガラス用補修剤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10051006A JPH1161099A (ja) | 1997-06-12 | 1998-03-03 | ガラス用補修剤 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9-154987 | 1997-06-12 | ||
| JP15498797 | 1997-06-12 | ||
| JP10051006A JPH1161099A (ja) | 1997-06-12 | 1998-03-03 | ガラス用補修剤 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1161099A true JPH1161099A (ja) | 1999-03-05 |
Family
ID=26391517
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10051006A Pending JPH1161099A (ja) | 1997-06-12 | 1998-03-03 | ガラス用補修剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1161099A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001079370A1 (en) * | 2000-04-14 | 2001-10-25 | John Walter Jackson | A glass repair process |
| KR100724797B1 (ko) | 2005-10-10 | 2007-06-04 | 에스에스씨피 주식회사 | 저점도 다관능 우레탄아크릴레이트 올리고머를 포함하는하이솔리드 자외선 경화형 도료 조성물 |
| JP2008214576A (ja) * | 2007-03-07 | 2008-09-18 | Nalux Co Ltd | 近赤外線硬化型インク組成物およびこれを使用する印刷方法 |
| JP2013129799A (ja) * | 2011-12-22 | 2013-07-04 | Toagosei Co Ltd | 活性エネルギー線硬化型空隙充填用樹脂組成物 |
-
1998
- 1998-03-03 JP JP10051006A patent/JPH1161099A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001079370A1 (en) * | 2000-04-14 | 2001-10-25 | John Walter Jackson | A glass repair process |
| KR100724797B1 (ko) | 2005-10-10 | 2007-06-04 | 에스에스씨피 주식회사 | 저점도 다관능 우레탄아크릴레이트 올리고머를 포함하는하이솔리드 자외선 경화형 도료 조성물 |
| JP2008214576A (ja) * | 2007-03-07 | 2008-09-18 | Nalux Co Ltd | 近赤外線硬化型インク組成物およびこれを使用する印刷方法 |
| JP2013129799A (ja) * | 2011-12-22 | 2013-07-04 | Toagosei Co Ltd | 活性エネルギー線硬化型空隙充填用樹脂組成物 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050214 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20070510 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070529 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20071009 |