JPH11344724A - Active matrix type liquid crystal display device and substrate used for the same - Google Patents

Active matrix type liquid crystal display device and substrate used for the same

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JPH11344724A
JPH11344724A JP15335298A JP15335298A JPH11344724A JP H11344724 A JPH11344724 A JP H11344724A JP 15335298 A JP15335298 A JP 15335298A JP 15335298 A JP15335298 A JP 15335298A JP H11344724 A JPH11344724 A JP H11344724A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a liquid crystal display device of a high display grade which can be decreased in the number of data lines and is further lessened in the occurrence of flickering. SOLUTION: The surface of a substrate is provided with plural data lines Dia, Dib,... and plural gate lines Gja, Gjb,... in a matrix foot. The respective data lines are respectively provided with TFTs 1 on the same line and all the TFTs 1 on the substrate are provided with drain electrodes on the same side with respect to gate electrodes. The adjacent data lines Dia, Dib are electrically connected in a plurality each at both ends thereof. The respective gate lines are so disposed as to control the TFTs 1 connected to the respective data lines by the respectively different gate lines Gja, Gjb,....

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、アクティブマト
リクス型液晶表示装置およびこの液晶表示装置に用いる
マトリクス基板に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an active matrix type liquid crystal display device and a matrix substrate used for the liquid crystal display device.

【0002】[0002]

【従来の技術】周知の通り、アクティブマトリクス型液
晶表示装置は、2枚のガラス基板を対向させて固定し、
その間隙に液晶を封入した構造となっており、一方のガ
ラス基板に透明な共通電極が形成され、他方のガラス基
板には多数の透明な画素電極が行列状に形成されると共
に各画素電極に個別的に電圧を印加するための回路が形
成されている。図12は、アクティブマトリクス型液晶
表示装置の一般的な構成を示すものであり、より詳しく
は同装置の上記画素電極の形成された側の基板を見下ろ
した平面図を表している。このアクティブマトリクス型
液晶表示装置は、m行n列のドットPX(i,j)(i
=1〜m,j=1〜n)を有しており、その一部が図1
2に図示されている。図中、縦横に配列された矩形が破
線によって示されているが、これらは各々のドットを表
している。
2. Description of the Related Art As is well known, in an active matrix type liquid crystal display device, two glass substrates are fixed to face each other.
Liquid crystal is sealed in the gap, and a transparent common electrode is formed on one glass substrate, and a large number of transparent pixel electrodes are formed in a matrix on the other glass substrate, and each pixel electrode is Circuits for individually applying voltages are formed. FIG. 12 shows a general configuration of an active matrix type liquid crystal display device. More specifically, FIG. 12 shows a plan view of a substrate on the side where the pixel electrodes are formed, of the device. This active matrix type liquid crystal display device has m rows and n columns of dots PX (i, j) (i
= 1 to m, j = 1 to n), some of which are shown in FIG.
2 is shown. In the figure, rectangles arranged vertically and horizontally are indicated by broken lines, and these represent respective dots.

【0003】各ドットは、水平方向(列方向)および垂
直方向(行方向)に規則正しく配列されているが、これ
らのドットの各列に対応しn本のデータ線Dj(j=1
〜n)が形成され、さらにドットの各行に対応しm本の
ゲート線Gi(i=1〜m)が形成されている。ここ
で、各データ線Dj(j=1〜n)は、各ドットPX
(i,j)(i=1〜m,j=1〜n)に信号電圧を供
給する線路である。また、ゲート線Gi(i=1〜m)
は、信号電圧を書き込むためのゲート電圧を各ドットP
X(i,j)(i=1〜m,j=1〜n)に供給する線
路である。
Each dot is regularly arranged in the horizontal direction (column direction) and the vertical direction (row direction), and n data lines Dj (j = 1) correspond to each column of these dots.
To n) are formed, and m gate lines Gi (i = 1 to m) are formed corresponding to each row of the dots. Here, each data line Dj (j = 1 to n) corresponds to each dot PX.
This is a line for supplying a signal voltage to (i, j) (i = 1 to m, j = 1 to n). Also, the gate line Gi (i = 1 to m)
Indicates the gate voltage for writing the signal voltage for each dot P
X (i, j) (i = 1 to m, j = 1 to n).

【0004】各ドットPX(i,j)は、上述の画素電
極の他、薄膜トランジスタ(Thin Film Transistor;以
下、TFTと略記する)11を有している。このTFT
11は、ソース電極がデータ線Djに接続され、ゲート
電極がゲート線Giに接続され、ドレイン電極が画素電
極に接続されている。画素電極は上述した共通電極との
間に液晶を挟んでおり、図12における容量12は、こ
の画素電極と共通電極によって挟まれた液晶容量を表す
ものである。TFT11は、画素に対する書込みを行う
か否か、すなわち、データ線Djを介して供給される信
号電圧をこの液晶容量12に印加するか否かを切り換え
るためのスイッチング素子として機能する。
Each dot PX (i, j) has a thin film transistor (hereinafter abbreviated as TFT) 11 in addition to the above-mentioned pixel electrode. This TFT
Reference numeral 11 denotes a source electrode connected to the data line Dj, a gate electrode connected to the gate line Gi, and a drain electrode connected to the pixel electrode. Liquid crystal is interposed between the pixel electrode and the above-described common electrode, and the capacitance 12 in FIG. 12 represents a liquid crystal capacitance interposed between the pixel electrode and the common electrode. The TFT 11 functions as a switching element for switching whether or not to perform writing to the pixel, that is, whether or not to apply a signal voltage supplied via the data line Dj to the liquid crystal capacitor 12.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】ところで、上述した従
来のアクティブマトリクス型液晶表示装置は、ドット配
列の各列毎にデータ線を有しているため、1行当たりの
画素数が多い場合には、それに応じてデータドライバを
多数使用する必要が生じる。しかしながら、このデータ
ドライバは比較的高価な部品であるため、これを多数使
用したのでは装置全体が高価なものとなってしまう。例
えば列方向のドット数が1920、行方向のドット数が
480であるVGA対応の液晶表示パネルは、1920
本のデータ線と480本のゲート線を有している。24
0個の出力端子を有するデータドライバとゲートドライ
バを用い、上記従来技術によりこの液晶表示パネルを構
成すると、データドライバを列方向に沿って8個設け、
ゲートドライバを行方向に沿って2個設ける必要があ
る。このように8個ものデータドライバを使用すると、
液晶表示パネルが高価なものとなってしまうのである。
Incidentally, the above-mentioned conventional active matrix type liquid crystal display device has a data line for each column of the dot arrangement, so that when the number of pixels per row is large, Accordingly, it is necessary to use a large number of data drivers accordingly. However, since the data driver is a relatively expensive component, the use of a large number of the data driver makes the entire device expensive. For example, a VGA-compatible liquid crystal display panel in which the number of dots in the column direction is 1920 and the number of dots in the row direction is 480,
It has data lines and 480 gate lines. 24
When this liquid crystal display panel is configured by the above-described conventional technique using a data driver and a gate driver having zero output terminals, eight data drivers are provided along the column direction.
It is necessary to provide two gate drivers along the row direction. With as many as eight data drivers,
The liquid crystal display panel becomes expensive.

【0006】また、上述した従来の技術は、表示エリア
の小さい液晶表示パネルを構成することが困難であると
いう問題を有していた。すなわち、液晶表示パネルの額
縁部分であるデータ配線端子部には、上記の各データ線
に信号電圧を供給するための多数の端子が設けられてい
るが、表示エリアの小さな液晶表示パネルにおいてはこ
のデータ配線端子部を小型化する必要がある。そして、
このデータ配線端子部の小型化を行うためには、上記各
データ線に対応した端子のピッチを狭くする必要がある
が、従来技術による液晶表示パネルはデータ線の本数が
多いため、この狭ピッチ化の要求が極めて厳しいものに
なってしまう。このため、データ配線端子部の製作が難
しくなり、歩留りの低下等の問題を引き起こすのであ
る。
In addition, the above-described conventional technology has a problem that it is difficult to form a liquid crystal display panel having a small display area. In other words, a data wiring terminal portion, which is a frame portion of the liquid crystal display panel, is provided with a large number of terminals for supplying signal voltages to the above-described data lines. It is necessary to reduce the size of the data wiring terminal. And
In order to reduce the size of the data wiring terminals, it is necessary to narrow the pitch of the terminals corresponding to the data lines. However, the liquid crystal display panel according to the prior art has a large number of data lines, so The demands for conversion will be extremely severe. For this reason, it is difficult to manufacture the data wiring terminal portion, which causes a problem such as a decrease in yield.

【0007】本発明は、以上の事情に鑑みてなされたも
のであり、従来に比して少ない本数のデータ線によって
各ドットを駆動し得るアクティブマトリクス型液晶表示
装置およびこれに用いる基板を提供することを目的とし
ている。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and provides an active matrix type liquid crystal display device in which each dot can be driven by a smaller number of data lines as compared with the related art, and a substrate used therefor. It is intended to be.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明のアクティブマトリクス型液晶表示装置用
基板は、基板上にマトリクス状に複数のデータ線と複数
のゲート線とを設け、各データ線に対して同じ側にTF
TおよびこのTFTに接続する画素電極をそれぞれ設け
るとともに、TFTをなすドレイン電極を上記ゲート線
から延びTFTをなすゲート電極に対して同じ側に設
け、上記データ線を所定本ずつ電気的に接続し、上記所
定本のデータ線の各データ線に接続するTFTをそれぞ
れ異なるゲート線により制御するよう上記複数のゲート
線を配設したことを特徴とするものである。
In order to achieve the above object, an active matrix type liquid crystal display substrate according to the present invention is provided with a plurality of data lines and a plurality of gate lines in a matrix on a substrate. TF on the same side for each data line
T and a pixel electrode connected to the TFT are provided, respectively, a drain electrode forming the TFT is provided on the same side as the TFT extending from the gate line, and a predetermined number of the data lines are electrically connected. The plurality of gate lines are provided so that TFTs connected to each of the predetermined data lines are controlled by different gate lines.

【0009】従来より少ない本数のデータ線によって各
ドットを駆動し得るアクティブマトリクス型液晶表示装
置用基板(以下、単にアクティブマトリクス基板とい
う)には数種の構成のものが考えられるが、本発明は、
その中でもフリッカの発生を低減した表示品位の高い液
晶表示装置を提供するものである。この点について、以
下説明する。図13は、データ線数を従来の半分とした
アクティブマトリクス型液晶表示装置用基板の一例であ
る。これは、例えば1本のデータ線Dj+1を間に挟ん
で配置された2列のドットPX(i,j)、PX(i,
j+1)(ともにi=1〜m)でそのデータ線Dj+1
を共有するものであり、この構成によりデータ線数が半
減し、データドライバの数を低減できるというものであ
る。また、各行においてデータ線Dj+1を挟む2つの
ドット、例えばドットPX(i,j)、PX(i,j+
1)は別々のゲート線GAi、GBiによって駆動され
る。この構成とした結果、この2つのドットPX(i,
j)、PX(i,j+1)のTFT21a、21bはこ
れら2ドットの中心点を中心として点対称に配置され、
これら2つのTFT21a、21bではゲートに対して
ドレインとソースの位置が(図における左右方向で)逆
になっている。
A substrate for an active matrix type liquid crystal display device (hereinafter, simply referred to as an active matrix substrate) capable of driving each dot by a smaller number of data lines than before can be of several types. ,
Among them, an object of the present invention is to provide a liquid crystal display device with high display quality in which generation of flicker is reduced. This will be described below. FIG. 13 shows an example of a substrate for an active matrix type liquid crystal display device in which the number of data lines is reduced to half that of a conventional substrate. This is because, for example, two rows of dots PX (i, j) and PX (i, j) arranged with one data line Dj + 1 interposed therebetween.
j + 1) (both i = 1 to m) and the data line Dj + 1
With this configuration, the number of data lines can be reduced by half, and the number of data drivers can be reduced. In each row, two dots sandwiching the data line Dj + 1, for example, dots PX (i, j) and PX (i, j +
1) is driven by separate gate lines GAi, GBi. As a result of this configuration, the two dots PX (i,
j) and PX (i, j + 1) TFTs 21a and 21b are arranged point-symmetrically with respect to the center point of these two dots.
In these two TFTs 21a and 21b, the positions of the drain and the source are reversed (in the horizontal direction in the drawing) with respect to the gate.

【0010】図14(A)、(B)は、上記2つのドッ
トPX(i,j)、PX(i,j+1)のTFT21
a、21bの部分を示す図である。説明の都合上、デー
タ線を挟んで左側のドットPX(i,j)をドットa、
右側のドットPX(i,j+1)をドットbと呼ぶこと
にする。一般に、TFTのゲート電極とドレイン電極の
重なり部分はゲート−ドレイン間寄生容量Cgdとなる
(実際はアイランドとゲート電極の重なり部分もCgdに
影響する)が、この重なり部分の面積は製造過程におけ
るプロセス精度(具体的には露光機のアライメント精
度)によってばらつき、ゲート−ドレイン間寄生容量C
gdがばらつくことになる。
FIGS. 14A and 14B show TFTs 21 of the two dots PX (i, j) and PX (i, j + 1).
It is a figure which shows the part of 21a and 21b. For convenience of explanation, the dot PX (i, j) on the left side of the data line is represented by dot a,
The right dot PX (i, j + 1) will be referred to as dot b. Generally, the overlapping portion between the gate electrode and the drain electrode of the TFT becomes the gate-drain parasitic capacitance Cgd (actually, the overlapping portion between the island and the gate electrode also affects Cgd), and the area of this overlapping portion depends on the process accuracy in the manufacturing process. (Specifically, the alignment accuracy of the exposure machine), and the gate-drain parasitic capacitance C
gd will vary.

【0011】ドットa、ドットbの各TFT21a、2
1bが互いに点対称の位置にある場合、ゲート層に対す
るドレイン層の位置が設計通りであれば、図14(A)
に示すように、ドットa、ドットbのTFT21a、2
1b各々のゲート電極22a、22bとドレイン電極2
3a、23bとの重なり部分の寸法(アイランド中央か
らドレイン電極端部までの寸法をも含む)La、Lbは
等しくなり、ドットaのゲート−ドレイン間寄生容量を
Cgda 、ドットbのゲート−ドレイン間寄生容量をCgd
b とすると、Cgda =Cgdb となる。ところが、図14
(B)に示すように、例えばゲート層に対してドレイン
層が左方向にずれると、ドットaのゲート電極22aと
ドレイン電極23aの重なり部分の寸法L'aに対してド
ットbのゲート電極22bとドレイン電極23bの重な
り部分の寸法L'bは大きくなる。その結果、ドットaと
ドットbにおけるゲート−ドレイン間寄生容量の関係
は、C'gda<C'gdbとなる(正確には、寄生容量にアイ
ランドとゲート電極の重なり部分も含まれる)。すなわ
ち、TFTが基板内で点対称の位置にある場合、露光機
のアライメント精度によってゲート−ドレイン間寄生容
量が同一基板内でばらつくことになる。
Each of the TFTs 21a and 2a for the dot a and the dot b
If the positions of the drain layer with respect to the gate layer are as designed in the case where 1b are point-symmetric with respect to each other, FIG.
As shown in FIG.
1b each gate electrode 22a, 22b and drain electrode 2
The dimensions La and Lb (including the dimension from the center of the island to the end of the drain electrode) of the overlapping portion with 3a and 23b are equal, the gate-drain parasitic capacitance of dot a is Cgda, and the gate-drain of dot b is Parasitic capacitance is Cgd
Assuming b, Cgda = Cgdb. However, FIG.
As shown in (B), for example, when the drain layer is shifted to the left with respect to the gate layer, the gate electrode 22b of dot b is larger than the dimension L'a of the overlapping portion of the gate electrode 22a of dot a and the drain electrode 23a. The dimension L'b of the overlapping portion between the gate electrode and the drain electrode 23b increases. As a result, the relationship between the gate-drain parasitic capacitance of the dot a and the dot b is C'gda <C'gdb (accurately, the parasitic capacitance includes the overlapping portion of the island and the gate electrode). That is, when the TFT is located at a point-symmetric position in the substrate, the gate-drain parasitic capacitance varies within the same substrate due to the alignment accuracy of the exposure apparatus.

【0012】ところで、TFTにゲート電圧Vgを印加
した時のフィードスルー電圧ΔVpは、以下の式で表さ
れる。 ΔVp={(Cgd)/(Clc+Cs+Cgd)}・
Vg(ただし、Clc:液晶容量、Cs:蓄積容量) したがって、ゲート−ドレイン間寄生容量Cgdが異な
ると、フィードスルー電圧ΔVpが変化する。また、フ
ィードスルー電圧とオフセット電圧との関係からフィー
ドスルー電圧が変化するとオフセット電圧も変化するた
め、ゲート−ドレイン間寄生容量が異なるとオフセット
電圧が異なることになる。したがって、上記構成のTF
T基板の場合、オフセット電圧が同一基板内でドットに
よって異なることになり、全てのドットに対してオフセ
ットの調整ができなくなる。そのため、フリッカが生じ
るのである。
The feed-through voltage ΔVp when the gate voltage Vg is applied to the TFT is expressed by the following equation. ΔVp = {(Cgd) / (Clc + Cs + Cgd)}
Vg (however, Clc: liquid crystal capacitance, Cs: storage capacitance) Therefore, if the gate-drain parasitic capacitance Cgd differs, the feedthrough voltage ΔVp changes. In addition, if the feedthrough voltage changes due to the relationship between the feedthrough voltage and the offset voltage, the offset voltage also changes. Therefore, if the gate-drain parasitic capacitance changes, the offset voltage changes. Therefore, the TF having the above configuration
In the case of the T substrate, the offset voltage differs for each dot within the same substrate, and the offset cannot be adjusted for all the dots. Therefore, flicker occurs.

【0013】本発明のアクティブマトリクス基板は、デ
ータ線を同一行の複数のドットで共有する考え方を継承
しつつ、プロセス精度に起因するフリッカの発生を抑制
しようとするものである。したがって、これを実現する
ために、上述したように、各データ線に対して同じ側に
TFTを設けるとともに、各TFTのドレイン電極をゲ
ート電極に対して同じ側に設けた。つまり、TFTを点
対称の配置ではなく、1つのTFTにおけるソース電極
とドレイン電極の位置関係が基板上の全てのTFTにわ
たって同じようになるようにした。この構成としたこと
により、ゲート層に対するドレイン層のアライメントが
ずれたとしても、基板上の全てのTFTで同じ方向にず
れるため、ゲート−ドレイン間寄生容量は各TFT間で
等しくなり、オフセット電圧が基板内で均一になる。こ
れにより、フリッカの発生を抑制することができる。
The active matrix substrate of the present invention is intended to suppress the occurrence of flicker due to process accuracy while inheriting the idea of sharing a data line with a plurality of dots in the same row. Therefore, in order to realize this, as described above, the TFT is provided on the same side for each data line, and the drain electrode of each TFT is provided on the same side with respect to the gate electrode. That is, the TFTs are not point-symmetrically arranged, but the positional relationship between the source electrode and the drain electrode in one TFT is the same for all TFTs on the substrate. With this configuration, even if the alignment of the drain layer with respect to the gate layer is deviated, all TFTs on the substrate are deviated in the same direction, so that the gate-drain parasitic capacitance is equal between the TFTs, and the offset voltage is reduced. Be uniform within the substrate. Thereby, generation of flicker can be suppressed.

【0014】また、データ線が各列毎に設けられていて
も、複数のデータ線を所定本ずつ電気的に接続すること
によってデータドライバとの接続部分でのデータ線の本
数を減らすことができるため、データドライバの数を従
来より低減することができる。したがって、上記所定本
のデータ線に同一のデータ信号が供給されることになる
が、電気的に接続されたデータ線の各データ線に接続す
るTFTをそれぞれ異なるゲート線で制御することによ
って、支障なく駆動を行うことができる。
Further, even if a data line is provided for each column, the number of data lines at a connection portion with a data driver can be reduced by electrically connecting a plurality of data lines at predetermined intervals. Therefore, the number of data drivers can be reduced as compared with the conventional case. Therefore, the same data signal is supplied to the predetermined number of data lines. However, it is difficult to control the TFTs connected to each data line of the electrically connected data lines by different gate lines. Drive can be performed without the need.

【0015】また、上記電気的に接続されたデータ線
を、これらデータ線の少なくとも両端側で相互に接続し
た構成とすることが望ましい。所定本のデータ線を電気
的に接続する場合、機能的にはデータドライバへ接続す
る側の1箇所のみを相互に接続すればよいのであるが、
少なくとも両端側で相互に接続した構成とした場合、い
ずれかのデータ線の1箇所が断線したとしてもデータ信
号の供給が断たれることがなく、線欠陥となるのを防止
することができる。すなわち、この構造によれば、断線
欠陥に対して冗長構造とすることができ、歩留まりの向
上を図ることができる。
Preferably, the electrically connected data lines are connected to each other at least at both ends of the data lines. When electrically connecting a predetermined number of data lines, functionally, only one point on the side connected to the data driver needs to be connected to each other.
In a case where the data lines are connected to each other at least at both ends, even if one of the data lines is disconnected, the supply of the data signal is not interrupted, so that a line defect can be prevented. That is, according to this structure, a redundant structure can be provided for disconnection defects, and the yield can be improved.

【0016】また、上記複数のデータ線を、奇数本おき
に所定本ずつ電気的に接続した構成とすることが望まし
い。表示品位の向上、特にクロストーク低減のため、一
般に偶数番目のデータ線と奇数番目のデータ線には極性
の異なるデータ信号が供給される、いわゆるデータ線反
転駆動が採用される。ところが、本発明において隣接す
るデータ線を電気的に接続した場合には、電気的に接続
されたデータ線に対応するドットに関しては同一の極性
になる場合があり、寄生容量によるカップリングにより
画素電位が影響を受けるため、データ線反転駆動が有効
に機能しないことになる。これに対して、データ線を奇
数本おきに電気的に接続した場合、接続したデータ線の
組毎に逆極性の信号を供給すれば隣接する2本のデータ
線では必ず極性が逆になるため、任意のドットに対して
データ線反転駆動が有効に機能することになる。その結
果、クロストークが低減され、表示品位を高めることが
できる。
It is preferable that the plurality of data lines are electrically connected to each other by a predetermined number every odd number. In order to improve the display quality, particularly to reduce the crosstalk, a so-called data line inversion drive in which data signals having different polarities are supplied to even-numbered data lines and odd-numbered data lines is generally employed. However, in the present invention, when adjacent data lines are electrically connected, the dots corresponding to the electrically connected data lines may have the same polarity, and the pixel potential may be reduced due to the coupling due to the parasitic capacitance. , The data line inversion drive does not function effectively. On the other hand, when the data lines are electrically connected every other odd number, if a signal of opposite polarity is supplied to each pair of connected data lines, the polarity is always reversed between two adjacent data lines. Thus, the data line inversion drive functions effectively for an arbitrary dot. As a result, crosstalk is reduced, and display quality can be improved.

【0017】また、前記各画素電極に、この画素電極を
横断する1本以上前記所定本以下のゲート線を積層配置
した構成とするとよい。その場合、画素電極と1本以上
前記所定本以下のゲート線とが協働して蓄積容量を形成
することになる。すなわち、本発明においては、電気的
に接続されたデータ線の各データ線に接続するTFTを
それぞれ異なるゲート線で制御する構成のため、一つの
ドットに着目するとドットの中を他のTFTを制御する
ためのゲート線が横切ることになる。ところが、ゲート
線が横切る領域は蓄積容量として利用することができる
ため、ゲート線が横切る構造となっても開口率が低下す
ることはない。
Further, it is preferable that one or more and a predetermined number or less of gate lines crossing the pixel electrode are stacked on each of the pixel electrodes. In that case, the pixel electrode and one or more and the predetermined or less gate lines cooperate to form a storage capacitor. That is, in the present invention, since the TFTs connected to each data line of the electrically connected data lines are controlled by different gate lines, when focusing on one dot, other TFTs are controlled in the dot. The gate line for the operation will cross. However, since the region crossed by the gate line can be used as a storage capacitor, the aperture ratio does not decrease even if the structure crosses the gate line.

【0018】そして、上記のアクティブマトリクス基板
と共通電極を設けた基板との間に液晶を挟持することに
よって本発明のアクティブマトリクス型液晶表示装置を
構成することができる。本発明のアクティブマトリクス
型液晶表示装置によれば、従来の装置に比べてデータド
ライバの数を削減することでコストの低減が図れ、フリ
ッカの発生を低減した表示品位の高い液晶表示装置を実
現することができる。
By interposing a liquid crystal between the active matrix substrate and the substrate provided with the common electrode, the active matrix type liquid crystal display device of the present invention can be constituted. ADVANTAGE OF THE INVENTION According to the active matrix type liquid crystal display device of this invention, cost reduction can be achieved by reducing the number of data drivers compared with the conventional device, and a high display quality liquid crystal display device with reduced flicker is realized. be able to.

【0019】[0019]

【発明の実施の形態】[第1の実施の形態]以下、本発
明の第1の実施の形態を図1および図2を参照して説明
する。図1は本実施の形態の液晶表示装置におけるアク
ティブマトリクス基板の等価回路を示す図であり、図2
は実際の設計レイアウト図である。図1および図2に示
すように、基板上にマトリクス状に複数のデータ線Di
a、Dib、…と複数のゲート線Gja、Gjb、…と
が設けられ、各データ線Dia、Dib、…に対して同
じ側(図において右側)にTFT1が設けられている。
したがって、各TFT1は平行移動の位置関係にあり、
基板内のいずれのTFT1においてもデータ線Dia、
Dib、…に接続されるソース電極2が左側、画素電極
3に接続されるドレイン電極4が右側に位置するように
なっている。そして、画素電極3とこの画素電極3と液
晶を挟んで対向する共通電極とで液晶容量Clcを構成
している。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS [First Embodiment] A first embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS. FIG. 1 is a diagram showing an equivalent circuit of an active matrix substrate in the liquid crystal display device of the present embodiment.
Is an actual design layout diagram. As shown in FIGS. 1 and 2, a plurality of data lines Di are arranged in a matrix on a substrate.
, and a plurality of gate lines Gja, Gjb,..., and a TFT 1 is provided on the same side (the right side in the figure) for each data line Dia, Dib,.
Therefore, each TFT 1 is in a parallel positional relationship,
In any of the TFTs 1 in the substrate, the data lines Dia,
Are arranged on the left side, and the drain electrode 4 connected to the pixel electrode 3 is located on the right side. The pixel electrode 3 and a common electrode opposed to the pixel electrode 3 with the liquid crystal interposed therebetween constitute a liquid crystal capacitor Clc.

【0020】本実施の形態では、図1に示すように、隣
接するデータ線Dia、Dib、Di+1a、Di+1
b、…が2本ずつ両端で接続されており、データドライ
バに接続される一端側が1本のデータ線Di、Di+
1、…として延びている。そして、互いに接続された2
本1組のデータ線Diに対応する各TFT1のゲート電
極5はそれぞれ異なるゲート線Gja、Gjb、…に接
続されている。また同様に、隣接する2本1組のデータ
線Di+1に対応する各TFT1のゲート電極は、繰り
返し異なるゲート線Gja、Gjb、…に接続されてい
る。各ゲート線は等間隔に配置されており、図2に示す
ように、任意の1つのドット、例えばデータ線Dia、
Dib、ゲート線Gja、Gj+1aに囲まれたドット
の画素電極3の中央を隣接するドットのTFT1に接続
されたゲート線Gjbが横切ることになるが、この部分
は画素電極3とゲート線Gjbとが絶縁膜を介して積層
された構造をしており、このドットの蓄積容量Csを構
成する。
In this embodiment, as shown in FIG. 1, adjacent data lines Dia, Dib, Di + 1a, Di + 1
b are connected at both ends at two ends, and one end connected to the data driver is one data line Di, Di +
It extends as 1, ... And two connected to each other
The gate electrode 5 of each TFT 1 corresponding to the set of data lines Di is connected to different gate lines Gja, Gjb,. Similarly, the gate electrodes of the respective TFTs 1 corresponding to the pair of adjacent data lines Di + 1 are repeatedly connected to different gate lines Gja, Gjb,. Each gate line is arranged at equal intervals, and as shown in FIG. 2, any one dot, for example, a data line Dia,
Dib, the gate line Gjb connected to the TFT 1 of the adjacent dot crosses the center of the pixel electrode 3 of the dot surrounded by the gate lines Gja and Gj + 1a. In this portion, the pixel electrode 3 and the gate line Gjb It has a structure in which the dots are stacked via an insulating film, and constitutes the storage capacitance Cs of the dot.

【0021】上記構成の液晶表示装置を駆動する際には
2フィールドで1フレームのインターレース駆動が採用
される。すなわち、隣接する2本のデータ線DiaとD
ibとは電気的に接続されているため、これら2本のデ
ータ線Dia、Dibに同一の画像信号が供給される。
そして、第1フィールドにおいて添字aのゲート線Gj
a、Gj+1a、…に走査信号が供給されてこれらゲー
ト線がアクティブになり、第2フィールドにおいては添
字bのゲート線Gjb、Gj+1b、…に走査信号が供
給されてこれらゲート線がアクティブになる。したがっ
て、第1フィールドでは添字aのゲート線Gja、Gj
+1a、…に接続されたドットに対して各データ線から
画像信号が供給され、第2フィールドにおいては添字b
のゲート線Gjb、Gj+1b、…に接続されたドット
に対して各データ線から画像信号が供給される。
When driving the liquid crystal display device having the above configuration, interlaced driving of one frame in two fields is employed. That is, two adjacent data lines Dia and D
Since the two data lines Dia and Dib are electrically connected to each other, the same image signal is supplied to these two data lines Dia and Dib.
Then, in the first field, the gate line Gj with the subscript a
a, Gj + 1a,... are supplied with a scanning signal to activate these gate lines. In the second field, a scanning signal is supplied to gate lines Gjb, Gj + 1b,. Therefore, in the first field, the gate lines Gja, Gj
+ 1a,..., And an image signal is supplied from each data line to the dots connected thereto.
The image signals are supplied from the respective data lines to the dots connected to the gate lines Gjb, Gj + 1b,.

【0022】本実施の形態においては、従来一般のアク
ティブマトリクス基板の構成に比べてゲート線の本数は
2倍になるものの、データドライバへの接続部分でのデ
ータ線の本数は半分となり、高価なデータドライバの数
を減らすことができるため、装置全体としてコストの低
減を図ることができる。しかも、アクティブマトリクス
基板上の各TFT1を点対称の配置ではなく、平行移動
の配置としたことにより、ゲート層に対するドレイン層
のアライメントがずれたとしても、基板内の全てのTF
T1で同じ方向にずれるようになる。その結果、ゲート
−ドレイン間寄生容量は各TFT間で等しくなり、オフ
セット電圧が基板内で均一になるため、表示品位を落と
すフリッカの発生を抑制することができる。
In this embodiment, although the number of gate lines is doubled as compared with the structure of a conventional general active matrix substrate, the number of data lines at a portion connected to a data driver is reduced by half, resulting in high cost. Since the number of data drivers can be reduced, the cost of the entire device can be reduced. In addition, since the TFTs 1 on the active matrix substrate are arranged in parallel rather than in point symmetry, even if the alignment of the drain layer with respect to the gate layer is shifted, all TFTs in the substrate are displaced.
It shifts in the same direction at T1. As a result, the gate-drain parasitic capacitance becomes equal between the TFTs, and the offset voltage becomes uniform in the substrate, so that the occurrence of flicker that degrades the display quality can be suppressed.

【0023】また、データ線Dia、Dib相互の接続
に関しては、データドライバに接続するデータ線の本数
を減らす目的から、機能的にはデータドライバへ接続す
る側の1箇所のみを接続すればよい。しかしながら、本
実施の形態の場合、隣接する2本のデータ線Dia、D
ibをこれらデータ線の両端で相互に接続した。この構
成により、2本のデータ線Dia、Dibのうちのいず
れか一方のデータ線の1箇所が断線したとしても正常な
データ線を通じて断線したデータ線側にも画像信号が供
給される。すなわち、データ線の1箇所が断線しても画
像信号の供給が断たれることがなく、そのデータ線が線
欠陥となるのを防止することができる。すなわち、この
構造によれば、断線欠陥に対して冗長構造とすることが
でき、歩留まりの向上を図ることができる。
As for the connection between the data lines Dia and Dib, only one point on the side connected to the data driver may be functionally connected for the purpose of reducing the number of data lines connected to the data driver. However, in the case of the present embodiment, two adjacent data lines Dia, D
ib were interconnected at both ends of these data lines. With this configuration, even if one of the two data lines Dia and Dib is disconnected, the image signal is supplied to the disconnected data line through the normal data line. That is, even if one of the data lines is disconnected, the supply of the image signal is not interrupted, and the data line can be prevented from becoming a line defect. That is, according to this structure, a redundant structure can be provided for disconnection defects, and the yield can be improved.

【0024】さらに、本実施の形態の構成では、1つの
ドットの中央を隣接するドットのTFT1を制御するた
めのゲート線Gja、Gjb、…が横切ることになる
が、ゲート線が横切る領域は蓄積容量Csとして利用す
ることができるため、ゲート線が横切る構造となっても
その構造による開口率の低下はない。
Further, in the configuration of this embodiment, the gate lines Gja, Gjb,... For controlling the TFT 1 of the adjacent dot cross the center of one dot, but the region where the gate line crosses is the accumulation area. Since it can be used as the capacitor Cs, the structure does not lower the aperture ratio even when the structure crosses the gate line.

【0025】[第2の実施の形態]以下、本発明の第2
の実施の形態を図3および図4を参照して説明する。図
3は本実施の形態の液晶表示装置におけるアクティブマ
トリクス基板の等価回路を示す図であり、図4は設計レ
イアウト図である。なお、図3においては、図示の都合
上、蓄積容量Csの記載は省略した。図3および図4に
示すように、本実施の形態のアクティブマトリクス基板
が第1の実施の形態と異なるのは、データ線を3本ずつ
電気的に接続した点である。
[Second Embodiment] Hereinafter, a second embodiment of the present invention will be described.
Will be described with reference to FIGS. 3 and 4. FIG. FIG. 3 is a diagram showing an equivalent circuit of the active matrix substrate in the liquid crystal display device of the present embodiment, and FIG. 4 is a design layout diagram. In FIG. 3, the illustration of the storage capacitance Cs is omitted for convenience of illustration. As shown in FIGS. 3 and 4, the active matrix substrate of the present embodiment is different from the first embodiment in that three data lines are electrically connected.

【0026】本実施の形態においても、基板上の各デー
タ線Dia、Dib、Dic、Di+1a、Di+1
b、Di+1c、…に対して同じ側(図において右側)
にTFT1が設けられており、基板内のいずれのTFT
1においてもソース電極2とドレイン電極4の位置関係
は同じになっている。そして、隣接するデータ線Di
a、Dib、Dic、Di+1a、Di+1b、Di+
1c、…が3本ずつ両端で接続されている。また、相互
に接続された3本のデータ線Dia、Dib、Dicに
対応する各TFT1のゲート電極5はそれぞれ異なるゲ
ート線Gja、Gjb、Gjc、…に接続されている。
図4に示すように、1つのドットの画素電極を、隣のド
ットのTFTに接続されたゲート線、さらに隣のドット
のTFTに接続されたゲート線の2本のゲート線が横切
っており、この部分で蓄積容量Csを構成している。
Also in this embodiment, each data line Dia, Dib, Dic, Di + 1a, Di + 1 on the substrate is provided.
b, Di + 1c,... on the same side (right side in the figure)
TFT1 is provided on any of the TFTs in the substrate.
1, the positional relationship between the source electrode 2 and the drain electrode 4 is the same. Then, the adjacent data line Di
a, Dib, Dic, Di + 1a, Di + 1b, Di +
1c,... Are connected at both ends by three. Further, the gate electrodes 5 of the respective TFTs 1 corresponding to the three data lines Dia, Dib, Dic connected to each other are connected to different gate lines Gja, Gjb, Gjc,.
As shown in FIG. 4, a pixel electrode of one dot is traversed by two gate lines, that is, a gate line connected to the TFT of the next dot and a gate line connected to the TFT of the next dot. This portion constitutes the storage capacitance Cs.

【0027】本実施の形態の場合も駆動はインターレー
スで行われるが、第1の実施の形態と異なり、3フィー
ルドで1フレームが構成される。すなわち、第1フィー
ルドにおいて添字aのゲート線Gja、Gj+1a、…
がアクティブとなりそのゲート線に対応するドットに対
して各データ線から画像信号が供給され、第2フィール
ドにおいては同様に添字bのゲート線Gjb、Gj+1
b、…に対応するドットに画像信号が供給され、第3フ
ィールドにおいては添字cのゲート線Gjc、Gj+1
c、…に対応するドットに画像信号が供給される。
In this embodiment, the driving is performed by interlacing, but unlike the first embodiment, one frame is constituted by three fields. That is, in the first field, the gate lines Gja, Gj + 1a,.
Becomes active, and an image signal is supplied from each data line to a dot corresponding to the gate line. In the second field, similarly, the gate lines Gjb, Gj + 1 of the subscript b
The image signal is supplied to the dots corresponding to b,..., and in the third field, the gate lines Gjc, Gj + 1 of the suffix c
An image signal is supplied to dots corresponding to c,.

【0028】本実施の形態においては、従来一般のアク
ティブマトリクス基板の構成に比べてデータドライバと
の接続部分のデータ線Di、Di+1、…の本数は1/
3となり、高価なデータドライバの数を減らすことがで
きる。そして、第1の実施の形態と同様、製造プロセス
中のアライメント精度に起因するフリッカの発生を抑制
することができる。また、本構造においても、断線欠陥
に対して冗長構造となっており、歩留まりの向上を図る
ことができる。さらに、1つのドットの中央を2本のゲ
ート線が横切る領域は蓄積容量Csとなり、開口率が低
下することはない。
In this embodiment, the number of data lines Di, Di + 1,... At the connection portion with the data driver is 1 / compared to the structure of a conventional general active matrix substrate.
3 and the number of expensive data drivers can be reduced. Then, similarly to the first embodiment, it is possible to suppress the occurrence of flicker due to the alignment accuracy during the manufacturing process. In addition, this structure also has a redundant structure against disconnection defects, and can improve the yield. Further, a region where two gate lines cross the center of one dot becomes the storage capacitor Cs, and the aperture ratio does not decrease.

【0029】[第3の実施の形態]以下、本発明の第3
の実施の形態を図5を参照して説明する。図5は本実施
の形態の液晶表示装置におけるアクティブマトリクス基
板の等価回路を示す図である。なお、図5においては、
図示の都合上、蓄積容量Csの記載は省略した。図5に
示すように、本実施の形態のアクティブマトリクス基板
においては、基板上の各データ線Dia、Di+1a、
Dib、Di+1b、…に対して同じ側(図において右
側)にTFT1が設けられており、基板内のいずれのT
FT1においてもソース電極とドレイン電極の位置関係
は同じになっている。そして、1本おきに2本ずつのデ
ータ線DiaとDib、Di+1aとDi+1b、…が
両端で接続されている。
[Third Embodiment] Hereinafter, a third embodiment of the present invention will be described.
The embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 5 is a diagram showing an equivalent circuit of the active matrix substrate in the liquid crystal display device of the present embodiment. In FIG. 5,
For convenience of illustration, the description of the storage capacity Cs is omitted. As shown in FIG. 5, in the active matrix substrate of the present embodiment, each data line Dia, Di + 1a,
The TFT 1 is provided on the same side (right side in the figure) with respect to Dib, Di + 1b,.
In FT1, the positional relationship between the source electrode and the drain electrode is the same. Every other data line Dia and Dib, Di + 1a and Di + 1b,... Are connected at both ends.

【0030】例えば第1の実施の形態の場合、隣接する
2本のデータ線が接続されているため、駆動の際に2本
1組のデータ線に対してデータ線反転駆動を採用した場
合、組の異なる隣接データ線間では確かに極性は異なる
ものの、相互に接続されたデータ線にそれぞれ対応する
ドット間ではデータ線反転駆動を行っているにもかかわ
らず、同一の極性になってしまう。これに対して、本実
施の形態の場合、データ線が1本おきに接続されている
ため、2本1組のデータ線Di、Di+1、…毎に反転
させた駆動を行えば、基板上の全ての隣接するドット間
で極性が反転することになる。これにより、データ線反
転が有効に機能することになり、第1の実施の形態に比
べてクロストーク低減効果が向上する。
For example, in the case of the first embodiment, since two adjacent data lines are connected, when data line inversion driving is adopted for a pair of data lines at the time of driving, Although the polarity is certainly different between the adjacent data lines of different sets, the same polarity is obtained between the dots corresponding to the mutually connected data lines even though the data line inversion drive is performed. On the other hand, in the case of the present embodiment, every other data line is connected. Therefore, if driving is performed for each pair of data lines Di, Di + 1,. The polarity is inverted between all adjacent dots. As a result, the data line inversion effectively functions, and the crosstalk reduction effect is improved as compared with the first embodiment.

【0031】[第4の実施の形態]以下、本発明の第4
の実施の形態を図6および図7を参照して説明する。図
6は本実施の形態の液晶表示装置におけるアクティブマ
トリクス基板の等価回路を示す図であり、図7は設計レ
イアウト図である。なお、図6においては、図示の都合
上、蓄積容量Csの記載は省略した。図6および図7に
示すように、本実施の形態のアクティブマトリクス基板
においては、基板上の各データ線Dia、Dib、Di
+1a、Di+1b、…に対して同じ側(図において右
側)にTFT1が設けられ、隣接する2本のデータ線D
iaとDib、Di+1aとDi+1b、…が相互に接
続されている。そして、互いに接続された2本1組のデ
ータ線Diに対応する各TFT1のゲート電極5はそれ
ぞれ異なるゲート線Gja、Gjb、…に接続されてい
る。ただし、第1の実施の形態のようにゲート線Gj
a、Gjb、…の配置が等間隔ではなく、添字bのゲー
ト線、例えばゲート線Gjbは次段のゲート線Gj+1
aに近接して配置されている。その結果、例えば図7に
おける左上のドットAとその右隣のドットBに着目する
と、これらドットのTFT1の位置は、左側のドットA
では図においてドットAの上側、右側のドットBでは図
においてドットBの下側というように線対称の位置にあ
る。
[Fourth Embodiment] Hereinafter, a fourth embodiment of the present invention will be described.
Will be described with reference to FIGS. 6 and 7. FIG. FIG. 6 is a diagram showing an equivalent circuit of the active matrix substrate in the liquid crystal display device of the present embodiment, and FIG. 7 is a design layout diagram. In FIG. 6, for convenience of illustration, the description of the storage capacity Cs is omitted. As shown in FIGS. 6 and 7, in the active matrix substrate of the present embodiment, each data line Dia, Dib, Di on the substrate is provided.
+ 1a, Di + 1b,..., A TFT 1 is provided on the same side (right side in the figure), and two adjacent data lines D
ia and Dib, Di + 1a and Di + 1b,... are mutually connected. The gate electrodes 5 of the respective TFTs 1 corresponding to the pair of data lines Di connected to each other are connected to different gate lines Gja, Gjb,. However, as in the first embodiment, the gate line Gj
are not arranged at equal intervals, and the gate line with the subscript b, for example, the gate line Gjb is the gate line Gj + 1 of the next stage.
a. As a result, for example, when attention is paid to the upper left dot A and the right adjacent dot B in FIG.
In the figure, the dot B is on a line symmetrical position such as above dot A in the figure and below dot B in the figure for dot B on the right.

【0032】すなわち、本実施の形態の場合、各ドット
のTFT1が第1ないし第3の実施の形態のように平行
移動の位置関係にあるのではなく、ゲート線に沿って隣
接するドットで互い違いに線対称の位置にあることにな
る。ところが、本実施の形態の場合でも、1つのTFT
1においてゲート電極5に対するソース電極2とドレイ
ン電極4の位置関係は基板上の全てのTFT1にわたっ
て同一である。この構成により、ゲート層に対するドレ
イン層のアライメントがずれたとしても、基板上の全て
のTFTで同じ方向にずれるため、ゲート−ドレイン間
寄生容量は各TFT1間で等しくなり、オフセット電圧
が基板内で均一になる。これにより、第1ないし第3の
実施の形態の場合と同様にフリッカの発生を抑制するこ
とができる。
That is, in the case of the present embodiment, the TFTs 1 of each dot are not in the positional relationship of parallel movement as in the first to third embodiments, but are alternately arranged by the adjacent dots along the gate line. In a line-symmetric position. However, even in the case of this embodiment, one TFT
In 1, the positional relationship between the source electrode 2 and the drain electrode 4 with respect to the gate electrode 5 is the same for all the TFTs 1 on the substrate. With this configuration, even if the alignment of the drain layer with respect to the gate layer is shifted, all the TFTs on the substrate are shifted in the same direction, so that the gate-drain parasitic capacitance becomes equal between the TFTs 1 and the offset voltage is reduced within the substrate. Become uniform. As a result, the occurrence of flicker can be suppressed as in the case of the first to third embodiments.

【0033】なお、第1ないし第3の実施の形態では、
ゲート線に沿って隣接するドットがドットの半分ずれた
配置となり、いわゆるデルタ型配列となる。これに対し
て、本実施の形態ではストライプ型配列とすることがで
きる。また、本実施の形態の場合、隣接するTFTを制
御するゲート線がドットの中央を横切る構成とはなら
ず、蓄積容量Csは画素電極とこの画素電極の端部で重
なる次段もしくは前段のゲート線で構成されることにな
る。
In the first to third embodiments,
The dots adjacent to each other along the gate line are arranged so as to be shifted by half of the dots, so that a so-called delta arrangement is obtained. On the other hand, in the present embodiment, a stripe type arrangement can be used. Further, in the case of the present embodiment, the gate line for controlling the adjacent TFT does not cross the center of the dot, and the storage capacitor Cs is connected to the pixel electrode at the end of the pixel electrode of the next or previous stage which overlaps the edge of the pixel electrode. It will be composed of lines.

【0034】[第5の実施の形態]上記第1ないし第4
の実施の形態ではアクティブマトリクス基板について説
明したが、本実施の形態ではこれらアクティブマトリク
ス基板を含む液晶表示装置全体の構成について説明す
る。図8(A)および(B)は本実施の形態のアクティ
ブマトリクス型液晶表示装置の構成を示すものであり、
図8(A)は同装置の平面図、図8(B)は図8(A)
のI−I線視断面図である。これらの各図において、1
0はアクティブマトリクス基板であり、画素電極、TF
T、蓄積容量、データ線およびゲート線からなるTFT
マトリクス部13が形成されている。なお、このTFT
マトリクス部13については、既に第1ないし第4の実
施の形態として説明したものと同様の構成のものを採用
すればよい。したがって、ここでの説明は省略する。ま
た、20は対向基板であり、各画素電極と対向する共通
電極が形成されている。これらアクティブマトリクス基
板10および対向基板20は一定の間隙を隔てて対向し
ており、その間隙には液晶が封入されている。また、3
0、30はゲートドライバ、40、40、…はデータド
ライバであり、各々240本の出力端子を有している。
[Fifth Embodiment] The first to fourth embodiments will be described.
In this embodiment, the active matrix substrate has been described, but in this embodiment, the configuration of the entire liquid crystal display device including these active matrix substrates will be described. FIGS. 8A and 8B show a structure of an active matrix liquid crystal display device of the present embodiment.
FIG. 8A is a plan view of the device, and FIG.
FIG. 2 is a sectional view taken along line II of FIG. In each of these figures, 1
Reference numeral 0 denotes an active matrix substrate, which includes a pixel electrode, TF
TFT consisting of T, storage capacitor, data line and gate line
A matrix section 13 is formed. Note that this TFT
The matrix section 13 may have the same configuration as that described in the first to fourth embodiments. Therefore, the description here is omitted. Reference numeral 20 denotes a counter substrate on which a common electrode facing each pixel electrode is formed. The active matrix substrate 10 and the counter substrate 20 face each other with a certain gap therebetween, and a liquid crystal is sealed in the gap. Also, 3
Reference numerals 0 and 30 denote gate drivers, reference numerals 40, 40,... Denote data drivers, each having 240 output terminals.

【0035】このアクティブマトリクス型液晶表示装置
は、列方向の画素数が1920、行方向の画素数が48
0であるVGA対応の液晶表示パネルである。したがっ
て、第1の実施の形態のアクティブマトリクス基板を採
用した場合、TFTマトリクス部13は1920本のデ
ータ線と960本のゲート線とを有している。ただし、
データ線側はTFTマトリクス部13の端部で2本ずつ
接続されているため、データドライバ40、40、…と
の接続本数は960本である。これら960本のデータ
線と接続するため、TFT基板10には4個のデータド
ライバ40が外付けされている。一方、ゲート線は96
0本あるため、本来ならば4個のゲートドライバ30が
必要とされるところであるが、本実施の形態ではTFT
基板10上にデマルチプレクサ部14を設けることでゲ
ートドライバ30の個数を半分の2個にしている。この
デマルチプレクサ部14は、TFT基板10上にTFT
および信号配線を形成してなるものである。
This active matrix type liquid crystal display device has 1920 pixels in the column direction and 48 pixels in the row direction.
This is a VGA-compatible liquid crystal display panel which is 0. Therefore, when the active matrix substrate according to the first embodiment is employed, the TFT matrix section 13 has 1920 data lines and 960 gate lines. However,
Since the data lines are connected two by two at the end of the TFT matrix section 13, the number of connections to the data drivers 40, 40,... Is 960. To connect with these 960 data lines, four data drivers 40 are externally attached to the TFT substrate 10. On the other hand, the gate line is 96
Since there are 0 gate drivers, four gate drivers 30 would normally be required.
By providing the demultiplexer unit 14 on the substrate 10, the number of the gate drivers 30 is reduced to half, that is, two. The demultiplexer unit 14 has a TFT
And signal wiring.

【0036】図9はデマルチプレクサ部14の回路構成
を示すものである。図9に示すように、デマルチプレク
サ部14は、インバータ120と480個のデマルチプ
レクサDMPX1〜DMPX480とにより構成されて
いる。各デマルチプレクサは、各々TFTによる4個の
トランスファゲート121〜124を有している。トラ
ンスファーゲート121および124の各ゲートには、
図示しない制御回路から切換信号Vselectが供給
される。また、トランスファーゲート122および12
3の各ゲートには、切換信号Vselectをインバー
タ120によって反転した信号が供給される。
FIG. 9 shows a circuit configuration of the demultiplexer section 14. As shown in FIG. 9, the demultiplexer unit 14 includes an inverter 120 and 480 demultiplexers DMPX1 to DMPX480. Each demultiplexer has four transfer gates 121 to 124 each formed by a TFT. Each gate of the transfer gates 121 and 124 has
A switching signal Vselect is supplied from a control circuit (not shown). Also, transfer gates 122 and 12
A signal obtained by inverting the switching signal Vselect by the inverter 120 is supplied to each of the gates 3.

【0037】次に、本実施の形態の動作を説明する。各
フィールド周期において、デマルチプレクサDMPX1
〜DMPX480の各入力端子には、図8(A)、
(B)における2個のゲートドライバ30から得られる
480個の出力信号SR1〜SR480が順次供給され
る。また、フィールド周期が切り換わる毎に切換信号V
selectのレベルが反転される。この結果、デマル
チプレクサ部14では以下の動作が行われる。なお、以
下の例では各トランスファーゲート121〜124はn
チャネルのTFTにより構成されているものとする。
Next, the operation of this embodiment will be described. In each field period, the demultiplexer DMPX1
8 (A) to each input terminal of the DMPX480.
480 output signals SR1 to SR480 obtained from the two gate drivers 30 in (B) are sequentially supplied. Each time the field cycle switches, the switching signal V
The level of select is inverted. As a result, the following operation is performed in the demultiplexer unit 14. In the following example, each of the transfer gates 121 to 124 is n
It is assumed that the TFT is constituted by a channel TFT.

【0038】まず、例えば奇数フィールド周期において
切換信号Vselectがハイレベルとなったとする
と、各デマルチプレクサDMPX1〜DMPX480で
は、トランスファーゲート121および124がオン状
態、トランスファーゲート122および123がオフ状
態となる。したがって、この奇数フィールド周期におい
てゲートドライバから順次出力される出力信号SR1〜
SR480は、デマルチプレクサDMPX1〜DMPX
480の各トランスファーゲート121を介し、480
本の第1のゲート線G1a〜G480aに順次印加され
る。この間、第2のゲート線G1b〜G480bに対し
ては、デマルチプレクサDMPX1〜DMPX480の
各トランスファーゲート124を介し、ローレベルの基
準電圧Vg−lowが印加される。したがって、この
間、TFTマトリクス部13において第2のゲート線に
接続された全てのTFTはオフ状態とされる。
First, for example, assuming that the switching signal Vselect goes high in the odd field period, the transfer gates 121 and 124 are turned on and the transfer gates 122 and 123 are turned off in each of the demultiplexers DMPX1 to DMPX480. Therefore, output signals SR1 to SR1 sequentially output from the gate driver in the odd field period are set.
SR480 includes demultiplexers DMPX1 to DMPX.
480 via each transfer gate 121 of 480
It is sequentially applied to the first gate lines G1a to G480a. During this time, the low-level reference voltage Vg-low is applied to the second gate lines G1b to G480b via the transfer gates 124 of the demultiplexers DMPX1 to DMPX480. Accordingly, during this time, all TFTs connected to the second gate line in the TFT matrix section 13 are turned off.

【0039】次に、偶数フィールド周期に切り換わり、
各切換信号Vselectがローレベルとなったとする
と、各デマルチプレクサDMPX1〜DMPX480で
は、トランスファーゲート122および123がオン状
態、トランスファーゲート121および124がオフ状
態となる。したがって、この偶数フィールド周期におい
てゲートドライバから順次出力される出力信号SR1〜
SR480は、デマルチプレクサDMPX1〜DMPX
480の各トランスファーゲート123を介し、第2の
ゲート線G1b〜G480bに順次印加される。この
間、第1のゲート線G1a〜G480aに対しては、デ
マルチプレクサDMPX1〜DMPX480の各トラン
スファーゲート122を介し、ローレベルの基準電圧V
g−lowが印加される。
Next, the period is switched to the even field period,
Assuming that each switching signal Vselect is at a low level, in each of the demultiplexers DMPX1 to DMPX480, the transfer gates 122 and 123 are turned on, and the transfer gates 121 and 124 are turned off. Therefore, output signals SR1 to SR1 sequentially output from the gate driver in this even field period are set.
SR480 includes demultiplexers DMPX1 to DMPX.
480 are sequentially applied to the second gate lines G1b to G480b through the transfer gates 123. During this time, the low-level reference voltage V is applied to the first gate lines G1a to G480a via the transfer gates 122 of the demultiplexers DMPX1 to DMPX480.
g-low is applied.

【0040】このように、デマルチプレクサ部14を設
けた場合、奇数フィールド周期においては第1のゲート
線、偶数フィールド周期においては第2のゲート線とい
う具合に、ゲートドライバの出力信号の供給先を各フィ
ールド周期間で切り換えるインターレース駆動が行われ
るため、ゲートドライバの個数を半分に減らすことがで
きる。
As described above, when the demultiplexer unit 14 is provided, the supply destination of the output signal of the gate driver is, for example, the first gate line in the odd field period and the second gate line in the even field period. Since interlaced driving is performed to switch between each field period, the number of gate drivers can be reduced by half.

【0041】[第6の実施の形態]図10(A)および
(B)は本実施の形態のアクティブマトリクス型液晶表
示装置の構成を示すものであり、図10(A)は同装置
の平面図、図10(B)は図10(A)のII−II線視断
面図である。上記の第5の実施の形態では、TFT基板
10上にデマルチプレクサ部14を形成することで、ゲ
ートドライバ30の個数の半減化を図った。本実施の形
態では、このデマルチプレクサ部14に代えて、シフト
レジスタ部15をTFT基板10上に形成することで、
外付けのゲートドライバ30を一切不要にした。
Sixth Embodiment FIGS. 10A and 10B show a configuration of an active matrix type liquid crystal display device of the present embodiment, and FIG. 10A shows a plan view of the device. FIG. 10B is a sectional view taken along line II-II of FIG. In the fifth embodiment, the number of the gate drivers 30 is reduced by half by forming the demultiplexer unit 14 on the TFT substrate 10. In the present embodiment, a shift register unit 15 is formed on the TFT substrate 10 instead of the demultiplexer unit 14,
No external gate driver 30 is required.

【0042】シフトレジスタ部15の回路構成を図11
に示す。図11に示すように、シフトレジスタ部15
は、480個のレジスタ部REG1〜REG480をカ
スケード接続してなるものである。これらのレジスタ部
は、各々、トランスファーゲート131A、インバータ
132A、トランスファーゲート133Aおよびインバ
ータ134Aからなる第1のフリップフロップと、トラ
ンスファーゲート131B、インバータ132B、トラ
ンスファーゲート133Bおよびインバータ134Bか
らなる第2のフリップフロップにより構成されている。
各レジスタ部REG1〜REG480の第1のフリップ
フロップの出力端(すなわち、インバータ134Aの出
力端)は、TFTマトリクス部13の第1のゲート線G
1a〜G480aに各々接続されている。一方、各レジ
スタ部REG1〜REG480の第2のフリップフロッ
プの出力端(すなわち、インバータ134Bの出力端)
は、TFTマトリクス部13の第2のゲート線G1b〜
G480bに各々接続されている。
The circuit configuration of the shift register section 15 is shown in FIG.
Shown in As shown in FIG.
Is formed by cascading 480 register units REG1 to REG480. These register units each include a first flip-flop including a transfer gate 131A, an inverter 132A, a transfer gate 133A, and an inverter 134A, and a second flip-flop including a transfer gate 131B, an inverter 132B, a transfer gate 133B, and an inverter 134B. It consists of.
The output terminal of the first flip-flop of each of the register units REG1 to REG480 (that is, the output terminal of the inverter 134A) is connected to the first gate line G of the TFT matrix unit 13.
1a to G480a. On the other hand, the output terminal of the second flip-flop of each of the register units REG1 to REG480 (that is, the output terminal of the inverter 134B)
Are the second gate lines G1b to
G480b.

【0043】次に、本実施の形態の動作を説明する。こ
のシフトレジスタ部15には、2相のクロックCK1お
よびCK2が供給される。これらのうち第1相のクロッ
クCK1は、各レジスタ部のトランスファーゲート13
1Aおよび131Bに供給され、第2相のクロックCK
2は、各レジスタ部のトランスファーゲート133Aお
よび133Bに供給される。
Next, the operation of this embodiment will be described. The shift register unit 15 is supplied with two-phase clocks CK1 and CK2. Of these, the first phase clock CK1 is supplied to the transfer gate 13 of each register section.
1A and 131B and the second phase clock CK
2 is supplied to the transfer gates 133A and 133B of each register section.

【0044】また、奇数フィールド周期では、その開始
時点において第1段目のレジスタ部REG1の第1のフ
リップフロップにスタートパルスSPAが供給される。
このため、奇数フィールド周期では、カスケード接続さ
れた各レジスタ部の第1のフリップフロップ間をスター
トパルスSPAが順次シフトしてゆく。この結果、各レ
ジスタ部の第1のフリップフロップの出力端(すなわ
ち、各レジスタ部のインバータ134Aの出力端)から
スタートパルスSPAに相当するゲート電圧が順次出力
され、第1のゲート線G1a〜G480aに順次印加さ
れる。なお、奇数フィールド周期では、各レジスタ部の
第2のフリップフロップ間でもシフト動作が行われる
が、第1段目のレジスタ部REG1の第2のフリップフ
ロップにはローレベルの信号が与えられる。したがっ
て、奇数フィールド周期では、第2のゲート線G1b〜
G480bはローレベルに固定される。
In the odd-numbered field period, the start pulse SPA is supplied to the first flip-flop of the first-stage register unit REG1 at the start time.
Therefore, in the odd-numbered field period, the start pulse SPA sequentially shifts between the first flip-flops of the cascade-connected register units. As a result, a gate voltage corresponding to the start pulse SPA is sequentially output from the output terminal of the first flip-flop of each register unit (that is, the output terminal of the inverter 134A of each register unit), and the first gate lines G1a to G480a are output. Are sequentially applied. Note that in the odd field period, a shift operation is performed between the second flip-flops of each register unit, but a low-level signal is supplied to the second flip-flop of the first-stage register unit REG1. Therefore, in the odd field period, the second gate lines G1b to G1b
G480b is fixed at a low level.

【0045】次に、偶数フィールド周期では、その開始
時点において第1段目のレジスタ部REG1の第2のフ
リップフロップにスタートパルスSPBが供給される。
このため、偶数フィールド周期では、各レジスタ部の第
2のフリップフロップ間をスタートパルスSPBが順次
シフトしてゆく。この結果、各レジスタ部の第2のフリ
ップフロップの出力端(すなわち、各レジスタ部のイン
バータ134Bの出力端)からスタートパルスSPBに
相当するゲート電圧が順次出力され、第2のゲート線G
1b〜G480bに順次印加される。なお、偶数フィー
ルド周期では、各レジスタ部の第1のフリップフロップ
間でもシフト動作が行われるが、第1段目のレジスタ部
REG1の第1のフリップフロップにはローレベルの信
号が与えられるため、第1のゲート線G1a〜G480
aはローレベルに固定される。
Next, in the even field period, the start pulse SPB is supplied to the second flip-flop of the register unit REG1 of the first stage at the start time.
For this reason, in the even field period, the start pulse SPB is sequentially shifted between the second flip-flops of each register section. As a result, a gate voltage corresponding to the start pulse SPB is sequentially output from the output terminal of the second flip-flop of each register unit (that is, the output terminal of the inverter 134B of each register unit), and the second gate line G
1b to G480b. Note that in the even-numbered field period, a shift operation is performed between the first flip-flops of the respective register units. However, since a low-level signal is supplied to the first flip-flop of the first-stage register unit REG1, First gate lines G1a to G480
a is fixed to a low level.

【0046】このように、本実施の形態によれば、TF
T基板10上に形成したシフトレジスタ部15により、
TFTマトリクス部13の第1および第2のゲート線の
インターレース駆動が行われるため、ゲートドライバを
外付けする必要がなく、部品点数を減らし、装置の小型
化および低価格化を図ることができる。
As described above, according to the present embodiment, TF
By the shift register unit 15 formed on the T substrate 10,
Since the first and second gate lines of the TFT matrix section 13 are interlaced, there is no need to provide an external gate driver, the number of components can be reduced, and the device can be reduced in size and cost.

【0047】なお、以上のような構成のシフトレジスタ
部15を設ける代わりに、480段のシフトレジスタと
上記第5の実施の形態におけるデマルチプレクサ部14
を組み合せたものをTFT基板10上に形成してもよ
い。この場合においても、上記第6の実施の形態と同様
な効果が得られる。
It should be noted that instead of providing the shift register unit 15 having the above configuration, a 480-stage shift register and the demultiplexer unit 14 in the fifth embodiment are used.
May be formed on the TFT substrate 10. In this case, the same effect as in the sixth embodiment can be obtained.

【0048】なお、本発明の技術範囲は上記実施の形態
に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない
範囲において種々の変更を加えることが可能である。例
えば上記実施の形態では駆動方法をインターレース駆動
として説明したが、1H期間の1/2の期間に添え字a
のゲート線を走査し、残りの1/2の期間で添え字bの
ゲート線を走査するノンインターレース駆動を採用する
こともできる。また、第1の実施の形態においては、画
素電極とその中央を横切るゲート線のみで蓄積容量を構
成したが、画素電極をさらに次段のゲート線に重なるよ
うに延在させてこの部分をさらに蓄積容量として付加し
てもよい。上記実施の形態では2本ないし3本のデータ
線を電気的に接続する例を示したが、データ線を接続す
る本数はこれに限るものではない。ただし、表示品位等
との関係から、データ線を接続する本数は3本程度まで
とすることが望ましい。
The technical scope of the present invention is not limited to the above embodiment, and various changes can be made without departing from the spirit of the present invention. For example, in the above embodiment, the driving method has been described as the interlace driving, but the subscript a is added to a half of the 1H period.
The non-interlace drive in which the gate line of the subscript "b" is scanned and the gate line of the subscript "b" is scanned in the remaining half period can be adopted. Further, in the first embodiment, the storage capacitance is constituted only by the pixel electrode and the gate line crossing the center thereof. However, the pixel electrode is further extended so as to overlap the next-stage gate line, and this portion is further extended. It may be added as a storage capacity. In the above embodiment, an example in which two or three data lines are electrically connected has been described, but the number of data lines to be connected is not limited to this. However, it is desirable that the number of data lines to be connected is limited to about three from the relation with display quality and the like.

【0049】[0049]

【発明の効果】以上、詳細に説明したように、本発明に
よれば、複数のデータ線を所定本ずつ電気的に接続した
ことによってデータドライバの数が従来より低減でき、
その結果、データドライバの削減によりコストの低減が
図れるのと同時に、各ドットにおけるTFTの配置を工
夫したことによりプロセス精度、特に露光機のアライメ
ント精度に起因するフリッカの発生を抑制することがで
きる。
As described in detail above, according to the present invention, the number of data drivers can be reduced by connecting a plurality of data lines by a predetermined number, as compared with the prior art.
As a result, costs can be reduced by reducing the number of data drivers, and at the same time, by devising the arrangement of TFTs in each dot, it is possible to suppress the occurrence of flicker due to process accuracy, particularly alignment accuracy of the exposure machine.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明の第1の実施の形態であるマトリクス
基板の等価回路を示す図である。
FIG. 1 is a diagram showing an equivalent circuit of a matrix substrate according to a first embodiment of the present invention.

【図2】 同、マトリクス基板のレイアウトを示す平面
図である。
FIG. 2 is a plan view showing a layout of a matrix substrate.

【図3】 本発明の第2の実施の形態であるマトリクス
基板の等価回路を示す図である。
FIG. 3 is a diagram showing an equivalent circuit of a matrix substrate according to a second embodiment of the present invention.

【図4】 同、マトリクス基板のレイアウトを示す平面
図である。
FIG. 4 is a plan view showing a layout of the matrix substrate.

【図5】 本発明の第3の実施の形態であるマトリクス
基板の等価回路を示す図である。
FIG. 5 is a diagram showing an equivalent circuit of a matrix substrate according to a third embodiment of the present invention.

【図6】 本発明の第4の実施の形態であるマトリクス
基板の等価回路を示す図である。
FIG. 6 is a diagram illustrating an equivalent circuit of a matrix substrate according to a fourth embodiment of the present invention.

【図7】 同、マトリクス基板のレイアウトを示す平面
図である。
FIG. 7 is a plan view showing a layout of the matrix substrate.

【図8】 本発明の第5の実施の形態であるアクティブ
マトリクス型液晶表示装置の構成を示す図であり、図8
(A)は同装置の平面図、図8(B)は図8(A)のI
−I線視断面図である。
FIG. 8 is a diagram showing a configuration of an active matrix liquid crystal display device according to a fifth embodiment of the present invention.
FIG. 8A is a plan view of the same device, and FIG.
FIG. 2 is a sectional view taken along line I.

【図9】 同実施の形態におけるデマルチプレクサ部の
構成を示す回路図である。
FIG. 9 is a circuit diagram showing a configuration of a demultiplexer unit according to the embodiment.

【図10】 本発明の第6の実施の形態であるアクティ
ブマトリクス型液晶表示装置の構成を示す図であり、図
10(A)は同装置の平面図、図10(B)は図10
(A)のII−II線視断面図である。
FIGS. 10A and 10B are diagrams showing a configuration of an active matrix type liquid crystal display device according to a sixth embodiment of the present invention. FIG. 10A is a plan view of the device, and FIG.
FIG. 2A is a sectional view taken along line II-II of FIG.

【図11】 同実施の形態におけるシフトレジスタ部の
構成を示す回路図である。
FIG. 11 is a circuit diagram illustrating a configuration of a shift register unit according to the embodiment.

【図12】 従来一般のマトリクス基板の等価回路を示
す図である。
FIG. 12 is a diagram showing an equivalent circuit of a conventional general matrix substrate.

【図13】 2倍走査線方式のマトリクス基板の等価回
路を示す図である。
FIG. 13 is a diagram showing an equivalent circuit of a double-scanning-line type matrix substrate.

【図14】 本発明の問題点を説明するための図であ
る。
FIG. 14 is a diagram for explaining a problem of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 TFT 2 ソース電極 3 画素電極 4 ドレイン電極 5 ゲート電極 Di,Dia,Dib,Dic,… データ線 Gja,Gjb,Gjc,… ゲート線 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 TFT 2 Source electrode 3 Pixel electrode 4 Drain electrode 5 Gate electrode Di, Dia, Dib, Dic, ... Data line Gja, Gjb, Gjc, ... Gate line

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板上にマトリクス状に複数のデータ線
と複数のゲート線とを設け、前記各データ線に対して同
じ側に薄膜トランジスタおよび該薄膜トランジスタに接
続する画素電極をそれぞれ設けるとともに、前記画素電
極に接続する前記薄膜トランジスタをなすドレイン電極
を前記ゲート線から延び前記薄膜トランジスタをなすゲ
ート電極に対して同じ側に設け、前記データ線を所定本
ずつ電気的に接続し、前記所定本のデータ線の各データ
線に接続する前記薄膜トランジスタをそれぞれ異なるゲ
ート線により制御するよう前記複数のゲート線を配設し
たことを特徴とするアクティブマトリクス型液晶表示装
置用基板。
A plurality of data lines and a plurality of gate lines provided in a matrix on a substrate; a thin film transistor and a pixel electrode connected to the thin film transistor are provided on the same side for each of the data lines; A drain electrode forming the thin film transistor connected to an electrode extends from the gate line and is provided on the same side as the gate electrode forming the thin film transistor, and the data lines are electrically connected to each other by predetermined numbers. A substrate for an active matrix type liquid crystal display device, wherein the plurality of gate lines are provided so that the thin film transistors connected to each data line are controlled by different gate lines.
【請求項2】 前記所定本の電気的に接続されたデータ
線が、これらデータ線の少なくとも両端側で相互に接続
されていることを特徴とする請求項1記載のアクティブ
マトリクス型液晶表示装置用基板。
2. The active matrix type liquid crystal display device according to claim 1, wherein the predetermined number of electrically connected data lines are connected to each other at least at both ends of the data lines. substrate.
【請求項3】 前記複数のデータ線が、奇数本おきに前
記所定本ずつ電気的に接続されていることを特徴とする
請求項1記載のアクティブマトリクス型液晶表示装置用
基板。
3. The substrate for an active matrix type liquid crystal display device according to claim 1, wherein said plurality of data lines are electrically connected to said predetermined number every odd number.
【請求項4】 前記各画素電極に、該画素電極を横断し
該画素電極と協働して蓄積容量を形成する1本以上前記
所定本以下のゲート線が積層配置されたことを特徴とす
る請求項1記載のアクティブマトリクス型液晶表示装置
用基板。
4. The method according to claim 1, wherein one or more and a predetermined number or less of gate lines are formed on each of the pixel electrodes so as to traverse the pixel electrodes and form storage capacitors in cooperation with the pixel electrodes. The substrate for an active matrix type liquid crystal display device according to claim 1.
【請求項5】 対向配置した一対の基板対の間に液晶を
挟持するアクティブマトリクス型液晶表示装置におい
て、前記基板対の一方の基板が請求項1ないし4のいず
れか一項に記載の基板であることを特徴とするアクティ
ブマトリクス型液晶表示装置。
5. An active matrix type liquid crystal display device in which liquid crystal is sandwiched between a pair of substrates arranged opposite to each other, wherein one substrate of the pair of substrates is the substrate according to any one of claims 1 to 4. An active matrix liquid crystal display device, comprising:
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