JPH11351849A - 欠陥検査装置及び欠陥検査方法 - Google Patents
欠陥検査装置及び欠陥検査方法Info
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- JPH11351849A JPH11351849A JP16363998A JP16363998A JPH11351849A JP H11351849 A JPH11351849 A JP H11351849A JP 16363998 A JP16363998 A JP 16363998A JP 16363998 A JP16363998 A JP 16363998A JP H11351849 A JPH11351849 A JP H11351849A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】欠陥の形状に関わらず、欠陥を良好に検出する
ことができる欠陥検査装置を提供する。 【解決手段】平面状の検査対象物１０１の表面の微細な
凹凸などの欠陥を検査するための欠陥検査装置であっ
て、光を照射するための光源１０４と、光源１０４から
の光を検査対象物の表面に集光するための第１の集光光
学系１０６と、検査対象物１０１の表面で反射された光
の一部を遮光する遮光部材１１０と、検査対象物１０１
の表面で反射された光を受光して光電変換するための受
光センサ１１２と、検査対象物１０１の表面で反射され
た光を受光センサ１１２上に集光するための第２の集光
光学系１１１とを具備する。
ことができる欠陥検査装置を提供する。 【解決手段】平面状の検査対象物１０１の表面の微細な
凹凸などの欠陥を検査するための欠陥検査装置であっ
て、光を照射するための光源１０４と、光源１０４から
の光を検査対象物の表面に集光するための第１の集光光
学系１０６と、検査対象物１０１の表面で反射された光
の一部を遮光する遮光部材１１０と、検査対象物１０１
の表面で反射された光を受光して光電変換するための受
光センサ１１２と、検査対象物１０１の表面で反射され
た光を受光センサ１１２上に集光するための第２の集光
光学系１１１とを具備する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は物品の表面の欠陥検
査装置及び方法、特に微細な凹凸欠陥の検査装置及び方
法に関するものである。
査装置及び方法、特に微細な凹凸欠陥の検査装置及び方
法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、表面欠陥検査は光学的な手法を用
いて、正反射光または拡散反射光を受光部でとらえるこ
とによって行われていた。例えば図４は、従来の欠陥検
査方法を模式的に表した図で、検査対象物９０１の表面
の欠陥を検査する際に、９０３で示す様な帯状の光を投
光し、検査対象物９０１の表面を９０５で示すようにス
リット状に照明する。その検査対象物９０１の表面から
のスリット光の反射光９０４を受光センサ９０６で受光
し、その光の反射状況を判断し欠陥の検出を行ってい
る。
いて、正反射光または拡散反射光を受光部でとらえるこ
とによって行われていた。例えば図４は、従来の欠陥検
査方法を模式的に表した図で、検査対象物９０１の表面
の欠陥を検査する際に、９０３で示す様な帯状の光を投
光し、検査対象物９０１の表面を９０５で示すようにス
リット状に照明する。その検査対象物９０１の表面から
のスリット光の反射光９０４を受光センサ９０６で受光
し、その光の反射状況を判断し欠陥の検出を行ってい
る。
【０００３】実際上、投受光光はレンズ等で検査対象物
９０１に対して光学結像関係にあるように構成される。
検査対象物９０１は一般的に、矢印Ａで示すようにスリ
ット光の幅方向と直角な方向に移動されながら面内の欠
陥が検出される。受光センサ９０６は１次元ラインセン
サがよく用いられる。
９０１に対して光学結像関係にあるように構成される。
検査対象物９０１は一般的に、矢印Ａで示すようにスリ
ット光の幅方向と直角な方向に移動されながら面内の欠
陥が検出される。受光センサ９０６は１次元ラインセン
サがよく用いられる。
【０００４】図４を側方から見た図が図５である。スリ
ット光照明１００３からスリット光９０３を投影し、そ
の反射光９０４ａを１次元センサ９０６ａ等で受光する
方法で検出している。この時の信号波形は図６の様にな
る。図６において横軸は、図４におけるスリット光の矢
印Ａ方向の位置を表わし、縦軸は、受光センサ９０６の
出力値を示している。図６で、例えば１１０１は欠陥部
分で、反射率変化のあるゴミ欠陥や、反射方向変化の大
きいキズ欠陥の様なものでは、その反射光が正確に受光
センサ９０６に入射しないので、受光センサ９０６の出
力値が低下し、容易に欠陥を判別できる。
ット光照明１００３からスリット光９０３を投影し、そ
の反射光９０４ａを１次元センサ９０６ａ等で受光する
方法で検出している。この時の信号波形は図６の様にな
る。図６において横軸は、図４におけるスリット光の矢
印Ａ方向の位置を表わし、縦軸は、受光センサ９０６の
出力値を示している。図６で、例えば１１０１は欠陥部
分で、反射率変化のあるゴミ欠陥や、反射方向変化の大
きいキズ欠陥の様なものでは、その反射光が正確に受光
センサ９０６に入射しないので、受光センサ９０６の出
力値が低下し、容易に欠陥を判別できる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
従来例では、図５で説明するとスリット光照明１００３
からの光９０３を検査対象９０１に投光し、表面からの
拡散反射光９０４ｂを受光センサ９０６ｂで受光する手
法では表面の急峻に変化する欠陥には有効であるがなだ
らかな凹凸を検出することは難しい。また正反射光９０
４ａを受光センサ９０６ａで受光する手法においては欠
陥ではない表面の大きなうねり成分によって正反射光を
うまくとらえることができず、そのためにうねり成分の
影響を受けないように受光側の光学系の開口数を大きく
することで回避しているが、開口数を大きくすることで
欠陥も背景と同様に埋もれてしまい検出が難しかった。
従来例では、図５で説明するとスリット光照明１００３
からの光９０３を検査対象９０１に投光し、表面からの
拡散反射光９０４ｂを受光センサ９０６ｂで受光する手
法では表面の急峻に変化する欠陥には有効であるがなだ
らかな凹凸を検出することは難しい。また正反射光９０
４ａを受光センサ９０６ａで受光する手法においては欠
陥ではない表面の大きなうねり成分によって正反射光を
うまくとらえることができず、そのためにうねり成分の
影響を受けないように受光側の光学系の開口数を大きく
することで回避しているが、開口数を大きくすることで
欠陥も背景と同様に埋もれてしまい検出が難しかった。
【０００６】図７で欠陥の検出の様子を説明すると、
（ａ）では検査対象面１２０１に凹欠陥１２０２がある
とき、スリット投光９０３は反射によって９０４ｃとな
り、受光センサ９０６への結像光学系１２０４から欠陥
部分の反射光が外れるため、欠陥部分とそれ以外の反射
光９０４ｄとは、受光センサ上でセンサ出力の差となっ
て現れ、欠陥の検出が可能である。これに対し、（ｂ）
のように凹欠陥１２１２が浅い場合は、その欠陥による
反射光９０４ｅも欠陥以外の反射光９０４ｆも結像光学
系１２０４によってセンサに結像されることになり、欠
陥の識別が不可能となる。また表面の大きなうねり成分
は図２のように反射光の方向や位置が変化するために一
概に開口数を小さくできないという問題があった。
（ａ）では検査対象面１２０１に凹欠陥１２０２がある
とき、スリット投光９０３は反射によって９０４ｃとな
り、受光センサ９０６への結像光学系１２０４から欠陥
部分の反射光が外れるため、欠陥部分とそれ以外の反射
光９０４ｄとは、受光センサ上でセンサ出力の差となっ
て現れ、欠陥の検出が可能である。これに対し、（ｂ）
のように凹欠陥１２１２が浅い場合は、その欠陥による
反射光９０４ｅも欠陥以外の反射光９０４ｆも結像光学
系１２０４によってセンサに結像されることになり、欠
陥の識別が不可能となる。また表面の大きなうねり成分
は図２のように反射光の方向や位置が変化するために一
概に開口数を小さくできないという問題があった。
【０００７】従って、本発明は上述した課題に鑑みてな
されたものであり、その目的は、欠陥の形状に関わら
ず、欠陥を良好に検出することができる欠陥検査装置及
び方法を提供することである。
されたものであり、その目的は、欠陥の形状に関わら
ず、欠陥を良好に検出することができる欠陥検査装置及
び方法を提供することである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上述した課題を解決し、
目的を達成するために、本発明に係わる欠陥検査装置
は、平面状の検査対象物の表面の微細な凹凸などの欠陥
を検査するための欠陥検査装置であって、光を照射する
ための光源と、該光源からの光を前記検査対象物の表面
に集光するための第１の集光光学系と、前記検査対象物
の表面で反射された光の一部を遮光する遮光手段と、前
記検査対象物の表面で反射された光を受光して光電変換
するための受光センサと、前記検査対象物の表面で反射
された光を前記受光センサ上に集光するための第２の集
光光学系とを具備することを特徴としている。
目的を達成するために、本発明に係わる欠陥検査装置
は、平面状の検査対象物の表面の微細な凹凸などの欠陥
を検査するための欠陥検査装置であって、光を照射する
ための光源と、該光源からの光を前記検査対象物の表面
に集光するための第１の集光光学系と、前記検査対象物
の表面で反射された光の一部を遮光する遮光手段と、前
記検査対象物の表面で反射された光を受光して光電変換
するための受光センサと、前記検査対象物の表面で反射
された光を前記受光センサ上に集光するための第２の集
光光学系とを具備することを特徴としている。
【０００９】また、この発明に係わる欠陥検査装置にお
いて、前記第１の集光光学系により集光された光の位置
と前記検査対象物の表面とを相対的に移動させるための
移動手段をさらに具備することを特徴としている。
いて、前記第１の集光光学系により集光された光の位置
と前記検査対象物の表面とを相対的に移動させるための
移動手段をさらに具備することを特徴としている。
【００１０】また、この発明に係わる欠陥検査装置にお
いて、前記光源と前記第１の集光光学系との間に配置さ
れ、前記光源からの光をスリット状に整形するための整
形手段をさらに具備することを特徴としている。
いて、前記光源と前記第１の集光光学系との間に配置さ
れ、前記光源からの光をスリット状に整形するための整
形手段をさらに具備することを特徴としている。
【００１１】また、この発明に係わる欠陥検査装置にお
いて、前記遮光手段は、前記検査対象物と前記第２の集
光光学系の間に配置されていることを特徴としている。
いて、前記遮光手段は、前記検査対象物と前記第２の集
光光学系の間に配置されていることを特徴としている。
【００１２】また、この発明に係わる欠陥検査装置にお
いて、前記遮光手段は、前記検査対象物の表面で反射さ
れた光の光軸を中心とする上側又は下側半分を遮光する
ことを特徴としている。
いて、前記遮光手段は、前記検査対象物の表面で反射さ
れた光の光軸を中心とする上側又は下側半分を遮光する
ことを特徴としている。
【００１３】また、この発明に係わる欠陥検査装置にお
いて、前記検査対象物の表面で反射された光とは、前記
光源から前記検査対象物の表面に照射された光の正反射
光であることを特徴としている。
いて、前記検査対象物の表面で反射された光とは、前記
光源から前記検査対象物の表面に照射された光の正反射
光であることを特徴としている。
【００１４】また、本発明に係わる欠陥検査方法は、平
面状の検査対象物の表面の微細な凹凸などの欠陥を検査
するための欠陥検査方法であって、光源から光を照射す
る照射工程と、前記光源からの光を前記検査対象物の表
面に集光する第１の集光工程と、前記検査対象物の表面
で反射された光の一部を遮光する遮光工程と、前記検査
対象物の表面で反射された光を受光して光電変換する光
電変換工程と、前記検査対象物の表面で反射された光を
前記受光センサ上に集光する第２の集光工程とを具備す
ることを特徴としている。
面状の検査対象物の表面の微細な凹凸などの欠陥を検査
するための欠陥検査方法であって、光源から光を照射す
る照射工程と、前記光源からの光を前記検査対象物の表
面に集光する第１の集光工程と、前記検査対象物の表面
で反射された光の一部を遮光する遮光工程と、前記検査
対象物の表面で反射された光を受光して光電変換する光
電変換工程と、前記検査対象物の表面で反射された光を
前記受光センサ上に集光する第２の集光工程とを具備す
ることを特徴としている。
【００１５】また、この発明に係わる欠陥検査方法にお
いて、前記第１の集光工程において集光された光の位置
と前記検査対象物の表面とを相対的に移動させるための
移動工程をさらに具備することを特徴としている。
いて、前記第１の集光工程において集光された光の位置
と前記検査対象物の表面とを相対的に移動させるための
移動工程をさらに具備することを特徴としている。
【００１６】また、この発明に係わる欠陥検査方法にお
いて、前記照射工程と前記第１の集光工程との間に、前
記光源からの光をスリット状に整形するための整形工程
をさらに具備することを特徴としている。
いて、前記照射工程と前記第１の集光工程との間に、前
記光源からの光をスリット状に整形するための整形工程
をさらに具備することを特徴としている。
【００１７】また、この発明に係わる欠陥検査方法にお
いて、前記遮光工程では、前記検査対象物と前記第２の
集光工程を行う集光手段との間で遮光を行うことを特徴
としている。
いて、前記遮光工程では、前記検査対象物と前記第２の
集光工程を行う集光手段との間で遮光を行うことを特徴
としている。
【００１８】また、この発明に係わる欠陥検査方法にお
いて、前記遮光工程では、前記検査対象物の表面で反射
された光の光軸を中心とする上側又は下側半分を遮光す
ることを特徴としている。
いて、前記遮光工程では、前記検査対象物の表面で反射
された光の光軸を中心とする上側又は下側半分を遮光す
ることを特徴としている。
【００１９】また、この発明に係わる欠陥検査方法にお
いて、前記検査対象物の表面で反射された光とは、前記
光源から前記検査対象物の表面に照射された光の正反射
光であることを特徴としている。
いて、前記検査対象物の表面で反射された光とは、前記
光源から前記検査対象物の表面に照射された光の正反射
光であることを特徴としている。
【００２０】
【発明の実施の形態】以下、本発明の好適な一実施形態
について、添付図面を参照して説明する。
について、添付図面を参照して説明する。
【００２１】図１は本発明の一実施形態に関わる欠陥検
査装置の構成を示す側面図である。図１において、１０
１は検査対象物、１０２は検査対象物を矢印Ｂ方向に走
査させるための移動ステージ、１０３は照明装置であ
る。照明装置１０３は、照明光源１０４と、照明光源１
０４からの光を紙面に垂直な方向に細長く整形するため
のスリット用チャート１０５と、スリット用チャート１
０５を通過した光を検査対象物１０１の表面に集光させ
るための集光光学系１０６とを備えており、照明光源１
０４からの照明光をスリット１０５を通して、そのスリ
ット像を集光光学系１０６によって検査対象物１０１の
表面に投光する。
査装置の構成を示す側面図である。図１において、１０
１は検査対象物、１０２は検査対象物を矢印Ｂ方向に走
査させるための移動ステージ、１０３は照明装置であ
る。照明装置１０３は、照明光源１０４と、照明光源１
０４からの光を紙面に垂直な方向に細長く整形するため
のスリット用チャート１０５と、スリット用チャート１
０５を通過した光を検査対象物１０１の表面に集光させ
るための集光光学系１０６とを備えており、照明光源１
０４からの照明光をスリット１０５を通して、そのスリ
ット像を集光光学系１０６によって検査対象物１０１の
表面に投光する。
【００２２】一方、検査対象物１０１を照明した光１０
７は反射によって反射光１０９となり、受光装置１０８
で受光される。受光装置１０８は、反射光１０９の一部
を遮光する遮光部材１１０と、遮光部材１１０を通過し
た光を集光させるための集光光学系１１１と、受光セン
サ１１２とを備えている。反射光１０９は集光光学系１
１１の前で遮光部材１１０によってその光の一部が遮光
され、通過した分の光が集光光学系１１１によって集光
され受光センサ１１２上に結像される。この時、遮光部
材１１０は、反射光光束１０９をその光軸を中心に上下
に２分した上側を遮光する。
７は反射によって反射光１０９となり、受光装置１０８
で受光される。受光装置１０８は、反射光１０９の一部
を遮光する遮光部材１１０と、遮光部材１１０を通過し
た光を集光させるための集光光学系１１１と、受光セン
サ１１２とを備えている。反射光１０９は集光光学系１
１１の前で遮光部材１１０によってその光の一部が遮光
され、通過した分の光が集光光学系１１１によって集光
され受光センサ１１２上に結像される。この時、遮光部
材１１０は、反射光光束１０９をその光軸を中心に上下
に２分した上側を遮光する。
【００２３】次に検査対象物１０１に微細でなだらかな
凹凸欠陥がある時にどのように検出できるかを説明す
る。
凹凸欠陥がある時にどのように検出できるかを説明す
る。
【００２４】図２は、検査対象物に走査方向（図１にお
ける矢印Ｂ方向）に伸びる凹みのある欠陥がある場合を
示している。図中２０１、２０２は欠陥の斜面を表し、
スリット光は紙面と垂直な方向に長く照明されている。
２０３は横軸に検査対象物１０１の移動方向（走査方
向）位置をとり、縦軸に１次元の受光センサ１１２の出
力をとったときの欠陥部付近の受光センサ１１２の出力
変化を示す曲線である。
ける矢印Ｂ方向）に伸びる凹みのある欠陥がある場合を
示している。図中２０１、２０２は欠陥の斜面を表し、
スリット光は紙面と垂直な方向に長く照明されている。
２０３は横軸に検査対象物１０１の移動方向（走査方
向）位置をとり、縦軸に１次元の受光センサ１１２の出
力をとったときの欠陥部付近の受光センサ１１２の出力
変化を示す曲線である。
【００２５】また、図３は説明の便宜のために、受光装
置１０８を検査対象物１０１の表面に対して垂直に配置
したと仮定したときに、検査対象物１０１の表面に角度
変化があったときの反射光の光束の様子を示した図であ
る。
置１０８を検査対象物１０１の表面に対して垂直に配置
したと仮定したときに、検査対象物１０１の表面に角度
変化があったときの反射光の光束の様子を示した図であ
る。
【００２６】まず図２において、２０４より左側と２０
６より右側では図３（ａ）のような光束１０９が受光部
に入る。すなわち反射光光束のうち約半分が受光センサ
１１２に集光される。また図２の２０４と２０５の間の
区間では検査対象物の凹みによって傾斜部が存在し、そ
の反射光束は図３（ｂ）のように光束の主軸が傾き、遮
光部材１１０によって遮られる光束が減少することによ
って受光センサ１１２に届く光束量は図３（ａ）に比べ
て増加する。従って、受光センサ１１２の出力は増加す
る。逆に、図２の２０５から２０６の間の区間では、図
３（ｃ）のような状態になり、光束の主軸はやはり傾く
が、この場合は光束のうち遮光される分が多くなり、受
光センサ１１２に受光される光束は減少する。従って、
受光センサ１１２の出力は減少する。このように検査対
象物に凹凸があるとその傾斜に従った光量が受光センサ
１１２に入射し、それに応じた出力が受光センサ１１２
から出力される。即ち、受光センサ１１２の出力をモニ
ターすることによって、検査対象物の凹凸を検出するこ
とができる。
６より右側では図３（ａ）のような光束１０９が受光部
に入る。すなわち反射光光束のうち約半分が受光センサ
１１２に集光される。また図２の２０４と２０５の間の
区間では検査対象物の凹みによって傾斜部が存在し、そ
の反射光束は図３（ｂ）のように光束の主軸が傾き、遮
光部材１１０によって遮られる光束が減少することによ
って受光センサ１１２に届く光束量は図３（ａ）に比べ
て増加する。従って、受光センサ１１２の出力は増加す
る。逆に、図２の２０５から２０６の間の区間では、図
３（ｃ）のような状態になり、光束の主軸はやはり傾く
が、この場合は光束のうち遮光される分が多くなり、受
光センサ１１２に受光される光束は減少する。従って、
受光センサ１１２の出力は減少する。このように検査対
象物に凹凸があるとその傾斜に従った光量が受光センサ
１１２に入射し、それに応じた出力が受光センサ１１２
から出力される。即ち、受光センサ１１２の出力をモニ
ターすることによって、検査対象物の凹凸を検出するこ
とができる。
【００２７】なお、遮光部材１１０は上側である必要は
なく、下側であれば検査対象物の欠陥による斜面に対す
るセンサ出力強度が上記説明と逆になるだけである。ま
た、上記の説明では検査対象物の走査方向の斜面に対す
る説明であるがこれと直交する方向の斜面も遮光部材の
形状及び位置を変更することによって検出が可能であ
る。
なく、下側であれば検査対象物の欠陥による斜面に対す
るセンサ出力強度が上記説明と逆になるだけである。ま
た、上記の説明では検査対象物の走査方向の斜面に対す
る説明であるがこれと直交する方向の斜面も遮光部材の
形状及び位置を変更することによって検出が可能であ
る。
【００２８】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
欠陥の形状に関わらず、欠陥を良好に検出することがで
きる。
欠陥の形状に関わらず、欠陥を良好に検出することがで
きる。
【００２９】
【図１】本発明の一実施形態に関わる欠陥検査装置の構
成を示す側面図である。
成を示す側面図である。
【図２】欠陥部の形状と受光センサの検出出力を説明す
る図である。
る図である。
【図３】検査対象物の傾斜とその反射光束を説明する図
である。
である。
【図４】従来の欠陥検査装置の概略構成を説明するため
の図である。
の図である。
【図５】従来例の全体機能を説明する図である。
【図６】従来例のセンサ出力を説明する図である。
【図７】欠陥部での光の反射状態を示す図である。
１０１ 検査対象物 １０２ 移動ステージ １０３ 照明装置 １０４ 受光装置 １０５ 遮光部材 １１２ 受光センサ
Claims (12)
- 【請求項１】 平面状の検査対象物の表面の微細な凹凸
などの欠陥を検査するための欠陥検査装置であって、 光を照射するための光源と、 該光源からの光を前記検査対象物の表面に集光するため
の第１の集光光学系と、 前記検査対象物の表面で反射された光の一部を遮光する
遮光手段と、 前記検査対象物の表面で反射された光を受光して光電変
換するための受光センサと、 前記検査対象物の表面で反射された光を前記受光センサ
上に集光するための第２の集光光学系とを具備すること
を特徴とする欠陥検査装置。 - 【請求項２】 前記第１の集光光学系により集光された
光の位置と前記検査対象物の表面とを相対的に移動させ
るための移動手段をさらに具備することを特徴とする請
求項１に記載の欠陥検査装置。 - 【請求項３】 前記光源と前記第１の集光光学系との間
に配置され、前記光源からの光をスリット状に整形する
ための整形手段をさらに具備することを特徴とする請求
項１に記載の欠陥検査装置。 - 【請求項４】 前記遮光手段は、前記検査対象物と前記
第２の集光光学系の間に配置されていることを特徴とす
る請求項１に記載の欠陥検査装置。 - 【請求項５】 前記遮光手段は、前記検査対象物の表面
で反射された光の光軸を中心とする上側又は下側半分を
遮光することを特徴とする請求項１に記載の欠陥検査装
置。 - 【請求項６】 前記検査対象物の表面で反射された光と
は、前記光源から前記検査対象物の表面に照射された光
の正反射光であることを特徴とする請求項１に記載の欠
陥検査装置。 - 【請求項７】 平面状の検査対象物の表面の微細な凹凸
などの欠陥を検査するための欠陥検査方法であって、 光源から光を照射する照射工程と、 前記光源からの光を前記検査対象物の表面に集光する第
１の集光工程と、 前記検査対象物の表面で反射された光の一部を遮光する
遮光工程と、 前記検査対象物の表面で反射された光を受光して光電変
換する光電変換工程と、 前記検査対象物の表面で反射された光を前記受光センサ
上に集光する第２の集光工程とを具備することを特徴と
する欠陥検査方法。 - 【請求項８】 前記第１の集光工程において集光された
光の位置と前記検査対象物の表面とを相対的に移動させ
るための移動工程をさらに具備することを特徴とする請
求項７に記載の欠陥検査方法。 - 【請求項９】 前記照射工程と前記第１の集光工程との
間に、前記光源からの光をスリット状に整形するための
整形工程をさらに具備することを特徴とする請求項７に
記載の欠陥検査方法。 - 【請求項１０】 前記遮光工程では、前記検査対象物と
前記第２の集光工程を行う集光手段との間で遮光を行う
ことを特徴とする請求項７に記載の欠陥検査方法。 - 【請求項１１】 前記遮光工程では、前記検査対象物の
表面で反射された光の光軸を中心とする上側又は下側半
分を遮光することを特徴とする請求項７に記載の欠陥検
査方法。 - 【請求項１２】 前記検査対象物の表面で反射された光
とは、前記光源から前記検査対象物の表面に照射された
光の正反射光であることを特徴とする請求項７に記載の
欠陥検査方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16363998A JPH11351849A (ja) | 1998-06-11 | 1998-06-11 | 欠陥検査装置及び欠陥検査方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16363998A JPH11351849A (ja) | 1998-06-11 | 1998-06-11 | 欠陥検査装置及び欠陥検査方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11351849A true JPH11351849A (ja) | 1999-12-24 |
Family
ID=15777774
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16363998A Withdrawn JPH11351849A (ja) | 1998-06-11 | 1998-06-11 | 欠陥検査装置及び欠陥検査方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11351849A (ja) |
-
1998
- 1998-06-11 JP JP16363998A patent/JPH11351849A/ja not_active Withdrawn
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20050906 |