JPH10147685A - Resin composition for insulation material - Google Patents

Resin composition for insulation material

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JPH10147685A
JPH10147685A JP32118996A JP32118996A JPH10147685A JP H10147685 A JPH10147685 A JP H10147685A JP 32118996 A JP32118996 A JP 32118996A JP 32118996 A JP32118996 A JP 32118996A JP H10147685 A JPH10147685 A JP H10147685A
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JP
Japan
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resin
resin composition
weight
polymer
meth
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Application number
JP32118996A
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Japanese (ja)
Inventor
Hideki Hiraoka
秀樹 平岡
Yoichi Haruta
要一 春田
Takeya Matsumoto
健也 松本
Hiroshi Hibino
浩 日比野
Kaoru Kimura
馨 木村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toagosei Co Ltd
Original Assignee
Toagosei Co Ltd
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Publication date
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    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/03Use of materials for the substrate
    • H05K1/0313Organic insulating material
    • H05K1/0353Organic insulating material consisting of two or more materials, e.g. two or more polymers, polymer + filler, + reinforcement
    • H05K1/0373Organic insulating material consisting of two or more materials, e.g. two or more polymers, polymer + filler, + reinforcement containing additives, e.g. fillers

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  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a material suitable for an insulating resin for printed circuit boards that can prevent the occurrence of cracking, when it has no glass cloth structure and uses an acrylic resin material, and has both of the resistances to shock and heat and the reliability in electric insulation. SOLUTION: This resin composition for insulating materials comprises (1) a carboxyl group-bearing alkali-soluble acrylic polymer and/or methacrylic polymer, (2) one or more C=C unsaturated double bonds-bearing polymerizable compound, (3) fine particles of crosslinked elastic polymer with an average particle size of <=5μm and (4) a polymerization initiator which can initiate the polymerization of the above C=C unsaturated double bonds with heat and/or by irradiation with active rays.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はプリント配線板用の
絶縁材料に関し、さらに詳しくは、耐熱性、電気絶縁
性、金属に対する接着性、耐水性および耐衝撃性に優れ
た、硬化性を有するアクリル系絶縁材料用樹脂組成物
(以下「本発明の樹脂組成物」と称する。)に関する。
特に多層プリント配線板の層間絶縁材料としての樹脂組
成物に適している。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an insulating material for printed wiring boards, and more particularly to a curable acrylic having excellent heat resistance, electrical insulation, adhesion to metal, water resistance and impact resistance. The present invention relates to a resin composition for a system insulating material (hereinafter, referred to as “resin composition of the present invention”).
Particularly, it is suitable for a resin composition as an interlayer insulating material of a multilayer printed wiring board.

【0002】[0002]

【従来の技術】電子機器の小型化、多機能化に伴って、
現在プリント配線板はより高密度化の方向に進んでい
る。例えば、導体回路の細線化、高多層化、スルーバイ
アホール、ブラインドバイアホール、バリードバイアホ
ール等のインタースティシャルバイアホールを含むバイ
アホールの小径化、小型チップ部品の表面実装による高
密度実装等があり、大判化と量産性に優れた多層プリン
ト配線板の製造方法が種々開発されつつある。さらにベ
アチップを複数実装したマルチチップモジュールも前記
バイアホールを設けて形成されているが、従来のデバイ
スベース、セラミックベースから量産性に優れた樹脂基
板ベースのマルチチップモジュールが望まれている。
2. Description of the Related Art As electronic devices have become smaller and more multifunctional,
Currently, printed wiring boards are moving toward higher densities. For example, thinner conductor circuits, higher multilayers, smaller via holes including interstitial via holes such as through via holes, blind via holes, and buried via holes, and high-density mounting by surface mounting of small chip components. Therefore, various methods for manufacturing a multilayer printed wiring board excellent in large format and excellent in mass productivity are being developed. Further, a multi-chip module on which a plurality of bare chips are mounted is also formed by providing the via hole. However, a multi-chip module based on a resin substrate, which is superior in mass productivity to a conventional device base or ceramic base, is desired.

【0003】従来、ガラスエポキシプリプレグ、ガラス
ポリイミドプリプレグを単数または複数枚介して両面に
銅箔を積層した銅張積層板の両面にエッチング処理を施
して内層パネルの導体回路パターンを形成し、黒化処理
を行った後、プリプレグ、銅箔を適宜レイアップしてプ
レスにより加熱加圧積層し、続いてドリル穴加工、めっ
き、エッチング等の処理をしてパターン形成を行うこと
により多層プリント配線板が製造されている。しかし従
来の方法では層間絶縁材料としてガラスクロス入りプリ
プレグを使用するため重量が大きく、厚さの制約があり
高密度化する電子機器の要求する薄型軽量化には難があ
った。また、高速化に対して必要な誘電率の低い材料が
要求されているが従来の誘電率が高いガラスクロスを使
用したプリプレグでは限界があった。
Conventionally, a conductor circuit pattern of an inner panel is formed by performing an etching process on both sides of a copper-clad laminate in which copper foil is laminated on both sides via one or more glass epoxy prepregs or glass polyimide prepregs. After the treatment, the prepreg and the copper foil are laid up as appropriate, laminated by heating and pressurizing with a press, and then the pattern is formed by performing processing such as drilling, plating, etching, etc. to form a multilayer printed wiring board. Being manufactured. However, in the conventional method, since a prepreg containing glass cloth is used as an interlayer insulating material, the weight is large, the thickness is restricted, and it has been difficult to reduce the thickness and weight required of an electronic device having a higher density. In addition, a material having a low dielectric constant required for high-speed operation is required, but there is a limit in a conventional prepreg using a glass cloth having a high dielectric constant.

【0004】また、従来の多層プリント配線板の製造方
法では、一般的には上述のように熱プレスを使用するた
め、熱プレスの準備として内層板パネル、プリプレグ1
〜2枚と銅箔、離型フィルム、鏡面プレス板等をレイア
ップし、それを熱プレスあるいは真空熱プレスで熱圧着
し、その後取り出して解体する作業等が必要である。さ
らにレイアップ、加熱時の温度上昇、加熱圧着、冷却、
解体等はバッチ生産となり、工数が大きい作業となると
いう問題があった。
In the conventional method of manufacturing a multilayer printed wiring board, since a hot press is generally used as described above, the inner layer panel and the prepreg 1 are prepared in preparation for the hot press.
It is necessary to lay-up two or more sheets, a copper foil, a release film, a mirror press plate, etc., heat-press them with a hot press or a vacuum hot press, and then take out and disassemble. Further lay-up, temperature rise during heating, heat compression, cooling,
There was a problem that dismantling etc. was a batch production, and required a large number of steps.

【0005】また、ドリル穴加工の場合には1穴づつ明
けるために工数が大きくなるので、一般的には銅張積層
板を複数枚重ねてドリル穴加工の効率を高めている。し
かしながら、最近のように高密度化が進み、スルーバイ
アホール、ブラインドバイアホール等の小径穴が必要に
なってくると加工精度、ドリル強度等の問題から銅張積
層板を重ねてドリル加工することが不可能となり、1穴
づつ精度良く明けるために高度な加工技術が必要とな
り、生産性の低下等の問題を有していた。
[0005] Further, in the case of drilling holes, the number of steps is increased in order to drill one hole at a time, so that a plurality of copper-clad laminates are generally stacked to increase the efficiency of drilling. However, as the density has increased recently, and small holes such as through via holes and blind via holes are required, it is necessary to drill the copper-clad laminates repeatedly due to problems such as processing accuracy and drill strength. In order to drill holes one by one with high precision, advanced processing technology is required, and there has been a problem such as a decrease in productivity.

【0006】これらの問題を解決するために、本発明者
らは特開平5−345810号でアルカリ溶解性のある
絶縁樹脂組成物を銅箔に塗工した銅張絶縁シートを導体
回路パターンを有する内層板に加熱ラミネートし、エッ
チングで表面銅箔に微細穴を設け、さらに該樹脂組成物
をアルカリ溶解してブラインドバイアホールを形成し、
絶縁樹脂層を硬化させて多層プリント配線板を製造する
方法およびこれに用いる銅張絶縁シートを提案した。ま
た、特開平6−260771号および特開平6−263
916号で上記絶縁樹脂組成物としてアクリル系樹脂の
利用を提案した。さらに本発明者等は特開平7−233
226号において、難燃化したアクリル系樹脂を用いた
層間絶縁材料用難燃性樹脂組成物を提案してきた。
In order to solve these problems, the present inventors disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-345810 a copper-clad insulating sheet obtained by applying an alkali-soluble insulating resin composition to a copper foil and having a conductor circuit pattern. Heat lamination on the inner layer plate, forming fine holes in the surface copper foil by etching, further dissolve the resin composition in alkali to form blind via holes,
A method of manufacturing a multilayer printed wiring board by curing an insulating resin layer and a copper-clad insulating sheet used for the method have been proposed. Also, JP-A-6-260771 and JP-A-6-263
No. 916 proposes the use of an acrylic resin as the insulating resin composition. Further, the present inventors have disclosed in
No. 226 proposes a flame-retardant resin composition for an interlayer insulating material using a flame-retardant acrylic resin.

【0007】しかしながらこれらの絶縁樹脂層には従来
のようにガラスクロスによる補強材がないため、プリン
ト配線板の穴加工や外形加工等を金型による打ち抜きで
行う際、室温付近では樹脂に微細なクラックが入り易く
信頼性を低下させることから、打ち抜き加工時にはパネ
ルを加熱して行う必要があった。また、樹脂の硬化時や
はんだ付け時に発生する樹脂の膨張、収縮等の応力に樹
脂が十分追随することができず、プリント配線板の構造
上、樹脂層の厚さが異なる境界部分ではんだ付け時の熱
衝撃により樹脂中にクラックが発生する場合があった。
However, since these insulating resin layers do not have a reinforcing material made of glass cloth as in the prior art, when a hole or outer shape processing of a printed wiring board is performed by punching with a die, the resin may be finely divided at around room temperature. Since the cracks are easily formed and the reliability is lowered, it is necessary to heat the panel during the punching process. In addition, the resin cannot sufficiently follow the stress such as expansion and shrinkage of the resin generated during the curing or soldering of the resin, and due to the structure of the printed wiring board, the resin is soldered at the boundary where the thickness of the resin layer differs. In some cases, cracks may occur in the resin due to thermal shock at that time.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記のよう
なガラスクロスのない構造でしかもアクリル系樹脂材料
を使用する場合の問題を解決し、耐衝撃性と耐熱性、電
気的絶縁信頼性等とを両立させ、プリント配線板用絶縁
樹脂に適した材料を提供するものである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention solves the above-mentioned problems in the case of using an acrylic resin material in a structure without a glass cloth, and has an impact resistance, a heat resistance and an electrical insulation reliability. It is intended to provide a material suitable for an insulating resin for a printed wiring board.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明者等は、上記課題
を解決するため鋭意検討の結果、本発明に至ったもので
ある。すなわち、本発明は、(1)カルボキシル基を有
するアルカリ可溶性のアクリル系重合体および/または
メタクリル系重合体、(2)C=C不飽和二重結合を1
個以上有する重合性化合物、(3)平均粒径が5μm以
下の微粒子状の架橋弾性重合体、並びに(4)加熱およ
び/または活性エネルギー線の照射によって前記C=C
不飽和二重結合の重合を開始させ得る重合開始剤の、
(1)(2)(3)および(4)各成分を配合してなる
絶縁材料用樹脂組成物である。以下、本発明について詳
細に説明する。
Means for Solving the Problems The present inventors have made intensive studies to solve the above-mentioned problems, and have arrived at the present invention. That is, the present invention provides (1) an alkali-soluble acrylic polymer and / or a methacrylic polymer having a carboxyl group, and (2) one CCC unsaturated double bond.
(3) a particulate crosslinked elastic polymer having an average particle size of 5 μm or less, and (4) the above-mentioned C = C by heating and / or irradiation with active energy rays.
Of a polymerization initiator capable of initiating the polymerization of unsaturated double bonds,
(1) A resin composition for an insulating material comprising the components (2), (3) and (4). Hereinafter, the present invention will be described in detail.

【0010】[0010]

【発明の実施の形態】第1成分のカルボキシル基を有す
るアルカリ可溶性のアクリル系重合体および/またはメ
タクリル系重合体とは、アクリル酸および/またはメタ
クリル酸(以下「(メタ)アクリル酸」と称する。)と
(メタ)アクリル酸エステルとを主成分とする線状重合
体であって、その構成成分である(メタ)アクリル酸由
来のカルボキシル基を残存させている重合体である。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The alkali-soluble acrylic polymer and / or methacrylic polymer having a carboxyl group as the first component refers to acrylic acid and / or methacrylic acid (hereinafter referred to as “(meth) acrylic acid”). ) And a (meth) acrylic acid ester as main components, and a polymer in which a carboxyl group derived from (meth) acrylic acid, which is a constituent component thereof, is left.

【0011】(メタ)アクリル酸と(メタ)アクリル酸
エステルとを主成分とする線状重合体(以下「未変性ア
クリル系重合体」と称する。)は、メチルアクリレート
および/またはメチルメタクリレート(以下「アクリレ
ートおよび/またはメタクリレート」を「(メタ)アク
リレート」と称する。)、エチル(メタ)アクリレー
ト、ブチル(メタ)アクリレート、ヘキシル(メタ)ア
クリレート、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、
ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、テトラヒド
ロフルフリル(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリ
ル酸エステルと、(メタ)アクリル酸とを適当な組成比
率で、イソプロピルアルコール、エチレングリコールモ
ノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエ
ーテル等のアルコール系溶媒に溶解し、アゾビスイソブ
チロニトリル、ベンゾイルパーオキサイド等を開始剤と
し、共重合させることにより得られるものである。
A linear polymer containing (meth) acrylic acid and (meth) acrylic acid ester as main components (hereinafter referred to as “unmodified acrylic polymer”) is methyl acrylate and / or methyl methacrylate (hereinafter referred to as “methyl methacrylate”). “Acrylate and / or methacrylate” is referred to as “(meth) acrylate”), ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, hydroxyethyl (meth) acrylate,
(Meth) acrylic acid esters such as hydroxypropyl (meth) acrylate and tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate and (meth) acrylic acid are mixed at an appropriate composition ratio with isopropyl alcohol, ethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether. And azobisisobutyronitrile, benzoyl peroxide or the like as an initiator.

【0012】未変性アクリル系重合体は、(メタ)アク
リル酸および(メタ)アクリル酸エステル以外の別成分
として、スチレン、アクリロニトリル等のビニル化合物
を共重合させることも可能であり、特に耐熱性、耐水性
を必要とする場合はスチレンを該重合体を構成する全単
量体に対し5〜30重量%の範囲で共重合させると良
い。
The unmodified acrylic polymer can be copolymerized with a vinyl compound such as styrene or acrylonitrile as another component other than (meth) acrylic acid and (meth) acrylic acid ester. When water resistance is required, styrene is preferably copolymerized in a range of 5 to 30% by weight based on all monomers constituting the polymer.

【0013】未変性アクリル系重合体中の、(メタ)ア
クリル酸とその他の成分との比率は、硬化前の本発明の
樹脂組成物にアルカリ可溶性を付与させるためには、最
終組成物としての酸価を0.5〜3.0meq/gの範
囲に調整する必要があり、また後述するように、未変性
アクリル系重合体中のカルボキシル基の一部をグリシジ
ル基およびC=C不飽和二重結合を有する化合物との付
加に利用する場合のことを考慮すると、(メタ)アクリ
ル酸が該重合体を構成する全単量体に対し、20〜50
重量%であることが好ましい。
In order to impart alkali solubility to the resin composition of the present invention before curing, the ratio of the (meth) acrylic acid and other components in the unmodified acrylic polymer is determined as the final composition. It is necessary to adjust the acid value in the range of 0.5 to 3.0 meq / g, and as described later, a part of the carboxyl group in the unmodified acrylic polymer is changed to a glycidyl group and a C = C unsaturated diamine. Considering the case where the polymer is used for addition with a compound having a heavy bond, (meth) acrylic acid is used in an amount of 20 to 50 with respect to all monomers constituting the polymer.
% By weight.

【0014】本発明の第1成分は、前記未変性アクリル
系重合体のカルボキシル基の一部に、一分子中にグリシ
ジル基およびC=C不飽和二重結合を有する化合物を付
加させたものが好ましい。
The first component of the present invention is obtained by adding a compound having a glycidyl group and a C = C unsaturated double bond in one molecule to a part of the carboxyl group of the unmodified acrylic polymer. preferable.

【0015】該化合物は加熱または電子線若しくは紫外
線のようなC=C二重結合を重合させ得るような活性エ
ネルギー線により本発明の樹脂組成物を不溶不融化さ
せ、かつ配線基板として充分な機械物性を付与する効果
を有する。該化合物の具体例としては、グリシジル(メ
タ)アクリレート、アリルグリシジルエーテル、ビニル
ベンジルグリシジルエーテル、4−グリシジルオキシ−
3,5−ジメチルベンジルアクリルアミド等が挙げら
れ、これらの中では、入手し易さ、カルボキシル基への
付加反応が容易に可能な点で、グリシジル(メタ)アク
リレートが好ましい。
The compound is insoluble and infusibilized by heating or an active energy ray capable of polymerizing a C 線 C double bond such as an electron beam or an ultraviolet ray, and has sufficient mechanical properties as a wiring substrate. It has the effect of imparting physical properties. Specific examples of the compound include glycidyl (meth) acrylate, allyl glycidyl ether, vinylbenzyl glycidyl ether, 4-glycidyloxy-
Glycidyl (meth) acrylate is preferred in view of availability and easy addition reaction to a carboxyl group.

【0016】また本発明者等の発明に係る特開平7−2
33226号に開示した臭素化フェニルグリシジルエー
テルのような他のグリシジル化合物を用いても良い。
[0016] Further, Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 7-2 according to the invention of the present inventors.
Other glycidyl compounds, such as the brominated phenyl glycidyl ether disclosed in US Pat. No. 33226, may be used.

【0017】第1成分の重合体の分子量は5,000〜
100,000が好ましい。5,000未満では耐熱性
が低くなり、さらに本発明の樹脂組成物を銅箔等の金属
箔に塗工乾燥して製造される銅張絶縁シートを内層パネ
ルに加熱ラミネートする際に、樹脂流れの制御が難しく
なりしみ出しを起こし易くなる。一方100,000を
超えると、アルカリ溶解性が不足し、前述の特開平5−
345810号の多層プリント配線板の製造方法におい
て微小なブラインドバイアホールの形成が困難になり易
く、いずれも好ましくない。
The molecular weight of the polymer of the first component is from 5,000 to
100,000 is preferred. If it is less than 5,000, the heat resistance is low, and furthermore, when the resin composition of the present invention is applied to a metal foil such as a copper foil and dried by heating and laminating a copper-clad insulating sheet to an inner layer panel, the resin flow is reduced. Control becomes difficult and oozes easily. On the other hand, if it exceeds 100,000, the alkali solubility becomes insufficient, and the above-mentioned Japanese Patent Application Laid-Open No.
In the method for manufacturing a multilayer printed wiring board described in Japanese Patent No. 345810, formation of minute blind via holes tends to be difficult, which is not preferable.

【0018】本発明の樹脂組成物は、分子量の大きな重
合体である第1成分を主成分としているため、樹脂流れ
を制御することができるという特長を有する。すなわ
ち、本発明の樹脂組成物を用いて製造される前述の銅張
絶縁シートをロール状にして保存する際、ロール端から
の樹脂のしみだしや巻きずれを防止する効果を得ること
ができる。該銅張絶縁シートを内層パネルに加熱ラミネ
ートする際にも、凹部には流れ込むが内層パネルと表面
銅箔間の距離を保つことができる程度の流動性を有して
いる。なお前述の加熱ラミネートの温度は60〜120
℃が好ましく、さらに好ましくは70〜100℃であ
る。
Since the resin composition of the present invention contains the first component, which is a polymer having a large molecular weight, as a main component, it has the advantage that the resin flow can be controlled. That is, when the above-mentioned copper-clad insulating sheet manufactured using the resin composition of the present invention is stored in a roll shape, the effect of preventing seepage or winding deviation of the resin from the roll end can be obtained. Even when the copper-clad insulating sheet is heat-laminated on the inner layer panel, it flows into the recess but has fluidity enough to keep the distance between the inner layer panel and the surface copper foil. The temperature of the above-mentioned heating lamination is 60 to 120.
C is preferable, and more preferably 70 to 100C.

【0019】さらに第1成分は、塗工乾燥後の樹脂のひ
び割れや銅箔からの樹脂の脱落を防止するために必要不
可欠な成分である。その好ましい配合量は、本発明の樹
脂組成物全体の10〜60重量%である。
Further, the first component is an indispensable component for preventing cracking of the resin after coating and drying and preventing the resin from falling off the copper foil. The preferred amount is 10 to 60% by weight of the entire resin composition of the present invention.

【0020】次に、第2成分であるC=C不飽和二重結
合を1個以上有する重合性化合物について説明する。こ
れらは、アクリロイル基、メタクリロイル基、アリル基
またはビニル基等を有する化合物である。具体的には二
重結合が1個の化合物としては、メチル(メタ)アクリ
レート、ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキ
シル(メタ)アクリレート、ヒドロキシエチル(メタ)
アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレー
ト、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピル(メタ)
アクリレート等の単官能(メタ)アクリレート類;スチ
レン、アクリロニトリル等ビニル基を有する化合物;ア
リルフェノール、オイゲノール等アリル基を有する化合
物;N−フェニルマレイミド、p−ヒドロキシ−N−フ
ェニルマレイミド、p−クロロ−N−フェニルマレイミ
ド等マレイミド基を有する化合物等が挙げられる。
Next, the polymerizable compound having at least one C = C unsaturated double bond as the second component will be described. These are compounds having an acryloyl group, a methacryloyl group, an allyl group or a vinyl group. Specifically, compounds having one double bond include methyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, and hydroxyethyl (meth) acrylate.
Acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth)
Monofunctional (meth) acrylates such as acrylate; compounds having a vinyl group such as styrene and acrylonitrile; compounds having an allyl group such as allylphenol and eugenol; N-phenylmaleimide, p-hydroxy-N-phenylmaleimide and p-chloro- Compounds having a maleimide group such as N-phenylmaleimide are exemplified.

【0021】二重結合が2個の化合物としては、1,3
−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、ジエチレン
グリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリ
コールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコ
ールジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールA型エポ
キシのジ(メタ)アクリレート、ウレタンアクリレート
等のジ(メタ)アクリレート類;ジビニルベンゼン等ビ
ニル化合物類;ジアリルフタレート、ビスフェノールA
のジアリルエーテル等アリル化合物類が挙げられる。ま
た、二重結合が3個以上の化合物としては、トリメチロ
ールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリス
リトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリ
トールヘキサ(メタ)アクリレート、フェノールノボラ
ック型エポキシ(メタ)アクリレートおよびトリアリル
イソシアヌレート等が挙げられる。
Compounds having two double bonds include 1,3
-Di (meth) acrylates such as butanediol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, di (meth) acrylate of bisphenol A type epoxy, and urethane acrylate; A) acrylates; vinyl compounds such as divinylbenzene; diallyl phthalate, bisphenol A
And allyl compounds such as diallyl ether. Compounds having three or more double bonds include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, phenol novolak type epoxy (meth) acrylate, Allyl isocyanurate and the like can be mentioned.

【0022】上記化合物の中では、ポリプロピレングリ
コールジ(メタ)アクリレートのように架橋点間が長く
柔軟な硬化物を与える化合物と、第1成分との相溶性の
点で、ウレタン(メタ)アクリレート、ポリプロピレン
グリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリ
コールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパ
ントリ(メタ)アクリレートまたはペンタエリスリトー
ルトリ(メタ)アクリレートが好ましい。また、これら
化合物の配合量は、第1成分100重量部に対して、1
0〜200重量部の範囲が耐熱性の点で好ましい。
Among the above compounds, a compound such as polypropylene glycol di (meth) acrylate, which has a long crosslinking point and gives a soft cured product, and urethane (meth) acrylate, which is compatible with the first component, Preferred are polypropylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate or pentaerythritol tri (meth) acrylate. The compounding amount of these compounds is 1 to 100 parts by weight of the first component.
The range of 0 to 200 parts by weight is preferable from the viewpoint of heat resistance.

【0023】第3成分である微粒子状の架橋弾性重合体
は、本発明の樹脂組成物を硬化後に、硬化物中に均一に
分散していることによって海島構造の島に相当する構造
を形成し、耐衝撃性を向上させることができるものであ
る。具体的には弾性を有する架橋MBS樹脂、架橋アク
リルゴム、架橋NBRおよび架橋AAS樹脂等が挙げら
れるが、入手が容易でかつ本発明の樹脂組成物の硬化時
の絶縁性と未硬化時のアルカリ溶解性が共に良好なこと
から架橋アクリルゴムの使用が好ましい。これらの平均
粒子径は体積基準法による値で5μm以下とする。5μ
mを超える場合は、本発明の樹脂組成物のうち第3成分
以外の各成分を溶剤に溶かした樹脂ワニス中での第3成
分の分散性が悪くなり安定性が得られなくなる。
The third component, the fine particle-like crosslinked elastic polymer, after curing the resin composition of the present invention, is uniformly dispersed in the cured product to form a structure corresponding to an island having a sea-island structure. And the impact resistance can be improved. Specific examples thereof include a crosslinked MBS resin having elasticity, a crosslinked acrylic rubber, a crosslinked NBR, a crosslinked AAS resin, and the like, which are easily available and have insulating properties when the resin composition of the present invention is cured and alkalis when it is not cured. Use of a crosslinked acrylic rubber is preferred because both have good solubility. These average particle diameters are set to 5 μm or less by the value based on the volume standard method. 5μ
If it exceeds m, the dispersibility of the third component in the resin varnish obtained by dissolving each component other than the third component in the solvent in the resin composition of the present invention becomes poor, so that stability cannot be obtained.

【0024】本発明の樹脂組成物を溶剤と混合して樹脂
ワニスを製造する場合、第3成分がワニス中の溶剤に可
溶だと、溶剤中で該成分が凝集して均一に分散し難くな
る。このまま本発明の樹脂組成物とした場合には、アル
カリ溶解時に該凝集物が溶解せずに残り易くなる。さら
に、第3成分が樹脂ワニス中に完全に溶解する場合に
は、前述の海島構造の島に相当する構造を形成しないた
め、クラックが発生し易くなる。これに対して第3成分
が海島構造を作る場合は、常温時の衝撃や加熱時のスト
レスが加わっても、樹脂の部分的な破壊が第3成分の界
面で止まるために破壊が伸張しなくなる。
In the case where the resin composition of the present invention is mixed with a solvent to produce a resin varnish, if the third component is soluble in the solvent in the varnish, the component is difficult to be uniformly dispersed by agglomeration in the solvent. Become. In the case where the resin composition of the present invention is used as it is, the aggregates are likely to remain without dissolving during alkali dissolution. Further, when the third component is completely dissolved in the resin varnish, a crack is easily generated since a structure corresponding to the island having the above-mentioned sea-island structure is not formed. On the other hand, when the third component forms an islands-in-the-sea structure, even if an impact at normal temperature or a stress at the time of heating is applied, partial destruction of the resin stops at the interface of the third component, so that the destruction does not extend. .

【0025】また、第3成分が樹脂ワニス中に完全に溶
解する場合には、第1成分中の未反応のカルボキシル基
が第3成分で均一に覆われるため、本発明の樹脂組成物
の酸価が薄められることになり、アルカリ溶解性が阻害
されるという問題も生じる。これに対し、第3成分が、
該樹脂ワニスの溶剤に溶解せず樹脂組成物中に均一に分
散されていると、アルカリ溶解時に周囲の樹脂成分のみ
溶解され、第3成分はアルカリに溶解しないため、アル
カリ溶液を吹き付けるとアルカリ溶液と共に第3成分が
流出して取り除かれることになる。そのため、第3成分
は、本発明の樹脂組成物を用いて樹脂ワニスを作る際の
溶剤に、不溶または難溶なものが好ましく、具体的には
架橋された構造とすることにより、不溶または難溶とす
ることができる。
When the third component is completely dissolved in the resin varnish, the unreacted carboxyl groups in the first component are uniformly covered with the third component, so that the acid content of the resin composition of the present invention is reduced. As a result, the alkali solubility is impaired. In contrast, the third component is
If the resin varnish is not dissolved in the solvent but is uniformly dispersed in the resin composition, only the surrounding resin components are dissolved when the alkali is dissolved, and the third component is not dissolved in the alkali. At the same time, the third component flows out and is removed. Therefore, the third component is preferably insoluble or hardly soluble in a solvent used for producing a resin varnish using the resin composition of the present invention. Specifically, the third component is preferably insoluble or hardly soluble by forming a crosslinked structure. It can be dissolved.

【0026】第3成分の配合量は、本発明の樹脂組成物
が十分な耐衝撃性を得るためには、本発明の樹脂組成物
全体の5〜40重量%の範囲で添加することが好まし
い。40重量%を超えて配合する場合は、耐衝撃性の点
では問題はないが、本発明の樹脂組成物を溶剤と混合し
てなる樹脂ワニスを製造した場合、第3成分が分離し易
く、ワニスの安定性が低下したり、銅箔に塗工乾燥する
際に塗工ムラや気泡の発生が起こり易くなり好ましくな
い。
The amount of the third component is preferably in the range of 5 to 40% by weight based on the total weight of the resin composition of the present invention so that the resin composition of the present invention can obtain sufficient impact resistance. . When the amount is more than 40% by weight, there is no problem in terms of impact resistance. However, when a resin varnish obtained by mixing the resin composition of the present invention with a solvent is produced, the third component is easily separated, It is not preferable because the stability of the varnish is lowered, and when coating and drying on the copper foil, coating unevenness and bubbles tend to occur.

【0027】第3成分を本発明の樹脂組成物中に分散さ
せる方法としては、予めメチルエチルケトン等の溶剤中
に第3成分を加えてホモミキサー等により分散した後
に、本発明の樹脂組成物を構成する他の成分を配合する
か、第3成分、他の成分および溶剤を配合後ホモミキサ
ーを用いて分散する等の手段を用い、微粒子の二次凝集
をほぐしておくことが好ましい。またその他の方法とし
て三本ロール、ボールミル等も好適である。二次凝集が
十分ほぐされないまま使用すると第3成分が樹脂ワニス
中で分離してワニスの保存安定性が著しく低下し、また
このワニスを銅箔に塗工しても均一な塗膜が得られない
ため、本発明の樹脂組成物を塗工した銅張絶縁シートを
導体回路パターンを有する内層パネル上に積層する際、
気泡がかみ易くなり、この気泡や凝集した粒子と他の樹
脂成分の界面により絶縁信頼性が低下する。また凝集し
た粒子が大きい場合は塗工した銅張絶縁シートを、重ね
たり巻き取ったりして保存する間に銅箔を変形させてし
まうために、エッチング法による微細な回路の形成が著
しく損なわれる恐れがある。
As a method of dispersing the third component in the resin composition of the present invention, the third component is added in advance to a solvent such as methyl ethyl ketone and dispersed by a homomixer or the like. Preferably, the secondary aggregation of the fine particles is loosened by mixing other components, or dispersing the third component, other components and a solvent using a homomixer after mixing. Further, as another method, a three-roll, ball mill or the like is also suitable. If used without sufficiently coagulating the secondary coagulation, the third component is separated in the resin varnish, and the storage stability of the varnish is significantly reduced. Even if this varnish is applied to a copper foil, a uniform coating film is obtained. Because it is not possible, when laminating a copper-clad insulating sheet coated with the resin composition of the present invention on the inner layer panel having a conductor circuit pattern,
Bubbles are easily bitten, and insulation reliability decreases due to the interface between the bubbles and aggregated particles and other resin components. In addition, when the aggregated particles are large, the coated copper-clad insulation sheet is deformed during storage by stacking or winding, and thus the formation of a fine circuit by the etching method is significantly impaired. There is fear.

【0028】第4成分である重合開始剤のうち、加熱に
よる開始剤としては、有機過酸化物系、アゾビス系が挙
げられる。この中では、分解開始温度が高いため保存安
定性が良い点と、分解した時に低分子量の揮発性成分の
発生が少ない点から、ジアルキルパーオキサイドが好ま
しく、具体的にはジクミルパーオキサイド、t−ブチル
クミルパーオキサイド、2,5−ジメチル−2,5−ジ
(t−ブチルパーオキシ)ヘキサンおよび2,5−ジメ
チル−2,5−ジ(t−ブチルパーオキシ)ヘキシン等
が挙げられる。また、その配合量は、本発明の樹脂組成
物100重量部に対して0.5〜5重量部が好ましい。
0.5重量部未満では重合が不十分となり、5重量部を
超えるとシェルフライフが短くなるとともに開始剤の分
解物の量が多く発生するために耐熱性が損なわれる恐れ
がある。
Among the polymerization initiators as the fourth component, examples of the initiator by heating include an organic peroxide type and an azobis type. Among these, dialkyl peroxides are preferred from the viewpoint of high storage stability due to a high decomposition initiation temperature and low generation of low molecular weight volatile components when decomposed. Specifically, dicumyl peroxide, t -Butylcumyl peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-di (t-butylperoxy) hexane and 2,5-dimethyl-2,5-di (t-butylperoxy) hexyne. Further, the amount is preferably 0.5 to 5 parts by weight based on 100 parts by weight of the resin composition of the present invention.
If the amount is less than 0.5 part by weight, the polymerization is insufficient. If the amount exceeds 5 parts by weight, the shelf life is shortened and the amount of the decomposition product of the initiator is increased, so that the heat resistance may be impaired.

【0029】第4成分である重合開始剤のうち、紫外線
による開始剤としては、芳香族ケトンのベンゾフェノ
ン、ミヒラーのケトン、キサントン、チオキサントン、
2−エチルアントラキノン;アセトフェノン類としてア
セトフェノン、トリクロロアセトフェノン、2−ヒドロ
キシ−2−メチルプロピオフェノン、1−ヒドロキシシ
クロヘキシルフェニルケトン、ベンゾインイソプロピル
エーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、2,2−ジ
エトキシアセトフェノン等;ジケトン類としてベンジ
ル、メチルベンゾイルフォルメート等が挙げられる。そ
の配合量は、本発明の樹脂組成物100重量部に対して
0.5〜10重量部が好ましい。なお、活性エネルギー
線のうち電子線による硬化を用いる場合は、重合開始剤
は必須ではない。
Among the polymerization initiators as the fourth component, the initiators caused by ultraviolet light include aromatic ketones such as benzophenone, Michler's ketone, xanthone and thioxanthone.
2-ethylanthraquinone; acetophenones such as acetophenone, trichloroacetophenone, 2-hydroxy-2-methylpropiophenone, 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, and 2,2-diethoxyacetophenone; diketones And benzyl, methylbenzoyl formate and the like. The compounding amount is preferably 0.5 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the resin composition of the present invention. In the case where curing by an electron beam among the active energy rays is used, the polymerization initiator is not essential.

【0030】本発明の樹脂組成物は、電子線または紫外
線等の活性エネルギー線或いは加熱により硬化させる
が、本発明者等による特開平5−218651号、特開
平6−232563号、特開平6−250771号等に
よって開示されたプリント配線板の製造方法、すなわ
ち、未硬化の本発明の樹脂組成物を塗工した銅箔を、予
め内層回路を形成したガラスエポキシ基板等に加熱ラミ
ネートし、樹脂を硬化することによって多層プリント配
線板を製造する方法に用いる場合には、銅箔下の樹脂を
硬化させることになるので、銅箔を透過しない紫外線に
よる硬化は困難である。従ってこの場合には硬化は電子
線および/または加熱によって行うことになる。また銅
箔下以外で本発明の樹脂組成物を硬化させる場合にも、
紫外線硬化では十分な効果が得られないため、電子線お
よび/または加熱を併用することが好ましい。またいず
れの場合も電子線よりも加熱硬化の方が効果が大きいた
め、第4成分としては、加熱による開始剤の使用がより
好ましい。
The resin composition of the present invention is cured by an active energy ray such as an electron beam or an ultraviolet ray or by heating, and is disclosed by the present inventors in JP-A-5-218651, JP-A-6-232563, and JP-A-6-232563. No. 250771 discloses a method for manufacturing a printed wiring board, that is, an uncured copper foil coated with the resin composition of the present invention is heat-laminated on a glass epoxy substrate or the like in which an inner layer circuit is formed in advance, and the resin is cured. When used in a method of manufacturing a multilayer printed wiring board by curing, the resin under the copper foil is cured, so that it is difficult to cure with ultraviolet light that does not pass through the copper foil. Therefore, in this case, curing is performed by electron beam and / or heating. Also when curing the resin composition of the present invention other than under the copper foil,
Since a sufficient effect cannot be obtained by ultraviolet curing, it is preferable to use electron beam and / or heating in combination. In each case, the effect of heat curing is greater than that of electron beam. Therefore, the use of an initiator by heating as the fourth component is more preferable.

【0031】本発明は、少なくとも上記4成分を必須成
分として配合してなる樹脂組成物であるが、該樹脂組成
物に難燃性を付与するためには、さらに第5成分とし
て、ハロゲン化フェノール化合物のグリシジルエーテル
と(メタ)アクリル酸との反応物、並びに/或いは第6
成分として、リンまたはリン系難燃剤を追加することが
好ましい。
The present invention is a resin composition comprising at least the above four components as essential components. To impart flame retardancy to the resin composition, a halogenated phenol is further added as a fifth component. A reaction product of a glycidyl ether of a compound with (meth) acrylic acid, and / or
It is preferable to add phosphorus or a phosphorus-based flame retardant as a component.

【0032】第5成分であるハロゲン化フェノール化合
物のグリシジルエーテルと(メタ)アクリル酸との反応
物の具体例としては、テトラブロモビスフェノールAジ
グリシジルエーテルと(メタ)アクリル酸との反応物、
テトラブロモビスフェノールA骨格および臭素を含有し
ないビスフェノールAを共に含有するエポキシ樹脂(例
えばダウ社製DER514)と(メタ)アクリル酸との
反応物等が挙げられ所望により2種類以上を使用するこ
ともできる。またテトラブロモビスフェノールAの副生
成物として含まれるモノブロモ体やジブロモ体などビス
フェノールA骨格当たりの臭素置換数の異なる化合物が
存在していても良い。また単官能の臭素化エポキシ樹脂
(例えば日本化薬(株)製BROCシリーズ)と(メ
タ)アクリル酸との反応物や多官能の臭素化エポキシ樹
脂(例えば日本化薬(株)製BRENシリーズ)と(メ
タ)アクリル酸との反応物を使用することもできる。こ
れらの中では、本発明の樹脂組成物に配合した場合に、
強度と適度な柔軟性を合わせ持たせることができる2官
能性の化合物が好ましく、ハロゲンの種類としては臭素
が難燃性が優れるため特に好ましい。第5成分の配合量
は本発明の樹脂組成物中において、臭素含有量が5〜2
5重量%になるようにすることが好ましい。
Specific examples of the reaction product of the glycidyl ether of the halogenated phenol compound, which is the fifth component, with (meth) acrylic acid include a reaction product of tetrabromobisphenol A diglycidyl ether with (meth) acrylic acid.
A reaction product of an epoxy resin (for example, DER514 manufactured by Dow) containing both a tetrabromobisphenol A skeleton and bisphenol A containing no bromine and (meth) acrylic acid can be used. If desired, two or more kinds can be used. . Further, compounds having a different number of bromine substitutions per bisphenol A skeleton, such as a monobromo compound and a dibromo compound, which are contained as by-products of tetrabromobisphenol A, may be present. Further, a reaction product of a monofunctional brominated epoxy resin (eg, BROC series manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) and (meth) acrylic acid or a polyfunctional brominated epoxy resin (eg, BREN series manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) A reaction product of (meth) acrylic acid and (meth) acrylic acid can also be used. Among these, when blended in the resin composition of the present invention,
Bifunctional compounds capable of having both strength and appropriate flexibility are preferred, and bromine is particularly preferred as a halogen type because of its excellent flame retardancy. The compounding amount of the fifth component is such that the bromine content is 5 to 2 in the resin composition of the present invention.
It is preferable that the content be 5% by weight.

【0033】臭素含有量が5重量%未満では、後述の第
6成分由来のリンを2重量%以上配合しないと、本発明
の樹脂組成物の硬化物の難燃性が十分に得られなく、リ
ンを多量に配合することは絶縁性を低下させるために好
ましくない。臭素配合量が25重量%を超える場合も難
燃性は得られるが加熱時にハロゲン化合物が脱離し易く
なり、はんだ耐熱性や長期の信頼性が低下するため好ま
しくない。
When the bromine content is less than 5% by weight, the flame retardancy of the cured product of the resin composition of the present invention cannot be sufficiently obtained unless 2% by weight or more of phosphorus derived from the sixth component described below is added. It is not preferable to mix a large amount of phosphorus because the insulating property is reduced. When the amount of bromine is more than 25% by weight, flame retardancy can be obtained, but the halogen compound is easily desorbed upon heating, and solder heat resistance and long-term reliability are unfavorably reduced.

【0034】第6成分であるリン酸エステルの具体例と
しては、トリクレジルホスフェート、トリ(2,6−ジ
メチルフェニル)ホスフェート(大八化学工業(株)製
PX130)、トリアリールホスフェート(味の素
(株)製レオフォス)等が使用でき、所望により2種類
以上を配合することもできる。またリン単体である赤燐
も難燃効果が高く、その微粉末例えば日本化学工業
(株)製ヒシガードCP等も使用できる。
Specific examples of the sixth component phosphate ester include tricresyl phosphate, tri (2,6-dimethylphenyl) phosphate (PX130 manufactured by Daihachi Chemical Industry Co., Ltd.), and triaryl phosphate (Ajinomoto ( And the like, and two or more of them can be blended if desired. Red phosphorus, which is a simple substance of phosphorus, also has a high flame-retardant effect, and its fine powder such as Hishigard CP manufactured by Nippon Chemical Industry Co., Ltd. can be used.

【0035】第6成分の配合量は本発明の樹脂組成物中
において、リン含有量が0.1〜2重量%の範囲になる
ようにすることが好ましい。リンの含有量が0.1重量
%未満の場合には臭素化合物をより多く配合しないと難
燃性が得られないため、はんだ付けの際にハロゲン化物
の分解物が多く発生して耐熱性が十分でなくなり、2重
量%を超えると電気的な絶縁性が悪くなり易い。
The compounding amount of the sixth component is preferably such that the phosphorus content in the resin composition of the present invention is in the range of 0.1 to 2% by weight. When the phosphorus content is less than 0.1% by weight, flame retardancy cannot be obtained unless a larger amount of a bromine compound is added, so that a large amount of halide decomposed products are generated during soldering, and heat resistance is reduced. If it is not sufficient, and if it exceeds 2% by weight, electrical insulation tends to deteriorate.

【0036】本発明の樹脂組成物には、さらに通常使用
されるようなタルク、炭酸カルシウムまたはシリカ等の
無機充填材、あるいはレベリング剤、消泡剤、顔料また
はイオン捕捉剤等の添加剤を必要に応じて追加してもよ
い。
The resin composition of the present invention further requires an inorganic filler such as talc, calcium carbonate or silica, which is usually used, or an additive such as a leveling agent, an antifoaming agent, a pigment or an ion scavenger. May be added according to

【0037】樹脂ワニスにする際の溶剤としては、第3
成分以外の各成分を溶解すると共に、本発明の樹脂組成
物を銅箔に塗工後、該樹脂組成物を重合させない程度の
加熱および時間で揮発するものが好ましく、具体的には
メチルエチルケトン、エタノールおよびイソプロピルア
ルコール等沸点が100℃未満のものが挙げられる。該
溶剤は、樹脂ワニスの固形分濃度を30〜80重量%と
なるように配合することが好ましい。
As a solvent for forming a resin varnish,
While dissolving each component other than the components and applying the resin composition of the present invention to a copper foil, those which volatilize by heating and time to such an extent that the resin composition is not polymerized, specifically, methyl ethyl ketone, ethanol And those having a boiling point of less than 100 ° C. such as isopropyl alcohol. The solvent is preferably blended so that the solid content of the resin varnish is 30 to 80% by weight.

【0038】本発明の樹脂組成物は、前述の本発明者等
による特開平5−218651号、特開平6−2325
63号、特開平6−250771号等によって開示され
たプリント配線板の製造方法に好適である。すなわち本
発明の樹脂組成物は、硬化前には樹脂流れがなく、しか
も内層板との密着性がよく、硬化後には耐熱絶縁材料と
して使用することができる。さらにこの方法を用いれ
ば、内層回路と外層回路間の電気的な接続をするための
ブラインドバイアホールの形成が従来1穴ずつドリルで
明けていたところを、本発明の樹脂組成物がアルカリ可
溶性を付与したいるため、所定位置の銅箔をエッチング
法で取り除き、露出した樹脂をアルカリ水溶液で溶解除
去することにより一度に多数個のブラインドバイアホー
ルを形成することもでき、さらに生産効率を上げること
ができる。
The resin composition of the present invention is described in JP-A-5-218651 and JP-A-6-2325 by the present inventors.
63 and JP-A-6-250771 are suitable for the method of manufacturing a printed wiring board. That is, the resin composition of the present invention has no resin flow before curing, has good adhesion to the inner layer plate, and can be used as a heat-resistant insulating material after curing. Furthermore, when this method is used, the formation of blind via holes for making electrical connection between the inner layer circuit and the outer layer circuit has conventionally been drilled one hole at a time, but the resin composition of the present invention has an alkali-soluble property. Since it is provided, the copper foil at a predetermined position is removed by an etching method, and the exposed resin is dissolved and removed with an alkaline aqueous solution, so that a large number of blind via holes can be formed at once, further increasing the production efficiency. it can.

【0039】従来のガラスエポキシ積層板の誘電率は1
MHzで4.7〜5.0である。エポキシ樹脂単独では
誘電率が3.7であるがガラスクロスを補強材に使用す
ると誘電率が大きくなることが知られている。本発明の
絶縁材料の樹脂組成物ではガラスクロスがないことそし
て樹脂の特性から誘電率は1MHzで2.9〜3.0で
あり、層間絶縁材料として使用する場合には信号伝送の
高速化に有利になる。
The dielectric constant of a conventional glass epoxy laminate is 1
It is 4.7-5.0 in MHz. The epoxy resin alone has a dielectric constant of 3.7, but it is known that the dielectric constant increases when glass cloth is used as a reinforcing material. Since the resin composition of the insulating material of the present invention has no glass cloth and the properties of the resin, the dielectric constant is 2.9 to 3.0 at 1 MHz, and when used as an interlayer insulating material, the signal transmission speed is increased. It will be advantageous.

【0040】一般に絶縁材料用樹脂組成物を0.6mm
以下の薄いプリント配線板の層間絶縁材料として使用す
るとはんだ付けやはんだリフローのように高温に加熱す
るとプリント配線板に反りが発生し易く、また第3成分
を含まずしかもガラスクロスや無機フィラーがないと上
記の加熱による反りの発生に加え、応力を分散できず樹
脂にクラックや内層と外層の銅箔で挟まれる樹脂層でふ
くれが発生することがあった。しかしながら、本発明の
樹脂組成物では変形応力が樹脂層に加わることにはなる
が、第3成分が上記応力を吸収するために上記のような
クラックやふくれが発生し難くなる。
Generally, the resin composition for insulating material is 0.6 mm
When used as an interlayer insulating material for the following thin printed wiring boards, the printed wiring board is liable to warp when heated to a high temperature such as soldering or solder reflow, and contains no third component and has no glass cloth or inorganic filler. In addition to the above-described generation of warpage due to heating, stress cannot be dispersed, and cracks may occur in the resin, and blisters may occur in the resin layer sandwiched between the inner and outer copper foils. However, in the resin composition of the present invention, the deformation stress is applied to the resin layer, but the third component absorbs the above-mentioned stress, so that the above-described crack and swelling hardly occur.

【0041】[0041]

【実施例】以下、実施例を示して本発明を詳細に説明す
る。
The present invention will be described in detail below with reference to examples.

【0042】実施例1 (第1成分の合成)n−ブチルアクリレート26.8重
量部、スチレン5.2重量部、アクリル酸26.8重量
部およびアゾビスイソブチロニトリル0.25重量部か
らなる混合物を、窒素ガス雰囲気下で、温度75℃に保
持したメチルエチルケトンおよびエタノールの混合溶剤
(混合比率が7対3)100重量部中に5時間かけて滴
下した。その後0.5時間熟成し、さらにアゾビスイソ
ブチロニトリル0.3重量部を加えて4時間熟成するこ
とにより未変性アクリル系重合体を合成した。次に重合
禁止剤としてハイドロキノン0.23重量部を加えて微
量の空気を吹き込みながら、N,N−ジメチルベンジル
アミン1.5重量部およびグリシジルメタクリレート1
4.7重量部を加えた後、温度77℃で10時間反応さ
せて、分子量15,000〜50,000、酸価2.2
5meq/g 、不飽和基含有量0.9モル/kgのカルボキシ
ル基を有する第1成分(以下「ベースレジン」と称す
る。)を合成した。
Example 1 (Synthesis of the first component) From 26.8 parts by weight of n-butyl acrylate, 5.2 parts by weight of styrene, 26.8 parts by weight of acrylic acid, and 0.25 parts by weight of azobisisobutyronitrile The resulting mixture was dropped into 100 parts by weight of a mixed solvent of methyl ethyl ketone and ethanol (mixing ratio: 7: 3) maintained at a temperature of 75 ° C. over 5 hours under a nitrogen gas atmosphere. Thereafter, the mixture was aged for 0.5 hour, and 0.3 part by weight of azobisisobutyronitrile was further added and aged for 4 hours to synthesize an unmodified acrylic polymer. Next, while adding 0.23 parts by weight of hydroquinone as a polymerization inhibitor and blowing a small amount of air, 1.5 parts by weight of N, N-dimethylbenzylamine and glycidyl methacrylate 1 were added.
After adding 4.7 parts by weight, the mixture is reacted at a temperature of 77 ° C. for 10 hours, and has a molecular weight of 15,000 to 50,000 and an acid value of 2.2.
A first component having a carboxyl group of 5 meq / g and an unsaturated group content of 0.9 mol / kg (hereinafter referred to as "base resin") was synthesized.

【0043】(樹脂組成物の調製)上述のように合成し
たベースレジンを固型分換算で25重量部、ポリエチレ
ングリコールジアクリレートを10重量部、平均粒径
0.2μmの架橋MBS樹脂(呉羽化学(株)製BTA
751)25重量部、臭素化ビスフェノールA−エポキ
シメタクリレート(固形分中の臭素含有量は約38%)
を固形分換算で40重量部、リン酸エステル(味の素
(株)製レオフォス、リン含有量8%)6.7重量部、
ジクミルパーオキサイド(日本油脂(株)製パークミル
D)1.0重量部およびメチルエチルケトン75重量部
をホモディスパーを用いてよく混合して樹脂組成物を調
製し、メチルエチルケトンを加えて粘度を約700cp
sとした後、300目のろ布でろ過しさらに穴径5μm
のフィルターを用いて加圧ろ過して樹脂ワニスを調製し
た。
(Preparation of Resin Composition) A cross-linked MBS resin having an average particle size of 0.2 μm (25 parts by weight of the base resin synthesized as described above, 10 parts by weight of polyethylene glycol diacrylate in terms of solid component) (Kureha Chemical Co., Ltd.) BTA manufactured by
751) 25 parts by weight, brominated bisphenol A-epoxy methacrylate (bromine content in solid content is about 38%)
, 40 parts by weight in terms of solid content, 6.7 parts by weight of a phosphate ester (Leophos manufactured by Ajinomoto Co., Inc., phosphorus content: 8%),
1.0 part by weight of dicumyl peroxide (Parkmill D manufactured by NOF CORPORATION) and 75 parts by weight of methyl ethyl ketone are mixed well using a homodisper to prepare a resin composition, and methyl ethyl ketone is added to increase the viscosity to about 700 cp.
s, and then filtered through a 300th filter cloth, and the hole diameter is 5 μm.
The mixture was subjected to pressure filtration using a filter of No. 1 to prepare a resin varnish.

【0044】実施例2 (樹脂組成物の調製)実施例1で合成したベースレジン
を固型分換算で40重量部、ポリプロピレングリコール
ジアクリレート10重量部、平均粒径0.2μmの架橋
MBS樹脂(呉羽化学(株)パラロイドEXL265
5)10重量部、臭素化ビスフェノールA−エポキシメ
タクリレート40重量部、レオフォス 6.7重量部、
パークミルD 1.0重量部およびメチルエチルケトン
30重量部を用い、実施例1と同様によく混合して樹脂
組成物を調製し、さらに実施例1と同様にして粘度約7
00cpsの樹脂ワニスを調製した。
Example 2 (Preparation of Resin Composition) A crosslinked MBS resin (40 parts by weight in terms of solid component), 10 parts by weight of polypropylene glycol diacrylate, and an average particle diameter of 0.2 μm was prepared from the base resin synthesized in Example 1. Kureha Chemical Co., Ltd. Paraloid EXL265
5) 10 parts by weight, brominated bisphenol A-epoxy methacrylate 40 parts by weight, Leophos 6.7 parts by weight,
Using 1.0 part by weight of Park Mill D and 30 parts by weight of methyl ethyl ketone, a resin composition was prepared by mixing well as in Example 1, and then having a viscosity of about 7 as in Example 1.
A 00 cps resin varnish was prepared.

【0045】実施例3 (樹脂組成物の調製)実施例1で合成したベースレジン
を固型分換算で35重量部、ポリプロピレングリコール
ジアクリレート5重量部、平均粒径0.2μmの架橋ア
クリルゴム(鐘淵化学工業(株)カネエースFM21)
20重量部、臭素化ビスフェノールA−エポキシメタク
リレートを40重量部、レオフォス 6.7重量部、パ
ークミルD 1.0重量部およびメチルエチルケトン6
0重量部を用い、実施例1と同様によく混合して樹脂組
成物を調製し、さらに実施例1と同様にして粘度約70
0cpsの樹脂ワニスを調製した。
Example 3 (Preparation of resin composition) The base resin synthesized in Example 1 was 35 parts by weight in terms of solid component, 5 parts by weight of polypropylene glycol diacrylate, and a crosslinked acrylic rubber having an average particle size of 0.2 μm ( Kanebuchi Chemical Industry Co., Ltd. Kaneace FM21)
20 parts by weight, 40 parts by weight of brominated bisphenol A-epoxy methacrylate, 6.7 parts by weight of Leophos, 1.0 part by weight of Parkmill D and 6 parts of methyl ethyl ketone
Using 0 parts by weight, a resin composition was prepared by mixing well as in Example 1, and then having a viscosity of about 70 as in Example 1.
A resin varnish of 0 cps was prepared.

【0046】比較例1 (樹脂組成物の調製)実施例1で合成したベースレジン
を固型分換算で50重量部、ポリエチレングリコールジ
アクリレート10重量部、臭素化ビスフェノールA−エ
ポキシメタクリレートを40重量部、レオフォス 6.
7重量部およびパークミルD 1.0重量部を実施例1
と同様によく混合して樹脂組成物を調製し、メチルエチ
ルケトンを加えて粘度を約700cpsとした。
Comparative Example 1 (Preparation of Resin Composition) 50 parts by weight of the base resin synthesized in Example 1 in terms of solid content, 10 parts by weight of polyethylene glycol diacrylate, and 40 parts by weight of brominated bisphenol A-epoxy methacrylate , Leofos 6.
7 parts by weight and 1.0 part by weight of Park Mill D
A resin composition was prepared by mixing well as described above, and the viscosity was adjusted to about 700 cps by adding methyl ethyl ketone.

【0047】比較例2 (樹脂組成物の調製)実施例1で合成したベースレジン
を固型分換算で40重量部、ポリエチレングリコールジ
アクリレート20重量部、臭素化ビスフェノールA−エ
ポキシメタクリレート40重量部、レオフォス 6.7
重量部およびパークミルD 1.0重量部を実施例1と
同様によく混合して樹脂組成物を調製し、メチルエチル
ケトンを加えて粘度を約700cpsとした。
Comparative Example 2 (Preparation of Resin Composition) The base resin synthesized in Example 1 was converted to a solid component in an amount of 40 parts by weight, 20 parts by weight of polyethylene glycol diacrylate, 40 parts by weight of brominated bisphenol A-epoxy methacrylate, Leofos 6.7
1 part by weight and Park Mill D 1.0 part by weight were mixed well as in Example 1 to prepare a resin composition, and methyl ethyl ketone was added to adjust the viscosity to about 700 cps.

【0048】比較例3 (樹脂組成物の調製)実施例1で合成したベースレジン
を固型分換算で35重量部、ポリプロピレングリコール
ジアクリレート5重量部、カルボキシル基末端液状NB
R(米国 BFGoodrich社製 HycarCTBN 1300 ×13)2
0重量部、臭素化ビスフェノールA−エポキシメタクリ
レートを40重量部、レオフォス 6.7重量部および
パークミルD 1.0重量部を実施例1と同様によく混
合して樹脂組成物を調製し、メチルエチルケトンを加え
て粘度を約700cpsとした。
Comparative Example 3 (Preparation of Resin Composition) 35 parts by weight of the base resin synthesized in Example 1 in terms of solid component, 5 parts by weight of polypropylene glycol diacrylate, carboxyl group-terminated liquid NB
R (HydraCTBN 1300 x 13 manufactured by BF Goodrich, USA) 2
0 parts by weight, 40 parts by weight of brominated bisphenol A-epoxy methacrylate, 6.7 parts by weight of Reophos and 1.0 part by weight of Parkmill D were mixed well as in Example 1 to prepare a resin composition, and methyl ethyl ketone was added. In addition, the viscosity was about 700 cps.

【0049】(テストピースの作成と物性の測定)実施
例、比較例のすべての樹脂組成物の組成について表1に
まとめた。さらにこれら樹脂組成物を用いて、以下に示
す方法でテストピースを作製し、物性の測定を行なっ
た。下記特性の評価結果についても表1に示す。
(Preparation of Test Piece and Measurement of Physical Properties) The compositions of all the resin compositions of Examples and Comparative Examples are summarized in Table 1. Using these resin compositions, test pieces were prepared by the following methods, and physical properties were measured. Table 1 also shows the evaluation results of the following characteristics.

【0050】[0050]

【表1】 [Table 1]

【0051】厚さ18μmの銅箔の粗面化面に上記の樹
脂組成物をバーコーターを用いて塗布し、70℃で10
分間乾燥した後、さらに110℃で5分乾燥して溶剤を
蒸発除去し厚さ約80μmの樹脂層を形成して、銅箔と
樹脂からなる2層構造の銅張絶縁シートを作製した。こ
の銅張絶縁シートは後述のラミネートまでの間、ほこり
等の付着を防ぐため樹脂面にポリエチレン製の保護フィ
ルムを貼りつけておき、必要に応じてこのフィルムをは
がしてから使用した。
The above resin composition was applied to a roughened surface of a copper foil having a thickness of 18 μm using a bar coater, and was applied at 70 ° C. for 10 minutes.
After drying for 1 minute, it was further dried at 110 ° C. for 5 minutes to evaporate and remove the solvent to form a resin layer having a thickness of about 80 μm, thereby producing a copper-clad insulating sheet having a two-layer structure including a copper foil and a resin. This copper-clad insulating sheet was used before the lamination described below in order to prevent the adhesion of dust and the like, with a protective film made of polyethylene adhered to the resin surface, and this film was peeled off if necessary.

【0052】厚さ1mmの片面銅張りガラスエポキシ基板
の銅箔を黒化処理し、黒化処理面側に上記銅張絶縁シー
トの樹脂面を合わせて熱ロールラミネータを用いて張り
合わせ、電子線照射装置にて加速電圧175kVの電子線
を20Mrad照射した後、170℃で30分間加熱して樹
脂層を硬化して内層板を有する銅張積層パネル(以下単
に「積層パネル」と称する。)を作製した。
The copper foil of the single-sided copper-clad glass epoxy board having a thickness of 1 mm is blackened, the resin surface of the above-mentioned copper-clad insulating sheet is aligned with the blackened surface, and bonded using a hot roll laminator. After irradiating an electron beam with an accelerating voltage of 175 kV by an apparatus at 20 Mrad, the resin layer is cured by heating at 170 ° C. for 30 minutes to produce a copper-clad laminated panel having an inner layer plate (hereinafter simply referred to as “laminated panel”). did.

【0053】(銅箔の密着性)前記積層パネルをJIS
−C6481に従って10cm×2.5cmの大きさに切断
し、エッチング法により長さ方向の中心線に沿って1cm
幅の銅箔パターンを形成し、銅箔引き剥し強度測定用の
テストピースとした。
(Adhesion of Copper Foil)
-Cut to a size of 10 cm x 2.5 cm according to C6481 and 1 cm along the longitudinal center line by etching.
A copper foil pattern having a width was formed and used as a test piece for measuring copper foil peel strength.

【0054】作製した導体引き剥し強さ測定用テストピ
ースをそのままJIS−C6481に従って銅箔を50
mm/minの速度で引き剥して、引き剥し強さを測定した。
The prepared test piece for measuring the peeling strength of the conductor was directly coated with a copper foil by 50 in accordance with JIS-C6481.
The film was peeled at a speed of mm / min, and the peel strength was measured.

【0055】(はんだ耐熱性)前記積層パネルの表面銅
箔に厚さ約20μmの銅めっき層を形成し、4cm角の大
きさに切断し、エッチング法により2.5cm×2.5cm
の銅箔パターンを中央部に形成してはんだ耐熱試験用の
テストピースを作製した。
(Solder Heat Resistance) A copper plating layer having a thickness of about 20 μm was formed on the surface copper foil of the laminated panel, cut into a size of 4 cm square, and 2.5 cm × 2.5 cm by an etching method.
Was formed at the center to prepare a test piece for a solder heat resistance test.

【0056】テストピースを、浴温260℃の溶融はん
だ浴に銅箔面を下にして浮かべ、銅箔が膨れるまでの時
間を測定した。
The test piece was floated in a molten solder bath at a bath temperature of 260 ° C. with the copper foil side down, and the time required for the copper foil to expand was measured.

【0057】(層間の絶縁抵抗)前記積層パネルの外層
銅箔にJIS−C5012に規定される多層プリント配
線板用テストパターンのMパターンをエッチング法によ
り形成し、パターンから離れたところの樹脂層を削り取
って内層の銅箔を一部分露出させ、外層と内層間の絶縁
抵抗を測定できるようにした。作製した層間絶縁抵抗測
定用テストピースを用い、DC100Vでの絶縁抵抗値
を測定した。
(Insulation Resistance Between Layers) An M pattern of a test pattern for a multilayer printed wiring board specified in JIS-C5012 is formed on the outer layer copper foil of the laminated panel by an etching method, and the resin layer away from the pattern is removed. By shaving off, the copper foil of the inner layer was partially exposed so that the insulation resistance between the outer layer and the inner layer could be measured. Using the prepared test piece for measuring interlayer insulation resistance, the insulation resistance value at DC 100 V was measured.

【0058】(耐打ち抜き加工性)厚さ1mmのガラスエ
ポキシ基板の銅箔をエッチングして取り除き、このパネ
ルの片面に前記銅張絶縁シートを熱ロールラミネータを
用いて張り合わせ、電子線照射装置にて加速電圧175
kVの電子線を20Mrad照射した後、170℃で30分間
加熱して樹脂層を硬化した。その後張り合わせたシート
側の銅箔もエッチングして除去し打ち抜き試験用のテス
トピースとした。
(Punching resistance) The copper foil of a glass epoxy substrate having a thickness of 1 mm was removed by etching, and the copper-clad insulating sheet was adhered to one surface of this panel using a hot roll laminator, and was irradiated with an electron beam. Acceleration voltage 175
After irradiation with an electron beam of 20 kV at kV, the resin layer was cured by heating at 170 ° C. for 30 minutes. Thereafter, the copper foil on the bonded sheet side was also removed by etching to obtain a test piece for a punching test.

【0059】上記の打ち抜き試験用テストピースを雄型
が先に本発明の樹脂硬化物に当たるように亀倉精機製ミ
ニデスクプレスにセットし2cm角の正方形の打ち抜き型
で打ち抜き、抜け落ちた基板(2cm角)を観察してクラ
ックの有無を観察した。
The test piece for the punching test was set on a mini desk press manufactured by Kamekura Seiki so that the male mold hit the cured resin of the present invention first, and the test piece was punched out with a 2 cm square punching die, and the substrate (2 cm square) ) Was observed to check for cracks.

【0060】(耐熱衝撃性)両面35μm銅箔付きの厚
さ1mmのガラスエポキシ基板(大きさ10cm×10cm)
の銅箔を通常のエッチング法により、一方の面にのみ幅
1mmの直線を1cm間隔で8本形成した。このパターンを
通常内層と樹脂との密着性を高めるための黒化処理をし
た。次に該パターン形成面に前記銅張絶縁シートを熱ロ
ールラミネータを用いて張り合わせ、電子線照射装置に
て加速電圧175kVの電子線を20Mrad照射した後、1
70℃で30分間加熱して樹脂層を硬化した。さらに得
られたパネルの外層銅箔に厚さ20μmの銅めっきを形
成し、内層パターンの1cm幅の間隔の両端から1つ置き
の真上に内層パターンと対応して逆パターンで内層パタ
ーンに並行した1cm幅のパターンをエッチング法により
形成した。この基板を150℃で30分エージングして
熱衝撃試験用テストピースとした。
(Thermal shock resistance) 1 mm thick glass epoxy board with 35 μm copper foil on both sides (size 10 cm × 10 cm)
Eight copper foils having a width of 1 mm were formed on one surface only at one-cm intervals by a usual etching method. This pattern was usually subjected to a blackening treatment to enhance the adhesion between the inner layer and the resin. Next, the copper-clad insulating sheet was adhered to the pattern forming surface using a hot roll laminator, and irradiated with an electron beam of 175 kV by an electron beam irradiation device at 20 Mrad.
The resin layer was cured by heating at 70 ° C. for 30 minutes. Further, a copper plating having a thickness of 20 μm is formed on the outer layer copper foil of the obtained panel, and the inner layer pattern is parallel to the inner layer pattern in a reverse pattern corresponding to the inner layer pattern immediately above every other end of the inner layer pattern at intervals of 1 cm width. A 1 cm wide pattern was formed by an etching method. This substrate was aged at 150 ° C. for 30 minutes to obtain a test piece for a thermal shock test.

【0061】上記の熱衝撃試験用テストピースを予め2
60℃に加熱溶融常態にしておいたはんだ浴に20秒間
浮かべた後直ちに25℃の水に浸して急冷し、これをテ
ストピース毎に2回行い外層をエッチングにより除去し
て、絶縁層のクラックの有無を観察した。
The test piece for the thermal shock test was previously
After floating in a solder bath kept at 60 ° C. in a normal state for 20 seconds, it is immediately immersed in water at 25 ° C. and rapidly cooled. This is performed twice for each test piece, the outer layer is removed by etching, and cracks in the insulating layer are formed. Was observed.

【0062】(燃焼試験)エッチングにより銅箔を全て
除去した厚さ0.4mmのガラスエポキシ基板(NEMA
規格:FR−4)の両面に、前記銅張絶縁シートを熱ロ
ールラミネートし、片面ずつ電子線照射装置にて加速電
圧175kVの電子線を20Mrad照射した後、170℃で
30分間加熱して樹脂層を硬化した。さらに、この基板
の表面銅箔を全てエッチングにより除去し、米国アンダ
ーライターズラボラトリーズ INC.の定める難燃性
に関する安全規格(UL94)に基づいてサンプルを切
断し試験を行った。この規格の最高グレードであるUL
94V−0相当と見なされる場合はV−0とした。
(Burning Test) A 0.4 mm thick glass epoxy substrate (NEMA) from which all copper foil was removed by etching
Standard: FR-4) The above-mentioned copper-clad insulating sheet was hot-roll laminated on both sides, and each side was irradiated with an electron beam of 175 kV at an acceleration voltage of 175 kV by an electron beam irradiation apparatus, and then heated at 170 ° C. for 30 minutes to obtain a resin. The layer was cured. Further, the entire surface copper foil of the substrate was removed by etching, and the product was manufactured by Underwriters Laboratories Inc., USA. The samples were cut and tested based on the safety standard for flame retardancy (UL94) set forth in. UL which is the highest grade of this standard
When it was considered to be equivalent to 94V-0, it was set to V-0.

【0063】(アルカリ溶解性試験)銅張絶縁シートを
30mm×20mmのサイズに切断し、プラスチック製の板
に銅張絶縁シートの樹脂面が20mm×20mm露出するよ
うにセロハンテープで貼り付けて固定してテストサンプ
ルを作製した。3リットルのビーカーに2.5リットル
の40℃1%炭酸ナトリウム溶液を入れ、溶液を撹拌し
ながら、上記のテストサンプルを浸漬して溶解時間を測
定した。
(Alkali solubility test) A copper-clad insulating sheet was cut into a size of 30 mm × 20 mm, and was adhered to a plastic plate with a cellophane tape so that the resin surface of the copper-clad insulating sheet was exposed at 20 mm × 20 mm. Then, a test sample was prepared. 2.5 liters of a 1% sodium carbonate solution at 40 ° C. was placed in a 3 liter beaker, and the test sample was immersed while stirring the solution, and the dissolution time was measured.

【0064】[0064]

【発明の効果】本発明の樹脂組成物によれば、ガラスク
ロスのような補強材のない構造でしかも従来のアクリル
系樹脂では得られなかった耐衝撃性、耐熱性、難燃性、
絶縁信頼性を兼ね備えた絶縁材料を得ることができ、こ
れを用いると薄型軽量化、高速伝送化に適し、かつ量産
性に優れた多層プリント配線板の製造が可能となる。
According to the resin composition of the present invention, it has a structure without a reinforcing material such as glass cloth, and has impact resistance, heat resistance, flame retardancy, and the like which cannot be obtained with a conventional acrylic resin.
It is possible to obtain an insulating material having insulation reliability, and by using this, it is possible to manufacture a multilayer printed wiring board that is suitable for thinning and weight reduction, high-speed transmission, and excellent mass productivity.

フロントページの続き (72)発明者 日比野 浩 愛知県名古屋市港区船見町1番地の1 東 亞合成株式会社名古屋総合研究所内 (72)発明者 木村 馨 愛知県名古屋市港区船見町1番地の1 東 亞合成株式会社名古屋総合研究所内Continuation of the front page (72) Inventor Hiroshi Hibino 1 in Funamicho, Minato-ku, Nagoya, Aichi Prefecture Inside Nagoya Research Institute, Toagosei Co., Ltd. (72) Inventor Kaoru Kimura 1 in Funamicho, Minato-ku, Nagoya-shi, Aichi 1 Toagosei Co., Ltd. Nagoya Research Laboratory

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 (1)カルボキシル基を有するアルカリ
可溶性のアクリル系重合体および/またはメタクリル系
重合体、(2)C=C不飽和二重結合を1個以上有する
重合性化合物、(3)平均粒径が5μm以下の微粒子状
の架橋弾性重合体、並びに(4)加熱および/または活
性エネルギー線の照射によって前記C=C不飽和二重結
合の重合を開始させ得る重合開始剤を配合してなる絶縁
材料用樹脂組成物。
(1) an alkali-soluble acrylic polymer and / or methacrylic polymer having a carboxyl group; (2) a polymerizable compound having at least one CCC unsaturated double bond; (3) A finely divided crosslinked elastic polymer having an average particle diameter of 5 μm or less, and (4) a polymerization initiator capable of initiating polymerization of the CCC unsaturated double bond by heating and / or irradiation of active energy rays are blended. And a resin composition for an insulating material.
【請求項2】 (1)カルボキシル基を有するアルカリ
可溶性のアクリル系重合体および/またはメタクリル系
重合体が、アクリル酸および/またはメタクリル酸と、
アクリル酸エステルおよび/またはメタクリル酸アクリ
ル酸エステルとを主成分とする線状重合体であって、そ
のカルボキシル基の一部に、グリシジル基およびC=C
不飽和二重結合を有する化合物を付加させた線状重合体
であることを特徴とする請求項1の絶縁材料用樹脂組成
物。
(1) An alkali-soluble acrylic polymer and / or methacrylic polymer having a carboxyl group comprises acrylic acid and / or methacrylic acid,
A linear polymer mainly composed of an acrylic ester and / or a methacrylic acrylic ester, wherein a glycidyl group and a CCC
The resin composition for an insulating material according to claim 1, which is a linear polymer to which a compound having an unsaturated double bond is added.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6780502B2 (en) 2001-10-02 2004-08-24 Nippon Steel Chemical Co., Ltd. Insulating resin composition and laminate obtained therefrom
WO2008093513A1 (en) * 2007-02-02 2008-08-07 Soken Chemical & Engineering Co., Ltd. Crosslinkable polymer compound and photosensitive resin composition containing the same
WO2009020005A1 (en) * 2007-08-08 2009-02-12 Hitachi Chemical Company, Ltd. Adhesive composition, film-like adhesive, and connection structure for circuit member

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6780502B2 (en) 2001-10-02 2004-08-24 Nippon Steel Chemical Co., Ltd. Insulating resin composition and laminate obtained therefrom
WO2008093513A1 (en) * 2007-02-02 2008-08-07 Soken Chemical & Engineering Co., Ltd. Crosslinkable polymer compound and photosensitive resin composition containing the same
JP2008189773A (en) * 2007-02-02 2008-08-21 Soken Chem & Eng Co Ltd Crosslinkable polymer compound and photosensitive resin composition comprising the same
WO2009020005A1 (en) * 2007-08-08 2009-02-12 Hitachi Chemical Company, Ltd. Adhesive composition, film-like adhesive, and connection structure for circuit member

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