JPH1154936A - Multilayered printed wiring board and its manufacture - Google Patents

Multilayered printed wiring board and its manufacture

Info

Publication number
JPH1154936A
JPH1154936A JP22190697A JP22190697A JPH1154936A JP H1154936 A JPH1154936 A JP H1154936A JP 22190697 A JP22190697 A JP 22190697A JP 22190697 A JP22190697 A JP 22190697A JP H1154936 A JPH1154936 A JP H1154936A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
copper foil
resin
wiring board
printed wiring
copper
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP22190697A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hideki Hiraoka
秀樹 平岡
Yoichi Haruta
要一 春田
Hiroshi Niitsuma
裕志 新妻
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toagosei Co Ltd
Original Assignee
Toagosei Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toagosei Co Ltd filed Critical Toagosei Co Ltd
Priority to JP22190697A priority Critical patent/JPH1154936A/en
Publication of JPH1154936A publication Critical patent/JPH1154936A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent the occurrence of haloing and the deterioration of the heat resistance of a multilayered printed wiring board, by forming a conductor circuit on an inner-layer substrate carrying a copper foil circuit, the surface of which is treated with a specific triazine thiol compound after being roughened with an etching solution, through a cured resin layer. SOLUTION: A copper foil circuit is treated with a specific triazine thiol compound (X:H or an alkali metal), such as the thiocyanurate expressed by the formula after the circuit is chemically roughened with an etching solution. Then, an insulating resin layer is formed on the surface-treated copper foil circuit by using an epoxy resin, maleimide resin, (metha)acrylic resin, diallyl phthalate resin, or triazene resin. Of these resins, the epoxy resin is particularly preferable, because the resin has the highest adhesive property against copper. Therefore, the reliability of a multilayered wiring board such as the heat resistance, water resistance, and the adhesive property of an inner layer against the copper foil circuit, etc., can be improved.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は多層プリント配線板
に関し、更に詳しくは、新規な表面処理法による、耐熱
性、耐ハローイング性および耐水性に優れた銅箔回路を
有する内層基板を用いた多層プリント配線板およびその
製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a multilayer printed wiring board, and more particularly, to a multilayer printed wiring board using an inner substrate having a copper foil circuit excellent in heat resistance, haloing resistance and water resistance by a novel surface treatment method. The present invention relates to a multilayer printed wiring board and a method for manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】電子機器の小型化、多機能化に伴って、
現在プリント配線板はより高密度化の方向に進んでい
る。例えば、導体回路の細線化、高多層化、スルーバイ
アホール、ブラインドバイアホール、バリードバイアホ
ール等のインタースティシャルバイアホールを含むバイ
アホールの小径化、小型チップ部品の表面実装による高
密度実装等がある。更に近年ガラスクロス等を絶縁層に
含まないビルドアップ工法等の新しい技術も進んでい
る。
2. Description of the Related Art As electronic devices have become smaller and more multifunctional,
Currently, printed wiring boards are moving toward higher densities. For example, thinner conductor circuits, higher multilayers, smaller via holes including interstitial via holes such as through via holes, blind via holes, and buried via holes, and high-density mounting by surface mounting of small chip components. There is. Further, in recent years, new technologies such as a build-up method in which a glass cloth or the like is not included in an insulating layer have been advanced.

【0003】従来、ガラスエポキシプリプレグ等のプリ
プレグを単数または複数枚介して両面に銅箔を積層した
銅張積層板の両面にエッチング処理を施して内層基板に
銅箔回路(以下「回路パターン」とも称する。)を形成
し、黒化処理を行った後、プリプレグ、銅箔を適宜レイ
アップしてプレスにより加熱加圧積層し、続いてドリル
穴加工、めっき、エッチング等の処理をしてパターン形
成を行うことにより多層プリント配線板が製造されてい
る。また、本発明者等は、後述のとおり容易にブライン
ドバイアホールを形成できかつ軽量化を目的として、ア
クリル系樹脂および/またはメタクリル系樹脂(以下
「(メタ)アクリル樹脂」と称する。)を絶縁樹脂層と
した多層プリント配線板の製造方法を発明している。
Conventionally, both sides of a copper clad laminate having copper foil laminated on both sides via one or more prepregs such as a glass epoxy prepreg are etched to form a copper foil circuit (hereinafter also referred to as a “circuit pattern”) on an inner substrate. ), Blackening treatment, laying up prepreg and copper foil as appropriate, laminating by heating and pressurizing by pressing, and then patterning by drilling, plating, etching, etc. , A multilayer printed wiring board is manufactured. In addition, the present inventors insulate acrylic resin and / or methacrylic resin (hereinafter referred to as “(meth) acrylic resin”) for the purpose of forming blind via holes easily and reducing the weight as described later. A method for manufacturing a multilayer printed wiring board having a resin layer has been invented.

【0004】これらの方法では内層基板上の銅箔回路と
絶縁樹脂層との接着性を高める目的で、黒化処理と呼ば
れる銅の酸化処理を銅箔回路の表面に行っている。しか
し、酸洗、ソフトエッチ、銅めっき等、酸性の処理液を
使用する工程において、スルーホールのように黒化処理
した回路が該処理液に接触する場所では黒化処理部分が
酸に溶けて絶縁樹脂層と銅箔回路間に液が浸透する現象
が起こる。このような現象はハローイング、或いはスル
ーホール周辺の黒化処理が溶けてピンク色に見えるため
にピンクリングと呼ばれている。ハローイングが発生し
た場所では銅箔回路と絶縁樹脂層との接着性が著しく弱
められ、回路の信頼性が低下する。マルチチップモジュ
ール用基板やチップサイズパッケージの実装を目的とす
るような小径ブラインドバイアホール等を多数形成した
多層プリント配線板では、ピンクリング同士が近接する
ようになり、極端な場合は複数のピンクリングがつなが
る場合もあるため黒化処理は使用できないという問題が
あった。
In these methods, in order to enhance the adhesion between the copper foil circuit on the inner layer substrate and the insulating resin layer, the surface of the copper foil circuit is subjected to a copper oxidation treatment called blackening treatment. However, in a process using an acidic treatment solution such as pickling, soft etching, and copper plating, in a place where a circuit subjected to the black treatment such as a through hole comes into contact with the treatment solution, the black treatment portion is dissolved in the acid. The phenomenon that liquid permeates between the insulating resin layer and the copper foil circuit occurs. Such a phenomenon is called a pink ring because the blackening process around the through hole or the through hole melts and looks pink. At the place where the haloing occurs, the adhesiveness between the copper foil circuit and the insulating resin layer is significantly weakened, and the reliability of the circuit is reduced. In multi-layer printed wiring boards with a large number of small-diameter blind via holes for mounting multi-chip module substrates or chip-size packages, the pink rings come close together, and in extreme cases, multiple pink rings However, there is a problem that the blackening process cannot be used because the blackout may occur.

【0005】上述のような問題点に対して、銅箔表面を
いったん黒化処理して酸化銅の針状結晶を析出させた後
に亜酸化銅または純銅にまで還元処理する方法が考案さ
れており、ガラスエポキシプリプレグ等を用いた多層プ
リント配線板の内層基板に使用されている。このような
処理方法はハローイングの発生は抑えられるが還元処理
工程中に酸化銅の針状結晶が化学変化するために凹凸形
状も小さくなってしまい、アンカー効果が十分に発揮さ
れないために黒化処理に比べて接着力が低くなり、この
ために使用範囲が限られていた。
In order to solve the above-mentioned problems, a method has been devised in which a copper foil surface is once subjected to blackening treatment to precipitate needle-like crystals of copper oxide and then reduced to cuprous oxide or pure copper. Used for an inner layer substrate of a multilayer printed wiring board using a glass epoxy prepreg or the like. Such a processing method suppresses the occurrence of haloing, but the needle-like crystals of copper oxide undergo a chemical change during the reduction treatment step, so that the irregularities are reduced, and the anchor effect is not sufficiently exhibited. Adhesive strength was lower than in the treatment, which limited the range of use.

【0006】更に、上記の処理法のように銅が還元され
た状態で絶縁樹脂層に接触する場合は、銅表面が酸化さ
れている場合に比べて耐熱性が低下する。このような耐
熱性の低下は、特に絶縁樹脂層として、金属銅との接着
性が低い(メタ)アクリル樹脂のようなC=C不飽和二
重結合の重合により硬化する樹脂を使用した場合に顕著
であった。
Further, when the copper is reduced and comes into contact with the insulating resin layer as in the above-described processing method, the heat resistance is lower than when the copper surface is oxidized. Such a decrease in heat resistance is caused especially when a resin cured by polymerization of a CCC unsaturated double bond such as a (meth) acrylic resin having low adhesion to metallic copper is used as the insulating resin layer. It was remarkable.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記のよう
なハローイングの問題および耐熱性低下の問題を解決し
た多層プリント配線板およびその製造方法を提供するも
のである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention provides a multilayer printed wiring board which solves the problems of haloing and the problem of reduced heat resistance as described above, and a method of manufacturing the same.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明者等は、上記課題
を解決するため鋭意検討の結果、本発明に至ったもので
ある。即ち本発明は、腐食液で化学的に粗化した後、表
面を化学式(1)で表されるトリアジンチオール化合物
で処理してなる銅箔回路を有する内層基板上に、硬化性
絶縁樹脂層を形成しこれを硬化させ、かつ該硬化樹脂層
を介して表面に導体回路を形成してなることを特徴とす
る多層プリント配線板である。以下、本発明について詳
細に説明する。
Means for Solving the Problems The present inventors have made intensive studies to solve the above-mentioned problems, and have arrived at the present invention. That is, according to the present invention, a curable insulating resin layer is formed on an inner substrate having a copper foil circuit obtained by chemically roughening with a corrosive liquid and then treating the surface with a triazine thiol compound represented by the chemical formula (1). A multilayer printed wiring board characterized by being formed and cured, and having a conductive circuit formed on the surface via the cured resin layer. Hereinafter, the present invention will be described in detail.

【化3】 Embedded image

【0009】従来、銅箔回路の粗化方法の具体例として
は、ブラシ研磨およびスクラブ研磨等の物理的粗化処理
が用いられてきた。該処理は簡単であるが、アンカー効
果は低く、銅箔回路とソルダーレジストとの密着性を高
める用途には使用できるが、絶縁樹脂層との高い接着力
が要求される多層プリント配線板の内層基板上の銅箔回
路用途には使用できなかった。
Conventionally, as a specific example of a method of roughening a copper foil circuit, a physical roughening treatment such as brush polishing and scrub polishing has been used. Although the treatment is simple, the anchor effect is low, and it can be used for the purpose of increasing the adhesion between the copper foil circuit and the solder resist, but the inner layer of the multilayer printed wiring board which requires a high adhesive strength with the insulating resin layer It could not be used for copper foil circuit on board.

【0010】これに対して、近年ソフトエッチングやマ
イクロエッチングと呼ばれる腐食液により処理して、銅
箔の表面に化学的な凹凸を付ける方法が開発された。該
方法は化学的研磨とも呼ばれ、深い凹凸を得ることがで
き、絶縁樹脂層に対してアンカー効果が大きいという特
長を有する。更に、機械研磨による粗化と比較して、回
路パターン形成後にも簡単に粗化処理ができ、かつパタ
ーンの端部にも粗化処理がされるために、ファインパタ
ーン形成後の絶縁樹脂層の密着性に優れ、かつパターン
形成後に生じる銅箔端面も粗化できるという利点があ
る。
On the other hand, in recent years, a method has been developed in which a surface of a copper foil is chemically roughened by treating with a corrosive solution called soft etching or micro etching. This method is also called chemical polishing, and has a feature that deep irregularities can be obtained and an anchor effect is large for the insulating resin layer. Furthermore, compared with the roughening by mechanical polishing, the roughening process can be easily performed even after the circuit pattern is formed, and the roughening process is also performed on the edge of the pattern, so that the insulating resin layer after the formation of the fine pattern is formed. There is an advantage that the adhesiveness is excellent and the copper foil end surface generated after pattern formation can be roughened.

【0011】なお、腐食液による銅表面の化学的な粗化
方法の場合も、回路パターン形成前に実施すると、次工
程でドライフィルムレジストを貼る際に、該レジストと
銅表面との密着性が悪くなり、微細パターンの形成が困
難になるので、回路パターン形成後に行なうことが好ま
しい。
In the case of a method of chemically roughening the copper surface using a corrosive liquid, if the method is performed before forming a circuit pattern, the adhesion between the resist and the copper surface will be reduced when a dry film resist is applied in the next step. Since it becomes worse and it becomes difficult to form a fine pattern, it is preferable to perform the process after forming the circuit pattern.

【0012】化学的な粗化方法で用いる腐食液としては
硫酸と過酸化水素を配合して得られる水溶液や、過硫酸
ナトリウムを用いた液が知られている。また、有機酸を
主成分とする腐食液も挙げられ、銅箔表面に深い凹凸を
形成することができるので、こちらの腐食液の方が好ま
しい。該腐食液の例としては、特開平7−292483
号に開示されているアゾール類の第二銅錯体、有機酸お
よびハロゲンイオンよりなる処理剤、特開平9−411
62号に開示されている銅の酸化剤とポリアミンおよび
/またはカチオン性基を有する高分子化合物を含んだ処
理剤等が挙げられる。本発明の内層基板の銅箔回路は、
これらの腐食液により化学的粗化を受けたものである。
凹凸の平均的な段差は0.5〜5μmの範囲が好まし
い。0.5μm未満ではアンカー効果が十分に発揮され
ず耐熱性向上が得られず、5μmを超えるとアンカー効
果は十分であるが、凹部に付着しためっき液が水洗工程
等で取りきれずに逆に耐熱性を低下させてしまう場合が
あり好ましくない。水洗を十分行えば耐熱性向上効果は
得られるが、経済的には無駄である。
As the corrosive liquid used in the chemical roughening method, an aqueous solution obtained by mixing sulfuric acid and hydrogen peroxide and a liquid using sodium persulfate are known. In addition, a corrosive liquid containing an organic acid as a main component is also used, and a corrugated liquid can be formed on the surface of the copper foil. An example of the etching solution is disclosed in JP-A-7-292483.
No. 9-411, comprising a cupric complex of an azole, an organic acid and a halogen ion disclosed in
No. 62, a treating agent containing a copper oxidizing agent and a polyamine and / or a polymer compound having a cationic group. Copper foil circuit of the inner layer substrate of the present invention,
It has been chemically roughened by these etchants.
The average step of the unevenness is preferably in the range of 0.5 to 5 μm. When the thickness is less than 0.5 μm, the anchor effect is not sufficiently exhibited, and the heat resistance cannot be improved. When the thickness exceeds 5 μm, the anchor effect is sufficient. Heat resistance may be lowered, which is not preferable. If the washing is sufficiently performed, the effect of improving the heat resistance can be obtained, but it is economically useless.

【0013】化学的粗化後の銅箔回路は、次いで化学式
(1)で表されるトリアジンチオール化合物で処理され
る。該化合物の具体的な名称はs−トリアジン−2,
4,6−トリチオール(別名チオシアヌル酸)または該
化合物一分子中に3個存在する−SH基の一部または全
部をアルカリ金属塩としたそのアルカリ金属塩である。
[0013] The copper foil circuit after the chemical roughening is then treated with a triazine thiol compound represented by the chemical formula (1). The specific name of the compound is s-triazine-2,
4,6-trithiol (also known as thiocyanuric acid) or an alkali metal salt obtained by converting a part or all of the --SH groups present in one molecule of the compound into an alkali metal salt.

【0014】これらのトリアジンチオール化合物は工業
的には2,4,6−トリクロロ−1,3,5−トリアジ
ンと水硫化ソーダを反応させて製造されており容易に入
手することができる。
These triazine thiol compounds are industrially produced by reacting 2,4,6-trichloro-1,3,5-triazine with sodium hydrosulfide and can be easily obtained.

【0015】銅箔の表面をこれらのトリアジンチオール
化合物で処理する方法を以下に説明する。まずこれらの
トリアジンチオール化合物を一旦溶剤に溶かして溶液と
した後、この溶液を銅箔表面にスプレー等で塗布する
か、または溶液中に内層基板を浸し引き上げる。この場
合、銅箔表面と本発明で使用するトリアジンチオール化
合物の反応は、すみやかに起こるため浸漬時間は数秒間
から1分間程度で十分な効果が得られる。次に、銅箔の
表面には化学的に結合したトリアジンチオール化合物の
他に化学的に結合していない余分なトリアジンチオール
化合物が残存しているためこれをスプレー水洗等により
洗い流す。
A method for treating the surface of a copper foil with these triazine thiol compounds will be described below. First, these triazine thiol compounds are once dissolved in a solvent to form a solution, and then this solution is applied to the surface of a copper foil by spraying or the like, or the inner substrate is immersed in the solution and pulled up. In this case, the reaction between the surface of the copper foil and the triazine thiol compound used in the present invention occurs promptly, so that a sufficient effect can be obtained with a dipping time of about several seconds to one minute. Next, in addition to the chemically bonded triazine thiol compound, an extra non-chemically bonded triazine thiol compound remains on the surface of the copper foil.

【0016】トリアジンチオール化合物がアルカリ金属
塩になっていない場合はこのまま乾燥すれば銅箔の表面
処理は完了する。使用するトリアジンチオール化合物が
ナトリウム塩等のアルカリ金属塩である場合は、更に希
硫酸等に処理面を浸してアルカリ金属を水素に置換した
後、水洗して乾燥させることで表面処理は完了する。ア
ルカリ金属塩のままでは絶縁信頼性が得られないため好
ましくない。
If the triazine thiol compound is not converted to an alkali metal salt, the surface treatment of the copper foil is completed by drying as it is. When the triazine thiol compound to be used is an alkali metal salt such as a sodium salt, the surface treatment is completed by further immersing the treated surface in dilute sulfuric acid or the like to replace the alkali metal with hydrogen, followed by washing with water and drying. The alkali metal salt is not preferable because insulation reliability cannot be obtained.

【0017】本発明で使用するトリアジンチオール化合
物が塩になっていない場合は、THFやセロソルブ等の
有機溶剤に可溶で、アルコール類やアセトン等のケトン
類にはわずかしか溶けないが、銅箔表面はこれらのトリ
アジンチオール化合物の単分子層で覆えば十分な効果が
あるため低濃度の溶液でも使用できる。このため実際に
は多種の有機溶剤が使用可能である。また、使用するト
リアジン化合物がアルカリ金属塩になっている場合は水
に溶かすことができ、有害な揮発分が発生せず作業環境
が悪化しないという利点を有する。
When the triazine thiol compound used in the present invention is not in the form of a salt, it is soluble in organic solvents such as THF and cellosolve and is slightly soluble in ketones such as alcohols and acetone. If the surface is covered with a monomolecular layer of these triazine thiol compounds, there is a sufficient effect, so that a solution having a low concentration can be used. Therefore, various kinds of organic solvents can be used in practice. Further, when the triazine compound used is an alkali metal salt, it can be dissolved in water, and there is an advantage that no harmful volatile components are generated and the working environment is not deteriorated.

【0018】トリアジンチオール化合物のアルカリ金属
塩を水溶液として使用する場合は、銅箔に気泡が付着し
て部分的に表面処理ができない場合があるため、銅箔表
面をスプレー水洗等で十分濡らした後に表面処理するこ
とが好ましいが、濡れ性を良くするために界面活性剤や
アルコール等の水溶性有機溶剤を処理液に添加するとよ
い。
When an alkali metal salt of a triazine thiol compound is used as an aqueous solution, air bubbles may adhere to the copper foil and a partial surface treatment may not be performed. Although surface treatment is preferable, a surfactant or a water-soluble organic solvent such as alcohol may be added to the treatment liquid in order to improve wettability.

【0019】処理液中のトリアジンチオール化合物の濃
度は0.1〜1重量%程度で十分である。濃度を上げて
も効果には何等変化がないが、銅箔表面に化学的に結合
した化合物以外は水洗して取り除くため、高濃度の処理
液を使用しても無駄である。また0.1重量%未満の低
濃度でも使用は可能であるが、繰り返して使用する場合
トリアジンチオール化合物が消費されて効果が低下する
ため、液の交換頻度が高くなるという欠点がある。
It is sufficient that the concentration of the triazine thiol compound in the treatment liquid is about 0.1 to 1% by weight. Even if the concentration is increased, the effect does not change at all, but since compounds other than the compound chemically bonded to the copper foil surface are removed by washing with water, it is useless to use a treatment solution having a high concentration. Although it can be used even at a low concentration of less than 0.1% by weight, when used repeatedly, the triazine thiol compound is consumed and the effect is reduced, so that there is a drawback that the frequency of liquid exchange is increased.

【0020】本発明による銅箔の表面処理方法は、本発
明者等による特開平5−218651号公報、特開平6
−232563号公報、特開平6−250771号公報
等によって開示されたプリント配線板の製造方法の銅箔
回路の表面処理に好適である。該製造方法は、未硬化の
アクリル系樹脂組成物を銅箔に塗布形成した銅張絶縁シ
ートを、予め銅箔回路を形成したガラスエポキシ内層基
板等にラミネートし、該樹脂組成物を硬化することによ
って多層プリント配線板を生産性良く製造する方法であ
る(以下、「銅張絶縁シートによる多層プリント配線板
の製造方法」と称する。)。このような銅張絶縁シート
による多層プリント配線板の製造方法では、該樹脂組成
物を硬化する前に外層の銅箔の所定位置にエッチングに
より穴を明け、該樹脂組成物を化学的に溶解する方法や
樹脂組成物の硬化後に外層の銅箔の所定の位置に同様に
穴を明け、炭酸ガスレーザーやエキシマーレーザーで穴
を明けるなどの方法で容易にブラインドバイアホールを
形成することができ、多層配線板の高密度化方法として
広く検討されている。
The surface treatment method for a copper foil according to the present invention is disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open Nos.
It is suitable for the surface treatment of a copper foil circuit in the method of manufacturing a printed wiring board disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 232563/1994 and Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-250771. The production method comprises laminating a copper-clad insulating sheet obtained by applying an uncured acrylic resin composition to a copper foil, onto a glass epoxy inner layer substrate or the like on which a copper foil circuit has been previously formed, and curing the resin composition. (Hereinafter, referred to as a “method of manufacturing a multilayer printed wiring board using a copper-clad insulating sheet”). In the method for manufacturing a multilayer printed wiring board using such a copper-clad insulating sheet, a hole is formed in a predetermined position of an outer copper foil by etching before the resin composition is cured, and the resin composition is chemically dissolved. After curing the resin composition and the resin composition, a hole is similarly formed in a predetermined position of the copper foil of the outer layer, and a blind via hole can be easily formed by a method such as forming a hole with a carbon dioxide gas laser or an excimer laser. It is widely studied as a method for increasing the density of wiring boards.

【0021】一方、特開平8−139457号公報等に
おいて提案されている、エポキシアクリレート樹脂等の
C=C不飽和二重結合を有する樹脂を絶縁層に用いたビ
ルドアップ工法によるプリント配線板の製造において
も、内層の銅箔回路の表面処理に用いれば優れた効果を
発揮する。ビルドアップ工法は内層の銅箔回路上に未硬
化の感光性樹脂等の絶縁樹脂を塗布し、ブラインドバイ
アホールを形成した後にめっきをすることで外層の導体
回路を形成する工法として提案され、上述の銅張絶縁シ
ートによる多層プリント配線板製造方法と同様に高密度
多層配線板の製造方法として知られている。またビルド
アップ法基板用に開発されている感光性樹脂の官能基の
多くは、C=C不飽和二重結合である(メタ)アクリロ
イル基であり、本発明の銅表面処理方法を用いればビル
ドアップ法による多層板の信頼性の向上が期待できる。
On the other hand, a printed wiring board manufactured by a build-up method using a resin having a C = C unsaturated double bond such as an epoxy acrylate resin as an insulating layer, which is proposed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-139457. In this case, when used for the surface treatment of the inner layer copper foil circuit, excellent effects are exhibited. The build-up method is proposed as a method of applying an uncured insulating resin such as a photosensitive resin on the inner copper foil circuit, forming a blind via hole, and then plating to form an outer conductive circuit. It is known as a method for manufacturing a high-density multilayer wiring board, similarly to the method for manufacturing a multilayer printed wiring board using a copper-clad insulating sheet. Many of the functional groups of the photosensitive resin developed for the build-up method substrate are (meth) acryloyl groups, which are C = C unsaturated double bonds, and are built-up by using the copper surface treatment method of the present invention. The improvement of the reliability of the multilayer board by the up method can be expected.

【0022】本発明で用いられるトリアジンチオール化
合物が持つメルカプト基は、銅と化学的に結合すること
ができ、またプリント配線板用絶縁材料として用いられ
るエポキシ樹脂のエポキシ基やマレイミド樹脂、(メ
タ)アクリル樹脂のようなC=C不飽和二重結合に対し
て容易に付加反応が起こり、これら樹脂とも化学的な結
合ができる。このため本発明の表面処理方法を用いれ
ば、プリント配線板の耐熱性および内層の銅箔回路とそ
の上の絶縁樹脂層との接着性を向上させ、延いては多層
プリント配線板の信頼性を著しく向上させることができ
るだけでなく、従来のエポキシ樹脂やマレイミド樹脂に
よるプリプレグを使った多層プリント配線板の内層回路
の表面処理やソルダーレジストの密着性向上にも優れた
効果が得られ、工業上極めて有用である。
The mercapto group of the triazine thiol compound used in the present invention can chemically bond to copper, and can be an epoxy group of an epoxy resin used as an insulating material for a printed wiring board, a maleimide resin, or (meth) An addition reaction easily occurs to a C = C unsaturated double bond such as an acrylic resin, and a chemical bond can be formed with these resins. Therefore, when the surface treatment method of the present invention is used, the heat resistance of the printed wiring board and the adhesion between the inner layer copper foil circuit and the insulating resin layer thereon are improved, and the reliability of the multilayer printed wiring board is further improved. Not only can it be significantly improved, but it also has excellent effects on the surface treatment of the inner layer circuit of multilayer printed wiring boards using conventional prepregs made of epoxy resin or maleimide resin and the improvement of the adhesion of solder resist. Useful.

【0023】本発明による多層プリント配線板の製造に
おいて、本発明による表面処理を行なった銅箔回路上に
形成する絶縁樹脂層に用いることができる樹脂は上述の
理由から、エポキシ樹脂、マレイミド樹脂、(メタ)ア
クリル樹脂、ジアリルフタレート樹脂、トリアジン樹脂
などプリント配線板用途に用いられている樹脂は何れも
使用することができる。このうちエポキシ樹脂は銅との
接着性が比較的高いため、本発明による表面処理を行わ
なくても、化学研磨のみ、または黒化処理後に還元処理
をした内層回路を使用することもできるが、本発明の表
面処理を行うと銅箔回路と絶縁樹脂層との接着性が更に
向上する。
In the production of the multilayer printed wiring board according to the present invention, the resin which can be used for the insulating resin layer formed on the copper foil circuit subjected to the surface treatment according to the present invention is epoxy resin, maleimide resin, Any resin used for printed wiring boards, such as (meth) acrylic resin, diallyl phthalate resin, and triazine resin, can be used. Of these, the epoxy resin has a relatively high adhesiveness to copper, so even without performing the surface treatment according to the present invention, it is possible to use only the chemical polishing or the inner layer circuit that has been subjected to the reduction treatment after the blackening treatment. By performing the surface treatment of the present invention, the adhesiveness between the copper foil circuit and the insulating resin layer is further improved.

【0024】一方、(メタ)アクリル樹脂、マレイミド
樹脂およびジアリルフタレート樹脂等の硬化反応に関与
する官能基がC=C不飽和二重結合による樹脂、或いは
これらの樹脂を主成分とする硬化性樹脂組成物は、金属
銅に対しての接着性がエポキシ樹脂に比べて劣るため、
本発明による表面処理の効果が顕著に発現する。
On the other hand, (meth) acrylic resin, maleimide resin, diallyl phthalate resin and the like have a functional group involved in the curing reaction of a resin having a C = C unsaturated double bond, or a curable resin containing these resins as a main component. The composition is inferior to epoxy resin in adhesion to metallic copper,
The effect of the surface treatment according to the present invention is remarkably exhibited.

【0025】本発明による多層プリント配線板の製造方
法において、下記の組成の絶縁樹脂組成物(以下「本発
明の樹脂組成物」と称する。)を使用すると、耐熱性、
耐ハローイング性、耐水性に優れる特徴に加えて、絶縁
樹脂層にガラスクロスを使わないことによる軽量性およ
びブラインドバイアホールの形成性に優れた多層プリン
ト配線板ができる。即ち、(1)アクリル酸および/ま
たはメタクリル酸(以下、「(メタ)アクリル酸」と称
する。)と、(メタ)アクリル酸エステルとを主成分と
する線状重合体であって、その構成成分である(メタ)
アクリル酸由来のカルボキシル基の一部または全部にグ
リシジル基およびC=C不飽和二重結合を有する化合物
を付加させた線状重合体(以下「第1成分」と称す
る。)、(2)C=C不飽和二重結合を有する重合性化
合物(以下「第2成分」と称する。)、(3)平均粒径
が5μm以下の微粒子状弾性重合体(以下「第3成分」
と称する。)、並びに(4)加熱または活性エネルギー
線の照射によって前記C=C不飽和二重結合の重合を開
始させ得る重合開始剤(以下「第4成分」と称する。)
を配合してなる絶縁樹脂組成物である。以下、本組成に
ついて詳細に説明する。明する。
In the method for producing a multilayer printed wiring board according to the present invention, when an insulating resin composition having the following composition (hereinafter referred to as “resin composition of the present invention”) is used, heat resistance is improved.
A multilayer printed wiring board having excellent characteristics of excellent resistance to haloing and water resistance, as well as excellent lightness due to no use of glass cloth in the insulating resin layer and excellent in forming blind via holes. That is, (1) a linear polymer containing acrylic acid and / or methacrylic acid (hereinafter referred to as “(meth) acrylic acid”) and (meth) acrylic acid ester as main components, and Component (meta)
A linear polymer in which a compound having a glycidyl group and a C = C unsaturated double bond is added to part or all of a carboxyl group derived from acrylic acid (hereinafter referred to as “first component”), (2) C = A polymerizable compound having an unsaturated double bond (hereinafter referred to as "second component"); (3) a particulate elastic polymer having an average particle size of 5 m or less (hereinafter "third component");
Called. And (4) a polymerization initiator capable of initiating polymerization of the C = C unsaturated double bond by heating or irradiation with an active energy ray (hereinafter referred to as “fourth component”).
And an insulating resin composition comprising: Hereinafter, the present composition will be described in detail. I will tell.

【0026】本発明で使用する第1成分である(メタ)
アクリル酸と(メタ)アクリル酸エステルとを主成分と
する線状重合体(以下「未変成アクリル系重合体」と称
する。)は、メチルアクリレートおよび/またはメチル
メタクリレート(以下「アクリレートおよび/またはメ
タクリレート」を「(メタ)アクリレート」と称す
る。)、エチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)
アクリレート、ヘキシル(メタ)アクリレート、ヒドロ
キシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル
(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メ
タ)アクリレート等の(メタ)アクリル酸エステルと、
(メタ)アクリル酸とを適当な組成比率で、イソプロピ
ルアルコール、エチレングリコールモノエチルエーテ
ル、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のアル
コール系溶媒に溶解し、アゾビスイソブチロニトリル、
ベンゾイルパーオキサイド等を開始剤とし、共重合させ
ることにより得られるものである。
The first component (meta) used in the present invention
A linear polymer containing acrylic acid and a (meth) acrylic acid ester as main components (hereinafter, referred to as “unmodified acrylic polymer”) is methyl acrylate and / or methyl methacrylate (hereinafter, “acrylate and / or methacrylate”). Is referred to as "(meth) acrylate"), ethyl (meth) acrylate, butyl (meth)
(Meth) acrylates such as acrylate, hexyl (meth) acrylate, hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate, and tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate;
(Meth) acrylic acid and an appropriate composition ratio are dissolved in an alcohol solvent such as isopropyl alcohol, ethylene glycol monoethyl ether, and propylene glycol monomethyl ether, and azobisisobutyronitrile,
It is obtained by copolymerizing benzoyl peroxide or the like as an initiator.

【0027】未変性アクリル系重合体は、(メタ)アク
リル酸および(メタ)アクリル酸エステル以外の別成分
として、スチレン、アクリロニトリル等のビニル化合物
を共重合させることも可能であり、特に耐熱性、耐水性
を必要とする場合はスチレンを該重合体を構成する全単
量体に対し5〜30重量%の範囲で共重合させると良
い。
The unmodified acrylic polymer can be copolymerized with a vinyl compound such as styrene or acrylonitrile as another component other than (meth) acrylic acid and (meth) acrylic acid ester. When water resistance is required, styrene is preferably copolymerized in a range of 5 to 30% by weight based on all monomers constituting the polymer.

【0028】未変性アクリル系重合体中の、(メタ)ア
クリル酸とその他の成分との比率は、硬化前の本発明の
樹脂組成物にアルカリ可溶性を付与させるためには、最
終組成物としての酸価を0.5〜3.0meq/gの範
囲に調整する必要があり、また後述するように、未変性
アクリル系重合体の構成成分である(メタ)アクリル酸
由来のカルボキシル基の一部をグリシジル基およびC=
C不飽和二重結合を有する化合物との付加に利用する場
合のことを考慮すると、(メタ)アクリル酸が該重合体
を構成する全単量体に対し、20〜50重量%であるこ
とが好ましい。
In order to impart alkali solubility to the resin composition of the present invention before curing, the ratio of (meth) acrylic acid to the other components in the unmodified acrylic polymer is determined as the final composition. It is necessary to adjust the acid value in the range of 0.5 to 3.0 meq / g, and as described later, a part of the carboxyl group derived from (meth) acrylic acid which is a constituent component of the unmodified acrylic polymer. Is a glycidyl group and C =
Considering the case where the polymer is used for addition with a compound having a C-unsaturated double bond, (meth) acrylic acid may be 20 to 50% by weight based on all monomers constituting the polymer. preferable.

【0029】硬化前の本発明の樹脂組成物にアルカリ溶
解性が必要でない場合は酸価を考慮する必要がないの
で、(メタ)アクリル酸の量をグリシジル基およびC=
C不飽和二重結合を有する化合物に対して当量以上にな
るように重合すればよい。
When alkali solubility is not required for the resin composition of the present invention before curing, it is not necessary to consider the acid value. Therefore, the amount of (meth) acrylic acid is changed to the glycidyl group and C =
What is necessary is just to superpose | polymerize so that it may become more than equivalent with respect to the compound which has a C unsaturated double bond.

【0030】本発明の第1成分は、前記未変性アクリル
系重合体の構成成分である(メタ)アクリル酸由来のカ
ルボキシル基の一部または全部に、一分子中にグリシジ
ル基およびC=C不飽和二重結合を有する化合物を付加
させたものである。
The first component of the present invention comprises, in one molecule, a glycidyl group and a C = C compound in a part or all of the carboxyl group derived from (meth) acrylic acid which is a constituent component of the unmodified acrylic polymer. A compound having a saturated double bond is added.

【0031】該化合物は加熱または電子線若しくは紫外
線のようなC=C二重結合を重合させ得るような活性エ
ネルギー線により本発明の樹脂組成物を不溶不融化さ
せ、かつ配線基板として充分な機械物性を付与する効果
を有する。該化合物の具体例としては、グリシジル(メ
タ)アクリレート、アリルグリシジルエーテル、ビニル
ベンジルグリシジルエーテル、4−グリシジルオキシ−
3,5−ジメチルベンジルアクリルアミド等が挙げら
れ、これらの中では、入手し易さ、カルボキシル基への
付加反応が容易に可能な点で、グリシジル(メタ)アク
リレートが好ましい。
The compound is capable of insolubilizing and insolubilizing the resin composition of the present invention by heating or an active energy ray capable of polymerizing a C = C double bond such as an electron beam or an ultraviolet ray, and having sufficient mechanical properties as a wiring board. It has the effect of imparting physical properties. Specific examples of the compound include glycidyl (meth) acrylate, allyl glycidyl ether, vinylbenzyl glycidyl ether, 4-glycidyloxy-
Glycidyl (meth) acrylate is preferred in view of availability and easy addition reaction to a carboxyl group.

【0032】また本発明者等の発明に係る特開平7−2
33226号に開示した臭素化フェニルグリシジルエー
テルのような他のグリシジル化合物を用いても良い。
Further, Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 7-2 according to the present inventors' inventions
Other glycidyl compounds, such as the brominated phenyl glycidyl ether disclosed in US Pat. No. 33226, may be used.

【0033】第1成分は本発明の樹脂組成物を銅箔等の
金属箔に塗工乾燥して製造する、多層プリント配線板用
に好適な銅張絶縁シートにして保存する際、ロール端か
らの樹脂のしみだしや巻きずれを防止する効果を得るこ
とができ、更に塗工乾燥後の樹脂のひび割れや銅箔から
の脱落を防止するために必要不可欠な成分であり、その
最適量は本発明の樹脂組成物全体の10〜60%であ
る。
The first component is prepared by coating and drying the resin composition of the present invention on a metal foil such as a copper foil. When storing as a copper-clad insulating sheet suitable for a multilayer printed wiring board, the first component is used from the end of the roll. It is an indispensable component to prevent the exudation and winding deviation of the resin, and to prevent the resin from cracking and falling off from the copper foil after coating and drying. It is 10 to 60% of the entire resin composition of the present invention.

【0034】次に、第2成分であるC=C不飽和二重結
合を有する重合性化合物について説明する。これらは、
末端にアクリロイル基、メタクリロイル基、アリル基ま
たはビニル基等を有する化合物である。具体的には二重
結合が1個のメチル(メタ)アクリレート、ブチル(メ
タ)アクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート、
ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプ
ロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−フ
ェノキシプロピルアクリレート等の単官能(メタ)アク
リレート類、あるいは、スチレン、アクリロニトリル等
ビニル基を有する化合物あるいはアリルフェノール、オ
イゲノール等アリル基を有する化合物、あるいはN−フ
ェニルマレイミド、p−ヒドロキシ−N−フェニルマレ
イミド、p−クロロ−N−フェニルマレイミド等マレイ
ミド基を有する化合物等が挙げられ、二重結合が2個の
ものでは、1,3−ブタンジオールジ(メタ)アクリレ
ート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、
ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリ
プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ビスフ
ェノールA型エポキシのジ(メタ)アクリレート、ウレ
タン(メタ)アクリレート等のジ(メタ)アクリレート
類、あるいはジビニルベンゼン等ビニル化合物類、ある
いは、ジアリルフタレート、ビスフェノールAのジアリ
ルエーテル等アリル化合物類がある。また、二重結合が
3個以上のものでは、トリメチロールプロパントリ(メ
タ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)
アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)
アクリレート、フェノールノボラック型エポキシ(メ
タ)アクリレート、トリアリルイソシアヌレート等が挙
げられる。
Next, the polymerizable compound having a C = C unsaturated double bond as the second component will be described. They are,
A compound having an acryloyl group, a methacryloyl group, an allyl group, a vinyl group, or the like at a terminal. Specifically, a double bond has one methyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl acrylate,
Monofunctional (meth) acrylates such as hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate, and 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate; or compounds having a vinyl group such as styrene and acrylonitrile, or allylphenol, eugenol, and the like Compounds having an allyl group, or compounds having a maleimide group such as N-phenylmaleimide, p-hydroxy-N-phenylmaleimide, p-chloro-N-phenylmaleimide, and the like, and those having two double bonds, 1,3-butanediol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate,
Di (meth) acrylates such as polyethylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, bisphenol A type epoxy di (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate, or vinyl compounds such as divinylbenzene, or And allyl compounds such as diallyl phthalate and diallyl ether of bisphenol A. When the number of double bonds is three or more, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth)
Acrylate, dipentaerythritol hexa (meth)
Acrylate, phenol novolak type epoxy (meth) acrylate, triallyl isocyanurate and the like can be mentioned.

【0035】上記化合物の中では、ポリプロピレングリ
コールジ(メタ)アクリレートのように架橋点間が長く
柔軟な硬化物を与える化合物と、第1成分との相溶性の
点で、ウレタン(メタ)アクリレート、ポリプロピレン
グリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリ
コールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパ
ントリ(メタ)アクリレートまたはペンタエリスリトー
ルトリ(メタ)アクリレートが好ましい。また、これら
化合物の配合量は、第1成分100重量部に対して、1
0〜200重量部の範囲が耐熱性の点で好ましい。
Among the above compounds, a compound such as polypropylene glycol di (meth) acrylate, which has a long crosslinking point and gives a soft cured product, and urethane (meth) acrylate, which is compatible with the first component, Preferred are polypropylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate or pentaerythritol tri (meth) acrylate. The compounding amount of these compounds is 1 to 100 parts by weight of the first component.
The range of 0 to 200 parts by weight is preferable from the viewpoint of heat resistance.

【0036】第3成分である平均粒径が5μm以下の微
粒子状弾性重合体は、本発明の樹脂組成物を硬化後に、
硬化物中に均一に分散していることによって海島構造の
島に相当する構造を形成し、耐衝撃性を向上させるもの
である。具体的にはMBS樹脂、アクリルゴム、架橋N
BR等が挙げられる。これらの平均粒子径は5μm以下
である。5μmを超える場合は、本発明の樹脂組成物の
うち第3成分以外の各成分を溶剤に溶かした樹脂ワニス
中での第3成分の分散性が悪くなり安定性が得られなく
なる。第3成分の配合量は、本発明の樹脂組成物が十分
な耐衝撃性を得るためには、本発明の樹脂組成物全体の
5〜40重量%の範囲で添加することが好ましい。40
重量%を超えて配合する場合は、耐衝撃性の点では問題
はないが、本発明の樹脂組成物を溶剤と混合してなる樹
脂ワニスを製造した場合、第3成分が分離し易く、ワニ
スの安定性が低下したり、銅箔に塗工乾燥する際に塗工
ムラや気泡の発生が起こり易くなるため好ましくない。
The third component, the fine particle-like elastic polymer having an average particle diameter of 5 μm or less, is obtained by curing the resin composition of the present invention.
By uniformly dispersing in the cured product, a structure corresponding to an island having a sea-island structure is formed, and the impact resistance is improved. Specifically, MBS resin, acrylic rubber, cross-linked N
BR and the like. Their average particle size is 5 μm or less. If it exceeds 5 μm, the dispersibility of the third component in the resin varnish obtained by dissolving each component other than the third component in a solvent in the resin composition of the present invention becomes poor, and stability cannot be obtained. The amount of the third component is preferably in the range of 5 to 40% by weight based on the total weight of the resin composition of the present invention in order for the resin composition of the present invention to obtain sufficient impact resistance. 40
When the amount is more than 10% by weight, there is no problem in terms of impact resistance. However, when a resin varnish obtained by mixing the resin composition of the present invention with a solvent is produced, the third component is easily separated, and the varnish is easily removed. Is unfavorable because the stability of the resin composition is lowered and coating unevenness and air bubbles are apt to occur when coating and drying the copper foil.

【0037】第3成分を本発明の樹脂組成物中に分散さ
せる方法としては、予めメチルエチルケトン等の溶剤中
に第3成分を加えてホモミキサー等により分散した後
に、本発明の樹脂組成物を構成する他の成分を配合する
か、第3成分、溶剤および他の成分を配合後ホモミキサ
ーを用いて分散する等の手段を用い、微粒子の二次凝集
をほぐしておくことが好ましい。またその他の方法とし
て三本ロール、ボールミル等も好適である。二次凝集が
十分ほぐされないまま使用すると第3成分が樹脂ワニス
中で分離してワニスの保存安定性が著しく低下し、また
このワニスを銅箔に塗工しても均一な塗膜が得られない
ため、本発明の樹脂組成物を塗工した銅張絶縁シートを
銅箔回路を有する内層基板上に加熱ラミネートする際、
気泡がかみ易くなり、絶縁信頼性を低下させる。また凝
集した粒子が大きい場合は塗工した銅張絶縁シートを、
重ねたり巻き取ったりして保存する間に銅箔を変形させ
てしまうために、エッチング法による微細な回路の形成
が著しく損なわれる恐れがある。
As a method for dispersing the third component in the resin composition of the present invention, the third component is added in advance to a solvent such as methyl ethyl ketone and dispersed by a homomixer or the like, and then the composition of the resin composition of the present invention is prepared. Preferably, the secondary aggregation of the fine particles is loosened by mixing other components, or dispersing the third component, solvent and other components using a homomixer after mixing. Further, as another method, a three-roll, ball mill or the like is also suitable. If used without sufficiently coagulating the secondary coagulation, the third component is separated in the resin varnish, and the storage stability of the varnish is significantly reduced. Even if this varnish is applied to a copper foil, a uniform coating film is obtained. When not heat-laminated copper-clad insulating sheet coated with the resin composition of the present invention on an inner substrate having a copper foil circuit,
Bubbles are more likely to bite and lower insulation reliability. If the agglomerated particles are large, apply a coated copper-clad insulating sheet,
Since the copper foil is deformed while being stored after being stacked or wound, the formation of a fine circuit by the etching method may be significantly impaired.

【0038】第4成分である重合開始剤のうち、加熱に
よる開始剤としては、有機過酸化物系、アゾビス系が挙
げられる。この中では、分解開始温度が高いため保存安
定性が良い点と、分解した時に低分子量の揮発性成分の
発生が少ない点から、ジアルキルパーオキサイドが好ま
しく、具体的にはジクミルパーオキサイド、t−ブチル
クミルパーオキサイド、2,5−ジメチル−2,5−ジ
(t−ブチルパーオキシ)ヘキサンおよび2,5−ジメ
チル−2,5−ジ(t−ブチルパーオキシ)ヘキシン等
が挙げられる。また、その配合量は、本発明の樹脂組成
物100重量部に対して0.5〜5重量部が好ましい。
0.5重量部未満では重合が不十分となり、5重量部を
超えるとシェルフライフが短くなるとともに開始剤の分
解物の量が多く発生するために耐熱性が損なわれる恐れ
がある。
Among the polymerization initiators as the fourth component, examples of the initiator by heating include an organic peroxide type and an azobis type. Among these, dialkyl peroxides are preferred from the viewpoint of high storage stability due to a high decomposition initiation temperature and low generation of low molecular weight volatile components when decomposed. Specifically, dicumyl peroxide, t -Butylcumyl peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-di (t-butylperoxy) hexane and 2,5-dimethyl-2,5-di (t-butylperoxy) hexyne. Further, the amount is preferably 0.5 to 5 parts by weight based on 100 parts by weight of the resin composition of the present invention.
If the amount is less than 0.5 part by weight, the polymerization is insufficient. If the amount exceeds 5 parts by weight, the shelf life is shortened and the amount of the decomposition product of the initiator is increased, so that the heat resistance may be impaired.

【0039】第4成分である重合開始剤のうち、紫外線
による開始剤としては、芳香族ケトンのベンゾフェノ
ン、ミヒラーのケトン、キサントン、チオキサントン、
2−エチルアントラキノン;アセトフェノン類としてア
セトフェノン、トリクロロアセトフェノン、2−ヒドロ
キシ−2−メチルプロピオフェノン、1−ヒドロキシシ
クロヘキシルフェニルケトン、ベンゾインイソプロピル
エーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、2,2−ジ
エトキシアセトフェノン等;ジケトン類としてベンジ
ル、メチルベンゾイルフォルメート等が挙げられる。そ
の配合量は、本発明の樹脂組成物100重量部に対して
0.5〜10重量部が好ましい。なお、活性エネルギー
線のうち電子線による硬化を用いる場合は、重合開始剤
は必須ではない。
Among the polymerization initiators as the fourth component, the initiators caused by ultraviolet rays include aromatic ketones such as benzophenone, Michler's ketone, xanthone and thioxanthone.
2-ethylanthraquinone; acetophenones such as acetophenone, trichloroacetophenone, 2-hydroxy-2-methylpropiophenone, 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, and 2,2-diethoxyacetophenone; diketones And benzyl, methylbenzoyl formate and the like. The compounding amount is preferably 0.5 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the resin composition of the present invention. In the case where curing by an electron beam among the active energy rays is used, the polymerization initiator is not essential.

【0040】本発明の樹脂組成物は、少なくとも上記4
成分を必須成分として配合してなる樹脂組成物である
が、該樹脂組成物に難燃性を付与するためには、さらに
第5成分として、ハロゲン化フェノール化合物のグリシ
ジルエーテルと(メタ)アクリル酸との反応物、並びに
/或いは第6成分として、リンまたはリン系難燃剤を追
加することが好ましい。
The resin composition of the present invention comprises at least the above 4
It is a resin composition containing the components as essential components. In order to impart flame retardancy to the resin composition, a glycidyl ether of a halogenated phenol compound and (meth) acrylic acid are further added as a fifth component. It is preferable to add phosphorus or a phosphorus-based flame retardant as a reactant with and / or as the sixth component.

【0041】第5成分であるハロゲン化フェノール化合
物のグリシジルエーテルと(メタ)アクリル酸との反応
物の具体例としては、テトラブロモビスフェノールAジ
グリシジルエーテルと(メタ)アクリル酸との反応物、
テトラブロモビスフェノールA骨格および臭素を含有し
ないビスフェノールAを共に含有するエポキシ樹脂(例
えばダウ社製DER514)と(メタ)アクリル酸との
反応物等が挙げられ、所望により2種類以上を使用する
こともできる。またテトラブロモビスフェノールAの副
生成物として含まれるモノブロモ体やジブロモ体等ビス
フェノールA骨格当たりの臭素置換数の異なる化合物が
存在していてもよい。また単官能の臭素化エポキシ樹脂
(例えば日本化薬(株)製BROCシリーズ)と(メ
タ)アクリル酸との反応物や多官能の臭素化エポキシ樹
脂(例えば日本化薬(株)製BRENシリーズ)と(メ
タ)アクリル酸の反応物を使用することもできる。これ
らの中では、本樹脂組成物に用いた場合に強度と適度な
柔軟性を合わせ持つことができる2官能性の化合物が好
ましく、ハロゲンの種類としては臭素が難燃性が優れる
ため特に好ましい。これらの化合物は所望により2種類
以上を添加することもできる。また第5成分の添加量は
本発明の樹脂組成物中において、臭素含有量が5〜25
重量%になるようにすることが好ましい。
Specific examples of the reaction product of the glycidyl ether of the halogenated phenol compound, which is the fifth component, with (meth) acrylic acid include a reaction product of tetrabromobisphenol A diglycidyl ether with (meth) acrylic acid.
Examples include a reaction product of a tetrabromobisphenol A skeleton and an epoxy resin (for example, DER514 manufactured by Dow) containing both bromine-free bisphenol A and (meth) acrylic acid. If desired, two or more kinds may be used. it can. Further, compounds having different bromine substitution numbers per bisphenol A skeleton, such as a monobromo compound and a dibromo compound, which are contained as by-products of tetrabromobisphenol A, may be present. Further, a reaction product of a monofunctional brominated epoxy resin (eg, BROC series manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) and (meth) acrylic acid or a polyfunctional brominated epoxy resin (eg, BREN series manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) And a (meth) acrylic acid reactant can also be used. Among these, a bifunctional compound that can have both strength and appropriate flexibility when used in the present resin composition is preferable, and bromine is particularly preferable as a halogen type because of its excellent flame retardancy. If desired, two or more of these compounds can be added. The amount of the fifth component to be added is 5 to 25 in the resin composition of the present invention.
%.

【0042】臭素含有量が5重量%未満では、後述の第
6成分由来のリンを2重量%以上配合しないと、本発明
の樹脂組成物の硬化物の難燃性が十分に得られなく、リ
ンを多量に配合することは絶縁性を低下させるために好
ましくない。臭素配合量が25重量%を超える場合も難
燃性は得られるが加熱時にハロゲン化合物が脱離し易く
なりはんだ耐熱性や長期の信頼性が低下するため好まし
くない。
If the bromine content is less than 5% by weight, the flame retardancy of the cured product of the resin composition of the present invention cannot be sufficiently obtained unless 2% by weight or more of phosphorus derived from the sixth component described below is added. It is not preferable to mix a large amount of phosphorus because the insulating property is reduced. When the amount of bromine is more than 25% by weight, flame retardancy can be obtained, but the halogen compound is liable to be removed during heating, and solder heat resistance and long-term reliability are undesirably reduced.

【0043】第6成分であるリン酸エステルの具体例と
しては、トリクレジルホスフェート、トリ(2,6−ジ
メチルフェニル)ホスフェート(大八化学工業(株)製
PX130)、トリアリールホスフェート(味の素
(株)製レオフォス)等が使用でき、所望により2種類
以上を添加することもできる。またリン単体である赤燐
も難燃効果が高く、その微粉末たとえば日本化学工業
(株)製ヒシガードCPなども使用できる。
Specific examples of the sixth component phosphate ester include tricresyl phosphate, tri (2,6-dimethylphenyl) phosphate (PX130 manufactured by Daihachi Chemical Industry Co., Ltd.), and triaryl phosphate (Ajinomoto ( Reophos) available from Co., Ltd. can be used, and if desired, two or more kinds can be added. Red phosphorus, which is a simple substance of phosphorus, also has a high flame-retardant effect, and its fine powder, for example, Hishigard CP manufactured by Nippon Chemical Industry Co., Ltd. can be used.

【0044】第6成分の配合量は本発明の樹脂組成物中
のリン含有量が0.1〜2重量%の範囲になるようにす
ることが好ましい。リンの含有量が0.1重量%未満の
場合には臭素化合物をより多く配合しないと難燃性が得
られないため、はんだ付けの際にハロゲン化物の分解物
が多く発生して耐熱性が十分でなくなり、2重量%を超
えると電気的な絶縁性が悪くなり易い。
The compounding amount of the sixth component is preferably such that the phosphorus content in the resin composition of the present invention is in the range of 0.1 to 2% by weight. When the phosphorus content is less than 0.1% by weight, flame retardancy cannot be obtained unless a larger amount of a bromine compound is added, so that a large amount of halide decomposed products are generated during soldering, and heat resistance is reduced. If it is not sufficient, and if it exceeds 2% by weight, electrical insulation tends to deteriorate.

【0045】本発明の樹脂組成物には、さらに通常使用
されるようなタルク、炭酸カルシウムまたはシリカ等の
無機充填材、レベリング剤、消泡剤、顔料またはイオン
捕捉剤等の添加剤、或いは溶剤を必要に応じて追加して
もよい。
The resin composition of the present invention may further contain an additive such as an inorganic filler such as talc, calcium carbonate or silica, a leveling agent, a defoaming agent, a pigment or an ion scavenger, which is usually used, or a solvent. May be added as needed.

【0046】樹脂ワニスにする際の溶剤としては、第3
成分以外の各成分を溶解すると共に本発明の樹脂組成物
を銅箔に塗工後、該樹脂組成物が重合しない程度の加熱
および時間で揮発するものが好ましく、具体的にはメチ
ルエチルケトン、エタノールおよびイソプロピルアルコ
ール等沸点が100℃未満のものが挙げられる。該溶剤
は、樹脂ワニスの固型分濃度が30〜80重量%となる
ように配合することが好ましい。
As the solvent for forming the resin varnish,
After dissolving each component other than the components and applying the resin composition of the present invention to the copper foil, those which volatilize by heating and time to such an extent that the resin composition does not polymerize, specifically, methyl ethyl ketone, ethanol and Those having a boiling point of less than 100 ° C., such as isopropyl alcohol, may be mentioned. The solvent is preferably blended so that the solid content of the resin varnish is 30 to 80% by weight.

【0047】本発明の樹脂組成物は、前述の銅張絶縁シ
ートによる多層プリント配線板の製造方法に好適であ
る。この方法を用いれば、内層の銅箔回路と外層の導体
回路間の電気的な接続をするためのブラインドバイアホ
ールの形成が従来1穴ずつドリルで明けていたところ
を、樹脂組成物としてアルカリ可溶性を付与したものを
用いれば、所定位置の銅箔をエッチング法で取り除き、
露出した樹脂組成物をアルカリ水溶液で溶解除去するこ
とにより一度に多数個のブラインドバイアホールを形成
することができ更に生産効率を上げることができる。露
出した樹脂組成物の除去はアセトン、メチルエチルケト
ン等のケトン類やメタノール、エタノール等のアルコー
ル類、セロソルブ、カルビトール等の有機溶剤、もしく
は有機溶剤を含む水溶液を使用しても可能であるが良好
な作業環境が保たれる点でアルカリ水溶液が好ましい。
The resin composition of the present invention is suitable for the method for producing a multilayer printed wiring board using the above-mentioned copper-clad insulating sheet. With this method, the formation of blind via holes for making electrical connection between the inner layer copper foil circuit and the outer layer conductor circuit has conventionally been drilled one by one. If used, the copper foil at a predetermined position is removed by an etching method,
By dissolving and removing the exposed resin composition with an aqueous alkali solution, a large number of blind via holes can be formed at once, and the production efficiency can be further increased. Removal of the exposed resin composition is also possible using an aqueous solution containing an organic solvent such as acetone, ketones such as methyl ethyl ketone and the like, alcohols such as methanol and ethanol, cellosolve and carbitol, or an organic solvent. An alkaline aqueous solution is preferable in that the working environment is maintained.

【0048】従来のガラスエポキシ積層板の誘電率は1
MHzで4.7〜5.0である。エポキシ樹脂単独では
誘電率が3.7であるがガラスクロスを補強材に使用す
ると誘電率が大きくなることが知られている。本発明の
樹脂組成物を絶縁樹脂とした場合は、ガラスクロスがな
いことそして樹脂の特性から、誘電率は1MHzで2.
9〜3.5であり、層間絶縁材料として使用する場合に
は信号伝送の高速化に有利になる。
The dielectric constant of the conventional glass epoxy laminate is 1
It is 4.7-5.0 in MHz. The epoxy resin alone has a dielectric constant of 3.7, but it is known that the dielectric constant increases when glass cloth is used as a reinforcing material. When the resin composition of the present invention is an insulating resin, the dielectric constant is 1 MHz at 1 MHz because of the absence of glass cloth and the characteristics of the resin.
When it is used as an interlayer insulating material, it is advantageous for speeding up signal transmission.

【0049】[0049]

【作用】本発明で用いる表面処理を行なった銅箔回路を
内層基板上に有する多層プリント配線板は耐熱性が著し
く高められる。その理由は銅箔の光沢面を粗化した事に
より、その上の絶縁樹脂層との間にアンカー効果が生じ
ることに加えて、絶縁樹脂層との接着性が一般的に低い
金属銅の表面を樹脂と反応性が高い化合物で被覆したこ
とによる相乗効果によるものと推察される。
The heat resistance of the multilayer printed wiring board having the surface-treated copper foil circuit on the inner layer substrate used in the present invention is remarkably improved. The reason for this is that roughening the glossy surface of the copper foil causes an anchor effect between the copper foil and the insulating resin layer above it, and in addition, the surface of metallic copper that generally has low adhesion to the insulating resin layer Is presumed to be due to a synergistic effect of coating with a compound having high reactivity with the resin.

【0050】[0050]

【実施例】以下、実施例を示して本発明を詳細に説明す
る。 (ベースポリマーの合成)n−ブチルアクリレート2
6.8重量部、スチレン5.2重量部、アクリル酸2
6.8重量部およびアゾビスイソブチロニトリル0.2
5重量部からなる混合物を、窒素ガス雰囲気下で温度7
5℃に保持したメチルエチルケトンおよびエタノールの
混合溶剤(混合比率=7対3)100重量部中に5時間
かけて滴下した。その後0.5時間熟成し、更にアゾビ
スイソブチロニトリル0.3重量部を加えて4時間熟成
することにより未変性アクリル系重合体を合成した。次
に重合禁止剤としてハイドロキノン0.23重量部を加
えて微量の空気を吹き込みながら、N,N-ジメチルベンジ
ルアミン1.5重量部およびグリシジルメタクリレート
14.7重量部を加え、温度77℃で10時間反応させ
て、分子量15,000〜50,000、酸価2.25
meq/g 、不飽和基含有量0.9モル/kgのカルボキシル
基を有する第1成分(以下「ベースポリマー」と称す
る。)を合成した。
The present invention will be described in detail below with reference to examples. (Synthesis of base polymer) n-butyl acrylate 2
6.8 parts by weight, 5.2 parts by weight of styrene, acrylic acid 2
6.8 parts by weight and 0.2 of azobisisobutyronitrile
The mixture consisting of 5 parts by weight was heated at a temperature of 7 under a nitrogen gas atmosphere.
The mixture was dropped into 100 parts by weight of a mixed solvent of methyl ethyl ketone and ethanol (mixing ratio = 7: 3) maintained at 5 ° C. over 5 hours. Thereafter, the mixture was aged for 0.5 hour, and further 0.3 parts by weight of azobisisobutyronitrile was added, followed by aging for 4 hours to synthesize an unmodified acrylic polymer. Then, while adding 0.23 parts by weight of hydroquinone as a polymerization inhibitor and blowing in a small amount of air, 1.5 parts by weight of N, N-dimethylbenzylamine and 14.7 parts by weight of glycidyl methacrylate were added. After reacting for an hour, the molecular weight is 15,000 to 50,000, and the acid value is 2.25.
A first component having a carboxyl group having a meq / g of 0.9 mol / kg and an unsaturated group content of 0.9 mol / kg (hereinafter referred to as "base polymer") was synthesized.

【0051】(樹脂組成物の調製)上述のように合成し
たベースポリマーを固型分換算で30重量部、エチレン
オキサイド変性ビスフェノールAジアクリレート(東亞
合成(株)製アロニックスM210)を10重量部、臭
素化エポキシメタクリレート(固形分中の臭素含有量は
約38%)を固形分換算で40重量部、トリアリールリ
ン酸(リン含有量8%)7重量部および熱重合開始剤
(日本油脂(株)製パーヘキシン25B)2.0重量部
を配合し良く混合した。ここに予め2本ロールで素練り
したアクリルゴム微粒子(日本合成ゴム(株)製DHS
−2、平均粒径0.07μm)をメチルエチルケトンに
固型分濃度20重量%で分散した分散液を100重量部
添加し、ホモディスパー(特殊機化(株)製)を用いて
よく混合して樹脂組成物を調製し、メチルエチルケトン
を加えて粘度を約700cpsとした後、300目のろ
布でろ過し更に孔径5μmのフィルターを用いて加圧ろ
過して樹脂ワニスを調製した。
(Preparation of Resin Composition) 30 parts by weight of the base polymer synthesized as described above in terms of solid content, 10 parts by weight of ethylene oxide-modified bisphenol A diacrylate (Aronix M210 manufactured by Toagosei Co., Ltd.) 40 parts by weight of brominated epoxy methacrylate (bromine content in solid content is about 38%), 7 parts by weight of triarylphosphoric acid (phosphorus content 8%) in terms of solid content, and a thermal polymerization initiator (Nippon Oil & Fats Co., Ltd. ) Perhexin 25B) 2.0 parts by weight were blended and mixed well. Acrylic rubber fine particles previously kneaded with two rolls (DHS manufactured by Nippon Synthetic Rubber Co., Ltd.)
-2, an average particle size of 0.07 μm) is dispersed in methyl ethyl ketone at a solid content concentration of 20% by weight, and 100 parts by weight of the dispersion is added thereto. A resin composition was prepared, and methyl ethyl ketone was added to adjust the viscosity to about 700 cps. Then, the mixture was filtered through a 300th filter cloth, and further filtered under pressure using a filter having a pore size of 5 μm to prepare a resin varnish.

【0052】(実施例1) (内層基板の表面処理)両面銅張り積層板(住友ベーク
ライト(株)製:ELC4765)を40℃に保持した
有機酸系腐食液(メック(株)製メックエッチボンドC
Z8100)で90秒間スプレー処理した後、水洗し、
5重量%硫酸水溶液で10秒間洗浄してから、更に水洗
して表面に約3μmの凹凸を形成した。この基板を濃度
1重量%で予め調製したs−トリアジン−2,4,6−
トリチオール(三協化成(株)製ジスネットF)とアセ
トン/エタノール混合溶媒(混合比率=1:1)とから
なる溶液に10秒間浸した後、水洗、乾燥してテストピ
ース作製用内層基板とした。この内層基板を使用して後
述の方法でテストピースを作製し評価を行った。結果を
表1に記載した。
(Example 1) (Surface Treatment of Inner Layer Substrate) An organic acid-based corrosive liquid (MEC etch bond manufactured by MEC Corporation) holding a double-sided copper-clad laminate (ELC4765 manufactured by Sumitomo Bakelite Co., Ltd.) at 40 ° C. C
Z8100) after spraying for 90 seconds, washing with water,
After washing with a 5% by weight sulfuric acid aqueous solution for 10 seconds, it was further washed with water to form irregularities of about 3 μm on the surface. This substrate was prepared in advance at a concentration of 1% by weight of s-triazine-2,4,6-
After immersing in a solution containing trithiol (Disnet F, manufactured by Sankyo Kasei Co., Ltd.) and a mixed solvent of acetone / ethanol (mixing ratio = 1: 1) for 10 seconds, washing with water and drying, it was used as an inner layer substrate for producing a test piece. . Using this inner layer substrate, a test piece was prepared by the method described later and evaluated. The results are shown in Table 1.

【0053】(実施例2) (内層基板の表面処理)実施例1の場合と同様の方法で
銅箔表面に凹凸を形成した基板を濃度1重量%で予め調
製したs−トリアジン−2,4,6−トリチオールのナ
トリウム塩(三協化成(株)製ジスネットTTN)水溶
液に10秒間浸した後、水洗し、5重量%硫酸水溶液に
10秒間浸漬し、水洗の後、乾燥してテストピース作製
用内層基板とした。この内層基板を使用して後述の方法
でテストピースを作製し評価を行った。結果を表1に記
載した。
Example 2 (Surface Treatment of Inner Layer Substrate) A s-triazine-2,4 prepared in advance in the same manner as in Example 1 at a concentration of 1 wt. Immersion in an aqueous solution of sodium salt of 6,6-trithiol (Disnet TTN manufactured by Sankyo Kasei Co., Ltd.) for 10 seconds, washing with water, immersing in a 5% by weight aqueous sulfuric acid solution for 10 seconds, washing with water, and drying to prepare a test piece It was used as an inner layer substrate. Using this inner layer substrate, a test piece was prepared by the method described later and evaluated. The results are shown in Table 1.

【0054】(比較例1) (内層基板の表面処理)実施例1と同様の方法で銅箔表
面に凹凸を形成した基板をそのまま乾燥して、テストピ
ース作製用内層基板とした。この内層基板を使用して後
述の方法でテストピースを作製し評価を行った。結果を
表1に記載した。
(Comparative Example 1) (Surface Treatment of Inner Layer Substrate) A substrate having a copper foil surface with irregularities formed in the same manner as in Example 1 was directly dried to obtain an inner layer substrate for producing a test piece. Using this inner layer substrate, a test piece was prepared by the method described later and evaluated. The results are shown in Table 1.

【0055】(比較例2) (内層基板の表面処理)両面銅張り積層板(住友ベーク
ライト(株)製:ELC4765)の銅箔を黒化処理し
て乾燥し、テストピース作製用内層基板とした。この内
層基板を使用して後述の方法でテストピースを作製し評
価を行った。結果を表1に記載した。
(Comparative Example 2) (Surface Treatment of Inner Layer Substrate) A copper foil of a double-sided copper-clad laminate (manufactured by Sumitomo Bakelite Co., Ltd .: ELC4765) was blackened and dried to obtain an inner layer substrate for producing test pieces. . Using this inner layer substrate, a test piece was prepared by the method described later and evaluated. The results are shown in Table 1.

【0056】(比較例3) (内層基板の表面処理)両面銅張り積層板(住友ベーク
ライト(株)製:ELC4765)の銅箔を黒化処理し
た後、還元処理を行ない、乾燥してテストピース作製用
内層基板とした。この内層基板を使用して後述の方法で
テストピースを作製し評価を行った。結果を表1に記載
した。
(Comparative Example 3) (Surface Treatment of Inner Layer Substrate) A copper foil of a double-sided copper-clad laminate (manufactured by Sumitomo Bakelite Co., Ltd .: ELC4765) is subjected to a blackening treatment, then subjected to a reduction treatment, dried and dried to form a test piece An inner layer substrate for fabrication was used. Using this inner layer substrate, a test piece was prepared by the method described later and evaluated. The results are shown in Table 1.

【0057】(比較例4) (内層基板の表面処理)実施例1の場合と同様の方法で
銅箔表面に凹凸を形成した基板を、濃度1重量%で予め
調製したs−トリアジン−2−ジブチルアミノ−4,6
−ジチオール(三協化成(株)製ジスネットDB)アセ
トン溶液に10秒間浸した後、水洗の後、乾燥してテス
トピース作製用内層基板とした。この内層基板を使用し
て後述の方法でテストピースを作製し評価を行った。結
果を表1に記載した。
(Comparative Example 4) (Surface Treatment of Inner Layer Substrate) A substrate having irregularities formed on the surface of a copper foil in the same manner as in Example 1 was prepared at a concentration of 1% by weight to prepare s-triazine-2-. Dibutylamino-4,6
-Dithiol (Disnet DB, manufactured by Sankyo Kasei Co., Ltd.) was immersed in an acetone solution for 10 seconds, washed with water, and then dried to obtain an inner layer substrate for producing a test piece. Using this inner layer substrate, a test piece was prepared by the method described later and evaluated. The results are shown in Table 1.

【0058】(テストピースの作成と物性の測定)各実
施例および比較例のすべての表面処理内層基板につい
て、以下に示す方法でテストピースを作製し、物性の測
定を行なった。
(Preparation of Test Piece and Measurement of Physical Properties) For all the surface-treated inner layer substrates of each of the examples and comparative examples, test pieces were prepared by the following methods, and the physical properties were measured.

【0059】厚さ18μmの銅箔の粗化面に上記の樹脂
組成物をバーコーターを用いて塗布し、70℃で10分
間乾燥した後、更に110℃で5分乾燥して溶剤を蒸発
除去し厚さ約80μmの樹脂層を形成して銅箔と樹脂か
らなる2層構造の銅張絶縁シートを作製した。この銅張
絶縁シートは後述のラミネートするまでの間、ほこり等
の付着を防ぐため樹脂面にポリエチレン製の保護フィル
ムを貼りつけておき、必要に応じてこのフィルムをはが
してから使用した。
The above resin composition is applied to the roughened surface of a copper foil having a thickness of 18 μm using a bar coater, dried at 70 ° C. for 10 minutes, and further dried at 110 ° C. for 5 minutes to evaporate the solvent. Then, a resin layer having a thickness of about 80 μm was formed to produce a copper-clad insulating sheet having a two-layer structure composed of a copper foil and a resin. The copper-clad insulating sheet was used before being laminated until a laminating process described later was performed, in which a polyethylene protective film was stuck to the resin surface in order to prevent dust and the like from adhering.

【0060】各実施例および比較例で表面処理したガラ
スエポキシ基板の処理面側に上記銅張絶縁シートの樹脂
面を合わせて熱ロールラミネータを用いて貼り合わせ、
電子線照射装置にて加速電圧175kVの電子線を20
Mrad照射した後、170℃で30分間加熱して樹脂
層を硬化して内層基板を有する銅張積層パネルを作製し
た。
The resin surface of the copper-clad insulating sheet was bonded to the treated surface side of the glass epoxy substrate surface-treated in each of the examples and comparative examples, and bonded using a hot roll laminator.
An electron beam with an accelerating voltage of 175 kV was
After Mrad irradiation, the resin layer was cured by heating at 170 ° C. for 30 minutes to produce a copper-clad laminate panel having an inner substrate.

【0061】(はんだ耐熱試験)樹脂層を硬化した上記
パネルの外層の銅箔に厚さ約20μmの銅めっき層を形
成し、4cm角の大きさに切断し、エッチング法により
2.5cm×2.5cmの銅箔パターンを中央部に形成
してはんだ耐熱試験用のテストピースを作製した。テス
トピースを、浴温260℃および280℃の溶融はんだ
浴に銅箔面を下にして浮かべ、耐熱性を測定した。テス
トピースを浮かべている間、ピンセットでテストピース
の端部をつかみ、銅箔が膨れた時の衝撃が伝わるまでの
時間を測定し、更に膨れの有無を確認するために外層の
銅箔をエッチング除去して目視により確認した。
(Solder Heat Resistance Test) A copper plating layer having a thickness of about 20 μm was formed on the outer copper foil of the above-mentioned panel in which the resin layer was cured, cut into a size of 4 cm square, and 2.5 cm × 2 by an etching method. A test piece for a solder heat resistance test was prepared by forming a copper foil pattern of 0.5 cm at the center. The test piece was floated on a molten solder bath at a bath temperature of 260 ° C. and 280 ° C. with the copper foil side down, and the heat resistance was measured. While floating the test piece, grasp the end of the test piece with tweezers, measure the time until the impact when the copper foil swells is transmitted, and etch the outer layer copper foil to confirm the presence of swelling It was removed and visually confirmed.

【0062】(ハローイング試験)樹脂層を硬化した上
記パネルの外層の銅箔をエッチングにより除去し、樹脂
を通して表面処理をした内層の銅箔が見える状態とし
た。次にドリルを用いて直径1mmの穴を明けテストピ
ースとした。テストピースを10%塩酸に浸漬した後、
水洗、乾燥してドリル穴周囲の内層銅箔の変化を観察
し、ハローイングの有無を確認した。
(Haloing test) The outer layer copper foil of the above-mentioned panel where the resin layer was cured was removed by etching, and the inner layer copper foil surface-treated through the resin was made visible. Next, a hole having a diameter of 1 mm was formed using a drill to obtain a test piece. After immersing the test piece in 10% hydrochloric acid,
After washing with water and drying, changes in the inner layer copper foil around the drill hole were observed, and the presence or absence of haloing was confirmed.

【0063】(絶縁信頼性試験)内層基板上の銅箔にエ
ッチング法によりIPC規格に規定されているIPCB
−25テストパターンの表面絶縁抵抗測定用Aパターン
を形成した。このパターンに各実施例および比較例で説
明した表面処理を行ない、試験用内層基板とした。この
内層基板に、前述の銅張絶縁シートを絶縁抵抗値測定用
の端子を露出させるように貼り合わせた後、同様の条件
で樹脂を硬化し、最後に外層の銅箔をエッチング法によ
って除去し、テストピースとした。
(Insulation Reliability Test) IPCB specified in IPC standard by etching method on copper foil on inner layer substrate
An A pattern for measuring a surface insulation resistance of a -25 test pattern was formed. This pattern was subjected to the surface treatment described in each of the examples and the comparative examples, to obtain a test inner layer substrate. After bonding the above-mentioned copper-clad insulating sheet to the inner layer substrate so that the terminals for measuring the insulation resistance are exposed, the resin is cured under the same conditions, and finally the outer layer copper foil is removed by an etching method. , And a test piece.

【0064】作成したテストピースの端子間の絶縁抵抗
の初期値を予め測定した後、端子間に20Vの直流電圧
を印加しながら、121℃、相対湿度97%の条件で4
8時間プレッシャークッカー試験(PCT)機中に放置
後テストピースを取りだし、23℃、相対湿度60%の
条件に1時間放置してから絶縁抵抗を測定した。結果を
表1に示した。
After the initial value of the insulation resistance between the terminals of the test piece was measured in advance, the test piece was applied at 121 ° C. and a relative humidity of 97% while applying a DC voltage of 20 V between the terminals.
The test piece was taken out after being left in a pressure cooker test (PCT) machine for 8 hours, left for 1 hour at 23 ° C. and 60% relative humidity, and then the insulation resistance was measured. The results are shown in Table 1.

【0065】[0065]

【表1】 [Table 1]

【0066】[0066]

【発明の効果】本発明の表面処理方法を用いれば、耐熱
性、耐水性および内層の銅箔回路と絶縁樹脂層との接着
性等、多層配線板の信頼性を著しく向上させることがで
きるだけでなく、従来のプリプレグを使った多層配線板
の内層回路の表面処理として用いても優れた効果が得ら
れ、工業上極めて有用である。更に本発明の樹脂組成物
を用いると、ガラスクロスのような補強材のない構造で
しかも従来のアクリル系樹脂では得られなかった耐衝撃
性、耐熱性、難燃性、絶縁信頼性を兼ね備えた材料が可
能になり、薄型軽量化、高速伝送化に適し、かつ量産性
に優れた多層プリント配線板の製造が可能になり工業上
極めて有用である。
According to the surface treatment method of the present invention, it is possible to remarkably improve the reliability of the multilayer wiring board, such as heat resistance, water resistance, and adhesion between the inner copper foil circuit and the insulating resin layer. Moreover, even when used as a surface treatment of an inner layer circuit of a multilayer wiring board using a conventional prepreg, excellent effects can be obtained, and it is extremely useful industrially. Furthermore, when the resin composition of the present invention is used, it has a structure without a reinforcing material such as glass cloth, and also has impact resistance, heat resistance, flame retardancy, and insulation reliability that cannot be obtained with a conventional acrylic resin. It is possible to produce a material, and it is suitable for thin and light weight, high-speed transmission, and it is possible to manufacture a multilayer printed wiring board excellent in mass productivity, which is industrially extremely useful.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 腐食液で化学的に粗化した後、表面を化
学式(1)で表されるトリアジンチオール化合物で処理
してなる銅箔回路を有する内層基板上に、硬化性絶縁樹
脂層を形成しこれを硬化させ、かつ該硬化樹脂層を介し
て表面に導体回路を形成してなることを特徴とする多層
プリント配線板。 【化1】
Claims: 1. A curable insulating resin layer is formed on an inner substrate having a copper foil circuit obtained by chemically roughening with an etchant and treating the surface with a triazinethiol compound represented by the chemical formula (1). A multilayer printed wiring board characterized by being formed and cured, and having a conductive circuit formed on the surface via the cured resin layer. Embedded image
【請求項2】 硬化性絶縁樹脂が、C=C不飽和二重結
合の重合により硬化するものであることを特徴とする請
求項1に記載の多層プリント配線板。
2. The multilayer printed wiring board according to claim 1, wherein the curable insulating resin is cured by polymerization of a CCC unsaturated double bond.
【請求項3】 硬化性絶縁樹脂が、(1)アクリル酸お
よび/またはメタクリル酸とアクリル酸エステルおよび
/またはメタクリル酸エステルとを主成分とする線状重
合体であって、その構成成分であるアクリル酸および/
またはメタクリル酸由来のカルボキシル基の一部または
全部にグリシジル基およびC=C不飽和二重結合を有す
る化合物を付加させた線状重合体、(2)C=C不飽和
二重結合を有する重合性化合物、(3)平均粒径が5μ
m以下の微粒子状弾性重合体、並びに(4)加熱または
活性エネルギー線の照射によって前記C=C不飽和二重
結合の重合を開始させ得る重合開始剤を配合してなる組
成物である請求項1または2の多層プリント配線板。
3. The curable insulating resin is (1) a linear polymer containing acrylic acid and / or methacrylic acid and acrylate and / or methacrylate as main components, and is a constituent component thereof. Acrylic acid and / or
Or a linear polymer in which a compound having a glycidyl group and a C = C unsaturated double bond is added to part or all of a carboxyl group derived from methacrylic acid, (2) a polymer having a C = C unsaturated double bond Compound, (3) average particle size is 5μ
m or less, and a composition comprising (4) a polymerization initiator capable of initiating polymerization of the CCC unsaturated double bond by heating or irradiation with active energy rays. 1 or 2 multilayer printed wiring board.
【請求項4】 内層基板上の銅箔回路の表面を腐食液で
化学的に粗化する工程;前記粗化した銅箔回路の表面
を、化学式(1)で表されるトリアジンチオール化合物
で処理する工程;未硬化または半硬化状態の硬化性絶縁
樹脂層を銅箔の粗化面に形成した銅張絶縁シートの樹脂
側を、前記内層基板の前記銅箔回路上にラミネートする
工程;外層の銅箔にエッチング法により微細穴を明けて
硬化性絶縁樹脂層を露出させる工程;前記微細穴下の露
出した硬化性絶縁樹脂層を除去してブラインドバイアホ
ールを明け、内層基板上の銅箔回路を露出させる工程;
硬化性絶縁樹脂層を硬化させる工程;前記ブラインドバ
イアホールの表面に銅めっきを施して内層基板上の銅箔
回路と外層の銅箔とを電気的に接続する工程;外層の銅
箔をエッチングして配線パターンを形成する工程からな
ることを特徴とする多層プリント配線板の製造方法。 【化2】
4. A step of chemically roughening the surface of the copper foil circuit on the inner layer substrate with an etchant; treating the roughened surface of the copper foil circuit with a triazinethiol compound represented by the chemical formula (1). Laminating the resin side of a copper-clad insulating sheet having an uncured or semi-cured curable insulating resin layer formed on a roughened surface of a copper foil on the copper foil circuit of the inner substrate; Exposing a curable insulating resin layer by forming micro holes in the copper foil by an etching method; removing the exposed curable insulating resin layer under the micro holes to form a blind via hole; Exposing;
Curing the curable insulating resin layer; applying copper plating to the surface of the blind via hole to electrically connect the copper foil circuit on the inner substrate to the outer copper foil; etching the outer copper foil Forming a wiring pattern by using a method for manufacturing a multilayer printed wiring board. Embedded image
JP22190697A 1997-08-04 1997-08-04 Multilayered printed wiring board and its manufacture Pending JPH1154936A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP22190697A JPH1154936A (en) 1997-08-04 1997-08-04 Multilayered printed wiring board and its manufacture

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP22190697A JPH1154936A (en) 1997-08-04 1997-08-04 Multilayered printed wiring board and its manufacture

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH1154936A true JPH1154936A (en) 1999-02-26

Family

ID=16774019

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP22190697A Pending JPH1154936A (en) 1997-08-04 1997-08-04 Multilayered printed wiring board and its manufacture

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH1154936A (en)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6203919B1 (en) * 1996-12-19 2001-03-20 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Insulating film and method for preparing the same
JP2007016105A (en) * 2005-07-06 2007-01-25 Fujitsu Ltd Metal-surface treating liquid, laminated body, and method for manufacturing laminated body
JP2007221099A (en) * 2006-12-11 2007-08-30 Toa Denka:Kk Adherence agent and complex
JP2008103622A (en) * 2006-10-20 2008-05-01 Fujifilm Corp Laminate for fabricating printed wiring board and method for fabricating printed wiring board using it

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6203919B1 (en) * 1996-12-19 2001-03-20 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Insulating film and method for preparing the same
JP2007016105A (en) * 2005-07-06 2007-01-25 Fujitsu Ltd Metal-surface treating liquid, laminated body, and method for manufacturing laminated body
JP2008103622A (en) * 2006-10-20 2008-05-01 Fujifilm Corp Laminate for fabricating printed wiring board and method for fabricating printed wiring board using it
JP2007221099A (en) * 2006-12-11 2007-08-30 Toa Denka:Kk Adherence agent and complex

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4325337B2 (en) Resin composition, prepreg, laminate and multilayer printed wiring board using the same
US7342053B2 (en) Resin composition, adhesive film using the same and multilayer printed circuit board
JP6408847B2 (en) Resin composition
JP2004027145A (en) Curable resin composition for coating, multilayer printed circuit board, printed circuit board, and dry film
JPH1126945A (en) Manufacture of multilayered printed wiring board
JPH1154936A (en) Multilayered printed wiring board and its manufacture
JP2008174662A (en) Resin composition, insulating resin sheet with film or metallic foil, multilayered printed circuit board and semiconductor device
JPH08316642A (en) Multilayer printed wiring board with interstitial via hole
JPH1154919A (en) Multilayered printed wiring board and its manufacture
JP7123731B2 (en) Resin materials and multilayer printed wiring boards
JP6590447B2 (en) Manufacturing method of multilayer printed wiring board
JP2000082878A (en) Manufacture of build-up multilayer printed wiring board
JPWO2016084374A1 (en) Desmear treatment method and multilayer printed wiring board manufacturing method
KR102032952B1 (en) Build-up method for semeconductor devices
JPH11354922A (en) Manufacture of multilayer printed wiring board
JP2000017133A (en) Resin composition for electrical insulation and production of multilayered printed wiring board using the same
JP2000186217A (en) Insulation resin composition and production of multilayer printed wiring board prepared by using same
JP2000022332A (en) Manufacture of multilayer printed wiring board
JP5055659B2 (en) Insulating resin composition, use thereof and method for producing wiring board
JPH10147685A (en) Resin composition for insulation material
JPH10182758A (en) Resin composition for insulation and production of multi-layered printed circuit board with the same
JPH08174755A (en) Manufacture of copper-clad insulation sheet and multilayer printed wiring board
JP2001288245A (en) Flame-retardant active-energy-ray-curable resin, flame- retardant active-energy-ray-curable resin composition, printed circuit board, and multilayred printed circuit board
JP2560952B2 (en) Resin composition, copper foil with resin, and method for producing multilayer printed wiring board having blind via hole
JPH0786756A (en) Flame-retardant resin composition for layer insulating material

Legal Events

Date Code Title Description
A131 Notification of reasons for refusal

Effective date: 20061010

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

A02 Decision of refusal

Effective date: 20070313

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02