JPH1143539A - 芳香族ポリカーボネートの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 重合に使用する触媒量を極小量に減らし、色
相等の良好なポリカーボネートをコスト的に優位で生産
性良く製造する方法の提供。 【解決手段】 芳香族ジヒドロキシ化合物とジアリール
カーボネートとをエステル交換触媒の存在下に溶融重縮
合反応させて芳香族ポリカーボネートを製造する方法に
おいて、易水溶性塩素系不純物の塩素含有量が３０ｐｐ
ｂ以下、且つ、含窒素系不純物の全窒素含有量が１．０
ｐｐｍ以下であるジアリールカーボネートを用いる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、芳香族ポリカーボ
ネートの製造方法に関する。詳しくは、芳香族ジヒドロ
キシ化合物と特定の不純物の含有量の少ないジアリール
カーボネートとを溶融重縮合反応させて芳香族ポリカー
ボネートを製造する方法に関する。本発明によれば、色
調に優れた商品質の芳香族ポリカーボネートをエステル
交換法により生産性良く製造することができる。

【０００２】

【従来の技術】芳香族ポリカーボネートはその優れた透
明性、耐衝撃性、耐熱性、寸法安定性等の特長を生かし
てエンジニアリングプラスチックとして幅広く利用され
ている。その製造方法としては、塩化メチレン／水の二
相系溶媒中でホスゲンとビスフェノール化合物を反応さ
せるいわゆる界面重合法が主流である。近年になり塩化
メチレンの発癌性等が危惧されるに及び、塩化メチレン
の排水規制や大気汚染に対する規制が強化されるのに対
応してビスフェノール化合物とジアリールカーボネート
とのエステル交換法による重合法が見直されている。

【０００３】エステル交換法の場合は界面重合法と異な
り高温でしかも触媒の存在下に反応を行うため、着色を
回避することが製造上の重要なポイントの一つとなる。
着色を回避する要素としては目標とする分子量を達成す
るのに当たり、できるだけ低い温度で、できるだけ少な
い触媒量で重合することである。この目的を達成するた
めには重合に用いる原料の純度は極めて重要であり、こ
れまでにも特開平２−１７５７２２号公報には原料中の
不純物として加水分解可能な塩素含有量の合計量が３ｐ
ｐｍ以下の重合原料を用いる方法が提案されている。ま
た、特開平４−１００８２４号公報には重合触媒を用い
ず塩素含有量が０．０５ｐｐｍ以下で且つキサントン含
有量が１０ｐｐｍ以下であるジアリールカーボネートを
用いる方法が提案されている。更には特開平７−２５８
３０号公報には炭酸ジエステルをアルミノシリケートの
存在下で加熱減圧処理することにより加水分解可能な塩
素含有量を５ｐｐｍ以下等とする精製法並びにこの方法
で精製した原料を用いる溶融重合法が提案されている。
特定の塩素系不純物としては特開平５−２６２８７２号
公報において炭酸ジエステル中のクロロフォルメートに
基づく塩素含量が３０ｐｐｍ以下であることを特徴とす
る重合法が提案されている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記方
法はいずれも加水分解性の塩素化合物含量を低減させて
いるものの、その中でも特に触媒に対する被毒作用が顕
著となる不純物種の組合せ並びにその低減が不十分であ
ったため、過剰量の触媒を使用し重合を行わざるを得ず
品質も十分に満足されるものではなかった。本発明の目
的は、エステル交換法による重合において重合に使用す
る触媒量を必要十分な極小量に落とし、品質に優れるポ
リカーボネートをコスト的に優位で生産性良く製造する
方法を提供することにある。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明者等は、上記の課
題を解決するために原料のジアリールカーボネート中に
含有される不純物について鋭意検討した結果、触媒の被
毒効果が顕著となる不純物種の新たなる組合せ及びその
臨界的な触媒被毒作用を見出し、この知見に基づき、従
来に比べて格段の触媒量低減を可能にし、品質が向上す
る方法を確立し本発明を完成するに到った。

【０００６】即ち、本発明の要旨は、芳香族ジヒドロキ
シ化合物とジアリールカーボネートとをエステル交換触
媒の存在下に溶融重縮合反応させて芳香族ポリカーボネ
ートを製造する方法において、易水溶性塩素系不純物の
塩素含有量が３０ｐｐｂ以下、且つ、含窒素系不純物の
全窒素含有量が１．０ｐｐｍ以下であるジアリールカー
ボネートを用いることを特徴とする芳香族ポリカーボネ
ートの製造方法、にある。以下、本発明を詳細に説明す
る。

【０００７】

【発明の実施の形態】本発明で用いられる芳香族ジヒド
ロキシ化合物は一般式（１）で示される化合物である。

【０００８】

【化１】

【０００９】（式中、Ａは、単結合、炭素数１〜１５の
置換基を有していてもよい直鎖状、分岐状又は環状の二
価の炭化水素基、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＳＯ−
又は−ＳＯ₂ −を表わし、Ｘ及びＹは、それぞれ独立し
て、ハロゲン又は炭素数１〜６の炭化水素基を表わしｐ
及びｑは０〜２の整数である）

【００１０】式（１）で示される芳香族ジヒドロキシ化
合物の幾つかの代表例を挙げれば、例えばビス（４−ヒ
ドロキシフェニル）メタン、２，２−ビス（４−ヒドロ
キシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキ
シ−３−メチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４
−ヒドロキシ−３−ｔ−ブチルフェニル）プロパン、
２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェ
ニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，
５−ジブロモフェニル）プロパン、４，４−ビス（４−
ヒドロキシフェニル）ヘプタン、１，１−ビス（４−ヒ
ドロキシフェニル）シクロヘキサン等のビスフェノー
ル；４，４′−ジヒドロキシビフェニル、３，３′，
５，５′−テトラメチル−４，４′−ジヒドロキシビフ
ェニル等のビフェノール；ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）スルホン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルフ
ィド、ビス（４−ヒドロキシフェニル）エーテル、ビス
（４−ヒドロキシフェニル）ケトン等である。これらの
中でも２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパ
ンが好ましい。

【００１１】これらの化合物を二種以上併用すること
（共重合体）もできるし、また、分岐状芳香族ポリカー
ボネートを製造しようとするときは、少量の三価以上の
多価フェノールを共重合させることもできる。また、製
造される芳香族ポリカーボネートの熱安定性や耐加水分
解性を更に向上させることを目的として、水酸基末端の
封止のために、ｐ−ｔ−ブチルフェノール、ｐ−ｔ−オ
クチルフェノール、ｐ−クミルフェノール等の一価フェ
ノール類を使用することもできる。

【００１２】本発明で用いられるジアリールカーボネー
ト化合物は、一般式（２）で示される化合物である。

【００１３】

【化２】

【００１４】（式中、Ｒ¹ 及びＲ² は、それぞれ独立し
て、炭素数が１〜１０のアルキル基又は、アルコキシ基
を表わし、ｍ及びｎは０〜２の整数である）

【００１５】式（２）の化合物の具体例としては、例え
ば、ジフェニルカーボネート、ジトリールカーボネー
ト、ジキシリルカーボネート、ビスブチルフェニルカー
ボネート、ビスノニルフェニルカーボネート、ビスメト
キシフェニルカーボネート、ビスブトキシフェニルカー
ボネート等を挙げることができる。これらの中でもジフ
ェニルカーボネートが好ましい。これらジアリールカー
ボネート化合物は、芳香族ジヒドロキシ化合物１モルに
対して過剰に用いられるのが一般的であり、１．０１〜
１．３０モル、好ましくは１．０２〜１．２０モルの量
で用いることが望ましい。

【００１６】ジアリールカーボネート化合物の合成方法
としては、ジメチルカーボネート等からヒドロキシアリ
ール化合物とのエステル交換反応により合成する方法や
ホスゲン及び／又はいわゆるホスゲンダイマーやトリマ
ー及び／又はアリールクロロフォルメート等のホスゲン
誘導体とヒドロキシアリール化合物とのホスゲン化反応
による方法等が代表的なものとして知られるが、本発明
は特にその合成方法によって限定されるものではない。
ところでホスゲン化においては、一般に触媒としてトリ
エチルアミンやピリジン等の含窒素系塩基性触媒の存在
下で脱塩酸や脱塩化ナトリウムや脱塩化カリウム等が行
われるため本発明が特に有効である。

【００１７】また、ジアリールカーボネートの合成方法
について、本発明の最終的な目標である品質に優れるポ
リカーボネートをコスト的に優位で生産性良く重合する
方法を確立すると言う意味において考えるならば、原料
合成の過程で副生し着色の原因となる異性体の生成量が
少なく、結果的に原料精製工程のコストが小さいホスゲ
ン化による方法が品質的、コスト的に優位であると考え
られる。本発明で好適に用いられるジアリールカーボネ
ートの合成方法としては、例えば、芳香族モノヒドロキ
シ化合物とホスゲン又はアリールクロロフォルメートと
を含窒素塩基性化合物、より好適には芳香族複素環式含
窒素塩基性化合物の存在下に反応させて生成した反応混
合物を、８０〜９５℃の温水と接触させ、再び水相と有
機相に分離し、この分離された有機相より蒸留によりジ
アリールカーボネートを回収する方法等が挙げられる。

【００１８】本発明においてジアリールカーボネート中
に含まれる易水溶性塩素系不純物とは、以下の方法によ
りその塩素含有量が分析されるものである。即ち、精秤
したジアリールカーボネート（５ｇ）を精製トルエン
（１０ｍｌ）にて加温溶解後超純水（１０ｍｌ）を加え
て、室温で１０分間撹拌（マグネチックスターラー１０
００ｒｐｍ）した後、水相中の塩素をイオンクロマトグ
ラフで分析する方法である。

【００１９】このような方法で分析されるＣｌとしては
特開平５−２６２８７２号公報でも明らかにされている
ように、クロロフォルメートに基づくような有機系の塩
素は殆んどなく、その主たる成分はアミン・塩酸塩やＮ
ａＣｌ、ＫＣｌ等の塩酸塩或いは塩酸そのものと考えら
れる。本発明におけるこれらの易水溶性塩素系不純物の
塩素含有量（以下、Ｃｌ含量と略記）は、３０ｐｐｂ以
下、好適には２０ｐｐｂ以下、更に好適には１５ｐｐｂ
以下である。Ｃｌ含量が３０ｐｐｂを超えると初期の重
合活性が低下するため過剰の触媒を加えるか又は品質に
悪影響のある末端ＯＨ基を増やさないと重合度が上がら
ない。

【００２０】本発明においてジアリールカーボネート中
に含まれる含窒素系不純物の全窒素含有量（以下、全Ｎ
含量と略記）は、例えば三菱化学（株）社製のＴｏｔａ
ｌＮｉｔｒｏｇｅｎ Ａｎａｌｙｚｅｒ ＴＮ−０５等
のいわゆる全窒素分析計で測定される測定値である。本
発明におけるこれら含窒素系不純物の全Ｎ含量は、１．
０ｐｐｍ以下、好適には０．７ｐｐｍ以下、更に好適に
は０．５ｐｐｍ以下であることが望ましい。全Ｎ含量が
１．０ｐｐｍを超えると初期の重合速度が低下するため
過剰の触媒を加えるか又は品質に悪影響のある末端ＯＨ
基を増やさないと重合度が上がらない。

【００２１】本発明において易水溶性塩素系不純物と含
窒素系不純物は相乗的に重合に影響し、Ｃｌ量が３０ｐ
ｐｂ以下であっても全Ｎ含量が１．０ｐｐｍを超える場
合は初期の重合速度が低下し、一方、全Ｎ含量が１．０
ｐｐｍ以下であってもＣｌ量が３０ｐｐｂを超える場合
にも、重合速度が低下して本発明の効果は得られない。
これはジアリールカーボネートの合成過程で残存する弱
塩基性の含窒素系不純物が塩酸等との塩となり、無機酸
そのものに比べて重合過程での揮散が減る、或いは重合
に用いる塩基性触媒との酸−塩基相互作用が変化する等
の影響で触媒への被毒作用が強まるためと推定されるが
詳細は明らかでない。

【００２２】本発明においてエステル交換に用いられる
触媒としては公知の触媒等が用いられるが、中でも塩基
性触媒が好適であり、例えばアルカリ金属やアルカリ土
類金属等のエステル交換触媒や、含窒素塩基性化合物や
含リン塩基性化合物等のエステル交換触媒が用いられ
る。アルカリ金属及びアルカリ土類金属化合物として
は、具体的には、アルカリ金属及びアルカリ土類金属の
有機酸塩、無機酸塩、酸化合物、水酸化物、水素化物或
いはアルコラート等が好ましく挙げられる。

【００２３】より具体的には、アルカリ金属化合物とし
ては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチ
ウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水
素リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチ
ウム、ビスフェノールＡの二ナトリウム塩、二カリウム
塩、二リチウム塩、フェノールのナトリウム塩、カリウ
ム塩、リチウム塩、水酸化セシウム、炭酸セシウム、炭
酸水素セシウム等の無機セシウム塩、酢酸セシウム、ス
テアリン酸セシウム等の有機酸セシウム塩、セシウムメ
チレート、セシウムエチレート等のセシウムアルコラー
ト、セシウムフェノレート、ビスフェノールＡのジセシ
ウム塩等のフェノール類セシウム塩等が挙げられる。

【００２４】また、アルカリ土類金属化合物としては、
具体的に、水酸化カルシウム、水酸化バリウム、水酸化
マグネシウム、水酸化ストロンチウム、炭酸水素カルシ
ウム、炭酸水素バリウム、炭酸水素マグネシウム、炭酸
水素ストロンチウム、炭酸カルシウム、炭酸バリウム、
炭酸マグネシウム、炭酸ストロンチウム等が挙げられ
る。これらの化合物は単独で、或いは組み合わせて用い
られる。

【００２５】本発明では、触媒として、上記のようなア
ルカリ金属化合物及び／又はアルカリ土類金属化合物と
共に、塩基性化合物を用いることもできる。このような
塩基性化合物としては、例えば高温で易分解性又は揮発
性であり、最終の芳香族ポリカーボネートに残留するこ
とが少なく、色相等の物性に悪影響を与えない含窒素塩
基性化合物及びホスホニウムヒドロキシド化合物が挙げ
られ、具体的には、以下のような化合物が挙げられる。

【００２６】含窒素塩基性化合物としては、テトラメチ
ルアンモニウムヒドロキシド（Ｍｅ ₄ ＮＯＨ）、テトラ
エチルアンモニウムヒドロキシド（Ｅｔ₄ ＮＯＨ）等の
アルキル、アリール、アルアリール基等を有するアンモ
ニウムヒドロキシド類、トリメチルアミン、トリエチル
アミン等の三級アミン類、Ｒ₂ ＮＨ（式中、Ｒはメチ
ル、エチル等のアルキル、フェニル、トルイル等のアリ
ール基等である）で示される二級アミン類、ＲＮＨ
₂ （式中、Ｒは上記と同じである）で示される一級アミ
ン類、２−メチルイミダゾール、２−フェニルイミダゾ
ール等のイミダゾール類、ニトリロ三酢酸ナトリウム等
のイミノカルボン酸誘導体又はその塩、或いはアンモニ
ア、テトラメチルアンモニウムボロハイドライド（Ｍｅ
₄ ＮＢＨ₄ ）、テトラブチルアンモニウムボロハイドラ
イド（Ｂｕ₄ ＮＢＨ₄ ）等の塩基性塩が挙げられる。

【００２７】また、ホスホニウムヒドロキシド化合物と
しては、テトラエチルホスホニウムヒドロキシド、テト
ラブチルホスホニウムヒドロキシド、テトラフェニルホ
スホニウムヒドロキシド、メチルトリフェニルホスホニ
ウムヒドロキシド、アリルトリフェニルホスホニウムヒ
ドロキシド等が挙げられる。これらの中、テトラアルキ
ルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルホスホニウ
ムヒドロキシド、テトラフェニルホスホニウムヒドロキ
シドが好ましく用いられる。

【００２８】使用される触媒量はアルカリ金属化合物及
び／又はアルカリ土類金属化合物の場合には、芳香族ジ
オール化合物１モルに対して、通常１×１０^-5〜１×１
０^-4モル、好ましくは１×１０^-7〜１×１０^-5モルの量
で用いられ、また、塩基性化合物の場合には、芳香族ジ
オール化合物１モルに対して通常１×１０^-7〜１×１０
^-1モル、好ましくは１×１０^-6〜１×１０^-2モルの量で
用いられる。

【００２９】本発明で用いられる重合プロセスには特に
限定はなく、一般的にエステル交換反応に用いられる重
合プロセスが採用可能である。例えば撹拌装置を備えた
縦型及び／又は横型の重合装置を一機ないしは数機を適
当に組合せ、バッチ式ないしは連続式で、１７０〜３０
０℃、より好適には２００〜２８０℃、更に好適には２
１０〜２７５℃の温度範囲で温度を上昇させ、また重合
圧力も重合の進行に伴い減圧度を常圧〜フル真空の間で
適度に上昇させることにより重合を進行させ分子量を上
げる方法がある。特に重合度が上がり粘度が上昇する重
合後期においては、界面更新性に優れる横型反応器等高
粘度対応型の反応器が好適に用いられる。また、別の方
法として重合後期に一旦生成ポリマーを熱処理や溶媒接
触等の方法により結晶化させた後固相重合する方法も適
用できる。

【００３０】本発明の製造方法により得られた芳香族ポ
リカーボネートの分子量は、射出成形や押出成形等の樹
脂成形により得られる成形材料やコーティング等により
得られる膜として実用に耐えうる機械的性質を示すため
に、粘度平均分子量として１１０００以上、より好適に
は１２０００以上、更に好適には１３０００以上であ
る。粘度平均分子量が１１０００に満たない場合は、極
めて脆く樹脂材料として使用に供し得ない。分子量の上
限としては特に制限は無いが、一般に成形性、製膜性を
考えると粘度平均分子量として５００００以下、より好
適には４００００以下、更に好適には３５０００以下で
ある。粘度平均分子量が５００００を超えると粘度が極
めて高く一般的な成形機での成形は困難となる。

【００３１】本発明の製造方法により得られた芳香族ポ
リカーボネートには、触媒安定剤、耐熱安定剤、紫外線
吸収剤、離型剤、帯電防止剤、スリップ剤、アンチブロ
ッキング剤、滑剤、防曇剤、着色剤、流動性改良剤、有
機系強化充填剤、無機系強化充填剤等の添加剤を配合し
て使用することができる。このような添加剤は、溶融状
態にある芳香族ポリカーボネートに添加することもでき
るし、また一旦ペレタイズされた芳香族ポリカーボネー
トを再溶融して添加することもできる。なお、再溶融は
不活性ガス雰囲気下に行うことが好ましい。また、他の
樹脂、例えばエチレン・酢酸ビニル共重合体、ポリアミ
ド、ポリスチレン、アクリロニトリル・ブタジエン・ス
チレン共重合体、ポリエステルポリプロピレン等とブレ
ンドして使用することもできる。

【００３２】

【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明
するが、本発明は、その要旨を超えない限りこれら実施
例に何ら限定されるものではない。なお、得られたポリ
カーボネートの分析は下記の測定方法に従って行った。

【００３３】（１）粘度平均分子量（Ｍｖ） ウベローデ型粘度計を用いて、塩化メチレン中、２０℃
での極限粘度［η］を測定し、以下の式より粘度平均分
子量（Ｍｖ）を求めた。

【００３４】

【数１】［η］＝１．２３×１０^-4×（Ｍｖ）^0.83

【００３５】（２）溶液色相 １６．７％塩化メチレン溶液を直径２５ｍｍ、高さ５５
ｍｍのガラス製セルに入れ、カラーテスター（スガ試験
機株式会社製ＳＣ−１−ＣＨ）で、色の絶対値である三
刺激値ＸＹＺを測定し、次の関係式により黄色度の指標
であるＹＩ値を計算した。なお、このＹＩ値が大きいほ
ど着色していることを示す。

【００３６】

【数２】 ＹＩ＝（１００／Ｙ）×（１．２８Ｘ−１．９６Ｚ）

【００３７】（３）易水溶性Ｃｌ含量 原料ジフェニルカーボネート５ｇをトルエン１０ｍｌに
加え、６０℃で溶解後、超純水（Ｃｌを含有しないイオ
ン交換水）１０ｍｌを加え、２３℃の恒温室でマグネチ
ックスターラーを用い１０００ｒｐｍで１０分間撹拌し
た後、水相中の塩素をイオンクロマトグラフィーにて分
析し求めた。

【００３８】（４）全Ｎ含量 原料ジフェニルカーボネート約２ｇを秤量しトルエンを
加え完全に溶解させた後１０ｍｌにメスアップし、この
溶液２０μｌを三菱化学（株）社製ＴｏｔａｌＮｉｔｒ
ｏｇｅｎ Ａｎａｌｙｚｅｒ ＴＮ−０５に注入し全Ｎ
含量を求めた。

【００３９】（ジフェニルカーボネートの合成例１）オ
イル循環方式の外部加熱装置に接続されたジャケット付
きガラス製反応容器（内容積が１リットル、実液７００
ｍｌの位置にオーバーフロー管を設置）を３個連続で接
続した。第２と第３の反応容器には、生成した塩酸ガス
を系外へ除くためのコンデンサー付き排気管を接続し
た。予めピリジンを５モル％添加して撹拌しておいた溶
融フェノールを、約７００ｍｌ／ｈｒ（フェノール７１
６ｇ／ｈｒ、ピリジン３０ｇ／ｈｒに相当）で第１反応
容器へ連続供給しながら、１５０℃へ昇温した。充分に
撹拌を行いながら、供給されるフェノールの０．４８モ
ル比のホスゲン（３６１ｇ／ｈｒ）を第１反応容器へ連
続供給した。

【００４０】第１反応容器から流出した反応混合物は、
オーバーフロー管を介して第２反応器へ供給し、第２反
応器から流出した反応混合物は同様に第３反応器へ供給
した。第３反応器から流出した反応混合物は、ポリプロ
ピレン製の受器に抜き出した。第３反応器には、窒素ガ
スの吹き込み管を設置し、反応混合物中へ７０Ｎリット
ル／ｈｒの窒素ガスを連続供給した。組成が充分に安定
した後に抜き出した反応混合物（組成：ジフェニルカー
ボネート８９重量％、フェノール６重量％、ピリジン塩
酸塩５重量％、フェニルクロロフォーメート未検出）１
ｋｇを、オイル循環方式の外部加熱装置に接続されたジ
ャケット付きガラス製反応容器に入れ、８５℃へ昇温し
た。８５℃に加温しておいた濃度が５重量％の水酸化ナ
トリウム水溶液３７２ｇを添加してディスクタービン翼
二段にて５分間撹拌後、３０分間静置してから水相と有
機相を別々に抜き出した。水酸化ナトリウム水溶液添加
後のｐＨは９であった。

【００４１】抜き出した有機相を、再度、オイル循環方
式の外部加熱装置に接続されたジャケット付きガラス製
反応容器内に入れ、８５℃へ昇温した。８５℃に加温し
ておいた脱塩水３００ｇを添加して先記と同様の撹拌翼
にて５分間撹拌後、５分間静置してから水相と有機相を
別々に抜き出した。この操作を再度繰り返して有機相を
採取した。スルザーパッキング（住友重機工業製）１０
個を充填した真空蒸留塔にて、分離した有機相を蒸留精
製した。詳細には、真空度２０〜４０Ｔｏｒｒ、オイル
バス温度約２２０℃、トップ温度５０〜８０℃で、遊離
型のピリジンとフェノールを留去した後、真空度１０Ｔ
ｏｒｒ、オイルバス温度約２３０℃、トップ温度１５０
℃で精製ジフェニルカーボネート７５０ｇを得た。こう
して得られたジフェニルカーボネート中に含まれる易水
溶性Ｃｌ含量は１０ｐｐｂ、全Ｎ含量は０．０３ｐｐｍ
であった。また、上記合成例の８５℃脱塩水による洗浄
分離工程の繰り返しを省き一回の洗浄分離とした以外は
全く同様の方法で得たジアリールカーボネートは、ロッ
トにより易水溶性Ｃｌ含量が１０〜１５ｐｐｂ、全Ｎ含
量が０．１９〜０．５４ｐｐｍの範囲のものが得られ
た。このようにして得られたジフェニルカーボネートを
以下の実施例１〜６に用いた。

【００４２】（ジフェニルカーボネートの合成例２）合
成例１のアルカリ水溶液、及び脱塩水による洗浄におい
て撹拌を平板四枚よりなるパドル翼二段にて撹拌する以
外は合成例１と同様の方法で合成、精製して得られたジ
フェニルカーボネート中に含まれる易水溶性Ｃｌ含量は
１１０ｐｐｂ、全Ｎ含量は０．５２ｐｐｍであった。こ
うして得られたジフェニルカーボネートを以下の比較例
５〜６に用いた。

【００４３】（ジフェニルカーボネートの合成例３）バ
イエル社製ジフェニルカーボネート１０５０ｇを熱媒温
度２６０℃、内温１９０℃、トップ温度１８０℃で真空
度１０Ｔｏｒｒの条件で蒸留し精製ジフェニルカーボネ
ートを９５０ｇ得た。こうして得られたジフェニルカー
ボネートの易水溶性Ｃｌ含量は３３ｐｐｂ、全Ｎ含量は
１．１５ｐｐｍであった。これを以下の比較例１に用い
た。

【００４４】（ジフェニルカーボネートの合成例４）合
成例３の蒸留精製においてバイエル社製ジフェニルカー
ボネート１０５０ｇに１Ｎ ＮａＯＨ ５００ｍｌを添
加する他は合成例３と同様の方法により精製したジフェ
ニルカーボネートの易水溶性Ｃｌ含量は１４ｐｐｂ、全
Ｎ含量１．２８ｐｐｍであった。これを以下の比較例２
〜４に用いた。

【００４５】実施例１ ビスフェノールＡ１８２．６ｇ（０．８モル）、Ｃｌ含
量、全Ｎ含量が各々１０ｐｐｂ、０．０３ｐｐｍのジフ
ェニルカーボネート１８８．５ｇ（０．８８モル）、及
びエステル交換触媒として０．２６％炭酸セシウム水溶
液５０μｌ（０．４μモル）を内容積５００ｍｌの撹拌
機及び留出装置付きのガラスフラスコに入れ、反応容器
内を窒素ガスで置換後、窒素ガス雰囲気下２１０℃で内
容物を溶解した。内容物が完全に溶解した後、２１０
℃、常圧、１時間この状態を保持した。次いで、反応器
内の圧力を徐々に１００Ｔｏｒｒにまで下げてフェノー
ルを留出させ、この状態で１時間保持した。この間に留
出した留出物の量を初期重合速度の目安として表１に初
期留出量として示した。その後重合温度を２４０℃に昇
温し、反応器内の圧力を徐々に１５Ｔｏｒｒに減圧し、
１時間重合を進めた後、更に２７０℃に昇温し、反応器
内の圧力を０．５Ｔｏｒｒまで下げ１時間重合を継続し
た。この後反応器内の圧力を窒素により復圧して生成ポ
リマー約２００ｇを回収し、先記の測定方法に従い分析
評価した。

【００４６】実施例２〜６、比較例１〜６ ジフェニルカーボネートとして表１中に示すＣｌ含量、
全Ｎ含量のものを用い、触媒であるＣｓ₂ ＣＯ₃ 量をビ
スフェノールＡ １モルに対し表１中に示す量で実施例
１と同様の方法で重合した結果を表１に示した。

【００４７】

【表１】

【００４８】

【発明の効果】本発明によればジアリールカーボネート
中に含まれる特定の不純物の含量を制御してより少ない
触媒量で色相等の良好なポリカーボネートを重合するこ
とができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 川井 道生 三重県四日市市東邦町１番地 三菱化学株 式会社四日市事業所内

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 芳香族ジヒドロキシ化合物とジアリール
   カーボネートとをエステル交換触媒の存在下に溶融重縮
   合反応させて芳香族ポリカーボネートを製造する方法に
   おいて、易水溶性塩素系不純物の塩素含有量が３０ｐｐ
   ｂ以下、且つ、含窒素系不純物の全窒素含有量が１．０
   ｐｐｍ以下であるジアリールカーボネートを用いること
   を特徴とする芳香族ポリカーボネートの製造方法。
2. 【請求項２】 ジアリールカーボネート中に含まれる含
   窒素系不純物の全窒素含有量が０．７ｐｐｍ以下である
   ことを特徴とする請求項１に記載の方法。
3. 【請求項３】 ジアリールカーボネート中に含まれる含
   窒素系不純物の全窒素含有量が０．５ｐｐｍ以下である
   ことを特徴とする請求項１に記載の方法。
4. 【請求項４】 エステル交換触媒として塩基性化合物を
   用いることを特徴とする請求項１ないし３のいずれかに
   記載の方法。
5. 【請求項５】 塩基性化合物がアルカリ金属及びアルカ
   リ土類金属から選ばれた少なくとも一種であることを特
   徴とする請求項４に記載の方法。
6. 【請求項６】 ジアリールカーボネートがホスゲンとヒ
   ドロキシアリール化合物とを触媒の存在下に反応させて
   得られたものであることを特徴とする請求項１ないし５
   のいずれかに記載の方法。
7. 【請求項７】 触媒が含窒素塩基性触媒であることを特
   徴とする請求項６に記載の方法。