JPH1137292A - 溶射ピストンリングの製造方法 - Google Patents
溶射ピストンリングの製造方法Info
- Publication number
- JPH1137292A JPH1137292A JP21008297A JP21008297A JPH1137292A JP H1137292 A JPH1137292 A JP H1137292A JP 21008297 A JP21008297 A JP 21008297A JP 21008297 A JP21008297 A JP 21008297A JP H1137292 A JPH1137292 A JP H1137292A
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- Japan
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- piston ring
- piston
- sprayed
- thin spacer
- piston rings
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 複数の同径のピストンリングの摺動面に同時
に溶射を行うとき、ピストンリングの上面及び下面の周
縁部に溶射皮膜の盛り上がりが形成されず、ピストンリ
ング間に溶射層による橋架けが生じない溶射ピストンリ
ングの製造方法の提供。 【解決手段】 複数の同径のピストンリング１０Ａ〜１
０Ｃと複数の円形の金属製薄型間座２０を交互に互いに
同軸的に配列し、薄型間座２０の外径をピストンリング
１０の外径よりも大きく設定する。この状態で公知の溶
射条件にて摺動面に溶射を行う。薄型間座２０の外径は
ピストンリング１０の外径よりも０．４ｍｍ乃至０．８
ｍｍ大きく、厚さが０．１ｍｍ乃至１ｍｍである。
に溶射を行うとき、ピストンリングの上面及び下面の周
縁部に溶射皮膜の盛り上がりが形成されず、ピストンリ
ング間に溶射層による橋架けが生じない溶射ピストンリ
ングの製造方法の提供。 【解決手段】 複数の同径のピストンリング１０Ａ〜１
０Ｃと複数の円形の金属製薄型間座２０を交互に互いに
同軸的に配列し、薄型間座２０の外径をピストンリング
１０の外径よりも大きく設定する。この状態で公知の溶
射条件にて摺動面に溶射を行う。薄型間座２０の外径は
ピストンリング１０の外径よりも０．４ｍｍ乃至０．８
ｍｍ大きく、厚さが０．１ｍｍ乃至１ｍｍである。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は溶射ピストンリングの製
造方法に関する。
造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】ピストンリングの摺動面の表面処理法と
して、従来から硬質クロムメッキが使用されてきた。と
ころが、内燃機関の高出力化が進んだ現在では、さらに
耐焼付性及び耐摩耗性に優れた皮膜が望まれており、そ
のため近年ではクロムメッキに代えて溶射による表面処
理が行われるようになった。ここで、溶射ピストンリン
グの製造はクロムメッキと比べてコストがかかるので、
生産性を高めることが重要となる。この目的から、複数
のピストンリングの摺動面に同時に溶射を行う方法があ
る。
して、従来から硬質クロムメッキが使用されてきた。と
ころが、内燃機関の高出力化が進んだ現在では、さらに
耐焼付性及び耐摩耗性に優れた皮膜が望まれており、そ
のため近年ではクロムメッキに代えて溶射による表面処
理が行われるようになった。ここで、溶射ピストンリン
グの製造はクロムメッキと比べてコストがかかるので、
生産性を高めることが重要となる。この目的から、複数
のピストンリングの摺動面に同時に溶射を行う方法があ
る。
【０００３】具体的には、複数の同径のピストンリング
を互いに同軸的に配列して摺動面に対して溶射が行われ
る。このとき、複数の同径のピストンリングのみを配列
して溶射を行うと、複数のピストンリングの外周面全体
に渡り一体となった溶射皮膜が形成され、隣り合うピス
トンリングを個々に分離することが不可能となる。この
問題を解決するため、図２に示されるように隣り合うピ
ストンリング１０の間に間座３０を配置し、摺動面１２
相互を離間させた状態で溶射を行う必要がある。
を互いに同軸的に配列して摺動面に対して溶射が行われ
る。このとき、複数の同径のピストンリングのみを配列
して溶射を行うと、複数のピストンリングの外周面全体
に渡り一体となった溶射皮膜が形成され、隣り合うピス
トンリングを個々に分離することが不可能となる。この
問題を解決するため、図２に示されるように隣り合うピ
ストンリング１０の間に間座３０を配置し、摺動面１２
相互を離間させた状態で溶射を行う必要がある。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ここで、間座３０の外
径がピストンリング１０の外径よりも小さいと、上側ピ
ストンリング１０Ａ下面、下側ピストンリング１０Ｂ上
面及び間座外周面により環状溝３１が形成される。この
状態で溶射を行うと、環状溝３１にも溶射材料が侵入
し、加工後のピストンリングについては、図３に示すよ
うに上面１１及び下面１３の周縁部に溶射被膜の盛り上
がりが形成されてしまうおそれがある。また、溶射材料
が過度に環状溝３１に侵入すると、隣り合うピストンリ
ング間に溶射皮膜が連続して形成され、溶射層による橋
架けが生じ、ピストンリングを個々に分離することが不
可能となる。
径がピストンリング１０の外径よりも小さいと、上側ピ
ストンリング１０Ａ下面、下側ピストンリング１０Ｂ上
面及び間座外周面により環状溝３１が形成される。この
状態で溶射を行うと、環状溝３１にも溶射材料が侵入
し、加工後のピストンリングについては、図３に示すよ
うに上面１１及び下面１３の周縁部に溶射被膜の盛り上
がりが形成されてしまうおそれがある。また、溶射材料
が過度に環状溝３１に侵入すると、隣り合うピストンリ
ング間に溶射皮膜が連続して形成され、溶射層による橋
架けが生じ、ピストンリングを個々に分離することが不
可能となる。
【０００５】そこで本発明は、ピストンリングの上面及
び下面の周縁部に溶射皮膜の盛り上がりが形成されず、
隣り合うピストンリング間に溶射層による橋架けが生じ
ない溶射ピストンリングの製造方法を提供することを目
的とする。
び下面の周縁部に溶射皮膜の盛り上がりが形成されず、
隣り合うピストンリング間に溶射層による橋架けが生じ
ない溶射ピストンリングの製造方法を提供することを目
的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、複数の同径のピストンリングと複数の円
形の薄型間座を交互に互いに同軸的に配列し、複数の該
ピストンリングの摺動面に同時に溶射を行う溶射ピスト
ンリングの製造方法において、該薄型間座の外径は該ピ
ストンリングの外径よりも大きく設定して溶射する溶射
ピストンリングの製造方法を提供している。
に、本発明は、複数の同径のピストンリングと複数の円
形の薄型間座を交互に互いに同軸的に配列し、複数の該
ピストンリングの摺動面に同時に溶射を行う溶射ピスト
ンリングの製造方法において、該薄型間座の外径は該ピ
ストンリングの外径よりも大きく設定して溶射する溶射
ピストンリングの製造方法を提供している。
【０００７】ここで、該薄型間座の外径は該ピストンリ
ングの外径よりも０．４ｍｍ乃至０．８ｍｍ大きいのが
好ましい。また、該薄型間座の厚さは０．１ｍｍ乃至１
ｍｍであるのが好ましい。
ングの外径よりも０．４ｍｍ乃至０．８ｍｍ大きいのが
好ましい。また、該薄型間座の厚さは０．１ｍｍ乃至１
ｍｍであるのが好ましい。
【０００８】
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態による溶射ピ
ストンリングの製造方法について図１に基づき説明す
る。
ストンリングの製造方法について図１に基づき説明す
る。
【０００９】図１に示されるように、複数の同径のピス
トンリング１０Ａ〜１０Ｃと複数のリング状の金属製薄
型間座２０を交互に互いに同軸的に配列している。ま
た、薄型間座２０の外径はピストンリング１０の外径よ
りも大きく設定される。従って、薄型間座２０の外周面
はピストンリング外周面より突出する形となっている。
よって、図２に示すような環状溝３１は形成されない。
トンリング１０Ａ〜１０Ｃと複数のリング状の金属製薄
型間座２０を交互に互いに同軸的に配列している。ま
た、薄型間座２０の外径はピストンリング１０の外径よ
りも大きく設定される。従って、薄型間座２０の外周面
はピストンリング外周面より突出する形となっている。
よって、図２に示すような環状溝３１は形成されない。
【００１０】図１に示すような状態で、公知の溶射条件
にて摺動面に溶射を行う。このとき、図２に示すような
環状溝３１が存在しないので、溶射材料の侵入の問題が
生じず、加工後の各ピストンリングに図３に示すような
溶射皮膜の盛り上がりが形成されず、また、隣り合うピ
ストンリング同士の接着も起こらない。
にて摺動面に溶射を行う。このとき、図２に示すような
環状溝３１が存在しないので、溶射材料の侵入の問題が
生じず、加工後の各ピストンリングに図３に示すような
溶射皮膜の盛り上がりが形成されず、また、隣り合うピ
ストンリング同士の接着も起こらない。
【００１１】また、上記溶射ピストンリングの製造方法
において、薄型間座２０の外径がピストンリング１０の
外径よりも０．４ｍｍ乃至０．８ｍｍ大きいことが好ま
しい。このような薄型間座２０を用いて図１のような配
列を行うと、薄型間座２０はピストンリング１０の摺動
面より０．２ｍｍ乃至０．４ｍｍだけ突出する。ピスト
ンリング１０の摺動面への溶射を行う際、薄型間座２０
の突出が０．２ｍｍよりも小さいと、所望の分離効果が
得られない。また、薄型間座２０の突出が０．４ｍｍよ
りも大きいと、溶射粒子が薄型間座２０の突出面に衝突
して跳ね返され、摺動面に均一に溶射層を形成すること
が困難となる。
において、薄型間座２０の外径がピストンリング１０の
外径よりも０．４ｍｍ乃至０．８ｍｍ大きいことが好ま
しい。このような薄型間座２０を用いて図１のような配
列を行うと、薄型間座２０はピストンリング１０の摺動
面より０．２ｍｍ乃至０．４ｍｍだけ突出する。ピスト
ンリング１０の摺動面への溶射を行う際、薄型間座２０
の突出が０．２ｍｍよりも小さいと、所望の分離効果が
得られない。また、薄型間座２０の突出が０．４ｍｍよ
りも大きいと、溶射粒子が薄型間座２０の突出面に衝突
して跳ね返され、摺動面に均一に溶射層を形成すること
が困難となる。
【００１２】また、薄型間座２０の厚み（軸方向高さ）
は０．１ｍｍ乃至１ｍｍであると更に好ましい。薄型間
座２０の厚みが０．１ｍｍよりも薄いと、薄型間座２０
の強度が低下し、変形が起こりやすくなる。また、薄型
間座２０の厚みが１ｍｍよりも厚いと、複数のピストン
リング１０及び薄型間座２０の外周面全体に渡って一体
となって溶射皮膜が形成され、薄型間座２０とピストン
リング１０Ａ、１０Ｂとに溶射層による橋架けが生じて
しまう。更に、薄型間座２０の外周面にも溶射が施され
るので、間座が厚くなると溶射材の無駄も多くなり、コ
ストも高くなる。
は０．１ｍｍ乃至１ｍｍであると更に好ましい。薄型間
座２０の厚みが０．１ｍｍよりも薄いと、薄型間座２０
の強度が低下し、変形が起こりやすくなる。また、薄型
間座２０の厚みが１ｍｍよりも厚いと、複数のピストン
リング１０及び薄型間座２０の外周面全体に渡って一体
となって溶射皮膜が形成され、薄型間座２０とピストン
リング１０Ａ、１０Ｂとに溶射層による橋架けが生じて
しまう。更に、薄型間座２０の外周面にも溶射が施され
るので、間座が厚くなると溶射材の無駄も多くなり、コ
ストも高くなる。
【００１３】
【発明の効果】請求項１記載の溶射ピストンリングの製
造方法によれば、隣接するピストンリング間に環状溝が
形成されないので、溶射材料の侵入が起こらず、各ピス
トンリングの周縁部に溶射皮膜の盛り上がりが形成され
ない。また、隣り合うピストンリング間の溶射層による
橋架けが防止できる。
造方法によれば、隣接するピストンリング間に環状溝が
形成されないので、溶射材料の侵入が起こらず、各ピス
トンリングの周縁部に溶射皮膜の盛り上がりが形成され
ない。また、隣り合うピストンリング間の溶射層による
橋架けが防止できる。
【００１４】請求項２記載の溶射ピストンリングの製造
方法によれば、薄型間座のリング摺動面からの突出が
０．２ｍｍよりも大きいことにより、上記効果が顕著に
得られる。また、薄型間座のリング摺動面からの突出が
０．４ｍｍよりも小さいことにより、溶射粒子の摺動面
への到達が阻害されず、均一な溶射皮膜を施すことがで
きる。
方法によれば、薄型間座のリング摺動面からの突出が
０．２ｍｍよりも大きいことにより、上記効果が顕著に
得られる。また、薄型間座のリング摺動面からの突出が
０．４ｍｍよりも小さいことにより、溶射粒子の摺動面
への到達が阻害されず、均一な溶射皮膜を施すことがで
きる。
【００１５】請求項３記載の溶射ピストンリングの製造
方法によれば、上記効果に加え、薄型間座の厚みが０．
１ｍｍよりも厚いことにより、必要な強度が保たれ、変
形が起こり難くなる。また、薄型間座の厚みが１ｍｍよ
りも薄いことにより、複数のピストンリング及び薄型間
座の外周面全体に渡り一体となって溶射皮膜が形成され
ることを阻止し、隣り合う薄型間座とピストンリングの
溶射層による橋架けを防ぐことができる。更に、薄型間
座の外周面に施される溶射材の量を減少でき、コストも
低く抑えることができる。
方法によれば、上記効果に加え、薄型間座の厚みが０．
１ｍｍよりも厚いことにより、必要な強度が保たれ、変
形が起こり難くなる。また、薄型間座の厚みが１ｍｍよ
りも薄いことにより、複数のピストンリング及び薄型間
座の外周面全体に渡り一体となって溶射皮膜が形成され
ることを阻止し、隣り合う薄型間座とピストンリングの
溶射層による橋架けを防ぐことができる。更に、薄型間
座の外周面に施される溶射材の量を減少でき、コストも
低く抑えることができる。
【図１】本発明の実施の形態による溶射ピストンリング
の製造方法を示す斜視図。
の製造方法を示す斜視図。
【図２】従来の溶射ピストンリングの製造方法を示す斜
視図。
視図。
【図３】従来の溶射ピストンリングの製造方法により製
造された溶射ピストンリングの斜視図。
造された溶射ピストンリングの斜視図。
１０Ａ〜１０Ｃ ピストンリング １１ ピストンリング上面 １２ ピストンリング摺動面 １３ ピストンリング下面 ２０ 薄型間座
Claims (3)
- 【請求項１】 複数の同径のピストンリングと複数の円
形の薄型間座を交互に互いに同軸的に配列し、複数の該
ピストンリングの摺動面に同時に溶射を行う溶射ピスト
ンリングの製造方法において、該薄型間座の外径は該ピ
ストンリングの外径よりも大きく設定して溶射すること
を特徴とする溶射ピストンリングの製造方法。 - 【請求項２】 該薄型間座の外径は該ピストンリングの
外径よりも０．４ｍｍ乃至０．８ｍｍ大きいことを特徴
とする請求項１記載の溶射ピストンリングの製造方法。 - 【請求項３】 該薄型間座の厚さは０．１ｍｍ乃至１ｍ
ｍであることを特徴とする請求項２記載の溶射ピストン
リングの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21008297A JPH1137292A (ja) | 1997-07-18 | 1997-07-18 | 溶射ピストンリングの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21008297A JPH1137292A (ja) | 1997-07-18 | 1997-07-18 | 溶射ピストンリングの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1137292A true JPH1137292A (ja) | 1999-02-12 |
Family
ID=16583529
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21008297A Pending JPH1137292A (ja) | 1997-07-18 | 1997-07-18 | 溶射ピストンリングの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1137292A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE10359802B3 (de) * | 2003-12-19 | 2005-03-31 | Federal-Mogul Burscheid Gmbh | Kolbenring sowie Verfahren zur Herstellung desselben |
-
1997
- 1997-07-18 JP JP21008297A patent/JPH1137292A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE10359802B3 (de) * | 2003-12-19 | 2005-03-31 | Federal-Mogul Burscheid Gmbh | Kolbenring sowie Verfahren zur Herstellung desselben |
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