JPH1138638A - 露光方法及び装置、並びに液晶表示装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 １レイヤの露光を複数のショットにより構成
する露光方法において、ショット間の繋ぎ部におけるパ
ターン寸法の急激な変化を防止する露光方法及び装置を
提供する。また、色ムラがなく、大面積、高精細の液晶
表示装置を提供する。 【解決手段】 複数のショットにより一のレイヤを露光
する露光方法において、第１の領域に隣接する第２の領
域を露光する際に、第１の領域の露光に用いる第１のレ
チクルの露光量とパターンサイズとの関係と、第２の領
域の露光に用いる第２のレチクルの露光量とパターンサ
イズとの関係とを参照し、第２の領域を露光するための
露光条件を決定する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、フォトリソグラフ
ィーにおける露光方法に係り、特に、１レイヤの露光を
複数のショットにより構成する露光方法及び装置、並び
に、この露光方法を用いて製造した液晶表示装置に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】近年、アプリケーションの拡大等に伴
い、大面積、高精細な液晶表示装置が主流になり始めて
いる。このため、液晶表示装置の製造過程におけるリソ
グラフィー技術には、より精度の高いパターニングが要
求されており、露光時のパターン寸法ムラなどを如何に
抑えるかが今後の重要な課題となっている。

【０００３】液晶表示装置では、その大面積化ととも
に、半導体装置のように一のショットで一つのデバイス
パターンを露光することが困難となっており、複数のレ
チクルを用いて複数回のショットを行うことにより大面
積のパターニングすることが行われている。この露光過
程においては、一定の露光量で複数のショットを行い、
一のレイヤの露光を行う方法が用いられていた。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】この露光方法では一の
レイヤの露光に複数のショットを用いるので、ショット
とショットの間には必ず繋ぎ部が存在することになる。
しかしながら、従来の露光方法では繋ぎ部におけるパタ
ーン寸法については全く考慮されていなかったため、繋
ぎ部においてパターン寸法が急激に変化することがあっ
た。特に、表示部に繋ぎ部が存在した場合、そのパター
ン寸法が約０．５μｍ以上ずれると、その寸法差に起因
する色ムラが人間の目に感知され得るほど大きくなるた
め、繋ぎ部における急激なパターン寸法変化が生じない
露光方法が望まれていた。

【０００５】本発明の目的は、１レイヤの露光を複数の
ショットにより構成する露光方法において、ショット間
の繋ぎ部におけるパターン寸法の急激な変化を防止する
露光方法及び装置を提供することにある。また、本発明
の他の目的は、上記露光方法を用いることにより、色ム
ラがなく、大面積、高精細の液晶表示装置を提供するこ
とにある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】上記目的は、複数のショ
ットにより一のレイヤを露光する露光方法において、第
１の領域に隣接する第２の領域を露光する際に、前記第
１の領域の露光に用いる第１のレチクルの露光量とパタ
ーンサイズとの関係と、前記第２の領域の露光に用いる
第２のレチクルの露光量とパターンサイズとの関係とを
参照し、前記第２の領域を露光するための露光条件を決
定することを特徴とする露光方法によって達成される。
このようにして露光することにより、ショット間の繋ぎ
部におけるパターン寸法の急激な変化を防止することが
できる。したがって、この露光方法を液晶表示装置の製
造過程におけるパターニング工程に採用すれば、色ムラ
の発生を抑えて大画面の高精細な液晶表示装置を製造す
ることができる。

【０００７】また、上記の露光方法において、前記第１
の領域と前記第２の領域の繋ぎ部近傍において、同じ寸
法に形成されるべきパターンの寸法が、前記第１の領域
及び前記第２の領域においてほぼ等しくなるように前記
第２の領域の露光条件を決定することが望ましい。繋ぎ
部近傍におけるパターン寸法を考慮することにより、シ
ョット間の繋ぎ部におけるパターン寸法の急激な変化を
更に低減することができる。

【０００８】また、上記目的は、複数のショットにより
一のレイヤを露光する露光方法において、複数のショッ
ト領域に隣接する一のショット領域を露光する際に、前
記複数のショット領域の露光に用いるそれぞれのレチク
ルの露光量とパターンサイズとの関係と、前記一のショ
ット領域の露光に用いるレチクルの露光量とパターンサ
イズとの関係とを参照し、前記一のショット領域を露光
するための露光条件を決定することを特徴とする露光方
法によっても達成される。このようにして露光すること
により、ショット間の繋ぎ部におけるパターン寸法の急
激な変化を防止することができる。したがって、この露
光方法を液晶表示装置の製造過程におけるパターニング
工程に採用すれば、色ムラの発生を抑えて大画面の高精
細な液晶表示装置を製造することができる。

【０００９】また、上記の露光方法において、前記一の
ショット領域との繋ぎ部近傍において、同じ寸法に形成
されるべきパターンの寸法が、前記一のショット領域及
び前記一のショット領域に隣接する他のショット領域に
おいてほぼ等しくなる前記第一のショット領域の露光条
件を、前記複数のショット領域のそれぞれについて求
め、これらの露光条件を平均化して前記一のショット領
域の露光条件を決定することが望ましい。繋ぎ部近傍に
おけるパターン寸法を考慮することにより、ショット間
の繋ぎ部におけるパターン寸法の急激な変化を更に低減
することができる。

【００１０】また、上記の露光方法において、前記複数
のショットに用いるすべてのレチクルの露光量とパター
ンサイズとの関係を参照し、前記複数のショットの露光
条件を最適化することが望ましい。このようにして露光
条件を設定すれば、すべての繋ぎ部における露光条件を
最適化しつつ一のレイヤを露光することができる。ま
た、上記の露光方法において、前記露光量とパターンサ
イズとの関係を参照する代わりに、前記レチクル上にお
けるパターンサイズを参照することが望ましい。

【００１１】また、上記の露光方法において、前記一の
レイヤの露光に必要とされる前記複数のショットは、前
記複数のショットに用いるレチクル毎に順次行うことが
望ましい。このようにすることにより、一レイヤの露光
に必要なＴＡＴを短縮することができる。また、上記目
的は、露光量とパターンサイズとの関係を含む露光情報
を格納する露光情報格納手段と、前記露光情報格納手段
から、前記露光量とパターンサイズとの関係を参照し、
上記の露光方法に基づいて各ショットの露光条件を決定
する露光条件決定手段と、前記露光条件に基づいて露光
処理を行う露光手段とを有することを特徴とする露光装
置によっても達成される。このようにして露光装置を構
成することにより、ショット間の繋ぎ部におけるパター
ン寸法の急激な変化を防止しつつ露光することができ
る。したがって、このような露光装置を液晶表示装置の
製造プロセスに適用すれば、色ムラの発生を抑えて大画
面の高精細な液晶表示装置を製造することができる。

【００１２】また、上記目的は、ガラス基板上に、複数
のショットにより露光して形成されたレイヤを有する液
晶表示装置において、前記レイヤは、上記の露光方法を
用いて形成されていることを特徴とする液晶表示装置に
よっても達成される。このようにして液晶表示装置を構
成することにより、ショット間の繋ぎ部における色ムラ
を防止することができる。

【００１３】

【発明の実施の形態】

［第１実施形態］本発明の一実施形態による露光方法及
び装置について図１乃至図３を用いて説明する。図１は
本実施形態による露光方法を説明するためのパターンレ
イアウトを示す図、図２は本実施形態による露光方法を
説明するためのレチクルを示す図、図３は本実施形態に
おけるパターンサイズと露光量との関係の一例を示すグ
ラフである。

【００１４】上述したように、一のレイヤの露光に複数
のショットを用いる露光方法ではショットとショットの
間に必ず繋ぎ部が存在することとなる。従来の露光方法
により生ずるパターンサイズの急激な変化は、主とし
て、レチクル内におけるパターンサイズのばらつきや露
光装置のディストーションに起因するものである。レチ
クル面内におけるパターンサイズのばらつきは、遮光膜
パターニングの際にスピンコートするフォトレジスト膜
厚のばらつきや、このフォトレジスト膜をマスクとして
遮光膜をドライエッチングする際の面内ばらつきなどに
起因する。一方、露光装置自体に起因するばらつきは装
置固有のものであり、長期間の使用による変動を考慮し
なければほぼ一定と考えることができる。

【００１５】したがって、特定のレチクルを用いてパタ
ーンを転写した場合、転写されるパターンサイズのばら
つきは、主としてレジスト上の寸法ばらつきを反映して
おり、露光量に対してほぼ一定の関係にあると考えられ
る。よって、転写されるパターンの所定領域のパターン
サイズが判れば、パターンサイズのばらつき分布から特
定の領域のパターンサイズを見積もることが可能とな
る。

【００１６】本発明は、係る観点からショット間の繋ぎ
部におけるパターン寸法の急激な変化を防止する露光方
法を提供するものである。以下、具体的な例を挙げなが
ら本発明を詳述する。いま、図１に示すように、８回の
ショットにより一のレイヤの露光を行う液晶表示装置を
考える。図１は、パターンＡ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅ、Ｆの６
種類のパターンを適宜配列し、ガラス基板１０上にパネ
ル形成領域１２を２つ設けた場合を示したものである。

【００１７】ここで、このレイヤの露光には、４枚のレ
チクルａ、ｂ、ｃ、ｄを用いるものとし、レチクルａに
はパターンＡが、レチクルｂにはパターンＢが、レチク
ルｃにはパターンＣ及びＤが、レチクルｄにはパターン
Ｅ及びＦが、それぞれ描画されているものとする（図２
（ａ）〜（ｄ）参照）。まず、露光処理に先立ち、これ
ら４枚のレチクルａ、ｂ、ｃ、ｄについて、繋ぎ部が発
生する領域における露光量とパターンサイズとの関係を
測定する。

【００１８】例えば、レチクルａの場合には、パターン
Ａに対する繋ぎ部は、パターンＡの上端、下端、右端、
左端においてそれぞれ存在することとなるので、それぞ
れのばらつきの関係を測定しておく。すなわち、パター
ンサイズと露光量との関係をそれぞれの端部について測
定しておき、所定の露光量のときにそれぞれの端部が概
略どの位の寸法で出来上がるかを見積もることができる
ようにしておく。

【００１９】レチクルｃの場合には、パターンＣ及びＤ
が含まれるので、それぞれのパターンを露光することに
よって発生する繋ぎ部を考慮して上記のデータを測定し
ておく。すなわち、レチクルｃ上では、パターンＣとＤ
との境界が存在するが、境界近傍領域のパターンＣはパ
ターンＡの左端と接続され、パターンＤはパターンＡの
右端と接続されるので、この領域についてもパターンサ
イズと露光量との関係を測定しておく。

【００２０】このようにしてパターンサイズと露光量と
の関係を測定しておけば、所定の領域のサイズを合わせ
込むようにパターン露光を行った場合に、このときの露
光量から繋ぎ部の発生する領域におけるパターンサイズ
を見積もることが可能となる。出来上がりのパターンサ
イズと露光量との関係を測定するのは、出来上がりのパ
ターンサイズにはディストーションなどの露光装置自体
のばらつきをも含まれるため、装置自体のばらつきをも
考慮してパターンサイズを見積もることができるからで
ある。

【００２１】なお、転写されるパターンのばらつき分布
は主としてレチクル上のばらつきを反映したものである
ので、同一のレチクルを用いる限り面内における寸法ば
らつきの経時変化はないと考えられる。したがって、パ
ターンサイズと露光量との関係を求める上記の測定は、
露光処理ごとに必要とされるものではない。また、この
ように測定したデータをデータベース化しておけば、後
述する露光処理を円滑に、且つ迅速に進めることが容易
となる。

【００２２】次に、このように測定したデータを参照し
つつ、レチクルａ〜ｄを露光する。まず、基準となる一
のショットを、出来上がり寸法が設計値となるように露
光量を設定して露光する。例えば、パターンＣを基準と
する場合には、例えば繋ぎ部が発生するパターンＣの右
端の領域が設計値通りに出来上がるように露光量を決定
して露光する。

【００２３】次いで、上記の基準ショットに隣接するシ
ョットを、基準ショットの露光量に応じた所定の露光量
で露光する。例えば、パターンＣを基準ショットとする
場合には、これに隣接するパターンＡを露光する。パタ
ーンＡを露光する際の露光量は、例えば以下のように決
定する。予め測定しておいたパターンＡにおけるパター
ンサイズと露光量との関係が、例えば図３に示すようで
あったとする。すなわち、同じ露光量で同一サイズとな
るべきパターン露光した際に、右端領域のパターンサイ
ズが、左端領域におけるパターンサイズよりも太かった
とする。また、パターンＣの露光量Ｅ_Cと同じ露光量で
パターンＡを露光すると、パターンＡの左端領域のパタ
ーンサイズＷ_A0が、パターンＣの右端領域のパターンサ
イズＷ_Cよりも太くなるものとする。

【００２４】このような場合、パターンＡをパターンＣ
と同じ露光量Ｅ_cで露光すると、パターンＡとパターン
Ｃとの間の繋ぎ部においてパターンサイズが急激に変化
することとなる。そこで、パターンＡの露光時には、パ
ターンＡの左端領域のパターンサイズが、パターンＣの
右端領域のパターンサイズとほぼ等しくなるように、パ
ターンＡの露光量を設定する。具体的には、図３のグラ
フにおいて、出来上がり線幅がパターンＣの右端領域の
パターンサイズＷ_Cと同じになるパターンＡの左端領域
の露光量Ｅ_A1を求めればよい。

【００２５】このようにしてパターンＡの露光量を設定
することにより、パターンＣとパターンＡとの間の繋ぎ
部におけるパターンサイズはともにＷ_Cとなり、パター
ンサイズの急峻な変化を抑えることができる。続いて、
このように露光したパターンＡ（以下、区別のためパタ
ーンＡ１と表す）に隣接するパターンＡ（以下、区別の
ためパターンＡ２と表す）を露光する場合には、パター
ンＡ１を基準ショットとして、上述した方法と同様にパ
ターンＡ２の露光量を決定する。すなわち、パターンＡ
２の左側領域のパターンサイズが、露光量Ｅ_A1で露光し
た際のパターンＡ１の右側領域のパターンサイズＷ_A1と
同じになるように、図３の関係から露光量Ｅ_A2を求めれ
ばよい。

【００２６】この後、同様の手順を繰り返し、パターン
Ｄ、Ｅ、Ｂ、Ｆを順次露光していけばよい。ところで、
パターンＢは、パターンＥ及びパターンＡとの間に繋ぎ
部を構成する。このように複数のパターンとの間に繋ぎ
部を構成するパターンを露光する際には、それぞれのパ
ターン間において最適な露光量を決定したうえで、これ
ら露光量の平均値を求めるなどによってパターンＢの露
光量を決定すればよい。こうすることにより、パターン
Ｅ及びパターンＡとの繋ぎ部におけるパターンサイズの
変化量を最適化した状態でパターンＢを露光することが
できる。

【００２７】このように、本実施形態によれば、複数の
ショットにより一のレイヤの露光を行う際に、それぞれ
のショットの露光量を、隣接するショットの露光データ
を参照して決定することにより、ショットの繋ぎ部にお
けるパターン寸法の急激な変動を防止することができ
る。したがって、この露光方法を液晶表示装置の製造過
程におけるパターニング工程に採用すれば、色ムラの発
生を抑えて大画面の高精細な液晶表示装置を製造するこ
とができる。

【００２８】なお、上記実施形態では、図１において、
左上の領域に位置するパターンＣを最初の基準ショット
として選択したが、何れのショットを基準ショットとし
て選択してもよい。また、最初の基準ショットは一つに
は限られず、複数の基準ショットを設定してもよい。ま
た、上記実施形態では、露光量とパターンサイズとの関
係を予め測定したが、ディストーションなどの露光装置
自体に起因するばらつきの影響を無視できる場合には、
レチクル上のパターンサイズのみを参照することによっ
ても露光条件を最適化することができる。この場合、繋
ぎ部におけるレチクル寸法のズレを求め、このズレ量か
ら露光条件を補正する補正量を算出すればよい。補正量
は、フォトレジストや露光装置の特性から容易に求める
ことができる。

【００２９】［第２実施形態］本発明の第２実施形態に
よる露光方法及び装置について図１を参照して説明す
る。なお、図１又は図２に示す第１実施形態による露光
方法及び装置と同一の構成には同一の符号を付し、説明
を省略又は簡略にする。第１実施形態では、図１に示す
液晶表示装置のレイアウトにおいて、左上のショットか
ら右下方向に順次露光量を決定しながら露光する方法を
示した。しかしながら、第１実施形態による露光方法に
よれば、必ずしもこのように露光する必要はない。

【００３０】一方、複数のレチクルを用いた露光方法で
は、レチクルを交換する際の処理時間等を短縮すること
もＴＡＴを短縮するうえで重要である。このため、一般
的に、一枚のレチクルで複数のショットを行う場合に
は、そのショットを連続して行い、レチクル交換時間を
短縮することが行われる。本実施形態では、これらの点
を考慮して、一レイヤの露光に要するＴＡＴを短縮しう
る露光方法を示す。

【００３１】まず、レチクルｃを用い、パターンＣを露
光する。パターンＣの露光量は、所定の領域が設計値通
りに出来上がるように設定すればよい。次いで、レチク
ルを変更せず、レチクルｃのパターンＤを露光する。パ
ターンＤの露光量は、パターンＣの場合と同様に、所定
の領域が設計値通りに出来上がるように設定すればよ
い。

【００３２】続いて、レチクルｃをレチクルａに変更
し、パターンＡを露光する。この際、パターンＣに隣接
するパターンＡ（パターンＡ１）は、パターンＣを基準
ショットとして露光量を決定し、パターンＤに隣接する
パターンＡ（パターンＡ２）は、パターンＡ１と、パタ
ーンＤを基準ショットとして露光量を決定すればよい。
この後、レチクルａをレチクルｄに変更し、パターンＥ
を露光する。この際、パターンＣに隣接するパターンＥ
は、パターンＣを基準ショットとして露光量を決定すれ
ばよい。

【００３３】次いで、レチクルを変更せず、レチクルｄ
のパターンＦを露光する。この際、パターンＤに隣接す
るパターンＥは、パターンＤを基準ショットとして露光
量を決定すればよい。続いて、レチクルｄをレチクルｂ
に変更し、パターンＢを露光する。この際、パターンＥ
に隣接するパターンＢ（パターンＢ１）は、パターンＡ
１及びパターンＥを基準ショットとして露光量を決定
し、パターンＦに隣接するパターンＢ（パターンＢ２）
は、パターンＢ１と、パターンＡ２と、パターンＦとを
基準ショットとして露光量を決定すればよい。

【００３４】このようにして一レイヤをショットするこ
とにより、レチクルの交換を最小限に抑えることができ
るので、一レイヤの露光に要するＴＡＴを短縮すること
ができる。このように、本実施形態によれば、一のレチ
クルに必要なショットをレチクルを交換せずに連続して
行うので、露光処理に要するＴＡＴを短縮することがで
きる。

【００３５】［第３実施形態］本発明の第３実施形態に
よる露光方法及び装置について説明する。第１及び第２
実施形態による露光方法では、隣り合うショットのみを
考慮して各ショットの露光量を設定する方法を示した。
しかし、上述した露光量の設定方法では、少なくとも
一のショットの露光量をオペレータが設定する他は、残
りのショットの露光量は、隣接するショットとの関係の
みによって計算で求められる。

【００３６】したがって、各ショットにおけるパターン
サイズと露光量との関係を互いに関連づけておけば、少
なくとも一のショットの露光量を与えるだけで、すべて
の繋ぎ部におけるパターンサイズの変化を最適化した露
光量を、すべてのショットについて求めることもでき
る。また、どのショットを基準とすればすべての繋ぎ部
におけるパターンサイズの変化を最適化できるかをも見
積もることができる。

【００３７】このようにしてすべてのショットの露光量
を予め設定すれば、パターンサイズの変化を面内で最適
化するとともに、第２実施形態で示したようにＴＡＴを
考慮しつつ任意の順番で各ショットを露光することがで
きる。このような計算は、各ショットにおけるパターン
サイズと露光量との関係をデータベース化しておくこと
により、数値解析によって容易に求めることができる。
これらデータ処理を行う演算処理手段を露光装置に設け
れば、ショットの繋ぎ目におけるパターンサイズの急激
な変動を抑えた本発明の露光方法を容易に実現すること
ができる。

【００３８】このように、本実施形態によれば、各ショ
ットのパターンサイズと露光量との関係から、レイヤ全
体のショット条件を露光前に最適化するので、ショット
の繋ぎ部におけるパターン寸法の急激な変動を効果的に
防止することができる。 ［変形実施形態］上記第１乃至第３実施形態では、本発
明による露光方法を液晶表示装置の製造方法に適用する
場合を例に説明したが、液晶表示装置の製造方法に限ら
れるものではない。本発明は、複数のショットにより一
レイヤを構成することが必要なデバイスに広く適用する
ことができる。

【００３９】また、図１に示す液晶表示装置のレイアウ
トは本発明を説明するにあたって例示したものであり、
ショットの分割方法その他の構成は、この図面に記載し
た液晶表示装置に限られるものではない。

【００４０】

【発明の効果】以上の通り、本発明によれば、複数のシ
ョットにより一のレイヤを露光する露光方法において、
第１の領域に隣接する第２の領域を露光する際に、第１
の領域の露光に用いる第１のレチクルの露光量とパター
ンサイズとの関係と、第２の領域の露光に用いる第２の
レチクルの露光量とパターンサイズとの関係とを参照
し、第２の領域を露光するための露光条件を決定するの
で、ショット間の繋ぎ部におけるパターン寸法の急激な
変化を防止することができる。したがって、この露光方
法を液晶表示装置の製造過程におけるパターニング工程
に採用すれば、色ムラの発生を抑えて大画面の高精細な
液晶表示装置を製造することができる。

【００４１】また、上記の露光方法において、第１の領
域と第２の領域の繋ぎ部近傍において、同じ寸法に形成
されるべきパターンの寸法が、第１の領域及び第２の領
域においてほぼ等しくなるように第２の領域の露光条件
を決定すれば、ショット間の繋ぎ部におけるパターン寸
法の急激な変化を更に低減することができる。また、複
数のショットにより一のレイヤを露光する露光方法にお
いて、複数のショット領域に隣接する一のショット領域
を露光する際に、複数のショット領域の露光に用いるそ
れぞれのレチクルの露光量とパターンサイズとの関係
と、一のショット領域の露光に用いるレチクルの露光量
とパターンサイズとの関係とを参照し、一のショット領
域を露光するための露光条件を決定するので、ショット
間の繋ぎ部におけるパターン寸法の急激な変化を防止す
ることができる。したがって、この露光方法を液晶表示
装置の製造過程におけるパターニング工程に採用すれ
ば、色ムラの発生を抑えて大画面の高精細な液晶表示装
置を製造することができる。

【００４２】また、上記の露光方法において、一のショ
ット領域との繋ぎ部近傍において、同じ寸法に形成され
るべきパターンの寸法が、一のショット領域及び一のシ
ョット領域に隣接する他のショット領域においてほぼ等
しくなる第一のショット領域の露光条件を、複数のショ
ット領域のそれぞれについて求め、これらの露光条件を
平均化して一のショット領域の露光条件を決定するの
で、ショット間の繋ぎ部におけるパターン寸法の急激な
変化を更に低減することができる。

【００４３】また、上記の露光方法において、複数のシ
ョットに用いるすべてのレチクルの露光量とパターンサ
イズとの関係を参照し、複数のショットの露光条件を最
適化するので、すべての繋ぎ部における露光条件を最適
化しつつ一のレイヤを露光することができる。また、上
記の露光方法では、露光量とパターンサイズとの関係を
参照する代わりに、レチクル上におけるパターンサイズ
を参照することができる。

【００４４】また、上記の露光方法において、一のレイ
ヤの露光に必要とされる複数のショットを、複数のショ
ットに用いるレチクル毎に順次行えば、一レイヤの露光
に必要なＴＡＴを短縮することができる。また、露光量
とパターンサイズとの関係を含む露光情報を格納する露
光情報格納手段と、露光情報格納手段から、露光量とパ
ターンサイズとの関係を参照し、上記の露光方法に基づ
いて各ショットの露光条件を決定する露光条件決定手段
と、露光条件に基づいて露光処理を行う露光手段とによ
り露光装置することにより、ショット間の繋ぎ部におけ
るパターン寸法の急激な変化を防止しつつ露光すること
ができる。したがって、このような露光装置を液晶表示
装置の製造プロセスに適用すれば、色ムラの発生を抑え
て大画面の高精細な液晶表示装置を製造することができ
る。

【００４５】また、ガラス基板上に、複数のショットに
より露光して形成されたレイヤを有する液晶表示装置に
おいて、一のレイヤを上記の露光方法を用いて形成すれ
ば、ショット間の繋ぎ部における色ムラを防止すること
ができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１実施形態による露光方法を説明す
るためのパターンレイアウトを示す図である。

【図２】本発明の第１実施形態による露光方法を説明す
るためのレチクルを示す図である。

【図３】パターンサイズと露光量との関係の一例を示す
グラフである。

【符号の説明】

ａ、ｂ、ｃ、ｄ…レチクル Ａ、Ａ１、Ａ２、Ｂ、Ｂ１、Ｂ２、Ｃ、Ｄ、Ｅ、Ｆ…パ
ターン Ｅ_C、Ｅ_A1、Ｅ_A2…露光量 Ｗ_A0、Ｗ_A1、Ｗ_A2…パターン幅 １０…ガラス基板 １２…パネル形成領域

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 複数のショットにより一のレイヤを露光
   する露光方法において、 第１の領域に隣接する第２の領域を露光する際に、前記
   第１の領域の露光に用いる第１のレチクルの露光量とパ
   ターンサイズとの関係と、前記第２の領域の露光に用い
   る第２のレチクルの露光量とパターンサイズとの関係と
   を参照し、前記第２の領域を露光するための露光条件を
   決定することを特徴とする露光方法。
2. 【請求項２】 請求項１記載の露光方法において、 前記第１の領域と前記第２の領域の繋ぎ部近傍におい
   て、同じ寸法に形成されるべきパターンの寸法が、前記
   第１の領域及び前記第２の領域においてほぼ等しくなる
   ように前記第２の領域の露光条件を決定することを特徴
   とする露光方法。
3. 【請求項３】 複数のショットにより一のレイヤを露光
   する露光方法において、 複数のショット領域に隣接する一のショット領域を露光
   する際に、前記複数のショット領域の露光に用いるそれ
   ぞれのレチクルの露光量とパターンサイズとの関係と、
   前記一のショット領域の露光に用いるレチクルの露光量
   とパターンサイズとの関係とを参照し、前記一のショッ
   ト領域を露光するための露光条件を決定することを特徴
   とする露光方法。
4. 【請求項４】 請求項３記載の露光方法において、 前記一のショット領域との繋ぎ部近傍において、同じ寸
   法に形成されるべきパターンの寸法が、前記一のショッ
   ト領域及び前記一のショット領域に隣接する他のショッ
   ト領域においてほぼ等しくなる前記第一のショット領域
   の露光条件を、前記複数のショット領域のそれぞれにつ
   いて求め、これらの露光条件を平均化して前記一のショ
   ット領域の露光条件を決定することを特徴とする露光方
   法。
5. 【請求項５】 請求項１乃至４のいずれか１項に記載の
   露光方法において、 前記複数のショットに用いるすべてのレチクルの露光量
   とパターンサイズとの関係を参照し、前記複数のショッ
   トの露光条件を最適化することを特徴とする露光方法。
6. 【請求項６】 請求項１乃至５のいずれか１項に記載の
   露光方法において、 前記露光量とパターンサイズとの関係を参照する代わり
   に、前記レチクル上におけるパターンサイズを参照する
   ことを特徴とする露光方法。
7. 【請求項７】 請求項１乃至６のいずれか１項に記載の
   露光方法において、 前記一のレイヤの露光に必要とされる前記複数のショッ
   トは、前記複数のショットに用いるレチクル毎に順次行
   うことを特徴とする露光方法。
8. 【請求項８】 露光量とパターンサイズとの関係を含む
   露光情報を格納する露光情報格納手段と、 前記露光情報格納手段から、前記露光量とパターンサイ
   ズとの関係を参照し、請求項１乃至６のいずれか１項に
   記載の露光方法に基づいて各ショットの露光条件を決定
   する露光条件決定手段と、 前記露光条件に基づいて露光処理を行う露光手段とを有
   することを特徴とする露光装置。
9. 【請求項９】 ガラス基板上に、複数のショットにより
   露光して形成されたレイヤを有する液晶表示装置におい
   て、 前記レイヤは、請求項１乃至７のいずれか１項に記載の
   露光方法を用いて形成されていることを特徴とする液晶
   表示装置。