JPH11333387A - 高圧ジェット式スピン洗浄装置 - Google Patents

高圧ジェット式スピン洗浄装置

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JPH11333387A
JPH11333387A JP14715598A JP14715598A JPH11333387A JP H11333387 A JPH11333387 A JP H11333387A JP 14715598 A JP14715598 A JP 14715598A JP 14715598 A JP14715598 A JP 14715598A JP H11333387 A JPH11333387 A JP H11333387A
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JP
Japan
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cleaning
pressure
wafer
jet
cleaning liquid
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Application number
JP14715598A
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English (en)
Inventor
Masahiko Amari
昌彦 甘利
Yoshiyuki Seike
善之 清家
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Asahi Sunac Corp
Original Assignee
Asahi Sunac Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】ワークにキズを付けることなく短時間で良好に
ワークを洗浄することができる高圧ジェット式スピン洗
浄装置の提供。 【解決手段】ノズル42から回転するウェーハWに向け
て高圧の洗浄液を霧化させた状態で吹き付ける。これに
より、洗浄液がウェーハWに当たる力が強くなり、ウェ
ーハWから汚れが容易に剥離する。また、剥離した汚れ
は、ウェーハWの回転による遠心力で洗浄液とともにウ
ェーハWの外周に吹き飛ばされ、ウェーハ上から迅速に
除去される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は高圧ジェット式スピ
ン洗浄装置に係り、特に回転するワークに高圧の洗浄液
を吹き付けて洗浄する高圧ジェット式スピン洗浄装置に
関する。
【0002】
【従来の技術】半導体ワークの処理工程でワークに付着
した汚れを洗浄除去する装置には、回転するブラシに洗
浄液をかけながらワークの表面に押し当てて汚れを擦り
洗いするスクラブ洗浄装置や、ワークを回転させながら
洗浄液をかけて洗浄するスピン洗浄装置などがある。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、スクラ
ブ洗浄装置は、ブラシで擦り洗いするものなのでワーク
の表面に傷が付きやすいという欠点があり、また、スピ
ン洗浄装置は、洗浄液をそのまま供給して洗浄するもの
なので、洗浄に時間がかかるとともに洗浄液を大量に必
要とするという欠点があった。
【0004】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たもので、ワークにキズを付けることなく短時間で良好
にワークを洗浄することができる高圧ジェット式スピン
洗浄装置を提供することを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は、前記目的を達
成するために、ワークを回転させながら洗浄液をかけて
洗浄する高圧ジェット式スピン洗浄装置において、前記
回転するワークに向けて高圧力を加えた洗浄液をノズル
から霧化させた状態で吹き付ける噴射手段を備えたこと
を特徴とする。
【0006】本発明によれば、回転するワークに向けて
高圧の洗浄液を噴射することにより、洗浄液がワークに
当たる力が強くなり、ワークから汚れが容易に剥離す
る。また、剥離した汚れは、ワークの回転による遠心力
で洗浄液とともにワークから吹き飛ばされ、ワーク上か
ら迅速に除去される。このように、高圧の洗浄液を吹き
付けることと、ワークを回転させることによる相乗効果
でワークの汚れを短時間で良好に洗浄することができ
る。
【0007】
【発明の実施の形態】以下、添付図面に従って本発明に
係る高圧ジェット式スピン洗浄装置の好ましい実施の形
態について詳説する。図1は、本発明に係る高圧ジェッ
ト式スピン洗浄装置の第1の実施の形態の全体構成図で
あり、図2は、その要部の構成を示す平面図。
【0008】同図に示すように、本実施の形態の高圧ジ
ェット式スピン洗浄装置10は、洗浄対象のウェーハW
を保持して回転させるウェーハ回転装置12と、そのウ
ェーハ回転装置12によって回転させられたウェーハW
に高圧の洗浄液を吹き付ける高圧ジェット噴射装置30
とから構成されている。まず、ウェーハ回転装置12の
構成について説明する。架台14上に設置された洗浄槽
16の内部には、円盤状に形成されたターンテーブル1
8が配設されている。ターンテーブル18の上部には真
空チャック20が設けられており、この真空チャック2
0上にウェーハWが吸着保持される。ターンテーブル1
8の下部にはスピンドル22が連結されており、該スピ
ンドル22の下端部にはターンテーブル駆動モータ24
の出力軸が連結されている。ターンテーブル18は、こ
のターンテーブル駆動モータ24を駆動することにより
回転する。
【0009】次に、高圧ジェット噴射装置30の構成に
ついて説明する。高圧ジェット噴射装置30の圧力源を
構成するジェットポンプ32の入力側には、パイプ34
を介して洗浄液タンク36が接続されている。一方、ジ
ェットポンプ32の出力側には、パイプ38を介してガ
ン40が接続されている。ガン40の先端部にはノズル
42が設けられており、このノズル42から高圧の洗浄
液がウェーハWに向けて吹き付けられる。
【0010】ここで、このガン40は図1及び図2に示
すように、前記洗浄槽16内に配設されたアーム44の
先端に支持されており、該アーム44の基端部は、モー
タ46の出力軸に固着されている。モータ46は前記洗
浄槽16の内壁面にブラケット48を介して支持されて
おり、このモータ46を駆動することにより、アーム4
4が揺動してガン44がウェーハWの上方を水平に移動
する。
【0011】以上の構成の高圧ジェット噴射装置30で
は、ジェットポンプ32が駆動されると、洗浄液タンク
36内の洗浄液(純水)がジェットポンプ32内に吸引
され、高圧力を加えられた状態でガン40に供給され
る。そして、ガン40に供給された洗浄液は、ノズル4
2の噴射口から霧化された状態で噴射される。ノズル4
2から吹き出された洗浄液はウェーハWを洗浄したの
ち、洗浄槽16内に落下し、該洗浄槽16内に設置され
たリブ26を通じて排水口28に導かれる。そして、そ
の排水口28に連結されたパイプ50を介して洗浄液タ
ンク36に戻される。
【0012】前記のごとく構成された第1の実施の形態
の高圧ジェット式スピン洗浄装置10の作用は次の通り
である。まず、図示しない搬送ロボットに搬送されたウ
ェーハWが真空チャック20上に載置される。そして、
その真空チャック20によってウェーハWが吸着保持さ
れる。
【0013】次に、ターンテーブル駆動モータ24が駆
動されてターンテーブル18が回転し、ウェーハWが回
転を開始する。これと同時に、モータ46が駆動され、
アーム44が所定の待機位置(図2中において二点破線
で示す位置)から所定の洗浄開始位置(図2中において
実線で示す位置)に旋回して移動する。そして、所定の
角度範囲で水平に揺動を開始する。この結果、アーム4
4の先端に設けられたガン40がウェーハWの上方で水
平に往復移動を開始する。
【0014】次に、ジェットポンプ32が駆動され、洗
浄液タンク36内の洗浄液がジェットポンプ32内に吸
引される。ジェットポンプ32内に吸引された洗浄液
は、高圧力を加えられた状態でガン40に供給され、ガ
ン40のノズル42からウェーハWに向けて霧化された
状態で噴射される。ノズル42から噴射された洗浄液
は、ターンテーブル18上で回転するウェーハWに当た
り、そのウェーハWの表面に付着している汚れをウェー
ハWから剥離する(高圧ジェット洗浄)。剥離した汚れ
は、高圧で吹き付けられた洗浄液によってウェーハW上
から吹き飛ばされると同時に、回転するウェーハWの遠
心力によって洗浄液とともに吹き飛ばされる。
【0015】ウェーハWから吹き飛ばされた洗浄液は、
洗浄槽16内に落下し、リブ26によって排水口28に
導かれる。そして、その排水口28からパイプ50を介
して洗浄液タンク36に戻され、再び洗浄に供される。
すなわち、洗浄液は循環して使用されている。洗浄液の
噴射は所定時間継続して行われ、所定時間経過後ジェッ
トポンプ32の駆動が停止される。そして、この後アー
ム44が所定の待機位置に復帰してモータ46の駆動が
停止される。
【0016】一方、この洗浄液の噴射終了後もターンテ
ーブル18の回転は継続して行われ、このターンテーブ
ル18の回転による遠心力でウェーハW上に残留した洗
浄液が振り切られる。そして、これによりウェーハWが
スピン乾燥される。このウェーハWのスピン乾燥も所定
時間継続して行われ、所定時間経過後、ターンテーブル
駆動モータ24の駆動が停止される。そして、ターンテ
ーブル18の回転停止後、真空チャック20によるチャ
ックが解除され、この後、図示しない搬送ロボットによ
って真空チャック20上のウェーハWが次の処理工程に
搬送されてゆく。
【0017】このように、本実施の形態の高圧ジェット
式スピン洗浄装置10によれば、高圧の洗浄液を吹き付
けるジェット洗浄と、ウェーハWを回転させるスピン洗
浄の相乗効果によってウェーハWを効率的に洗浄するこ
とができる。また、これにより、短時間で良好にウェー
ハを洗浄することができるようになり、洗浄液の使用量
も少量で済むようになる。
【0018】また、本実施の形態の高圧ジェット式スピ
ン洗浄装置10では、圧力を加えた洗浄液を霧化させた
状態でウェーハWに噴射しているため、ウェーハWに付
着した多様な粒子径の汚れを効率よく剥離することがで
きる。すなわち、圧力を加えた洗浄液を霧化させた状態
で噴射すると、噴射される洗浄液の粒子径の分布幅が大
きくなり(多様な粒子径を持つ粒子が混在するようにな
る)、洗浄する汚れの多様な粒子径に対応できるように
なる。この結果、多様な粒子径の汚れを効率よく剥離す
ることができるようになり、洗浄性が一層向上する。
【0019】また、本実施の形態の高圧ジェット式スピ
ン洗浄装置10によれば、洗浄液をウェーハWに吹き付
けて洗浄するようしにしているので、従来のスクラブ洗
浄と異なり、ウェーハWの表面にキズを付けることもな
い。なお、本実施の形態では、ノズル42から噴射する
洗浄液の噴射圧力については特に言及していないが、3
MPa未満では洗浄水の噴射による物理的な洗浄作用を
十分に得ることができず、また、素子へのダメージを考
慮すると50MPa以下が好ましい。したがって、噴射
する圧力は3MPa〜50MPaの範囲内で設定するの
が好ましい。
【0020】また、使用する洗浄液については、純水に
限らず、薬品が混合されたものを使用してもよい。さら
に、ジェットポンプ32の入力側に種類の異なる洗浄液
が貯留された複数のタンクを接続し、バルブの開閉操作
によってウェーハWに噴射する洗浄液の種類を変えるこ
とができるように構成してもよい。
【0021】また、本実施の形態では、洗浄液を噴射す
るノズル42は1つのみであるが、複数のノズルから洗
浄液を噴射してウェーハWに吹き付けるように構成して
もよい。この場合、複数のノズルは、同心円上に等間隔
に配置してもよいし、また、図3に示すように、同一直
線上に配置してもよい。また、本実施の形態では、アー
ム44を所定の角度範囲で揺動させることにより、ノズ
ル42を水平に移動させるように構成しているが、図3
に示すように、アーム44を往復移動させることによ
り、ノズル42を移動させるようにしてもよい。
【0022】図4は、本発明に係る高圧ジェット式スピ
ン洗浄装置の第2の実施の形態の全体構成図である。同
図に示すように、第2の実施の形態の高圧ジェット式ス
ピン洗浄装置100は、ウェーハ回転装置102、第1
高圧ジェット噴射装置104A、第2高圧ジェット噴射
装置104B及び低圧噴射装置104Cとから構成され
ている。
【0023】まず、ウェーハ回転装置102の構成につ
いて説明する。架台110上には洗浄槽112が設置さ
れている。洗浄槽112は矩形の箱型に形成されてお
り、その内部を第1リブ114A、第2リブ114B及
び第3リブ114Cによって3つの洗浄室116A、1
16B、116Cに仕切られている(以下、この3つの
洗浄室を上から順に第1洗浄室116A、第2洗浄室1
16B、第3洗浄室116Cという。)。各リブ114
A〜114Cは環状に形成されており、このうち第1リ
ブ114Aと第2リブ114Bは、その中央開口部にシ
ャッタ機構118A、118Bが設けられている。この
シャッタ機構118A、118Bは図示しない駆動手段
に駆動されることにより、第1リブ114Aと第2リブ
114Bの中央開口部の径を拡縮して、中央開口部を開
閉する。
【0024】洗浄槽112の内部には、円盤状に形成さ
れたターンテーブル120が配設されている。ターンテ
ーブル120の上部には真空チャック122が設けられ
ており、この真空チャック122上にウェーハWが吸着
保持される。一方、ターンテーブル120の下部にはス
ピンドル124が連結されており、該スピンドル124
の下端部にはターンテーブル駆動モータ126の出力軸
が連結されている。ターンテーブル120は、このター
ンテーブル駆動モータ126を駆動することにより回転
する。
【0025】また、前記ターンテーブル駆動モータ12
6は、昇降テーブル128上に設置されている。この昇
降テーブル128は昇降装置130に駆動されることに
より垂直に上下動する。そして、この昇降テーブル12
8が上下動することにより、ターンテーブル120が洗
浄槽112内を垂直に上下動し、各洗浄室116A〜1
16Cの間を移動する。
【0026】なお、ターンテーブル120は、各リブ1
14A〜114Cの中央開口部を通って各洗浄室116
A〜116Cの間を移動し、この際、前記第1リブ11
4Aと第2リブ114Bに設けられたシャッタ機構11
8A、118Bが開閉する。次に、第1高圧ジェット噴
射装置104Aの構成について説明する。図4に示すよ
うに、圧力源である第1ジェットポンプ132Aの入力
側には、パイプ134Aを介して第1タンク136Aが
接続されている。この第1タンク136Aには、薬液が
混入された洗浄液が貯留されている。一方、第1ジェッ
トポンプ132Aの出力側には、パイプ138Aを介し
て第1ガン140Aが接続されている。この第1ガン1
40Aは前記第1洗浄室116A内に配設された第1ア
ーム144Aの先端部に支持されており、該第1アーム
144Aの基端部は第1モータ146Aの出力軸に固着
されている。第1モータ146Aは前記第1洗浄室11
6Aの壁面にブラケット148Aを介して支持されてお
り、この第1モータ146Aを駆動することにより、第
1アーム144Aが水平に揺動する。そして、これによ
り第1ガン140Aが水平に移動する。
【0027】以上の構成の第1高圧ジェット噴射装置1
04Aでは、第1ジェットポンプ132Aを駆動する
と、第1タンク136A内の洗浄液が第1ジェットポン
プ132A内に吸引され、高圧力を加えられた状態で第
1ガン140Aに供給される。第1ガン140Aに供給
された洗浄液は、その第1ガン140Aの先端に設置さ
れたノズル142Aから霧化された状態で噴射される。
噴射された洗浄液はウェーハWを洗浄したのち、第1リ
ブ114Aを通じて第1排水口150Aに導かれ、パイ
プ152Aを介して第1タンク136Aに戻される。そ
して、再び洗浄に供される。
【0028】次に、第2高圧ジェット噴射装置104B
の構成について説明する。圧力源である第2ジェットポ
ンプ132Bの入力側には、パイプ134Bを介して第
2タンク136Bが接続されている。この第2タンク1
36Bには、純水が貯留されている。一方、第2ジェッ
トポンプ132Bの出力側には、パイプ138Bを介し
て第2ガン140Bが接続されている。この第2ガン1
40Bは前記第2洗浄室116B内に配設された第2ア
ーム144Bの先端部に支持されており、該第2アーム
144Bの基端部は第2モータ146Bの出力軸に固着
されている。第2モータ146Bは前記第2洗浄室11
6Bの壁面にブラケット148Bを介して支持されてお
り、この第2モータ146Bを駆動することにより、第
2アーム144Bが水平に揺動する。そして、これによ
り第2ガン140Bが水平に移動する。
【0029】以上の構成の第2高圧ジェット噴射装置1
04Bでは、第2ジェットポンプ132Bを駆動する
と、第2タンク136B内の純水が第2ジェットポンプ
132B内に吸引され、高圧力を加えられた状態で第2
ガン140Bに供給される。第2ガン140Bに供給さ
れた純水は、その第2ガン140Bの先端に設置された
ノズル142Bから霧化された状態で噴射される。噴射
された純水はウェーハWを洗浄したのち、第2リブ11
4Bを通じて第2排水口150Bに導かれ、パイプ15
2Bを介して第2タンク136Bに戻される。そして、
再び洗浄に供される。
【0030】なお、第2ガン140Bのノズル142B
から噴射される純水の噴射圧力は、第1ガン140Aの
ノズル142Aから噴射される洗浄液の噴射圧力と略同
じ圧に設定されている。次に、低圧噴射装置104Cの
構成について説明する。圧力源である低圧ポンプ132
Cの入力側には、パイプ134Cを介して図示しない純
水供給装置が連結されている。一方、低圧ポンプ132
Cの出力側には、パイプ138Cを介して第3ガン14
0Cが接続されている。この第3ガン140Cは前記第
3洗浄室116C内に配設された第3アーム144Cの
先端部に支持されており、該第3アーム144Cの基端
部は第3モータ146Cの出力軸に固着されている。第
3モータ146Cは前記第3洗浄室116Cの壁面にブ
ラケット148Cを介して支持されており、この第3モ
ータ146Cを駆動することにより、第3アーム144
Cが水平に揺動する。そして、これにより第3ガン14
0Cが水平に移動する。
【0031】以上の構成の低圧噴射装置104Cでは、
低圧ポンプ132Cを駆動すると、図示しない純水供給
装置から純水が低圧ポンプ132C内に吸引され、圧力
を加えられた状態で第3ガン140Cに供給される。第
3ガン140Cに供給された純水は、その第3ガン14
0Cの先端に設置されたノズル142Cから霧化された
状態で噴射される。噴射された純水はウェーハWを洗浄
したのち、第3リブ114Cを通じて第3排水口150
Cに導かれ、パイプ152Cを介して図示しない廃水槽
に排水される。
【0032】なお、第3ガン140Bのノズル142C
から噴射される純水の噴射圧力は、第1ガン140Aの
ノズル142Aから噴射される洗浄液の噴射圧力よりも
低圧に設定されている。前記のごとく構成された第2の
実施の形態の高圧ジェット式スピン洗浄装置100の作
用は次の通りである。
【0033】図4に示すように、初期状態において、タ
ーンテーブル120は第1洗浄室116Aの所定の洗浄
位置(図4に実線で示した位置)に位置している。ま
た、前記第1リブ114Aと第2リブ114Bに設けら
れたシャッタ機構118A、118Bは閉められた状
態、すなわち、縮径した状態にある。まず、図示しない
搬送ロボットに搬送されたウェーハWが第1洗浄室11
6Aに位置したターンテーブル120の真空チャック1
22上に載置される。そして、その真空チャック122
によってウェーハWが吸着保持される。
【0034】次に、ターンテーブル駆動モータ126が
駆動されてターンテーブル120が回転し、ウェーハW
が回転を開始する。これと同時に、第1モータ146A
が駆動され、第1アーム144Aが所定の待機位置から
所定の洗浄開始位置に旋回移動する(図2参照)。そし
て、所定の角度範囲で水平に揺動を開始する。この結
果、第1アーム144Aの先端に設けられた第1ガン1
40AがウェーハWの上方で水平に往復移動を開始す
る。
【0035】次に、第1ジェットポンプ132Aが駆動
され、第1タンク136A内の洗浄液(薬液が混入され
た洗浄液)が第1ジェットポンプ132A内に吸引され
る。第1ジェットポンプ132A内に吸引された洗浄液
は、高圧力を加えられた状態で第1ガン140Aに供給
され、第1ガン140Aのノズル142Aからウェーハ
Wに向けて霧化された状態で噴射される。
【0036】ノズル142Aから噴射された洗浄液は、
ターンテーブル120上で回転するウェーハWに当た
り、そのウェーハWの表面に付着している汚れをウェー
ハWから剥離する(高圧ジェット洗浄)。剥離した汚れ
は、高圧で吹き付けられた洗浄液によってウェーハW上
から吹き飛ばされると同時に、回転するウェーハWの遠
心力によって洗浄液とともに吹き飛ばされる。
【0037】ウェーハWから吹き飛ばされた洗浄液は、
第1洗浄室116A内に落下し、第1リブ114Aによ
って第1排水口150Aに導かれる。そして、その第1
排水口150Aからパイプ152Aを介して第1タンク
136Aに戻され、再び洗浄に供される。洗浄液の噴射
は所定時間継続して行われ、所定時間経過後第1ジェッ
トポンプ132Aの駆動が停止される。そして、この後
第1アーム144Aが所定の待機位置に復帰して、第1
モータ146Aの駆動が停止される。
【0038】一方、この洗浄液の噴射終了後もターンテ
ーブル120の回転は継続して行われ、このターンテー
ブル120の回転による遠心力でウェーハW上に残留し
た洗浄液が振り切られる。そして、所定時間経過後、タ
ーンテーブル駆動モータ126の駆動が停止される。次
に、シャッタ機構118Aが図示しない駆動装置に駆動
されて開き、第1リブ114Aの中央開口部が拡径す
る。次いで、昇降装置130が駆動され、昇降テーブル
128が所定量下降する。この結果、ターンテーブル1
20が第1リブ114Aの中央開口部を通って、第2洗
浄室116Bの所定の洗浄位置(図4に二点破線で示す
位置)に位置する。
【0039】ターンテーブル120が第2洗浄室116
の所定の洗浄位置に移動すると、再びシャッタ機構11
8Aが図示しない駆動装置に駆動されて閉じ、第1リブ
114Aの中央開口部が縮径する。次いで、再びターン
テーブル駆動モータ126が駆動され、ターンテーブル
120が回転する。これと同時に、第2モータ146B
が駆動され、第2アーム144Bが所定の待機位置(図
4の実線で示す位置)から所定の洗浄開始位置(図4の
二点破線で示す位置)に旋回移動する(図2参照)。そ
して、所定の角度範囲で水平に揺動を開始する。この結
果、第2アーム144Bの先端に設けられた第2ガン1
40BがウェーハWの上方で水平に往復移動を開始す
る。
【0040】次に、第2ジェットポンプ132Bが駆動
され、第2タンク136B内の純水が第2ジェットポン
プ132B内に吸引される。第2ジェットポンプ132
B内に吸引された純水は、高圧力を加えられた状態で第
2ガン140Bに供給され、第2ガン140Bのノズル
142BからウェーハWに向けて霧化された状態で噴射
される。
【0041】ノズル142Bから噴射された純水は、タ
ーンテーブル120上で回転するウェーハWに当たり、
そのウェーハWの表面に付着している汚れ及び洗浄液を
ウェーハWから剥離する(高圧ジェット洗浄)。剥離し
た汚れは、高圧で吹き付けられた純水によってウェーハ
W上から吹き飛ばされると同時に、回転するウェーハW
の遠心力によって純水とともに吹き飛ばされる。
【0042】ウェーハWから吹き飛ばされた純水は、第
2洗浄室116B内に落下し、第2リブ114Bによっ
て第2排水口150Bに導かれる。そして、その第2排
水口150Bからパイプ152Bを介して第2タンク1
36Bに戻され、再び洗浄に供される。純水の噴射は所
定時間継続して行われ、所定時間経過後第2ジェットポ
ンプ132Bの駆動が停止される。そして、この後第2
アーム144Bが所定の待機位置に復帰して、第2モー
タ146Bの駆動が停止される。
【0043】一方、この純水の噴射終了後もターンテー
ブル120の回転は継続して行われ、このターンテーブ
ル120の回転による遠心力でウェーハW上に残留した
純水が振り切られる。そして、所定時間経過後、ターン
テーブル駆動モータ126の駆動が停止される。次に、
シャッタ機構118Bが図示しない駆動装置に駆動され
て開き、第2リブ114Bの中央開口部が拡径する。次
いで、昇降装置130が駆動され、昇降テーブル128
が所定量下降する。この結果、ターンテーブル120が
第2リブ114Bの中央開口部を通って、第3洗浄室1
16Cの所定の洗浄位置(図4に二点破線で示す位置)
に位置する。
【0044】ターンテーブル120が第3洗浄室116
Cの所定の洗浄位置に移動すると、再びシャッタ機構1
18Bが図示しない駆動装置に駆動されて閉じ、第2リ
ブ114Bの中央開口部が縮径する。次いで、再びター
ンテーブル駆動モータ126が駆動され、ターンテーブ
ル120が回転する。これと同時に、第3モータ146
Cが駆動され、第3アーム144Cが所定の待機位置
(図4に実線で示す位置)から所定の洗浄開始位置(図
4に二点破線で示す位置)に旋回移動する(図2参
照)。そして、所定の角度範囲で水平に揺動を開始す
る。この結果、第3アーム144Cの先端に設けられた
第3ガン140CがウェーハWの上方で水平に往復移動
を開始する。
【0045】次に、低圧ポンプ132Cが駆動され、図
示しない純水供給装置から純水が低圧ポンプ132C内
に吸引される。低圧ポンプ132C内に吸引された純水
は、圧力を加えられた状態で第3ガン140Cに供給さ
れ、第3ガン140Cのノズル142CからウェーハW
に向けて霧化された状態で噴射される。ノズル142C
から噴射された純水は、ターンテーブル120上で回転
するウェーハWに当たり、そのウェーハWの表面に付着
している汚れとともに、回転するウェーハWの遠心力に
よって吹き飛ばされる(リンス洗浄)。
【0046】ウェーハWから吹き飛ばされた純水は、第
3洗浄室116C内に落下し、第3リブ114Cによっ
て第3排水口150Cに導かれる。そして、その第3排
水口150Cからパイプ152Cを介して図示しない廃
水タンクに廃水される。純水の噴射は所定時間継続して
行われ、所定時間経過後、低圧ポンプ132Cの駆動が
停止される。そして、この後、第3アーム144Cが所
定の待機位置に復帰して、第3モータ146Cの駆動が
停止される。
【0047】一方、この純水の噴射終了後もターンテー
ブル120の回転は継続して行われ、このターンテーブ
ル120の回転による遠心力でウェーハW上に残留した
純水が振り切られる。そして、所定時間経過後、ターン
テーブル駆動モータ126の駆動が停止される。次に、
シャッタ機構118A、118Bが図示しない駆動装置
に駆動されて開き、第1リブ114Aと第2リブ114
Bの中央開口部が拡径する。次いで、昇降装置130が
駆動され、昇降テーブル128が所定量上昇する。この
結果、ターンテーブル120が第2リブ114B及び第
1リブ114Aの中央開口部を通って、第1洗浄室11
6Aの所定の洗浄位置(図4に実線で示す位置)に位置
する。
【0048】以上一連の工程でウェーハWの洗浄が終了
する。この後、真空チャック122によるチャックが解
除され、図示しない搬送ロボットによって真空チャック
122上のウェーハWが次の処理工程に搬送されてゆ
く。このように、本実施の形態の高圧ジェット式スピン
洗浄装置100では、高圧の洗浄液によるジェット洗浄
を行った後、高圧の純水によるジェット洗浄を行い、さ
らに低圧の純水によるリンス洗浄を行うようにしてい
る。このように段階的に洗浄を行うようにすることによ
り、1回のジェット洗浄のみの場合に比べて、より一層
洗浄効果が向上する。
【0049】なお、本実施の形態では、高圧の洗浄液
(薬液を含む洗浄液)によるジェット洗浄→高圧の純
水によるジェット洗浄→低圧の純水によるリンス洗浄
というフローに従って洗浄を実施しているが、洗浄のフ
ローはこれに限定されるものではない。この他、例え
ば、高圧の洗浄液(薬液を含む洗浄液)によるジェッ
ト洗浄→高圧の洗浄液(第1回目の洗浄と種類の異な
る薬液を含む洗浄液)によるジェット洗浄→高圧の純
水によるジェット洗浄というフローに従って洗浄を実施
してもよいし、また、例えば、高圧の洗浄液(薬液を
含む洗浄液)によるジェット洗浄→高圧の洗浄液(第
1回目の洗浄と種類の異なる薬液を含む洗浄液)による
ジェット洗浄→低圧の純水によるリンス洗浄というフ
ローに従って洗浄を実施してもよい。
【0050】また、本実施の形態では、洗浄を3段階に
分けて行っているが、多段で洗浄を行う方式であれば、
これに限定されるものではなく、例えば2段階あるいは
4段階に分けて洗浄を行うようにしてもよい。この場
合、洗浄を2段階に分けて行う場合は、例えば、高圧
の洗浄液(薬液を含む洗浄液)によるジェット洗浄の
後、高圧の純水によるジェット洗浄を行うようにして
もよいし、また、高圧の洗浄液(薬液を含む洗浄液)
によるジェット洗浄の後、低圧の純水によるリンス洗
浄を行うようにしてもよい。
【0051】また、洗浄を4段階に分けて行う場合は、
例えば、高圧の洗浄液(薬液を含む洗浄液)によるジ
ェット洗浄の後、更に高圧の洗浄液(第1回目の洗浄
と種類の異なる薬液を含む洗浄液)によるジェット洗浄
を行い、この後、高圧の純水によるジェット洗浄を行
った後、低圧の純水によるリンス洗浄を行うようにし
てもよい。
【0052】また、本実施の形態では、各ノズル142
A〜142Cから噴射する洗浄液又は純水の圧力につい
ては特に言及していないが、上述した第1の実施の形態
と同様の理由から3MPa〜50MPaの範囲内で設定
するのが好ましい。また、本実施の形態においても、上
述した第1の実施の形態と同様に、各アーム144A〜
144Cに複数のノズルを設け、この複数のノズルから
ウェーハWに向けて洗浄液又は純水を噴射するようにし
てもよい。
【0053】また、ワークWとしてウェーハを例示した
が、高圧ジェット式スピン洗浄装置で洗浄できるもので
あれば、そのワークの形態は問わない。
【0054】
【発明の効果】以上説明したように、本発明に係る高圧
ジェット式スピン洗浄装置によれば、回転するワークに
向けて高圧の洗浄液を吹き付けることにより、洗浄液が
ワークに当たる力が強くなり、ワークから汚れが容易に
剥離する。また、剥離した汚れは、ワークの回転による
遠心力で洗浄液とともにワークの外周に吹き飛ばされ、
ワーク上から迅速に除去される。このように、高圧の洗
浄液を吹き付けることと、ワークを回転させることによ
る相乗効果でワークの汚れを短時間で良好に洗浄するこ
とができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】第1の実施の形態の高圧ジェット式スピン洗浄
装置の全体構成図
【図2】第1の実施の形態の高圧ジェット式スピン洗浄
装置の要部の構成を示す平面図
【図3】高圧ジェット式スピン洗浄装置の他の実施の形
態の構成図を示す斜視図
【図4】第2の実施の形態の高圧ジェット式スピン洗浄
装置の全体構成図
【符号の説明】
10、100…高圧ジェット式スピン洗浄装置 16、112…洗浄槽 18、120…ターンテーブル 32…ジェットポンプ 36…洗浄液タンク 40…ガン 42…ノズル 132A…第1ジェットポンプ 132B…第2ジェットポンプ 132C…低圧ポンプ 136A…第1タンク 136B…第2タンク 140A〜140C…第1〜第3ガン 142A〜142C…ノズル W…ウェーハ

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ワークを回転させながら洗浄液をかけて
    洗浄する高圧ジェット式スピン洗浄装置において、 前記回転するワークに向けて高圧力を加えた洗浄液をノ
    ズルから霧化させた状態で吹き付ける噴射手段を備えた
    ことを特徴とする高圧ジェット式スピン洗浄装置。
  2. 【請求項2】 前記噴射手段のノズルは前記ワークの面
    に沿って移動自在に設けられていることを特徴とする請
    求項1記載の高圧ジェット式スピン洗浄装置。
  3. 【請求項3】 前記噴射手段のノズルから噴射する洗浄
    液の噴射圧力は3MPa〜50MPaの間に設定されて
    いることを特徴とする請求項1又は2記載の高圧ジェッ
    ト式スピン洗浄装置。
  4. 【請求項4】 ノズルから噴射する洗浄液の種類及び/
    又は噴射圧力が異なる前記噴射手段が複数備えられてい
    ることを特徴とする請求項1記載の高圧ジェット式スピ
    ン洗浄装置。
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