JPH11508869A - ガラス - Google Patents

ガラス

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JPH11508869A
JPH11508869A JP9505620A JP50562097A JPH11508869A JP H11508869 A JPH11508869 A JP H11508869A JP 9505620 A JP9505620 A JP 9505620A JP 50562097 A JP50562097 A JP 50562097A JP H11508869 A JPH11508869 A JP H11508869A
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ジャー、アニメシュ
マルチェセ、ディエゴ
カカランツァス、ジョージ
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ブリティッシュ・テクノロジー・グループ・リミテッド
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Abstract

(57)【要約】 有用な光透過特性を備えたガラスの製造方法には、III族とIV族のカルコゲナイドを含むチャージ(投入量)を溶融する段階を含む。I族とII族のハライドを加えると希土類ドーパントの溶解度を高め、かつこういったガラスを用いる安定なレーザ及び増幅器の組立てが可能となる。

Description

【発明の詳細な説明】 ガラス この発明はガラス、とくにプレーナ形及び光ファイバの光導波路(ガイド)で 使用するのに適したガラスに関する。このガラスはドーパントとして希土類イオ ン(例えばPr,Nd,Er,Ho,Dy)を含んだりまた含まなかったりする 多成分ガラス組成の広い範囲で応用が見付けられている。希土類ドーパントは電 子−光学応用として適した大きさのエネルギーレベル遷移を作る上で有用である 。 ゲルマニウム・サルファイド(ゲルマニウム硫化物)は良く知られた共有結合 ガラス形成用化合物であり、その振動スペクトルはガラス構造を示唆し、その構 造では支配的なGe−S結合がシリカガラス(1120cm-1)もしくはZBL AN(580cm-1)のいずれかよりもかなり低いフォノンエネルギー(〜35 0cm-1)を有している。このガラスが低いフォノンエネルギー構造をもつこと は遠隔通信網での重要な光電子応用のための広範囲の希土類イオンをドープした 光ファイバやプレーナ導波路デバイスを設計する上で魅力のある特徴であり、ま た遠隔通信装置以外でも同じである。ゲルマニウム・サルファイドガラスファイ バはすでに赤外応用のために市販されている。 希土類イオンの純粋なゲルマニウム・サルファイドガラスへの溶解度は構造及 び熱力学的因子が原因で極めて低い。このガラスへの希土類イオンの限定された 溶解度はホストがもつ低フォノンエネルギーがもたらす利益があるのに、純粋な 硫化物ホストが広範囲の光学的に活性な(光能動)デバイスに適していないとい う結果をもたらす。 二元のGeSx−Ga23ガラスにPr3+とDy3+イオンとを含んだものの使 用が第2の窓の光ファイバ増幅器を実現するために提案されている。二元の硫化 物ガラスサンプルが極めて純粋な(99.999%の)成分金属及び非金属元素 を用いて作られており、両元素は真空としたシリカのアンプル内で限られた成分 範囲で混合された。元素成分から処理したこの形式のガラスの光学上の品質は成 分間の不完全な化学反応が原因している影響を蒙る。さらに出発物質として元素 成分を使用することは製造されたガラスサンプルの最大寸法を制限し、その理由 は限られた体積内での高温化学反応に含まれる力学的な考慮事項にある。出発 物質の大きなバッチ(一団)はしばしばきわめて不均一であることが認められ、 光の散乱中心を多数生じさせている。この要因は、コア及びクラッドガラスをそ れらの軟化温度で引くことによって光ファイバを実現するようにするために最小 の結晶をもつバルクガラスのサンプルを組立てる能力に大きく影響を及ぼす。 Ge−As−S,Ge−P−S,及びGe−Sb−Sガラス内にPr,Nd及 びErドーパントを使用することが報告されている(D.Simons et al:Topical S ymp.VII on Advanced Materials in Optics.Electro-Optics and Communicati on Technologies of 8th Cimtech-World Ceramic Congress and Forum On New M aterials.Florence,Italy,June 28 to 4th July,1994.Ed.P.Vincizin and G. C.Righin.Techna,Faenza,1995.p449)。Prイオン内のレベルの寿命が365 μsと報告されており、大きな利得をもつ効率的なファイバデバイスが1010 nmにおける弱いポンプパワーを用いることにより潜在的に可能であることを、 ここで示している。しかし、ZBLANで1300nmに中心がある、143 5遷移に対する放出ラインは第2の窓から1360nmへシフトしてしまい、 したがって、設置されているPONについて特定され、かつ最適とされる第2の 窓(1290−1330nm)内での可能性をもつ信号利得をことごとく排除し てしまう。Ge−As−S,Ge−P−S,及びGe−As−Sガラスにおける 1360nmでの放出ラインのピーク位置は、処方された第2の窓内部でのファ イバ増幅器応用に対してはこれらのホストが不適当であることを表わしている。 これらのガラスは非常に大きな屈折率(〜2.5)をもち、これが大きなレーレ イ(Rayleigh)散乱係数の結果として信号とポンプ波長での大きな吸収という追 加の問題をもたらす。この因子はまた過去において希土類イオンをドープした硫 化ひ素ガラスファイバの開発を妨げてきた。 我々は成分元素の代りに成分化合物を用いて純粋多成分カルコゲナイド及びカ ルコハライドガラスを作る工程を開発した。また、我々は光ファイバレーザ及び 増幅器で使用するためのホストガラス内で希土類イオンの溶解度を高める方法を 開発した。さらに我々は非線形フィバ応用のために適した高屈折率をもつ硫化物 −酸化物ガラスを作るための工程を開発した。加えて、我々は、変更を加えたゲ ルマニウム硫化物ガラスの使用がQW構造用のナノクリスタライン(ナノ結晶の ) 金属(CuとAg)をドープしたガラスを設計するためのホストとして適してい ることを発見した。これらのガラスはまたQW構造でのドーパントのように半導 体硫化物用ホストとしても応用があることが判明している。この変更を加えたホ ストガラスの性質は中間赤外及び遠赤外応用のためのレーザパワー伝送ケーブル として使用できる。バルクガラスはまた純粋なGeSx及び二元GeSx−Ga2 3ガラスでもっと広い透過範囲を示し、それらがバルクの赤外光学応用、例え ばレンズや回折格子といった広範な分野に適していることにしている。ドープし ていない受動ファイバケーブルも飲食物産業における検知及び検出用として使用 できる。とくに乳製品やワイン産業では受動ケーブルを用いて一般的なスーパー マーケット乳製品の展示棚での寿命を決めるためとか、ワインやアルコール飲料 の品質についての監視装置からかなりの恩恵を受けることになる。受動光ファイ バは汚染を検出したり、潜在的に危険な化学環境下で有毒ガスのレベルを検出す るためにも使用できる。重合体リサイクルプラントでは、こういった引延ばされ たIRファイバは各種の重合体をスクリーニングするために使用でき、従ってリ サイクルに先立ってスペクトル分析スクリーニング工程によって隔離や再グルー プ化をするための支援ができる。 特定の目的は、設置されているPONの処方された第2の窓内部で減衰してい る信号を増幅することができるような、Prをドープした単一モードファイバデ バイス用に適したガラスホストを作りあげることである。このようなガラスにと って望ましい性質は、それがGeSxガラスと同程度のフォノンエネルギーを持 つことと、1435遷移用の放出曲線の少くとも顕著な部分が設置してあるP ONの処方された第2の窓の内部にうまく存在することとである。 他の好ましい性質はこのガラスの熱的安定度が高いことで、したがってその均 質化(homogfnisation)温度1025℃から冷却しても,ガラス形成の際に作られ る結晶の体積割合は最小で、しかもそれがもつ良好な熱的性質を失いもせずまた14寿命に悪影響を与えないガラスの屈折率での減少で冷却できる。(143 5放出ラインはガラスホストの屈折率に大きく依存し、それが屈折率の増加で 赤へのシフトを生じ、それによって第2の窓の一部にだけ信号利得を与えること が知られている。) この発明によると、IV族元素のカルコゲナイドの少くとも1つとハロゲンを含 む化合物との混合物で成るガラスが提供される。 IV族元素のカルコゲナイドの少くとも1つと希土類元素でドープしたハロゲン を含む化合物との混合物で成るガラスも提供される。 この発明は添付の図面を参照してとくに記述して行く。 図1ないし5はこの 発明の特定の実施例によるガラスについて異なる波長での光吸収を示す。 Prイオンをドーパントとした高純度のカルコゲナイド及びカルコハライドガ ラスを準備することが次のやり方で実行されたが、不純物の除去についての工程 では特別な注意が払われた。出発物質は硫化ゲルマニウム(GeS2+x)であり 、ここでxは二硫化ゲルマニウムにおける硫黄の化学等量よりも多いことを示し ている。他の少量の成分は硫化ガリウム(Ga23)、アルカリ金属またはアル カリ土類金属の硫化物(M2S,M′S)とハロゲン化物(MX,M′X)であ る。ここでMとM′とはアルカリ及びアルカリ土類金属を指す。Xはハライドイ オンを指し、例えばF-,Cl-,Br-及びI-である。これらアルカリ及びアル カリ土類金属のハライド及びサルファイドは二元GeS2+x−Ga23ガラス内 に含められて、ガラスのネットワークに変更を与えるようにされた。硫化ガリウ ムは2つの異なる含有率でガラス内に組入れられた:すなわち、少ない含有率( <3モル百分率(mol%))と大きな含有率(>3モル百分率)である。少な い含有率では、イオンはネットワーク形成と連続のためのサイトを占有し、他方 、大きな含有率ではイオンはネットワーク形成用サイトとネットワーク変更用サ イトとの間で不均斉化を生じさせると信じられていた。 カルコゲナイドとカルコハライドガラスを作るために必要な化学薬品は乾燥し たグローブボックス内部で、連続して窒素ガスでパージしたところで、正確に計 量された。計量した物質は次にクリーンな、乾燥した、しかもベークしたシリカ アンプルの中に移された。大気中の湿気とCO2による混入を最小とするために 、シリカアンプルの口はコルクを使って内部で閉じ込めされてから、外部へ移さ れた。次にこのシリカアンプルは真空装置と接続された。この真空接続工程に続 いて、このアンプルは抵抗加熱した炉の内部に置かれ、そこではガラスを作るた めのチャージが0.5torrよりも低いところで温度範囲200−300℃で 真 空乾燥された。粉末混合物は12−15時間以上乾燥のためにそこに置かれた。 この時間の後に、アンプルは真空系からは隔離され、続いて高真空システムを用 いて真空で引かれた。真空の最終相に到達する前の圧力は10-5torrよりも 低く数時間にわたって維持された。この段階の後で、シリカアンプルは溶接用の トーチを用いて封止された。この封止工程が完了した後に、シリカアンプルで溶 けているチャージを含んだものが抵抗炉内部に置かれ、炉は室温から1025℃ まで3時間にわたってゆっくりと加熱された。1025℃では、チャージは夜を 徹して均質化のために、典型としては12−15時間にわたって、そのままとさ れた。溶融した均質化が完了すると、シリカアンプルは炉から引出された。硫化 物の溶けたものとアンプルとは赤味を帯びた黄色ないし深橙色を呈した。アンプ ルは外部で保存されて1分ほど空冷され、そのときは温度降下は溶融したものの 色相に変化をもたらし、深橙色から深いさくらんぼの(チェリイ)赤になる。さ くらんぼの赤色を呈している空冷したガラスサンプルでアンプル内のものは、次 に熱処理用炉に移されて、そこで12時間以上保持されて、その後に炉のスイッ チが切られて、アンプルが炉内で冷えるようにした。全熱処理工程はガラス内で 急冷(クエンチ)によるストレスを減らすようにプログラムされた。 高含有量の酸化物を含んだ硫化物ガラスを作るためには、真空乾燥はもっと低 い温度で部分的にだけ完了した。このガラスは炭素を被覆したアンプル内でゆっ くりと溶融されて、シリカアンプルでのガラスのべたつき(スティッキング)を 避けるようにした。 成功した実験試行はまた、溶けた硫化物を含むシリカアンプルが炉冷却できる ようにすることによっても実施された。この実験は、ガラスサンプルで大きさが 25mm×30−35mmのものが炉冷却とそれに続くTgでの熱処理によって 作ることができるかどうかを見付けるために、とくに設計された。このガラス寸 法は同じように試されて、このガラスの上述の規格よりももっと大きなブロック のものが、組立てとファイバ引張りのために作ることもできるかどうかを示すよ うにした。ゆっくりした冷却は、作られたサルファイド及びカルコハライドガラ スサンプルが、他のサルファイド応用ガラスの他のファミリィでGeS2又は二 次Ga23−La23(GLS)ガラスのいずれかに属するものよりもぐん と安定であるという我々の眺望を確める結果をもたらした。これは光デバイスを 実現するために極めて重要な結果であり、この光デバイスでは背景損失が既存の サルファイドガラスファイバよりも低くなることが期待される。 最初の例として、三元のGeS2+x−Ga23−CsI応用ガラスがゆっくり とした空冷と熱処理技術によって作られた。ガラスサンプルの寸法は長さが10 0mmで直径が25mmのものよりも大きいものがこの技術で組立て可能であっ た。二元サルファイドと三元カルコハライドガラスの熱的性質が研究された。こ れらが表1と2とに要約されている。こういったガラスは大きなTx−Tg温度ギ ャップを示す。ここでTxは結晶化温度の始まるところを表わしている。このギ ャップは一般に115℃を越えて最大が228℃に達する広がりをもっている。 下表参照。測定した特性温度は酸化物ガラスと同等なこういったガラスのもの非 常に大きな熱的安定度を示している。 図1と2と3と4とはこの種のガラス内に溶解したOH不純物を最少とする効 果を要約している。ガラスが大量のOHを含むときは、図1で見ることができる ように、図2における対応するPr吸収スペクトラムは顕著ではない。ガラスか らOHイオンを除去すると(図3を見よ)、Prイオンの吸収帯は背景からもっ と解像されたものとなる(図4を見よ)。CsIを添加することもPrイオンの 溶解度を高めるが、これは稠密硫化物ネットワークを変更することによる。Cs IはブリッジしていないGe−SとS−S結合をもっと作ることによってネット ワークを変更する。この構造上の変更が余分なスペースを作り、それによってガ ラス内でPrのような大きなイオンの溶解度を高める。上記のように、ネットワ ークの変更はアルカリかアルカリ土類イオンのいずれか、又はその両方を化合物 形体(サルファイドかハライドか両方か)を溶解することが起るようにすること ができる。CsIの存在下でネットワーク内でのPrイオンの溶解度はUV及び 多フォトン吸収帯で明白な効果を有している。これらの結果がそれぞれ図5,3 ,4に示されている。CsIが0.75%を超えて大量に存在すると、ガラス内 でのS−Sリング構造が壊れはじめるが、この構造は二元組成でのIRエッジを 支配的なものとしている。三元ガラスでのS−S振動の減少はPrイオンの14 レベルの準安定寿命に好ましい効果を有している。1010nm Ti−サファ イヤ同調可能ポンプ波長で750mWパワーを、Prイオンの2000ppmW 含有量をもつ二元及び三元ガラスに対して使用してこのレベルの寿命は、測定さ れた。これらが表3に要約されており、そこには633nm波長でこれらのガラ スについて測定した屈折率と合せて示した。2000ppmWガラス内で測定し た最長寿命は200μsであり、この値はイオン間クロス緩和プロセスを減らし たことに起因して700ppmWサンプルではもっと長いことが期待される。イ オン間クロス緩和は準安定レベルの寿命に悪影響をもたらす。700ppmWド ープのサンプルでは測定した寿命が少くとも300μsの長さをもつことを予想 しており、もし我々がこの種のガラスの分光学的性質を熱的性質及びより低い屈 折率と組合せるとすれば、この値は他の形式のサルファイドガラスと比較すると きは良いものとなろう。現在では、測定が700ppmWサンプルを用いて放出 分光学と合せて進められており、放出分光学では放出ラインの位置のピークが示 されることになる。 *結晶化したバッチ(一団) 測定したUVエッジは図5に示されており、これは上述のガラスについてのも のであって、ガラスのCsI含有量に大きく依存している。これは大きなNA値 (numerical aperture)をもつファイバを設計する際にコア/クラッド組成を特 別仕様とする上で極めて有用である。このガラスでの大きな屈折率値はまた光ス イッチ用の大きな三次非線形デバイスの設計にも重要である。とくに、ファイバ 及びプレーナ幾何形状でのデバイスはきわめて魅力的なものとされ、その理由と して、信号がファイバ導波路のコア内を伝播する間に長い相互作用長を提供する ことがある。これは、導波路長についての幾何学的制限が原因となっている主た る設計上の欠点をもつ結晶半導体デバイスをしのぐ顕著な利点であり、加えて、 これらのガラスは硫化物であり、CdS,CdSe及びCdTeを溶解するため の理想的な候補となり得るし、また非線形デバイスのためのQW構造を形成する ための理想的な候補となることができる。 Prイオンと同様に、他の希土類イオンも溶解することができる。Dyをドー プしたカルコゲナイド及びカルコハライドガラスファイバは2つの異なる遷移を 利用するもので、その1つは1000nm付近で49/265/2であり、他は1 294nm付近で49/263/2(ともにフルオライドガラスZBLANPで報 告された遷移)であるが、これが2つの非常に有用なデバイスを産んだサルファ イドガラスのもつ高屈折率が理由となって、準安定の49/2レベルから65/2と 6F3/2レベルへの特性遷移はZBLANPよりも長い波長であり、したがって 前者の遷移がPrイオンをドープしたデバイスに対して、1010nm付近でフ ァイバレーザポンプ用として理想的にふさわしいものとし、現在高価なNd−Y LFポンプをパワー増幅器用として1040nmで利用しているものにとって代 る。後者の遷移すなわちZBLANPにおける1294nmでの遷移も、サルフ ァイドガラスでは、その高い屈折率が原因で、1294nmよりも長波長側へシ フトする。熱的に安定さがないゲルマニウム硫化物応用ガラスでは、49/26 3/2遷移があり、そのピークは中心が1340nmである。このピークの顕著 な部分は処方された第2の窓内に十分入っている。吸収と放出の断面積はこの遷 移に対しても大きく、それがファイバの長さを1cmの10分の1のいくつかか ら最大1mに制限するには明らかに利点をもたらす。このような応 用では、この発明による熱的に安定なカルコゲナイド及びカルコハライドガラス がはっきりとした利点を備えており、単一モード光ファイバを長い距離引張るた めにはGLSのような安定度の少いものに勝っている。 カルコゲナイドとカルコハライドガラスはNdイオンでドープして、新しい網 (ネットワーク)で第2の遠隔通信窓の外での増幅器を実現するようにできる。 この新しく布設されたシリカ網は事実上OHがないものであり、したがって11 00nmと1400nmとの間の増幅器が将来必要となろう。43/2遷移で上述 のホスト内にNdをドープしたものは非常に有用であることを証にすることにな る。 ドーパントイオンErとHoも外科治療応用デバイスを実現するために使用で きる。光遷移としてErの411/2413/2とHoの5657はそれぞれ27 19nmと2848nmとにあり、2900nm付近でOHの強い帯と一致して いる。希土類をドープしたガラスでこの遷移を利用し数mWのパワーを発するこ とができるパルスレーザとする形体のものはOHピークに対応する2.9μm光 の吸収に強く応答する有害な組織のレーザ切除で有用なものとなる。この装置は 内視鏡ケーブルに取付けられた観測用ケーブル、顕微外科用ツールを簡単に補完 することができる。カルコゲナイドガラスファイバ中にErかHoかのイオンを 組込むことはそれ故にコンパクトな内視鏡装置を作ることになる。 半導体及び金属ドーパントをもつ他の形式の応用は非線形装置を作るために組 み入れることができる。 長波長UVカットオフエッジをもつ大屈折率ガラスがそれほど微細でない光フ ァイバとプレーナデバイス用として組立てられている。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 マルチェセ、ディエゴ イタリア国、アイ−70125 バリ、ビア・ ノ・トリデンテ 2/ディー (72)発明者 カカランツァス、ジョージ ギリシャ国、ジーアール−211 00 ナフ プリオ、ピー・パット・ゲルマノウ 4

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1.少くとも1つのIV族元素のカルコゲナイドとハロゲンを含む化合物とを混 合したもので成るガラス。 2.少くとも1つのIV族元素のカルコゲナイドとハロゲンを含む化合物とを混 合したもので成る請求項1記載のガラスであって、さらにIII族元素のカルコゲ ナイドを含むことを特徴とするガラス。 3.少くとも1つのIV族元素のカルコゲナイドとハロゲンを含む化合物とを混 合したもので成る請求項1記載のガラスであって、該IV族元素のカルコゲナイド は70−90モル百分率範囲の量があり、該III族元素のカルコゲナイドは0− 25モル百分率範囲の量があり、かつハロゲン化物はアルカリ又はアルカリ土類 元素のものであって、0−20モル百分率範囲の量があることを特徴とするガラ ス。 4.少くとも1つのIV族元素のカルコゲナイドとハロゲンを含む化合物とを混 合したもので成る請求項3記載のガラスであって、該ガラスは希土類元素でドー プされていることを特徴とするガラス。 5.少くとも1つのIV族元素のカルコゲナイドとハロゲンを含む化合物とを混 合したもので成る請求項4記載のガラスであって、該希土類ドーパントはPr, Nd,Er,Ho及びDyの群から選ばれることを特徴とするガラス。 6.少くとも1つのIV族元素のカルコゲナイドとハロゲンを含む化合物とを混 合したもので成る請求項4記載のガラスであって、該IV族元素はゲルマニウムで あり、かつ該カルコゲナイドは硫黄であることを特徴とするガラス。 7.少くとも1つのIV族元素のカルコゲナイドとハロゲンを含む化合物とを混 合したもので成る請求項4記載のガラスであって、該III族元素はガリウムであ り、かつ該カルコゲナイドは硫黄であることを特徴とするガラス。 8.少くとも1つのIV族元素のカルコゲナイドとハロゲンを含む化合物とを混 合したもので成る請求項4記載のガラスであって、該ハロゲン化物はヨウ化セシ ウムであることを特徴とするガラス。 9.カルコゲナイドを含むガラス内でドーパントの溶解度を高める方法であっ て、該カルコゲナイドを含むガラスにアルカリ又はアルカリ土類金属を加えるこ とを含む方法。 10.ガラスを作る方法であって、IV族元素のカルコゲナイドにIII族元素のカ ルコゲナイドを混合したものを溶融する段階と、I族又はII族元素のハロゲン化 物をそれに加える段階とを含む。 11.ガラスを作る方法であって、IV族化合物カルコゲナイドと、III族化合物 のカルコゲナイドと、アルカリ金属及びアルカリ土類金属を含む群から選ばれた 元素のハロゲン化物とを含む成分化合物のチャージを容器内に入れる段階と、該 容器を加熱して該成分化合物から水を除去する段階と、さらに該容器を加熱して 該チャージを溶融するようにする段階と、該容器を上昇した温度に維持して、該 チャージを均質化しかつその後に該チャージを冷却するようにする段階とで成る る方法。 12.さらに前記チャージを熱処理して前記ガラス内でクエンチによるストレス を低減するための段階を含む請求項11記載のガラスを作る方法。 13.前記請求項1ないし9のいずれか1項記載のガラスを用いた赤外放射透過 導波路。 14.前記請求項1ないし9のいずれか1項記載のガラスを用いた光学部品。 15.非結晶の金属トーパントを用いる請求項14記載の光学部品。 16.金属は銅と銀とで成る群から選ばれることを特徴とする請求項14記載の 光学部品。 17.請求項14記載の光学部品を使用する測定機器。 18.請求項17記載の測定供給を使用するリサイクル用プラント。 19.請求項1ないし9のいずれか1項記載のファイバレーザ又は増幅器。 20.49/265/2遷移を利用することを特徴とする請求項1ないし9のいず れか1項記載のファイバレーザ又は増幅器。 21.49/263/2遷移を利用することを特徴とする請求項1ないし9のいず れか1項記載のファイバレーザ又は増幅器。 22.Pr,Nd,Er及びDyの群から選ばれたドーパントを使用することを 特徴とする請求項19又は20記載のガラスを含むファイバレーザ又は増幅器。 23.411/2413/2遷移を利用することを特徴とする請求項1ないし9のい ずれか1項記載のファイバレーザ又は増幅器。 24.5657遷移を利用することを特徴とする請求項1ないし9のいずれか 1項記載のファイバレーザ又は増幅器。 25.請求項19記載のレーザを使用する治療で使用するためのデバイス。
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