JPH11328992A - 半導体記憶装置 - Google Patents

半導体記憶装置

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JPH11328992A
JPH11328992A JP10181063A JP18106398A JPH11328992A JP H11328992 A JPH11328992 A JP H11328992A JP 10181063 A JP10181063 A JP 10181063A JP 18106398 A JP18106398 A JP 18106398A JP H11328992 A JPH11328992 A JP H11328992A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 複数のバンクに共通に冗長デコーダを設けた
場合でも、リフレッシュを行うことができるようにす
る。 【解決手段】 リフレッシュ動作時には、各冗長デコー
ダXREDは、行アドレス信号XADDに含まれいるバ
ンク選択信号を参照せずに、行アドレス信号XADDが
示すアドレスと記憶している不良メモリセルのアドレス
との比較のみを行う。冗長メモリセル選択回路XRDN
は、冗長メモリセルとの置換が行われるバンクを示すた
めの冗長置換選択信号XRDNS(A)、(B)をバン
クA、B毎に出力する。したがって、バンクA、Bが同
時に活性化されるリフレッシュ時でも、各バンク毎に置
換を行うかどうかの選択を行うことができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は半導体記憶装置に関
し、特にメモリセルの不良救済手段に関する。
【0002】
【従来の技術】DRAM等の半導体記憶装置は、複数の
ビット線対と複数のワード線の交点にそれぞれメモリセ
ルが設けられていて、行アドレスによりワード線を選択
し、列アドレスによりビット線対を選択することにより
目的のメモリセルの記憶情報を読み出すことができるよ
うになっている。
【0003】そして、従来のDRAM等の半導体記憶装
置では、記憶容量の増加やビット線対の長さの制限等の
原因により記憶領域を複数のブロックに分割する方法が
用いられている。
【0004】そして、このような複数ブロック構成の半
導体記憶装置のメモリセルに記憶された記憶情報を読み
出すには、先ず行アドレスを指定し、続いて列アドレス
を指定するとともにブロックアドレスを指定する必要が
ある。そして、アドレスが指定された後に、外部からコ
マンドが与えられることによりデータの書き込みや読み
出しなど各種の動作を行うようになっている。
【0005】しかし、このように半導体記憶装置を複数
のブロックにより構成しても、あるブロックの処理を行
っている間は他のブロックに対する処理を行うことがで
きない場合には、記憶容量が増加しブロックの数が増加
してくると記憶内容の読み出しに長時間を要するという
問題点があった。
【0006】この問題点を解決するためにメモリセルを
複数のブロックに分割するのではなく、互いに独立に動
作することができるバンクに分割しているシンクロナス
DRAM等が用いられるようになっている。
【0007】各々のバンク内では、外部から入力される
アドレス信号により指定されるメモリセル群が活性化さ
れる。このとき、各々のバンクは、同時に活性化状態で
あることが可能であり、活性化されるメモリセル群のア
ドレスは、各バンク間で独立である。
【0008】このような複数のバンクから構成されてい
る従来の半導体記憶装置の構成を図22に示す。
【0009】図22はこのようなバンク構成の従来の半
導体記憶装置の構成を示すブロック図、図23(a)お
よび23(b)は動作を示すタイミングチャートであ
る。図23(a)は冗長メモリセルが選択される場合を
示し、図23(b)は冗長メモリセルが選択されない場
合を示している。
【0010】ここでは、バンク数をバンクA(ARRA
Y0)、バンクB(ARRAY1)の2、各バンクを構
成するサブアレイ数を4(それぞれSA00〜SA0
3、SA10〜SA13)、各サブアレイに含まれるサ
ブワード線を図示せず512本として説明する。また、
ここでは、階層化ワード線構造をもって説明を行う。こ
のとき、メインワード線MWL1本に対するサブワード
線は8本とする。したがって、各バンクの行アドレスは
11ビット(X0〜X10)であり、この内、サブアレ
イはX9、X10で、サブアレイ内のメインワード線は
X3〜X8で、1本のメインワード線に対する8本サブ
ワード線X0〜X2で区別される。
【0011】また、不良メモリセルから冗長メモリセル
への置換は、X0で区別される行アドレス2本分で行わ
れる。各サブアレイは、1本の冗長なメインワード線R
MWLとこれに接続されるサブワード線8本を持つ。
【0012】以下、回路図、タイミング図に基づいて動
作の説明を行う。図23(a)および23(b)のAC
Tは、当該バンクが活性化状態にあることを示す信号
で、図中には明記されていないコマンドデコーダ等によ
り、外部からのコマンド入力に呼応して動作する。
【0013】図22中、11ビットで構成されるXAD
Dは行アドレス信号であり、図中には明記されていない
アドレスバッファ等により、ACT信号にしたがって外
部より取り込まれる。XABFは行アドレス信号バッフ
ァ回路であり、行アドレス信号XADDの内からX1〜
X10にしたがって、相補信号X1N〜X10N、X1
T〜X10Tを生成する。各冗長デコーダXREDは、
置換すべき不良アドレスをそれぞれ記憶していて、不良
アドレスの記憶/比較を行うための回路である。
【0014】図24はこのような冗長デコーダXRED
の一例を示す回路図である。冗長デコーダXREDは行
アドレス信号XADDと、内部に記憶されている不良ア
ドレスとを比較している。
【0015】この従来の半導体記憶装置では、サブワー
ド線を2本単位で置換するため、行アドレス信号XAD
Dを構成するX1〜X10が記憶される。X0で区別さ
れるサブワード線、例えば、行アドレス0と行アドレス
1は、冗長デコーダXRED内で区別されることはな
く、どちらが入力されても、不良アドレスであると理解
される。
【0016】この回路においては、置換アドレスはヒュ
ーズF1N〜F10NおよびF1T〜F10Tを切断す
ることにより記憶される。ヒューズ切断の方法は特に限
定されないが、レーザ光線による溶断が一般的である。
FnNとFnTは各々がどちらか一方が切断されて置換
アドレスのうち、1ビットを記憶する。例えば、置換ア
ドレスが0および1であれば、F1N〜F10Nを切断
し、F1T〜F10Tは切断しない。
【0017】以下、冗長デコーダXREDの動作を説明
する。まず、行アドレス信号XADDが全てロウレベル
になり、冗長プリチャージ信号PXRがロウレベルにな
り節点100がハイレベルになる。続いて、外部から入
力されるアドレス信号に基づいて、行アドレス信号XA
DDを構成する11ビットの相補信号の内X1N〜X1
0NおよびX1T〜X10Tがセットされる。このと
き、XnNとXnT(n=1〜10)は各々相補信号な
ので、一方がハイレベル、他方がロウレベルとなる。例
えば、行アドレスが0または1であれば、X1N〜X1
0Nがハイレベルであり、X1T〜X10Tはロウレベ
ルである。したがって、ヒューズFnN、FnTに記憶
された置換アドレスと、行アドレス信号XADDが一致
するとき以外は、節点100と節点101は導通状態と
なる。
【0018】ここで、冗長プリチャージ信号PXRがハ
イレベルになり、置換アドレスと行アドレス信号XAD
Dが一致しないときは節点100がロウレベルになり、
一致するときにはハイレベルを保持する、これが、ラッ
チ信号XLATにより節点102に保持され、不良アド
レス一致信号XREBLに出力される。ACT信号がロ
ウレベルとなると、XPRE信号により、全ての不良ア
ドレス一致信号XREBLは非選択となり、結果として
選択されている冗長メモリセルも非選択となる。
【0019】図25は冗長メモリセル選択回路冗長メモ
リセル選択回路XRDNの一例を示す回路図である。冗
長メモリセル選択回路XRDNは、冗長な行デコーダR
XDCに対して1対1で存在する。冗長デコーダXRE
Dはサブワード線2本に対して1個存在するので、4つ
の冗長デコーダXREDに対し冗長メモリセル選択回路
XRDNが1つが存在する。この比は、メインワード線
とサブワード線の本数比である。冗長メモリセル選択回
路XRDNは接続された4つの不良アドレス一致信号X
REBLの内1つがハイレベルとなったときに、図には
明記されていないプリチャージ回路によってハイレベル
となっている冗長置換選択信号XRDNSをロウレベル
に引き落とす。冗長置換選択信号XRDNSは、冗長メ
モリセルが選択されたことを示す信号である。また、冗
長デコーダ選択信号RXDSをハイレベルとし、1対1
に接続された冗長な行デコーダRXDCを活性化する。
【0020】さらに、図には明記されていないプリチャ
ージ回路によってハイレベルとなっている冗長サブワー
ド線選択信号RRAIS1、RRAIS2を不良アドレ
ス一致信号XREBLにより選択的にロウレベルに引き
落とす。接続される4つの不良アドレス一致信号XRE
BLの内、XREBL0がハイレベルになった場合、ロ
ウレベルへの引き落としは行われないが、XREBL1
がハイレベルになった場合はRRAIS1のみ、XRE
BL2がハイレベルになった場合はRRAIS2のみ、
XREBL1がハイレベルになった場合に冗長サブサー
ド線選択信号RRAIS1、RRAIS2双方の引き落
としが行われる。したがって、冗長デコーダXRED
と、その比較結果が一致した場合の冗長サブサード線選
択信号RRAIS信号の状態の関係は固定されている。
【0021】冗長デコーダXREDおよび冗長メモリセ
ル選択回路XRDNは、各々が属するバンクは固定され
ており、当該バンクが選択されたときのみ動作する。ま
た、冗長プリチャージ信号PXR、ラッチ信号XLA
T、XPRE、冗長行デコーダ選択信号RXDS、冗長
置換選択信号XRDNSの各信号もバンク毎に独立して
存在し、独立して動作する。
【0022】図22中のXPRは行アドレスプリデコー
ダであり、行アドレス信号XADDから行アドレスプリ
デコード信号PXADDを生成する。ここで、行アドレ
スプリデコード信号PXADDはX3〜X5をプリデコ
ードしたX3N、4N、5N〜X3T、4T、5Tの8
本の信号と、X6〜X8をプリデコードしたX6N、7
N、8N〜X6T、7T、8Tの8本の信号とX9、X
10をプリデコードしたX9N、10N〜X9T、10
Tの4本の信号で構成される。X3T、4T、5T等の
8本の信号と、X6T、7T、8T等の8本の信号は、
各サブアレイ内の行デコーダXDEC選択に、X9T、
10T等の4本の信号はSXC回路でのサブアレイ選択
に使用される。行プリデコードアドレス信号PXADD
は、冗長メモリセル選択、非選択の決定を待つため行ア
ドレスデコード回路XPR内で遅延され、ラッチ信号X
LATによってラッチされる。ACT信号がロウレベル
となると、XPRE信号により、全ての行プリデコード
アドレス信号PXADDは非選択となり、結果として選
択されているメモリセルも非選択となる。
【0023】図26はサブアレイ選択回路SXCの一例
を示す回路図である。サブアレイ選択回路SXCは、行
アドレス信号XADDが全ての冗長デコーダXREDに
記憶されている不良置換アドレスの全てと一致せず、冗
長デコーダ選択信号RXDSがハイレベルのままでとき
には、行プリデコードアドレス信号PXADD(X9、
X10)を基に、該当サブアレイに含まれる図には明示
されていないセンスアンプ列を活性化すると共に、サブ
アレイ選択信号BSELを活性化する。
【0024】行アドレス信号XADDがいずれかの冗長
デコーダXREDに記憶されている不良置換アドレスに
一致し、冗長デコーダ選択信号RXDSがロウレベルに
なった場合には、冗長置換選択信号XRDNSを基にセ
ンスアンプ列を活性化し、サブアレイ選択信号BSEL
を活性化する。このとき、行プリデコードアドレス信号
PXADDにより指示されるサブアレイと冗長置換選択
信号XRDNSにより指示されるサブアレイが一致しな
い場合には、行プリデコードアドレス信号PXADDに
より指示されるサブアレイ内の冗長メインワード線およ
びセンスアンプ列活性化は抑止される。いずれの場合に
も、活性化されるセンスアンプ列は、活性化されたワー
ド線を含むサブアレイに含まれる。
【0025】図27は行デコーダXDECの一例を示す
回路図である。行デコーダXDEは、行プリデコードア
ドレス信号PXADD(X3〜X8)およびサブ差例選
択信号BSELに基づいてメインワード線MWLを活性
化する。ただし、行アドレス信号XADDがいずれかの
冗長デコーダXREDに記憶されている置換アドレスに
一致し、冗長行デコーダ選択信号がロウレベルになった
場合には、活性化を取りやめる。
【0026】図28は冗長行デコーダRXDCの一例を
示す回路図である。冗長行デコーダRXDCは、行アド
レス信号XADDがいずれかの冗長デコーダXREDに
記憶されている置換アドレスに一致した場合には、冗長
置換選択信号XRDNSに基づいて、対応する冗長メイ
ンワード線RMWLを活性化する。これにより、不良ア
ドレスを含むメインワード線が、冗長なメインワード線
に置換されることになる。
【0027】図29はサブサード線選択回路RAISの
一例を示す回路図である。サブサード線選択回路RAI
Sは、行アドレス信号XADDがどの冗長デコーダXR
EDの不良置換アドレスとも一致せず、冗長行デコーダ
選択信号RXDSがハイレベルの場合には行アドレス信
号XADD(X0〜X2)にしたがって、サブサード線
選択信号RAI0〜RAI7の内1本のみを活性化す
る。一方、行アドレス信号XADDがいずれかの冗長デ
コーダXREDDの不良置換アドレスと一致し、冗長行
デコーダ選択信号RXDSがロウレベルの場合には、行
アドレス信号XADDのX1に代えて冗長サブサード線
選択信号RRAIS1、X2に代えて冗長サブサード線
選択信号RRAIS2、および行アドレス信号XADD
のX0でサブワード線選択信号RAI0〜RAI7の
内、1本を選択する。メインワード線MWL、およびサ
ブワード線選択信号RAIは図には明示されていないサ
ブワードドライバ回路に入力され、これらのアンド論理
をもってサブワード線SWLを選択する。サブワード線
SWLはメモリセルに直接接続され、これを活性化す
る。
【0028】以上説明したように、この従来例では、冗
長デコーダXREDとこれによって活性化されるメイン
ワード線、およびサブワード線選択信号RAIの関係は
固定であり、結果として各々の冗長デコーダXREDと
サブワード線の関係は固定である。また、1つの冗長デ
コーダXREDが、何本のサブワード線の置換を受け持
つか(ここでは2本)も固定されている。
【0029】ここでは、バンクあたりの冗長メインワー
ド線は4本、これに対応するサブワード線は32本存在
する。1バンク内の冗長デコーダXREDは16個存在
し、1つの冗長デコーダXREDでの置換は、X0以外
のアドレスを共有する2本のサブワード線を単位として
行われるので、全ての不良箇所がそれぞれ1つの行アド
レスしか持たないか、X0以外を共有する2つのアドレ
ス内で収まっていれば、バンクあたり最大16カ所を救
済できる。
【0030】しかし、各不良個所が、X0以外を共有す
る2つのアドレスで収まらない場合、例えばメインワー
ド線(X0〜X2以外を共有する8本のサブワード線に
相当)が不良となった場合には、4個の冗長デコーダX
REDを使用して8本のサブワード線の置換を行う。こ
の場合には、バンクあたり16個の冗長デコーダXRE
Dを使用して、4本のメインワード線を救済できる。ど
ちらにしても、不良置換に用いられる冗長デコーダXR
ED、冗長なサブワード線は、各バンク内で使用される
のみで、多バンクの不良置換状況に依存することはな
い。
【0031】しかし、上記で説明した半導体記憶装置に
おいては、例えばバンクA内に物理的に存在する冗長な
メモリセルで、バンクB内に物理的に存在する不良メモ
リセルを置換しようとする場合に、バンクAを活性化さ
せるタイミングで、バンクBにおける不良メモリセルを
置換したバンクAの冗長メモリセルを活性化状態にしよ
うとした場合には、バンクA内で2つのメモリセルが同
時に活性化されてしまう場合が発生する。そして、これ
らのメモリセルがセンスアンプ、データ線等を共用して
いる場合には誤動作を起こしてしますことになる。バン
クの異なる2つのメモリセル群のアドレスは、独立かつ
任意に外部から指定できるので、全てのアドレスの組み
合わせについて、この問題を回避することはできない。
【0032】したがって、図22のような構成の半導体
記憶装置では、異なるバンク間では冗長メモリセルを共
用して救済を行うことは不可能であり、各バンク中の不
良メモリセルは、該当バンク内の冗長メモリセルでのみ
しか置換することができない。このことにより、不良が
一部のバンクに偏って存在しているチップでは、どれか
1つのバンクでも、不良メモリセルを冗長メモリセルで
の置換が不可能となった時点で、チップ全体の救済が不
可能となり、歩留まりを低下させる要因となる。
【0033】また、ヒューズはレーザによる切断を行う
ため微少化には限度があるため冗長デコーダの面積は他
の回路に比較して大きなものとなっている。そのため、
設けることのできる冗長メモリセルの数は、設けること
のできる冗長デコーダの数により決定されてしまう。
【0034】半導体記憶装置では、その構造上、製法上
から不良ビットのアドレス構成については、いくつか異
なるパターンが存在する。例えば、メモリセルを構成す
るトランジスタ等の素子に起因する単独ビット不良、メ
モリセルアレイ中の配線の断線による単独ライン不良
等、1つの行アドレスを置換することにより救済可能な
ものと、行デコーダ回路不良、メモリセルアレイ中の配
線間短絡により隣接ライン不良等、複数の行アドレスを
置換することにより救済可能なものに分類される。
【0035】また、複数行置換が必要なものに関して
も、配線間短絡の主原因となる工程中に付着するゴミの
大きさにより、置換を必要とする隣接行アドレス数は不
定である。したがって、従来例では1つの冗長デコーダ
で、固定された本数の不良置換を行うため、隣接不良の
行アドレス数が置換単位を上回る場合には、複数の冗長
デコーダを用いて置換を行わなければならない。逆に隣
接不良の行アドレス数が置換単位を下回る場合には、不
良行アドレスに隣接する不良でない行アドレスを含めて
置換することになり、冗長メモリセルの使用効率が低下
する。
【0036】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来の半導体
記憶装置では、あるバンクに対して設けられている冗長
デコーダは、そのバンク内に発生した不良メモリセルと
冗長の置換を行うことしかできず、異なるバンクの不良
メモリセルを置換することができない。そのため、バン
ク毎に冗長デコーダが必要となり置換効率が低下し、歩
留まりが悪化してしまうという問題点があった。
【0037】本発明の目的は、バンク間に共通に設けた
冗長デコーダにより、異なるバンクに発生した不良メモ
リセルを置換することにより、置換効率を向上させ歩留
まりを改善させた半導体記憶装置を提供することであ
る。
【0038】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の半導体記憶装置では、各リダンダンシデコ
ーダにおいて、当該リダンダンシデコーダがどのバンク
の不良の置換を行うかをプログラムする手段と、該当リ
ダンダンシデコーダが何本のアドレスの置換を行うかを
プログラムする手段を持つ。すなわち、半導体メモリ
が、複数の通常メモリセルと、外部から印加されるアド
レスに呼応して前記通常メモリセルを活性化する手段
と、複数の冗長メモリセルと、前記複数の通常メモリセ
ル内に存在する不良メモリセルのアドレスを記憶する第
1の記憶手段と、前記外部から印加されるアドレスと、
前記不良メモリセルのアドレスとの比較手段と、前記比
較手段の出力に呼応して前記冗長メモリセルを活性化す
る手段、または前記通常メモリセルの活性化を抑止する
手段、または双方の手段を有し、前記比較手段は、前記
外部から印加されるアドレスを構成するビットの内、全
部または一部のみを対象として、記憶された前記不良メ
モリセルのアドレスと比較する。
【0039】そして、前記比較手段の比較するビット数
は可変であり、前記比較手段の比較するビット数、また
は比較対象とならないビット数を記憶する第2の記憶手
段と、前記比較手段の出力に基づいて、前記第2の記憶
手段の内容を、前記冗長メモリセルの活性化手段に伝え
る第1の伝達手段を有することができ、また、それぞれ
前記外部から印加されるアドレス信号にしたがい、独立
に動作する分割されたメモリセルアレイ構造を持ち、前
記分割されたメモリセルアレイは、それぞれ、複数の前
記冗長メモリセルを持つことができる。
【0040】さらに、前記分割されたメモリセルアレイ
の内、どのメモリセルアレイ内の不良メモリセルを置換
するかを記憶する第3の記憶手段を有し、前記比較手段
は、第3の記憶手段と、外部から印加されるメモリセル
アレイ選択信号を比較し、各々の前記比較手段に対応
し、前記分割されたメモリセルアレイ内の、どの冗長メ
モリセルをもって、不良メモリセルを置換するかを記憶
する複数の第4の記憶手段と、前記比較手段の出力に基
づいて、前記第4の記憶手段の内容を、前記冗長メモリ
セルの活性化手段に伝える第2の伝達手段を有すること
ができる。
【0041】そしてさらに、前記第4の記憶手段は、N
桁の二進数の記憶手段で構成され、2のN乗の組み合わ
せを記憶でき、前記第2の伝達手段は、複数の前記第4
の記憶手段に接続され、N桁の二進数で伝達するワイヤ
ードオア節点をもって構成される。
【0042】前記冗長メモリセルの活性化手段は、前記
第2の伝達手段をデコードする手段と、前記伝達手段の
値またはデコードされた値をラッチする手段を有し、前
記冗長メモリセルの活性化手段は、前記第1の伝達手段
によって示される比較対象とならないビット数を、前記
外部から印加されるアドレスを構成するビットから採用
し、残りの前記第2の伝達手段を構成するビットから採
用する選択手段を有することができる。
【0043】また、本発明の他の半導体記憶装置は、複
数のメモリセルから成る通常のメモリセルブロックと、
前記通常のメモリセルブロックの内に存在する不良メモ
リセルを置換するための複数の冗長メモリセルとを有
し、それぞれ独立に読み出し/書き込みを行うことがで
きる複数のバンクと、前記複数のバンクに共通に設けら
れ、前記不良メモリセルのアドレスを記憶し、入力され
たアドレス信号が示しているアドレスと記憶している前
記不良メモリセルのアドレスとの比較を行う複数の冗長
デコーダと、前記不良メモリセルを置換するための冗長
メモリセルのアドレスを記憶していて、前記各冗長デコ
ーダにおいて前記アドレス信号が示しているアドレスと
記憶している前記不良メモリセルのアドレスとが一致し
た場合に、該不良メモリセルと置換するために設定され
ている冗長メモリセルを活性化する置換メモリセル記憶
手段とを有する半導体記憶装置において、前記冗長デコ
ーダは、リフレッシュ動作時には、前記アドレス信号に
含まれいるバンク選択信号を参照せずに、前記アドレス
信号が示すアドレスと記憶している前記不良メモリセル
のアドレスとの比較を行い、前記置換メモリセル記憶手
段は、冗長メモリセルとの置換が行われるバンクを示す
ための冗長置換選択信号を前記各バンク毎に出力するこ
とを特徴としている。
【0044】本発明は、リフレッシュ動作時には、各冗
長デコーダは、アドレス信号に含まれいるバンク選択信
号を参照せずに、アドレス信号が示すアドレスと記憶し
ている不良メモリセルのアドレスとの比較を行い、置換
メモリセル記憶手段は、冗長メモリセルとの置換が行わ
れるバンクを示すための冗長置換選択信号を各バンク毎
に出力するようにしたものである。
【0045】したがって、複数のバンクが同時に活性化
されるリフレッシュ時においても、各バンク毎に置換を
行うかどうかの選択が行われるので、複数のバンクに属
する同時に活性化されるメモリセルの置換を共通した冗
長デコーダで行なえるため、置換効率の向上による歩留
まりの改善を図ることができる。
【0046】また、本発明の他の半導体記憶装置は、複
数のメモリセルから成る通常のメモリセルブロックと、
前記通常のメモリセルブロックの内に存在する不良メモ
リセルを置換するための複数の冗長メモリセルとを有
し、それぞれ独立に読み出し/書き込みを行うことがで
きる複数のバンクと、前記複数のバンクに対して共通に
設けられ、前記不良メモリセルのアドレスを記憶し、入
力されたアドレス信号が示しているアドレスと記憶して
いる前記不良メモリセルのアドレスとの比較を行い、そ
れらの信号が一致した場合には不良アドレス一致信号を
出力する複数の冗長デコーダと、前記不良メモリセルを
置換するための冗長メモリセルのアドレスを記憶してい
て、前記各冗長デコーダからの不良アドレス一致信号を
入力すると、該不良メモリセルと置換するために設定さ
れている冗長メモリセルを活性化する置換メモリセル記
憶手段とを有する半導体記憶装置において、あるバンク
をアクティブとするコマンドが入力されると、前記不良
アドレス一致信号をラッチするためのラッチ信号を出力
し、該ラッチ信号を出力してから一定時間後に前記不良
アドレス一致信号をリセットするための信号を出力する
タイミング制御回路とを有することを特徴とする。
【0047】本発明は、バンク間で共通の不良アドレス
一致信号をアクティブとした後一定時間でインアクティ
ブとすることにより異なるバンクの間でアクティブ状態
となる期間が重複しても不良メモリセルと冗長メモリセ
ルとの置換を正常に行うことができる。
【0048】また、本発明の他の半導体記憶装置は、複
数のメモリセルから成る通常のメモリセルブロックと、
前記通常のメモリセルブロックの内に存在する不良メモ
リセルを置換するための複数の冗長メモリセルとを有
し、それぞれ独立に読み出し/書き込みを行うことがで
きる複数のバンクと、前記複数のバンクに対して共通に
設けられ、前記不良メモリセルのアドレスを記憶し、入
力されたアドレス信号が示しているアドレスと記憶して
いる前記不良メモリセルのアドレスとの比較を行い、そ
れらの信号が一致した場合には不良アドレス一致信号を
出力する複数の冗長デコーダと、前記不良メモリセルを
置換するための冗長メモリセルのアドレスを記憶してい
て、前記各冗長デコーダからの不良アドレス一致信号を
入力すると、該不良メモリセルと置換するために設定さ
れている冗長メモリセルを活性化する置換メモリセル記
憶手段とを有する半導体記憶装置において、前記各バン
ク毎に設けられていて、対応しているバンクをアクティ
ブとするコマンドが入力されると、前記不良アドレス一
致信号をラッチするためのラッチ信号を出力し、対応し
ているバンクをプリチャージするコマンドが入力される
と、前記不良アドレス一致信号をリセットするための冗
長回路プリチャージ信号を出力する複数のタイミング制
御回路と、前記各バンク毎に設けられていて、対応した
バンクに対する前記ラッチ信号が出力されると、前記不
良アドレス一致信号をラッチしてラッチして出力し、対
応したバンクに対する前記冗長回路プリチャージが出力
されるとラッチされている前記不良アドレス一致信号を
リセットする複数の不良アドレス一致信号ラッチ回路と
を有することを特徴とする。
【0049】本発明は、不良アドレス一致検出信号をバ
ンク毎に設けられた各ラッチ信号によりそれぞれラッチ
し、ラッチされた信号を冗長回路プリチャージ信号によ
りそれぞれリセットするようにしている。そのため、異
なるバンクを独立して別々にアクティブ状態とすること
ができる。
【0050】
【発明の実施の形態】次に、本発明の実施形態について
図面を参照して詳細に説明する。
【0051】(第1の実施形態)図1は本発明の第1の
実施形態の半導体記憶装置の構成を示したブロック図、
図2(a)および2(b)は動作を示すタイミング図で
ある。図2(a)は冗長メモリセルが選択される場合、
図2(b)は冗長メモリセルが選択されない場合を示
す。特に明記しない信号の動作については、図22の従
来の半導体記憶装置と同一である。
【0052】以下、回路図、タイミング図に基づいて動
作の説明を行う。この、従来の半導体記憶装置における
行アドレス信号XADDには、行アドレスの他に、バン
クを指定するためのバンク選択信号CBSが含まれてい
る。
【0053】行アドレス信号バファ回路XABFは、行
アドレス信号XADDにしたがって、相補信号X0N〜
X10N、X0T〜X10Tを、バンク選択信号CBS
にしたがって相補信号CBST、CBSN生成する。
【0054】図3は冗長デコーダXREDの一例を示す
回路図であり、図24の従来の冗長デコーダXREDに
対して、置換すべきバンクを記憶するためのヒューズF
BSN、FBSTが設けられている。
【0055】この図17に示した冗長デコーダXRED
では、ヒューズFnN、FnTに記憶された置換アドレ
スと、行アドレス信号XADDが一致し、さらに選択さ
れたバンク選択信号CBSとヒューズFCBN、FCB
Tに記憶された置換すべきバンクが一致するとき以外
は、節点100と節点101は導通状態となる。
【0056】図4は冗長メモリセル選択回路XRDNの
一例を示す回路図である。冗長メモリセル選択回路は、
4つの冗長デコーダXRED回路に対し冗長メモリセル
選択回路XRDNが1つ存在する。
【0057】冗長メモリセル選択回路XRDNは接続さ
れた4つの不良アドレス一致信号XREBLの内1つが
ハイレベルとなったときに、図には明記されていないプ
リチャージ回路によってハイレベルとなっている冗長置
換選択信号XRDNSをロウレベルに引き落とす。冗長
置換選択信号XRDNSは、冗長メモリセルが選択され
たことを示す信号である。
【0058】図4はXRDNの一例を示す回路図であ
る。XRDNは冗長メモリセル選択回路であり、ここで
は、XRED4個に対しXRDN1個が存在する。ただ
し、これらの数自体は、本発明の本質に依存しない。
【0059】図4は図1中のXRDNの例を示す回路図
である。XRDNは接続された4つのXREBL信号の
内1つがハイレベルとなったときに、図には明記されて
いないプリチャージ回路によってハイレベルとなってい
るXRDNS0およびXRDNS1信号をフューズFS
00〜FS13にしたがい選択的に信号を引き落とす。
XRDNS信号は、冗長メモリセルが選択されたことを
示す信号である。また、置換本数を示し、XRDNS0
とXRDNS1がハイレベル/ハイレレベルの場合に
は、冗長メモリセルが選択されておらず、置換を行わな
い、ロウレベル/ハイレベルの場合はサブワード線1本
置換を行う、ハイレベル/ロウレベルの場合にはサブワ
ード線2本置換を行う、ロウレベル/ロウレベルの場合
にはサブワード線4本置換を行う。
【0060】また、図には明記されていないプリチャー
ジ回路によってハイレベルとなっているRXDS0およ
びRXDS1信号をフューズFX00〜FX13にした
がい選択的に引き落とす。RXDS0およびRXDS1
は活性化する冗長メインワード線、およびこれを含むサ
ブアレイを選択する信号である。
【0061】さらに、図には明記されていないプリチャ
ージ回路によってハイレベルとなっているRRAIS1
およびRRAIS2信号をフューズFR0,FR1にし
たがい選択的に引き落とす。RRAIS1およびRRA
IS2信号はサブワード選択信号RAIを選択する信号
である。
【0062】いずれの信号に関しても、いずれかのXR
ED回路での比較が一致しない限りハイレベルを維持す
る。
【0063】XRED回路およびXRDN回路は、各々
が属するバンクは固定されておらず、選択されたバンク
に関わらず動作する。したがって、PXR,XLAT,
XPRE,RXDS,XRDNS,RRAISの各信号
もバンク間で共用しており、活性化されるバンクに関わ
らず動作する。
【0064】図5はサブアレイ選択回路SXCの一例を
示す回路図である。サブアレイ選択回路SXCは、行ア
ドレス信号XADDが全ての冗長デコーダXREDに記
憶されている不良置換アドレスの全てと一致せず、冗長
行デコーダ選択信号RXDS0およびRXDS1がハイ
レベルのままのときには、行プリデコードアドレス信号
PXADD(X9、X10)をデコードし、行デコーダ
アドレスラッチ信号XDLAによりラッチし、これを基
に該当サブアレイに含まれる図には明示されていないセ
ンスアンプ列を活性化すると共に、サブアレイ選択信号
BSELを活性化する。
【0065】行アドレス信号XADDがいずれかの冗長
デコーダXREDに記憶されている置換アドレスに一致
し、冗長行デコーダ選択信号RXDS0、RXDS1が
ロウレベルになった場合には、各サブアレイ選択回路S
XCは冗長置換選択信号XRDNSをデコードし、行デ
コーダアドレスラッチ信号XDLAによりラッチしこれ
を基に冗長置換選択信号XRDNS信号で指定されるセ
ンスアンプ列を活性化する。このとき、行プリデコード
アドレス信号PXADDにより指示されるサブアレイと
冗長置換選択信号XRDNSにより指示されるサブアレ
イが一致しない場合には、行プリデコードアドレス信号
PXADDにより指示されるサブアレイ内の冗長メイン
ワード線およびセンスアンプ列活性化は抑止される。
【0066】いずれの場合にも、活性化されるセンスア
ンプ列は、活性化されたワード線を含むサブアレイに含
まれる。
【0067】図6は行デコーダXDECの一例を示す回
路図である。行デコーダXDECは、行プリデコードア
ドレス信号PXADD(X3〜X8)およびサブアレイ
選択信号BSELを行デコーダアドレスラッチ信号XD
LAでラッチし、これに基づいてメインワード線を活性
化する。ただし、行アドレス信号XADDがいずれかの
冗長デコーダXREDに記憶されている置換アドレスに
一致し、冗長行デコーダ選択信号RXDSがロウレべル
になった場合には、活性化を取りやめる。また。ACT
信号がロウレベルとなると、行デコーダプリチャージ信
号XDPR信号により、全てのメインワード線MWLは
非選択となる。
【0068】図7は冗長行デコーダRXDCの一例を示
す回路図である。冗長行デコーダRXDCは、行アドレ
ス信号XADDがいずれかの冗長デコーダXREDに記
憶されている置換アドレスに一致し、冗長行デコーダ選
択信号RXDSがロウレベルになった場合には、冗長置
換選択信号XRDNSに基づいて、冗長メインワード線
を活性化する。また、ACT信号がロウレベルとなる
と、行デコーダプリチャージ信号XDPRにより、全て
の冗長メインワード線RMWLは非選択となる。図8は
行デコーダXDEC回路の一例を示す回路図である。サ
ブワード線選択回路RAISは行アドレスプリデコード
信号PXADD、RRAISおよび冗長行デコーダ選択
信号にしたがって、サブワード線選択信号RAIを選択
する。行アドレス信号XADDが、どの冗長デコーダX
REDの不良置換アドレスと一致せず、冗長行デコーダ
選択信号RXDSがハイレベルの場合には行アドレス信
号XADD(X0〜X2)にしたがって、サブワード線
選択信号RAI0〜RAI7の内1本のみを活性化す
る。一方、行アドレス信号XADDがいずれかの冗長デ
コーダXREDの不良置換アドレスと一致し、冗長行デ
コーダ選択信号RXDS0、RXDS1信号の少なくと
も一方がロウレベルの場合には、冗長サブワード線選択
信号RRAISにもしたがう。
【0069】XRDNS0のみがロウレベルの場合(1
本置換の場合)には、行アドレス信号XADDのX0に
代えてRRAIS0信号、行アドレス信号XADDのX
1に代えてRRAIS1信号、行アドレス信号XADD
のX2に代えてRRAIS2信号でRAI0〜RAI7
の内、1本を選択する。
【0070】信号XRDNS1のみがロウレベルの場合
(2本置換の場合)には、行アドレス信号XADDのX
1に代えてRRAIS1信号、行アドレス信号XADD
のX2に代えてRRAIS2信号、および行アドレス信
号XADDのX0でRAI0〜RAI7の内、1本を選
択する。
【0071】信号XRDNS0、XRDNS1の双方が
ロウレベルの場合(4本置換の場合)には、行アドレス
信号XADDのX2に代えてRRAIS2信号、および
行アドレス信号XADDのX0、X1でRAI0〜RA
I7の内、1本を選択する。これらの結果は、XDLA
信号によりラッチされる。また、ACT信号がロウレベ
ルとなると、XDPR信号により、全てのRAI信号は
非選択となる。
【0072】メインワード線MWL、およびサブワード
線選択信号RAIは図には明示されていないサブワード
ドライバ回路に入力され、これらのアンド論理をもって
サブワード線SWLを選択する。サブワード線SWLは
メモリセルに直接接続され、これを活性化する。
【0073】また、ACT信号がロウレベルとなると、
行デコーダプリチャージ信号XDPRにより、全てのメ
インワード線MWLまたは冗長メインワード線RMWL
およびサブワード線選択信号RAIは非選択となるた
め、サブワード線SWLも非活性化される。
【0074】本実施形態の半導体記憶装置では、各々の
冗長デコーダXREDがどのバンクの置換アドレスを記
憶、比較するかは、ヒューズ切断によるプログラムによ
って決定される。
【0075】ここでは、図22の従来例と同じくバンク
あたりの冗長メインワード線4本、これに対応するサブ
ワード線は32本存在する。また、冗長デコーダXRE
Dは2つのバンクに対して32個存在する(チップ内で
は、図22の従来例と同数)。
【0076】したがって、全ての冗長デコーダXRED
をバンクAに対して使用し、各々の置換を1つのアドレ
スに限定した場合(単独ビット不良、サブワード線断線
等の不良に相当)には、バンク内で最大32カ所の不良
を救済できる。したがって、バンク間で不良発生の偏り
がある場合には、不良救済効率が向上する。
【0077】一方、X0、X1以外のアドレスを共有す
る4つアドレスを持つサブワード線においては、冗長デ
コーダXRED1つのみで置換可能である。したがっ
て、例えばメインワード線(X0〜X2以外を共有する
8本のサブワード線に相当)が不良となった場合には、
2個の冗長デコーダXREDを使用して8本のサブワー
ド線の置換を行う。この場合には、8個の冗長デコーダ
XREDを用いれば、バンクあたり4本のメインワード
線(32本のサブワード線)を救済できる。冗長メイン
ワード線はバンクあたり4本しか存在しないので、バン
クAに対しては、これ以上の救済できないが、このとき
バンクBに対しては、残りの24個の冗長デコーダXR
EDを使用し、最大24箇所の不良救済が行えるように
なる。したがって、1箇所の不良が、連続した複数の不
良アドレスで構成される場合にも、不良救済効率が向上
する。
【0078】以上説明したように、本実施形態の半導体
記憶装置は図22に示した従来の半導体記憶装置と比較
して、冗長デコーダXREDをバンクA、Bのどちらの
不良セルの置換にも使用することができるので、各バン
クに存在する冗長メモリセルを効率よく使用することが
可能であり、不良があるバンクに偏在する場合でも、従
来例に比較して同一の冗長デコーダXRED数、冗長メ
モリセル数であるにも関わらず、救済できる確率が高
く、チップ面積を大幅に増加させることなく歩留まりを
向上させることが可能である。
【0079】(第2の実施形態)図9は本発明の第2の
実施形態の半導体記憶装置におけるXRDN回路を示す
回路図、図10は発明の第2の実施形態のRXDC回路
を示す回路図、図11は発明の第2の実施形態のRAI
S回路を示す回路図である。
【0080】上記第1の実施形態においては、冗長メモ
リセルが選択されたことを示す信号XRDNS0,XR
DNS1信号が、置換本数指示を兼ねていた。本実施形
態においては、これらの2つの機能を分離し、冗長メモ
リセルが選択されたことをXRDNS信号が示し、XR
LEN0,XRLEN1信号が置換本数を示す。このと
き、XRLEN0とXRLEN1がロウレベル/ロウレ
ベルの場合にはサブワード線1本置換を行う、ハイレベ
ル/ロウレベルの場合にはサブワード線2本置換を行
う、ロウレベル/ハイレベルの場合にはサブワード線4
本置換を行う。本実施形態においては、RXDCにおい
て冗長メモリセルが選択されたことを判断するのにXR
DNS信号のみを参照すればよいことから、上記第1の
実施形態の効果に加えて回路が簡略化されるという効果
を有する。
【0081】(第3の実施形態)シンクロナスDRAM
では、読み出し/書き込み時にはその読み出し/書き込
みを行ないたいメモリの属するバンクのみを活性化させ
るが、リフレッシュ時には複数のバンクを同時に活性化
させている。そして、読み出し/書き込み時には、該当
するワード線を活性化してからセンスアンプを動作させ
ているが、リフレッシュ時にはセンスアンプのみを動作
させている。
【0082】しかし、上記第1および第2の半導体記憶
装置では、冗長デコーダXREDをバンクA、B間で共
用することによりその置換効率を向上するようにしてい
るが、バンクA、Bの両方を同時に活性化するリフレッ
シュ時において問題が発生する。例えば、バンクAにお
ける不良メモリセルの置換を行なっている場合、バンク
A、Bの両方を同時に活性化しようとした場合には冗長
置換選択信号XRDNSがバンクBにも出力されてしま
いバンクBでは置換する必要が無い場合でも強制的に置
換が行われてしまう。
【0083】このように、図1の第1の実施形態の半導
体記憶装置では、異なるバンクにそれぞれ不良が存在す
る場合には、両方のバンクを同時に活性化させてリフレ
ッシュを行うことができない。また、両方のバンクを同
時に活性化させてリフレッシュを行うとするとそれぞれ
のバンク毎に冗長デコーダを設ける必要がある。
【0084】上で説明したように、第1および第2の実
施形態の半導体記憶装置では、複数のバンクに共通に冗
長デコーダを設け、異なるバンクにそれぞれ不良が存在
する場合には、リフレッシュ時に異なる複数のバンクを
同時に活性化することができないため、バンク毎に冗長
デコーダが必要となり置換効率が低下し、歩留まりが悪
化してしまうという問題点があった。
【0085】本実施形態の半導体記憶装置は、異なるバ
ンクにそれぞれ不良が存在する場合でも、リフレッシュ
を行うことができるようにして置換効率を向上させ歩留
まりを改善するようにしたものである。
【0086】図12は本発明の第3の実施形態の半導体
記憶装置の構成を示したブロック図、図13は本実施形
態における冗長メモリセル選択回路XRDNの回路図で
ある。図1中と同符号は同じ構成要素を示す。
【0087】図1の第1の実施形態の半導体記憶装置に
おける冗長メモリセル選択回路XRDNは、冗長メモリ
セルによる置換が行われる際には冗長メモリセルが選択
されたことを示す信号である冗長置換選択信号XRDN
Sのみを出力していた。しかし、本実施形態の半導体記
憶装置における冗長メモリセル選択回路XRDNはは、
図2に示すように、バンクAの冗長メモリセルが選択さ
れたことを示す信号である冗長置換選択信号XRDNS
(A)と、バンクBの冗長メモリセルが選択されたこと
を示す信号である冗長置換選択信号XRDNS(B)と
を出力するようにしている。そして、冗長置換選択信号
XRDNS(A)はバンクAに設けられている冗長行デ
コーダRXDC、サブアレイ選択回路SXC、サブワー
ド線選択回路RAISに入力され、冗長置換選択信号X
RDNS(B)はバンクBに設けられている冗長行デコ
ーダRXDC、サブアレイ選択回路SXC、サブワード
線選択回路RAISに入力されている。
【0088】図13に示されているように、この冗長メ
モリセル選択回路XRDNでは、不良アドレス一致信号
XREBL0〜3がハイレベルとなった際に、ヒューズ
FS00〜FS03の内の対応すヒューズが切断されて
いない場合に冗長置換選択信号XRDNS(A)はロウ
レベルとなる。また、同様に不良アドレス一致信号XR
EBL0〜3がハイレベルとなった際に、ヒューズFS
10〜FS13の内の対応すヒューズが切断されていな
い場合に冗長置換選択信号XRDNS(B)はロウレベ
ルとなる。
【0089】また、本実施形態の半導体記憶装置におけ
る行アドレス信号バッファXABFは、行アドレス信号
XADDの上位ビットのバンク選択信号CBSが入力さ
れてこない場合にはリフレッシュ時であると判定して相
補信号CBST、CBSNをともにロウレベルとして出
力するようにしている。
【0090】このため、リフレッシュ時においては冗長
デコーダXREDがバンクA、Bのどちらのバンクに対
して設定されていても行アドレスのみが一致すれば不良
アドレス一致信号XREBLが出力される。そして、冗
長メモリセル選択回路XRDNでは、入力された不良ア
ドレス一致信号XREBLを出力した冗長デコーダXR
EDが設定されているバンクと同じバンクに対して冗長
置換選択信号XRDNS が出力されるようにヒューズ
が設定されている。
【0091】例えばバンクAに設定されている冗長デコ
ーダXREDから出力された不良アドレス一致信号XR
EBLを入力した場合には冗長置換選択信号XRDNS
(A)のみが出力され、冗長置換選択信号XRDNS
(B)は出力されない。このことによりバンクAにおい
ては冗長メモリセルによる置換が行われるが、バンクB
においては置換が行われない。
【0092】このように、本実施形態の半導体記憶装置
では、行アドレス信号XADD中のバンク選択信号CS
Aが無いリフレッシュ時においても置換すべきバンクの
みの置換を行うことができる。
【0093】次に、図14〜図17は本実施形態の動作
を示したタイミングチャートである。
【0094】図14は、バンクA、Bの両方において置
換が行われている場合のリフレッシュ時の動作を示した
タイミングチャートである。
【0095】この場合には、冗長置換選択信号XRDN
S(A)、XRDNS(B)はともに一旦プリチャージ
されハイレベルとなった後に、不良アドレス一致信号X
REBLによりアクティブであるロウレベルになる。そ
のため、バンクA、Bの両方においてメインワード線M
WLではなく冗長メインワード線RMWLが活性化され
る。
【0096】図15は、バンクA、Bのどちらにおいて
も置換が行われていない場合のリフレッシュ時の動作を
示したタイミングチャートである。
【0097】この場合には、冗長置換選択信号XRDN
S(A)、XRDNS(B)はともに一旦プリチャージ
されハイレベルとなった後に、そのままインアクティブ
であるハイレベルとなる。そのため、バンクA、Bの両
方においてメインワード線MWLが活性化され、冗長メ
インワード線RMWLは活性化されない。
【0098】図16は、バンクAのみにおいて置換が行
われている場合のリフレッシュ時の動作を示したタイミ
ングチャートである。
【0099】この場合には、冗長置換選択信号XRDN
S(A)は一旦プリチャージされハイレベルとなった後
に、不良アドレス一致信号XREBLによりアクティブ
であるロウレベルになる。しかし、冗長置換選択信号X
RDNS(B)は一旦プリチャージされハイレベルとな
った後に、そのままインアクティブであるハイレベルと
なる。そのため、バンクAでは冗長メインワード線RM
WLが活性化され、バンクBではメインワード線MWL
が活性化される。
【0100】図17は、バンクAのみにおいて置換が行
われている場合の読み出し/書き込み時の動作を示した
タイミングチャートである。
【0101】この場合には、冗長置換選択信号XRDN
S(A)は一旦プリチャージされハイレベルとなった後
に、不良アドレス一致信号XREBLによりアクティブ
であるロウレベルになる。しかし、冗長置換選択信号X
RDNS(B)は一旦プリチャージされハイレベルとな
った後に、そのままインアクティブであるハイレベルと
なる。そのため、バンクAでは冗長メインワード線RM
WLが活性化される。しかし、この場合にはバンクB自
体が活性化されていないのでバンクBに関する信号は全
て非活性状態となっている。本実施形態の半導体記憶装
置は、両方のバンクを同時に活性化してリフレッシュを
行う場合でも、冗長置換選択信号XRDNS(A)、
(B)はそれぞれバンク毎に設けられているため、置換
するバンクを選択することができるため不要なメモリセ
ルを置換してしまうような問題が発生しない。よって、
書き込み/読み出し時およびリフレッシュ時において
も、異なるバンクに属する同時に活性化されるメモリセ
ルの置換をバンク間において共通の冗長デコーダで行な
うことができる。このことにより、冗長メモリセルによ
る置換効率が向上し、半導体記憶装置の歩留まりの改善
を図ることができる。
【0102】(第4の実施形態)次に、本発明の第4の
実施形態の半導体記憶装置について説明する。
【0103】図18は本発明の第4の実施形態における
タイミング制御回路10の回路図、、19は本発明の第
4の実施形態の半導体記憶装置の動作を示したタイミン
グチャートである。
【0104】半導体記憶装置を構成している各バンク
は、アクティブコマンドが入力されることによりアクテ
ィブとなり、プリチャージコマンドが入力されることに
よりインアクティブとなる。
【0105】そして、アクティブコマンドには、バンク
Aに対するアクティブコマンドACT Aと、バンクB
に対するアクティブコマンドACT Bがある。また、
プリチャージコマンドには、バンクAに対するプリチャ
ージコマンドPRE Aと、バンクBに対するプリチャ
ージコマンドPRE Bとがある。
【0106】シンクロナスDRAMでは、バンクAと、
バンクBは同時にアクティブとなるタイミングでデータ
の読み出し/書き込み等の制御が行われるため、これら
のコマンドは異なるバンクの状態に係わらずに入力され
てくる。
【0107】ただし、同一のバンクに対するアクティブ
コマンドが入力される間隔であるラスサイクルtrcは約
90nsであり、異なるバンクに対するアクティブコマ
ンドが入力される間隔であるラス to ラス ディレ
イtrrdは約20nsとなっている。
【0108】ここで、各不良アドレス一致信号XREB
LはバンクA、Bにおいて共用されているため、アクテ
ィブコマンドがアクティブとなり不良アドレス一致信号
XREBLが一旦アクティブ状態となっている間は、他
のバンクのアクティブコマンドを有効とすることができ
ない。
【0109】例えば、アクティブコマンドACT Aが
入力されてからプリチャージコマンドPRE Aが入力
されるまでの間は不良アドレス一致信号XREBLはア
クティブ状態となっているが、この期間にアクティブコ
マンドACT Bが入力された場合には、このアクティ
ブコマンドACT Bは受け付けられずにバンクBをア
クティブとなることができない。
【0110】本実施形態の半導体記憶装置は、このよう
な問題を解決するためものであり、バンクA、Bの間で
アクティブ状態となる期間が重複しても不良メモリセル
と冗長メモリセルとの置換を正常に行うようにしたもの
である。
【0111】本実施形態の半導体記憶装置には、上記第
1から第3の実施形態の半導体記憶装置に対して、図1
8に示すタイミング制御回路10が設けられている。
【0112】このタイミング制御回路10は、遅延回路
11と、インバータ回路12、14、16、17と、ナ
ンド回路13とから構成されている。そしてこのタイミ
ング制御回路10は、ACT(A)がアクティブ(ハイ
レベル)となると、遅延回路11により決定される幅の
ワンショットパルス信号を冗長回路ラッチ信号XLAT
として出力し、XLATを出力してから遅延回路15に
より決定される時間だけ遅延させたワンショットパルス
信号をPRRとして出力する。
【0113】そして、不良アドレス一致信号XREBL
は、XLATによりアクティブとなりPRRによりイン
アクティブとなる。
【0114】また、このタイミング制御回路10には、
バンクBがアクティブであることを示す信号であるAC
T(B)も同様にして入力されている。
【0115】次に、本実施形態の動作について図19の
タイミングチャートを用いて説明する。この図19は、
バンクAがアクティブとなってからインアクティブとな
る前にバンクBがアクティブとなった場合の動作を示し
たタイミングチャートである。
【0116】先ずアクティブコマンドACT Aが入力
されることによりACT(A)がアクティブとなり、タ
イミング制御回路10によりXLATが出力される。そ
して、XLATが出力されたことによりXREBLがア
クティブとなる。そして、XLATが出力されてから一
定時間後にタイミング制御回路10からPRRが出力さ
れるため、XREBLはインアクティブとなる。
【0117】そして、次に、アクティブコマンドACT
Bが入力されることによりACT(B)がアクティブ
となり、タイミング制御回路10からXLATおよびP
RRが出力され、XREBLは一定時間アクティブとな
った後にインアクティブとなる。
【0118】本実施形態では、このようにバンク間で共
通のXREBLをアクティブとした後一定時間でインア
クティブとすることによりバンクA、Bの間でアクティ
ブ状態となる期間が重複しても不良メモリセルと冗長メ
モリセルとの置換を正常に行うことができる。
【0119】(第5の実施形態)次に、本実施形態の第
5の実施形態の半導体記憶装置について説明する。
【0120】本実施形態の半導体記憶装置は、第4の実
施形態と同様に、バンクA、Bの間でアクティブ状態と
なる期間が重複しても不良メモリセルと冗長メモリセル
との置換を正常に行うようにしたものである。
【0121】本実施形態の半導体記憶装置は、上記第1
から第3の実施形態の半導体記憶装置に対して、不良ア
ドレス一致信号ラッチ回路20a、20bが設けられて
いる。
【0122】不良アドレス一致信号ラッチ回路20a、
20bは、不良アドレス一致信号XREBLをラッチし
てXRBNKa、XRBNKbとして出力している。
【0123】そして、アクティブコマンドACT A、
Bが入力されると、その後一定時間はXREBLがアク
ティブとなるようになっている。さらに、アクティブコ
マンドACT Aが入力されるとXDLAaが出力さ
れ、プリチャージコマンドPRE Aが入力されるとX
DPRaが出力される。そして、アクティブコマンドA
CT Bが入力されるとラッチ信号XDLAbが出力さ
れ、プリチャージコマンドPRE Bが入力されるとX
DPRbが出力される。
【0124】不良アドレス一致信号ラッチ回路20a
は、nチャネルMOSトランジスタ21、22と、イン
バータ回路23〜25とから構成されている。
【0125】nチャネルMOSトランジスタ22は、行
デコーダアドレスラッチ信号XDLAaがアクティブと
なるとオンし、XREBLをインバータ回路23の入力
に出力している。
【0126】nチャネルMOSトランジスタ21は、行
デコーダプリチャ−ジ信号XDPRaがアクティブとな
るとオンし、インバータ回路23の入力をロウレベルと
している。ここで、インバータ回路23の入力をロウレ
ベルとしているのは、XRBNKaの出力状態をインア
クティブであるロウレベルとするためである。
【0127】また、不良アドレス一致信号ラッチ回路2
0bも、不良アドレス一致信号ラッチ回路20aとその
構造および動作は同様であるためその説明は省略する。
【0128】次に、本実施形態の半導体記憶装置の動作
を図21のタイミングチャートを用いて説明する。この
図21は、図19と同様に、バンクAがアクティブとな
ってからインアクティブとなる前にバンクBがアクティ
ブとなった場合の動作を示したタイミングチャートであ
る。
【0129】先ず、アクティブコマンドACT Aが入
力されたことによりXREBLがアクティブとなるとと
もに、XDLAaが出力される。そのため、不良アドレ
ス一致信号ラッチ回路20aにおいてXREBLはラッ
チされ、XRBNKaがアクティブとなる。
【0130】そして、次に、アクティブコマンドACT
Bが入力されたことによりラッチ信号XDLAbが出
力され、不良アドレス一致信号ラッチ回路20bにおい
てXREBLはラッチされ、XRBNKbがアクティブ
となる。
【0131】そして、プリチャージコマンドPRE A
が入力されると、冗長回路プリチャージ信号XDPRa
が出力され、不良アドレス一致信号ラッチ回路20aで
は、XRBNKaはインアクティブとなる。
【0132】最後に、プリチャージコマンドPRE B
が入力されると、冗長回路プリチャージ信号XDPRb
が出力され、不良アドレス一致信号ラッチ回路20bで
は、XRBNKbはインアクティブとなる。
【0133】本実施形態の半導体記憶装置では、不良ア
ドレス一致検出信号XREBLをバンク毎に設けられた
XDLAa、bによりそれぞれラッチし、ラッチされた
信号をPRE A、PRE Bによりそれぞれリセット
するようにしている。そのため、バンクAとバンクBを
独立して別々にアクティブ状態とすることができる。な
お、上記第1から第5の実施形態では、行アドレスの不
良メモリセルの置換の例を示したが、列アドレスでの不
良メモリセルの置換に関しても、同様に本発明の趣旨を
満たす半導体記憶回路を構成することができる。
【0134】また、上記第1から第5の実施形態では、
冗長デコーダXREDは置換すべき不良メモリセルのア
ドレスをヒューズの切断の有無により記憶していたが、
本発明はこれに限定されるものではなく、電源がオフと
なってもアドレスを記憶することができる不揮発性の記
憶手段であればどのような記憶手段を用いても本発明を
適用することができるものである。
【0135】
【発明の効果】以上説明したように、本発明は、書き込
み/読み出し時およびリフレッシュ時においても、異な
るバンクに属する同時に活性化されるメモリセルの置換
を1つの冗長デコーダで行なえるため、置換効率の向上
による歩留まりの改善を図ることができるという効果を
有する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施形態の半導体記憶装置の構
成を示すブロック図である。
【図2】図1中の半導体記憶装置における不良アドレス
選択時の動作を示すタイミングチャート(図2(a))
および不良アドレス非選択時の動作を示すタイミングチ
ャート(図2(b))である。
【図3】図1中の冗長デコーダXREDの一例を示す回
路図である。
【図4】図1中の冗長メモリセル選択回路XRDNの一
例を示す回路図である。
【図5】図1中のサブアレイ選択回路SXCの一例を示
す回路図である。
【図6】図1中の行デコーダXDECの一例を示す回路
図である。
【図7】図1中の冗長行デコーダRXDCの一例を示す
回路図である。
【図8】図1中のサブワード線選択回路RAISの一例
を示す回路図である。
【図9】本発明の第2の実施形態の半導体記憶装置にお
ける冗長メモリセル選択回路XRDNの一例を示す回路
図である。
【図10】本発明の第2の実施形態の半導体記憶装置に
おける冗長行デコーダRXDCの一例を示す回路図であ
る。
【図11】本発明の第2の実施形態の半導体記憶装置に
おけるサブワード線選択回路RAISの一例を示す回路
図である。
【図12】本発明の第3の実施形態の半導体記憶装置の
構成を示したブロック図である。
【図13】図12中の冗長メモリセル選択回路XRDN
の回路図である。
【図14】バンクA、Bの両方において置換が行われて
いる場合のリフレッシュ時の動作を示したタイミングチ
ャートである。
【図15】バンクA、Bのどちらにおいても置換が行わ
れていない場合のリフレッシュ時の動作を示したタイミ
ングチャートである。
【図16】バンクAのみにおいて置換が行われている場
合のリフレッシュ時の動作を示したタイミングチャート
である。
【図17】バンクAのみにおいて置換が行われている場
合の読み出し/書き込み時の動作を示したタイミングチ
ャートである。
【図18】本発明の第4の実施形態の半導体記憶装置に
おけるタイミング制御回路10の回路図である。
【図19】本発明の第4の実施形態の半導体記憶装置の
動作を示したタイミングチャートである。
【図20】本発明の第5の実施形態の半導体記憶装置に
おける不良アドレス一致信号ラッチ回路20の回路図で
ある。
【図21】本発明の第5の実施形態の半導体記憶装置の
動作を示したタイミングチャートである。
【図22】従来の半導体記憶装置の構成を示すブロック
図である。
【図23】従来例における不良アドレス選択時の動作を
示すタイミングチャート(図23(a))および不良ア
ドレス非選択時の動作を示すタイミングチャート(図2
3(b))である。
【図24】図22中の冗長デコーダXREDの一例を示
す回路図である。
【図25】図22中の冗長メモリセル選択回路XRDN
の一例を示す回路図である。
【図26】図22中のSXC回路の一例を示す回路図で
ある。
【図27】図22中の行デコーダXDECの一例を示す
回路図である。
【図28】図22中の冗長行デコーダRXDCの一例を
示す回路図である。
【図29】図22中のサブワード線選択回路RAISの
一例を示す回路図である。
【符号の説明】
XADD 行アドレス信号 PXADD 行プリデコードアドレス信号 PXR 冗長プリチャージ信号 XLAT 行プリデコードアドレスおよび冗長回路ラ
ッチ信号 XPRE 行プリデコードアドレスおよび冗長回路プ
リチャージ信号 XDLA 行デコーダアドレスラッチ信号 XDPR 行デコーダプリチャ−ジ信号 XREBL 不良アドレス一致信号 XRDNS、XRDNS(A)、XRDNS(B)
冗長置換選択信号 RXDS 冗長行デコーダ選択信号 XRED 冗長デコーダ XRDN 冗長メモリセル選択回路 RRAIS1、2 冗長サブワード線選択信号 BSEL サブアレイ選択信号 MWL メインワード線 RMWL 冗長メインワード線 RAI サブワード線選択信号 F0N〜F10N、F0T〜F10T、FBSN、FB
ST、FS00〜FS13、FR00〜FR23、FX
00〜FX13、FL00〜FL13 ヒューズ XPR 行アドレスデコード回路 XDEC 行デコーダ RXDC 冗長行デコーダ RAIS サブワード線選択回路 SXC サブアレイ選択回路 ARRAY0 バンクA ARRAY1 バンクB SUBA00〜SABA13 サブアレイ XABF 行アドレス信号バッファ CBS バンク選択信号 10 タイミング制御回路 11 遅延回路 12 インバータ回路 13 ナンド回路 14 インバータ回路 15 遅延回路 16、17 インバータ回路 20a、20b 不良アドレス一致信号ラッチ回路 21、22 nチャネルMOSトランジスタ 23〜25 インバータ回路 100〜102 節点

Claims (17)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 複数の通常メモリセルと、 外部から印加されるアドレスに呼応して前記通常メモリ
    セルを活性化する手段と、 複数の冗長メモリセルと、 前記複数の通常メモリセル内に存在する不良メモリセル
    のアドレスを記憶する第1の記憶手段と、 前記外部から印加されるアドレスと、前記不良メモリセ
    ルのアドレスとの比較手段と、 前記比較手段の出力に呼応して前記冗長メモリセルを活
    性化する手段、または前記通常メモリセルの活性化を抑
    止する手段、または双方の手段を有し、 前記比較手段は、前記外部から印加されるアドレスを構
    成するビットの内、全部または一部のみを対象として、
    記憶された前記不良メモリセルのアドレスと比較するこ
    とを特徴とする半導体記憶装置。
  2. 【請求項2】 前記比較手段の比較するビット数は可変
    であり、 前記比較手段の比較するビット数、または比較対象とな
    らないビット数を記憶する第2の記憶手段と、 前記比較手段の出力に基づいて、前記第2の記憶手段の
    内容を、前記冗長メモリセルの活性化手段に伝える第1
    の伝達手段を有する請求項1記載の半導体記憶装置。
  3. 【請求項3】 それぞれ前記外部から印加されるアドレ
    ス信号にしたがい、独立に動作する分割されたメモリセ
    ルアレイ構造を持ち、 前記分割されたメモリセルアレイは、それぞれ、複数の
    前記冗長メモリセルを持つ請求項1又は2記載の半導体
    記憶装置。
  4. 【請求項4】 前記分割されたメモリセルアレイの内、
    どのメモリセルアレイ内の不良メモリセルを置換するか
    を記憶する第3の記憶手段を有し、 前記比較手段は、第3の記憶手段と、外部から印加され
    るメモリセルアレイ選択信号を比較する請求項1〜3の
    いずれか1項に記載の半導体記憶装置。
  5. 【請求項5】 各々の前記比較手段に対応し、前記分割
    されたメモリセルアレイ内の、どの冗長メモリセルをも
    って、不良メモリセルを置換するかを記憶する複数の第
    4の記憶手段と、 前記比較手段の出力に基づいて、前記第4の記憶手段の
    内容を、前記冗長メモリセルの活性化手段に伝える第2
    の伝達手段を有する請求項1〜4のいずれか1項に記載
    の半導体記憶装置。
  6. 【請求項6】 前記第4の記憶手段は、N桁の二進数の
    記憶手段で構成され、2のN乗の組み合わせを記憶でき
    る請求項1〜5のいずれか1項に記載の半導体記憶装
    置。
  7. 【請求項7】 前記第2の伝達手段は、複数の前記第4
    の記憶手段に接続され、 N桁の二進数で伝達するワイヤードオア節点をもって構
    成される請求項1〜6のいずれか1項に記載の半導体記
    憶装置。
  8. 【請求項8】 前記冗長メモリセルの活性化手段は、前
    記第2の伝達手段をデコードする手段と、 前記伝達手段の値またはデコードされた値をラッチする
    手段を有する請求項1〜7のいずれか1項に記載の半導
    体記憶装置。
  9. 【請求項9】 前記冗長メモリセルの活性化手段は、前
    記第1の伝達手段によって示される比較対象とならない
    ビット数を、前記外部から印加されるアドレスを構成す
    るビットから採用し、 残りを前記第2の伝達手段を構成するビットから採用す
    る選択手段を有する請求項1〜8のいずれか1項に記載
    の半導体記憶装置。
  10. 【請求項10】 複数のメモリセルから成る通常のメモ
    リセルブロックと、前記通常のメモリセルブロックの内
    に存在する不良メモリセルを置換するための複数の冗長
    メモリセルとを有し、それぞれ独立に読み出し/書き込
    みを行うことができる複数のバンクと、 前記複数のバンクに共通に設けられ、前記不良メモリセ
    ルのアドレスを記憶し、入力されたアドレス信号が示し
    ているアドレスと記憶している前記不良メモリセルのア
    ドレスとの比較を行う複数の冗長デコーダと、 前記不良メモリセルを置換するための冗長メモリセルの
    アドレスを記憶していて、前記各冗長デコーダにおいて
    前記アドレス信号が示しているアドレスと記憶している
    前記不良メモリセルのアドレスとが一致した場合に、該
    不良メモリセルと置換するために設定されている冗長メ
    モリセルを活性化する置換メモリセル記憶手段とを有す
    る半導体記憶装置において、 前記冗長デコーダは、リフレッシュ動作時には、前記ア
    ドレス信号に含まれいるバンク選択信号を参照せずに、
    前記アドレス信号が示すアドレスと記憶している前記不
    良メモリセルのアドレスとの比較を行い、 前記置換メモリセル記憶手段は、冗長メモリセルとの置
    換が行われるバンクを示すための冗長置換選択信号を前
    記各バンク毎に出力することを特徴とする半導体記憶装
    置。
  11. 【請求項11】 前記冗長デコーダは、前記メモリセル
    に対するデータの読み出し/書き込み時と、前記メモリ
    セルに対するリフレッシュ動作時で、比較するアドレス
    のビット数を変化させることにより、前記バンク選択信
    号を参照せずに、前記アドレス信号が示すアドレスと記
    憶している前記不良メモリセルのアドレスとの比較を行
    う請求項10記載の半導体記憶装置。
  12. 【請求項12】 前記各冗長メモリセルが接続されたワ
    ード線を活性化するための冗長行活性化手段をさらに有
    し、 前記置換メモリセル記憶手段は、活性化する冗長メモリ
    セルを選択するために複数の冗長行デコーダ選択信号を
    出力し、 前記冗長行活性化手段は、前記複数の冗長行デコーダ選
    択信号に従って接続されているワード線の活性化および
    非活性化を決定する請求項10または11記載の半導体
    記憶装置。
  13. 【請求項13】 前記各冗長デコーダは、前記通常のメ
    モリセルアレイの内に存在する不良メモリセルのアドレ
    スを、複数のヒューズの切断の有無により記憶している
    請求項10から12のいずれか1項記載の半導体記憶装
    置。
  14. 【請求項14】 前記置換メモリセル記憶手段は、前記
    不良メモリセルを置換するための冗長メモリセルのアド
    レスを、複数のヒューズの切断の有無により記憶してい
    る請求項10から13のいずれか1項記載の半導体記憶
    装置。
  15. 【請求項15】 前記各メモリセルおよび前記各冗長メ
    モリセルは、1つのメインワード線に対して複数設けら
    れているサブワード線に接続されている請求項10から
    14のいずれか1項記載の半導体記憶装置。
  16. 【請求項16】 複数のメモリセルから成る通常のメモ
    リセルブロックと、前記通常のメモリセルブロックの内
    に存在する不良メモリセルを置換するための複数の冗長
    メモリセルとを有し、それぞれ独立に読み出し/書き込
    みを行うことができる複数のバンクと、 前記複数のバンクに対して共通に設けられ、前記不良メ
    モリセルのアドレスを記憶し、入力されたアドレス信号
    が示しているアドレスと記憶している前記不良メモリセ
    ルのアドレスとの比較を行い、それらの信号が一致した
    場合には不良アドレス一致信号を出力する複数の冗長デ
    コーダと、 前記不良メモリセルを置換するための冗長メモリセルの
    アドレスを記憶していて、前記各冗長デコーダからの不
    良アドレス一致信号を入力すると、該不良メモリセルと
    置換するために設定されている冗長メモリセルを活性化
    する置換メモリセル記憶手段とを有する半導体記憶装置
    において、 あるバンクをアクティブとするコマンドが入力される
    と、前記不良アドレス一致信号をラッチするためのラッ
    チ信号を出力し、該ラッチ信号を出力してから一定時間
    後に前記不良アドレス一致信号をリセットするための信
    号を出力するタイミング制御回路とを有することを特徴
    とする半導体記憶装置。
  17. 【請求項17】 複数のメモリセルから成る通常のメモ
    リセルブロックと、前記通常のメモリセルブロックの内
    に存在する不良メモリセルを置換するための複数の冗長
    メモリセルとを有し、それぞれ独立に読み出し/書き込
    みを行うことができる複数のバンクと、 前記複数のバンクに対して共通に設けられ、前記不良メ
    モリセルのアドレスを記憶し、入力されたアドレス信号
    が示しているアドレスと記憶している前記不良メモリセ
    ルのアドレスとの比較を行い、それらの信号が一致した
    場合には不良アドレス一致信号を出力する複数の冗長デ
    コーダと、 前記不良メモリセルを置換するための冗長メモリセルの
    アドレスを記憶していて、前記各冗長デコーダからの不
    良アドレス一致信号を入力すると、該不良メモリセルと
    置換するために設定されている冗長メモリセルを活性化
    する置換メモリセル記憶手段とを有する半導体記憶装置
    において、 前記各バンク毎に設けられていて、対応しているバンク
    をアクティブとするコマンドが入力されると、前記不良
    アドレス一致信号をラッチするためのラッチ信号を出力
    し、対応しているバンクをプリチャージするコマンドが
    入力されると、前記不良アドレス一致信号をリセットす
    るための冗長回路プリチャージ信号を出力する複数のタ
    イミング制御回路と、 前記各バンク毎に設けられていて、対応したバンクに対
    する前記ラッチ信号が出力されると、前記不良アドレス
    一致信号をラッチしてラッチして出力し、対応したバン
    クに対する前記冗長回路プリチャージが出力されるとラ
    ッチされている前記不良アドレス一致信号をリセットす
    る複数の不良アドレス一致信号ラッチ回路とを有するこ
    とを特徴とする半導体記憶装置。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100380346B1 (ko) * 2000-10-16 2003-04-11 삼성전자주식회사 리던던시 로직셀을 갖는 반도체 메모리 장치 및 리페어 방법
KR100806153B1 (ko) * 2001-11-12 2008-02-22 후지쯔 가부시끼가이샤 반도체 메모리
JP2009110587A (ja) * 2007-10-30 2009-05-21 Elpida Memory Inc 半導体装置及びリフレッシュ方法
JP2011187103A (ja) * 2010-03-05 2011-09-22 Elpida Memory Inc 半導体装置

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