JPH11344811A - 両面露光装置 - Google Patents
両面露光装置Info
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- JPH11344811A JPH11344811A JP10170655A JP17065598A JPH11344811A JP H11344811 A JPH11344811 A JP H11344811A JP 10170655 A JP10170655 A JP 10170655A JP 17065598 A JP17065598 A JP 17065598A JP H11344811 A JPH11344811 A JP H11344811A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ultraviolet irradiation
- exposure
- irradiation device
- printing frame
- distance
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 露光機体１内の露光部３に、露光光源４を有
する上下の紫外線照射装置６，７を設け、この上下の紫
外線照射装置６，７の間に、露光機体１外の操作部３に
用意してある上下２段の焼枠２０，２１を交互に差し替
えて各々の焼枠の上下両面を露光するようにしてある両
面露光装置において、上段の焼枠２０、下段の焼枠２１
共に同じ露光時間で常に適正かつ均一な露光を得ること
ができるようにする。 【解決手段】 上下の紫外線照射装置６，７を一体にユ
ニット化したうえで、このユニット１２全体を所定スト
ロークＳだけ上下に昇降動させることにより、上下の露
光光源４，４に対する上段の焼枠２０の距離と、下段の
焼枠２１の距離とが等しくなるように調整できるものと
した。
する上下の紫外線照射装置６，７を設け、この上下の紫
外線照射装置６，７の間に、露光機体１外の操作部３に
用意してある上下２段の焼枠２０，２１を交互に差し替
えて各々の焼枠の上下両面を露光するようにしてある両
面露光装置において、上段の焼枠２０、下段の焼枠２１
共に同じ露光時間で常に適正かつ均一な露光を得ること
ができるようにする。 【解決手段】 上下の紫外線照射装置６，７を一体にユ
ニット化したうえで、このユニット１２全体を所定スト
ロークＳだけ上下に昇降動させることにより、上下の露
光光源４，４に対する上段の焼枠２０の距離と、下段の
焼枠２１の距離とが等しくなるように調整できるものと
した。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、上下２段の焼枠を
用意し、この上下２段の焼枠を交互に差し替えて各々の
両面露光を行う両面露光装置に関する。
用意し、この上下２段の焼枠を交互に差し替えて各々の
両面露光を行う両面露光装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】プリント配線板などのフォトレジスト用
両面露光装置には、例えば、図５に示すごとく、露光機
体１内の露光部３に露光光源４を上下に対向して配置
し、露光機体１外の操作部２に上下２段に用意してある
上段の焼枠２０と下段の焼枠２１とを差し替えて交互に
上下の露光光源４，４間に移動させて両面焼付けを行
い、焼付作業能率の向上を図ったものが知られている
（特公昭６２−３１３３５号公報）。
両面露光装置には、例えば、図５に示すごとく、露光機
体１内の露光部３に露光光源４を上下に対向して配置
し、露光機体１外の操作部２に上下２段に用意してある
上段の焼枠２０と下段の焼枠２１とを差し替えて交互に
上下の露光光源４，４間に移動させて両面焼付けを行
い、焼付作業能率の向上を図ったものが知られている
（特公昭６２−３１３３５号公報）。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかるに、この種の両
面露光装置では、上下の露光光源４，４間に対し送られ
てくる上段の焼枠２０の露光位置と、下段の焼枠２１の
露光位置との間では、少なくとも焼枠の厚み分だけ上下
に位置ずれが生じる。上段の焼枠２０は水平な上ガイド
レール（図１参照）を介して、下段の焼枠２１は上ガイ
ドレールの下側に平行に配された下ガイドレール（図１
参照）を介してそれぞれ操作部３と露光部２との間を水
平方向に往復移動するものとなっているからである。こ
の位置ずれに伴い上下の露光光源４，４に対する上段の
焼枠２０の距離と、上下の露光光源４，４に対する下段
の焼枠２１の距離とが異なってくる。
面露光装置では、上下の露光光源４，４間に対し送られ
てくる上段の焼枠２０の露光位置と、下段の焼枠２１の
露光位置との間では、少なくとも焼枠の厚み分だけ上下
に位置ずれが生じる。上段の焼枠２０は水平な上ガイド
レール（図１参照）を介して、下段の焼枠２１は上ガイ
ドレールの下側に平行に配された下ガイドレール（図１
参照）を介してそれぞれ操作部３と露光部２との間を水
平方向に往復移動するものとなっているからである。こ
の位置ずれに伴い上下の露光光源４，４に対する上段の
焼枠２０の距離と、上下の露光光源４，４に対する下段
の焼枠２１の距離とが異なってくる。
【０００４】このように両者間で距離が変われば、一定
露光量を得るまでの時間、即ち露光時間に差異が生じ
る。つまり露光時間を、位置のずれた上段の焼枠２０ま
たは下段の焼枠２１のいずれか一方に基準をおくと、他
方に過剰露光あるいは露光不足の事態を生じてしまうの
で、この不都合を解消するには、上段の焼枠２０に対す
る露光時間あるいは露光放射強度と、下段の焼枠２１に
対する露光時間あるいは露光放射強度とを変えて調整す
る必要がある。
露光量を得るまでの時間、即ち露光時間に差異が生じ
る。つまり露光時間を、位置のずれた上段の焼枠２０ま
たは下段の焼枠２１のいずれか一方に基準をおくと、他
方に過剰露光あるいは露光不足の事態を生じてしまうの
で、この不都合を解消するには、上段の焼枠２０に対す
る露光時間あるいは露光放射強度と、下段の焼枠２１に
対する露光時間あるいは露光放射強度とを変えて調整す
る必要がある。
【０００５】しかし、かかる露光時間や露光放射強度の
制御管理は厳格に行わないと適正かつ均一な露光を得る
ことができず、その管理は甚だ厄介であるばかりか、正
確性に欠けやすかった。
制御管理は厳格に行わないと適正かつ均一な露光を得る
ことができず、その管理は甚だ厄介であるばかりか、正
確性に欠けやすかった。
【０００６】そこで、本発明は、上下の露光光源に対す
る上段の焼枠の距離と、下段の焼枠の距離とが常に等し
くなるようにすることでもって、上段の焼枠、下段の焼
枠共に同じ露光時間で常に適正かつ均一な露光を得るこ
とのできる両面露光装置を提供することを目的とする。
る上段の焼枠の距離と、下段の焼枠の距離とが常に等し
くなるようにすることでもって、上段の焼枠、下段の焼
枠共に同じ露光時間で常に適正かつ均一な露光を得るこ
とのできる両面露光装置を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、露光機体内の
露光部に、露光光源をそれぞれ有する上下の紫外線照射
装置を設け、この上下の紫外線照射装置の間に、露光機
体外の操作部に用意してある上下２段の焼枠を交互に差
し替えて各々の焼枠の上下両面を露光するようにしてあ
る両面露光装置において、上部の紫外線照射装置と下部
の紫外線照射装置とが、前記上下２段の焼枠の受入れを
許容する間隔をおいて上下に対向するよう一体的に結合
された紫外線照射装置ユニットに構成されており、この
紫外線照射装置ユニット全体が上下方向に昇降動可能に
設置されていることに特徴を有する。
露光部に、露光光源をそれぞれ有する上下の紫外線照射
装置を設け、この上下の紫外線照射装置の間に、露光機
体外の操作部に用意してある上下２段の焼枠を交互に差
し替えて各々の焼枠の上下両面を露光するようにしてあ
る両面露光装置において、上部の紫外線照射装置と下部
の紫外線照射装置とが、前記上下２段の焼枠の受入れを
許容する間隔をおいて上下に対向するよう一体的に結合
された紫外線照射装置ユニットに構成されており、この
紫外線照射装置ユニット全体が上下方向に昇降動可能に
設置されていることに特徴を有する。
【０００８】また本発明は、上記構成の両面露光装置に
おいて、更に、上下２段の各焼枠の下面側に、下部の紫
外線照射装置から出射する光を平行光に変換するフレネ
ルレンズを装着し、上部の紫外線照射装置には、上部の
紫外線照射装置から出射する光を平行光に変換するフレ
ネルレンズを上下方向に平行移動可能に搭載してあるこ
とに特徴を有する。
おいて、更に、上下２段の各焼枠の下面側に、下部の紫
外線照射装置から出射する光を平行光に変換するフレネ
ルレンズを装着し、上部の紫外線照射装置には、上部の
紫外線照射装置から出射する光を平行光に変換するフレ
ネルレンズを上下方向に平行移動可能に搭載してあるこ
とに特徴を有する。
【０００９】
【作用】露光に際し、先ず、上段の焼枠を紫外線照射装
置ユニットの上下の紫外線照射装置の間に移動させてそ
の上下両面を同時に露光し、露光後上段の焼枠を紫外線
照射装置ユニットから取り出してから、下段の焼枠を上
下の紫外線照射装置の間に移動させる。この移動後は、
紫外線照射装置ユニット全体を所定ストロークだけ下降
させ、この下降によって上下の露光光源に対する下段の
焼枠の距離が、先の工程での上下の露光光源に対する上
段の焼枠の距離と等しくなるように調整することができ
る。下段の焼枠を露光してから紫外線照射装置ユニット
から取り出し後は、紫外線照射装置ユニットを前記スト
ローク分だけ上昇させて元の高さ位置に停止させる。し
たがって、上段の焼枠及び下段の焼枠に対する露光時間
及び露光放射強度は共に同じにして両面露光することが
でき、適正かつ均一な両面露光を得ることができる。
置ユニットの上下の紫外線照射装置の間に移動させてそ
の上下両面を同時に露光し、露光後上段の焼枠を紫外線
照射装置ユニットから取り出してから、下段の焼枠を上
下の紫外線照射装置の間に移動させる。この移動後は、
紫外線照射装置ユニット全体を所定ストロークだけ下降
させ、この下降によって上下の露光光源に対する下段の
焼枠の距離が、先の工程での上下の露光光源に対する上
段の焼枠の距離と等しくなるように調整することができ
る。下段の焼枠を露光してから紫外線照射装置ユニット
から取り出し後は、紫外線照射装置ユニットを前記スト
ローク分だけ上昇させて元の高さ位置に停止させる。し
たがって、上段の焼枠及び下段の焼枠に対する露光時間
及び露光放射強度は共に同じにして両面露光することが
でき、適正かつ均一な両面露光を得ることができる。
【００１０】
【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施の形態を図
１ないし図３に基づいて説明する。図１は全体の外観正
面図、図２は全体の外観側面図、図３は内部の縦断側面
図である。本発明の両面露光装置は、露光機体１内に露
光部２を、露光機体１の正面側に操作部３を設ける。図
３に示すように、露光機体１内の露光部２には、紫外線
ランプ等からなる露光光源４と、この光源４からの光を
下向きに反射する平面反射鏡５とを有する上部の紫外線
照射装置６と、同じく露光光源４と、この光源４からの
光を上向きに反射する平面反射鏡５とを有する下部の紫
外線照射装置７とを設ける。上下の露光光源４，４は垂
直支持体８の正面側の上下端にそれぞれ固定し、上下の
平面反射鏡５，５は垂直持体８から前方へ向けて片持ち
支持された上下の平行な水平支持体９，１０にそれぞれ
ブラケット１１を介して固定しており、これで上下の紫
外線照射装置６，７はひとつの垂直支持体８上に所定間
隔Ｇをおいて上下に相対向するよう一体的に結合されて
紫外線照射装置ユニット１２を構成する。
１ないし図３に基づいて説明する。図１は全体の外観正
面図、図２は全体の外観側面図、図３は内部の縦断側面
図である。本発明の両面露光装置は、露光機体１内に露
光部２を、露光機体１の正面側に操作部３を設ける。図
３に示すように、露光機体１内の露光部２には、紫外線
ランプ等からなる露光光源４と、この光源４からの光を
下向きに反射する平面反射鏡５とを有する上部の紫外線
照射装置６と、同じく露光光源４と、この光源４からの
光を上向きに反射する平面反射鏡５とを有する下部の紫
外線照射装置７とを設ける。上下の露光光源４，４は垂
直支持体８の正面側の上下端にそれぞれ固定し、上下の
平面反射鏡５，５は垂直持体８から前方へ向けて片持ち
支持された上下の平行な水平支持体９，１０にそれぞれ
ブラケット１１を介して固定しており、これで上下の紫
外線照射装置６，７はひとつの垂直支持体８上に所定間
隔Ｇをおいて上下に相対向するよう一体的に結合されて
紫外線照射装置ユニット１２を構成する。
【００１１】そして、紫外線照射装置ユニット１２は、
露光機体１内の露光部２に正逆駆動モータ１３と上下の
ガイド機構１４，１４とによって所定ストロークＳだけ
昇降動できるように設置される。上下のガイド機構１
４，１４は、露光機体１内の背面側の上下に、それぞれ
左右一対の垂直ガイドバー１５を固定する一方、垂直支
持体８の背面側の上下にそれぞれ取り付けた前後１対の
カイドローラ１６，１６間に前記垂直ガイドバー１５を
通してなる。駆動モータ１３の軸１７の上端に結合した
ねじ軸１８を、紫外線照射装置ユニット１２の垂直支持
体８側に固定したナット部材１９に螺合することによ
り、駆動モータ１３の回転を紫外線照射装置ユニット１
２の上下方向の直線往復運動に変えることができる。
露光機体１内の露光部２に正逆駆動モータ１３と上下の
ガイド機構１４，１４とによって所定ストロークＳだけ
昇降動できるように設置される。上下のガイド機構１
４，１４は、露光機体１内の背面側の上下に、それぞれ
左右一対の垂直ガイドバー１５を固定する一方、垂直支
持体８の背面側の上下にそれぞれ取り付けた前後１対の
カイドローラ１６，１６間に前記垂直ガイドバー１５を
通してなる。駆動モータ１３の軸１７の上端に結合した
ねじ軸１８を、紫外線照射装置ユニット１２の垂直支持
体８側に固定したナット部材１９に螺合することによ
り、駆動モータ１３の回転を紫外線照射装置ユニット１
２の上下方向の直線往復運動に変えることができる。
【００１２】一方、露光機体１外の操作部３には、図１
及び図２に示すごとく、上下２段の焼枠２０，２１を準
備しておく。上段の焼枠２０は左右の上部ガイドレール
２２，２２に沿って、下段の焼枠２１は左右の下部ガイ
ドレール２３，２３に沿ってそれぞれ、紫外線照射装置
ユニット１２の上下の水平支持体９，１０間と、操作部
３との間を水平方向に往復するようになっている。
及び図２に示すごとく、上下２段の焼枠２０，２１を準
備しておく。上段の焼枠２０は左右の上部ガイドレール
２２，２２に沿って、下段の焼枠２１は左右の下部ガイ
ドレール２３，２３に沿ってそれぞれ、紫外線照射装置
ユニット１２の上下の水平支持体９，１０間と、操作部
３との間を水平方向に往復するようになっている。
【００１３】図３において、上下の焼枠２０，２１の各
下面側には、下部の紫外線照射装置７の平面反射鏡５か
ら出射する光を平行光に変換するフレネルレンズ２４を
装着している。一方、上部の紫外線照射装置６には、上
部の紫外線照射装置６の反射鏡５から出射する光を平行
光に変換するフレネルレンズ２５を上下方向に平行移動
可能に搭載してある。そのフレネルレンズ２５は、上部
の水平支持体９の下側に前後の懸垂バー２６，２６によ
って懸垂するとともに、駆動モータ２７およびリンク機
構２８によって前後の懸垂バー２６，２６を上下方向に
所定ストロークだけ昇降動することで水平姿勢のまま昇
降動できるようにしてある。
下面側には、下部の紫外線照射装置７の平面反射鏡５か
ら出射する光を平行光に変換するフレネルレンズ２４を
装着している。一方、上部の紫外線照射装置６には、上
部の紫外線照射装置６の反射鏡５から出射する光を平行
光に変換するフレネルレンズ２５を上下方向に平行移動
可能に搭載してある。そのフレネルレンズ２５は、上部
の水平支持体９の下側に前後の懸垂バー２６，２６によ
って懸垂するとともに、駆動モータ２７およびリンク機
構２８によって前後の懸垂バー２６，２６を上下方向に
所定ストロークだけ昇降動することで水平姿勢のまま昇
降動できるようにしてある。
【００１４】いま、操作部３に用意してある上段の焼枠
２０を露光するには、この上段の焼枠２０を、図３に実
線で示す高さ位置にある紫外線照射装置ユニット１２の
上下の紫外線照射装置６，７の間の定位置にまで移動さ
せる。次いで、上部の紫外線照射装置６のフレネルレン
ズ２５を下降させてその上段の焼枠２０内に沈下させ
る。かくして上下の紫外線照射装置６，７によって上段
の焼枠２０の上下両面を同時に露光する。上段の焼枠２
０の両面露光後、上部の紫外線照射装置６のフレネルレ
ンズ２５を元の高さ位置（図３中、二点鎖線の状態）に
まで上昇させて上段の焼枠２０から上方へ出したうえ
で、上段の焼枠２０を操作部３にまで引き戻す。
２０を露光するには、この上段の焼枠２０を、図３に実
線で示す高さ位置にある紫外線照射装置ユニット１２の
上下の紫外線照射装置６，７の間の定位置にまで移動さ
せる。次いで、上部の紫外線照射装置６のフレネルレン
ズ２５を下降させてその上段の焼枠２０内に沈下させ
る。かくして上下の紫外線照射装置６，７によって上段
の焼枠２０の上下両面を同時に露光する。上段の焼枠２
０の両面露光後、上部の紫外線照射装置６のフレネルレ
ンズ２５を元の高さ位置（図３中、二点鎖線の状態）に
まで上昇させて上段の焼枠２０から上方へ出したうえ
で、上段の焼枠２０を操作部３にまで引き戻す。
【００１５】引き続いて、下段の焼枠２１を上下の紫外
線照射装置６，７間に移動させるが、この時は紫外線照
射装置ユニット１２を図３に二点鎖線で示すごとく所定
ストロークＳだけ下降させることによって、この下段の
焼枠２１の上側受光面２１ａと上部の露光光源４との間
の距離が上段の焼枠２０の上側受光面２０ａと上部の露
光光源４との間の距離と等しくなり、またこの下段の焼
枠２１の下側受光面２１ｂと下部の露光光源４との間の
距離が上段の焼枠２０の下側受光面２０ｂと下部の露光
光源４との間の距離と等しくなるようにする。こうする
ことで下段の焼枠２１の両面露光を、上段の焼枠２０の
露光時間と同じ露光時間で行うことができる。下段の焼
枠２１を両面露光して操作部３にまで引き戻した後は、
紫外線照射装置ユニット１２は図３に実線で示す元の高
さ位置にまで上昇させて、次の上段の焼枠２０の両面露
光に供される。
線照射装置６，７間に移動させるが、この時は紫外線照
射装置ユニット１２を図３に二点鎖線で示すごとく所定
ストロークＳだけ下降させることによって、この下段の
焼枠２１の上側受光面２１ａと上部の露光光源４との間
の距離が上段の焼枠２０の上側受光面２０ａと上部の露
光光源４との間の距離と等しくなり、またこの下段の焼
枠２１の下側受光面２１ｂと下部の露光光源４との間の
距離が上段の焼枠２０の下側受光面２０ｂと下部の露光
光源４との間の距離と等しくなるようにする。こうする
ことで下段の焼枠２１の両面露光を、上段の焼枠２０の
露光時間と同じ露光時間で行うことができる。下段の焼
枠２１を両面露光して操作部３にまで引き戻した後は、
紫外線照射装置ユニット１２は図３に実線で示す元の高
さ位置にまで上昇させて、次の上段の焼枠２０の両面露
光に供される。
【００１６】以上のようにフレネルレンズ２４，２５を
用いる理由は、露光すべき対象物に対して平行光を照射
するためであり、このためには露光光源４をフレネルレ
ンズ２４，２５の焦点位置に配置する必要があるが、本
発明では上下の紫外線照射装置６，７と上部のフレネル
レンズ２５とを上下に移動させることにより、露光光源
４，４をフレネルレンズ２４，２５の焦点位置に配置さ
せるようにしている。
用いる理由は、露光すべき対象物に対して平行光を照射
するためであり、このためには露光光源４をフレネルレ
ンズ２４，２５の焦点位置に配置する必要があるが、本
発明では上下の紫外線照射装置６，７と上部のフレネル
レンズ２５とを上下に移動させることにより、露光光源
４，４をフレネルレンズ２４，２５の焦点位置に配置さ
せるようにしている。
【００１７】上記実施例では上下の紫外線照射装置６，
７に平面反射鏡５を用いたが、これに代えて図４に示す
ごとく、凹断面の反射笠３０を有する露光光源４を焼枠
２０，２１に対向するよう上下に配設し、この露光光源
４と反射笠３０の組を上昇及び下降させるようにしても
よい。また、焼枠としては、この種の露光装置で用いら
れている慣用の焼枠を用いることができ、更に当該焼枠
にはしごきローラー等を設けてもよい。
７に平面反射鏡５を用いたが、これに代えて図４に示す
ごとく、凹断面の反射笠３０を有する露光光源４を焼枠
２０，２１に対向するよう上下に配設し、この露光光源
４と反射笠３０の組を上昇及び下降させるようにしても
よい。また、焼枠としては、この種の露光装置で用いら
れている慣用の焼枠を用いることができ、更に当該焼枠
にはしごきローラー等を設けてもよい。
【００１８】
【発明の効果】本発明によれば、上下の露光光源に対す
る上段の焼枠の距離と、下段の焼枠の距離とが等しくな
るように紫外線照射装置ユニット全体を上下に所定スト
ロークだけ移動させるという簡単な手段で、上段の焼
枠、下段の焼枠共に同じ露光時間で常に適正かつ均一な
露光を得ることができて有利である。
る上段の焼枠の距離と、下段の焼枠の距離とが等しくな
るように紫外線照射装置ユニット全体を上下に所定スト
ロークだけ移動させるという簡単な手段で、上段の焼
枠、下段の焼枠共に同じ露光時間で常に適正かつ均一な
露光を得ることができて有利である。
【図１】全体の外観正面図である。
【図２】全体の外観側面図である。
【図３】内部の縦断側面図である。
【図４】他の実施例を概略的に示す断面図である。
【図５】従来例を概略的に示す断面図である。
１ 露光機体 ２ 露光部 ３ 操作部 ４ 露光光源 ５ 反射鏡 ６ 上部の紫外線照射装置 ７ 下部の紫外線照射装置 １２ 紫外線照射装置ユニット ２０ 上段の焼枠 ２１ 下段の焼枠 ２４ 焼枠側のフレネルレンズ ２５ 上部の紫外線照射装置側のフレネルレンズ
Claims (2)
- 【請求項１】 露光機体内の露光部に、露光光源をそれ
ぞれ有する上下の紫外線照射装置を設け、この上下の紫
外線照射装置の間に、露光機体外の操作部に用意してあ
る上下２段の焼枠を交互に差し替えて各々の焼枠の上下
両面を露光するようにしてある両面露光装置において、 上部の紫外線照射装置と下部の紫外線照射装置とが、前
記上下２段の焼枠の受入れを許容する間隔をおいて上下
に対向するよう一体的に結合された紫外線照射装置ユニ
ットに構成されており、 この紫外線照射装置ユニット全体が上下方向に昇降動可
能に設置されていることを特徴とする両面露光装置。 - 【請求項２】 上下２段の焼枠の各下面側に、下部の紫
外線照射装置から出射する光を平行光に変換するフレネ
ルレンズを装着しており、 上部の紫外線照射装置には、上部の紫外線照射装置から
出射する光を平行光に変換するフレネルレンズを上下方
向に平行移動可能に搭載してあることを特徴とする請求
項１記載の両面露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10170655A JPH11344811A (ja) | 1998-06-02 | 1998-06-02 | 両面露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10170655A JPH11344811A (ja) | 1998-06-02 | 1998-06-02 | 両面露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11344811A true JPH11344811A (ja) | 1999-12-14 |
Family
ID=15908919
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10170655A Pending JPH11344811A (ja) | 1998-06-02 | 1998-06-02 | 両面露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11344811A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002221799A (ja) * | 2001-01-24 | 2002-08-09 | Fuji Koken Kk | 露光装置及び露光方法 |
| JP2007142265A (ja) * | 2005-11-21 | 2007-06-07 | Fuji Koken Kk | 露光装置及び露光方法 |
| CN108508708A (zh) * | 2018-04-08 | 2018-09-07 | 河南百合特种光学研究院有限公司 | 一种uv-led曝光光源支架 |
| CN113031405A (zh) * | 2021-03-23 | 2021-06-25 | 合肥芯碁微电子装备股份有限公司 | 量产型双面激光直写光刻机及其控制方法 |
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1998
- 1998-06-02 JP JP10170655A patent/JPH11344811A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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