JP3305259B2 - Active matrix type liquid crystal display device and substrate used therefor - Google Patents

Active matrix type liquid crystal display device and substrate used therefor

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JP3305259B2
JP3305259B2 JP12502898A JP12502898A JP3305259B2 JP 3305259 B2 JP3305259 B2 JP 3305259B2 JP 12502898 A JP12502898 A JP 12502898A JP 12502898 A JP12502898 A JP 12502898A JP 3305259 B2 JP3305259 B2 JP 3305259B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、アクティブマト
リクス型液晶表示装置およびこの液晶表示装置に用いる
マトリクス基板に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an active matrix type liquid crystal display device and a matrix substrate used for the liquid crystal display device.

【0002】[0002]

【従来の技術】周知の通り、アクティブマトリクス型液
晶表示装置は、2枚のガラス基板を対向させて固定し、
その間隙に液晶を封入した構造となっており、一方のガ
ラス基板に透明な共通電極が形成され、他方のガラス基
板には多数の透明な画素電極が行列状に形成されると共
に各画素電極に個別的に電圧を印加するための回路が形
成されている。
2. Description of the Related Art As is well known, in an active matrix type liquid crystal display device, two glass substrates are fixed to face each other.
Liquid crystal is sealed in the gap, and a transparent common electrode is formed on one glass substrate, and a large number of transparent pixel electrodes are formed in a matrix on the other glass substrate, and each pixel electrode is Circuits for individually applying voltages are formed.

【0003】図15は、この種のアクティブマトリクス
型液晶表示装置の一般的な構成を示すものであり、より
詳しくは同装置の上記画素電極の形成された側を見下ろ
した平面図を表している。このアクティブマトリクス型
液晶表示装置は、m行n列の画素行列PX(i,j)
(i=1〜m,j=1〜n)を有しており、その一部が
図15に図示されている。図中、縦横に配列された矩形
が破線によって示されているが、これらは各々画素を表
している。
FIG. 15 shows a general structure of an active matrix type liquid crystal display device of this type, and more specifically, is a plan view of the same device in which the pixel electrode is formed. . This active matrix liquid crystal display device has a pixel matrix PX (i, j) of m rows and n columns.
(I = 1 to m, j = 1 to n), a part of which is shown in FIG. In the figure, rectangles arranged vertically and horizontally are indicated by broken lines, each of which represents a pixel.

【0004】各画素は、図示の通り、水平方向(列方
向)および垂直方向(行方向)に規則正しく配列されて
いるが、これらの画素の各列に対応しn本のデータ線D
j(j=1〜n)が形成され、さらに画素の各行に対応
しm本のゲート線Gi(i=1〜m)が形成されてい
る。ここで、各データ線Dj(j=1〜n)は、各画素
PX(i,j)(i=1〜m,j=1〜n)に信号電圧
を供給する線路である。また、ゲート線Gi(i=1〜
m)は、信号電圧の画素への書込みを行わせるためのゲ
ート電圧を各画素PX(i,j)(i=1〜m,j=1
〜n)に供給する線路である。
As shown in the figure, each pixel is regularly arranged in a horizontal direction (column direction) and a vertical direction (row direction), and n data lines D correspond to each column of these pixels.
j (j = 1 to n) are formed, and m gate lines Gi (i = 1 to m) are formed corresponding to each row of the pixels. Here, each data line Dj (j = 1 to n) is a line that supplies a signal voltage to each pixel PX (i, j) (i = 1 to m, j = 1 to n). In addition, the gate line Gi (i = 1 to 1)
m) is the gate voltage for writing the signal voltage to the pixel, and the pixel voltage PX (i, j) (i = 1 to m, j = 1)
To n).

【0005】各画素PX(i,j)は、上述の画素電極
の他、TFT(Thin Film Transistor;薄膜トランジス
タ)1を有している。このTFT1は、ソース電極がデ
ータ線Djに接続され、ゲート電極がゲート線Giに接
続され、ドレイン電極が画素電極に接続されている。こ
こで、画素電極は、上述した共通電極との間に液晶を挟
んでいる。図15における容量2は、この画素電極およ
び共通電極により挟まれた液晶容量を表すものである。
TFT1は、画素に対する書込みを行うか否か、すなわ
ち、データ線Djを介して供給される信号電圧をこの液
晶容量2に印加するか否かを切り換えるためのスイッチ
ング素子として機能する。
Each pixel PX (i, j) has a TFT (Thin Film Transistor) 1 in addition to the pixel electrodes described above. The TFT 1 has a source electrode connected to the data line Dj, a gate electrode connected to the gate line Gi, and a drain electrode connected to the pixel electrode. Here, the liquid crystal is interposed between the pixel electrode and the above-described common electrode. The capacitance 2 in FIG. 15 represents the liquid crystal capacitance sandwiched between the pixel electrode and the common electrode.
The TFT 1 functions as a switching element for switching whether to perform writing to the pixel, that is, whether to apply a signal voltage supplied via the data line Dj to the liquid crystal capacitor 2.

【0006】次に、このアクティブマトリクス型液晶表
示装置の動作について説明する。このアクティブマトリ
クス型液晶表示装置では、m本のゲート線Gi(i=1
〜m)を順次走査し、一定のフィールド周期毎に1画面
の画像表示を行う。ここで、ゲート線を走査する方式に
は、ノンインターレース方式とインターレース方式の2
種類がある。図16(a)および(b)は、m=480
の場合を例に挙げ、これらの各方式における各ゲート線
の走査順序を示したものである。
Next, the operation of the active matrix type liquid crystal display device will be described. In this active matrix type liquid crystal display device, m gate lines Gi (i = 1
To m) are sequentially scanned, and an image of one screen is displayed every fixed field cycle. Here, there are two methods of scanning a gate line, a non-interlace method and an interlace method.
There are types. FIGS. 16A and 16B show that m = 480.
The scanning order of each gate line in each of these methods is shown as an example.

【0007】ノンインターレース方式では、1フィール
ド周期を要して、図16左側に例示するように480本
のゲート線G1〜G480に一定時間ずつゲート電圧を
順次印加してゆき、以後、フィールド周期が新たなもの
に切り換わる毎にこれと同じ動作を繰り返す。このよう
な各ゲート線に対するゲート電圧の印加は、図示しない
ゲートドライバによって行われる。
In the non-interlace method, one field period is required, and a gate voltage is sequentially applied to the 480 gate lines G1 to G480 for a certain period of time as illustrated on the left side of FIG. The same operation is repeated every time a new one is switched. Such application of the gate voltage to each gate line is performed by a gate driver (not shown).

【0008】各フィールド周期において、各ゲート線G
1〜G480には1回ずつゲート電圧が印加される。こ
こで、あるゲート線Giにゲート電圧が印加されたとす
ると、このゲート電圧は画素行列の第i行を構成するn
個の画素PX(i,j)(j=1〜n)の各TFT1の
ゲートに印加され、これらのTFT1が導通状態とされ
る。また、このゲート線Giに対するゲート電圧の印加
が行われる期間、図示しないデータドライバによりn本
のデータ線Dj(j=1〜n)にn画素分の信号電圧が
各々出力される。これらのn画素分の信号電圧は、導通
状態となった上記の各TFT1を介すことにより各画素
PX(i,j)(j=1〜n)の液晶容量2に各々印加
される。この結果、n個の画素PX(i,j)(j=1
〜n)により水平走査線1本分の線画像の表示が行われ
ることとなる。このようなゲート電圧および信号電圧の
印加が画素行列の第1行から第480行までについて行
われ、これにより1画面分の画像の表示が行われる。
In each field period, each gate line G
A gate voltage is applied to each of 1 to G480 once. Here, assuming that a gate voltage is applied to a certain gate line Gi, the gate voltage becomes n which forms the i-th row of the pixel matrix.
The voltage is applied to the gate of each TFT 1 of the pixels PX (i, j) (j = 1 to n), and these TFTs 1 are turned on. Further, during the period in which the gate voltage is applied to the gate line Gi, a signal voltage for n pixels is output to n data lines Dj (j = 1 to n) by a data driver (not shown). The signal voltages for these n pixels are respectively applied to the liquid crystal capacitors 2 of the pixels PX (i, j) (j = 1 to n) via the above-described TFTs 1 in the conductive state. As a result, n pixels PX (i, j) (j = 1
To n), a line image corresponding to one horizontal scanning line is displayed. Such application of the gate voltage and the signal voltage is performed for the first row to the 480th row of the pixel matrix, whereby an image for one screen is displayed.

【0009】これに対し、インターレース方式では、図
16右側に例示するように、あるフィールド周期におい
て例えば奇数番目のゲート線G1,G3,G5,…G4
79にゲート電圧を印加したときは、次のフィールド周
期では偶数番目のゲート線G2,G4,G6,…G48
0にゲート電圧を印加する、という具合に各フィールド
周期間で異なったゲート線の走査を行い、2フィールド
周期を要して1画面分の画像表示を行う動作を繰り返
す。このインターレース方式の場合、2フィールド周期
に1回の割合で1本のゲート線Giに対するゲート電圧
の印加を行えばよいので、消費電力を節約することがで
きるという利点がある。
On the other hand, in the interlace system, as shown on the right side of FIG. 16, for example, in a certain field period, for example, odd-numbered gate lines G1, G3, G5,.
When the gate voltage is applied to the gate line 79, the even-numbered gate lines G2, G4, G6,.
A gate voltage is applied to 0, scanning of a different gate line is performed in each field cycle, and an operation of displaying an image for one screen in two field cycles is repeated. In the case of this interlace method, the gate voltage has only to be applied to one gate line Gi once every two field periods, so that there is an advantage that power consumption can be saved.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】ところで、上述した従
来のアクティブマトリクス型液晶表示装置は、画素行列
を構成する各列毎にデータ線を有しているため、1行当
たりの画素数が多い場合には、それに応じてデータドラ
イバを多数使用する必要が生じる。しかしながら、この
データドライバは比較的高価な部品であるため、これを
多数使用したのでは装置全体が高価なものとなってしま
う。例えば列方向の画素数が1920、行方向の画素数
が480であるVGA対応の液晶表示パネルは、192
0本のデータ線と480本のゲート線を有している。2
40個の出力端子を有するデータドライバおよびゲート
ドライバを用い、上記従来技術によりこの液晶表示パネ
ルを構成するものとすると、データドライバを列方向に
沿って8個設け、ゲートドライバを行方向に沿って2個
設ける必要がある。このように8個ものデータドライバ
を使用すると、液晶表示パネルが高価なものとなってし
まうのである。
Incidentally, the above-mentioned conventional active matrix type liquid crystal display device has a data line for each column constituting a pixel matrix, so that the number of pixels per row is large. Requires the use of a large number of data drivers accordingly. However, since the data driver is a relatively expensive component, the use of a large number of the data driver makes the entire device expensive. For example, a VGA-compatible liquid crystal display panel having 1920 pixels in the column direction and 480 pixels in the row direction has 192 pixels.
It has zero data lines and 480 gate lines. 2
Assuming that the liquid crystal display panel is constituted by the above-mentioned prior art using a data driver and a gate driver having 40 output terminals, eight data drivers are provided along the column direction and gate drivers are provided along the row direction. It is necessary to provide two. When eight data drivers are used in this way, the liquid crystal display panel becomes expensive.

【0011】また、上述した従来の技術は、表示エリア
の小さい液晶表示パネルを構成することが困難であると
いう問題を有していた。すなわち、液晶表示パネルの額
縁部分であるデータ配線端子部には、上記の各データ線
に信号電圧を供給するための多数の端子が設けられてい
るが、表示エリアの小さな液晶表示パネルにおいてはこ
のデータ配線端子部を小型化する必要がある。そして、
このデータ配線端子部の小型化を行うためには、上記各
データ線に対応した端子のピッチを狭くする必要がある
が、従来技術による液晶表示パネルはデータ線の本数が
多いため、この狭ピッチ化の要求が極めて厳しいものに
なってしまう。このため、データ配線端子部の製作が難
しくなり、歩留りの低下等の問題を引き起こすのであ
る。
In addition, the above-described conventional technique has a problem that it is difficult to form a liquid crystal display panel having a small display area. In other words, a data wiring terminal portion, which is a frame portion of the liquid crystal display panel, is provided with a large number of terminals for supplying signal voltages to the above-described data lines. It is necessary to reduce the size of the data wiring terminal. And
In order to reduce the size of the data wiring terminals, it is necessary to narrow the pitch of the terminals corresponding to the data lines. However, the liquid crystal display panel according to the prior art has a large number of data lines, so The demands for conversion will be extremely severe. For this reason, it is difficult to manufacture the data wiring terminal portion, which causes a problem such as a decrease in yield.

【0012】この発明は、以上の事情に鑑みてなされた
ものであり、従来に比して少ない本数のデータ線により
各画素の駆動を行い得るアクティブマトリクス型液晶表
示装置およびこれに用いる基板を提供することを目的と
している。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and provides an active matrix type liquid crystal display device capable of driving each pixel with a smaller number of data lines as compared with the related art, and a substrate used therefor. It is intended to be.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】本発明のアクティブマト
リクス型液晶表示装置用基板は、基板上にマトリクス状
に複数のデータ線と複数のゲート線とを設け、薄膜トラ
ンジスタおよび該薄膜トランジスタに接続する画素電極
を前記複数のゲート線のそれぞれに対応させて設け、前
記画素電極をこれら画素電極を挟んで配したゲート線の
うちのいずれか対応するゲート線からの信号により制御
するように、前記複数のゲート線を配設し、前記薄膜ト
ランジスタをなし前記画素電極に電気的に接続されたド
レイン電極が前記薄膜トランジスタをなすゲート電極を
横断していることを特徴とするものである。本発明のア
クティブマトリクス型液晶表示装置用基板においては、
1本のデータ線がその両側に配置された画素電極に信号
電圧を供給する。また、データ線の両側の画素電極を挟
んで配したゲート線のうちの一方のゲート線にゲート電
圧を印加することにより、ゲート線に沿って並ぶ画素電
極のうちの半分の画素電極に信号電圧の書き込みが行わ
れ、他方のゲート線にゲート電圧を印加することによ
り、残りの半分の画素に信号電圧の書込みが行われる。
したがって、本発明の基板によれば、データ線の本数が
従来の半分に減るため、高価なデータドライバの個数を
半減することができる。
According to the present invention, there is provided a substrate for an active matrix type liquid crystal display device, wherein a plurality of data lines and a plurality of gate lines are provided in a matrix on a substrate, and a thin film transistor and a pixel electrode connected to the thin film transistor are provided. Is provided in correspondence with each of the plurality of gate lines, and the plurality of gates are controlled such that the pixel electrode is controlled by a signal from one of the corresponding gate lines among the gate lines arranged with the pixel electrodes interposed therebetween. Wire and arrange the thin film
A transistor which forms a transistor and is electrically connected to the pixel electrode;
The rain electrode serves as the gate electrode forming the thin film transistor.
It is characterized by crossing . In the substrate for an active matrix type liquid crystal display device of the present invention,
One data line supplies a signal voltage to the pixel electrodes arranged on both sides thereof. Also, by applying a gate voltage to one of the gate lines disposed across the pixel electrodes on both sides of the data line, a signal voltage is applied to half of the pixel electrodes arranged along the gate line. Is written, and by applying a gate voltage to the other gate line, a signal voltage is written to the other half of the pixels.
Therefore, according to the substrate of the present invention, the number of data lines is reduced to half that of the conventional one, so that the number of expensive data drivers can be reduced by half.

【0014】また、TFTをなすゲート電極を前記ゲー
ト線自体で構成し、前記画素電極に電気的に接続された
ドレイン電極が前記ゲート電極を横断する構造とするこ
とが望ましい。この構造とした場合、アクティブマトリ
クス型液晶表示装置用基板の製造過程においてゲート電
極形成工程とドレイン電極形成工程との間でフォトマス
クずれが生じ、ゲート電極に対するドレイン電極の位置
合わせがずれたとしても、隣接するデータ線間に挟まれ
た2つのTFTでゲート−ドレイン間の寄生容量Cgdが
正常な場合と変わらず等しくなり、フィードスルー電圧
ΔVp も等しくなるため、フリッカや輝度むらの発生を
防止することができる。
It is preferable that a gate electrode forming a TFT is constituted by the gate line itself, and a drain electrode electrically connected to the pixel electrode crosses the gate electrode. With this structure, even if a photomask shift occurs between the gate electrode forming step and the drain electrode forming step in the process of manufacturing the substrate for an active matrix liquid crystal display device, even if the alignment of the drain electrode with respect to the gate electrode is shifted. Since the parasitic capacitance Cgd between the gate and the drain of the two TFTs sandwiched between the adjacent data lines is equal to that of the normal case and the feedthrough voltage ΔVp is equal, the occurrence of flicker and uneven brightness is prevented. be able to.

【0015】また、上記アクティブマトリクス型液晶表
示装置用基板において、前記各画素電極に対応して蓄積
容量を設け、前記隣接するデータ線間のデータ線の形成
されていない各画素間の境界領域に前記データ線と平行
に蓄積容量線を配設して2列の画素列で1本の前記蓄積
容量線を共用する構成とし、前記蓄積容量の一方の電極
をこの蓄積容量に対応する画素電極に接続するととも
に、蓄積容量の他方の電極を前記蓄積容量線に接続する
構成を採ることができる。かかる発明によれば、各画素
電極に蓄積容量が接続されているため、各画素の信号電
圧を保持する能力を高くすることができる。また、各蓄
積容量線には、その両側の各蓄積容量から2画素分の書
込み電流が流れる。したがって、隣接したデータ線に対
しては逆極性の信号電圧が印加されるように、各データ
線に対する信号電圧の出力を行うことにより、各蓄積容
量線に流れる書込み電流を相殺し、書込み不足の発生を
防止することができる。
In the substrate for an active matrix type liquid crystal display device, a storage capacitor is provided corresponding to each of the pixel electrodes, and a data line is formed between the adjacent data lines.
A storage capacitor line is provided in a boundary region between the pixels not provided in parallel with the data line, and one storage line is provided for two pixel columns.
It is possible to adopt a configuration in which a capacitor line is shared, and one electrode of the storage capacitor is connected to a pixel electrode corresponding to the storage capacitor, and the other electrode of the storage capacitor is connected to the storage capacitor line. According to this invention, since the storage capacitor is connected to each pixel electrode, the ability of each pixel to hold the signal voltage can be increased. In addition, a write current for two pixels flows from each storage capacitor on both sides of each storage capacitor line. Therefore, by outputting a signal voltage to each data line so that a signal voltage of the opposite polarity is applied to the adjacent data line, a write current flowing through each storage capacitor line is canceled, and a write shortage occurs. Generation can be prevented.

【0016】本発明のアクティブマトリクス型液晶表示
装置は、液晶を挟持する基板対の一方の基板として上記
基板を用いることを特徴とするものである。そして、そ
のアクティブマトリクス型液晶表示装置において、フィ
ールド周期が切り換わる毎に、前記画素を挟んで配した
ゲート線のうちの一方のゲート線にゲート電圧を順次供
給する動作と、前記画素電極を挟んで配したゲート線の
うちの他方のゲート線にゲート電圧を順次供給する動作
とを交互に繰り返す走査手段を具備することを特徴とす
る。かかる発明によれば、2フィールド周期を要して画
素行列の全画素への信号電圧の書込みが行われる。した
がって、信号電圧の書込みに伴う消費電力を低減するこ
とができる。
An active matrix type liquid crystal display device according to the present invention is characterized in that the above substrate is used as one substrate of a pair of substrates sandwiching liquid crystal. In the active matrix type liquid crystal display device, each time the field cycle is switched, an operation of sequentially supplying a gate voltage to one of the gate lines arranged across the pixel is performed, and the operation of sandwiching the pixel electrode is performed. Scanning means for alternately repeating the operation of sequentially supplying a gate voltage to the other gate line of the gate lines arranged in the above. According to this invention, the signal voltage is written to all the pixels in the pixel matrix in a period of two fields. Therefore, power consumption accompanying writing of a signal voltage can be reduced.

【0017】また、本発明のアクティブマトリクス型液
晶表示装置は、各フィールド周期において出力端子から
ゲート電圧を順次出力するゲートドライバと、前記フィ
ールド周期が切り換わる毎に、前記ゲートドライバの出
力端子から順次出力されるゲート電圧を前記画素電極を
挟んで配したゲート線のうちの一方のゲート線に順次供
給する動作と、前記ゲートドライバの出力端子から順次
出力されるゲート電圧を前記画素電極を挟んで配したゲ
ート線のうちの他方のゲート線に順次供給する動作とを
交互に繰り返すデマルチプレクサとを具備し、前記デマ
ルチプレクサおよび画素を共通の製造工程により製造し
てなることを特徴とするものである。かかる発明によれ
ば、上記装置と同様な作用効果を得ることができる。ま
た、デマルチプレクサを設けたことによりゲートドライ
バの個数を半減することができる。また、デマルチプレ
クサおよび画素を共通の製造工程により形成するので、
製造コストの増加を招くことなく製造することができ
る。
Further, the active matrix type liquid crystal display device of the present invention has a gate driver for sequentially outputting a gate voltage from an output terminal in each field cycle, and sequentially from an output terminal of the gate driver every time the field cycle is switched. An operation of sequentially supplying an output gate voltage to one of the gate lines disposed across the pixel electrode, and a step of applying a gate voltage sequentially output from an output terminal of the gate driver across the pixel electrode A demultiplexer that alternately repeats an operation of sequentially supplying the other of the arranged gate lines to the other gate line, wherein the demultiplexer and the pixel are manufactured by a common manufacturing process. is there. According to this invention, the same operation and effect as those of the above device can be obtained. Further, by providing the demultiplexer, the number of gate drivers can be reduced by half. In addition, since the demultiplexer and the pixel are formed by a common manufacturing process,
It can be manufactured without increasing the manufacturing cost.

【0018】さらに、本発明のアクティブマトリクス型
液晶表示装置は、第1のスタートパルスを順次シフト
し、各ステージの出力信号をゲート電圧として前記画素
電極を挟んで配したゲート線のうちの一方のゲート線に
供給する第1のシフトレジスタと、第2のスタートパル
スを順次シフトし、各ステージの出力信号をゲート電圧
として前記画素電極を挟んで配したゲート線のうちの他
方のゲート線に供給する第2のシフトレジスタとを具備
し、前記第1および第2のシフトレジスタならびに画素
を共通の製造工程により製造してなることを特徴とする
ものである。かかる発明によれば、上記装置と同様な作
用効果を得ることができる。また、第1および第2のシ
フトレジスタを設けたことによりゲートドライバの外付
けが不要になる。また、各シフトレジスタおよび画素を
共通の製造工程により形成するので、製造コストの増加
を招くことなく製造することができる。
Further, in the active matrix type liquid crystal display device according to the present invention, the first start pulse is sequentially shifted, and the output signal of each stage is used as a gate voltage, and one of the gate lines arranged with the pixel electrode interposed therebetween. A first shift register for supplying a gate line and a second start pulse are sequentially shifted, and an output signal of each stage is supplied as a gate voltage to the other one of the gate lines disposed across the pixel electrode. And a second shift register, wherein the first and second shift registers and the pixel are manufactured by a common manufacturing process. According to this invention, the same operation and effect as those of the above device can be obtained. Further, the provision of the first and second shift registers eliminates the need for externally attaching a gate driver. Further, since each shift register and pixel are formed by a common manufacturing process, the shift register and the pixel can be manufactured without increasing the manufacturing cost.

【0019】[0019]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照し、本発明の実
施の形態について説明する。 [第1の基本構成例] 図1は、この発明の第1の基本構成例であるアクティブ
マトリクス型液晶表示装置の基板構成を示す平面図であ
る。前掲図15と同様、破線表示の各矩形は画素行列P
X(i,j)(i=1〜m,j=1〜n)を構成する個
々の画素を表している。前掲図15のアクティブマトリ
クス型液晶表示装置は、画素行列PX(i,j)(i=
1〜m,j=1〜n)の各列毎に1本ずつデータ線Dj
を有しており、かつ、各行毎に1本ずつゲート線Gjを
有していた。これに対し、図1に示す本基本構成例に係
るアクティブマトリクス型液晶表示装置では、画素行列
PX(i,j)(i=1〜m,j=1〜n)を各々2列
ずつに区切るようにn/2本のデータ線が形成されてお
り、各データ線は各々の両側の2m個の画素のTFT1
のソース電極に接続されている。図1では、これらのう
ち3本のデータ線Dj−2,Dj,Dj+2が例示され
ている。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. [First Basic Configuration Example ] FIG. 1 is a plan view showing a substrate configuration of an active matrix liquid crystal display device which is a first basic configuration example of the present invention. As in FIG. 15 described above, each rectangle indicated by a broken line is a pixel matrix P
Each pixel constituting X (i, j) (i = 1 to m, j = 1 to n) is shown. The active matrix type liquid crystal display device shown in FIG. 15 has a pixel matrix PX (i, j) (i =
1 to m, j = 1 to n), one for each data line Dj
And one gate line Gj for each row. On the other hand, in the active matrix type liquid crystal display device according to the basic configuration example shown in FIG. 1, the pixel matrix PX (i, j) (i = 1 to m, j = 1 to n) is divided into two columns each. As described above, n / 2 data lines are formed, and each data line is a TFT1 of 2m pixels on each side.
Are connected to the source electrode of FIG. 1 illustrates three of these data lines Dj-2, Dj, and Dj + 2.

【0020】また、画素行列PX(i,j)(i=1〜
m,j=1〜n)の各行については、各行を構成するn
個の画素を両側から挟むように第1のゲート線GAi
(i=1〜m)および第2のゲート線GBi(i=1〜
m)が各々形成されている。各行を構成するn個の画素
は、上記のn/2本のデータ線によって区切られ、各デ
ータ線間には画素が2個ずつ挟まれた状態となっている
が、第1および第2の各ゲート線はこれらの各データ線
間を交互に分担し、各データ線間の2画素のTFT1へ
のゲート電圧の供給を行う。また、各行に設けられた第
1および第2のゲート線は、隣接した各行間で異なった
データ線間を分担し、各データ線間の画素のTFT1へ
のゲート電圧の供給を行っている。
Further, the pixel matrix PX (i, j) (i = 1 to 1)
m, j = 1 to n), n constituting each row
Gate lines GAi so as to sandwich the pixels from both sides.
(I = 1 to m) and the second gate line GBi (i = 1 to m).
m) are each formed. The n pixels forming each row are separated by the above-mentioned n / 2 data lines, and two pixels are sandwiched between each data line. Each gate line alternately shares these data lines, and supplies a gate voltage to the TFT 1 of two pixels between each data line. The first and second gate lines provided in each row share different data lines between adjacent rows, and supply a gate voltage to the TFT 1 of the pixel between the data lines.

【0021】例えば第i行に着目すると、データ線Dj
−2およびDj間の2個の画素PX(i,j−1),P
X(i,j)に対しては第2のゲート線GBiによりゲ
ート電圧の供給が行われ、その隣りのデータ線Djおよ
びDj+2間に挟まれた2個の画素PX(i,j+
1),PX(i,j+2)に対しては第1のゲート線G
Aiによりゲート電圧の供給が行われる。一方、第i行
の隣りの第i−1行においては、データ線Dj−2およ
びDj間の2個の画素に対しては第1のゲート線GAi
−1によりゲート電圧の供給が行われ、その隣りのデー
タ線DjおよびDj+2間に挟まれた2個の画素に対し
ては第2のゲート線GBi−1によりゲート電圧の供給
が行われるのである。第i+1行についても同様であ
る。
For example, focusing on the i-th row, the data line Dj
-2 and PX (i, j-1), Pj between Dj
A gate voltage is supplied to X (i, j) by the second gate line GBi, and two pixels PX (i, j +) sandwiched between the adjacent data lines Dj and Dj + 2.
1), the first gate line G for PX (i, j + 2)
Ai supplies a gate voltage. On the other hand, in the (i-1) -th row adjacent to the i-th row, the first gate line GAi is provided for two pixels between the data lines Dj-2 and Dj.
The gate voltage is supplied by −1, and the gate voltage is supplied to the two pixels sandwiched between the adjacent data lines Dj and Dj + 2 by the second gate line GBi−1. . The same applies to the (i + 1) th row.

【0022】次に、本基本構成例のアクティブマトリク
ス型液晶表示装置用基板におけるTFTの具体的な構成
について説明する。図2および図3は、図1においてデ
ータ線Dj−2およびDj、第1のゲート線GAiおよ
び第2のゲート線GBiにより囲まれた2個の画素PX
(i,j−1),PX(i,j)のTFT部分を示す平
面図である。そして、図2はゲート線GBiの幅よりも
アイランド4の幅の方が大きい、いわゆるラージアイラ
ンド構造を採用した場合、図3はアイランド5の幅より
もゲート線GBiの幅の方が大きい、いわゆるラージゲ
ート構造を採用した場合、をそれぞれ示している。
Next, a specific configuration of the TFT in the substrate for an active matrix type liquid crystal display device of the present basic configuration example will be described. 2 and 3 show two pixels PX surrounded by data lines Dj-2 and Dj, a first gate line GAi, and a second gate line GBi in FIG.
It is a top view which shows the TFT part of (i, j-1) and PX (i, j). 2 adopts a so-called large island structure in which the width of the island 4 is larger than the width of the gate line GBi. FIG. 3 shows that the width of the gate line GBi is larger than the width of the island 5. The case where the large gate structure is adopted is shown.

【0023】本基本構成例のTFT1の平面構造の特徴
点は、図2および図3に共通であって、TFT1をなす
ゲート電極をゲート線GBi自体で構成し、画素電極6
に電気的に接続されたドレイン電極7がゲート線GBi
を横断している点にある。なお、図1は等価回路図であ
る都合上、上記の説明では「データ線はTFT1のソー
ス電極に接続されている」と述べたが、実際の構成では
図2、図3に示したように、データ線Dj−2、Dj自
体がTFT1のソース電極となっている。
The feature of the planar structure of the TFT 1 of this basic configuration example is common to FIGS. 2 and 3. The gate electrode constituting the TFT 1 is constituted by the gate line GBi itself, and the pixel electrode 6 is formed.
The drain electrode 7 electrically connected to the gate line GBi
At the point where it crosses. Although FIG. 1 is an equivalent circuit diagram, in the above description, "the data line is connected to the source electrode of the TFT 1", but in an actual configuration, as shown in FIG. 2 and FIG. , The data lines Dj-2 and Dj themselves are the source electrodes of the TFT1.

【0024】これに対して、上記と同じ箇所に従来一般
のTFTの構造を採用したものを図4A、Bに示す。す
なわち、ゲート電極50がゲート線GBiから突出し、
このゲート電極50の中央に向けて両側からソース電極
51、ドレイン電極52がそれぞれ延びている構造であ
る。この構造を採った場合、図4Aに示すように、ゲー
ト層とソース・ドレイン層との間に合わせズレがない場
合には、図中斜線で示したゲート−ドレイン間の寄生容
量CgdL3、CgdR3は左右どちらのTFTも等しいが、図
4Bに示すように、ソース・ドレイン層がゲート層に対
して左にずれた場合には、正常な場合と比べて左のTF
TのCgdL4は大きくなり、右のTFTのCgdR4は小さく
なる。これにより、右の画素と左の画素のフィードスル
ー電圧ΔVp が異なるようになり、液晶画面にフリッカ
や輝度むらが発生する。
On the other hand, FIGS. 4A and 4B show a structure in which the structure of a conventional general TFT is adopted in the same place as described above. That is, the gate electrode 50 protrudes from the gate line GBi,
The source electrode 51 and the drain electrode 52 extend from both sides toward the center of the gate electrode 50. In this structure, as shown in FIG. 4A, if there is no misalignment between the gate layer and the source / drain layer, the parasitic capacitances Cgd L3 and Cgd R3 between the gate and the drain shown by oblique lines in the figure. Is the same for both left and right TFTs. However, as shown in FIG. 4B, when the source / drain layer is shifted to the left with respect to the gate layer, the left TF is
Cgd L4 of T becomes large, and Cgd R4 of right TFT becomes small. As a result, the right pixel and the left pixel have different feedthrough voltages ΔVp, and flicker and uneven brightness occur on the liquid crystal screen.

【0025】一方、図2および図3に示した本基本構成
の構造を採った場合、画素電極6に接続するドレイン
電極7がゲート電極(ゲート線GBi)を横断している
ため、仮に合わせズレが生じても、左右のTFTのゲー
ト−ドレイン間寄生容量CgdL1とCgdR1、CgdL2とCgd
R2はそれぞれ等しく、フィードスルー電圧ΔVp も等し
くなるので、フリッカや輝度むらの発生を抑えることが
できる。図2、図3ではソース・ドレイン層がゲート層
に対して左にずれた場合を示しているが、右にずれた
り、角度がずれたりした(回転した)場合等において
も、左右のTFTのCgdLとCgdRは等しくなり、同様の
効果を得ることができる。
On the other hand, the basic configuration shown in FIGS. 2 and 3
In the case of the structure of the example , since the drain electrode 7 connected to the pixel electrode 6 crosses the gate electrode (gate line GBi), even if misalignment occurs, the gate-drain parasitic capacitance between the left and right TFTs Cgd L1 and Cgd R1 , Cgd L2 and Cgd
Since R2 is equal to each other and the feedthrough voltage ΔVp is equal to each other, the occurrence of flicker and uneven brightness can be suppressed. FIGS. 2 and 3 show the case where the source / drain layers are shifted to the left with respect to the gate layer. However, even if the source / drain layers are shifted to the right or the angle is shifted (rotated), etc. Cgd L and Cgd R become equal, and the same effect can be obtained.

【0026】次に、本基本構成例の動作について説明す
る。本基本構成例では、第1および第2の各ゲート線を
各フィールド周期間で交互に走査するインターレース方
式の走査により、2フィールド周期を要して1画面分の
画像表示が行われる。すなわち、例えば奇数フィールド
周期においては、第1のゲート線GAi(i=1〜m)
に一定時間ずつゲート電圧が順次印加される。また、各
ゲート線にゲート電圧が印加される期間、n/2本のデ
ータ線を介し、各ゲート線に接続されたn/2個の画素
に信号電圧が各々出力される。すなわち、図1に示す例
では、ゲート線GAiにゲート電圧が印加されている期
間、データ線Dj−2,Dj,Dj+2を介し、ゲート
線GAiに接続された画素PX(i,j−2),PX
(i,j+1),PX(i,j+2)に信号電圧が各々
供給されるのである。この結果、奇数フィールド周期に
おいては、m行n列の各画素のうちゲート線GA(i)
(i=1〜n)に接続された半分の画素に信号電圧の書
込みが行われる。
Next, the operation of the basic configuration example will be described. In this basic configuration example , an image of one screen is displayed in a two-field cycle by interlaced scanning in which the first and second gate lines are alternately scanned during each field cycle. That is, for example, in an odd field period, the first gate line GAi (i = 1 to m)
, A gate voltage is sequentially applied for a predetermined time. In addition, during a period in which a gate voltage is applied to each gate line, a signal voltage is output to n / 2 pixels connected to each gate line via n / 2 data lines. That is, in the example shown in FIG. 1, during the period when the gate voltage is applied to the gate line GAi, the pixels PX (i, j-2) connected to the gate line GAi via the data lines Dj-2, Dj, Dj + 2. , PX
Signal voltages are supplied to (i, j + 1) and PX (i, j + 2). As a result, in the odd field period, the gate line GA (i) among the pixels in m rows and n columns
The signal voltage is written to half the pixels connected to (i = 1 to n).

【0027】そして、次の偶数フィールド周期において
は、第2のゲート線GBi(i=1〜m)に一定時間ず
つゲート電圧が順次印加される。また、各ゲート線への
ゲート電圧の印加が行われる期間、n/2本のデータ線
を介し、各ゲート線に接続されたn/2個の画素に信号
電圧が印加される。この結果、偶数フィールド周期にお
いては、ゲート線GB(i)(i=1〜n)に接続され
た他の半分の画素に対する信号電圧の書込が行われる。
Then, in the next even-numbered field period, a gate voltage is sequentially applied to the second gate line GBi (i = 1 to m) for a predetermined time. In addition, during the period when the gate voltage is applied to each gate line, a signal voltage is applied to n / 2 pixels connected to each gate line via n / 2 data lines. As a result, in the even field period, the signal voltage is written to the other half pixels connected to the gate line GB (i) (i = 1 to n).

【0028】このように、本基本構成例によれば、2フ
ィールド周期を要して1画面分の信号電圧がm行n列の
全画素に書き込まれるため、1画面分の画像が完全な形
で表示される。
As described above, according to the basic configuration example , the signal voltage for one screen is written to all the pixels in m rows and n columns in a period of two fields, so that the image for one screen is completely formed. Is displayed with.

【0029】以上、本基本構成例の構成および動作につ
いて説明したが、本基本構成例の効果を列挙すると次の
通りである。 (1)データ線の本数を従来の半分とすることができ
る。したがって、データドライバの個数を減らすことが
でき、装置全体の価格を低減することができる。例えば
列方向の画素数が1920、行方向の画素数が480で
あるVGA対応の液晶表示パネルを構成する場合、デー
タ線の本数が960本で済む。したがって、例えば24
0個の出力端子を有するデータドライバを列方向に沿っ
て4個設けるのみでよく、データドライバの個数を半分
に減らすことができ、装置の低価格化が可能となる。な
お、本基本構成例の場合、1行当たり2本のゲート線を
使用するので、VGA対応の液晶表示パネルの場合はゲ
ート線が960本となり、ゲートドライバを4個使用す
ることとなる(従来は2個)。しかしながら、高価なデ
ータドライバの個数が半分になり、かつ、総部品点数が
少なくなるので、結局、装置全体としての価格は安くな
るのである。
[0029] Having described structure and operation of the basic configuration example is as the follows lists the effects of the present exemplary basic configuration. (1) The number of data lines can be reduced to half of the conventional one. Therefore, the number of data drivers can be reduced, and the price of the entire device can be reduced. For example, when a VGA-compatible liquid crystal display panel having 1920 pixels in the column direction and 480 pixels in the row direction is configured, only 960 data lines are required. Thus, for example, 24
It is only necessary to provide four data drivers having zero output terminals along the column direction, so that the number of data drivers can be reduced by half and the cost of the device can be reduced. In the case of this basic configuration example , two gate lines are used per row, so that in the case of a VGA-compatible liquid crystal display panel, the number of gate lines is 960 and four gate drivers are used (conventionally. Are two). However, since the number of expensive data drivers is halved and the total number of parts is reduced, the overall price of the device is eventually reduced.

【0030】(2)データ線の本数が従来の半分で済む
ため、表示エリアが小さい液晶表示パネルを構成する場
合においても、データ配線端子部の狭ピッチ化に関する
要求が厳しいものとはならない。
(2) Since the number of data lines is half that of the conventional case, even when a liquid crystal display panel having a small display area is constructed, the demand for narrowing the pitch of the data wiring terminal portions is not strict.

【0031】(3)上述した従来のアクティブマトリク
ス型液晶表示装置では、各フィールド周期においてn本
のデータ線を駆動したが、本基本構成例では各フィール
ド周期においてn/2本のデータ線しか駆動しない。こ
のため、本基本構成例では、各データドライバの駆動周
波数を従来の半分にすることができる。また、上述のよ
うにデータドライバの個数が従来の半分になる。したが
って、全データドライバの消費電力は従来の約1/4に
低減されることとなる。なお、本基本構成例では、ゲー
ト線の本数が従来の2倍になるため、ゲートドライバの
必要個数が増えることとなる。しかしながら、ゲートド
ライバの駆動周波数は、データドライバの駆動周波数に
比べて極めて低いため、ゲートドライバの増加に起因し
た全消費電力の増加分は僅かであり、結局、装置の全消
費電力は大幅に低減されることとなる。
(3) In the conventional active matrix type liquid crystal display device described above, n data lines are driven in each field cycle. In the basic configuration example , only n / 2 data lines are driven in each field cycle. do not do. For this reason, in the present basic configuration example , the driving frequency of each data driver can be reduced to half of the conventional one. Further, as described above, the number of data drivers is reduced to half of the conventional one. Therefore, the power consumption of all data drivers is reduced to about 1/4 of the conventional one. In the present basic configuration example , the number of gate lines is twice as large as that of the conventional example , so that the required number of gate drivers increases. However, since the drive frequency of the gate driver is extremely lower than the drive frequency of the data driver, the increase in the total power consumption due to the increase in the number of gate drivers is small, and in the end, the total power consumption of the device is greatly reduced. Will be done.

【0032】(4)本基本構成例においては、n/2本
のデータ線により区切られた各区間を第1および第2の
ゲート線が交互に分担し、各区間内の画素へのゲート電
圧の供給を行い、かつ、隣接する各行間では第1および
第2のゲート線が異なった区間を分担するようにしてい
るので、奇数フィールド周期であるか偶数フィールド周
期であるかに拘らず、常に全ての行においてn/2個の
画素による表示が行われ、かつ、全ての列においてm/
2の画素による表示が行われる。したがって、目障りな
縦縞あるいは横縞が画面に現れるラインクローリングが
生じ難いという利点がある。
(4) In the basic configuration example , the first and second gate lines alternately share each section divided by n / 2 data lines, and the gate voltage to the pixels in each section is divided. And between the adjacent rows, the first and second gate lines share different sections. Therefore, regardless of the odd field period or the even field period, Display is performed by n / 2 pixels in all rows, and m /
Display by two pixels is performed. Therefore, there is an advantage that line crawling in which unsightly vertical stripes or horizontal stripes appear on the screen hardly occurs.

【0033】(5)本基本構成例においては、TFTの
平面構造として画素電極に接続したドレイン電極がゲー
ト線GBiを横断する構成を採っているため、ゲート層
とソース・ドレイン層との間で合わせズレが生じても、
左右のTFTのCgdは等しく、フィードスルー電圧ΔV
p も等しくなるので、フリッカや輝度むらの発生を抑え
ることができる。
(5) In the basic configuration example , the drain electrode connected to the pixel electrode traverses the gate line GBi as the planar structure of the TFT, so that the TFT has a structure between the gate layer and the source / drain layer. Even if misalignment occurs,
The left and right TFTs have the same Cgd, and the feedthrough voltage ΔV
Since p also becomes equal, it is possible to suppress the occurrence of flicker and uneven brightness.

【0034】[第2〜第4の基本構成例] 図5〜図7はこの発明の第2〜第4の基本構成例の構成
を各々示すものである。これらの各基本構成例における
各ゲート線と各画素との具体的な接続関係は上記第1の
基本構成例において示したものとは異なっている。しか
し、いずれの基本構成例も、n/2本のデータ線が各々
2列ずつ分担して信号電圧の供給を行う点ならびに各行
毎に第1および第2のゲート線がn/2個ずつ画素を分
担してゲート電圧の供給を行う点において、上記第1の
基本構成例と変るところはない。これらの各基本構成例
は、本発明における各ゲート線と各画素の接続関係が上
記第1の基本構成例に限定されず種々の変形があり得る
ことを明らかにするため、その具体例として示したもの
である。これらの各基本構成例においても、上記第1の
基本構成例において挙げた効果(1)〜(3)と同様の
ものが得られる。なお、ラインクローリングの防止効果
に関しては、上記第1の基本構成例あるいは第3の基本
構成例(図6)が最良であり、第2の基本構成例(図
5)および第4の基本構成例(図7)は他に比べて縦縞
が現れ易いという欠点がある。
[Second to Fourth Basic Configuration Examples ] FIGS. 5 to 7 show the configurations of the second to fourth basic configuration examples of the present invention, respectively. The specific connection relationship between each gate line and each pixel in each of these basic configuration examples is described in the first embodiment.
This is different from that shown in the basic configuration example . However, in each of the basic configuration examples , the n / 2 data lines share two columns each to supply a signal voltage, and the pixel has n / 2 first and second gate lines for each row. In that the gate voltage is supplied by sharing
There is no difference from the basic configuration example . Examples Each of these basic configurations <br/> is to clarify that the connection relationship between the gate lines and the pixel in the present invention there may be variously modified without being limited to the first basic configuration example above, the This is shown as a specific example. Also in each of these basic configuration examples , the first
Effects similar to the effects (1) to (3) described in the basic configuration example can be obtained. Regarding the effect of preventing line crawling, basic of the first basic configuration example or the third
The configuration example (FIG. 6) is the best, and the second basic configuration example (FIG. 5) and the fourth basic configuration example (FIG. 7) have a drawback that vertical stripes are more likely to appear than the others.

【0035】また、図5および図6に示した等価回路に
対応するTFTの具体的な構成を図8、図9にそれぞれ
示す。図8はラージアイランド構造を採用した場合、図
9はラージゲート構造を採用した場合の図である。これ
らの図に示すように、本基本構成例においても第1の
本構成例と同様、画素電極6に接続したドレイン電極7
がゲート線GAi、GBiをそれぞれ横断する構成を採
っているため、ゲート層とソース・ドレイン層との間で
合わせズレが生じても、左右のTFTのCgdは等しく、
フィードスルー電圧ΔVp も等しくなるので、フリッカ
や輝度むらの発生を抑えることができる。すなわち、上
記第1の基本構成例において挙げた効果(5)を得るこ
とができる。
FIGS. 8 and 9 show a specific structure of a TFT corresponding to the equivalent circuit shown in FIGS. 5 and 6, respectively. FIG. 8 is a diagram when the large island structure is adopted, and FIG. 9 is a diagram when the large gate structure is adopted. As shown in these drawings, also in this basic configuration example a first group
As in the present configuration example , the drain electrode 7 connected to the pixel electrode 6
Has a configuration that crosses the gate lines GAi and GBi, respectively, so that even if misalignment occurs between the gate layer and the source / drain layer, the Cgd of the left and right TFTs is equal,
Since the feedthrough voltage ΔVp becomes equal, the occurrence of flicker and uneven brightness can be suppressed. That is, the effect (5) described in the first basic configuration example can be obtained.

【0036】[第の実施の形態] コントラストを高め、かつ、クロストークを低減し、画
質を高めるためには、各画素の信号電圧を保持する能力
を高めるのが効果的である。このため、アクティブマト
リクス型液晶表示装置においては、各画素電極に対し蓄
積容量を各々接続した構成がよく採られる。本実施の形
態は、上記第1の基本構成例において示した構成に改良
を加え、各画素電極に蓄積容量を接続したものである。
本実施の形態の構成を図10に示す。この図に示すよう
に、各画素PX(i,j)(i=1〜m,j=1〜n)
には、蓄積容量3が各々形成されており、これらの蓄積
容量3の一方の電極が各画素の画素電極(すなわち、液
晶容量2の一方の電極)に接続されている。また、各画
素PX(i,j)(i=1〜m,j=1〜n)は、n/
2本のデータ線(図10ではこれらのうちの3本のデー
タ線Dj−2,Dj,Dj+2を図示)によって2列ず
つに区切られているが、これらのデータ線の形成されて
ない各画素間の境界領域にデータ線と平行にCs線(蓄
積容量線)が各々形成されている。各画素の蓄積容量3
の他方の電極は、これらのCs線を介することにより図
示しない基準電源に接続されている。
The enhanced First Embodiment contrast and to reduce cross-talk, in order to enhance the image quality, it is effective to enhance the ability to hold a signal voltage of each pixel. For this reason, in an active matrix type liquid crystal display device, a configuration in which a storage capacitor is connected to each pixel electrode is often adopted. This embodiment is obtained by improving the configuration shown in the first basic configuration example and connecting a storage capacitor to each pixel electrode.
FIG. 10 shows the configuration of the present embodiment. As shown in this figure, each pixel PX (i, j) (i = 1 to m, j = 1 to n)
, Storage capacitors 3 are formed, and one electrode of the storage capacitors 3 is connected to the pixel electrode of each pixel (that is, one electrode of the liquid crystal capacitor 2). Further, each pixel PX (i, j) (i = 1 to m, j = 1 to n) is n /
Each pixel is divided into two columns by two data lines (three data lines Dj-2, Dj, and Dj + 2 are shown in FIG. 10), but each of these pixels is not formed with these data lines. Cs lines (storage capacitor lines) are formed in the boundary region between the data lines in parallel with the data lines. Storage capacity of each pixel 3
Is connected to a reference power source (not shown) via these Cs lines.

【0037】本実施の形態によれば、このようにして各
画素電極に接続された蓄積容量3により各画素の信号電
圧の保持能力が高められるため、高コントラスト化およ
びクロストークの低減という効果が得られる。また、本
実施の形態によれば、2列の画素列で1本のCs線を共
用する構成となっているため、ゲート線の本数が従来の
2倍になったとしても、開口率の低下を招くことはな
い。本願発明者は、従来のアクティブマトリクス型液晶
表示装置に対し本実施の形態に係る構造を適用した場合
の効果を確認するため、デザインルールを変えないで本
実施の形態に係る構造のもののレイアウト設計を試行し
てみた。この結果、従来と同程度の開口率が得られた。
According to the present embodiment, the storage capacity 3 connected to each pixel electrode enhances the signal voltage holding capability of each pixel in this manner, and thus has the effect of increasing contrast and reducing crosstalk. can get. Further, according to the present embodiment, since one Cs line is shared by two pixel columns, the aperture ratio is reduced even if the number of gate lines is doubled as compared with the conventional case. Will not be invited. The inventor of the present application confirmed the effect of applying the structure according to the present embodiment to a conventional active matrix type liquid crystal display device, and designed the layout of the structure according to the present embodiment without changing the design rules. I tried. As a result, the same aperture ratio as the conventional one was obtained.

【0038】さて、本実施の形態のように各画素電極に
蓄積容量3を接続すると、各画素への信号電圧の書込み
時に書込み電流がCs線に流れる。したがって、Cs線
の配線抵抗が高い場合には、この配線抵抗に起因した書
込み不足が生じる場合がある。これはコントラストの低
下、クロストークの増大等の画質低下の原因となる。こ
のような不具合を防止するための手段として、Cs線の
幅を広くし、配線抵抗を低下させることも考えられる
が、開口率の低下を招くため好ましくない。
When the storage capacitor 3 is connected to each pixel electrode as in this embodiment, a write current flows to the Cs line when a signal voltage is written to each pixel. Therefore, when the wiring resistance of the Cs line is high, insufficient writing may occur due to the wiring resistance. This causes a decrease in image quality such as a decrease in contrast and an increase in crosstalk. As a means for preventing such a problem, it is conceivable to increase the width of the Cs line and reduce the wiring resistance, but this is not preferable because the aperture ratio is reduced.

【0039】そこで、本実施の形態では、その構造上、
常に各Cs線に2画素分の書込み電流が流れるという第
1の実施の形態の特徴を活かし、これらの書込み電流を
相殺し各Cs配線の電圧降下を低減する手段を講じてい
る。さらに詳述すると、本実施の形態では、図示しない
データドライバがn/2本のデータ線に信号電圧を各々
印加する際、隣接する2本のデータ線に対し常に逆極性
の信号電圧が印加されるように各信号電圧を出力する。
すなわち、あるフィールド周期において例えばゲート線
GBiにゲート電圧が印加されるものとすると、このと
きデータ線Dj−2には例えば正の信号電圧を印加し、
これと隣接するデータ線Djには負の信号電圧を印加す
るのである。このような逆極性の信号電圧の印加を行う
結果、データ線Dj−2およびDjの間のCs線には、
これらの各信号電圧に対応した書込み電流が流れること
となるが、これらの各書込み電流は相殺することとな
る。このため、Cs線には僅かな電流しか流れず、書込
み不足の問題は生じないのである。
Therefore, in this embodiment, due to its structure,
Taking advantage of the feature of the first embodiment in which a write current for two pixels always flows through each Cs line, a means is provided for canceling these write currents and reducing the voltage drop of each Cs line. More specifically, in the present embodiment, when a data driver (not shown) applies a signal voltage to each of n / 2 data lines, a signal voltage of opposite polarity is always applied to two adjacent data lines. To output each signal voltage.
That is, assuming that a gate voltage is applied to the gate line GBi in a certain field cycle, for example, a positive signal voltage is applied to the data line Dj-2 at this time,
A negative signal voltage is applied to the adjacent data line Dj. As a result of applying the signal voltage of the opposite polarity, the Cs line between the data lines Dj-2 and Dj is
A write current corresponding to each of these signal voltages flows, but these write currents cancel each other. Therefore, only a small current flows through the Cs line, and the problem of insufficient writing does not occur.

【0040】以上、第1の基本構成例(図1)に蓄積容
量およびCs線の付加を行う場合を例に説明したが、第
4の基本構成例(図7)に蓄積容量およびCs線の付加
を行ってもよい。この第4の基本構成例も、第1の基本
構成例と同様、2本のデータ線間に挟まれた2画素に同
時に書込み電流が流れる構成となっているため、本実施
の形態と同様の構成を採った場合に各Cs線において各
書込み電流を相殺することができるからである。
The case where the storage capacitance and the Cs line are added to the first basic configuration example (FIG. 1) has been described above. However, the fourth basic configuration example (FIG. 7) shows the case where the storage capacitance and the Cs line are added. An addition may be made. The fourth basic configuration example also, the first basic
Similar to the configuration example, since the same time a configuration in which the write current flows through the two pixels sandwiched between two data lines, each write in the Cs line when taken in the form on purpose similar configuration of the present embodiment This is because the current can be offset.

【0041】[第の実施の形態] 図11AおよびBは本発明の第の実施の形態であるア
クティブマトリクス型液晶表示装置の構成を示すもので
あり、図11Aは同装置の平面図、図11Bは図11A
のI−I線視断面図である。これらの各図において、1
0はTFT基板であり、画素電極、TFT、蓄積容量、
データ線およびゲート線からなるTFTマトリクス部1
1が形成されている。なお、このTFTマトリクス部1
1については、既に第1の実施の形態として説明したも
のと同様の構成のものを採用すればよい。したがって、
ここでの重複した説明は省略する。また、20は対向基
板であり、各画素電極と対向する共通電極が形成されて
いる。これらのTFT基板10および対向基板20は一
定の間隙を隔てて対向しており、その間隙には液晶が封
入されている。また、30,30はゲートドライバ、4
0,40,…はデータドライバであり、各々240本の
出力端子を有している。
[ Second Embodiment] FIGS. 11A and 11B show a configuration of an active matrix liquid crystal display device according to a second embodiment of the present invention. FIG. 11A is a plan view of the device. FIG. 11B is FIG. 11A
FIG. 2 is a sectional view taken along line II of FIG. In each of these figures, 1
Reference numeral 0 denotes a TFT substrate, which includes a pixel electrode, a TFT, a storage capacitor,
TFT matrix part 1 composed of data lines and gate lines
1 is formed. Note that this TFT matrix section 1
As for 1, the same configuration as that already described as the first embodiment may be adopted. Therefore,
The duplicate description here is omitted. Reference numeral 20 denotes a counter substrate on which a common electrode facing each pixel electrode is formed. The TFT substrate 10 and the counter substrate 20 face each other with a certain gap therebetween, and a liquid crystal is sealed in the gap. 30 and 30 are gate drivers, 4
Are data drivers, each having 240 output terminals.

【0042】このアクティブマトリクス型液晶表示装置
は、列方向の画素数が1920、行方向の画素数が48
0であるVGA対応の液晶表示パネルである。したがっ
て、TFTマトリクス部11は960本のデータ線と9
60本のゲート線とを有している。そして、960本の
データ線を駆動するため、TFT基板10には4個のデ
ータドライバ40が4個外付けされている。一方、ゲー
ト線は960本あるため、本来ならば4個のゲートドラ
イバ30が必要とされるところであるが、本実施の形態
ではTFT基板10上にデマルチプレクサ部12を設け
ることでゲートドライバ30の個数を半分の2個にして
いる。このデマルチプレクサ部12は、TFT基板10
上にTFTおよび信号配線を形成してなるものである
が、TFT基板上10上にTFTマトリクス部11を形
成する際に同時に形成される。したがって、このデマル
チプレクサ部12をTFT基板10上に形成するために
新たな製造工程を追加する必要はない。
This active matrix type liquid crystal display device has 1920 pixels in the column direction and 48 pixels in the row direction.
This is a VGA-compatible liquid crystal display panel which is 0. Therefore, the TFT matrix section 11 has 960 data lines and 9
It has 60 gate lines. In order to drive 960 data lines, four data drivers 40 are externally provided on the TFT substrate 10. On the other hand, since there are 960 gate lines, four gate drivers 30 are originally required, but in the present embodiment, the demultiplexer unit 12 is provided on the TFT substrate 10 so that The number is halved to two. The demultiplexer section 12 is provided on the TFT substrate 10
The TFT and the signal wiring are formed thereon, and are formed simultaneously when the TFT matrix portion 11 is formed on the TFT substrate 10. Therefore, it is not necessary to add a new manufacturing process to form the demultiplexer unit 12 on the TFT substrate 10.

【0043】図12はデマルチプレクサ部12の回路構
成を示すものである。図12に示すように、デマルチプ
レクサ部12は、インバータ120と480個のデマル
チプレクサDMPX1〜DMPX480とにより構成さ
れている。各デマルチプレクサは、各々TFTによる4
個のトランスファゲート121〜124を有している。
トランスファーゲート121および124の各ゲートに
は、図示しない制御回路から切換信号Vselectが
供給される。また、トランスファーゲート122および
123の各ゲートには、切換信号Vselectをイン
バータ120によって反転した信号が供給される。
FIG. 12 shows a circuit configuration of the demultiplexer section 12. As shown in FIG. 12, the demultiplexer unit 12 includes an inverter 120 and 480 demultiplexers DMPX1 to DMPX480. Each demultiplexer has four TFTs.
Transfer gates 121 to 124.
A switching signal Vselect is supplied to each of the transfer gates 121 and 124 from a control circuit (not shown). A signal obtained by inverting the switching signal Vselect by the inverter 120 is supplied to each of the transfer gates 122 and 123.

【0044】次に、本実施の形態の動作を説明する。各
フィールド周期において、デマルチプレクサDMPX1
〜DMPX480の各入力端子には、図11A、Bにお
ける2個のゲートドライバ30から得られる480個の
出力信号SR1〜SR480が順次供給される。また、
フィールド周期が切り換わる毎に切換信号Vselec
tのレベルが反転される。この結果、デマルチプレクサ
部12では以下の動作が行われる。なお、以下の例では
各トランスファーゲート121〜124はnチャネルの
TFTにより構成されているものとする。
Next, the operation of this embodiment will be described. In each field period, the demultiplexer DMPX1
480 output signals SR1 to SR480 obtained from the two gate drivers 30 in FIGS. 11A and 11B are sequentially supplied to the input terminals of 〜DMPX480. Also,
Each time the field cycle switches, the switching signal Vselect
The level of t is inverted. As a result, the following operation is performed in the demultiplexer unit 12. In the following example, each of the transfer gates 121 to 124 is configured by an n-channel TFT.

【0045】まず、例えば奇数フィールド周期において
切換信号Vselectがハイレベルとなったとする
と、各デマルチプレクサDMPX1〜DMPX480で
は、トランスファーゲート121および124がオン状
態、トランスファーゲート122および123がオフ状
態となる。したがって、この奇数フィールド周期におい
てゲートドライバから順次出力される出力信号SR1〜
SR480は、デマルチプレクサDMPX1〜DMPX
480の各トランスファーゲート121を介し、480
本の第1のゲート線GA1〜GA480に順次印加され
る。この間、第2のゲート線GB1〜GB480に対し
ては、デマルチプレクサDMPX1〜DMPX480の
各トランスファーゲート124を介し、ローレベルの基
準電圧Vg−lowが印加される。したがって、この
間、TFTマトリクス部11において第2のゲート線に
接続された全てのTFTはオフ状態とされる。
First, for example, assuming that the switching signal Vselect goes high in an odd-numbered field cycle, in each of the demultiplexers DMPX1 to DMPX480, the transfer gates 121 and 124 are turned on, and the transfer gates 122 and 123 are turned off. Therefore, output signals SR1 to SR1 sequentially output from the gate driver in the odd field period are set.
SR480 includes demultiplexers DMPX1 to DMPX.
480 via each transfer gate 121 of 480
It is sequentially applied to the first gate lines GA1 to GA480. During this time, the low-level reference voltage Vg-low is applied to the second gate lines GB1 to GB480 via the transfer gates 124 of the demultiplexers DMPX1 to DMPX480. Accordingly, during this time, all TFTs connected to the second gate line in the TFT matrix section 11 are turned off.

【0046】次に偶数フィールド周期に切り換わり、各
切換信号Vselectがローレベルとなったとする
と、各デマルチプレクサDMPX1〜DMPX480で
は、トランスファーゲート122および123がオン状
態、トランスファーゲート121および124がオフ状
態となる。したがって、この偶数フィールド周期におい
てゲートドライバから順次出力される出力信号SR1〜
SR480は、デマルチプレクサDMPX1〜DMPX
480の各トランスファーゲート123を介し、第2の
ゲート線GB1〜GB480に順次印加される。この
間、第1のゲート線GA1〜GA480に対しては、デ
マルチプレクサDMPX1〜DMPX480の各トラン
スファーゲート122を介し、ローレベルの基準電圧V
g−lowが印加される。
Next, assuming that the period is switched to the even-numbered field period and each switching signal Vselect becomes low level, in each of the demultiplexers DMPX1 to DMPX480, the transfer gates 122 and 123 are turned on, and the transfer gates 121 and 124 are turned off. Become. Therefore, output signals SR1 to SR1 sequentially output from the gate driver in this even field period are set.
SR480 includes demultiplexers DMPX1 to DMPX.
480 are sequentially applied to the second gate lines GB1 to GB480 via the transfer gates 123. During this time, the low-level reference voltage V is supplied to the first gate lines GA1 to GA480 via the transfer gates 122 of the demultiplexers DMPX1 to DMPX480.
g-low is applied.

【0047】このように奇数フィールド周期においては
第1のゲート線、偶数フィールド周期においては第2の
ゲート線という具合に、ゲートドライバの出力信号の供
給先を各フィールド周期間で切り換えるインターレース
が行われるため、ゲートドライバの個数を半分に減らす
ことができるのである。
As described above, the interlace for switching the supply destination of the output signal of the gate driver between the respective field periods is performed, such as the first gate line in the odd field period and the second gate line in the even field period. Therefore, the number of gate drivers can be reduced by half.

【0048】[第の実施の形態] 図13AおよびBはこの発明の第の実施の形態である
アクティブマトリクス型液晶表示装置の構成を示すもの
であり、図13Aは同装置の平面図、図13Bは図13
AのII−II線視断面図である。上述の第の実施の形態
では、TFT基板10上にデマルチプレクサ部12を形
成することで、ゲートドライバ30の個数の半減化を図
った。本実施の形態では、このデマルチプレクサ部12
に代えて、シフトレジスタ部13をTFT基板10上に
形成することで、外付けのゲートドライバ30を一切不
要にした。
Third Embodiment FIGS. 13A and 13B show a configuration of an active matrix type liquid crystal display device according to a third embodiment of the present invention. FIG. 13A is a plan view of the device. FIG. 13B is FIG.
FIG. 2A is a sectional view taken along line II-II of FIG. In the above-described second embodiment, the number of the gate drivers 30 is reduced by half by forming the demultiplexer unit 12 on the TFT substrate 10. In the present embodiment, the demultiplexer unit 12
Instead of forming the shift register unit 13 on the TFT substrate 10, the external gate driver 30 is not required at all.

【0049】シフトレジスタ部13の回路構成を図14
に示す。このシフトレジスタ部13も、上記第の実施
の形態におけるデマルチプレクサ部12と同様、TFT
基板10にTFTマトリクス部11を形成する際に同時
に形成されるものである。
FIG. 14 shows a circuit configuration of the shift register section 13.
Shown in The shift register unit 13 also has a TFT similar to the demultiplexer unit 12 in the second embodiment.
It is formed at the same time when the TFT matrix portion 11 is formed on the substrate 10.

【0050】図14に示すように、シフトレジスタ部1
3は、480個のレジスタ部REG1〜REG480を
カスケード接続してなるものである。これらのレジスタ
部は、各々、トランスファーゲート131A、インバー
タ132A、トランスファーゲート133Aおよびイン
バータ134Aからなる第1のフリップフロップと、ト
ランスファーゲート131B、インバータ132B、ト
ランスファーゲート133Bおよびインバータ134B
からなる第2のフリップフロップにより構成されてい
る。各レジスタ部REG1〜REG480の第1のフリ
ップフロップの出力端(すなわち、インバータ134A
の出力端)は、TFTマトリクス部11の第1のゲート
線GA1〜GA480に各々接続されている。一方、各
レジスタ部REG1〜REG480の第2のフリップフ
ロップの出力端(すなわち、インバータ134Bの出力
端)は、TFTマトリクス部11の第2のゲート線GB
1〜GB480に各々接続されている。
As shown in FIG. 14, the shift register unit 1
Reference numeral 3 denotes a cascade connection of 480 register units REG1 to REG480. These register units each include a first flip-flop including a transfer gate 131A, an inverter 132A, a transfer gate 133A, and an inverter 134A, and a transfer gate 131B, an inverter 132B, a transfer gate 133B, and an inverter 134B.
And a second flip-flop composed of The output terminal of the first flip-flop of each of the register units REG1 to REG480 (that is, the inverter 134A
Are connected to the first gate lines GA1 to GA480 of the TFT matrix unit 11, respectively. On the other hand, the output terminal of the second flip-flop of each of the register units REG1 to REG480 (that is, the output terminal of the inverter 134B) is connected to the second gate line GB of the TFT matrix unit 11.
1 to GB480.

【0051】次に、本実施の形態の動作を説明する。こ
のシフトレジスタ部13には、2相のクロックCK1お
よびCK2が供給される。これらのうち第1相のクロッ
クCK1は、各レジスタ部のトランスファーゲート13
1Aおよび131Bに供給され、第2相のクロックCK
2は、各レジスタ部のトランスファーゲート133Aお
よび133Bに供給される。
Next, the operation of this embodiment will be described. The shift register unit 13 is supplied with two-phase clocks CK1 and CK2. Of these, the first phase clock CK1 is supplied to the transfer gate 13 of each register section.
1A and 131B and the second phase clock CK
2 is supplied to the transfer gates 133A and 133B of each register section.

【0052】また、奇数フィールド周期では、その開始
時点において第1段目のレジスタ部REG1の第1のフ
リップフロップにスタートパルスSPAが供給される。
このため、奇数フィールド周期では、カスケード接続さ
れた各レジスタ部の第1のフリップフロップ間をスター
トパルスSPAが順次シフトしてゆく。この結果、各レ
ジスタ部の第1のフリップフロップの出力端(すなわ
ち、各レジスタ部のインバータ134Aの出力端)から
スタートパルスSPAに相当するゲート電圧が順次出力
され、第1のゲート線GA1〜GA480に順次印加さ
れる。なお、奇数フィールド周期では、各レジスタ部の
第2のフリップフロップ間でもシフト動作が行われる
が、第1段目のレジスタ部REG1の第2のフリップフ
ロップにはローレベルの信号が与えられる。したがっ
て、奇数フィールド周期では、第2のゲート線GB1〜
GB480はローレベルに固定される。
In the odd-numbered field period, the start pulse SPA is supplied to the first flip-flop of the first-stage register unit REG1 at the start time.
Therefore, in the odd-numbered field period, the start pulse SPA sequentially shifts between the first flip-flops of the cascade-connected register units. As a result, the gate voltage corresponding to the start pulse SPA is sequentially output from the output terminal of the first flip-flop of each register unit (that is, the output terminal of the inverter 134A of each register unit), and the first gate lines GA1 to GA480 are output. Are sequentially applied. Note that in the odd field period, a shift operation is performed between the second flip-flops of each register unit, but a low-level signal is supplied to the second flip-flop of the first-stage register unit REG1. Therefore, in the odd field period, the second gate lines GB1 to GB1
GB480 is fixed at a low level.

【0053】次に、偶数フィールド周期では、その開始
時点において第1段目のレジスタ部REG1の第2のフ
リップフロップにスタートパルスSPBが供給される。
このため、偶数フィールド周期では、各レジスタ部の第
2のフリップフロップ間をスタートパルスSPBが順次
シフトしてゆく。この結果、各レジスタ部の第2のフリ
ップフロップの出力端(すなわち、各レジスタ部のイン
バータ134Bの出力端)からスタートパルスSPBに
相当するゲート電圧が順次出力され、第2のゲート線G
B1〜GB480に順次印加される。なお、偶数フィー
ルド周期では、各レジスタ部の第1のフリップフロップ
間でもシフト動作が行われるが、第1段目のレジスタ部
REG1の第1のフリップフロップにはローレベルの信
号が与えられるため、第1のゲート線GA1〜GA48
0はローレベルに固定される。
Next, in the even field period, the start pulse SPB is supplied to the second flip-flop of the register unit REG1 of the first stage at the start time.
For this reason, in the even field period, the start pulse SPB is sequentially shifted between the second flip-flops of each register section. As a result, a gate voltage corresponding to the start pulse SPB is sequentially output from the output terminal of the second flip-flop of each register unit (that is, the output terminal of the inverter 134B of each register unit), and the second gate line G
B1 to GB480 are sequentially applied. Note that, in the even-numbered field period, a shift operation is performed between the first flip-flops of the register units, but a low-level signal is supplied to the first flip-flop of the first-stage register unit REG1. First gate lines GA1 to GA48
0 is fixed to a low level.

【0054】このように、本実施の形態によれば、TF
T基板10上に形成したシフトレジスタ部13により、
TFTマトリクス部11の第1および第2のゲート線の
インターレース駆動が行われるため、ゲートドライバを
外付けする必要がなく、部品点数を減らし、装置の小型
化および低価格化を図ることができる。
As described above, according to the present embodiment, TF
By the shift register unit 13 formed on the T substrate 10,
Since the first and second gate lines of the TFT matrix section 11 are interlaced, there is no need to provide an external gate driver, the number of components can be reduced, and the size and cost of the device can be reduced.

【0055】なお、以上のような構成のシフトレジスタ
部13を設ける代わりに、480段のシフトレジスタと
上記第の実施の形態におけるデマルチプレクサ部12
を組合せたものをTFT基板10上に形成してもよい。
この場合においても、上記第の実施の形態と同様な効
果が得られる。
It should be noted that instead of providing the shift register section 13 having the above configuration, a 480-stage shift register and the demultiplexer section 12 in the second embodiment are used.
May be formed on the TFT substrate 10.
In this case, the same effect as in the third embodiment can be obtained.

【0056】以上、本発明の各実施の形態について説明
した。なお、各実施の形態では、説明の便宜のため、列
の並び方向(画面水平方向)にデータ線が並び、行の並
び方向(画面垂直方向)にゲート線が並んだアクティブ
マトリクス型液晶表示装置を例に説明したが、データ線
およびゲート線と行および列の並び方向との関係はこれ
に固定されるものではない。本発明の主題事項は、デー
タ線とゲート線のレイアウトにあるのである。
The embodiments of the present invention have been described above. In each of the embodiments, for convenience of explanation, an active matrix liquid crystal display device in which data lines are arranged in a column arrangement direction (screen horizontal direction) and gate lines are arranged in a row arrangement direction (screen vertical direction). However, the relationship between the data lines and gate lines and the direction in which the rows and columns are arranged is not limited to this. The subject matter of the present invention lies in the layout of the data lines and the gate lines.

【0057】[0057]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によるアク
ティブマトリクス型液晶表示装置によれば、データ線の
本数が従来の半分になるので、必要なデータドライバの
数が少なくて済み、装置の価格を下げ、かつ、装置の消
費電力を低減することができ、また、表示エリアの小さ
なものを構成する場合においてもデータ配線端子部の狭
ピッチ化に関する要求が厳しいものとならないという効
果がある。
As described above, according to the active matrix type liquid crystal display device of the present invention, the number of data lines is reduced to half that of the conventional one, so that the number of necessary data drivers is reduced and the price of the device is reduced. And the power consumption of the device can be reduced, and the demand for narrowing the pitch of the data wiring terminal portions does not become strict even when the display area is small.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明の第1の基本構成例であるアクティブ
マトリクス型液晶表示装置用基板の構成を示す平面図で
ある。
FIG. 1 is a plan view showing a configuration of a substrate for an active matrix type liquid crystal display device which is a first basic configuration example of the present invention.

【図2】 同基板のTFT部分(ラージアイランド構造
の場合)の構成を示す平面図である。
FIG. 2 is a plan view showing a configuration of a TFT portion (in the case of a large island structure) on the same substrate.

【図3】 同基板のTFT部分(ラージゲート構造の場
合)の構成を示す平面図である。
FIG. 3 is a plan view showing a configuration of a TFT portion (in the case of a large gate structure) of the substrate.

【図4】 同基板のTFT部分に従来一般の構造を適用
した場合の構成を示す平面図である。
FIG. 4 is a plan view showing a configuration when a conventional general structure is applied to a TFT portion of the substrate.

【図5】 本発明の第2の基本構成例であるアクティブ
マトリクス型液晶表示装置用基板の構成を示す平面図で
ある。
FIG. 5 is a plan view showing a configuration of a substrate for an active matrix type liquid crystal display device which is a second basic configuration example of the present invention.

【図6】 本発明の第3の基本構成例であるアクティブ
マトリクス型液晶表示装置用基板の構成を示す平面図で
ある。
FIG. 6 is a plan view showing a configuration of a substrate for an active matrix type liquid crystal display device which is a third basic configuration example of the present invention.

【図7】 本発明の第4の基本構成例であるアクティブ
マトリクス型液晶表示装置用基板の構成を示す平面図で
ある。
FIG. 7 is a plan view showing a configuration of a substrate for an active matrix type liquid crystal display device which is a fourth basic configuration example of the present invention.

【図8】 第2または第3の基本構成例の基板のTFT
部分(ラージアイランド構造の場合)の構成を示す平面
図である。
FIG. 8 shows a TFT of a substrate according to the second or third basic configuration example.
It is a top view which shows the structure of a part (in the case of a large island structure).

【図9】 第2または第3の基本構成例の基板のTFT
部分(ラージゲート構造の場合)の構成を示す平面図で
ある。
FIG. 9 shows a TFT on a substrate of the second or third basic configuration example.
It is a top view which shows the structure of a part (in the case of a large gate structure).

【図10】 本発明の第の実施の形態であるアクティ
ブマトリクス型液晶表示装置用基板の構成を示す平面図
である。
FIG. 10 is a plan view showing a configuration of an active matrix type liquid crystal display device substrate according to a first embodiment of the present invention.

【図11】 本発明の第の実施の形態であるアクティ
ブマトリクス型液晶表示装置の構成を示す図であり、図
11Aは同装置の平面図、図11Bは図13AのI−I
線視断面図である。
11A and 11B are diagrams showing a configuration of an active matrix type liquid crystal display device according to a second embodiment of the present invention. FIG. 11A is a plan view of the device, and FIG. 11B is II in FIG. 13A.
FIG.

【図12】 同実施の形態におけるデマルチプレクサ部
の構成を示す回路図である。
FIG. 12 is a circuit diagram showing a configuration of a demultiplexer unit according to the embodiment.

【図13】 本発明の第の実施の形態であるアクティ
ブマトリクス型液晶表示装置の構成を示す図であり、図
13Aは同装置の平面図、図13Bは図13AのII−II
線視断面図である。
FIG. 13 is a diagram showing a configuration of an active matrix type liquid crystal display device according to a third embodiment of the present invention, FIG. 13A is a plan view of the device, and FIG. 13B is II-II in FIG. 13A.
FIG.

【図14】 同実施の形態におけるシフトレジスタ部の
構成を示す回路図である。
FIG. 14 is a circuit diagram illustrating a configuration of a shift register unit according to the embodiment.

【図15】 従来のアクティブマトリクス型液晶表示装
置の構成を示す平面図である。
FIG. 15 is a plan view showing a configuration of a conventional active matrix liquid crystal display device.

【図16】 アクティブマトリクス型液晶表示装置のゲ
ート線の走査の手順を示す図である。
FIG. 16 is a view showing a procedure of scanning a gate line of the active matrix type liquid crystal display device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

PX(i,j) 画素 Dj データ線 Gi ゲート線 1 TFT 2 液晶容量 3 蓄積容量 4,5 アイランド 6 画素電極 7 ドレイン電極 Cs 蓄積容量線 PX (i, j) Pixel Dj Data line Gi Gate line 1 TFT 2 Liquid crystal capacitance 3 Storage capacitance 4, 5 Island 6 Pixel electrode 7 Drain electrode Cs Storage capacitance line

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平4−264529(JP,A) 特開 平2−42420(JP,A) 特開 平2−253232(JP,A) 特開 平5−173167(JP,A) 特開 昭64−84297(JP,A) 実開 平1−133124(JP,U) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G02F 1/1362 G02F 1/1343 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (56) References JP-A-4-264529 (JP, A) JP-A-2-42420 (JP, A) JP-A-2-253232 (JP, A) JP-A-5-254 173167 (JP, A) JP-A-64-84297 (JP, A) JP-A-1-133124 (JP, U) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) G02F 1/1362 G02F 1 / 1343

Claims (7)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 基板上にマトリクス状に複数のデータ線
と複数のゲート線とを設け、前記それぞれのデータ線の
両側に薄膜トランジスタおよび該薄膜トランジスタに接
続する画素電極を前記複数のゲート線のそれぞれに対応
させて設け、前記データ線の両側の画素電極をこれら画
素電極を挟んで配したゲート線のうちのいずれか対応す
るゲート線からの信号により制御するように、前記複数
のゲート線を配設し、前記薄膜トランジスタをなし前記
画素電極に電気的に接続されたドレイン電極が前記ゲー
ト電極を横断し、前記各画素電極に対応して蓄積容量を
設け、前記隣接するデータ線間のデータ線の形成されて
いない各画素間の境界領域に前記データ線と平行に蓄積
容量線を配設して2列の画素列で1本の前記蓄積容量線
を共用する構成とし、前記蓄積容量の一方の電極が該蓄
積容量に対応する前記画素電極に接続されるとともに、
前記蓄積容量の他方の電極が前記蓄積容量線に接続され
ていることを特徴とするアクティブマトリクス型液晶表
示装置用基板。
1. A plurality of data lines and a plurality of gate lines are provided in a matrix on a substrate, and a thin film transistor and a pixel electrode connected to the thin film transistor are provided on both sides of each of the data lines on each of the plurality of gate lines. The plurality of gate lines are arranged so that pixel electrodes on both sides of the data line are controlled by a signal from one of the corresponding gate lines disposed between the pixel electrodes. A drain electrode that forms the thin film transistor and is electrically connected to the pixel electrode traverses the gate electrode, and a storage capacitor corresponding to each of the pixel electrodes.
Forming a data line between the adjacent data lines;
Not parallel to the data line in the boundary area between each pixel
A capacitor line is provided, and one storage capacitor line is provided for two pixel columns.
And one electrode of the storage capacitor is connected to the storage capacitor.
Connected to the pixel electrode corresponding to the product capacitance,
The other electrode of the storage capacitor is connected to the storage capacitor line
A substrate for an active matrix type liquid crystal display device, comprising:
【請求項2】 基板上にマトリクス状に複数のデータ線
と複数のゲート線とを設け、前記それぞれのデータ線の
両側に薄膜トランジスタおよび該薄膜トランジスタに接
続する画素電極を前記複数のゲート線のそれぞれに対応
させて設け、前記データ線の両側の画素電極をこれら画
素電極を挟んで配したゲート線のうちのいずれか対応す
るゲート線からの信号により制御するように、前記複数
のゲート線を配設し、前記薄膜トランジスタをなすゲー
ト電極が前記ゲート線自体で構成され、前記薄膜トラン
ジスタをなし前記画素電極に電気的に接続されたドレイ
ン電極が前記ゲート電極を横断し、前記各画素電極に対
応して蓄積容量を設け、前記隣接するデータ線間のデー
タ線の形成されていない各画素間の境界領域に前記デー
タ線と平行に蓄積容量線を配設して2列の画素列で1本
の前記蓄積容量線を共用する構成とし、前記蓄積容量の
一方の電極が該蓄積容量に対応する前記画素電極に接続
されるとともに、前記蓄積容量の他方の電極が前記蓄積
容量線に接続されていることを特徴とするアクティブマ
トリクス型液晶表示装置用基板。
2. A plurality of data lines and a plurality of gate lines are provided in a matrix on a substrate, and a thin film transistor and a pixel electrode connected to the thin film transistor are provided on both sides of each of the data lines on each of the plurality of gate lines. The plurality of gate lines are arranged so that pixel electrodes on both sides of the data line are controlled by a signal from one of the corresponding gate lines disposed between the pixel electrodes. A gate electrode forming the thin film transistor is constituted by the gate line itself, and a drain electrode forming the thin film transistor and electrically connected to the pixel electrode traverses the gate electrode and forms a pair with each of the pixel electrodes.
Accordingly, a storage capacitor is provided, and data between the adjacent data lines is provided.
The data is placed in the boundary area between pixels where no data line is formed.
A storage capacitor line is arranged in parallel with the
And the storage capacitor line is shared.
One electrode is connected to the pixel electrode corresponding to the storage capacitor
And the other electrode of the storage capacitor
A substrate for an active matrix liquid crystal display device, which is connected to a capacitance line .
【請求項3】 対向配置した一対の基板対の間に液晶を
挟持するアクティブマトリクス型液晶表示装置におい
て、前記基板対の一方の基板が請求項1または 記載の
基板であることを特徴とするアクティブマトリクス型液
晶表示装置。
3. An active matrix type liquid crystal display device in which liquid crystal is sandwiched between a pair of substrates arranged opposite to each other, wherein one substrate of the pair of substrates is the substrate according to claim 1 or 2. Active matrix type liquid crystal display device.
【請求項4】 前記隣接するデータ線に対して逆極性の
信号電圧が印加されるように、各データ線に対する信号
電圧の出力を行うことを特徴とする請求項3記載のアク
ティブマトリクス型液晶表示装置。
4. An adjacent data line having a reverse polarity.
The signal for each data line is applied so that the signal voltage is applied.
4. The actuator according to claim 3, wherein the voltage is output.
Active matrix type liquid crystal display device.
【請求項5】 フィールド周期が切り換わる毎に、前記
画素を挟んで配したゲート線のうちの一方のゲート線に
ゲート電圧を順次供給する動作と、前記画素電極を挟ん
で配したゲート線のうちの他方のゲート線にゲート電圧
を順次供給する動作とを交互に繰り返す走査手段を具備
することを特徴とする請求項3または4記載のアクティ
ブマトリクス型液晶表示装置。
5. An operation for sequentially supplying a gate voltage to one of the gate lines disposed across the pixel each time the field cycle is switched, and an operation of sequentially supplying a gate voltage disposed between the pixel electrodes. 5. The active matrix liquid crystal display device according to claim 3 , further comprising a scanning unit that alternately repeats an operation of sequentially supplying a gate voltage to the other gate line.
【請求項6】 各フィールド周期において出力端子から
ゲート電圧を順次出力するゲートドライバと、 前記フィールド周期が切り換わる毎に、前記ゲートドラ
イバの出力端子から順次出力されるゲート電圧を前記画
素電極を挟んで配したゲート線のうちの一方のゲート線
に順次供給する動作と、前記ゲートドライバの出力端子
から順次出力されるゲート電圧を前記画素電極を挟んで
配したゲート線のうちの他方のゲート線に順次供給する
動作とを交互に繰り返すデマルチプレクサとを具備し、 前記デマルチプレクサおよび画素を共通の製造工程によ
り製造してなることを特徴とする請求項3または4記載
のアクティブマトリクス型液晶表示装置。
6. A gate driver for sequentially outputting a gate voltage from an output terminal in each field period, and a gate voltage sequentially output from an output terminal of the gate driver for each of the field periods. And sequentially supplying the gate voltage sequentially output from the output terminal of the gate driver to the other one of the gate lines disposed across the pixel electrode. 5. An active matrix liquid crystal display device according to claim 3 , further comprising: a demultiplexer that alternately repeats an operation of sequentially supplying the demultiplexer and the pixel, wherein the demultiplexer and the pixel are manufactured by a common manufacturing process. .
【請求項7】 第1のスタートパルスを順次シフトし、
各ステージの出力信号をゲート電圧として前記画素電極
を挟んで配したゲート線のうちの一方のゲート線に供給
する第1のシフトレジスタと、 第2のスタートパルスを順次シフトし、各ステージの出
力信号をゲート電圧として前記画素電極を挟んで配した
ゲート線のうちの他方のゲート線に供給する第2のシフ
トレジスタとを具備し、 前記第1および第2のシフトレジスタならびに画素を共
通の製造工程により製造してなることを特徴とする請求
3または4記載のアクティブマトリクス型液晶表示装
置。
7. A method of sequentially shifting a first start pulse,
A first shift register that supplies an output signal of each stage as a gate voltage to one of the gate lines disposed across the pixel electrode, sequentially shifts a second start pulse, and outputs the output of each stage. A second shift register that supplies a signal as a gate voltage to the other of the gate lines disposed across the pixel electrode, wherein the first and second shift registers and the pixel are manufactured in common. 5. The active matrix type liquid crystal display device according to claim 3 , wherein the active matrix type liquid crystal display device is manufactured by a process.
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