JPH11509318A - 金属材料性物体の物理的パラメータの誘導測定方法および装置およびその方法および装置の使用 - Google Patents

金属材料性物体の物理的パラメータの誘導測定方法および装置およびその方法および装置の使用

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JPH11509318A JP9505727A JP50572797A JPH11509318A JP H11509318 A JPH11509318 A JP H11509318A JP 9505727 A JP9505727 A JP 9505727A JP 50572797 A JP50572797 A JP 50572797A JP H11509318 A JPH11509318 A JP H11509318A
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Abstract

(57)【要約】 金属材料でできた対象物(1)の物理パラメータを誘導測定する方法および装置。測定領域の中で、1次コイル(4)から時間変化する磁場が発生される。該磁場は該対象物の中で該時間変化する磁場に影響を与える渦電流を誘起する。該磁場は測定コイル(4)によって検出され、該コイルから望みのパラメータに関する情報を有した信号が得られる。磁場測定コイル(5)が前記測定領域の外側に導入されるが、しかし該測定領域において発生された電気回路によって取り囲まれている。該磁場測定コイルが前記時間変化する磁場によって電気回路内に誘起された電流(6)を検出する。該電流によって発生された干渉磁場が時間変化する磁場に影響を与え、測定装置に誤差を与える。該磁場測定コイルの出力信号が測定コイルの出力信号を補償するために用いられ、前記電気回路内の電流によって発生された誤差が除去される。

Description

【発明の詳細な説明】 金属材料性物体の物理的パラメータの誘導測定方法および装置およびその方法 および装置の使用技術分野 導電性のある材料に関連して、例えば金属材料加工の間に誘導測定技術を用い る場合には、誘導干渉が時々発生して、その結果測定結果にかなりの誤差が生じ ることになる。好ましくは、金属材料のロール加工においては、プロセス工場で 、ロール加工しようとしている未加工品のパラメータ、例えば厚さ、エッジ位置 等を、高い測定精度で連続測定可能にすることが望まれる。本発明は金属製の対 象物を誘導測定している間に誘導干渉影響を減少させるための方法、およびその 装置に関するものである。 背景技術 金属でできた導電性材料における物理パラメータの誘導測定については以前か ら知られている。誘導測定技術に関していうと、金属対象物までの距離と、その 寸法が決定される。この方法はまた材料の電気抵抗を測定し、またシートやパイ プ壁部の厚さのようなパラメータを決定することができる。例えば、米国特許4 475083においては、正弦的な時間変化によって発生される磁場が、距離や 、寸法、および電気抵抗を測定するためにどのように用いられるかが記載されて いる。方形パルス法によって発生される磁場の崩壊を研究することによって、米 国特許第5059902はそのような技術がどのようにして距離や、寸法、電気 抵抗、および材料の厚さを決定するために用いられるかを記載している。また米 国特許第5270646からは、複数個の測定コイルを有した測定装置を用いて 、ロール加工しようとしている未加工品の周囲に発生した磁場の崩壊を解析する ことによって、ロール加工される鉄板の巾やエッジ位置をどのようにして決定す ることができるかがわかる。 使用される評価技術を以下簡単に説明する。1次コイルに対して交流電流ある いは二極性パルスあるいは一方向直流電流を加えることによって磁場が発生され る。測定コイルの中に誘起され、かつ崩壊する磁場と関連して発生する不規則な 電圧信号を評価することにより、材料の厚さや導電率だけでなく測定コイルと導 電性材料との間の距離も決定することができる。前記パラメータはサンプル測定 によって、即ち、測定を各種の時間間隔に分割することによってほぼ決定するこ とができる。コイルと材料との間の距離は、磁場遮断直後の時間間隔において誘 起された電圧の値によってほぼ画定される。 大部分の適用例においては、既知の測定方法がうまく機能する。しかしながら 、測定しようとしている対象物が2つの接触面の間に配置されていて、閉じた電 気回路を形成している時には問題が生じる。1次コイル中の電流がなくなると、 磁場は崩壊し、測定しようとしている対象物内に渦電流を誘起させ、該渦電流が 、測定しようとしている対象物の特性に合わせて、崩壊している磁場に影響を与 える。崩壊プロセスが測定コイルによって検出され、そこで磁場が電圧を誘起さ せ、このことから求めているパラメータを解析することができる。しかしながら 、同じ磁場が上述した回路の中に電流をも誘起する。この電気回路における電流 がさらに磁場を発生させ、これが崩壊する磁場と反作用をして、測定コイルに誘 起された電圧に誤差を与える。測定コイルの電圧のみを解析すると、情報を有し た信号を干渉信号から区別することができなくなる。従って決定しようとしてい るパラメータにかなりの誤差が生じることになる。この問題は、前記接触面が測 定コイルに近接して配置され、外部の閉じた電気回路が測定領域とぴったりと取 り囲んでいる場合には加速される。 ロール加工しようとする未加工品を機械加工している間、該未加工品はロール と連続的に接触し、該ロールはビームあるいは地面という支持装置を介して互い に連結されている。このようにして外部の閉じた電気回路が形成され、それによ ってロール加工しようとしている未加工品は回路の中で1つの導電体を形成する ことになる。既知の測定方法を適用する時には、例えばロール加工しようとして いる未加工品の厚さを決定する場合にかなりの誤差が与えられることになる。発明の概要 本発明の目的は、2つの支持体の間に配置されて、閉じた電気回路を形成する 金属製の対象物の物理パラメータを画定し、従って上述した欠点をなくすかある いは少なくとも減少させるための、測定方法および測定装置を提供することにあ る。本発明によると、測定領域の外側ではあるが、閉じた電気回路に取り囲まれ るようにして磁場測定コイルを導入することによって達成され、該閉回路内の電 流によって発生される磁場が独立に決定され、求めているパラメータを測定する 場合の正確度を増加させるために用いられる。 本発明は、例えば上述した特許書類の中で記載されたような既知の誘導測定技 術に基づいている。従って、その開始点は、時間変化する磁場を発生させ、かつ 測定領域における磁場において測定しようとしている対象物の誘導的な影響を測 定する1あるいはそれ以上のコイルであり、また、測定しようとしている対象物 の誘導的な影響を望みのパラメータに変換する信号処理回路である。金属材料を ロール加工している間は、ロール加工しようとする未加工品は、測定領域の両側 において2つのロール上に配置されており、前記ロール加工しようとしている未 加工品を回路の一部分として、測定領域の周囲で閉じた電気回路が形成される。 時間変化する磁場によって該閉回路内に誘起された電流は、1つの磁場測定コイ ルによって測定することができる。測定しようとしている対象物の磁気特性によ って影響されないようにするために、磁場測定コイルは測定しようとしている対 象物からある距離を置いて配置しなければならないが、このコイルは閉じた電気 回路によって取り囲まれてもいなければならない。磁場測定コイルの電圧を解析 することによって、閉回路内の電流によって発生された磁場の大きさを画定する ことができ、測定に関するその影響を除去することができる。 磁場測定コイルからの処理された信号は、1次測定における干渉磁場の影響と 反作用するために用いられる。好ましくは、この目的のためにマイクロコンピュ ータが用いられる。磁場測定コイルに誘起された電圧は、測定コイルにおける電 圧に関する干渉磁場の影響に直接比例し、適当に増巾させた後で、信号処理回路 へ直接供給される。これらの場合には、上述のように、測定しようとする対象物 と、該測定しようとする対象物と接触する2つのロールとからなる電気回路が幾 何学的に定常状態であり、金属部分と測定しようとする対象物との間の接触面に おける電気抵抗も測定プロセスは一定であり、回路内の電流を1回測定するだけ で十分である。図面の簡単な説明 本発明について添付図面を参考にしながら、実施例を説明することによって、 さらに詳細に説明することにする。 図1は本発明による測定装置を備えたロールミルの一部を示す図である。 図2は本発明による測定と信号処理のための要素図である。 図3は外部の干渉磁場からの影響をなくすための付加ユニットを備えた、エッ ジ位置測定装置のための要素図である。 図4は干渉影響が、一定の電気特性を有した電気回路によって発生される測定 状態の例を示す図である。好的実施例の説明 図1に示したロールミルは、この場合においてはシート状になったロール加工 しようとする未加工品1を有しており、これは第1ローラ2と第2ローラ3との 間に位置している。該2つのローラは各々ベアリング装置7によって軸受けされ ており、これらは図において部分的にしか示されていないベース8に結合されて いる。前記ローラの間で、かつシートの直下において、誘起測定装置4が配置さ れている。第1ローラと、シートと、第2ローラと、ベースとによって磁場測定 コイル5が包囲されて配置されており、その誘起測定電圧が、前記シール1ある いは測定装置4を介して発生された磁場によって影響を受けないように配置され ている。測定は、測定装置の中に収納された1次コイルが磁場を発生させて、こ れがシート1上に渦電流を誘起することによって行なわれる。1次コイルにおけ る電流がなくなると、発生していた磁場は崩壊し、それによってシートには再び 渦電流が誘起され、これらの渦電流が第2磁場を発生させ、これが測定しようと している対象物における望みのパラメータに関する情報を提供する。前記崩壊の 過程は測定装置の中に含まれた測定コイルによって検出され、その崩壊している 磁場から電圧が誘起される。静止磁場と崩壊磁場とを解析することにより、例え ば測定コイルとシートとの間の距離や、測定コイル上でのシートの重なり具合、 およびシートの厚さのような物理パラメータを決定することができる。 図1に示したようなロールミルにおいては閉じた電気回路が形成されており、 この電気回路は、ロール加工しようとする未加工品1と、第1ローラ2およびそ のベアリング装置と、ベース8と、第2ローラ3およびそのベアリング装置とが 全て導電性があって、互いに他と接続され構成されている。加えられた1次磁場 が崩壊すると、渦電流が測定しようとしている対象物に誘起され、これらの渦電 流が第2磁場を発生させ、これが測定しようとしている対象物に関する情報を含 有している。しかしながら、同時に図1の鎖線によって示されたように、上述し たような閉じた回路の中で電流6が崩壊している磁場によって誘起される。もし 該回路内に包含される部品どうしの間に短い距離が存在する場合には、かなり電 流6が第3磁場を発生させ、これが前述した情報を有した1次磁場および2次磁 場に対して反作用をする。測定コイルに誘起された電圧がこれら3つの全ての磁 場を崩壊させる結果となり、第3磁場によって乱される。従って、測定コイルに おける信号のみを解析すると、望みのパラメータを決定する場合に相当な誤差を 与えることになる、このことがそのような長時間に亘って誘起測定システムを用 いて測定することの理由の1つであり、これは結果として時々そのような大きな 誤差を招くことになり、この方法は不十分なものであると考えられてきた。 磁場測定コイル5が3次磁場を検出するが、しかし1次磁場あるいは2次磁場 によって影響を受けないように該測定コイルを配置することによって、測定装置 に対して修正信号が供給される。前記磁場測定コイル5は測定領域の縁において 、しかしながら、電流6が誘起される閉回路の内側に配置される。磁場測定コイ ル内に誘起される時間変化する電圧は、望みのパラメータを決定する場合に3次 磁場によって発生される誤差の値となる。 図2は本発明による測定と信号処理のための装置の要素図である。この図は測 定しようとしている細長い対象物1、例えば棒の断面を示しており、それに対し てコイル4が非接触的に配置されている。測定領域の両側、即ち、図面より上方 および下方におけるそれぞれの平面内において、該対象物と接続された機械部分 が存在し、これらの2つの機械部分が該測定領域の外側において導電体9によっ て電気的に相互連結されていて、従って電気的な閉回路が形成されているものと する。コイル4と測定しようとしている対象物1との間の距離および/あるいは 測定しようとしている対象物の電気抵抗を測定するために、該コイル4には駆動 回路10から時間変化する電流が供給される。この電流は時間変化する磁場を増 加させ、このことは該コイルが磁場発生のために用いられていない時間周期の間 に、該コイル4によって検出される。閉回路内において崩壊している磁場によっ て誘起された電流6は磁場測定コイル5によって検出される。該測定コイルは、 それが磁場上の対象物の通常の外乱のない影響を測定するのではなく、電流6に よって発生された干渉磁場の外乱のない磁場に関する影響を検出するように配置 されている。コイル4および磁場測定コイル5からの電圧信号は、差動増巾器1 1の中で差し引かれる。該増巾器からの出力信号が処理装置12の中で干渉磁場 のために補償され、正しい物理パラメータが画定される。 図3は、米国特許第5270646によるシートのエッジ位置測定装置に対し て本発明をどのように用いることができるかを示す図である。ここでは、コイル からの信号は、測定しようとしている対象物(M)の距離、位置(XM2)と、傾 斜度とを表すために用いられる。しかしながら、この方法は外部の磁場からの干 渉に対して非常に敏感で、ロールミルにおいては、外部の電気回路によって生じ る干渉磁場によって、明らかな誤差がしばしば発生している。3つのコイル(L1 )、(L2)、(L3)には3つの駆動回路13、14、15から電流が供給さ れており、それへの電源供給はリレー17を介して制御回路16によって制御さ れており、従って測定しようとしている対象物の周りには時間変化する磁場が発 生する。電流の供給がなくなると、コイル(L1)、(L2)、(L3)における 磁場が崩壊し、今度は測定コイルとして用いられる該コイル内に、崩壊過程に比 例した電圧が誘起される。該コイル(L1)、(L2)、(L3)における電圧は 分離ユニット32内に設けられた参考コイル(LR1)、(LR2)、(LR3)から の電圧と比較されて、分離的な増巾器21、22、23において増巾される。外 部の電流ループからの干渉磁場は最も外側のコイル(L3)にしか影響を与えな い。この干渉磁場の影響を減少させるために、付加的な磁場検出コイル(L4) が、シートによって発生される磁場変化に関連する領域の外側に配置される。該 コイル(L4)からの信号は増巾器18において増巾され、積分器19において 積分される。3つの前記増巾器21、22、23からの信号は、3つの対になっ た積分器24、25、26、27、28、29において積分される。全ての該積 分器は制御回路16によって制御され、積分作用がある時間間隔の中 で行なわれるようになっており、それによって積分器24、26、28が第1時 間間隔の中で信号を積分し、その他の積分器が第2時間間隔の中で信号を積分す るようになっている。 第1時間間隔の間に外側の測定コイル(L3)から積分され、かつ積分器24 から得られた信号は、干渉磁場によって発生され、かつコイル(L4)によって 測定された誤差に関して調節され、該誤差信号は積分器19から得られて、差動 増巾器20の中で差し引かれる。該差動増巾器20からの信号と積分器25、2 6、27、28、29からの信号とはアナログ−デジタル(A/D)変換器30 の中でアナログ信号からデジタル信号に変換され、既知の方法によってマイクロ プロセッサー31の中で処理される。前記差動増巾器20における引き算は、代 わりにマイクロプロセッサーの中で行ってもよく同じ結果が得られる。その場合 には、該差動増巾器20は省略され、積分器19からの信号は分離的なA/Dチ ャンネルの中でデジタル系に変換され、マイクロプロセッサー31の中でひき算 が行なわれる。 通常は、第1時間間隔の間で、外部電流ループからの干渉磁場を考慮に入れて 、信号値を調節すれば十分である。しかしながら、薄いシートを測定している時 には、測定結果の正確さに関しては、第2時間間隔の間における干渉もまた重要 である。このような場合には、図3に示したのと同様にして積分器10からの積 分信号を補償するためのチャンネルを追加すればよい。 図4は干渉影響が一定の電気特性を有した電気回路によって発生される場合の 例を示している。多くの場合、シート、棒、管、および類似の製品のような材料 が製作される産業プロセスにおいては、測定領域の近くにおける機械部分は該材 料と大きな接触圧力の下で接触している。該機械部分は材料を変形させるための ロールであっても、材料を整列させるためのローラであっても、あるいは他の類 似の機械要素であってもよい。そのような場合には、上述したようにして形成さ れた電気回路は、測定しようとしている対象物が誘導測定に関して静止している 限りは電気的に一定である。図4は平面図で見た水平なシート1のエッジにおけ る測定装置を示している。コイル4のコネクタ35に時間変化する電流を供給す ることによって、測定領域内に磁場が発生される。この場合には、該コイル4は 長方形であり、シートで覆われていないコイル表面の部分がdxで示されている 。前記コネクタ35の間で、測定領域における崩壊する磁場が測定される。例え ばロールのような機械部分が、点線2、3に沿って水平シート1と連続的に接触 している。これらの点線に沿った接触抵抗はほぼ一定である。ベースの形になっ た電気的な接触路9を介して電気的な閉回路が形成される。測定領域の外側では あるが該閉回路の内側における磁場測定コイル5がコネクタ36を介して信号を 送り、この信号が干渉磁場の影響を減少するために用いられる。 図4で説明した電流ループは定常状態にある。従って上述した測定プロセスよ り単純な測定プロセスを用いることができる。従って干渉磁場の測定も、プロセ スそれ自身の間の連続測定を行なっている間に行なわれる。磁場測定コイル5を 用いて、該コイルを横切る各種の位置において該シートに係る干渉磁場が測定さ れる。この測定から、シートのエッジの位置の関数として、干渉磁場の影響の値 が得られる。この値は、その後のプロセス測定の間で測定された値から減少され るべきものである。この操作は、例えば、振巾信号をシートのエッジの位置信号 に変換する解析ユニットの中で行なわれてもよい。そのような解析ユニットはマ イクロコンピュータの形態になっていてもよい。前記磁場測定コイル5は、干渉 磁場の影響を測定した後は、取り外してもよい。測定された前記減少の操作は、 外部電気回路を決定する回路6が、例えば、測定領域の周囲で機械を再構築する ことによって変化されない限り有効である。 図4に示した場合において、干渉磁場の大きさはシートに覆われていないコイ ル表面の部分に直接依存する。このことは、干渉磁場の大きさの測定が一定のシ ート位置において行なうだけでよいことを意味している。その後で、他のシート 位置における各々の干渉磁場を計算すればよい、というのは覆われている程度が 前記一定のシート位置において得られた測定値に対して直接比例するからである 。あるいは、干渉磁場の影響は、ある程度覆われた位置において測定された、シ ートのエッジの位置の誤差の値として決定することもできる。他のエッジ位置に おける誤差が測定誤差に対して直接比例するので、あらゆる他の誤差は計算する ことができる。このタイプの計算は測定装置の中に含まれたマイクロプロセッサ ーによって適当に実行される。コイルが長方形でない場合には、コイルの全表面 積 に関して、シートで覆われていないコイルの表面積に比例して行なわれる。 通常は、干渉磁場を検出する磁場測定コイル5は測定領域の外側に配置される 。実際には、このことは、該コイルが測定装置の中に含まれていて、最も近接し た測定コイルまでの距離が該測定コイルの直径に等しいかあるいはそれ以上にな るように配置されていることを意味している。例えば、測定空間に限度があるよ うなある種の場合には、実際にそのような位置取りを行なうことは困難であるか もしれない。そのような場合には、磁場測定コイルは測定コイルにより近接して 配置してもよいが、その場合には、シートのエッジ位置dxに依存した上述の2 次磁場によって影響を受けるであろう。該測定コイルからは、信号処理をした後 で、主としてシートのエッジ位置dxに依存し、また少ないけれども、閉回路に よって発生された干渉磁場に依存した信号が得られる。前記磁場測定コイル5か らは、信号処理をした後で、主として干渉磁場に依存し、また少ないけれどもシ ートのエッジ位置に依存した信号が得られる。異なったシートのエッジ位置にお いて、測定コイルと磁場測定コイルとの信号を測定することによって、2つのコ イルからの信号に対する干渉磁場の影響を表にしたりあるいは数学的な関係にし て表すことができ、このことからエッジ測定に関する干渉磁場の影響の減少を計 算することができる。そのような計算は、好ましくは、測定装置に連結されたマ イクロプロセッサーによって行なうことができる。 本発明はロールミルあるいはエッジ位置測定装置に関連して適用されるものと は限定されず、外部の回路内に誘起される干渉磁場に関して問題が発生するよう な全ての誘導測定に関して用いることができる。従って、誘導的な距離測定や寸 法測定、電気抵抗の測定、およびシートの厚さの測定にも適用することができる 。その場合の条件は、干渉磁場の測定が望みのパラメータの1次測定と同様にし て測定されるということである。 本発明はパルス状の磁場を用いた測定だけでなく、他のタイプの時間変位する 磁場に対しても適用することができる。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1. 金属材料でできた対象物1の物理パラメータを誘導的に測定する方法で あって、測定領域の中で、1次コイル(4)から時間変位する磁場が発生され、 該磁場は該対象物の中で該時間変位する磁場に影響を与える渦電流を誘起し、該 磁場は測定コイル(4)によって検出され、該コイルから望みのパラメータに関 する情報を有した信号が得られる、その誘導測定方法において、磁場測定コイル (5)が前記測定領域の外側に導入されるが、しかし該測定領域において発生さ れた電気回路によって取り囲まれ、該磁場測定コイルが前記時間変化する磁場に よって電気回路内に誘起された電流(6)を検出し、該電流が前記時間変化する 磁場に影響を与える干渉磁場を発生させることによって、前記測定コイルによっ て検出される信号に誤差を与え、前記磁場測定コイルの出力信号が測定コイルの 出力信号を補償するようになっていて、前記電気回路内の電流によって発生され た誤差が除去されることを特徴とする誘起的な測定方法。 2. 請求の範囲1項に記載の方法において、磁場測定コイル(5)からの信 号がまた、たとえそれが測定コイル(4)によって発生される情報保有の時間変 化する磁場に関連する要素を有している場合にも使用することができ、該磁場測 定コイル(5)が多数の異なった測定条件に対して瞬時に較正される誘導的な測 定方法。 3. 請求の範囲1あるいは2項に記載の方法において、前記干渉磁場が、対 象物(1)の1つの位置に関して、磁場測定コイル(5)によって測定され、前 記測定コイル(4)の出力信号が、対象物の全ての位置に関するこの測定値から 補償して計算される誘導測定方法。 4. 金属材料でできた対象物(1)の物理パラメータを誘導的に測定する方 法であって、該対象物に渦電流を誘起する時間変化する磁場を発生させる1次コ イル(4)と、前記渦電流によって誘起される時間変化する磁場を検出する測定 コイル(4)とを具備し、該測定コイル(4)の出力信号が望みのパラメータに 関する情報を有している、その測定方法において、該装置が磁場測定コイル(5) を有し、該磁場測定コイルが前記測定領域の外側に配置されるが、しかし該測定 領域において発生された電気回路によって取り囲まれ、該磁場測定コイルが前記 時間変化する磁場によって電気回路内に誘起された電流(6)を検出し、該電流 が前記時間変化する磁場に影響を与える干渉磁場を発生させることによって、前 記測定コイルによって検出される信号に誤差を与え、前記磁場測定コイルの信号 が測定コイルの信号を補償するようになっていて、前記電気回路内の電流によっ て発生された誤差が除去されることを特徴とする誘導測定方法。 5. 請求の範囲1項に記載された装置において、磁場測定コイル(5)から の信号がまた、たとえそれが測定コイル(4)によって発生される情報保有の時 間変化する磁場に関連する要素を有している場合にも使用することができ、該磁 場測定コイル(5)が多数の異なった測定条件に対して瞬時に較正される誘導測 定装置。 6. 請求の範囲4あるいは5項に記載された装置において、前記干渉磁場を 、対象物(1)の1つの位置に関して、磁場測定コイル(5)によって測定し、 前記測定コイル4の出力信号を、対象物の全ての位置に関するこの測定値から補 償して計算する誘導測定装置。 7. ロールミルにおいて請求の範囲第1項から第6項のいずれか1項に記載 された方法あるいは装置を使用すること。
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