JPH11330032A - ウエーハ洗浄装置 - Google Patents
ウエーハ洗浄装置Info
- Publication number
- JPH11330032A JPH11330032A JP16274498A JP16274498A JPH11330032A JP H11330032 A JPH11330032 A JP H11330032A JP 16274498 A JP16274498 A JP 16274498A JP 16274498 A JP16274498 A JP 16274498A JP H11330032 A JPH11330032 A JP H11330032A
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- JP
- Japan
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- wafer
- chamber
- cleaning
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- rotating
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【解決手段】ウエーハ洗浄装置は駆動回転するウエーハ
保持具を配設している回転体をチャンバ内でウエーハＷ
を垂直又は垂直に近い面内で駆動回転させ、ウエーハ保
持具に保持された該ウエーハの表面と裏面を単独又は同
時にノズルを備えた回転ブラシ、又は洗浄液を供給する
ノズルで洗浄し、遠心力によって該ウエーハ表面に分散
させて洗浄する事で解決した。 【効果】チャンバ内でウエーハを垂直又は垂直に近い面
内で駆動回転させることで、回転ブラシ又はノズルある
いはそれを可動する部分から発生する微塵は垂直に落下
するためウエーハの汚染を完全に防ぎ、またウェハの両
面を単独または同時に洗浄可能になるので、ウェハの歩
留りや処理効率が向上し、洗浄装置を小型化できる。
保持具を配設している回転体をチャンバ内でウエーハＷ
を垂直又は垂直に近い面内で駆動回転させ、ウエーハ保
持具に保持された該ウエーハの表面と裏面を単独又は同
時にノズルを備えた回転ブラシ、又は洗浄液を供給する
ノズルで洗浄し、遠心力によって該ウエーハ表面に分散
させて洗浄する事で解決した。 【効果】チャンバ内でウエーハを垂直又は垂直に近い面
内で駆動回転させることで、回転ブラシ又はノズルある
いはそれを可動する部分から発生する微塵は垂直に落下
するためウエーハの汚染を完全に防ぎ、またウェハの両
面を単独または同時に洗浄可能になるので、ウェハの歩
留りや処理効率が向上し、洗浄装置を小型化できる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はウエーハ洗浄装置に
関するもので、詳しくは、密閉型のチャンバ内でウエー
ハを回転させながら洗浄液を供給してスピン洗浄するウ
エーハ洗浄装置に関する。
関するもので、詳しくは、密閉型のチャンバ内でウエー
ハを回転させながら洗浄液を供給してスピン洗浄するウ
エーハ洗浄装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体製造ライン等におけるスピン式ウ
エーハ洗浄装置では、オゾン添加超純水、超純水等の高
純度で活性の高い洗浄液を用いることから、洗浄機構は
基本構成として、その概要図である〔図１〕示すよう
に、ウエーハ（Ｗ）を移載するために上部（２０Ａ）と
下部（２０Ｂ）に分割して開放可能とした密閉型のチャ
ンバ（２０）と、このチャンバ（２０）内に配されてい
るウエーハ（Ｗ）を保して回転するウエーハチャック
（２１）と、そのウエーハ（Ｗ）上に洗浄液を供給する
ノズルを備えた回転ブラシ（Ｋ１）又は、洗浄液を供給
するノズル（Ｋ２）を備え、ウエーハチャック（２１）
で保持して水平方向に回転させている該ウエーハ（Ｗ）
を回転ブラシ（Ｋ１）でブラシングして洗浄液を供給し
遠心力によって該ウエーハ（Ｗ）表面に分散させて洗浄
を行う構成と、そのノズル（Ｋ２）から洗浄液を供給し
遠心力によって該ウエーハ（Ｗ）表面に分散させて洗浄
を行う構成であり、ウエーハ（Ｗ）はウエーハチャック
（２１）で保持し水平方向に回転させている。従来のス
ピン式ウエーハ洗浄装置の動作説明図である〔図２〕に
示すように、ウエーハ収納容器（ＵＫ）の設置機構、ロ
ボット等の搬送移載機構（ＩＲ）、ウエーハの中芯位置
合せ機構（ＳＭ）、洗浄機構（ＳＵ）を主たる構成とし
ている。洗浄装置のウエーハの処理動作はウエーハ収納
容器（ＵＫ）より該ウエーハ（Ｗ）をロボット等の搬送
移載機構（ＩＲ）で取出し、中芯位置合せ機構（ＳＭ）
で位置を合せて、洗浄機構（ＳＵ）て該ウエーハ（Ｗ）
を保持し洗浄して、その後ロボット等の搬送移載機構
（ＩＲ）でウエーハ収納容器（ＵＫ）に移し替える。但
し中芯位置合せ機構（ＳＭ）が無い洗浄装置も有る。本
図は中芯位置合せ機構（ＳＭ）があり、ウエーハ（Ｗ）
は洗浄機構（ＳＵ）に有る場合の図である。
エーハ洗浄装置では、オゾン添加超純水、超純水等の高
純度で活性の高い洗浄液を用いることから、洗浄機構は
基本構成として、その概要図である〔図１〕示すよう
に、ウエーハ（Ｗ）を移載するために上部（２０Ａ）と
下部（２０Ｂ）に分割して開放可能とした密閉型のチャ
ンバ（２０）と、このチャンバ（２０）内に配されてい
るウエーハ（Ｗ）を保して回転するウエーハチャック
（２１）と、そのウエーハ（Ｗ）上に洗浄液を供給する
ノズルを備えた回転ブラシ（Ｋ１）又は、洗浄液を供給
するノズル（Ｋ２）を備え、ウエーハチャック（２１）
で保持して水平方向に回転させている該ウエーハ（Ｗ）
を回転ブラシ（Ｋ１）でブラシングして洗浄液を供給し
遠心力によって該ウエーハ（Ｗ）表面に分散させて洗浄
を行う構成と、そのノズル（Ｋ２）から洗浄液を供給し
遠心力によって該ウエーハ（Ｗ）表面に分散させて洗浄
を行う構成であり、ウエーハ（Ｗ）はウエーハチャック
（２１）で保持し水平方向に回転させている。従来のス
ピン式ウエーハ洗浄装置の動作説明図である〔図２〕に
示すように、ウエーハ収納容器（ＵＫ）の設置機構、ロ
ボット等の搬送移載機構（ＩＲ）、ウエーハの中芯位置
合せ機構（ＳＭ）、洗浄機構（ＳＵ）を主たる構成とし
ている。洗浄装置のウエーハの処理動作はウエーハ収納
容器（ＵＫ）より該ウエーハ（Ｗ）をロボット等の搬送
移載機構（ＩＲ）で取出し、中芯位置合せ機構（ＳＭ）
で位置を合せて、洗浄機構（ＳＵ）て該ウエーハ（Ｗ）
を保持し洗浄して、その後ロボット等の搬送移載機構
（ＩＲ）でウエーハ収納容器（ＵＫ）に移し替える。但
し中芯位置合せ機構（ＳＭ）が無い洗浄装置も有る。本
図は中芯位置合せ機構（ＳＭ）があり、ウエーハ（Ｗ）
は洗浄機構（ＳＵ）に有る場合の図である。
【０００３】しかし従来の洗浄装置では、次の様な問題
が派生している。ウエーハは水平方向で回転しているた
め、ウエーハ上の回転ブラシ又はノズルあるいはそれを
可動する部分から発生する微塵（可動する以上微塵の発
生を完全に無くす出来ない）はウエーハの上に落下する
事と洗浄処理後に回転ブラシ又はノズルが１時的にしろ
ウエーハ上に有るために微塵あるいは洗浄液滴が落下し
ウエーハを汚染するすること、該ウエーハはウエーハチ
ャックで吸着されて水平方向に回転しているために回転
ブラシ又はノズルが裏面の中心に移動できず該ウエーハ
の表面と裏面を同時に洗浄することができないこと、洗
浄機構が平面上で作動するため物理的に収納容器と搬送
移載機構とと洗浄機構のスペースより小さくする事がで
きず装置本体が大きくなることである。
が派生している。ウエーハは水平方向で回転しているた
め、ウエーハ上の回転ブラシ又はノズルあるいはそれを
可動する部分から発生する微塵（可動する以上微塵の発
生を完全に無くす出来ない）はウエーハの上に落下する
事と洗浄処理後に回転ブラシ又はノズルが１時的にしろ
ウエーハ上に有るために微塵あるいは洗浄液滴が落下し
ウエーハを汚染するすること、該ウエーハはウエーハチ
ャックで吸着されて水平方向に回転しているために回転
ブラシ又はノズルが裏面の中心に移動できず該ウエーハ
の表面と裏面を同時に洗浄することができないこと、洗
浄機構が平面上で作動するため物理的に収納容器と搬送
移載機構とと洗浄機構のスペースより小さくする事がで
きず装置本体が大きくなることである。
【０００４】本発明は、上記従来技術の問題点を解消す
る為のものであり回転ブラシとノズルからの微塵或は洗
浄液滴が洗浄済のウエーハを汚染する問題がを無くし、
ウエーハの表面と裏面を同時に洗浄する処理効率の優れ
ている小型のウエーハ洗浄装置を提供できる。
る為のものであり回転ブラシとノズルからの微塵或は洗
浄液滴が洗浄済のウエーハを汚染する問題がを無くし、
ウエーハの表面と裏面を同時に洗浄する処理効率の優れ
ている小型のウエーハ洗浄装置を提供できる。
【０００５】上記の目的を達成するために、本発明は以
下の構成とする。本発明に係るウエーハ洗浄装置は、１
方もしくは２方を開閉可能とした右部チャンバと左部チ
ャンバ及び本体部チャンバで構成され、駆動回転するウ
エーハ保持具を配設している本体部チャンバを備えてい
るチャンバ内でウエーハを垂直又は垂直に近い角度で駆
動回転させ、ウエーハ保持具に保持された該ウエーハの
表面と裏面を単独又は同時に洗浄する事を特徴とする。
下の構成とする。本発明に係るウエーハ洗浄装置は、１
方もしくは２方を開閉可能とした右部チャンバと左部チ
ャンバ及び本体部チャンバで構成され、駆動回転するウ
エーハ保持具を配設している本体部チャンバを備えてい
るチャンバ内でウエーハを垂直又は垂直に近い角度で駆
動回転させ、ウエーハ保持具に保持された該ウエーハの
表面と裏面を単独又は同時に洗浄する事を特徴とする。
【０００６】また、右部チャンバと左部チャンバの内壁
底面より大気或は不活性ガスを吸引することで回転する
ウエーハ外周縁から遠心力により飛散した処理液を排出
し且つ、該ウエーハの汚染を防止している。
底面より大気或は不活性ガスを吸引することで回転する
ウエーハ外周縁から遠心力により飛散した処理液を排出
し且つ、該ウエーハの汚染を防止している。
【０００７】また、本発明も従来の装置と同じく回転ブ
ラシ及びノズルは可動するので発生する微塵を完全に無
くする事は出来ないが洗浄処理中、洗浄処理後もウエー
ハが垂直又は垂直に近い角度で回転するため微塵や処理
液が落下してもウエーハに落下する事が無くウエーハを
汚染しない、上記大気或は不活性ガスを吸引する相乗効
果がウエーハの汚染を防止している。
ラシ及びノズルは可動するので発生する微塵を完全に無
くする事は出来ないが洗浄処理中、洗浄処理後もウエー
ハが垂直又は垂直に近い角度で回転するため微塵や処理
液が落下してもウエーハに落下する事が無くウエーハを
汚染しない、上記大気或は不活性ガスを吸引する相乗効
果がウエーハの汚染を防止している。
【０００８】また、ウエーハが垂直又は垂直に近い角度
で回転するため洗浄機構が平面で作動する洗浄装置に比
べて装置面積が小さくなる。
で回転するため洗浄機構が平面で作動する洗浄装置に比
べて装置面積が小さくなる。
【０００９】
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態を図面で参照
にして説明する。〔図３〕は本発明のウエーハ洗浄装置
の作動説明図である。ウエーハ収納容器（ＵＫ）に収納
されている該ウエーハ（Ｗ）を移載機構のハンド（Ｈ
１）で保持し本体移載機構（Ｈ２）に移し、該ウエーハ
（Ｗ）を保持した本体移載機構（Ｈ２）がＸ軸上にて９
０度回転し、駆動回転するウエーハ保持具を配設してい
るチャンバ（Ｃ）に移し替えて洗浄するものである。
にして説明する。〔図３〕は本発明のウエーハ洗浄装置
の作動説明図である。ウエーハ収納容器（ＵＫ）に収納
されている該ウエーハ（Ｗ）を移載機構のハンド（Ｈ
１）で保持し本体移載機構（Ｈ２）に移し、該ウエーハ
（Ｗ）を保持した本体移載機構（Ｈ２）がＸ軸上にて９
０度回転し、駆動回転するウエーハ保持具を配設してい
るチャンバ（Ｃ）に移し替えて洗浄するものである。
【００１０】チャンバ（Ｃ）は右チャンバ（Ｃ１）と、
本体チャンバ（Ｃ２）、及び左チャンバ（Ｃ３）で構成
され、本体チャンバ（Ｃ２）は駆動回転するウエーハ保
持具を配設してあり、その駆動回転するウエーハ保持具
は数箇所配設している場所以外は該ウエーハ（Ｗ）を保
持していない為、該ウエーハ（Ｗ）の回転する該ウエー
ハ（Ｗ）外周縁から遠心力により飛散する処理液を右チ
ャンバ（Ｃ１）または左チャンバ（Ｃ３）もしくは右チ
ャンバ（Ｃ１）と左チャンバ（Ｃ３）両方のテーパー又
は円弧形状の内壁で受け、右チャンバ（Ｃ１）と左チャ
ンバ（Ｃ３）の内壁底面より大気或は不活性ガスを吸引
する事で、微塵や処理液が該ウエーハ（Ｗ）上に落下せ
ず、本体チャンバ（Ｃ２）の駆動部の発塵も右チャンバ
（Ｃ１）または左チャンバ（Ｃ３）もしくは右チャンバ
（Ｃ１）と左チャンバ（Ｃ３）両方のテーパー又は円弧
形状の内壁底面より大気或は不活性ガスと共に吸引する
事で該ウエーハ（Ｗ）の汚染を防いでいる。
本体チャンバ（Ｃ２）、及び左チャンバ（Ｃ３）で構成
され、本体チャンバ（Ｃ２）は駆動回転するウエーハ保
持具を配設してあり、その駆動回転するウエーハ保持具
は数箇所配設している場所以外は該ウエーハ（Ｗ）を保
持していない為、該ウエーハ（Ｗ）の回転する該ウエー
ハ（Ｗ）外周縁から遠心力により飛散する処理液を右チ
ャンバ（Ｃ１）または左チャンバ（Ｃ３）もしくは右チ
ャンバ（Ｃ１）と左チャンバ（Ｃ３）両方のテーパー又
は円弧形状の内壁で受け、右チャンバ（Ｃ１）と左チャ
ンバ（Ｃ３）の内壁底面より大気或は不活性ガスを吸引
する事で、微塵や処理液が該ウエーハ（Ｗ）上に落下せ
ず、本体チャンバ（Ｃ２）の駆動部の発塵も右チャンバ
（Ｃ１）または左チャンバ（Ｃ３）もしくは右チャンバ
（Ｃ１）と左チャンバ（Ｃ３）両方のテーパー又は円弧
形状の内壁底面より大気或は不活性ガスと共に吸引する
事で該ウエーハ（Ｗ）の汚染を防いでいる。
【００１１】〔図４〕は本発明のウエーハ洗浄装置での
１実施形態の概要構成を示す図面である。チャンバ
（Ｃ）は右チャンバ（Ｃ１）と、本体チャンバ（Ｃ
２）、及び左チャンバ（Ｃ３）で構成する。本体チャン
バ（Ｃ２）はチャンバ本体（Ｃ２１）とウエーハ保持具
（Ｃ２３）を配設してある回転体（Ｃ２２）であり、チ
ャンバ本体（Ｃ２１）と回転体（Ｃ２２）に軸受け（Ｃ
２４）を取付け、ウエーハ保持具（Ｃ２３）を配設して
ある回転体（Ｃ２２）を図示省略のモーターまたは流体
で駆動回転する。
１実施形態の概要構成を示す図面である。チャンバ
（Ｃ）は右チャンバ（Ｃ１）と、本体チャンバ（Ｃ
２）、及び左チャンバ（Ｃ３）で構成する。本体チャン
バ（Ｃ２）はチャンバ本体（Ｃ２１）とウエーハ保持具
（Ｃ２３）を配設してある回転体（Ｃ２２）であり、チ
ャンバ本体（Ｃ２１）と回転体（Ｃ２２）に軸受け（Ｃ
２４）を取付け、ウエーハ保持具（Ｃ２３）を配設して
ある回転体（Ｃ２２）を図示省略のモーターまたは流体
で駆動回転する。
【００１２】また、ウエーハ保持具（Ｃ２３）は回転体
（Ｃ２２）に軸（Ｃ２３１）でウエーハ保持体（Ｃ２３
２）を取付け、そのウエーハ保持体（Ｃ２３２）をガイ
ド又はカム（Ｃ２３３）にて該ウエーハ（Ｗ）の端面を
保持する様に動くものである。ウエーハ保持体（Ｃ２３
２）はウエーハ（Ｗ）外周と同じ程度の円弧の溝があ
り、該ウエーハ（Ｗ）端面を案内し保持している為、回
転時にウエーハＷ）の脱落や破損をしない。
（Ｃ２２）に軸（Ｃ２３１）でウエーハ保持体（Ｃ２３
２）を取付け、そのウエーハ保持体（Ｃ２３２）をガイ
ド又はカム（Ｃ２３３）にて該ウエーハ（Ｗ）の端面を
保持する様に動くものである。ウエーハ保持体（Ｃ２３
２）はウエーハ（Ｗ）外周と同じ程度の円弧の溝があ
り、該ウエーハ（Ｗ）端面を案内し保持している為、回
転時にウエーハＷ）の脱落や破損をしない。
【００１３】また、右チャンバ（Ｃ１）は右チャンバ本
体（Ｃ１１）と右カバー（Ｃ１２）で構成し、本体チャ
ンバ（Ｃ２）のチャンバ本体（Ｃ２１）に配備してあ
る。同様に左チャンバ（Ｃ３）は左チャンバ本体（Ｃ３
１）と左カバー（Ｃ３２）で構成しと、本体チャンバ
（Ｃ２）のチャンバ本体（Ｃ２１）に配備してある。右
チャンバ本体（Ｃ１１）内壁底面と左チャンバ本体（Ｃ
３１）内壁底面には図示省略の大気或は不活性ガスを吸
引することで微塵或は洗浄液滴を排出する口が設けてあ
る、テーパー又は円弧形状の内壁底面位置は該ウエーハ
（Ｗ）の端面位置と水平方向に離すことが望ましい。
体（Ｃ１１）と右カバー（Ｃ１２）で構成し、本体チャ
ンバ（Ｃ２）のチャンバ本体（Ｃ２１）に配備してあ
る。同様に左チャンバ（Ｃ３）は左チャンバ本体（Ｃ３
１）と左カバー（Ｃ３２）で構成しと、本体チャンバ
（Ｃ２）のチャンバ本体（Ｃ２１）に配備してある。右
チャンバ本体（Ｃ１１）内壁底面と左チャンバ本体（Ｃ
３１）内壁底面には図示省略の大気或は不活性ガスを吸
引することで微塵或は洗浄液滴を排出する口が設けてあ
る、テーパー又は円弧形状の内壁底面位置は該ウエーハ
（Ｗ）の端面位置と水平方向に離すことが望ましい。
【００１４】本体移載機構（Ｈ２）は駆動回転するウエ
ーハ保持具と干渉しない様に該ウエーハ（Ｗ）を外周部
にて保持し、該ウエーハ（Ｗ）の裏面汚染防止の上から
も該ウエーハ（Ｗ）との密着を少なくしてある。
ーハ保持具と干渉しない様に該ウエーハ（Ｗ）を外周部
にて保持し、該ウエーハ（Ｗ）の裏面汚染防止の上から
も該ウエーハ（Ｗ）との密着を少なくしてある。
【００１５】また、この回転ブラシ及びノズル（Ｓ）
は、本体チャンバ（Ｃ２）のチャンバ本体（Ｃ２１）に
配置した図示省略のボールねじ、スプライン、モーター
などで構成された回転水平移動機構にて該ウエーハ
（Ｗ）の中心部上からのチャンバ本体（Ｃ２１）周壁側
に向けて洗浄する、そして回転ブラシ及びノズル（Ｓ）
は、水平移動し垂直方向での洗浄を行い水平移動待避の
動作をするが微塵や処理液が落下してもウエーハ上に落
下せず、上記大気或は不活性ガスを吸引する相乗効果が
ウエーハの汚染を防止している。
は、本体チャンバ（Ｃ２）のチャンバ本体（Ｃ２１）に
配置した図示省略のボールねじ、スプライン、モーター
などで構成された回転水平移動機構にて該ウエーハ
（Ｗ）の中心部上からのチャンバ本体（Ｃ２１）周壁側
に向けて洗浄する、そして回転ブラシ及びノズル（Ｓ）
は、水平移動し垂直方向での洗浄を行い水平移動待避の
動作をするが微塵や処理液が落下してもウエーハ上に落
下せず、上記大気或は不活性ガスを吸引する相乗効果が
ウエーハの汚染を防止している。
【００１６】
【発明の効果】以上に述べたように、本発明に係るウエ
ーハ洗浄装置ではウエーハを垂直又は、垂直に近い角度
で回転洗浄することで、微塵や処理液がを汚染を防止
し、ウエーハの表面あるいは裏面を単独または同時に洗
浄することが可能となり、ウエーハの歩留りと処理効率
が向上し、省スペースを実現できた。
ーハ洗浄装置ではウエーハを垂直又は、垂直に近い角度
で回転洗浄することで、微塵や処理液がを汚染を防止
し、ウエーハの表面あるいは裏面を単独または同時に洗
浄することが可能となり、ウエーハの歩留りと処理効率
が向上し、省スペースを実現できた。
【図１】従来のスピン式ウエーハ洗浄装置の基本構成を
示す概略図である。
示す概略図である。
【図２】従来のスピン式ウエーハ洗浄装置の作動説明図
である。
である。
【図３】は本発明のウエーハ洗浄装置の作動説明図であ
る。
る。
【図４】は本発明のウエーハ洗浄装置での１実施形態の
概要構成を示す図面である。
概要構成を示す図面である。
（Ｃ）‥‥チャンバ、（Ｃ１）‥‥右チャンバ、（Ｃ
２）‥本体チャンバ、（Ｃ３）‥‥左チャンバ（Ｃ１
１）‥右チャンバ本体、（Ｃ１２）‥右カバー、（Ｃ２
１）‥チャンバ本体、（Ｃ２２）…回転体、（Ｃ２３）
…ウエーハ保持具、（Ｃ２３１）‥軸、（Ｃ２３２）‥
ウエーハ保持体、（Ｃ２３３）‥ガイド又はカム、（Ｃ
２４）‥軸受け、（Ｃ３１）‥左チャンバ本体、（Ｃ３
２）…左カバー、（Ｈ１）‥ハンド（Ｈ２）‥‥移載機
構、（Ｓ）‥洗浄ノズル、（ＵＫ）‥ウエーハ収納容
器、（Ｘ軸）‥回転軸（Ｗ）‥‥ウエーハ
２）‥本体チャンバ、（Ｃ３）‥‥左チャンバ（Ｃ１
１）‥右チャンバ本体、（Ｃ１２）‥右カバー、（Ｃ２
１）‥チャンバ本体、（Ｃ２２）…回転体、（Ｃ２３）
…ウエーハ保持具、（Ｃ２３１）‥軸、（Ｃ２３２）‥
ウエーハ保持体、（Ｃ２３３）‥ガイド又はカム、（Ｃ
２４）‥軸受け、（Ｃ３１）‥左チャンバ本体、（Ｃ３
２）…左カバー、（Ｈ１）‥ハンド（Ｈ２）‥‥移載機
構、（Ｓ）‥洗浄ノズル、（ＵＫ）‥ウエーハ収納容
器、（Ｘ軸）‥回転軸（Ｗ）‥‥ウエーハ
Claims (2)
- 【請求項１】ウエーハを垂直又は垂直に近い角度で回転
し洗浄する事を特徴とするウエーハ洗浄装置 - 【請求項２】ウエーハを垂直又は垂直に近い角度で回転
させる事でウエーハの表面あるいは裏面を単独または同
時に洗浄することを特徴とするウエーハ洗浄装置
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16274498A JPH11330032A (ja) | 1998-05-07 | 1998-05-07 | ウエーハ洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16274498A JPH11330032A (ja) | 1998-05-07 | 1998-05-07 | ウエーハ洗浄装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11330032A true JPH11330032A (ja) | 1999-11-30 |
Family
ID=15760445
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16274498A Pending JPH11330032A (ja) | 1998-05-07 | 1998-05-07 | ウエーハ洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11330032A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20030046129A (ko) * | 2001-12-05 | 2003-06-12 | 삼성전자주식회사 | 스피너장비 및 이를 이용한 레지스트층 현상방법 |
| WO2011139388A1 (en) * | 2010-04-30 | 2011-11-10 | Applied Materials, Inc. | Disk-brush cleaner module with fluid jet |
-
1998
- 1998-05-07 JP JP16274498A patent/JPH11330032A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20030046129A (ko) * | 2001-12-05 | 2003-06-12 | 삼성전자주식회사 | 스피너장비 및 이를 이용한 레지스트층 현상방법 |
| WO2011139388A1 (en) * | 2010-04-30 | 2011-11-10 | Applied Materials, Inc. | Disk-brush cleaner module with fluid jet |
| CN102725826A (zh) * | 2010-04-30 | 2012-10-10 | 应用材料公司 | 具有流体喷射器的圆盘刷清洁器模组 |
| JP2013526054A (ja) * | 2010-04-30 | 2013-06-20 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | 流体ジェットを伴うディスクブラシ洗浄装置モジュール |
| TWI507253B (zh) * | 2010-04-30 | 2015-11-11 | Applied Materials Inc | 具有流體噴射器的圓盤刷清潔器模組以及使用圓盤刷清潔器模組處理基板的方法 |
| US9646859B2 (en) | 2010-04-30 | 2017-05-09 | Applied Materials, Inc. | Disk-brush cleaner module with fluid jet |
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