JPH11353639A - 磁気記録媒体および磁気記録装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ロード時にヘッドによる衝撃を受けても傷つ
き難く、かつ高密度化、大容量化し得る磁気記録媒体を
得る。 【解決手段】 少なくともロード時にヘッドの浮上高が
最も低くなる位置を含む領域の厚さが、それ以外の領域
よりも厚く形成された保護層を設ける。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、磁気ディスク装置
等に使われる磁気記録媒体および磁気記録装置に係り、
特に、ランプロード方式の磁気ディスク装置に使われる
磁気記録媒体およびランプロード方式の磁気記録装置に
関する。

【０００２】

【従来の技術】パーソナルコンピュータ等の電子機器に
おいては、大容量のメモリ装置として磁気ディスク装置
が広く用いられている。また、近年、携帯可能な小型の
パーソナルコンピュータが普及しつつあり、この種のパ
ーソナルコンピュータに搭載される磁気ディスク装置
は、携帯時における衝撃等に対する信頼性の向上が求め
られている。

【０００３】そこで、磁気ディスク装置の非作動時に磁
気ヘッドを保持する機構として、ランプロード機構を備
えたものが提供されている。例えば特開平５−１２０８
２２公報には、スピンドルモータにより回転される少な
くとも一枚の磁気ディスク媒体と、この磁気ディスク媒
体の表面に近接してデータの読み出し、書き込み（リー
ド／ライト）を行う磁気ヘッドと、この磁気ヘッドを所
望のシリンダ位置へ移動させるアクチュエータ機構と、
このアクチュエータ機構を駆動する位置制御回路と、ラ
ンプロードを使用したロードアンロード機構とを備えた
磁気ディスク装置が開示されている。

【０００４】ランプロードを使用したロードアンロード
機構は、磁気ディスクの外側に設けられたランプを備
え、磁気ディスク装置の非作動時、キャリッジアッセン
ブリは磁気ディスクの外周に回動され、サスペンション
がランプに乗り上げる。それにより、磁気ヘッドは、磁
気ディスク表面から離間した位置に保持され、非作動時
に衝撃を受けても、磁気ディスクとの衝突が防止され
る。

【０００５】しかしながら、このような従来の磁気ディ
スク装置では、ロード速度の浮上方向速度成分の制御が
されていなかったため、動作時、特にヘッド（スライ
ダ）がランプを脱出する際に、磁気ディスク媒体面に接
触し、磁気ディスクが傷つくことがあった。このため、
ロード速度の浮上方向速度成分を制御する機構を設ける
ことにより、磁気ディスク媒体を保護する試みがなされ
ていたが、十分ではなかった。

【０００６】また、磁気ディスク装置に用いられる磁気
記録媒体の保護層は、記録、再生を行う際、磁気スペー
シングとなることから、磁気ディスク装置の高密度化、
大容量化のためには、磁気記録媒体の保護層を薄くする
傾向にあるが、保護層を薄くすると傷がつきやすくなる
という問題があった。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】上述のように、従来
は、ランプロード機構を有する磁気ディスク装置におい
て、ランプを脱出する際に磁気ヘッドが磁気記録媒体に
接触し、磁気記録媒体が傷つくという問題があった。ま
た、このことは、磁気記録装置の高密度化、大容量化を
図るべく磁気記録媒体の保護層を薄く設定する上で問題
となっていた。

【０００８】本発明は、上記事情を鑑みてなされたもの
で、ロード時にヘッドによる衝撃を受けても傷つき難
く、エラーの少ない良好な磁気記録再生を行なうことが
可能であり、かつ高密度化、大容量化し得る磁気記録媒
体を得ることを目的とする。

【０００９】本発明はまた、その磁気記録媒体が、ロー
ド時にヘッドによる衝撃を受けても傷つき難く、エラー
の少ない良好な磁気記録再生を行なうことが可能であ
り、かつ高密度化、大容量化し得る磁気記録装置を得る
ことを目的とする。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明の磁気記録媒体
は、基板と、該基板の少なくとも一方の面に形成された
磁気記録層と、該磁気記録層上に形成され、少なくとも
ロード時にヘッドの浮上高が最も低くなる位置を含む第
１の領域の厚さが、それ以外の第２の領域よりも厚く形
成された保護層とを具備することを特徴とする。

【００１１】本発明の磁気記録装置は、基板、該基板の
少なくとも一方の面に形成された磁気記録層、及び該磁
気記録層上に形成され、少なくともロード時にヘッドの
浮上高が最も低くなる位置を含む第１の領域の厚さが、
それ以外の第２の領域よりも厚く形成された保護層を含
む磁気記録媒体と、該磁気記録媒体を支持および回転駆
動する駆動手段と、該磁気記録媒体に対して情報の記録
再生を行う磁気ヘッドと、該磁気記録媒体に対して該磁
気ヘッドを移動自在に支持したキャリッジアッセンブリ
と、該キャリッジアッセンブリが非作動位置に移動した
際、該キャリッジアッセンブリと係合して磁気ヘッドを
該磁気記録媒体から離間した位置に支持するランプロー
ド機構とを具備することを特徴とする。

【００１２】

【発明の実施の形態】本発明の磁気記録媒体は、基板
と、基板の少なくとも一方の面に形成された磁気記録層
と、磁気記録層上に形成された保護層とを有し、この保
護層は、その厚さの厚い領域と、厚さの薄い領域とを有
し、厚い領域には、ヘッドをロードする時にヘッドの浮
上高が最も低くなる位置が含まれている。

【００１３】また、本発明の磁気記録装置は、上記磁気
記録媒体と、磁気記録媒体を支持および回転駆動する駆
動手段と、磁気記録媒体に対して情報の記録再生を行う
磁気ヘッドと、磁気記録媒体に対して磁気ヘッドを移動
自在に支持したキャリッジアッセンブリと、キャリッジ
アッセンブリが非作動位置に移動した際、該キャリッジ
アッセンブリと係合して磁気ヘッドを磁気記録媒体から
離間した位置に支持するランプロード機構とを具備す
る。

【００１４】ランプロード磁気記録装置に使用される磁
気記録媒体は、ロード時、ヘッドの浮上高が最も低くな
るところで、ヘッドが磁気記録媒体に最も接触しやす
く、傷がつきやすい。このため、本発明では、少なくと
もヘッドの浮上高が最も低くなる位置では、その保護層
の厚さが厚く形成されている。これにより、磁気記録媒
体が傷つくことを防止することができる。

【００１５】一方、ヘッドの浮上高が最も低くなる位置
以外の領域は、その保護層をできるだけ薄く形成するこ
とが可能である。このように保護層を薄く形成すること
により、磁気記録媒体の高密度、大容量化を実現するこ
とが可能となる。

【００１６】本発明によれば、このような保護層を用い
ることにより、本発明によれば、エラーのない良好な磁
気記録再生を行なうことができる。本発明の磁気記録媒
体に使用される磁気記録層材料としては、ＣｏＣｒ、Ｃ
ｏＣｒＰｔ、ＣｏＣｒＴａ、ＣｏＣｒＰｔＴａ，ＣｏＮ
ｉ，ＣｏＮｉＣｒ、ＣｏＮｉＣｒＴａ、ＣｏＮｉＣｒＴ
ａＰｔ、ＣｏＣｒＰｔＴａＮｂ、ＣｏＣｒＰｔＴａＢ、
ＣｏＰｔ、及びＣｏＰｔ−１Ｓｉｏ₂ 等があげられる。

【００１７】保護層材料としては、カーボン、窒化カー
ボン、水素化カーボン、水素化窒化カーボン、及びＳｉ
Ｏ₂ 等を使用することができる。また、例えば基板が
０．５８４〜０．６３５ｍｍ、磁気記録層が５〜５０ｎ
ｍの厚さを有する場合、保護層は、薄い領域の厚さは、
２〜１２ｎｍ、厚い領域の厚さは４〜２０ｎｍであるこ
とが好ましい。また、保護層の薄い領域の厚さと厚い領
域の厚さの差は、２〜８ｎｍであることが好ましい。

【００１８】保護層の薄い領域の厚さは、２ｎｍ未満で
あると、コロージョン特性が悪化し、すなわち高温高湿
環境下でＣｏの表面への析出が表れる傾向があり、１２
ｎｍを越えると、電磁変換特性を損なう傾向がある。

【００１９】また、保護層の厚い領域の厚さは、４ｎｍ
未満であると、ヘッドロード時にメディアが傷つく可能
性があり、２０ｎｍを越えると、付着力が弱くなる傾向
がある。

【００２０】さらに、保護層の薄い領域の厚さと厚い領
域の厚さの差は、２ｎｍ未満であると、ランプロード時
のメディアの傷つき性改善と電磁変換特性確保の両立が
困難であり、８ｎｍを越えると、段差のために、シーク
時に異常動作を示す傾向がある。

【００２１】

【実施例】以下、図面を参照し、本発明を具体的に説明
する。 実施例１〜３ 基板材料としてとして２．５インチガラス基板、磁性薄
膜材料として、ＣｏＣｒＴａＰｔターゲット、保護層材
料として炭素ターゲットをそれぞれ用意した。

【００２２】これらの材料を用いて、ＤＣマグネトロン
・スパッタ装置によって、種々の厚さの保護層を有する
ハードディスクタイプの磁気記録媒体を作製した。ただ
し、保護層は、通常の成膜方法と異なり、保護層スパッ
タを２度行うことで形成した。はじめに、通常の方法で
磁気記録層全面をスパッタした。その後、データ領域を
覆うシャッタでマスクして同様にスパッタを行なった。
このことによりデータ領域のロード領域の保護層の厚さ
を厚くさせた。また、保護層の厚さの制御は、スパッタ
時間を変化させることで行なった。

【００２３】磁性膜の下地（図示せず）には、Ｃｒ合金
膜を用いた。得られた磁気記録媒体について、その磁気
特性を、振動試料型磁力計ＶＳＭを用いて測定した。磁
性膜の保磁力は、２５００Ｏｅであった。

【００２４】図１に本発明の磁気記録媒体の第１の構成
例を表す概略断面図を示す。図示するように、この磁気
記録媒体は、約６５ｍｍ径、厚さ約０．６３５ｍｍの円
形基板１０１と、その両面に設けられた厚さ約２０ｎｍ
の磁性膜１０２と、磁性膜１０２上に各々設けられ、そ
の周縁領域に厚さ約１２ｎｍの領域、その周縁領域より
も内側にそれよりも薄い厚さ約８ｎｍの領域を有する保
護層１０３とから基本的になる。磁気記録媒体１１０
は、図示するように、その機能に応じて、記録が行なわ
れるデータ領域１０４、ヘッドがロードされるロード領
域１０５とに分けられており、厚さの厚い領域は、ロー
ド領域１０５に、厚さの薄い領域は、ロード領域１０４
に対応して設けられている。データ領域１０４は、半径
１４ｍｍ〜３０ｍｍであり、ロード領域は、半径３０ｍ
ｍ〜３１．５ｍｍである。この例では、ロード領域に特
に記録を行なっていないが、ロード領域をロード領域兼
データ領域として記録を行なうこともできる。

【００２５】電磁変換特性の測定は、記録トラック幅
１．２μｍ、再生トラック幅０．８μｍのトラック幅を
もつＧＭＲヘッドを用いて、４２００ｒｐｍで浮上量２
５ｎｍで行い、５Ｇｂｐｓｉの面記録密度でエラーレー
ト測定を行った。

【００２６】エラーレートの表示でたとえば９は１０の
９乗を意味し、８は１０の８乗を意味する。なお、装置
のエラーレートは最低でも７乗が必要である。また、ロ
ード領域で、磁気ヘッドのロードアンロード試験を５万
回行った。試験後の、磁気ディスクの状態を表面を顕微
鏡で観察し、その傷つき性を調べた。このとき、まった
く傷がみられない場合を○、肉眼ではみられないが、１
００倍の倍率の顕微鏡でかすかに傷がみられる場合を
△、肉眼で傷が見られる場合を×として評価した。結果
を表１に示す。

【００２７】

【表１】

【００２８】エラーレートは、磁気ディスク装置を成立
させるためには、１０^-7以下であることが必要である。
ここでは、エラーレート５乗以下を×、６乗を△、７乗
以上を○とした。この表の結果より、実施例１ないし３
に係る記録媒体のように、データ領域の保護層厚さに比
べて、ロード領域の保護層の厚さが厚い場合、エラーレ
ートと傷つき性のどちらも良好となることがわかる。

【００２９】実施例４，５ 基板材料として、２．５インチガラス基板、磁性薄膜材
料として、ＣｏＣｒＴａＰｔターゲット、保護層材料と
してとして炭素ターゲットをそれぞれ用意した。

【００３０】これらの材料を用いて、保護層の形成工程
以外は実施例１ないし３と同様にして種々の厚さの保護
層を有する磁気記録媒体を作製した。保護層は、通常の
成膜方法と同等の方法で行った。ただし、この場合、ス
パッタの膜厚分布を利用した。例えばスパッタ装置にお
けるカーボン保護層ターゲット裏面の磁石を位置を制御
することにより、基板上の膜厚分布を変化させ、データ
領域に対してロード領域のカーボン保護層の厚さを厚く
することができる。このようにして、この例では、デー
タ領域の内外周の膜厚分布を１０％以内に制御した。ま
た、保護層の厚さは、スパッタ時間を変化させることで
行った。得られた磁気記録媒体の構成を図２に示す。

【００３１】図２は、本発明の磁気記録媒体の第２の構
成例を表す概略断面図である。図示するように、この磁
気記録媒体は、その保護膜１１３の膜厚が磁気記録媒体
のデータ領域からロード領域にかけて、図１と比較して
なだらかに増加している以外は、図１と同様の構造を有
する。

【００３２】なお、磁性膜の下地（図示せず）には、Ｃ
ｒ合金膜を用いた。また、磁性膜は２０ｎｍの厚さと
し、保磁力は、２５００Ｏｅであった。得られた磁気記
録媒体の構成は、実施例１と同様であった。得られた磁
気記録媒体について、実施例１と同様にして電磁変換特
性の測定を行なった。また、磁気ヘッドのロードアンロ
ード試験を同様にして行ない、傷つき性を測定、評価し
た。得られた結果を表２に示す。

【００３３】

【表２】 この表の結果より、実施例４及び５のように、データ領
域の保護層厚さに比べて、ロード領域の保護層の厚さが
厚い場合、エラーレートと傷つき性のどちらも良好とな
ることがわかる。

【００３４】以上図１及び図２を用いて、ディスクの周
縁に保護膜の厚い領域その内側に保護膜の薄い領域を有
する磁気記録媒体について説明したが、本発明は、これ
に限るものではない。

【００３５】以下、上述の磁気記録媒体の変形例につい
て説明する。 その他の変形例 図３は、本発明の磁気記録媒体の第３の構成例を表す概
略断面図である。

【００３６】この磁気記録媒体は、ロード領域が媒体の
中心部付近にあり、その周辺にデータ領域があり、これ
に相応して、媒体の中心部付近の膜厚が厚く、その周辺
の膜厚がそれより薄い保護膜１２３が設けられる以外
は、実施例１と同様にして得られる。

【００３７】図４は、本発明の磁気記録媒体の第４の構
成例を表す概略断面図である。この磁気記録媒体は、媒
体の中心部付近の膜厚が厚く、図３に比べてその周辺の
膜厚がそれよりなだらかに薄くなった保護膜１３３が設
けられる以外は、実施例４と同様にして得られる。

【００３８】図５は、本発明の記録媒体の第５の構成例
を表す該略断面図を示す。この磁気記録媒体は、媒体の
中心部と周縁部とのほぼ中間付近の同心円上の膜厚が厚
く、その周辺の膜厚がそれより薄くなった保護膜１４３
が設けられる以外は、実施例１と同様にして得られる。

【００３９】図６は、本発明の記録媒体の第６の構成例
を表す該略断面図を示す。この磁気記録媒体は、媒体の
中心部と周縁部とのほぼ中間付近の同心円上の膜厚が厚
く、その周辺の膜厚がそれより薄く形成されている以外
は、実施例４と同様にして得られる。この媒体は、膜厚
が厚い領域と薄い領域との差が、図５に比べてなだらか
である。

【００４０】図７は、本発明の記録媒体の第７の構成例
を表す概略断面図である。この磁気記録媒体は、媒体の
中心部と周縁部とのほぼ中間付近のごく一部分の膜厚が
他の領域の膜厚よりも厚く形成され、同心円方向に均一
の高さを持たない保護膜１６３を設ける以外は、実施例
４と同様にして得られる。

【００４１】この磁気記録媒体の場合は、ロード領域が
同心円方向全体ではなく、そのごく一部に形成されてい
るため、そのため、ヘッドロードする場合、以下のよう
に制御することが必要である。

【００４２】すなわち、ヘッドロード死にヘッドがロー
ドされる領域を、保護層の厚い領域にすることが必要で
ある。このため、回転一周に対し、保護層の厚い領域に
対応してパルス１回を発生させる（インデックスパル
ス）。そして、このインデックスパルスに同期した形
で、保護層の厚い領域にヘッドがロードされるようヘッ
ドロードの制御を行なう。

【００４３】また、保護膜が薄い領域は、データを記録
再生することが可能である。この場合、１周の間で保護
層が厚い領域と薄い領域とが存在するため、特に膜厚の
制御をきびしくする必要がある。

【００４４】図７に示す構成を有する磁気記録媒体を用
いると、その保護膜を最大限に薄く設計することができ
る。次に、上述の種々の磁気記録媒体を適応し得る本発
明の磁気記録装置の例について説明する。

【００４５】図８は、本発明の磁気記録装置の一例を表
す分解斜視図を示す。また、図９は、図８に示すキャリ
ッジアッセンブリの斜視図である。図１０は、磁気ヘッ
ドが磁気記録装置の最外周に移動した状態を表す磁気記
録装置平面図を示す。

【００４６】図８に示すように、ＨＤＤは、上面の開口
した矩形箱状のケース１２と、複数のねじ１１によりケ
ースにねじ止めされてケースの上端開口を閉塞するトッ
プカバー１４とを有している。

【００４７】ケース１２内には、磁気記録媒体としての
磁気ディスク１６、この磁気ディスクを支持および回転
させる駆動手段としてのスピンドルモータ１８、磁気デ
ィスクに対して情報の書き込み、読み出しを行なう複数
の磁気ヘッド４０、これらの磁気ヘッドを磁気ディスク
１６に対して移動自在に支持したキャリッジアッセンブ
リ２２、キャリッジアッセンブリを回動および位置決め
するボイスコイルモータ（以下ＶＣＭと称する）２４、
非作動時に磁気ヘッドが磁気ディスクの最外周に移動し
た際、磁気ヘッドを磁気ディスクから離間した位置に保
持するランプロード機構２５、およびヘッドＩＣ等を有
する基板ユニット２１が収納されている。

【００４８】また、ケース１２の底壁外面には、基板ユ
ニット２１を介してスピンドルモータ１８、ＶＣＭ２
４、および磁気ヘッドの動作を制御する図示しないプリ
ント回路基板がねじ止めされている。

【００４９】磁気ディスク１６は、例えば直径６５ｍｍ
（２．５インチ）に形成され、例えば図８に示す構成を
有し、上面および下面に磁気記録層、及び各磁気記録層
上に少なくともロード時にヘッドの浮上高が最も低くな
る位置を含む領域が厚く、それ以外の領域が薄く形成さ
れた保護膜を有している。磁気ディスク１６は、スピン
ドルモータ１８の図示しないハブに同軸的に嵌合されて
いるとともにクランプばね１７により保持されている。
そして、スピンドルモータ１８を駆動することにより、
磁気ディスク１６は所定の速度で回転駆動される。

【００５０】図８ないし図１０に示すように、キャリッ
ジアッセンブリ２２は、ケース１２の底壁上に固定され
た軸受組立体２６を備えている。軸受組立体２６は、ケ
ース１２の底壁に対して垂直に立設された枢軸２７と、
枢軸に一対の軸受を介して回転自在に支持された図示し
ない円筒形状のハブと、を有している。また、キャリッ
ジアッセンブリ２２は、軸受組立体のハブに取り付けら
れた２本のアーム３２ａ、３２ｂと、各アームに支持さ
れた２つの磁気ヘッド組立体３６と、を備えている。

【００５１】各磁気ヘッド組立体３６は、弾性変形可能
な細長い板状のサスペンション３８と、サスペンション
の先端に固定された磁気ヘッド４０と、を備えている。
サスペンション３８は、板ばねにより構成され、その基
端がスポット溶接あるいは接着によりアーム３２ａ、３
２ｂの先端に固定され、アームから延出している。

【００５２】各磁気ヘッド４０は、ほぼ矩形状のスライ
ダとこのスライダに形成された記録再生用のＭＲ（磁気
抵抗）ヘッド、もしくはＧＭＲ（巨大磁気抵抗効果形）
ヘッドを有し、磁気ディスク１６に対して情報の書き込
み、読み出しを行う。

【００５３】磁気ヘッド組立体３６が固定されたアーム
３２ａおよび３２ｂは、軸受組立体２６に取り付けら
れ、互いに平行に延出している。また、積層された状態
でハブの外周に嵌合されている。アーム３２ａ、３２ｂ
に取り付けられた磁気ヘッド組立体３６の磁気ヘッド４
０は互いに向かい合って位置し、アームと一体的に回動
可能となっている。

【００５４】各サスペンション３８は、その先端部から
延出したタブ５０を一体に備えている。タブ５０は、後
述するランプロード機構２５の一部を構成するもので、
サスペンション３８の長手軸Ａとほぼ直交する方向に延
出しているとともに、磁気ディスク１６に対して外周方
向に向かって延出している。

【００５５】また、キャリッジアッセンブリ２２は、軸
受組立体２６から、アーム３２ａ、３２ｂと反対方向へ
延出した二股状の支持フレーム４３を有し、これらの支
持フレームにはＶＣＭ１６の一部を構成するボイスコイ
ル４４が固定されている。支持フレーム４３の一方の延
出端には、後述するラッチ機構と係合可能な係合凹所４
５が形成されている。

【００５６】図８からよくわかるように、上記のように
構成されたキャリッジアッセンブリ２２をケース１２に
組み込んだ状態において、磁気ディスク１６はアーム３
２ａ、３２ｂ間に位置している。そして、アーム３２
ａ、３２ｂから延びるサスペンション３８に取り付けら
れた磁気ヘッド４０は、磁気ディスク１６の上面および
下面にそれぞれ対向し、磁気ディスク１６を両面側から
挟持している。各磁気ヘッド４０は、サスペンション３
８のばね力により所定のヘッド荷重が印加され、磁気デ
ィスク表面側に付勢されている。

【００５７】一方、図８および図１０に示すように、キ
ャリッジアッセンブリ２２をケース１２に組み込んだ状
態において、支持フレーム４３に固定されたボイスコイ
ル４４は、ケース１２上に固定された一対のヨーク４８
間に位置し、これらのヨークおよび一方のヨークに固定
された図示しない磁石とともにＶＣＭ２４を構成してい
る。そして、ボイスコイル４４に通電することにより、
キャリッジアッセンブリ２２が回動し、磁気ヘッド４０
は磁気ディスク１６の所望のトラック上に移動および位
置決めされる。

【００５８】基板ユニット２１は、ケース１２の底壁上
に固定された矩形状の基板本体５１を有し、この基板本
体上には、複数の電子部品およびコネクタ等が実装され
ている。また、基板ユニット２１は、基板本体５１から
延出した帯状のメインフレキシブルプリント回路基板
（以下メインＦＰＣと称する）５４を一体に有してい
る。メインＦＰＣ５４の延出端部５４ａは、キャリッジ
アッセンブリ２２に固定されている。このメインＦＰＣ
５４は、磁気ヘッド４０と基板ユニット２１とを接続す
るための信号線や、ＶＣＭ２４のボイスコイル４４を駆
動するためのケーブル等の配線パターンから構成されて
いる。

【００５９】図８ないし図１０に示すように、ランプロ
ード機構２５は、ケース１２の底壁に設けられていると
ともに磁気ディスク１６の外側に位置した一対のランプ
５２ａ、５２ｂを備えている。これらのランプ５２ａ、
５２ｂは、ケース１２の底壁に立設された支軸５５に固
定され、それぞれ磁気ディスク１６表面とほぼ平行に延
びている。

【００６０】一対のランプ５２ａ、５２ｂは、磁気ディ
スク１６の半径方向に沿って、磁気ディスクの外周縁近
傍まで延びているとともに、サスペンション３８に設け
られたタブ５０の移動経路上に配置されている。また、
ランプ５２ａは、磁気ディスク１６の上面とほぼ面一に
設けられ、ランプ５２ｂは、磁気ディスク１６の下面と
ほぼ面一に設けられている。更に、各ランプの延出端に
は、磁気ディスクから離間する方向に傾斜したスロープ
５３が形成されている。

【００６１】図１１には、磁気記録装置の動作状態と非
動作状態における磁気ヘッド及びサスペンションとラン
プとの配置関係を概略的に表す側面図を示す。図８およ
び図１１（ａ）に示すように、ＨＤＤの通常の動作状態
において、ＶＣＭ２４によりキャリッジアッセンブリ２
２を回動すると、磁気ヘッド４０は磁気ディスク１６の
所望のトラック上に移動され、磁気ディスクに対して情
報の記録あるいは再生を行う。

【００６２】また、ＨＤＤの非動作時、図１０および図
１１（ｂ）に示すように、ＶＣＭ２４によってキャリッ
ジアッセンブリ２２は非作動位置まで回動され、磁気ヘ
ッド４０は磁気ディスク１６の最外周の停止位置まで移
動される。すると、サスペンション３８から延出したタ
ブ５０が磁気ディスク１６の外周縁から外方へ突出し、
それぞれスロープ５３を介して対応するランプ５２ａ、
５２ｂ上に乗り上げる。これにより、各サスペンション
３８はその長手軸Ａに沿って弾性変形し、一対の磁気ヘ
ッド４０は、それぞれ磁気ディスク１６の上面および下
面から所定距離離間した状態に保持される。

【００６３】ＨＤＤを再び作動した場合、磁気ディスク
１６が回転した状態でキャリッジアッセンブリ２２が磁
気ディスクの内周側に回動される。すると、各サスペン
ション３８のタブ５０はスロープ５３上を通って対応す
るランプ５２ａ、５２ｂから離間する。これにより、磁
気ヘッド４０は磁気ディスク１６の表面に対して、情報
の記録、再生が可能な位置まで接近し、この状態で、キ
ャリッジアッセンブリ２２により所望のトラック上に移
動される。

【００６４】

【発明の効果】本発明の磁気記録媒体を用いると、ロー
ド時にヘッドによる衝撃を受けても傷つき難く、エラー
の少ない良好な磁気記録再生を行なうことができる。本
発明の磁気記録媒体はまた、保護膜をできるだけ薄く形
成することにより、その高密度化、大容量化が可能とな
る。

【００６５】本発明の磁気記録装置を用いると、ロード
時にヘッドによる衝撃を受けても傷つき難く、エラーの
少ない良好な磁気記録再生を行なうことができる。ま
た、本発明の磁気記録装置は、その磁気記録媒体に用い
られる保護膜を薄く形成することができるので、高密度
で大容量の記録が可能である。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の磁気記録媒体の第１の構成例を表す
概略断面図

【図２】 本発明の磁気記録媒体の第２の構成例を表す
概略断面図

【図３】 本発明の磁気記録媒体の第３の構成例を表す
概略断面図

【図４】 本発明の磁気記録媒体の第４の構成例を表す
概略断面図

【図５】 本発明の磁気記録媒体の第５の構成例を表す
概略断面図

【図６】 本発明の磁気記録媒体の第６の構成例を表す
概略断面図

【図７】 本発明の磁気記録媒体の第７の構成例を表す
概略断面図

【図８】 本発明の磁気記録装置の一例を表す分解斜視
図

【図９】 図８に示すキャリッジアッセンブリの斜視図

【図１０】 磁気ヘッドが磁気記録装置の再外周に移動
した状態を表す磁気記録装置平面図

【図１１】 磁気記録装置の動作状態と非動作状態にお
ける磁気ヘッド及びサスペンションとランプとの配置関
係を概略的に表す側面図

【符号の説明】

１２…ケース １６…磁気ディスク ２１…基板ユニット ２２…キャリッジアッセンブリ ２４…ボイスコイルモータ ２５…ランプロード機構 ２６…軸受組立体 ３８…サスペンション ４０…磁気ヘッド １０１…基板 １０２…磁気記録層 １０３，１１３，１２３，１３３，１４３，１５３，１
６３…保護層 １０４…データ領域 １０５…ロード領域

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板と、該基板の少なくとも一方の面に
   形成された磁気記録層と、該磁気記録層上に形成され、
   少なくともロード時にヘッドの浮上高が最も低くなる位
   置を含む第１の領域の厚さが、それ以外の第２の領域よ
   りも厚く形成された保護層とを具備することを特徴とす
   る磁気記録媒体。
2. 【請求項２】 前記第１の領域と第２の領域との差が２
   ｎｍ〜６ｎｍである請求項１に記載の磁気記録媒体。
3. 【請求項３】 前記保護膜は、スパッタを２回行なうこ
   とにより形成され、前記第２の領域の厚さは、１回目の
   スパッタの後、前記第１の領域をマスクして、２回目の
   スパッタを行なうことにより、第１の領域の厚さよりも
   厚く形成されることを特徴とする請求項１に記載の磁気
   記録媒体。
4. 【請求項４】 前記保護膜は、スパッタを行なうことに
   より形成され、前記第１の領域の厚さ及び第２の領域の
   厚さは、スパッタターゲットの裏面に設けられる磁石の
   位置を制御することにより変化される請求項１に記載の
   磁気記録媒体。
5. 【請求項５】 基板、該基板の少なくとも一方の面に形
   成された磁気記録層、及び該磁気記録層上に形成され、
   少なくともロード時にヘッドの浮上高が最も低くなる位
   置を含む第１の領域の厚さが、それ以外の第２の領域よ
   りも厚く形成された保護層を含む磁気記録媒体と、 該磁気記録媒体を支持および回転駆動する駆動手段と、 該磁気記録媒体に対して情報の記録再生を行う磁気ヘッ
   ドと、 該磁気記録媒体に対して該磁気ヘッドを移動自在に支持
   したキャリッジアッセンブリと、 該キャリッジアッセンブリが非作動位置に移動した際、
   該キャリッジアッセンブリと係合して磁気ヘッドを該磁
   気記録媒体から離間した位置に支持するランプロード機
   構とを具備することを特徴とする磁気記録装置。
6. 【請求項６】 前記第１の領域と第２の領域との差が２
   ｎｍ〜６である請求項５に記載の磁気記録装置。
7. 【請求項７】 前記保護膜は、スパッタを２回行なうこ
   とにより形成され、前記第２の領域の厚さは、１回目の
   スパッタの後、前記第１の領域をマスクして、２回目の
   スパッタを行なうことにより、第１の領域の厚さよりも
   厚く形成されることを特徴とする請求項５に記載の磁気
   記録装置。
8. 【請求項８】 前記保護膜は、スパッタを行なうことに
   より形成され、前記第１の領域の厚さ及び第２の領域の
   厚さは、スパッタターゲットの裏面に設けられる磁石の
   位置を制御することにより変化される請求項５に記載の
   磁気記録装置。