JPH11346735A - 静電場処理装置 - Google Patents
静電場処理装置Info
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- JPH11346735A JPH11346735A JP10154779A JP15477998A JPH11346735A JP H11346735 A JPH11346735 A JP H11346735A JP 10154779 A JP10154779 A JP 10154779A JP 15477998 A JP15477998 A JP 15477998A JP H11346735 A JPH11346735 A JP H11346735A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electrostatic field
- far
- photocatalyst
- electrode
- high voltage
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F25—REFRIGERATION OR COOLING; COMBINED HEATING AND REFRIGERATION SYSTEMS; HEAT PUMP SYSTEMS; MANUFACTURE OR STORAGE OF ICE; LIQUEFACTION SOLIDIFICATION OF GASES
- F25D—REFRIGERATORS; COLD ROOMS; ICE-BOXES; COOLING OR FREEZING APPARATUS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- F25D2317/00—Details or arrangements for circulating cooling fluids; Details or arrangements for circulating gas, e.g. air, within refrigerated spaces, not provided for in other groups of this subclass
- F25D2317/04—Treating air flowing to refrigeration compartments
- F25D2317/041—Treating air flowing to refrigeration compartments by purification
Landscapes
- Freezing, Cooling And Drying Of Foods (AREA)
- Frying-Pans Or Fryers (AREA)
- Cold Air Circulating Systems And Constructional Details In Refrigerators (AREA)
- Food Preservation Except Freezing, Refrigeration, And Drying (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 遠赤外線効果、光触媒効果及び超音波効果を
著しく増大することを目的とする。 【解決手段】 静電場雰囲気内で、遠赤外線を放射した
り、光触媒反応を起こさせたり、超音波を放射する。
著しく増大することを目的とする。 【解決手段】 静電場雰囲気内で、遠赤外線を放射した
り、光触媒反応を起こさせたり、超音波を放射する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、被処理体に高静電圧を
印加して電場処理する装置に遠赤外線、光触媒及び超音
波を組合せた静電場処理装置に関する。
印加して電場処理する装置に遠赤外線、光触媒及び超音
波を組合せた静電場処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】最近、食品に高電圧を印加して冷蔵して
鮮度保持したり、フライヤの油槽内に電極を浸漬し、そ
の電極に高電圧を印加し油の酸化を防止してその寿命を
長くする静電場処理装置が開発されつつある。
鮮度保持したり、フライヤの油槽内に電極を浸漬し、そ
の電極に高電圧を印加し油の酸化を防止してその寿命を
長くする静電場処理装置が開発されつつある。
【０００３】一方、静電場に類似する効果を有するもの
として遠赤外線が存在し、この遠赤外線は食品の乾燥、
調理、加工又は人体の生体的処理に利用されている。
として遠赤外線が存在し、この遠赤外線は食品の乾燥、
調理、加工又は人体の生体的処理に利用されている。
【０００４】また、酸化チタン膜は光触媒として、殺
菌、脱臭、くもり止め、防染等に応用されている。
菌、脱臭、くもり止め、防染等に応用されている。
【０００５】更に、超音波は麺類、酒類を熟成させると
か、インスタントに味噌を作るときあるいは酸化防止な
どに使用されている。
か、インスタントに味噌を作るときあるいは酸化防止な
どに使用されている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】これら、静電場、遠赤
外線、光触媒あるいは超音波は、一部共通する性質を有
するが、それらは単独に適用され、これらを組合せて相
乗効果を得ようとする開発がなされていなかった。
外線、光触媒あるいは超音波は、一部共通する性質を有
するが、それらは単独に適用され、これらを組合せて相
乗効果を得ようとする開発がなされていなかった。
【０００７】そこで、本発明は、静電場雰囲気内で遠赤
外線、光触媒及び超音波それぞれの効果を著しく増大せ
しめるような静電場処理装置を提供することにある。
外線、光触媒及び超音波それぞれの効果を著しく増大せ
しめるような静電場処理装置を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】そこで、本発明は、被処
理体を電気的に絶縁状態に設置し、高電圧が印加された
電極を介して被処理体を電場処理するための静電場処理
装置において、前記静電場処理装置に遠赤外線放射体光
触媒及び超音波のうち、少なくとも１つのものを組み合
わせ適用した。
理体を電気的に絶縁状態に設置し、高電圧が印加された
電極を介して被処理体を電場処理するための静電場処理
装置において、前記静電場処理装置に遠赤外線放射体光
触媒及び超音波のうち、少なくとも１つのものを組み合
わせ適用した。
【０００９】これにより、静電場エネルギーが遠赤外
線、光触媒及び超音波の各エネルギーを増大させ静電場
との相乗的効果を発揮させることができる。
線、光触媒及び超音波の各エネルギーを増大させ静電場
との相乗的効果を発揮させることができる。
【００１０】
【実施形態及び実施例】以下、図面を参照して本発明の
実施例について説明する。
実施例について説明する。
【００１１】物体の乾燥には、ヒータをアルミナ、ユー
ジライト、チタニア又は、ジルコニアとマグネシアの組
合せ膜で被覆した遠赤外線ヒータが使用されているが、
遠赤外線は乾燥効果の他に、植物の成長を促進したり、
遠赤外線サウナのように人間の新陳代謝を増大したり、
揚げ物を製造する油の酸化を防止したりする効果を有す
ることが知られている。
ジライト、チタニア又は、ジルコニアとマグネシアの組
合せ膜で被覆した遠赤外線ヒータが使用されているが、
遠赤外線は乾燥効果の他に、植物の成長を促進したり、
遠赤外線サウナのように人間の新陳代謝を増大したり、
揚げ物を製造する油の酸化を防止したりする効果を有す
ることが知られている。
【００１２】そこで、静電場内で遠赤外線を放射したら
このような遠赤外線がどのようになるか実験してみた。
すなわち、３ＫＶの高電圧を印加した炉内にアルミナの
塊を入れ、５００℃に加熱して分光赤外線放射率曲線を
求め、次いで静電場をＯＦＦとしたところ、その分光赤
外線放射率曲線の放射率が各波長において２０〜５０％
程度低下した。これは、静電場雰囲気内では、遠赤外線
の放射率が著しく増大することを意味する。
このような遠赤外線がどのようになるか実験してみた。
すなわち、３ＫＶの高電圧を印加した炉内にアルミナの
塊を入れ、５００℃に加熱して分光赤外線放射率曲線を
求め、次いで静電場をＯＦＦとしたところ、その分光赤
外線放射率曲線の放射率が各波長において２０〜５０％
程度低下した。これは、静電場雰囲気内では、遠赤外線
の放射率が著しく増大することを意味する。
【００１３】また、光触媒としての酸化チタンの薄膜を
細線が植込まれたガラス表面に付着し、前記細線に高電
圧（３ＫＶ）の電圧を印加し、その上に菌液を滴下した
ところ、静電場を印加しない場合に比較して殺菌時間が
１．５〜２．０倍短縮された。これは、静電場雰囲気内
では、光触媒による分解作用が著しく増強されることを
意味する。
細線が植込まれたガラス表面に付着し、前記細線に高電
圧（３ＫＶ）の電圧を印加し、その上に菌液を滴下した
ところ、静電場を印加しない場合に比較して殺菌時間が
１．５〜２．０倍短縮された。これは、静電場雰囲気内
では、光触媒による分解作用が著しく増強されることを
意味する。
【００１４】これらの知見に基づいて、以下、具体的実
施例について説明する。
施例について説明する。
【００１５】図１は、静電場冷蔵庫１を示し、この冷蔵
庫１は、家庭用又は業務用冷蔵庫に適用できる。前記冷
蔵庫１は、ケーシング２を有し、このケーシング２内に
は、４つの部屋が形成され、これらの部屋は冷蔵庫室１
１と、解凍室５と、炭酸飲料室６と、野菜室１０とから
なっている。前記冷蔵庫室１１、解凍室５には、ステン
レス板等からなる壁面３，７が設けられ、これら壁面
３，７は高電圧発生装置８に接続されて各室内は電場雰
囲気とされている。前記冷蔵室１１及び解凍室５は図３
の曲線Ａに示すように、０℃〜−３℃間の温度に設定さ
れていることが好ましい。かかるマイナス温度帯におい
て電場雰囲気とすれば肉、魚類は全く凍結することはな
いが、電場を印加しなければ肉、魚類は凍ってしまう。
かかる３℃の幅のような冷凍システムは安価で容易であ
るが、恒温制御は扉の開閉が多い場合には機能しないば
かりでなく高価である。この温度帯はチルド帯である
が、電場を印加（２〜３ＫＶ）しておけば、通常のラフ
なコントロールでも全ての肉、魚が凍ることはない。こ
れは、静電場は食物の凍結点を降下させるからである。
この曲線Ａの代わりに平均温度が０℃〜−３℃の間に存
在する、例えば曲線Ｂのような粗い温度コントロールで
も電場を印加しておけば肉、魚類は凍結することはな
い。また、図３の温度体において解凍室５も曲線Ａ，Ｂ
のような粗いコントロールで十分で、このコントロール
においては肉、魚類がドリップを出すことなく、解凍さ
れ得る。なお、電場雰囲気内においては、炭酸飲料中の
炭酸が分解してしまうので、電場が印加されない炭酸飲
料室６が必要となる。
庫１は、家庭用又は業務用冷蔵庫に適用できる。前記冷
蔵庫１は、ケーシング２を有し、このケーシング２内に
は、４つの部屋が形成され、これらの部屋は冷蔵庫室１
１と、解凍室５と、炭酸飲料室６と、野菜室１０とから
なっている。前記冷蔵庫室１１、解凍室５には、ステン
レス板等からなる壁面３，７が設けられ、これら壁面
３，７は高電圧発生装置８に接続されて各室内は電場雰
囲気とされている。前記冷蔵室１１及び解凍室５は図３
の曲線Ａに示すように、０℃〜−３℃間の温度に設定さ
れていることが好ましい。かかるマイナス温度帯におい
て電場雰囲気とすれば肉、魚類は全く凍結することはな
いが、電場を印加しなければ肉、魚類は凍ってしまう。
かかる３℃の幅のような冷凍システムは安価で容易であ
るが、恒温制御は扉の開閉が多い場合には機能しないば
かりでなく高価である。この温度帯はチルド帯である
が、電場を印加（２〜３ＫＶ）しておけば、通常のラフ
なコントロールでも全ての肉、魚が凍ることはない。こ
れは、静電場は食物の凍結点を降下させるからである。
この曲線Ａの代わりに平均温度が０℃〜−３℃の間に存
在する、例えば曲線Ｂのような粗い温度コントロールで
も電場を印加しておけば肉、魚類は凍結することはな
い。また、図３の温度体において解凍室５も曲線Ａ，Ｂ
のような粗いコントロールで十分で、このコントロール
においては肉、魚類がドリップを出すことなく、解凍さ
れ得る。なお、電場雰囲気内においては、炭酸飲料中の
炭酸が分解してしまうので、電場が印加されない炭酸飲
料室６が必要となる。
【００１６】前記野菜室１０は電極を兼ねる高電圧発生
装置８に接続された壁面９に被われているが、野菜、果
物は肉、魚に比較して低温障害を起こし易い。そこで、
０℃を中心とするラフな温度コントロール（＋２℃〜−
２℃）がなされている（図示なし）。従来の冷蔵庫では
野菜室は４〜５℃であり、電場雰囲気内では、０℃を中
心とした温度コントロールで野菜、果物を凍らせること
なく長期間保存が可能となる。
装置８に接続された壁面９に被われているが、野菜、果
物は肉、魚に比較して低温障害を起こし易い。そこで、
０℃を中心とするラフな温度コントロール（＋２℃〜−
２℃）がなされている（図示なし）。従来の冷蔵庫では
野菜室は４〜５℃であり、電場雰囲気内では、０℃を中
心とした温度コントロールで野菜、果物を凍らせること
なく長期間保存が可能となる。
【００１７】なお、前記高電圧発生装置８はケーシング
２に接続されてフレームグランド（ＦＧ）機能を有して
おり、特に接地させる必要がない。
２に接続されてフレームグランド（ＦＧ）機能を有して
おり、特に接地させる必要がない。
【００１８】前記冷蔵室１１のステンレス壁面には、ア
ルミナ（Ａｌ2Ｏ3）、ユージライト（Ａｌ2Ｏ3＋ＳｉＯ
2＋ＭｇＯ）、チタニア（ＴｉＯ2）及びジルコニアとマ
グネシアの混合（ＺｒＯ2＋ＭｇＯ＋ＣｏＯ）等の各種
セラミックのコーティングがなされている。このコーテ
ィング４面からは遠赤外線が放射され、この遠赤外線の
作用によって、食品の酸化が有効に防止され、この酸化
防止作用が静電場の鮮度保持効果にバックアップされて
より食品が長い期間新鮮な状態で維持される。更に、遠
赤外線放射体とともに、又はこの代わりに壁面上に酸化
チタン膜（ＴｉＯ2）を形成して光触媒作用をさせれ
ば、その殺菌作用が静電場によって著しく増大される。
また、図示されていないが、冷蔵庫１内には、必要に応
じて肉類、アルコール類（日本酒、ワイン、ウィスキー
等）を熟成させるための熟成室を設けてもよく、この熟
成室を電場雰囲気とすれば、食物の熟成が進行する。こ
の熟成室に超音波発振器を設けて超音波を食物に放射す
れば、超音波の熟成効果が著しく増大する。
ルミナ（Ａｌ2Ｏ3）、ユージライト（Ａｌ2Ｏ3＋ＳｉＯ
2＋ＭｇＯ）、チタニア（ＴｉＯ2）及びジルコニアとマ
グネシアの混合（ＺｒＯ2＋ＭｇＯ＋ＣｏＯ）等の各種
セラミックのコーティングがなされている。このコーテ
ィング４面からは遠赤外線が放射され、この遠赤外線の
作用によって、食品の酸化が有効に防止され、この酸化
防止作用が静電場の鮮度保持効果にバックアップされて
より食品が長い期間新鮮な状態で維持される。更に、遠
赤外線放射体とともに、又はこの代わりに壁面上に酸化
チタン膜（ＴｉＯ2）を形成して光触媒作用をさせれ
ば、その殺菌作用が静電場によって著しく増大される。
また、図示されていないが、冷蔵庫１内には、必要に応
じて肉類、アルコール類（日本酒、ワイン、ウィスキー
等）を熟成させるための熟成室を設けてもよく、この熟
成室を電場雰囲気とすれば、食物の熟成が進行する。こ
の熟成室に超音波発振器を設けて超音波を食物に放射す
れば、超音波の熟成効果が著しく増大する。
【００１９】なお、電場を印加するためには、壁面を電
極とする代わりに図２に示すような金属の電極板２５を
冷蔵庫の各室に配置してもよい。また、高電圧発生装置
８は、出力電圧調整回路２０を有し、この出力電圧はト
ランス２１によって昇圧されて電極２５に印加される。
前記冷蔵庫１には高電圧が印加されるので、この高電圧
を利用してオゾンを発生させることができ、この回路中
にオゾン発生器２２（２枚の電極を対向させたもの）が
設けられ、このオゾン発生器２２の近傍にはファン２３
が設けられ、発生したオゾンはファン２３によって各室
内に送られる。オゾン発生器２２はスイッチ２６によっ
て動作し、必要に応じてタイマーを設け、例えばスイッ
チ２６を押してから３０分間オゾンを発生させその時間
経過後にオゾン発生を停止させるようにしてもよい。な
お、解凍の際には周波数を上げた方が時間が短縮される
ので、必要に応じて周波数可変装置（インバータ）が設
けられている。
極とする代わりに図２に示すような金属の電極板２５を
冷蔵庫の各室に配置してもよい。また、高電圧発生装置
８は、出力電圧調整回路２０を有し、この出力電圧はト
ランス２１によって昇圧されて電極２５に印加される。
前記冷蔵庫１には高電圧が印加されるので、この高電圧
を利用してオゾンを発生させることができ、この回路中
にオゾン発生器２２（２枚の電極を対向させたもの）が
設けられ、このオゾン発生器２２の近傍にはファン２３
が設けられ、発生したオゾンはファン２３によって各室
内に送られる。オゾン発生器２２はスイッチ２６によっ
て動作し、必要に応じてタイマーを設け、例えばスイッ
チ２６を押してから３０分間オゾンを発生させその時間
経過後にオゾン発生を停止させるようにしてもよい。な
お、解凍の際には周波数を上げた方が時間が短縮される
ので、必要に応じて周波数可変装置（インバータ）が設
けられている。
【００２０】図４は、本発明をフライヤー３０に適用し
た場合を示しており、このフライヤー３０はケーシング
３６を有し、このケーシング３６内に高電圧発生装置３
４が設けられている。油槽内には、ハンドル３２によっ
て油の中に出入可能な棒状電極３１が設けられ、この棒
状電極３１は複数所定間隔で並列配置され、支点３３を
中心としてハンドル３２の操作によって回動される。前
記油槽壁にはセラミックからなる遠赤外線膜３５が形成
されるとともに、図５に示すように、金属棒４０を上述
したようなセラミック体４１で被覆する。これにより、
遠赤外線放射による油の酸化防止作用又は油の熱伝導率
向上作用が静電場によって著しく増強されることとな
る。
た場合を示しており、このフライヤー３０はケーシング
３６を有し、このケーシング３６内に高電圧発生装置３
４が設けられている。油槽内には、ハンドル３２によっ
て油の中に出入可能な棒状電極３１が設けられ、この棒
状電極３１は複数所定間隔で並列配置され、支点３３を
中心としてハンドル３２の操作によって回動される。前
記油槽壁にはセラミックからなる遠赤外線膜３５が形成
されるとともに、図５に示すように、金属棒４０を上述
したようなセラミック体４１で被覆する。これにより、
遠赤外線放射による油の酸化防止作用又は油の熱伝導率
向上作用が静電場によって著しく増強されることとな
る。
【００２１】また、静電場が印加された油内に超音波発
信器（図示なし）を設置し、超音波を放射すれば油の酸
化防止作用が著しく増大する。
信器（図示なし）を設置し、超音波を放射すれば油の酸
化防止作用が著しく増大する。
【００２２】また、図６に示すように、棒状電極３１の
代わりに板状電極５０を使用してもよく、この場合に
は、金属板５１をセラミック体５３で被い、油循環用の
スリット５２，５２…５２が形成される。前記板状電極
５０は支持棒５４，５４で支持される。前記棒状電極３
１及び板状電極５０は高電圧発生装置３４に接続され、
この装置３４はケーシングに接続されて（ＦＧ）、接地
が省略される。
代わりに板状電極５０を使用してもよく、この場合に
は、金属板５１をセラミック体５３で被い、油循環用の
スリット５２，５２…５２が形成される。前記板状電極
５０は支持棒５４，５４で支持される。前記棒状電極３
１及び板状電極５０は高電圧発生装置３４に接続され、
この装置３４はケーシングに接続されて（ＦＧ）、接地
が省略される。
【００２３】図７は乾燥器６０を示し、この乾燥器６０
はケーシング６１を有し、このケーシング６１の内壁に
はセラミックコーティングされ、このコーティングから
は遠赤外線が放射される。前記ケーシング６１内の上部
にはヒータ６２が設けられるとともにその中央部には、
セラミック６７で電極板６６を被覆した乾燥棚６５が設
けられ、前記電極板６６が高電圧発生装置６４に接続さ
れている。このように静電場内でセラミックから遠赤外
線を放射させれば、その放射率が著しく向上するととも
に遠赤外線の放射寿命が著しく延びる。また、乾燥効率
も著しく向上する。
はケーシング６１を有し、このケーシング６１の内壁に
はセラミックコーティングされ、このコーティングから
は遠赤外線が放射される。前記ケーシング６１内の上部
にはヒータ６２が設けられるとともにその中央部には、
セラミック６７で電極板６６を被覆した乾燥棚６５が設
けられ、前記電極板６６が高電圧発生装置６４に接続さ
れている。このように静電場内でセラミックから遠赤外
線を放射させれば、その放射率が著しく向上するととも
に遠赤外線の放射寿命が著しく延びる。また、乾燥効率
も著しく向上する。
【００２４】図８は静電場ベット７０を示し、このベッ
ド本体上には絶縁膜で金属板を被った電極板７２が載置
され、この電極板７２に高電圧発生装置７３が接続され
ている。この電極板７２上には布団７４が載置され、こ
の布団７４上に遠赤外線放射粉末又は光触媒粉末が付着
されている。このように静電場内に各粉末を置けば、そ
れらの殺菌作用（光触媒）及び人体に与える生理作用
（遠赤外線）が著しく増大する。
ド本体上には絶縁膜で金属板を被った電極板７２が載置
され、この電極板７２に高電圧発生装置７３が接続され
ている。この電極板７２上には布団７４が載置され、こ
の布団７４上に遠赤外線放射粉末又は光触媒粉末が付着
されている。このように静電場内に各粉末を置けば、そ
れらの殺菌作用（光触媒）及び人体に与える生理作用
（遠赤外線）が著しく増大する。
【００２５】一般に、冷蔵庫、フライヤー等で使用され
る高電圧発生装置のトランスの２次側の一端は電極に接
続され、他端は接地されるが、現場で接地作業は時とし
て煩雑な作業となる場合がある。この接地作業を省略す
れば著しく装置の設置効率が向上する。かかる回路８０
が図９に示されており、交流１００Ｖ電源からの電圧は
フィルタ８１を介して出力電圧調整回路８２に入力さ
れ、この電圧はトランス８３によって昇圧され、トラン
ス８３の２次側の一端の昇圧電圧は抵抗８４を介して電
極８５に印加されこの電極板８５の周りに静電場が形成
される。また、トランスの２次側の他端の昇圧電圧は電
流制御回路８６を介して冷蔵庫又はフライヤのケーシン
グに接続されている。また、電流制御回路８６を経た電
圧は、電流リミッタ８７を経てフォトカプラ８８を動作
させ、異常電流が発生したときにパルス幅制御回路８９
が動作して出力電圧調整回路が出力電圧を下げるように
調整される。また、前記パルス幅制御回路８９は、交流
電源からの交流が直流に変換された補助電源９０によっ
て駆動される。冷蔵庫又はフライヤのケーシングは、ア
ースをとらなければ、ケーシングに静電気が誘起され作
業者がケーシングに触れると感電するが、このケーシン
グ（ＦＧ）をトランス８３のコアに接続するとこのコア
によってケーシングに誘起した静電気が消費され感電が
有効に防止される。
る高電圧発生装置のトランスの２次側の一端は電極に接
続され、他端は接地されるが、現場で接地作業は時とし
て煩雑な作業となる場合がある。この接地作業を省略す
れば著しく装置の設置効率が向上する。かかる回路８０
が図９に示されており、交流１００Ｖ電源からの電圧は
フィルタ８１を介して出力電圧調整回路８２に入力さ
れ、この電圧はトランス８３によって昇圧され、トラン
ス８３の２次側の一端の昇圧電圧は抵抗８４を介して電
極８５に印加されこの電極板８５の周りに静電場が形成
される。また、トランスの２次側の他端の昇圧電圧は電
流制御回路８６を介して冷蔵庫又はフライヤのケーシン
グに接続されている。また、電流制御回路８６を経た電
圧は、電流リミッタ８７を経てフォトカプラ８８を動作
させ、異常電流が発生したときにパルス幅制御回路８９
が動作して出力電圧調整回路が出力電圧を下げるように
調整される。また、前記パルス幅制御回路８９は、交流
電源からの交流が直流に変換された補助電源９０によっ
て駆動される。冷蔵庫又はフライヤのケーシングは、ア
ースをとらなければ、ケーシングに静電気が誘起され作
業者がケーシングに触れると感電するが、このケーシン
グ（ＦＧ）をトランス８３のコアに接続するとこのコア
によってケーシングに誘起した静電気が消費され感電が
有効に防止される。
【００２６】
【発明の効果】本発明は、以上のように構成したので、
静電場雰囲気が遠赤外線効果、光触媒効果及び超音波効
果を著しく向上させることができるという効果を奏す
る。
静電場雰囲気が遠赤外線効果、光触媒効果及び超音波効
果を著しく向上させることができるという効果を奏す
る。
【図１】本発明を適用した冷蔵庫の構造図。
【図２】冷蔵庫の回路図。
【図３】冷蔵庫の温度コントロール曲線図。
【図４】本発明を適用したフライヤの構造図。
【図５】フライヤの電極の斜視図。
【図６】フライヤの他の電極の斜視図。
【図７】本発明を適用した乾燥器の構造図。
【図８】本発明を適用した静電場ベッドの構造図。
【図９】高電圧発生装置の回路図。
１…冷蔵庫 ４…セラミックコーティング ２１…トランク ２２…オゾン発生器 ２４…インバータ ３０…フライヤ ３１…電極棒 ３２…ハンドル ５０…電極棒 ６０…乾燥器 ７０…静電場ベッド ８３…トランス
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｆ２５Ｄ 23/00 ３０５ Ｆ２５Ｄ 23/00 ３０５Ｚ
Claims (5)
- 【請求項１】 被処理体を電気的に絶縁状態に設置し、
高電圧が印加された電極を介して被処理体を電場処理す
るための静電場処理装置において、前記静電場処理装置
に遠赤外線放射体光触媒及び超音波のうち、少なくとも
１つのものを組み合わせ適用したことを特徴とする静電
場処理装置。 - 【請求項２】 冷蔵庫の内壁面に遠赤外線放射及び光触
媒膜のうち、少なくともいずれか一方を形成したことを
特徴とする請求項１記載の静電場処理装置。 - 【請求項３】 フライヤの油槽内に浸漬される電極に遠
赤外線放射を形成すること及び油槽内壁に遠赤外線放射
体を形成することのうち、少なくともいずれか一方を形
成したことを特徴とする請求項１記載の静電場処理装
置。 - 【請求項４】 前記被処理体は人間の身体であり、前記
静電場処理装置のベッドに静電場が印加され、ベッド上
のシーツに遠赤外線放射処理及び光触媒処理のうち、少
なくとも一方の処理が行われていることを特徴とする静
電場処理装置。 - 【請求項５】 乾燥機内に設けられた静電場雰囲気内に
遠赤外線放射体を設けたことを特徴とする請求項１記載
の静電場処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10154779A JPH11346735A (ja) | 1998-06-03 | 1998-06-03 | 静電場処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10154779A JPH11346735A (ja) | 1998-06-03 | 1998-06-03 | 静電場処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11346735A true JPH11346735A (ja) | 1999-12-21 |
Family
ID=15591723
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10154779A Pending JPH11346735A (ja) | 1998-06-03 | 1998-06-03 | 静電場処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11346735A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006230257A (ja) * | 2005-02-23 | 2006-09-07 | Feel Technology Co Ltd | 氷点下静電場装置の利用方法 |
| JP2007195493A (ja) * | 2006-01-27 | 2007-08-09 | Marushie Machinery Kk | 電場及び超音波を用いた急速冷凍方法及び冷凍庫 |
| CN105627665A (zh) * | 2014-10-31 | 2016-06-01 | 宁波吉德电器有限公司 | 一种利用空间电势进行低温保鲜的冰箱 |
| CN105627664A (zh) * | 2014-10-31 | 2016-06-01 | 宁波吉德电器有限公司 | 一种开门自动断电去除静电的保鲜冰箱 |
| CN107436069A (zh) * | 2017-04-18 | 2017-12-05 | 迪弗斯科技股份有限公司 | 静电冷库系统以及静电冷冻、解冻方法 |
| JP2019128126A (ja) * | 2018-01-26 | 2019-08-01 | シャープ株式会社 | 冷蔵庫 |
-
1998
- 1998-06-03 JP JP10154779A patent/JPH11346735A/ja active Pending
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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