JPH1133569A - 有機塩素化合物を含有する汚水の処理方法 - Google Patents
有機塩素化合物を含有する汚水の処理方法Info
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- JPH1133569A JPH1133569A JP19013697A JP19013697A JPH1133569A JP H1133569 A JPH1133569 A JP H1133569A JP 19013697 A JP19013697 A JP 19013697A JP 19013697 A JP19013697 A JP 19013697A JP H1133569 A JPH1133569 A JP H1133569A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 有機塩素化合物を含有する汚水の処理を紫外
線または紫外線及び酸化剤を用いて行う処理方法におい
て、紫外線照射の効率を上げて、従来より高度な処理を
効率良く行うことを可能とし、処理コストを低減できる
処理方法を提供すること。 【解決手段】 有機塩素化合物を含有する汚水を物理化
学的に処理する方法において、有機塩素化合物を含有す
る汚水をオゾン含有気体、又はオゾン含有気体及び過酸
化水素により処理する第一処理工程に導入し、次いで
（Ａ）紫外線、（Ｂ）紫外線及びオゾン含有気体、
（Ｃ）紫外線及び過酸化水素、又は（Ｄ）紫外線、オゾ
ン含有気体及び過酸化水素により処理する第二処理工程
に導入することを特徴とする有機塩素化合物を含有する
汚水の処理方法。
線または紫外線及び酸化剤を用いて行う処理方法におい
て、紫外線照射の効率を上げて、従来より高度な処理を
効率良く行うことを可能とし、処理コストを低減できる
処理方法を提供すること。 【解決手段】 有機塩素化合物を含有する汚水を物理化
学的に処理する方法において、有機塩素化合物を含有す
る汚水をオゾン含有気体、又はオゾン含有気体及び過酸
化水素により処理する第一処理工程に導入し、次いで
（Ａ）紫外線、（Ｂ）紫外線及びオゾン含有気体、
（Ｃ）紫外線及び過酸化水素、又は（Ｄ）紫外線、オゾ
ン含有気体及び過酸化水素により処理する第二処理工程
に導入することを特徴とする有機塩素化合物を含有する
汚水の処理方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は最終処分場の浸出
水、産業廃水、下水、工場排水等の汚水のうち、有機塩
素化合物ダイオキシンを含有する汚水、または有機塩素
化合物に汚染された河川水、湖沼水等の自然環境中の水
を処理する処理方法に関するものである。
水、産業廃水、下水、工場排水等の汚水のうち、有機塩
素化合物ダイオキシンを含有する汚水、または有機塩素
化合物に汚染された河川水、湖沼水等の自然環境中の水
を処理する処理方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】トリクロロエチレン、有機塩素系農薬、
ＰＣＢ、ダイオキシン等の有機塩素化合物は、いずれも
発ガン性、催奇形性があり、毒性が高いことが知られて
いる。中でもダイオキシン異性体のひとつである２，
３，７，８−四塩化ＰＣＤＤ（２，３，７，８−四塩化
ポリクロロダイペンゾ パラダイオキシン）は、モルモ
ットに対するＬＤ５０が、０．０００６ｍｇ／ｋｇ、成
人の致死量が数十μｇと推定されており、極めて危険な
物質である。近年、上記のような有機塩素化合物、特に
ダイオキシンが汚水、排水中に検出されるようになり、
問題となっている。これらは自然環境中で分解されにく
く、長期間残留する性質を持っており、効果的な処理法
が望まれていた。
ＰＣＢ、ダイオキシン等の有機塩素化合物は、いずれも
発ガン性、催奇形性があり、毒性が高いことが知られて
いる。中でもダイオキシン異性体のひとつである２，
３，７，８−四塩化ＰＣＤＤ（２，３，７，８−四塩化
ポリクロロダイペンゾ パラダイオキシン）は、モルモ
ットに対するＬＤ５０が、０．０００６ｍｇ／ｋｇ、成
人の致死量が数十μｇと推定されており、極めて危険な
物質である。近年、上記のような有機塩素化合物、特に
ダイオキシンが汚水、排水中に検出されるようになり、
問題となっている。これらは自然環境中で分解されにく
く、長期間残留する性質を持っており、効果的な処理法
が望まれていた。
【０００３】有機塩素化合物を処理する従来技術として
は、紫外線による有機塩素化合物の脱塩素化反応と光化
学的反応によって生成したヒドロキシラジカルによる有
機塩素化合物の酸化分解反応を同時に行うものが知られ
ている。代表的なものとしては、有機塩素化合物を含有
する汚水に対して紫外線とオゾンガスを同時に投入し、
紫外線による有機塩素化合物の脱塩素化反応と紫外線と
オゾンガスの反応によって生成したヒドロキシラジカル
による有機塩素化合物の酸化分解反応を同時に行う処理
法がある。しかし、有機塩素化合物を含有する汚水には
紫外線透過率が低いものが多く、このような水を処理す
る場合では、紫外線による有機塩素化合物の脱塩素化反
応及び酸化分解反応が効率よく進まず、紫外線と未反応
のオゾンガス即ち廃オゾンガスが増加して、オゾン注入
量あたりの有機塩素化合物の分解効率が悪化するという
欠点があった。よって、この方法で確実な処理を行う場
合に必要な紫外線照射量、紫外線ランプ本数及び酸化剤
投入量は膨大なものとなってしまう欠点があった。
は、紫外線による有機塩素化合物の脱塩素化反応と光化
学的反応によって生成したヒドロキシラジカルによる有
機塩素化合物の酸化分解反応を同時に行うものが知られ
ている。代表的なものとしては、有機塩素化合物を含有
する汚水に対して紫外線とオゾンガスを同時に投入し、
紫外線による有機塩素化合物の脱塩素化反応と紫外線と
オゾンガスの反応によって生成したヒドロキシラジカル
による有機塩素化合物の酸化分解反応を同時に行う処理
法がある。しかし、有機塩素化合物を含有する汚水には
紫外線透過率が低いものが多く、このような水を処理す
る場合では、紫外線による有機塩素化合物の脱塩素化反
応及び酸化分解反応が効率よく進まず、紫外線と未反応
のオゾンガス即ち廃オゾンガスが増加して、オゾン注入
量あたりの有機塩素化合物の分解効率が悪化するという
欠点があった。よって、この方法で確実な処理を行う場
合に必要な紫外線照射量、紫外線ランプ本数及び酸化剤
投入量は膨大なものとなってしまう欠点があった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明が解決しようと
する課題は、前記従来の有機塩素化合物を含有する汚水
の処理方法における高額な処理コストを伴わず、効率が
良く高度な処理を可能とする方法を提供することであ
る。
する課題は、前記従来の有機塩素化合物を含有する汚水
の処理方法における高額な処理コストを伴わず、効率が
良く高度な処理を可能とする方法を提供することであ
る。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、従来の技
術において確実な処理を行う場合に必要な紫外線照射
量、紫外線タンプ本数及び酸化剤投入量が膨大なものと
なった原因の一つとして、有機塩素化合物を含有する汚
水の多くが紫外線透過率が極めて低いことに着目した。
例えば、最終処理場の浸出水の紫外線透過率は、例えば
波長が２５４ｎｍの場合で僅か０．１〜３５％と極めて
低かった。ここで、紫外線は、（ｉ）オゾンまたは過酸
化水素と反応することによりヒドロキシラジカルを発生
させる。（ii）有機塩素化合物の脱塩素化反応を生じさ
せるなどの有機塩素化合物の分解に重要な性質をもつこ
とから、紫外線を有効に活用することにより有機塩素化
合物の分解を高効率で行うべく数多くの実験を実施し
た。 本発明は前記の各実験の結果を基に創作されたも
のであり、その目的は、紫外線を有効に活用することに
より高効率な有機塩素化合物を含有する汚水の処理方法
を提供することである。
術において確実な処理を行う場合に必要な紫外線照射
量、紫外線タンプ本数及び酸化剤投入量が膨大なものと
なった原因の一つとして、有機塩素化合物を含有する汚
水の多くが紫外線透過率が極めて低いことに着目した。
例えば、最終処理場の浸出水の紫外線透過率は、例えば
波長が２５４ｎｍの場合で僅か０．１〜３５％と極めて
低かった。ここで、紫外線は、（ｉ）オゾンまたは過酸
化水素と反応することによりヒドロキシラジカルを発生
させる。（ii）有機塩素化合物の脱塩素化反応を生じさ
せるなどの有機塩素化合物の分解に重要な性質をもつこ
とから、紫外線を有効に活用することにより有機塩素化
合物の分解を高効率で行うべく数多くの実験を実施し
た。 本発明は前記の各実験の結果を基に創作されたも
のであり、その目的は、紫外線を有効に活用することに
より高効率な有機塩素化合物を含有する汚水の処理方法
を提供することである。
【０００６】本発明による有機塩素化合物を含有する汚
水の処理方法は、有機塩素化合物を含有する汚水の処理
方法において、 （１）有機塩素化合物を含有する汚水を物理化学的に処
理する方法において、有機塩素化合物を含有する汚水を
オゾン含有気体、又はオゾン含有気体及び過酸化水素に
より処理する第一処理工程に導入し、次いで（Ａ）紫外
線、（Ｂ）紫外線及びオゾン含有気体、（Ｃ）紫外線及
び過酸化水素、又は（Ｄ）紫外線、オゾン含有気体及び
過酸化水素により処理する第二処理工程に導入すること
を特徴とする有機塩素化合物を含有する汚水の処理方
法。 （２）反応槽の下部に有機塩素化合物を含有する汚水を
導入し、該反応槽下部で前記第一処理工程を行った後、
前記反応槽の上部で前記第二処理工程を行い、前記反応
槽上部から処理水を取り出すことを特徴とする前記
（１）記載の有機塩素化合物を含有する汚水の処理方
法。
水の処理方法は、有機塩素化合物を含有する汚水の処理
方法において、 （１）有機塩素化合物を含有する汚水を物理化学的に処
理する方法において、有機塩素化合物を含有する汚水を
オゾン含有気体、又はオゾン含有気体及び過酸化水素に
より処理する第一処理工程に導入し、次いで（Ａ）紫外
線、（Ｂ）紫外線及びオゾン含有気体、（Ｃ）紫外線及
び過酸化水素、又は（Ｄ）紫外線、オゾン含有気体及び
過酸化水素により処理する第二処理工程に導入すること
を特徴とする有機塩素化合物を含有する汚水の処理方
法。 （２）反応槽の下部に有機塩素化合物を含有する汚水を
導入し、該反応槽下部で前記第一処理工程を行った後、
前記反応槽の上部で前記第二処理工程を行い、前記反応
槽上部から処理水を取り出すことを特徴とする前記
（１）記載の有機塩素化合物を含有する汚水の処理方
法。
【０００７】（３）反応槽の上部に有機塩素化合物を含
有する汚水を導入し、前記反応槽上部で前記第一処理工
程を行った後、前記反応槽の下部で前記第二処理工程を
行い、前記反応槽下部から処理水を取り出すことを特徴
とする前記（１）記載の有機塩素化合物を含有する汚水
の処理方法。 （４）オゾン含有気体を第一処理工程に導入し、第一処
理工程から流出したオゾン含有気体を第二処理工程に導
入し処理することを特徴とする前記（１）ないし（３）
のいずれか１項記載の有機塩素化合物を含有する汚水の
処理方法。 （５）オゾン含有気体を第二処理工程に導入し、第二処
理工程から流出したオゾン含有気体を第一処理工程に導
入し処理することを特徴とする前記（１）ないし（３）
のいずれか１項記載の有機塩素化合物を含有する汚水の
処理方法。 （６）有機塩素化合物を含有する汚水と過酸化水素とを
予め混合し、該混合液を第一処理工程に導入することを
特徴とする前記（１）ないし（５）のいずれか１項記載
の有機塩素化合物を含有する汚水の処理方法。
有する汚水を導入し、前記反応槽上部で前記第一処理工
程を行った後、前記反応槽の下部で前記第二処理工程を
行い、前記反応槽下部から処理水を取り出すことを特徴
とする前記（１）記載の有機塩素化合物を含有する汚水
の処理方法。 （４）オゾン含有気体を第一処理工程に導入し、第一処
理工程から流出したオゾン含有気体を第二処理工程に導
入し処理することを特徴とする前記（１）ないし（３）
のいずれか１項記載の有機塩素化合物を含有する汚水の
処理方法。 （５）オゾン含有気体を第二処理工程に導入し、第二処
理工程から流出したオゾン含有気体を第一処理工程に導
入し処理することを特徴とする前記（１）ないし（３）
のいずれか１項記載の有機塩素化合物を含有する汚水の
処理方法。 （６）有機塩素化合物を含有する汚水と過酸化水素とを
予め混合し、該混合液を第一処理工程に導入することを
特徴とする前記（１）ないし（５）のいずれか１項記載
の有機塩素化合物を含有する汚水の処理方法。
【０００８】（７）第一処理工程又は第二処理工程にお
いて、反応槽に過酸化水素注入箇所を一つ以上設けるこ
とを特徴とする前記（１）ないし（６）のいずれか１項
記載の有機塩素化合物を含有する汚水の処理方法。 （８）第一処理工程又は第二処理工程において、反応槽
にオゾン含有気体の注入箇所を一つ以上設けることを特
徴とする前記（１）ないし（６）のいずれか１項記載の
有機塩素化合物を含有する汚水の処理方法。 （９）第二処理工程において設置する紫外線ランプの長
手方向と水及びオゾン含有気体の流れ方向とを互いに垂
直とすることを特徴とする前記（１）ないし（８）のい
ずれか１項記載の有機塩素化合物を含有する汚水の処理
方法。 （１０）前記有機塩素化合物がダイオキンシンを含有す
るものであることを特徴とする請求項１ないし請求項９
のいずれか１項記載の有機塩素化合物を含有する汚水の
処理方法。 本発明では、以上の工程を行うことにより、以下に示す
作用により有機塩素化合物の分解が効率良く行われる。
なお、前記（２）項及び（３）項に記載の第一処理工程
及び第二処理工程は、一つの反応槽の中を「下部と上
部」及び「上部と下部」に分けて行われる処理工程であ
る。
いて、反応槽に過酸化水素注入箇所を一つ以上設けるこ
とを特徴とする前記（１）ないし（６）のいずれか１項
記載の有機塩素化合物を含有する汚水の処理方法。 （８）第一処理工程又は第二処理工程において、反応槽
にオゾン含有気体の注入箇所を一つ以上設けることを特
徴とする前記（１）ないし（６）のいずれか１項記載の
有機塩素化合物を含有する汚水の処理方法。 （９）第二処理工程において設置する紫外線ランプの長
手方向と水及びオゾン含有気体の流れ方向とを互いに垂
直とすることを特徴とする前記（１）ないし（８）のい
ずれか１項記載の有機塩素化合物を含有する汚水の処理
方法。 （１０）前記有機塩素化合物がダイオキンシンを含有す
るものであることを特徴とする請求項１ないし請求項９
のいずれか１項記載の有機塩素化合物を含有する汚水の
処理方法。 本発明では、以上の工程を行うことにより、以下に示す
作用により有機塩素化合物の分解が効率良く行われる。
なお、前記（２）項及び（３）項に記載の第一処理工程
及び第二処理工程は、一つの反応槽の中を「下部と上
部」及び「上部と下部」に分けて行われる処理工程であ
る。
【０００９】先ず第一処理工程で、オゾンガスによる処
理を行う場合の作用を以下に示す。第一処理工程ではオ
ゾンと有機塩素化合物を含有する汚水（以下「原水」と
もいう）中の有機物の反応が行われる。オゾンは有機物
中の不飽和結合部分と選択的に反応する性質を持ち、こ
れまでにも下水、排水の色度除去に利用されていたが、
不飽和結合の光の吸収波長が紫外域を含むことにより原
水の紫外線透過率も改善することができる。よって、第
一処理工程を設けることにより、後述する第二処理工程
に紫外線の透過率が高くなった水を導入することが可能
となる。また、原水中にオゾンと反応し易い有機物が含
まれている場合には、これらを第一処理工程で分解する
ことができ、第二処理工程にかかる有機物負荷を軽減す
ることができる。次に第二処理工程では、紫外線による
有機塩素化合物の脱塩素化反応、及びオゾンガスと紫外
線と過酸化水素のうちいずれか２つ以上の組み合わせに
よる反応の結果生成するヒドロキシラジカルによって有
機塩素化合物の酸化分解反応が行われる。ここで、第二
処理工程で行われる反応には、紫外線が極めて重要な役
割を果しているが、第一処理工程で水の紫外線透過率が
改善されているために、紫外線の照射効率が高くなり、
有機塩素化合物の脱塩素化反応の効率、ヒドロキシラジ
カル生成効率が向上する効果が生まれる。また、紫外線
照射量を過剰とする必要がなく、適切な範囲とすること
が可能となる。また、第一処理工程で、オゾンと反応し
易い有機物があらかじめ分解されているため、第二処理
工程で生成したヒドロキシラジカルがこれらの有機物の
分解に使われることがなく、ヒドロキシラジカルを有機
塩素化合物の分解に有効に利用することができる。
理を行う場合の作用を以下に示す。第一処理工程ではオ
ゾンと有機塩素化合物を含有する汚水（以下「原水」と
もいう）中の有機物の反応が行われる。オゾンは有機物
中の不飽和結合部分と選択的に反応する性質を持ち、こ
れまでにも下水、排水の色度除去に利用されていたが、
不飽和結合の光の吸収波長が紫外域を含むことにより原
水の紫外線透過率も改善することができる。よって、第
一処理工程を設けることにより、後述する第二処理工程
に紫外線の透過率が高くなった水を導入することが可能
となる。また、原水中にオゾンと反応し易い有機物が含
まれている場合には、これらを第一処理工程で分解する
ことができ、第二処理工程にかかる有機物負荷を軽減す
ることができる。次に第二処理工程では、紫外線による
有機塩素化合物の脱塩素化反応、及びオゾンガスと紫外
線と過酸化水素のうちいずれか２つ以上の組み合わせに
よる反応の結果生成するヒドロキシラジカルによって有
機塩素化合物の酸化分解反応が行われる。ここで、第二
処理工程で行われる反応には、紫外線が極めて重要な役
割を果しているが、第一処理工程で水の紫外線透過率が
改善されているために、紫外線の照射効率が高くなり、
有機塩素化合物の脱塩素化反応の効率、ヒドロキシラジ
カル生成効率が向上する効果が生まれる。また、紫外線
照射量を過剰とする必要がなく、適切な範囲とすること
が可能となる。また、第一処理工程で、オゾンと反応し
易い有機物があらかじめ分解されているため、第二処理
工程で生成したヒドロキシラジカルがこれらの有機物の
分解に使われることがなく、ヒドロキシラジカルを有機
塩素化合物の分解に有効に利用することができる。
【００１０】特に、第二処理工程でオゾン及び過酸化水
素を併用する場合には紫外線とオゾンスあるいは紫外線
と過酸化水素との反応に加えて過酸化水素とオゾンスの
反応によるヒドロキシラジカル生成が可能となり、ヒド
ロキシラジカル生成効率が格段に向上し、紫外線照射量
を更に低くすることが可能となる。また、オゾンガス、
過酸化水素の利用効率も格段に向上する。また、これら
の効率は第一処理工程で水の紫外線透過率が改善されて
いることにより一層高められる。
素を併用する場合には紫外線とオゾンスあるいは紫外線
と過酸化水素との反応に加えて過酸化水素とオゾンスの
反応によるヒドロキシラジカル生成が可能となり、ヒド
ロキシラジカル生成効率が格段に向上し、紫外線照射量
を更に低くすることが可能となる。また、オゾンガス、
過酸化水素の利用効率も格段に向上する。また、これら
の効率は第一処理工程で水の紫外線透過率が改善されて
いることにより一層高められる。
【００１１】次に、第一処理工程でオゾンガスと過酸化
水素による処理を行う場合の作用を以下に示す。第一処
理工程ではオゾンと原水中の有機物の反応に加え、オゾ
ンと過酸化水素の反応によって生成したヒドロキシラジ
カルと原水中の有機物の反応が加わり原水の紫外線透過
率が更に向上する。これは、オゾンと有機物中の不飽和
結合部との選択的な反応で不飽和結合が切断されるのに
加え、ヒドロキシラジカルが有機物中のあらゆる部分を
酸化分解する過程においても紫外線透過率が向上するか
らである。よって、第一処理工程でオゾンガスのみを使
用する場合よりも紫外線透過率が更に向上した水を、紫
外線を利用する第二処理工程に導入することが可能とな
る。
水素による処理を行う場合の作用を以下に示す。第一処
理工程ではオゾンと原水中の有機物の反応に加え、オゾ
ンと過酸化水素の反応によって生成したヒドロキシラジ
カルと原水中の有機物の反応が加わり原水の紫外線透過
率が更に向上する。これは、オゾンと有機物中の不飽和
結合部との選択的な反応で不飽和結合が切断されるのに
加え、ヒドロキシラジカルが有機物中のあらゆる部分を
酸化分解する過程においても紫外線透過率が向上するか
らである。よって、第一処理工程でオゾンガスのみを使
用する場合よりも紫外線透過率が更に向上した水を、紫
外線を利用する第二処理工程に導入することが可能とな
る。
【００１２】また第一処理工程に過酸化水素を添加する
ことによって、オゾンと過酸化水素が反応しヒドロキシ
ラジカルが生成する。このようにヒドロキシラジカルを
発生させることにより、第一処理工程においても有機塩
素化合物の酸化分解反応を進行させることができる。こ
こで、特にダイオキシンを処理する場合においては、ヒ
ドロキシラジカルによるダイオキシンの酸化分解反応で
は、特に四塩素化物、五塩素化物、六塩素化物等の低塩
素化物の酸化分解反応が特に進行し、紫外線によるダイ
オキシンの脱塩素化反応では主に七塩素化物、八塩素化
物等の高塩素化物の脱塩素化反応が特に進行するが、第
一処理工程でオゾンガス、過酸化水素による処理を行う
ことで、予め低塩素化物を分解でき、第二処理工程にお
ける処理対象を主に高塩素化物とすることができる。ま
た、第二処理工程流入水中のダイオキシン濃度または有
機塩素化合物濃度を低くすることができる。この様な作
用によっても第二処理工程における反応の効率化、負担
の軽減化が行われ、紫外線照射量をさらに低減化させる
ことができる。紫外線照射量は第一処理工程と第二処理
工程にオゾン及び過酸化水素を添加する場合に最小とな
る。以上のような効果により、本発明による有機塩素化
合物を含有する汚水の処理方法を用いることにより汚水
中の有機塩素化合物が低コストかつ高度に処理され、安
全な処理水を得ることができる。
ことによって、オゾンと過酸化水素が反応しヒドロキシ
ラジカルが生成する。このようにヒドロキシラジカルを
発生させることにより、第一処理工程においても有機塩
素化合物の酸化分解反応を進行させることができる。こ
こで、特にダイオキシンを処理する場合においては、ヒ
ドロキシラジカルによるダイオキシンの酸化分解反応で
は、特に四塩素化物、五塩素化物、六塩素化物等の低塩
素化物の酸化分解反応が特に進行し、紫外線によるダイ
オキシンの脱塩素化反応では主に七塩素化物、八塩素化
物等の高塩素化物の脱塩素化反応が特に進行するが、第
一処理工程でオゾンガス、過酸化水素による処理を行う
ことで、予め低塩素化物を分解でき、第二処理工程にお
ける処理対象を主に高塩素化物とすることができる。ま
た、第二処理工程流入水中のダイオキシン濃度または有
機塩素化合物濃度を低くすることができる。この様な作
用によっても第二処理工程における反応の効率化、負担
の軽減化が行われ、紫外線照射量をさらに低減化させる
ことができる。紫外線照射量は第一処理工程と第二処理
工程にオゾン及び過酸化水素を添加する場合に最小とな
る。以上のような効果により、本発明による有機塩素化
合物を含有する汚水の処理方法を用いることにより汚水
中の有機塩素化合物が低コストかつ高度に処理され、安
全な処理水を得ることができる。
【００１３】紫外線を供給する光源としては、低圧水銀
ランプ、中圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、エキシマレ
ーザーなど、１７０ｎｍ〜３８０ｎｍの範囲の比較的低
波長の紫外線を照射可能なもの、あるいは自然光、蛍光
灯などを挙げることができるがこれらに限るものではな
い。紫外線の強度、処理コストを考慮した場合、低圧水
銀ランプのような水銀ランプが望ましい。紫外線ランプ
の破損防止のために保護管を使用する場合、材質は普通
石英でも使用可能であるが、２５４ｎｍ以下の低波長の
紫外線を多く通す場合には、１７０〜２５４ｎｍの紫外
線透過率が高い合成石英が望ましい。紫外線ランプの設
置方法としては、水またはオゾンガスの流れに対して紫
外線ランプの長手方向を垂直または水平として並べる方
法のいずれでも良いが、水及びオゾンガスと紫外線との
接触効率を考慮した場合、水及びオゾンガスの流れに対
して垂直方向に並べる方法が接触効率のむらが少なくな
り好適である。
ランプ、中圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、エキシマレ
ーザーなど、１７０ｎｍ〜３８０ｎｍの範囲の比較的低
波長の紫外線を照射可能なもの、あるいは自然光、蛍光
灯などを挙げることができるがこれらに限るものではな
い。紫外線の強度、処理コストを考慮した場合、低圧水
銀ランプのような水銀ランプが望ましい。紫外線ランプ
の破損防止のために保護管を使用する場合、材質は普通
石英でも使用可能であるが、２５４ｎｍ以下の低波長の
紫外線を多く通す場合には、１７０〜２５４ｎｍの紫外
線透過率が高い合成石英が望ましい。紫外線ランプの設
置方法としては、水またはオゾンガスの流れに対して紫
外線ランプの長手方向を垂直または水平として並べる方
法のいずれでも良いが、水及びオゾンガスと紫外線との
接触効率を考慮した場合、水及びオゾンガスの流れに対
して垂直方向に並べる方法が接触効率のむらが少なくな
り好適である。
【００１４】オゾンガスの注入方法としては、ディフュ
ーザー方式、イジェクタ方式、Ｕチューブ方式、オゾン
ガスを０．５〜１０ｋｇ／ｃｍ2 の加圧状態で溶解させ
る方式等を挙げることができいずれでも良いがこれに限
るものではない。また、反応槽内に注入した酸素含有気
体に対して電気的なエネルギーを加えてオゾンを発生さ
せる方法も可能である。過酸化水素の注入方法として
は、第一処理工程あるいは第二処理工程の水の流入配管
に直接注入する方法、第一処理工程あるいは第二処理工
程の反応槽に直接注入する方法、オゾンガスを注入する
イジェクターの水の流入配管あるいはイジェクターの内
部に注入する方法などを挙げることができ、いずれの方
法でも良い。
ーザー方式、イジェクタ方式、Ｕチューブ方式、オゾン
ガスを０．５〜１０ｋｇ／ｃｍ2 の加圧状態で溶解させ
る方式等を挙げることができいずれでも良いがこれに限
るものではない。また、反応槽内に注入した酸素含有気
体に対して電気的なエネルギーを加えてオゾンを発生さ
せる方法も可能である。過酸化水素の注入方法として
は、第一処理工程あるいは第二処理工程の水の流入配管
に直接注入する方法、第一処理工程あるいは第二処理工
程の反応槽に直接注入する方法、オゾンガスを注入する
イジェクターの水の流入配管あるいはイジェクターの内
部に注入する方法などを挙げることができ、いずれの方
法でも良い。
【００１５】第一処理工程あるいは第二処理工程の反応
槽内の攪拌方法としては、オゾン気泡、あるいは攪拌翼
による攪拌の他、反応槽の上下端、左右端または前後端
を配管で結び、ポンプで循環させる方法も可能である。
特に反応槽に紫外線ランプを複数本設置し、ランプ同士
の間隔が広くなる場合には、処理の安定のため強い攪拌
を行うことが有効である。処理の安定化のため第一処理
工程、第二処理工程それぞれに固有の反応槽を設け、そ
れぞれの反応槽が複数の反応槽より構成されていても良
い。この場合は、複数の反応槽を直列に連結する構成が
水の流れがプラグフローとなり、処理効率がより効率的
に行われる。本発明による処理水を第一処理工程に循環
することによって、処理水の水質を一層向上させること
も可能である。この方法は、ダイオキシンを処理対象と
した場合、特に第一処理工程では低塩素化物が酸化分解
され、第二処理工程では脱塩素化反応により高塩素化物
が低塩素化物に変化する処理法の組み合わせ、つまり第
一処理工程でオゾン及び過酸化水素による処理を行い、
第二処理工程で紫外線処理のみを行う場合に、第二処理
工程で生成した低塩素化物が第一処理工程で分解される
ので効果的である。
槽内の攪拌方法としては、オゾン気泡、あるいは攪拌翼
による攪拌の他、反応槽の上下端、左右端または前後端
を配管で結び、ポンプで循環させる方法も可能である。
特に反応槽に紫外線ランプを複数本設置し、ランプ同士
の間隔が広くなる場合には、処理の安定のため強い攪拌
を行うことが有効である。処理の安定化のため第一処理
工程、第二処理工程それぞれに固有の反応槽を設け、そ
れぞれの反応槽が複数の反応槽より構成されていても良
い。この場合は、複数の反応槽を直列に連結する構成が
水の流れがプラグフローとなり、処理効率がより効率的
に行われる。本発明による処理水を第一処理工程に循環
することによって、処理水の水質を一層向上させること
も可能である。この方法は、ダイオキシンを処理対象と
した場合、特に第一処理工程では低塩素化物が酸化分解
され、第二処理工程では脱塩素化反応により高塩素化物
が低塩素化物に変化する処理法の組み合わせ、つまり第
一処理工程でオゾン及び過酸化水素による処理を行い、
第二処理工程で紫外線処理のみを行う場合に、第二処理
工程で生成した低塩素化物が第一処理工程で分解される
ので効果的である。
【００１６】本発明による処理水を脱酸化剤工程に導入
し、後段の処理の安定性、処理水の安全性を高めること
も可能である。また、第一処理工程と第二処理工程の間
に脱酸化剤工程を設けて第一処理工程流出水中のオゾン
を分解することで、第二処理工程で過酸化水素を注入す
る場合における過酸化水素流入配管中の過酸化水素の無
効な分解を抑えることも可能である。脱酸化剤工程は、
曝気処理、触媒処理、活性炭処理、紫外線処理あるいは
これらの組み合わせを挙げることができる。触媒には二
酸化マンガン、貴金属含有固体、金属含有固体、金属イ
オンなど、二酸化チタン含有固体などを使用することが
できる。さらに本発明による処理水を活性炭処理するこ
とで処理水の水質を一層向上させることも可能である。
し、後段の処理の安定性、処理水の安全性を高めること
も可能である。また、第一処理工程と第二処理工程の間
に脱酸化剤工程を設けて第一処理工程流出水中のオゾン
を分解することで、第二処理工程で過酸化水素を注入す
る場合における過酸化水素流入配管中の過酸化水素の無
効な分解を抑えることも可能である。脱酸化剤工程は、
曝気処理、触媒処理、活性炭処理、紫外線処理あるいは
これらの組み合わせを挙げることができる。触媒には二
酸化マンガン、貴金属含有固体、金属含有固体、金属イ
オンなど、二酸化チタン含有固体などを使用することが
できる。さらに本発明による処理水を活性炭処理するこ
とで処理水の水質を一層向上させることも可能である。
【００１７】本発明による処理方法を適用することがで
きる原水は、汚水より生物学的に分解または分離可能な
有機物を生物学的に除去する前、あるいは除去した後の
水、汚水より物理化学的に分解または分離可能な有機物
を物理化学的に除去する前、あるいは除去した後の水、
汚水より物理化学的、生物学的に分解または分離可能な
有機物を物理化学的、生物学的に除去する前、あるいは
除去した後の水を用いることができる。生物学的に除去
する方法としては、活性汚泥処理、接触酸化処理、生物
膜ろ過処理、嫌気処理などが挙げられ、物理化学的に除
去する方法としては、沈殿分離処理、浮上分離処理、膜
分離処理、ろ過処理、凝集沈殿処理、活性炭処理、電気
透析などが挙げられる。前記の水を逆浸透膜により濃縮
した水も原水として用いることができる。逆浸透膜によ
って有機塩素化合物が濃縮された水を原水として使用す
る場合にはヒドロキシラジカル生成量あたりの有機塩素
化合物除去量が多くなり、ヒドロキシラジカルがより有
効に利用される。
きる原水は、汚水より生物学的に分解または分離可能な
有機物を生物学的に除去する前、あるいは除去した後の
水、汚水より物理化学的に分解または分離可能な有機物
を物理化学的に除去する前、あるいは除去した後の水、
汚水より物理化学的、生物学的に分解または分離可能な
有機物を物理化学的、生物学的に除去する前、あるいは
除去した後の水を用いることができる。生物学的に除去
する方法としては、活性汚泥処理、接触酸化処理、生物
膜ろ過処理、嫌気処理などが挙げられ、物理化学的に除
去する方法としては、沈殿分離処理、浮上分離処理、膜
分離処理、ろ過処理、凝集沈殿処理、活性炭処理、電気
透析などが挙げられる。前記の水を逆浸透膜により濃縮
した水も原水として用いることができる。逆浸透膜によ
って有機塩素化合物が濃縮された水を原水として使用す
る場合にはヒドロキシラジカル生成量あたりの有機塩素
化合物除去量が多くなり、ヒドロキシラジカルがより有
効に利用される。
【００１８】汚水より生物学的、また物理化学的に分解
または分離可能な有機物が除去された水を原水とする場
合には、これら有機物によるヒドロキシラジカルと有機
塩素化合物の反応の阻害が少なくなり、生成したヒドロ
キシラジカルが有機塩素化合物の分解有効に利用され
る。汚水より生物学的、また物理化学的に分解可能な有
機物が除去される前の水を原水とする場合には、本発明
による処理水を生物学的または物理化学的に分解する方
法の原水として用いてもこれらの処理で生じる汚泥中に
有機塩素化合物が含まれることがなく、汚泥も安全なも
のとなる。また、本発明による処理では、有機物の生物
分解性、凝集分離性が良くなるので、生物処理、凝集沈
殿処理の処理性能が向上する。
または分離可能な有機物が除去された水を原水とする場
合には、これら有機物によるヒドロキシラジカルと有機
塩素化合物の反応の阻害が少なくなり、生成したヒドロ
キシラジカルが有機塩素化合物の分解有効に利用され
る。汚水より生物学的、また物理化学的に分解可能な有
機物が除去される前の水を原水とする場合には、本発明
による処理水を生物学的または物理化学的に分解する方
法の原水として用いてもこれらの処理で生じる汚泥中に
有機塩素化合物が含まれることがなく、汚泥も安全なも
のとなる。また、本発明による処理では、有機物の生物
分解性、凝集分離性が良くなるので、生物処理、凝集沈
殿処理の処理性能が向上する。
【００１９】本発明による処理条件は、処理対象原水の
性状、例えば有機塩素化合物濃度、ＣＯＤ濃度などによ
って種々選定することができる。例えば、原水のＣＯＤ
Mnが約３０〔ｍｇ／リットル〕、総ダイオキシン量が１
００〜１００００〔ｐｇ／リットル〕、ＴＥＱが５．０
〜２００〔ｐｇ／リットル〕の場合を以下に記載する。
第一処理工程におけるオゾン注入率は通常１０〜１０
０〔ｍｇ／リットル〕、好ましくは１０〜５０〔ｍｇ／
リットル〕、過酸化水素注入率は３〜３０、好ましくは
３〜１５〔ｍｇ／リットル〕の範囲から選定される。第
二処理工程における紫外線照射量は低圧水銀ランプを用
いる場合は通常０．１〜４．０〔Ｗ・ｈｒ／リット
ル〕、好ましくは０．１〜２．０〔Ｗ・ｈｒ／リット
ル〕の範囲から選定される。紫外線が透過する水層の厚
みは通常１〜５〔ｃｍ〕、好ましくは２〜４〔ｃｍ〕の
範囲から選定される。オゾン注入率は通常１０〜１００
〔ｍｇ／リットル〕、好ましくは１０〜５０〔ｍｇ／リ
ットル〕、過酸化水素注入率は通常１〜３０〔ｍｇ／リ
ットル〕、好ましくは１〜１５〔ｍｇ／リットル〕、オ
ゾン注入率と過酸化水素注入率の比は３：１〜１０：１
の範囲から選定される。また、第一処理工程における反
応時間は通常１〜３０〔ｍｉｎ〕、好ましくは２〜１５
〔ｍｉｎ〕、第二処理工程における反応時間は通常１〜
３０〔ｍｉｎ〕、好ましくは２〜１５〔ｍｉｎ〕であ
る。
性状、例えば有機塩素化合物濃度、ＣＯＤ濃度などによ
って種々選定することができる。例えば、原水のＣＯＤ
Mnが約３０〔ｍｇ／リットル〕、総ダイオキシン量が１
００〜１００００〔ｐｇ／リットル〕、ＴＥＱが５．０
〜２００〔ｐｇ／リットル〕の場合を以下に記載する。
第一処理工程におけるオゾン注入率は通常１０〜１０
０〔ｍｇ／リットル〕、好ましくは１０〜５０〔ｍｇ／
リットル〕、過酸化水素注入率は３〜３０、好ましくは
３〜１５〔ｍｇ／リットル〕の範囲から選定される。第
二処理工程における紫外線照射量は低圧水銀ランプを用
いる場合は通常０．１〜４．０〔Ｗ・ｈｒ／リット
ル〕、好ましくは０．１〜２．０〔Ｗ・ｈｒ／リット
ル〕の範囲から選定される。紫外線が透過する水層の厚
みは通常１〜５〔ｃｍ〕、好ましくは２〜４〔ｃｍ〕の
範囲から選定される。オゾン注入率は通常１０〜１００
〔ｍｇ／リットル〕、好ましくは１０〜５０〔ｍｇ／リ
ットル〕、過酸化水素注入率は通常１〜３０〔ｍｇ／リ
ットル〕、好ましくは１〜１５〔ｍｇ／リットル〕、オ
ゾン注入率と過酸化水素注入率の比は３：１〜１０：１
の範囲から選定される。また、第一処理工程における反
応時間は通常１〜３０〔ｍｉｎ〕、好ましくは２〜１５
〔ｍｉｎ〕、第二処理工程における反応時間は通常１〜
３０〔ｍｉｎ〕、好ましくは２〜１５〔ｍｉｎ〕であ
る。
【００２０】
【発明の実施の形態】本発明の具体的構成の一例を図１
に基づいて説明する。図１は、オゾンガス５、およびオ
ゾンガス５と過酸化水素６の反応により生じたヒドロキ
シラジカルにより原水１の紫外線透過率を向上させ、か
つヒドロキシラジカルにより原水１に含まれる有機塩素
化合物を酸化分解する第一処理工程３と、第一処理工程
３により得られた紫外線透過率が高く有機塩素化合物濃
度が減少した水に対して、紫外線による有機塩素化合物
の脱塩素化反応及びオゾンガス５と紫外線の組み合わせ
によって生成したヒドロキシラジカルによる有機塩素化
合物の酸化分解反応を行う第二処理工程４からなるもの
である。一つの反応槽の下部において第一処理工程３を
行い、前記反応槽の上部で第二処理工程４を行い、オゾ
ンガス５を第一処理工程３に導入し、第一処理工程３か
ら流出したオゾンガス５を第二処理工程４で利用する構
成となっている。第一処理工程３では、紫外線透過率を
向上させ、また活性種を生成させるための過酸化水素６
及びオゾンガス５が各々槽の入口及び槽内に供給されて
いる。第二処理工程４では、活性種を生成させるための
オゾンガス５が槽内に供給され、活性種の生成及び有機
塩素化合物の脱塩素化反応に必要な紫外線ランプ７が槽
内に設置されている。この場合、紫外線ランプ７は横向
きに設置されている。
に基づいて説明する。図１は、オゾンガス５、およびオ
ゾンガス５と過酸化水素６の反応により生じたヒドロキ
シラジカルにより原水１の紫外線透過率を向上させ、か
つヒドロキシラジカルにより原水１に含まれる有機塩素
化合物を酸化分解する第一処理工程３と、第一処理工程
３により得られた紫外線透過率が高く有機塩素化合物濃
度が減少した水に対して、紫外線による有機塩素化合物
の脱塩素化反応及びオゾンガス５と紫外線の組み合わせ
によって生成したヒドロキシラジカルによる有機塩素化
合物の酸化分解反応を行う第二処理工程４からなるもの
である。一つの反応槽の下部において第一処理工程３を
行い、前記反応槽の上部で第二処理工程４を行い、オゾ
ンガス５を第一処理工程３に導入し、第一処理工程３か
ら流出したオゾンガス５を第二処理工程４で利用する構
成となっている。第一処理工程３では、紫外線透過率を
向上させ、また活性種を生成させるための過酸化水素６
及びオゾンガス５が各々槽の入口及び槽内に供給されて
いる。第二処理工程４では、活性種を生成させるための
オゾンガス５が槽内に供給され、活性種の生成及び有機
塩素化合物の脱塩素化反応に必要な紫外線ランプ７が槽
内に設置されている。この場合、紫外線ランプ７は横向
きに設置されている。
【００２１】このような構成とすることで、オゾンガス
５を外部から導入する箇所を第一処理工程３のみとする
ことができ、反応槽の構造が簡略化される。また、第一
処理工程３で利用されなかったオゾンガス５を第二処理
工程４で有効利用することができ、廃オゾンガスを少な
くすることができる。オゾンガス流入管の高さは、原水
流入管の高さより低くなるように設置されているが、こ
の様にすることで反応槽のデッドスペースを少なくする
ことができる。過酸化水素６の流入管は原水流入管に接
続されているが、この様にすることで原水１中の有機塩
素化合物と過酸化水素６を予め混合した状態で第一処理
工程３に導入することができ、第一処理工程３でオゾン
ガス５と過酸化水素６が反応して生成したヒドロキシラ
イカルと有機塩素化合物の反応効率が向上する。紫外線
ランプ７は水及びオゾンガス５の流れの方向に対して紫
外線ランプ７の長手方向が垂直になるように設置されて
いるが、この様にすることで反応槽下部から浮上してき
たオゾンガス５が紫外線ランプ７近傍を通過する確率を
より高くすることができ、オゾンの利用率がより高くな
り、廃オゾンガスがより減少する。また、有機塩素化合
物が紫外線ランプ７近傍を通過する確率をより高くする
ことができ、脱塩素反応をより効率的に行うことができ
る。また、第二処理工程４においては、外部から過酸化
水素６の注入を行わなくても、第一処理工程流出水（第
二処理工程流入水）中に過酸化水素６が残留するように
第一処理工程３の過酸化水素注入率を制御することで、
第二処理工程で紫外線、オゾンガス５、過酸化水素６に
よる処理を行うことも可能である。
５を外部から導入する箇所を第一処理工程３のみとする
ことができ、反応槽の構造が簡略化される。また、第一
処理工程３で利用されなかったオゾンガス５を第二処理
工程４で有効利用することができ、廃オゾンガスを少な
くすることができる。オゾンガス流入管の高さは、原水
流入管の高さより低くなるように設置されているが、こ
の様にすることで反応槽のデッドスペースを少なくする
ことができる。過酸化水素６の流入管は原水流入管に接
続されているが、この様にすることで原水１中の有機塩
素化合物と過酸化水素６を予め混合した状態で第一処理
工程３に導入することができ、第一処理工程３でオゾン
ガス５と過酸化水素６が反応して生成したヒドロキシラ
イカルと有機塩素化合物の反応効率が向上する。紫外線
ランプ７は水及びオゾンガス５の流れの方向に対して紫
外線ランプ７の長手方向が垂直になるように設置されて
いるが、この様にすることで反応槽下部から浮上してき
たオゾンガス５が紫外線ランプ７近傍を通過する確率を
より高くすることができ、オゾンの利用率がより高くな
り、廃オゾンガスがより減少する。また、有機塩素化合
物が紫外線ランプ７近傍を通過する確率をより高くする
ことができ、脱塩素反応をより効率的に行うことができ
る。また、第二処理工程４においては、外部から過酸化
水素６の注入を行わなくても、第一処理工程流出水（第
二処理工程流入水）中に過酸化水素６が残留するように
第一処理工程３の過酸化水素注入率を制御することで、
第二処理工程で紫外線、オゾンガス５、過酸化水素６に
よる処理を行うことも可能である。
【００２２】次に本発明の具体的構成の別の一例を図２
に基づいて説明する。図２は、オゾンガス５、およびオ
ゾンガス５と過酸化水素６の反応により生じたヒドロキ
シラジカルにより原水１の紫外線透過率を向上させ、か
つヒドロキシラジカルにより原水１に含まれる有機塩素
化合物を酸化分解する第一処理工程３と、第一処理工程
３により得られた紫外線透過率が高く、有機塩素化合物
濃度が減少した水に対して、紫外線による有機塩素化合
物の脱塩素化反応及びオゾンガス５と紫外線と過酸化水
素６のうちいずれか２つ以上の組み合わせによって生成
したヒドロキシラジカルによる有機塩素化合物の酸化分
解反応を行う第二処理工程４からなる構成のものであ
る。第一処理工程３では、原水１の紫外線透過率を向上
させ、また活性種を生成させるための過酸化水素６及び
オゾンガス５が各々槽の入口及び槽内に供給されてい
る。
に基づいて説明する。図２は、オゾンガス５、およびオ
ゾンガス５と過酸化水素６の反応により生じたヒドロキ
シラジカルにより原水１の紫外線透過率を向上させ、か
つヒドロキシラジカルにより原水１に含まれる有機塩素
化合物を酸化分解する第一処理工程３と、第一処理工程
３により得られた紫外線透過率が高く、有機塩素化合物
濃度が減少した水に対して、紫外線による有機塩素化合
物の脱塩素化反応及びオゾンガス５と紫外線と過酸化水
素６のうちいずれか２つ以上の組み合わせによって生成
したヒドロキシラジカルによる有機塩素化合物の酸化分
解反応を行う第二処理工程４からなる構成のものであ
る。第一処理工程３では、原水１の紫外線透過率を向上
させ、また活性種を生成させるための過酸化水素６及び
オゾンガス５が各々槽の入口及び槽内に供給されてい
る。
【００２３】第二処理工程４では、活性種を生成させる
ための過酸化水素６及びオゾンガス５が各々槽の入口及
び槽内に供給され、活性種の生成及び有機塩素化合物の
脱塩素化反応に必要な紫外線ランプ７が槽内に設置され
ている。図１のような構成では、第二処理工程４に過酸
化水素６を残留させようとする場合に第一処理工程３へ
の過酸化水素６の注入量が多くなり、この結果、第一処
理工程３で過酸化水素６と反応するオゾンガス５の量が
多くなってしまい、第二処理工程４で消費させるオゾン
ガス量を制御することが困難となる。しかし、図２に示
すような構成では、過酸化水素６の注入箇所が第一処理
工程３及び第二処理工程４となっており、各工程に注入
する過酸化水素６の注入量を自由に変化させることがで
きる。これにより、オゾンガス５の注入箇所が第一処理
工程３のみであっても第一処理工程３、第二処理工程４
で消費させるオゾンガス量を制御することが可能とな
る。また、第一処理工程３、第二処理工程４で消費させ
る過酸化水素量を制御することも可能となる。
ための過酸化水素６及びオゾンガス５が各々槽の入口及
び槽内に供給され、活性種の生成及び有機塩素化合物の
脱塩素化反応に必要な紫外線ランプ７が槽内に設置され
ている。図１のような構成では、第二処理工程４に過酸
化水素６を残留させようとする場合に第一処理工程３へ
の過酸化水素６の注入量が多くなり、この結果、第一処
理工程３で過酸化水素６と反応するオゾンガス５の量が
多くなってしまい、第二処理工程４で消費させるオゾン
ガス量を制御することが困難となる。しかし、図２に示
すような構成では、過酸化水素６の注入箇所が第一処理
工程３及び第二処理工程４となっており、各工程に注入
する過酸化水素６の注入量を自由に変化させることがで
きる。これにより、オゾンガス５の注入箇所が第一処理
工程３のみであっても第一処理工程３、第二処理工程４
で消費させるオゾンガス量を制御することが可能とな
る。また、第一処理工程３、第二処理工程４で消費させ
る過酸化水素量を制御することも可能となる。
【００２４】次に本発明の具体的構成の別の一例を図３
に基づいて説明する。図３は、オゾンガス５により原水
１の紫外線透過率を向上させる第一処理工程３と第一処
理工程３により得られた紫外線透過率が高い水に対して
紫外線によるダイオキシンの脱塩素化反応及びオゾンガ
ス５と紫外線の組み合わせによって生成したヒドロキシ
ラジカルによる有機塩素化合物の酸化分解反応を行う第
二処理工程４からなる構成のものである。第一処理工程
３では、原水１の紫外線透過率を向上させるためオゾン
ガス５が槽内に供給されている。第二処理工程４では、
活性種を生成させるためオゾンガス５が槽内に供給さ
れ、活性種の生成及び有機塩素化合物の脱塩素化反応に
必要な紫外線ランプ７が槽内に設置されている。
に基づいて説明する。図３は、オゾンガス５により原水
１の紫外線透過率を向上させる第一処理工程３と第一処
理工程３により得られた紫外線透過率が高い水に対して
紫外線によるダイオキシンの脱塩素化反応及びオゾンガ
ス５と紫外線の組み合わせによって生成したヒドロキシ
ラジカルによる有機塩素化合物の酸化分解反応を行う第
二処理工程４からなる構成のものである。第一処理工程
３では、原水１の紫外線透過率を向上させるためオゾン
ガス５が槽内に供給されている。第二処理工程４では、
活性種を生成させるためオゾンガス５が槽内に供給さ
れ、活性種の生成及び有機塩素化合物の脱塩素化反応に
必要な紫外線ランプ７が槽内に設置されている。
【００２５】次に本発明の具体的構成の別の一例を図４
に基づいて説明する。図４は、オゾンガス５により原水
１の紫外線透過率を向上させる第一処理工程３と第一処
理工程３により得られた紫外線透過率が高い水に対して
紫外線による有機塩素化合物の脱塩素化反応、及びオゾ
ンガス５と紫外線と過酸化水素６のうちいずれか２つ以
上の組み合わせによって生成したヒドロキシラジカルに
よる有機塩素化合物の酸化分解反応を行う第二処理工程
４からなる構成のものである。第一処理工程３では、原
水１の紫外線透過率を向上させるためオゾンガス５が槽
内に供給されている。第二処理工程４では、活性種を生
成させるため過酸化水素６及びオゾンガス５が各々槽の
入口及び槽内に供給され、活性種の生成及び有機塩素化
合物の脱塩素化反応に必要な紫外線ランプ７が槽内に設
置されている。
に基づいて説明する。図４は、オゾンガス５により原水
１の紫外線透過率を向上させる第一処理工程３と第一処
理工程３により得られた紫外線透過率が高い水に対して
紫外線による有機塩素化合物の脱塩素化反応、及びオゾ
ンガス５と紫外線と過酸化水素６のうちいずれか２つ以
上の組み合わせによって生成したヒドロキシラジカルに
よる有機塩素化合物の酸化分解反応を行う第二処理工程
４からなる構成のものである。第一処理工程３では、原
水１の紫外線透過率を向上させるためオゾンガス５が槽
内に供給されている。第二処理工程４では、活性種を生
成させるため過酸化水素６及びオゾンガス５が各々槽の
入口及び槽内に供給され、活性種の生成及び有機塩素化
合物の脱塩素化反応に必要な紫外線ランプ７が槽内に設
置されている。
【００２６】次に本発明の具体的構成の別の一例を図５
に基づいて説明する。図５は、一つの反応槽の上部にお
いて第一処理工程３を行い、前記反応槽の下部で第二処
理工程４を行い、オゾンガス５を第二処理工程４に導入
し、第二処理工程４から流出したオゾンガス５を第一処
理工程３に導入する構成となっている。このような構成
とすることで、注入されたオゾンガス５を有機塩素化合
物の分解に優先的に使用することができ、第二処理工程
４で消費されるオゾン量が確実に確保される。また、第
二処理工程４で有機塩素化合物の分解に利用されなかっ
たオゾンガス５を第一処理工程３で有効利用することが
できる。また、第二処理工程４におけるオゾンガス濃度
が高いため、オゾンガス５と紫外線、オゾンガス５と過
酸化水素６の反応が早く進み、第二処理工程４の反応容
積を小さくすることが可能になる。次に本発明の具体的
構成の別の一例を図６に基づいて説明する。図６は、過
酸化水素６を複数箇所から反応槽に直接注入する構成と
なっている。このような構成とすることで、過酸化水素
６を少量ずつ広い範囲にわたって注入することができ、
反応速度のばらつきを解消することができる。また、こ
れにより過酸化水素６を有効利用することができる。
に基づいて説明する。図５は、一つの反応槽の上部にお
いて第一処理工程３を行い、前記反応槽の下部で第二処
理工程４を行い、オゾンガス５を第二処理工程４に導入
し、第二処理工程４から流出したオゾンガス５を第一処
理工程３に導入する構成となっている。このような構成
とすることで、注入されたオゾンガス５を有機塩素化合
物の分解に優先的に使用することができ、第二処理工程
４で消費されるオゾン量が確実に確保される。また、第
二処理工程４で有機塩素化合物の分解に利用されなかっ
たオゾンガス５を第一処理工程３で有効利用することが
できる。また、第二処理工程４におけるオゾンガス濃度
が高いため、オゾンガス５と紫外線、オゾンガス５と過
酸化水素６の反応が早く進み、第二処理工程４の反応容
積を小さくすることが可能になる。次に本発明の具体的
構成の別の一例を図６に基づいて説明する。図６は、過
酸化水素６を複数箇所から反応槽に直接注入する構成と
なっている。このような構成とすることで、過酸化水素
６を少量ずつ広い範囲にわたって注入することができ、
反応速度のばらつきを解消することができる。また、こ
れにより過酸化水素６を有効利用することができる。
【００２７】次に本発明の具体的構成の別の一例を図７
に基づいて説明する。図７は、第一処理工程３を行う反
応槽に隣接して第二処理工程４を行う反応槽を設置し、
オゾンガス５及び過酸化水素６を第一処理工程３及び第
二処理工程４にそれぞれ導入し、第一処理工程流出水を
底部より第二処理工程４に導入する構成となっている。
このような構成とすることで、反応槽の高さを抑えるこ
とができ、高さの制限されるスペースにおける処理が可
能となる。第一処理工程流出水を第二処理工程４に導入
する高さは、オゾンガス５を導入する部分より低くする
ことが望ましい。このような構成とすることで、第一処
理工程３に導入されたオゾンガス５が第一処理工程流出
水と共に第二処理工程４に導入されることを防ぐことが
できる。次に本発明の具体的構成の別の一例を図８に基
づいて説明する。図８は、第一処理工程３を行う反応槽
に隣接して第二処理工程４を行う反応槽を設置する場合
において、オゾンガス５を第一処理工程３に導入し、第
一処理工程３から流出したオゾンガス５を第二処理工程
４に導入する構成としたものである。このような構成と
することで、第一処理工程３から流出したオゾンガス５
を第二処理工程４で有効利用することができる。
に基づいて説明する。図７は、第一処理工程３を行う反
応槽に隣接して第二処理工程４を行う反応槽を設置し、
オゾンガス５及び過酸化水素６を第一処理工程３及び第
二処理工程４にそれぞれ導入し、第一処理工程流出水を
底部より第二処理工程４に導入する構成となっている。
このような構成とすることで、反応槽の高さを抑えるこ
とができ、高さの制限されるスペースにおける処理が可
能となる。第一処理工程流出水を第二処理工程４に導入
する高さは、オゾンガス５を導入する部分より低くする
ことが望ましい。このような構成とすることで、第一処
理工程３に導入されたオゾンガス５が第一処理工程流出
水と共に第二処理工程４に導入されることを防ぐことが
できる。次に本発明の具体的構成の別の一例を図８に基
づいて説明する。図８は、第一処理工程３を行う反応槽
に隣接して第二処理工程４を行う反応槽を設置する場合
において、オゾンガス５を第一処理工程３に導入し、第
一処理工程３から流出したオゾンガス５を第二処理工程
４に導入する構成としたものである。このような構成と
することで、第一処理工程３から流出したオゾンガス５
を第二処理工程４で有効利用することができる。
【００２８】次に本発明の具体的構成の別の一例を図９
に基づいて説明する。図９は、第一処理工程３を行う反
応槽に隣接して第二処理工程４を行う反応槽を設置する
場合において、オゾンガス５を第一処理工程３に導入
し、第一処理工程３及び第二処理工程４から流出したオ
ゾンガス５を第二処理工程４に導入し、第一処理工程流
出水を上部より第二処理工程４に導入する構成となって
いる。このような構成とすることで、第一処理工程３の
底部では、高濃度のオゾンガス５、高濃度の過酸化水素
６を反応させることができ、反応速度を向上させること
ができる。また、反応槽の高さが制限されている場合に
おいても、オゾンガス５の吸収効率を高くすることがで
きる。次に本発明の具体的構成の別の一例を図１０に基
づいて説明する。図１０は、一つの反応槽の下部におい
て第一処理工程３を行い、前記反応槽の上部で第二処理
工程４を行い、オゾンガス５を第一処理工程３に導入
し、第一処理工程３から流出したオゾンガス５を第二処
理工程４で利用する構成となっているもののうち、第二
処理工程流出水を少なくとも一部を第一処理工程３に導
入し、水を循環させる構成のものである。このような構
成とすることで水の攪拌が促進され、第二処理工程４に
おける紫外線と有機塩素化合物との接触がより向上す
る。また、第二処理工程４の脱塩素化反応によって生成
した低塩素化物を第一処理工程３でも分解することが可
能になる。
に基づいて説明する。図９は、第一処理工程３を行う反
応槽に隣接して第二処理工程４を行う反応槽を設置する
場合において、オゾンガス５を第一処理工程３に導入
し、第一処理工程３及び第二処理工程４から流出したオ
ゾンガス５を第二処理工程４に導入し、第一処理工程流
出水を上部より第二処理工程４に導入する構成となって
いる。このような構成とすることで、第一処理工程３の
底部では、高濃度のオゾンガス５、高濃度の過酸化水素
６を反応させることができ、反応速度を向上させること
ができる。また、反応槽の高さが制限されている場合に
おいても、オゾンガス５の吸収効率を高くすることがで
きる。次に本発明の具体的構成の別の一例を図１０に基
づいて説明する。図１０は、一つの反応槽の下部におい
て第一処理工程３を行い、前記反応槽の上部で第二処理
工程４を行い、オゾンガス５を第一処理工程３に導入
し、第一処理工程３から流出したオゾンガス５を第二処
理工程４で利用する構成となっているもののうち、第二
処理工程流出水を少なくとも一部を第一処理工程３に導
入し、水を循環させる構成のものである。このような構
成とすることで水の攪拌が促進され、第二処理工程４に
おける紫外線と有機塩素化合物との接触がより向上す
る。また、第二処理工程４の脱塩素化反応によって生成
した低塩素化物を第一処理工程３でも分解することが可
能になる。
【００２９】次に本発明の具体的構成の別の一例を図１
１に基づいて説明する。図１１は、第一処理工程３を行
う反応槽に隣接して第二処理工程４を行う反応槽を設置
し、オゾンガス５を第一処理工程３に導入し、第一処理
工程３から流出したオゾンガス５を第二処理工程４に導
入する構成とし、第二処理工程流出水の少なくとも一部
を第二処理工程流入部に返送する構成のものである。こ
のような構成とすることで第一処理工程３のオゾン吸収
の効率に悪影響を与えることなく第二処理工程４におけ
る紫外線と有機塩素化合物との接触効率を向上させるこ
とが可能になる。次に本発明の具体的構成の別の一例を
図１２に基づいて説明する。図１２は、一つの反応槽の
下部において第一処理工程３を行い、前記反応槽の上部
で第二処理工程４を行い、オゾンガス５及び過酸化水素
６を第一処理工程３及び第二処理工程４に導入する構成
となっている。このような構成とすることにより、オゾ
ンガス５及び過酸化水素６の注入条件を第一処理工程３
及び第二処理工程４それぞれに対して最適とすることが
可能となる。また、オゾンガス５の曝気量は第一処理工
程３より第二処理工程４が多くなり、第二処理工程４に
おける紫外線と有機塩素化合物との接触効率を高くする
ことができる。
１に基づいて説明する。図１１は、第一処理工程３を行
う反応槽に隣接して第二処理工程４を行う反応槽を設置
し、オゾンガス５を第一処理工程３に導入し、第一処理
工程３から流出したオゾンガス５を第二処理工程４に導
入する構成とし、第二処理工程流出水の少なくとも一部
を第二処理工程流入部に返送する構成のものである。こ
のような構成とすることで第一処理工程３のオゾン吸収
の効率に悪影響を与えることなく第二処理工程４におけ
る紫外線と有機塩素化合物との接触効率を向上させるこ
とが可能になる。次に本発明の具体的構成の別の一例を
図１２に基づいて説明する。図１２は、一つの反応槽の
下部において第一処理工程３を行い、前記反応槽の上部
で第二処理工程４を行い、オゾンガス５及び過酸化水素
６を第一処理工程３及び第二処理工程４に導入する構成
となっている。このような構成とすることにより、オゾ
ンガス５及び過酸化水素６の注入条件を第一処理工程３
及び第二処理工程４それぞれに対して最適とすることが
可能となる。また、オゾンガス５の曝気量は第一処理工
程３より第二処理工程４が多くなり、第二処理工程４に
おける紫外線と有機塩素化合物との接触効率を高くする
ことができる。
【００３０】次に本発明の具体的構成の別の一例を図１
３に基づいて説明する。図１３は、第一処理工程３及び
第二処理工程４それぞれが複数の反応槽により構成され
ており、直列に接続されている。このような構成とする
ことによりプラグフロー的な流れが得られ、処理水２の
水質を一層向上させることが可能になる。次に本発明の
具体的構成の別の一例を図１４に基づいて説明する。図
１４は、第一処理工程３はイジェクター式の反応槽にな
っており、原水１、過酸化水素６、オゾンガス５が混合
され、第一処理工程３を流出した水及びオゾンガス５は
第二処理工程４に導入される構成となっている。第二処
理工程流出水の一部はイジェクター９に導入されている
が、これはイジェクター９の特性上水の流速が必要なた
めである。第一処理工程３の反応槽がイジェクター式で
あるので気液の混合効率が格段に良く、反応時間が短く
反応槽がコンパクトとなり、省スペース化が可能とな
る。
３に基づいて説明する。図１３は、第一処理工程３及び
第二処理工程４それぞれが複数の反応槽により構成され
ており、直列に接続されている。このような構成とする
ことによりプラグフロー的な流れが得られ、処理水２の
水質を一層向上させることが可能になる。次に本発明の
具体的構成の別の一例を図１４に基づいて説明する。図
１４は、第一処理工程３はイジェクター式の反応槽にな
っており、原水１、過酸化水素６、オゾンガス５が混合
され、第一処理工程３を流出した水及びオゾンガス５は
第二処理工程４に導入される構成となっている。第二処
理工程流出水の一部はイジェクター９に導入されている
が、これはイジェクター９の特性上水の流速が必要なた
めである。第一処理工程３の反応槽がイジェクター式で
あるので気液の混合効率が格段に良く、反応時間が短く
反応槽がコンパクトとなり、省スペース化が可能とな
る。
【００３１】
【実施例】以下、本発明の具体的実施例を説明するが、
本発明はこれに限定されるものではない。
本発明はこれに限定されるものではない。
【００３２】実施例１ ＣＯＤMnが約３０〔ｍｇ／リットル〕のゴミ埋め立て地
浸出水に総ダイオキシン量が１０００〔ｐｇ／リット
ル〕、ＴＥＱが１１〔ｐｇ／リットル〕となるようにダ
イオキシンを添加したものを原水とし、下記条件で図１
に示すフローに従って処理した。 第一処理工程 ・オゾン注入率 ：１００〔ｍｇ／リットル〕（第一
処理工程と第二処理工程の合計） ・過酸化水素注入率： １０〔ｍｇ／リットル〕 ・滞留時間 ： ５〔ｍｉｎ〕 第二処理工程 ・紫外線照射量 ：０．５〔Ｗ・ｈｒ／リットル〕 ・紫外線波長 ：２５４ｎｍ、 １８５ｎｍ ・滞留時間 ： ５〔ｍｉｎ〕 ・原水流量 ：１．０〔リットル／ｍｉｎ〕 以上のような条件で処理した結果を第１表に示す。第１
表において、「ＴＥＱ」は、２，３，７，８−ＴＣＤＤ
毒性等価換算濃度を示す。
浸出水に総ダイオキシン量が１０００〔ｐｇ／リット
ル〕、ＴＥＱが１１〔ｐｇ／リットル〕となるようにダ
イオキシンを添加したものを原水とし、下記条件で図１
に示すフローに従って処理した。 第一処理工程 ・オゾン注入率 ：１００〔ｍｇ／リットル〕（第一
処理工程と第二処理工程の合計） ・過酸化水素注入率： １０〔ｍｇ／リットル〕 ・滞留時間 ： ５〔ｍｉｎ〕 第二処理工程 ・紫外線照射量 ：０．５〔Ｗ・ｈｒ／リットル〕 ・紫外線波長 ：２５４ｎｍ、 １８５ｎｍ ・滞留時間 ： ５〔ｍｉｎ〕 ・原水流量 ：１．０〔リットル／ｍｉｎ〕 以上のような条件で処理した結果を第１表に示す。第１
表において、「ＴＥＱ」は、２，３，７，８−ＴＣＤＤ
毒性等価換算濃度を示す。
【００３３】
【表１】
【００３４】比較例１ 前記実施例１で用いた原水を下記条件で図１５に示すフ
ローに従って処理した。 処理条件 ・オゾン注入率 ：１００〔ｍｇ／リットル〕 ・過酸化水素注入率： １０〔ｍｇ／リットル〕 ・滞留時間 ： ５〔ｍｉｎ〕 ・紫外線照射量 ：０．５〔Ｗ・ｈｒ／リットル〕 ・紫外線波長 ：２５４ｎｍ、 １８５ｎｍ ・原水流量 ：１．０〔リットル／ｍｉｎ〕 以上のような条件で処理した結果を第２表に示す。
ローに従って処理した。 処理条件 ・オゾン注入率 ：１００〔ｍｇ／リットル〕 ・過酸化水素注入率： １０〔ｍｇ／リットル〕 ・滞留時間 ： ５〔ｍｉｎ〕 ・紫外線照射量 ：０．５〔Ｗ・ｈｒ／リットル〕 ・紫外線波長 ：２５４ｎｍ、 １８５ｎｍ ・原水流量 ：１．０〔リットル／ｍｉｎ〕 以上のような条件で処理した結果を第２表に示す。
【００３５】
【表２】
【００３６】比較例２ 前記実施例１で用いた原水を下記条件で図１６に示すフ
ローに従って処理した。 処理条件 ・オゾン注入率 ：１５０〔ｍｇ／リットル〕 ・滞留時間 ： １０〔ｍｉｎ〕 ・紫外線照射量 ：０．５〔Ｗ・ｈｒ／リットル〕 ・紫外線波長 ：２５４ｎｍ、 １８５ｎｍ ・原水流量 ：１．０〔リットル／ｍｉｎ〕 以上のような条件で処理した結果を第３表に示す。
ローに従って処理した。 処理条件 ・オゾン注入率 ：１５０〔ｍｇ／リットル〕 ・滞留時間 ： １０〔ｍｉｎ〕 ・紫外線照射量 ：０．５〔Ｗ・ｈｒ／リットル〕 ・紫外線波長 ：２５４ｎｍ、 １８５ｎｍ ・原水流量 ：１．０〔リットル／ｍｉｎ〕 以上のような条件で処理した結果を第３表に示す。
【００３７】
【表３】
【００３８】ここで、第１表〜第３表により、本発明に
よる処理方法ではダイオキシン及びＴＥＱの除去量が最
も大きく、酸化剤注入率あたりのダイオキシン及びＴＥ
Ｑの除去量も多いことがわかる。この結果より、２段階
に分けた本発明においてはダイオキシンの除去が効率的
に行われることが認められた。
よる処理方法ではダイオキシン及びＴＥＱの除去量が最
も大きく、酸化剤注入率あたりのダイオキシン及びＴＥ
Ｑの除去量も多いことがわかる。この結果より、２段階
に分けた本発明においてはダイオキシンの除去が効率的
に行われることが認められた。
【００３９】実施例２ ＣＯＤMnが約３０〔ｍｇ／リットル〕のゴミ埋め立て地
浸出水に総ダイオキシン量が１０００〔ｐｇ／リット
ル〕、ＴＥＱが１１〔ｐｇ／リットル〕となるようにダ
イオキシンを添加したものを原水とし、下記条件で図２
に示すフローに従って処理した。 第一処理工程 ・オゾン注入率 ：１００〔ｍｇ／リットル〕（第一
処理工程と第二処理工程の合計） ・過酸化水素注入率： １０〔ｍｇ／リットル〕 ・滞留時間 ： ５〔ｍｉｎ〕 第二処理工程 ・過酸化水素注入率： ７〔ｍｇ／リットル〕 ・紫外線照射量 ：０．５〔Ｗ・ｈｒ／リットル〕 ・紫外線波長 ：２５４ｎｍ、 １８５ｎｍ ・滞留時間 ： ５〔ｍｉｎ〕 ・原水流量 ：１．０〔リットル／ｍｉｎ〕 以上のような条件で処理した結果を第４表に示す。
浸出水に総ダイオキシン量が１０００〔ｐｇ／リット
ル〕、ＴＥＱが１１〔ｐｇ／リットル〕となるようにダ
イオキシンを添加したものを原水とし、下記条件で図２
に示すフローに従って処理した。 第一処理工程 ・オゾン注入率 ：１００〔ｍｇ／リットル〕（第一
処理工程と第二処理工程の合計） ・過酸化水素注入率： １０〔ｍｇ／リットル〕 ・滞留時間 ： ５〔ｍｉｎ〕 第二処理工程 ・過酸化水素注入率： ７〔ｍｇ／リットル〕 ・紫外線照射量 ：０．５〔Ｗ・ｈｒ／リットル〕 ・紫外線波長 ：２５４ｎｍ、 １８５ｎｍ ・滞留時間 ： ５〔ｍｉｎ〕 ・原水流量 ：１．０〔リットル／ｍｉｎ〕 以上のような条件で処理した結果を第４表に示す。
【００４０】
【表４】
【００４１】ここで、第１表と第４表より、第二処理工
程で紫外線、オゾン及び過酸化水素を同時に作用させる
ことで、紫外線及びオゾンを同時に作用させる場合より
も高いダイオキシン処理性能が得られることが確認され
た。
程で紫外線、オゾン及び過酸化水素を同時に作用させる
ことで、紫外線及びオゾンを同時に作用させる場合より
も高いダイオキシン処理性能が得られることが確認され
た。
【００４２】実施例３ ＣＯＤMnが約３０〔ｍｇ／リットル〕のゴミ埋め立て地
浸出水に総ダイオキシン量が１０００〔ｐｇ／リット
ル〕、ＴＥＱが１１〔ｐｇ／リットル〕となるようにダ
イオキシンを添加したものを原水とし、下記条件で図３
に示すフローに従って処理した。 第一処理工程 ・オゾン注入率 ：１００〔ｍｇ／リットル〕（第一
処理工程と第二処理工程の合計） ・滞留時間 ： ５〔ｍｉｎ〕 第二処理工程 ・紫外線照射量 ：０．５〔Ｗ・ｈｒ／リットル〕 ・紫外線波長 ：２５４ｎｍ、 １８５ｎｍ ・滞留時間 ： ５〔ｍｉｎ〕 ・原水流量 ：１．０〔リットル／ｍｉｎ〕 以上のような条件で処理した結果を第５表に示す。
浸出水に総ダイオキシン量が１０００〔ｐｇ／リット
ル〕、ＴＥＱが１１〔ｐｇ／リットル〕となるようにダ
イオキシンを添加したものを原水とし、下記条件で図３
に示すフローに従って処理した。 第一処理工程 ・オゾン注入率 ：１００〔ｍｇ／リットル〕（第一
処理工程と第二処理工程の合計） ・滞留時間 ： ５〔ｍｉｎ〕 第二処理工程 ・紫外線照射量 ：０．５〔Ｗ・ｈｒ／リットル〕 ・紫外線波長 ：２５４ｎｍ、 １８５ｎｍ ・滞留時間 ： ５〔ｍｉｎ〕 ・原水流量 ：１．０〔リットル／ｍｉｎ〕 以上のような条件で処理した結果を第５表に示す。
【００４３】
【表５】
【００４４】ここで、第２表と第５表より、第一処理工
程でオゾンによる処理を行う場合においても、本発明に
よる処理方法の方がダイオキシン処理性能が高いことが
確認された。
程でオゾンによる処理を行う場合においても、本発明に
よる処理方法の方がダイオキシン処理性能が高いことが
確認された。
【００４５】実施例４ ＣＯＤMnが約３０〔ｍｇ／リットル〕のゴミ埋め立て地
浸出水に総ダイオキシン量が１０００〔ｐｇ／リット
ル〕、ＴＥＱが１１〔ｐｇ／リットル〕となるようにダ
イオキシンを添加したものを原水とし、下記条件で図４
に示すフローに従って処理した。 第一処理工程 ・オゾン注入率 ：１００〔ｍｇ／リットル〕（第一
処理工程と第二処理工程の合計） ・滞留時間 ： ５〔ｍｉｎ〕 第二処理工程 ・過酸化水素注入率： ７〔ｍｇ／リットル〕 ・紫外線照射量 ：０．５〔Ｗ・ｈｒ／リットル〕 ・紫外線波長 ：２５４ｎｍ、 １８５ｎｍ ・滞留時間 ： ５〔ｍｉｎ〕 ・原水流量 ：１．０〔リットル／ｍｉｎ〕 以上のような条件で処理した結果を第６表に示す。
浸出水に総ダイオキシン量が１０００〔ｐｇ／リット
ル〕、ＴＥＱが１１〔ｐｇ／リットル〕となるようにダ
イオキシンを添加したものを原水とし、下記条件で図４
に示すフローに従って処理した。 第一処理工程 ・オゾン注入率 ：１００〔ｍｇ／リットル〕（第一
処理工程と第二処理工程の合計） ・滞留時間 ： ５〔ｍｉｎ〕 第二処理工程 ・過酸化水素注入率： ７〔ｍｇ／リットル〕 ・紫外線照射量 ：０．５〔Ｗ・ｈｒ／リットル〕 ・紫外線波長 ：２５４ｎｍ、 １８５ｎｍ ・滞留時間 ： ５〔ｍｉｎ〕 ・原水流量 ：１．０〔リットル／ｍｉｎ〕 以上のような条件で処理した結果を第６表に示す。
【００４６】
【表６】
【００４７】ここで、第３表と第６表より、第一処理工
程でオゾンによる処理を行う場合においても、本発明に
よる処理方法の方がダイオキシン処理性能が高いことが
確認された。
程でオゾンによる処理を行う場合においても、本発明に
よる処理方法の方がダイオキシン処理性能が高いことが
確認された。
【００４８】実施例５ ＣＯＤMnが約３０〔ｍｇ／リットル〕のゴミ埋め立て地
浸出水に総ダイオキシン量が１０００〔ｐｇ／リット
ル〕、ＴＥＱが１１〔ｐｇ／リットル〕となるようにダ
イオキシンを添加したものを原水とし、下記条件で図７
に示すフローに従って処理した。 第一処理工程 ・オゾン注入率 ： ３０〔ｍｇ／リットル〕 ・過酸化水素注入率： ０〔ｍｇ／リットル〕 ・滞留時間 ： ５〔ｍｉｎ〕 第二処理工程 ・紫外線照射量 ：０．５〔Ｗ・ｈｒ／リットル〕 ・紫外線波長 ：２５４ｎｍ、 １８５ｎｍ ・オゾン注入率 ： ０〔ｍｇ／リットル〕 ・過酸化水素注入率： ０〔ｍｇ／リットル〕 ・滞留時間 ： ５〔ｍｉｎ〕 ・原水流量 ：１．０〔リットル／ｍｉｎ〕 以上のような条件で処理した結果を第７表に示す。
浸出水に総ダイオキシン量が１０００〔ｐｇ／リット
ル〕、ＴＥＱが１１〔ｐｇ／リットル〕となるようにダ
イオキシンを添加したものを原水とし、下記条件で図７
に示すフローに従って処理した。 第一処理工程 ・オゾン注入率 ： ３０〔ｍｇ／リットル〕 ・過酸化水素注入率： ０〔ｍｇ／リットル〕 ・滞留時間 ： ５〔ｍｉｎ〕 第二処理工程 ・紫外線照射量 ：０．５〔Ｗ・ｈｒ／リットル〕 ・紫外線波長 ：２５４ｎｍ、 １８５ｎｍ ・オゾン注入率 ： ０〔ｍｇ／リットル〕 ・過酸化水素注入率： ０〔ｍｇ／リットル〕 ・滞留時間 ： ５〔ｍｉｎ〕 ・原水流量 ：１．０〔リットル／ｍｉｎ〕 以上のような条件で処理した結果を第７表に示す。
【００４９】
【表７】
【００５０】比較例３ 前記実施例５で用いた原水を下記条件で図１５に示すフ
ローに従って処理した。 処理条件 ・滞留時間 ： ５〔ｍｉｎ〕 ・紫外線照射量 ：０．５〔Ｗ・ｈｒ／リットル〕 ・紫外線波長 ：２５４ｎｍ、 １８５ｎｍ ・オゾン注入率 ： ０〔ｍｇ／リットル〕 ・過酸化水素注入率： ０〔ｍｇ／リットル〕 ・原水流量 ：１．０〔リットル／ｍｉｎ〕 以上のような条件で処理した結果を第８表に示す。
ローに従って処理した。 処理条件 ・滞留時間 ： ５〔ｍｉｎ〕 ・紫外線照射量 ：０．５〔Ｗ・ｈｒ／リットル〕 ・紫外線波長 ：２５４ｎｍ、 １８５ｎｍ ・オゾン注入率 ： ０〔ｍｇ／リットル〕 ・過酸化水素注入率： ０〔ｍｇ／リットル〕 ・原水流量 ：１．０〔リットル／ｍｉｎ〕 以上のような条件で処理した結果を第８表に示す。
【００５１】
【表８】
【００５２】ここで、第７表と第８表より、第二処理工
程で紫外線処理を行った場合においても、本発明による
処理方法ではダイオキシン及びＴＥＱの除去量が多く、
オゾン処理による第一処理工程を設けたことによってダ
イオキシンの除去が効率的に行われることが認められ
た。
程で紫外線処理を行った場合においても、本発明による
処理方法ではダイオキシン及びＴＥＱの除去量が多く、
オゾン処理による第一処理工程を設けたことによってダ
イオキシンの除去が効率的に行われることが認められ
た。
【００５３】実施例６ ＣＯＤMnが約３０〔ｍｇ／リットル〕のゴミ埋め立て地
浸出水に総ダイオキシン量が１０００〔ｐｇ／リット
ル〕、ＴＥＱが１１〔ｐｇ／リットル〕となるようにダ
イオキシンを添加したものを原水とし、下記条件で図７
に示すフローに従って処理した。 第一処理工程 ・オゾン注入率 ： ３０〔ｍｇ／リットル〕 ・過酸化水素注入率： ０〔ｍｇ／リットル〕 ・滞留時間 ： ５〔ｍｉｎ〕 第二処理工程 ・紫外線照射量 ：０．５〔Ｗ・ｈｒ／リットル〕 ・紫外線波長 ：２５４ｎｍ、 １８５ｎｍ ・オゾン注入率 ： ０〔ｍｇ／リットル〕 ・過酸化水素注入率： ２０〔ｍｇ／リットル〕 ・滞留時間 ： ５〔ｍｉｎ〕 ・原水流量 ：１．０〔リットル／ｍｉｎ〕 以上のような条件で処理した結果を第９表に示す。
浸出水に総ダイオキシン量が１０００〔ｐｇ／リット
ル〕、ＴＥＱが１１〔ｐｇ／リットル〕となるようにダ
イオキシンを添加したものを原水とし、下記条件で図７
に示すフローに従って処理した。 第一処理工程 ・オゾン注入率 ： ３０〔ｍｇ／リットル〕 ・過酸化水素注入率： ０〔ｍｇ／リットル〕 ・滞留時間 ： ５〔ｍｉｎ〕 第二処理工程 ・紫外線照射量 ：０．５〔Ｗ・ｈｒ／リットル〕 ・紫外線波長 ：２５４ｎｍ、 １８５ｎｍ ・オゾン注入率 ： ０〔ｍｇ／リットル〕 ・過酸化水素注入率： ２０〔ｍｇ／リットル〕 ・滞留時間 ： ５〔ｍｉｎ〕 ・原水流量 ：１．０〔リットル／ｍｉｎ〕 以上のような条件で処理した結果を第９表に示す。
【００５４】
【表９】
【００５５】比較例４ 前記実施例６で用いた原水を下記条件で図１５に示すフ
ローに従って処理した。 処理条件 ・滞留時間 ： ５〔ｍｉｎ〕 ・紫外線照射量 ：０．５〔Ｗ・ｈｒ／リットル〕 ・紫外線波長 ：２５４ｎｍ、 １８５ｎｍ ・オゾン注入率 ： ０〔ｍｇ／リットル〕 ・過酸化水素注入率： ２０〔ｍｇ／リットル〕 ・原水流量 ：１．０〔リットル／ｍｉｎ〕 以上のような条件で処理した結果を第１０表に示す。
ローに従って処理した。 処理条件 ・滞留時間 ： ５〔ｍｉｎ〕 ・紫外線照射量 ：０．５〔Ｗ・ｈｒ／リットル〕 ・紫外線波長 ：２５４ｎｍ、 １８５ｎｍ ・オゾン注入率 ： ０〔ｍｇ／リットル〕 ・過酸化水素注入率： ２０〔ｍｇ／リットル〕 ・原水流量 ：１．０〔リットル／ｍｉｎ〕 以上のような条件で処理した結果を第１０表に示す。
【００５６】
【表１０】
【００５７】ここで、第９表と第１０表より、第二処理
工程で紫外線と過酸化水素を併用した場合においても、
本発明による処理方法ではダイオキシン及びＴＥＱの除
去量が多く、オゾン処理による第一処理工程を設けたこ
とによってダイオキシンの除去が効率的に行われること
が認められた。
工程で紫外線と過酸化水素を併用した場合においても、
本発明による処理方法ではダイオキシン及びＴＥＱの除
去量が多く、オゾン処理による第一処理工程を設けたこ
とによってダイオキシンの除去が効率的に行われること
が認められた。
【００５８】
【発明の効果】本発明による有機塩素化合物を含有する
汚水の処理方法を用いることにより、汚水中の有機塩素
化合物が低コストかつ高度に処理される。つまり、第一
処理工程ではオゾンと原水中の有機物の反応によって原
水の紫外線透過率を向上させることができる。過酸化水
素を添加する場合にはオゾンと過酸化水素の反応によっ
て生成したヒドロキシラジカルと原水中の有機物の反応
によって原水の紫外線透過率が更に向上し、またヒドロ
キシラジカルによる有機塩素化合物の酸化分解反応を進
行させることも可能となる。
汚水の処理方法を用いることにより、汚水中の有機塩素
化合物が低コストかつ高度に処理される。つまり、第一
処理工程ではオゾンと原水中の有機物の反応によって原
水の紫外線透過率を向上させることができる。過酸化水
素を添加する場合にはオゾンと過酸化水素の反応によっ
て生成したヒドロキシラジカルと原水中の有機物の反応
によって原水の紫外線透過率が更に向上し、またヒドロ
キシラジカルによる有機塩素化合物の酸化分解反応を進
行させることも可能となる。
【００５９】次に、第二処理工程では紫外線による有機
塩素化合物の脱塩素化反応、及びオゾン、過酸化水素、
紫外線のうちいずれか２つ以上の組み合わせの反応によ
って生成したヒドロキシラジカルによる有機塩素化合物
の酸化分解反応が行われるが、第一処理工程によって原
水の紫外線透過率が高くなっていることからヒドロキシ
ラジカル発生効率及び脱塩素化反応の効率が飛躍的に高
まる。よって、紫外線照射量あたりに生じる脱塩素化反
応、ヒドロキシラジカル生成反応が増大し、紫外線照射
量を低減させることができる。また、第一処理工程で過
酸化水素を添加する場合では、第二処理工程流入水中の
有機塩素化合物濃度が低くなっているため第二処理工程
にかかる有機塩素化合物負担が軽減され、紫外線照射量
を更に低減させることができる。これにより、本発明に
よる有機塩素化合物を含有する汚水の処理方法では紫外
線ランプから発せられた紫外線を効率的に利用すること
が可能であり、従来法では処理コストが高額となる原水
に対しても低コストで処理することが可能となり、世の
中に貢献すること極めて大である。
塩素化合物の脱塩素化反応、及びオゾン、過酸化水素、
紫外線のうちいずれか２つ以上の組み合わせの反応によ
って生成したヒドロキシラジカルによる有機塩素化合物
の酸化分解反応が行われるが、第一処理工程によって原
水の紫外線透過率が高くなっていることからヒドロキシ
ラジカル発生効率及び脱塩素化反応の効率が飛躍的に高
まる。よって、紫外線照射量あたりに生じる脱塩素化反
応、ヒドロキシラジカル生成反応が増大し、紫外線照射
量を低減させることができる。また、第一処理工程で過
酸化水素を添加する場合では、第二処理工程流入水中の
有機塩素化合物濃度が低くなっているため第二処理工程
にかかる有機塩素化合物負担が軽減され、紫外線照射量
を更に低減させることができる。これにより、本発明に
よる有機塩素化合物を含有する汚水の処理方法では紫外
線ランプから発せられた紫外線を効率的に利用すること
が可能であり、従来法では処理コストが高額となる原水
に対しても低コストで処理することが可能となり、世の
中に貢献すること極めて大である。
【図１】本発明の汚水の処理方法の実施形態を示すフロ
ー図
ー図
【図２】本発明の汚水の処理方法の別の実施形態を示す
フロー図
フロー図
【図３】本発明の汚水の処理方法の別の実施形態を示す
フロー図
フロー図
【図４】本発明の汚水の処理方法の別の実施形態を示す
フロー図
フロー図
【図５】本発明の汚水の処理方法の別の実施形態を示す
フロー図
フロー図
【図６】本発明の汚水の処理方法の別の実施形態を示す
フロー図
フロー図
【図７】本発明の汚水の処理方法の別の実施形態を示す
フロー図
フロー図
【図８】本発明の汚水の処理方法の別の実施形態を示す
フロー図
フロー図
【図９】本発明の汚水の処理方法の別の実施形態を示す
フロー図
フロー図
【図１０】本発明の汚水の処理方法の別の実施形態を示
すフロー図
すフロー図
【図１１】本発明の汚水の処理方法の別の実施形態を示
すフロー図
すフロー図
【図１２】本発明の汚水の処理方法の別の実施形態を示
すフロー図
すフロー図
【図１３】本発明の汚水の処理方法の別の実施形態を示
すフロー図
すフロー図
【図１４】本発明の汚水の処理方法の別の実施形態を示
すフロー図
すフロー図
【図１５】汚水の処理方法の比較例の実施形態を示すフ
ロー図
ロー図
【図１６】汚水の処理方法の比較例の別の実施形態を示
すフロー図
すフロー図
１ 原水 ２ 処理水 ３ 第一処理工程 ４ 第二処理工程 ５ オゾンガス ６ 過酸化水素 ７ 紫外線ランプ ８ ポンプ ９ イジェクター
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｃ０２Ｆ 1/72 １０１ Ｃ０２Ｆ 1/72 １０１ (72)発明者 佐久間 博司 東京都大田区羽田旭町11番１号 株式会社 荏原製作所内 (72)発明者 伊藤 三郎 東京都大田区羽田旭町11番１号 株式会社 荏原製作所内 (72)発明者 池口 学 東京都大田区羽田旭町11番１号 株式会社 荏原製作所内
Claims (10)
- 【請求項１】 有機塩素化合物を含有する汚水を物理化
学的に処理する方法において、有機塩素化合物を含有す
る汚水をオゾン含有気体、又はオゾン含有気体及び過酸
化水素により処理する第一処理工程に導入し、次いで
（Ａ）紫外線、（Ｂ）紫外線及びオゾン含有気体、
（Ｃ）紫外線及び過酸化水素、又は（Ｄ）紫外線、オゾ
ン含有気体及び過酸化水素により処理する第二処理工程
に導入することを特徴とする有機塩素化合物を含有する
汚水の処理方法。 - 【請求項２】 反応槽の下部に有機塩素化合物を含有す
る汚水を導入し、該反応槽下部で前記第一処理工程を行
った後、前記反応槽の上部で前記第二処理工程を行い、
前記反応槽上部から処理水を取り出すことを特徴とする
請求項１記載の有機塩素化合物を含有する汚水の処理方
法。 - 【請求項３】 反応槽の上部に有機塩素化合物を含有す
る汚水を導入し、前記反応槽上部で前記第一処理工程を
行った後、前記反応槽の下部で前記第二処理工程を行
い、前記反応槽下部から処理水を取り出すことを特徴と
する請求項１記載の有機塩素化合物を含有する汚水の処
理方法。 - 【請求項４】 オゾン含有気体を第一処理工程に導入
し、第一処理工程から流出したオゾン含有気体を第二処
理工程に導入し処理することを特徴とする請求項１ない
し請求項３のいずれか１項記載の有機塩素化合物を含有
する汚水の処理方法。 - 【請求項５】 オゾン含有気体を第二処理工程に導入
し、第二処理工程から流出したオゾン含有気体を第一処
理工程に導入し処理することを特徴とする請求項１ない
し請求項３のいずれか１項記載の有機塩素化合物を含有
する汚水の処理方法。 - 【請求項６】 有機塩素化合物を含有する汚水と過酸化
水素とを予め混合し、該混合液を第一処理工程に導入す
ることを特徴とする請求項１ないし請求項５のいずれか
１項記載の有機塩素化合物を含有する汚水の処理方法。 - 【請求項７】 第一処理工程又は第二処理工程におい
て、反応槽に過酸化水素注入箇所を一つ以上設けること
を特徴とする請求項１ないし請求項６のいずれか１項記
載の有機塩素化合物を含有する汚水の処理方法。 - 【請求項８】 第一処理工程又は第二処理工程におい
て、反応槽にオゾン含有気体の注入箇所を一つ以上設け
ることを特徴とする請求項１ないし請求項６のいずれか
１項記載の有機塩素化合物を含有する汚水の処理方法。 - 【請求項９】 第二処理工程において設置する紫外線ラ
ンプの長手方向と水及びオゾン含有気体の流れ方向とを
互いに垂直とすることを特徴とする請求項１ないし請求
項８のいずれか１項記載の有機塩素化合物を含有する汚
水の処理方法。 - 【請求項１０】 前記有機塩素化合物がダイオキンシン
を含有するものであることを特徴とする請求項１ないし
請求項９のいずれか１項記載の有機塩素化合物を含有す
る汚水の処理方法。
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|---|---|---|---|
| JP19013697A JP3573322B2 (ja) | 1997-07-15 | 1997-07-15 | ダイオキシンを含有する汚水の処理方法及び装置 |
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| JP19013697A JP3573322B2 (ja) | 1997-07-15 | 1997-07-15 | ダイオキシンを含有する汚水の処理方法及び装置 |
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|---|---|
| JPH1133569A true JPH1133569A (ja) | 1999-02-09 |
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| JP19013697A Expired - Fee Related JP3573322B2 (ja) | 1997-07-15 | 1997-07-15 | ダイオキシンを含有する汚水の処理方法及び装置 |
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|---|---|
| JP (1) | JP3573322B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001219181A (ja) * | 2000-02-10 | 2001-08-14 | Ebara Corp | 内分泌撹乱物質又は発ガン性物質を含有する汚水の処理方法及び処理装置 |
| JP2006110522A (ja) * | 2004-10-18 | 2006-04-27 | Mitsubishi Electric Corp | 水処理装置および水処理方法 |
| WO2013137452A1 (ja) * | 2012-03-16 | 2013-09-19 | 株式会社ウイングターフ | 有機化合物の除染方法 |
| JP2017100122A (ja) * | 2015-11-24 | 2017-06-08 | エスアンドピー エンバイロメンタル テクノロジー カンパニー リミテッドＳ＆Ｐ Ｅｎｖｉｒｏｎｍｅｎｔａｌ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ Ｃｏ．， Ｌｔｄ． | 光酸化反応装置 |
-
1997
- 1997-07-15 JP JP19013697A patent/JP3573322B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| US9452307B2 (en) | 2012-03-16 | 2016-09-27 | Lunaere Inc. | Decontamination method for organic compound |
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