JPH1152487A

JPH1152487A - オーバーヘッドプロジェクト用シート

Info

Publication number: JPH1152487A
Application number: JP9222008A
Authority: JP
Inventors: Tomoko Noguchi; 智子野口; Masahito Yoshikawa; 雅人吉川
Original assignee: Bridgestone Corp
Current assignee: Bridgestone Corp
Priority date: 1997-08-04
Filing date: 1997-08-04
Publication date: 1999-02-26

Abstract

(57)【要約】【解決手段】オーバーヘッドプロジェクト用シート基
材の一面又は両面に直接又は下地膜を介して光触媒膜が
形成されてなることを特徴とするオーバーヘッドプロジ
ェクト用シート。【効果】本発明のＯＨＰ用シートは、汚れがつきにく
く、また溶剤洗浄により容易に除去できる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、特に防汚効果、表
示体の洗浄除去効果を付与したオーバーヘッドプロジェ
クト（ＯＨＰ）用シートに関する。

【０００２】

【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】最近に
おいて、ＯＨＰ装置の使用は益々増大しているが、これ
に用いるＯＨＰ用紙は指紋などによって汚れ易い。ま
た、使用済みのＯＨＰ用紙は、キシレン等の有機溶剤で
洗浄することによって、コピー等により形成された文字
等の表示体を除去し、再生使用することが行われている
が、表示体の洗浄除去が良好に行われない場合があり、
きれいに再生し難いという問題がある。

【０００３】本発明は上記事情を改善するためになされ
たもので、指紋などによる汚れを効果的に除去すること
ができると共に、キシレン等の有機溶剤によって文字等
の表示体を容易かつ確実に洗浄除去し、きれいに再生す
ることができるオーバーヘッドプロジェクト用シートを
提供することを目的とする。

【０００４】

【課題を解決するための手段及び発明の実施の形態】本
発明は、上記目的を達成するため、請求項１：オーバーヘッドプロジェクト用シート基材の
一面又は両面に直接又は下地膜を介して光触媒膜が形成
されてなることを特徴とするオーバーヘッドプロジェク
ト用シート請求項２：光触媒膜が、互いに対向するターゲット間の
スパッタ空間の側方に基材を配置し、該基材上にスパッ
タ膜を形成する対向ターゲット式スパッタリング法にて
酸素分子を有するガスを含有する不活性ガス中でリアク
ティブスパッタリングを行うことによって得られた金属
酸化物膜からなるものである請求項１記載のシート請求項３：光触媒膜が酸化チタン膜である請求項１又は
２記載のシートを提供する。

【０００５】本発明のＯＨＰ用シートは、上記のように
光触媒膜が形成されているので、室内光、ＯＨＰ装置か
らの紫外光等の光照射により光触媒が励起し、表面の光
触媒膜に付着した各種汚れが分解除去され、これによっ
て汚染が可及的に防止されるものである。また、その再
生時、コピー等により形成された文字、表、図などの表
示体がキシレン等の有機溶剤によって容易に除去され、
きれいに再生される。

【０００６】この場合、光触媒膜としては、スパッタリ
ング法等によって形成し得るが、特に対向ターゲット式
スパッタリング法により光触媒膜、特に酸化チタン膜を
作製すること、好ましくは不活性ガスと酸素分子を有す
るガスからの酸素ガスとの容量比を２：１〜１：３とし
てスパッタリングを行うこと、更に好ましくはターゲッ
トに対する投入パワーを高くして成膜することが高活性
化の点で有効である。

【０００７】即ち、対向ターゲット式スパッタリング法
は、特公昭６２−５６５７５号、同６３−２０３０４
号、特公平３−１８１０号公報等で公知の手法であり、
対向ターゲット式スパッタリング法で垂直磁気記録薄膜
などを成膜している。そして、この方法によれば、結晶
性の良好な膜を形成し得ることが記載されている。

【０００８】ところで、触媒活性が高い酸化チタン膜を
得るためにはアナターゼ型の結晶系がリッチである必要
があるが、酸化チタンの成膜に当り、種々の方法で結晶
性の高い薄膜を形成することはできるものの、得られた
結晶系はルチル型のものが多いため、光触媒効果が低い
ものである。ところが、対向ターゲット式スパッタリン
グ法により酸化チタンを成膜した場合、低温でアナター
ゼリッチの光触媒膜を作製することができ、特にアルゴ
ンガスと酸素ガスとの比率を上記の比率とすることによ
り、アナターゼ型結晶がよりリッチな光触媒膜を形成し
得ること、また、投入パワーを高くすることで膜質を粗
くし、表面積を大きくすることができるので、触媒活性
をより高くし得るものである。

【０００９】以下、本発明につき更に詳しく説明する。
本発明のＯＨＰ用シートは、図１にその一例を示したよ
うに、基材１１の両面に下地膜１２を介して光触媒膜１
３を形成したものである。なお、必要によっては基材１
１の片面のみに光触媒膜１３を形成することができる。

【００１０】上記基材としては、透明プラスチックフィ
ルムが好ましく、例えばポリエステル、アクリル樹脂、
セルロース樹脂、ポリカーボネートなどのフィルムを用
いることができる。その厚さは、特に限定されないが、
通常１０〜３００μｍ、特に２０〜１００μｍである。

【００１１】下地膜は、必要により省略し得るが、基材
としてプラスチックフィルムを用いた場合、その劣化を
防ぐため、下地膜を形成することが望ましい。下地膜と
しては、ＳｉＯ₂、ＳｎＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃、ＩＴＯなどの光
触媒能を有さない透明酸化物のほか、透明の金属硫化
物、窒化物、ホウ化物、炭化物等の光によって劣化し難
いものが好適である。この下地膜の厚さも適宜選定され
るが、通常１０Å〜５μｍ、特に２０Å〜１μｍであ
り、これら下地膜は、スパッタリング法、真空蒸着法等
の気相めっき法、その他の適宜手段で形成することがで
きる。

【００１２】また、光触媒膜の厚さは、通常０．０５〜
５μｍであり、好ましくは０．３〜１μｍとすることが
できる。

【００１３】本発明において、光触媒膜としては、光触
媒活性を有するチタン、亜鉛、タングステン、鉄等の金
属酸化物によって形成することができる。その形成法は
特に制限されないが、酸素分子を有するガスを含有する
不活性ガス中で金属ターゲットを用いてリアクティブス
パッタリングを行うことによって形成することが好まし
い。

【００１４】ここで、スパッタリングは公知の方法にて
行うことができ、通常のマグネトロンスパッタリング法
等にて形成することができるが、特に対向ターゲット式
スパッタリング法を採用することが好ましい。

【００１５】この対向ターゲット式スパッタリング装置
としては、公知の装置を用いることができ、例えば図２
に示す装置を使用し得る。即ち、図２において、１は内
部を脱気真空可能な装置本体で、この装置本体１内に一
対の金属ターゲット２，２が互いに所定間隔離間対向し
て配置されたものである。これらターゲット２，２は、
それぞれ支持部３ａ，３ａを有するホールド３，３に保
持され、これらホールド３，３を介して直流電源（スパ
ッタ電源）４の陰極に接続されていると共に、上記ター
ゲット２，２の背後に磁石５，５が互いに異なる磁極が
対向するように配置され、上記ターゲット２，２間のス
パッタ空間６にターゲット２，２に対して垂直方向の磁
界が発生するようになっている。そして、上記スパッタ
空間６の側方には、スパッタ膜を形成すべき基板７が配
置されたものである。なお、８は基板７を所定方向に移
動可能に支持する支持部材である。

【００１６】上記のような装置を用いてスパッタリング
を行い、基板上に光触媒膜を形成するに際し、使用する
金属ターゲットとしては、光触媒作用を有する金属酸化
物ＭｅＯ_x（ＭｅはＡｌ，Ｃｏ，Ｃｕ，Ｆｅ，Ｉｎ，Ｍ
ｇ，Ｓｎ，Ｔｉ，Ｚｎ等の金属を示し、ｘは金属の種類
によって異なるが、０〜１０、好ましくは０〜５の範囲
の正数であり、ｘは必ずしも金属の価数に相当していな
くてもよい）を得るための金属酸化物に対応した金属が
選定されるが、特には酸化チタン膜を形成するチタンが
好ましい。

【００１７】また、上記スパッタリングを行う上で真空
度は０．１〜１００ｍＴｏｒｒ、特に１〜３０ｍＴｏｒ
ｒとした後、不活性ガスと酸素分子を有するガスが導入
される。ここで、上記スパッタ空間に供給される酸素分
子を有するガス（酸化性ガス）としては、公知のガスを
使用することができ、具体的には、酸素、オゾン、空
気、水等が挙げられ、通常は酸素が用いられる。また、
不活性ガスとしては、ヘリウム、アルゴンなどを用いる
ことができ、特に工業的に安価なアルゴンが好適に使用
し得る。

【００１８】この場合、不活性ガスと酸素分子を有する
ガスとは、不活性ガスと酸素ガスとの比率が２：１〜
１：３、特に１．５：１〜１：２（容量比）となるよう
に導入することが好ましい。これにより酸化チタンを成
膜する場合は高活性のアナターゼ型リッチの酸化チタン
結晶を形成し得る。上記比率を逸脱すると、ルチル型結
晶が多くなるおそれがある。なお、上記ガスの流量は、
チャンバーの大きさ、カソードの数などにより適宜選定
されるが、不活性ガスと酸素分子を有するガスとの合計
量で、通常２〜１０００ｃｃ／ｍｉｎ程度である。

【００１９】投入電力も適宜選定されるが、高い投入電
力とすることが好ましく、例えば２枚の直径１００ｍｍ
のターゲットを用いた場合、４００ワット以上、特に８
００ワット以上とすることが推奨され、この場合、ター
ゲット面積当りのエネルギー量を１．３Ｗ／ｃｍ²以
上、好ましくは２．６Ｗ／ｃｍ²以上、特に５．１Ｗ／
ｃｍ²以上とすることが推奨され、これにより得られる
光触媒膜の膜質を粗くすると共に、表面積を大きくでき
るので、光触媒膜の性能を更に向上させることができ
る。この場合、供給電力が４００ワット未満、ターゲッ
ト面積当りのエネルギー量が１．３Ｗ／ｃｍ²未満であ
ると、活性の高い光触媒膜を得ることができなくなる場
合がある。

【００２０】なお、電源は、図示の例では直流電流であ
るが、これに限られず、例えば高周波電源等を使用する
ことができ、また装置の構成も図示の例に限定されるも
のではない。

【００２１】更に、スパッタリングのその他の条件は公
知の条件でよく、例えばスパッタリング時の圧力は１ｍ
Ｔｏｒｒ〜１Ｔｏｒｒとし得る。

【００２２】この場合、上記金属酸化物膜表面に、公知
のイオン注入方法、装置にて白金、ニッケル、クロム、
コバルト、錫、ニオブ、タンタル等の金属イオンを１×
１０¹⁵〜１×１０¹⁸個／ｃｍ²程度イオン注入すること
ができ、これによって光触媒膜をより高活性に形成する
ことができる。

【００２３】

【実施例】以下、実施例と比較例を示し、本発明を具体
的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるも
のではない。

【００２４】〔実施例１、比較例１〕ＯＨＰ用シート基
材（ＰＥＴフィルム、厚さ１００μｍ）の両面に、まず
下地膜（ＳｉＯ₂）を成膜し、その上に酸化チタン膜を
成膜した。この場合、下地膜及び酸化チタン膜は、いず
れも図２に示す装置を用いて表１に示す条件で対向ター
ゲット式スパッタリング法により行った。

【００２５】

【表１】

【００２６】次に、このＯＨＰ用シートに複写機で文字
等をコピーした。比較のため、上記基材（ＰＥＴフィル
ム、厚さ１００μｍ）に同様に複写機で文字等をコピー
した。これらのＯＨＰ用シートを１分間低圧水銀灯下に
曝した後、ＯＨＰ用シート上の文字等を溶剤洗浄（キシ
レン等）により落とした。再生ＯＨＰ用シートの汚れ
（落としきれなかったトナーなど）を目視により評価し
た結果を表２に示す。

【００２７】

【表２】

【００２８】

【発明の効果】本発明のＯＨＰ用シートは、汚れがつき
にくく、また溶剤洗浄により容易に除去できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】ＯＨＰ用シートの一例を示す断面図である。

【図２】対向ターゲット式スパッタリング装置の一例を
示す概略図である。

【符号の説明】

１装置本体２金属ターゲット３ホールド３ａ支持部４直流電源５磁石６スパッタ空間７基板８支持部材１１基材１２下地膜１３光触媒膜１４粘着剤層

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号ＦＩＧ０３Ｇ 7/00 Ｇ０３Ｇ 7/00 Ｈ // Ｂ０１Ｊ 35/02 Ｂ０１Ｊ 35/02 Ｊ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】オーバーヘッドプロジェクト用シート基
材の一面又は両面に直接又は下地膜を介して光触媒膜が
形成されてなることを特徴とするオーバーヘッドプロジ
ェクト用シート。
【請求項２】光触媒膜が、互いに対向するターゲット
間のスパッタ空間の側方に基材を配置し、該基材上にス
パッタ膜を形成する対向ターゲット式スパッタリング法
にて酸素分子を有するガスを含有する不活性ガス中でリ
アクティブスパッタリングを行うことによって得られた
金属酸化物膜からなるものである請求項１記載のシー
ト。
【請求項３】光触媒膜が酸化チタン膜である請求項１
又は２記載のシート。