JPH1157342A - 清浄室用フィルタ - Google Patents

清浄室用フィルタ

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JPH1157342A
JPH1157342A JP9324799A JP32479997A JPH1157342A JP H1157342 A JPH1157342 A JP H1157342A JP 9324799 A JP9324799 A JP 9324799A JP 32479997 A JP32479997 A JP 32479997A JP H1157342 A JPH1157342 A JP H1157342A
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JP
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filter
clean room
filtering
dividing member
filtering unit
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JP9324799A
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Minsun Haku
▲ミン▼▲スン▼ 白
Ryushu Kin
龍洙 金
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Samsung Electronics Co Ltd
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    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D46/00—Filters or filtering processes specially modified for separating dispersed particles from gases or vapours
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D46/00—Filters or filtering processes specially modified for separating dispersed particles from gases or vapours
    • B01D46/10—Particle separators, e.g. dust precipitators, using filter plates, sheets or pads having plane surfaces
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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    • B01D—SEPARATION
    • B01D46/00—Filters or filtering processes specially modified for separating dispersed particles from gases or vapours
    • B01D46/0002—Casings; Housings; Frame constructions
    • B01D46/0005—Mounting of filtering elements within casings, housings or frames
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D46/00—Filters or filtering processes specially modified for separating dispersed particles from gases or vapours
    • B01D46/0039—Filters or filtering processes specially modified for separating dispersed particles from gases or vapours with flow guiding by feed or discharge devices
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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    • B01D—SEPARATION
    • B01D2279/00—Filters adapted for separating dispersed particles from gases or vapours specially modified for specific uses
    • B01D2279/50—Filters adapted for separating dispersed particles from gases or vapours specially modified for specific uses for air conditioning
    • B01D2279/51—Filters adapted for separating dispersed particles from gases or vapours specially modified for specific uses for air conditioning in clean rooms, e.g. production facilities for electronic devices, laboratories

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  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Ventilation (AREA)
  • Filtering Of Dispersed Particles In Gases (AREA)
  • Filtering Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ノーマルフィルタの設置時間が短縮されて、
労働力節約及び設置費用が減少された清浄室用フィルタ
を提供することである。 【解決手段】 空気をフィルタリングするフィルタリン
グ部５５と、フィルタリング部を囲んでフィルタリング
部を支持固定及び保護するフレーム５１と、フィルタリ
ング部を所定領域で両分してフレームを支持するモール
ドバー２１、２２の高さと一致するように空気が排気さ
れる方向に突出される分割部材５２を含む清浄室用フィ
ルタとを備える。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は清浄室用フィルタ(F
ilter)に係り、より詳細には、層流形(Laminar Flow)の
清浄室に用いられるフィルタのフィルタリング(Filteri
ng)部の領域が両分できる分割バー(Bar)をフィルタリン
グ部の所定領域に設置して清浄室内のレイアウト(Layou
t)変更時に迅速に対処できるようにした清浄室用フィル
タに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】現代社会は科学産業及び先端技術産業時
代として先端製品の性能と効率を向上させるため高清浄
度の環境状態で工程進行が行われる。特に、半導体分
野、医薬品分野、遺伝工学分野、新素材産業分野等は塵
及び微細な異物質により不良及び実験結果が相異なると
いう現象が発生するから、各分野に該当する工程は高清
浄環境状態で実施して、これを可能にするものが清浄室
システムである。
【０００３】このような清浄室システムは、一般的に所
定の製品を製造するか実験できる各種設備が設置される
清浄領域と、清浄領域内の空気が底面を通して排気され
る空気排気領域と、空気排気領域の空気を清浄領域の天
井を通して清浄領域内部に供給する空気供給領域とで構
成されて空気が循環するようになっており、清浄領域上
部の全面には空気供給領域から清浄領域内に供給される
空気をフィルタリングするフィルタがファン(Fan)と共
に設置される。この時、フィルタは１２００ｍｍ×６０
０ｍｍ規格化された大きさのノーマルフィルタ(Normal
Filter)が使用されて、 清浄領域の清浄度はフィルタの
性能によって決定される。
【０００４】また、半導体製造の清浄領域には通常超高
性能(HEPA : High Efficiency Paticulate Air)フィル
タと超低透過(ULPA : Ultra Low Penetration Air)フィ
ルタが使用されて、超高性能フィルタは普通０．３ミク
ロンの浮遊粒子を９９．９７％以上フィルタリング可能
であり、超低透過フィルタは０．１２ミクロンの浮遊粒
子を９９．９９％以上フィルタリング可能である。この
ように上部の全面にフィルタが設置される清浄領域の内
部は、作業者が作業をするワーキング領域(Working Are
a)と、半導体製造設備が配置されるプロセス領域(Proce
ss Area)と、 前記製造設備が分離点検できるサービス
領域(Service Area)とでレイアウトされて、 各領域を
両分する時には普通所定厚さのパネル(Pannel)をフィル
タとフィルタが結合する部分から垂直に固定設置して領
域を区分する。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかし、従来の製品製
造設備の配置によってレイアウトを変更する場合、また
は製品製造設備のアップグレード(Upgrade)によるレイ
アウト変更時には、各領域を区分するパネルはレイアウ
トによって再設置されて、この時、パネルがノーマルフ
ィルタとノーマルフィルタが結合する部分に設置されず
ノーマルフィルタの中心部分を横切って設置されること
により、 空気の円滑なダウンストリーム(Down Stream)
が行われずノーマルフィルタとパネル境界部分で発生す
る渦流により粒子が発生した。
【０００６】前記のような問題点を解決するため従来に
も１２００ｍｍ×６００ｍｍのノーマルフィルタの代り
に６００ｍｍ×６００ｍｍで規格化された異形フィルタ
二つを使用して、二つの異形フィルタが結合された部分
にパネルを垂直で固定設置した。しかし、前記の方法は
既存のノーマルフィルタ設置費用に対する異形フィルタ
の設置費用が増加するという問題点があった。即ち、異
形フィルタ設置時には異形フィルタの結合部分に異形フ
ィルタを相互支持するモールドバー(Mold Bar)が追加に
設置されることにより設置費用が増加する問題点があっ
た。
【０００７】また、モールドバーによる異形フィルタ間
の空間により空気の流れが不規則的になることを防止す
るため各々の異形フィルタに対応してファンが設置され
ることにより、既存のノーマルフィルタに対応してファ
ンが二つ設置されてファンに対する設置費用が増加し
て、ファンの設置増加による消費電力が増加するという
問題点があった。したがって、本発明の目的は、レイア
ウトの変更により領域を区分するパネルがノーマルフィ
ルタを横切る場合使用される異形フィルタの代りに、ノ
ーマルフィルタの所定領域を両分できる分割バーをノー
マルフィルタに設置して、パネルが分割バーによって設
置されるようにした清浄室用フィルタを提供することに
ある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】前記の目的を達成するた
めの本発明による特徴によると、空気をフィルタリング
するフィルタリング部と、前記フィルタリング部を囲ん
で前記フィルタリング部を支持固定及び保護するフレー
ムと、 前記フィルタリング部を所定領域で両分して、
前記フレームを支持するモールドバーの高さと一致する
ように前記空気が排気される方向に突出される分割部材
を含む清浄室用フィルタが開示される。好ましくは、前
記所定領域の面積は各々同一であるか、または、各々同
一ではないことを特徴とする。
【０００９】好ましくは、前記分割部材の両側端部は前
記フレームに面接触されることを特徴とする。好ましく
は、前記分割部材の幅は前記分割部材に結合されて領域
を区分するパネルの厚さと同一であるかまたはパネルの
厚さより広いことを特徴とする。好ましくは、前記分割
部材の幅は最大５ｃｍであり、前記分割部材は腐蝕に強
い金属であることを特徴とする。
【００１０】好ましくは、前記金属はステンレス、また
はアルミニウム合金であることを特徴とする。好ましく
は、前記分割部材により両分される各々の前記フィルタ
リング部は空気をフィルタリングするフィルタ率が同一
であるかまたは各々異なることを特徴とする。好ましく
は、前記分割部材により両分される前記フィルタリング
の一側領域には超高性能フィルタリング部が設置され
て、他側領域には超低透過フィルタリング部が設置され
ることを特徴とする。
【００１１】
【発明の実施の形態】以下、添附図面を参照して本発明
による好ましい実施の形態について詳細に説明する。図
１は、本発明の一実施の形態として示した清浄室システ
ムを概略的に示す構成図である。図示されるように、清
浄室システム１０は、半導体製造に使用される各種設備
が配置されて所定の工程が進行される清浄領域４０と、
清浄領域４０の底面を通して空気が排気される空気排気
領域３０と、空気排気領域３０からの空気を清浄領域４
０の天井を通してさらに清浄領域４０内に供給する空気
供給領域２０とで構成されて、清浄領域４０の上部には
空気を循環及びフィルタリングできるようにファン２３
が設置されたフィルタ５０が配列されて、下部には清浄
領域４０内の空気が排気されるように複数個のホール(H
ole)が形成された格子(Grating: 図示せず)が配列され
ている。
【００１２】また、清浄領域４０は作業者が移動しなが
ら作業活動するワーキング領域４１と、半導体製造設備
４４が配置されて所定の工程が進行されるプロセス領域
４２と、前記半導体製造設備４４が分離して点検できる
サービス領域４３とで区分されて、各領域は厚さが各々
異なるパネル４５により区分される。ここで、ノーマル
フィルタが設置された図１のＡ部分についてより詳細に
説明すると次のようである。
【００１３】図２は、図１のＡ部分を示す部分平面図、
図３は、図２のＢ−Ｂ'部分を示す部分断面図である。
図示されるように、水平に"Ｔ"形状のモールドバー２１
が所定間隔離隔された状態、例えば、１２００ｍｍ×６
００ｍｍで規格化されたノーマルフィルタ５０の長い方
向端部面がモールドバー２１に支持されることができる
間隔で配列設置されて、前記モールドバー２１は、図１
に図示されるように、空気供給領域２０の上部に固定さ
れる長いボルト(Long Bolt)２４により支持固定され
る。
【００１４】前記のように長いボルト２４により支持さ
れたモールドバー２１間には上部にファン２３が設置さ
れたノーマルフィルタ５０が連続的に設置されて、ノー
マルフィルタ５０間の面接触部分にはモールドバー２１
間を連結して固定された"Ｔ"形状のモールドバー２２が
設置されて、ノーマルフィルタ５０間の区分を確実にし
てより堅固にノーマルフィルタ５０を支持固定してい
る。また、清浄領域４０の各々の領域を区分するパネル
45はレイアウトによってノーマルフィルタ５０の中心部
分を横切って設置されて、図３に図示されるように、ノ
ーマルフィルタ５０の中心部分に設置された分割バー５
２の表面には各領域を区分するパネル４５が設置されて
いる。ここで、 本発明の実施の形態として示したノー
マルフィルタの構造について説明すると次のようであ
る。
【００１５】図４は、本発明の実施の形態によるノーマ
ルフィルタの構造を概略的に示す斜視図であり、図５
は、図４のＣ−Ｃ'部分を示す断面図である。図示され
るように、外形上四角形状になったノーマルフィルタ５
０は、空気をフィルタリングするフィルタリング部５５
と、このフィルタリング部５５を囲んでフィルタリング
部５５を支持固定及び保護するフレーム(Frame)５１と
でなる。また、フィルタリング部５５は所定間隔が離隔
されて配置されて空気の風量を調節するセパレーター(S
eparator)５７と、セパレーター間に各々介在されて空
気をフィルタリングするメジア(Media)５６とで構成さ
れる。この時、メジア５６は所定形態で反復屈曲されて
いる。
【００１６】本発明によると、フィルタリング部55の領
域を両方向に両分する分割バー５２がフィルタリング部
５５の中心部分のセパレーター５７とメジア５６間に設
置されている。この時、分割バー５２は一般的に腐蝕に
強い金属、例えば、アルミニウム合金、ステンレス(Sta
inless)が好ましく、円滑な空気のダウンストリームの
ため、分割バー５２の両側端部は、フレーム５１に面接
触することが好ましい。
【００１７】また、パネル４５の一断面と面接触する分
割バー５２の一断面の幅は最大５ｃｍが好ましい。これ
は分割バー５２の一端面に位置固定されるパネル４５の
厚さが最大５ｃｍであるからである。また、分割バー５
２の一端面とモールドバー２１の外側面が平行にするこ
とにより後の分割バー５２とモールドバー２１に沿って
設置されるパネル４５が円滑に設置されるようにするた
め、分割バー５２の一端面はノーマルフィルタ５０のフ
レーム５１を支持するモールドバー２１の外側面と同一
線上に位置できるように所定長さほど突出される。
【００１８】このようにレイアウトの変更によって領域
を区分するパネルがノーマルフィルタのフィルタリング
部を横切って設置される場合、従来にはパネルが設置さ
れた部分から発生する渦流により粒子が発生するため、
ノーマルフィルタの代りに６００ｍｍ×６００ｍｍ大き
さの異形フィルタ二つで代替して、異形フィルタ各々に
ファンが設置されて、異形フィルタ間にモールドバーが
介在されてモールドバーに固定設置されることにより一
つのノーマルフィルタに対する二つの異形フィルタの設
置費用が大幅増加して、異形フィルタ各々に対するファ
ンの設置費用およびファンの消費電力が増加して、ま
た、付随的にモールドバーが追加されて全体的に設置費
用が増加する問題点があった。
【００１９】しかし、本発明の実施の形態によるノーマ
ルフィルタを使用すると、ノーマルフィルタ上部に一つ
のファンが設置可能であり、ノーマルフィルタの分割バ
ーにパネルが位置するから渦流が発生しない。これはフ
ィルタリング部の分割バーがファンと対向するノーマル
フィルタのフィルタリング部の表面から清浄領域側にノ
ーマルフィルタのフィルタリング部の表面まで両分し
て、分割バーの厚さがパネルの厚さと同一であるかある
いはパネルの厚さより広いからファンによりノーマルフ
ィルタを通してフィルタリングされる空気はフィルタを
通過してすぐパネルによってダウンストリームされる。
【００２０】また、本発明によるノーマルフィルタで従
来の異形フィルタを代替できるから設置時間の短縮によ
る労働力が節約されて、異形フィルタ使用による設置費
用の上昇と、異形フィルタ、各々に設置されるファンの
増加費用及びファンの消費電力増加が防止できる。ま
た、ノーマルフィルタに設置された分割バーを基準とし
て性能が異なる、例えば、超低透過フィルタと超高性能
フィルタとが同時に収容できることにより、パネルの設
置によって清浄度が変わる場合、各々の清浄度に適合な
フィルタ種類を選択可能で、レイアウト変更によってパ
ネルを設置する時、これに対する対処能力が向上され
て、設置費用も節約できる。
【００２１】
【発明の効果】以上のように本発明によると、ノーマル
フィルタのフィルタリング部にフィルタリング部の領域
が両分できる分割バーを設置して、この分割バーによっ
てパネルを設置することにより、異形フィルタ使用に対
する費用増加と異形フィルタに用いられるファン増加及
びこれによるファンの消費電力の増加が防止されて、ノ
ーマルフィルタの設置時間が短縮されて、労働力節約及
び設置費用が減少される効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明の一実施の形態による清浄室システム
を概略的に示す構成図である。
【図２】 図１のＡ部分を示す平面図である。
【図３】 図２のＢ−Ｂ’部分を示す断面図である。
【図４】 本発明の一実施の形態によるノーマルフィル
タを概略的に示す斜視図である。
【図５】 図４のＣ−Ｃ’部分を示す断面図である。
【符号の説明】
１０ : 清浄室システム ２０ : 空気供給領域 ２１，２２ : モールドバー ２３ : ファン ２４ : 長いボルト ３０ : 空気排気領域 ４０ : 清浄領域 ４１ : ワーキング領域 ４２ : プロセッス領域 ４４ : 半導体製造設備 ４５ : パネル ５０ : フィルタ ５１ : フレーム ５２ : 分割バー ５５ : フィルタリング部 ５６ : メジア ５７ : セパレーター

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 空気をフィルタリングするフィルタリン
    グ部と、 前記フィルタリング部を囲んで前記フィルタリング部を
    支持固定及び保護するフレームと、 前記フィルタリング部を所定領域で両分して、 前記フ
    レームを支持するモールドバーの高さと一致するように
    前記空気が排気される方向に突出される分割部材と含む
    ことを特徴とする清浄室用フィルタ。
  2. 【請求項２】 前記所定領域の面積は、各々同一である
    ことを特徴とする請求項１記載の清浄室用フィルタ。
  3. 【請求項３】 前記所定領域の面積は、各々同一ではな
    いことを特徴とする請求項１記載の清浄室用フィルタ。
  4. 【請求項４】前記分割部材の両側端部は、前記フレーム
    に面接触することを特徴とする請求項１記載の清浄室用
    フィルタ。
  5. 【請求項５】 前記分割部材の幅は、 前記分割部材に
    結合されて領域を区分するパネルの厚さと同一であるか
    あるいはパネルの厚さより広いことを特徴とする請求項
    １記載の清浄室用フィルタ。
  6. 【請求項６】 前記分割部材の幅は、最大５ｃｍである
    ことを特徴とする請求項５記載の清浄室用フィルタ。
  7. 【請求項７】 前記分割部材は、腐蝕に強い金属である
    ことを特徴とする請求項１記載の清浄室用フィルタ。
  8. 【請求項８】 前記金属は、ステンレスであることを特
    徴とする請求項７記載の清浄室用フィルタ。
  9. 【請求項９】 前記金属は、アルミニウム合金であるこ
    とを特徴とする請求項７記載の清浄室用フィルタ。
  10. 【請求項１０】 前記分割部材により両分される各々の
    前記フィルタリング部は、空気をフィルタリングするフ
    ィルタ率が同一であることを特徴とする請求項１記載の
    清浄室用フィルタ。
  11. 【請求項１１】 前記分割部材により両分される各々の
    前記フィルタリング部は、空気をフィルタリングするフ
    ィルタ率が各々異なることを特徴とする請求項１記載の
    清浄室用フィルタ。
  12. 【請求項１２】 前記分割部材により両分される前記フ
    ィルタリング部の一側領域には超高性能フィルタリング
    部が設置されて、他側領域には超低透過フィルタリング
    部が設置されることを特徴とする請求項１記載の清浄室
    用フィルタ。
JP9324799A 1997-08-26 1997-11-26 清浄室用フィルタ Pending JPH1157342A (ja)

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