JPH11327189A - 支持層が改善された電子写真撮像部材 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 電子写真複写機の感光体において、電荷不足
スポットがなく、カールし難く、伸び難く、反りが形成
され難く、円錐がばらつかない改善された感光体を提供
する。 【解決手段】 約１００℃〜約１４０℃の間のガラス転
移温度を有し、約７５マイクロメートル（３ｍｉｌ）〜
約１２５マイクロメートル（５ｍｉｌ）の間の厚みを有
すると共に、約６５０，０００〜約１，０００，０００
ポンド／平方インチのヤング率を有するオリゴマーを実
質的に全く含まないポリエチレンナフタレートを含有す
る支持基板層と、チタンを含有する導電接地平面層と、
ホール遮断層と、任意の接着層と、皮膜形成結合剤中に
分散した光導電粒子から成る電荷発生層と、ホール輸送
層であって、電荷発生層が光発生されたホールを生成さ
せ注入するスペクトル領域で実質的に非吸収性である
が、光発生されたホールの電荷発生層からの注入を持続
することと、ホール輸送層を通してホールを輸送するこ
ととが可能であるホール輸送層と、を備える電子写真撮
像部材である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は一般に電子写真に関
し、更に詳しくは、支持層が改善された電子写真撮像部
材に関する。

【０００２】

【従来の技術】より進歩したより高速の電子写真複写
機、複製機およびプリンタが開発され、利用可能なサイ
クル数が増加するにつれて、増加したサイクルの間に画
像品質の劣化を生じるようになった。更に、複雑で高度
に洗練された複写およびプリンティングシステムに用い
られる非常に高速で動作する可撓性感光体ベルトも、同
様に厳しい機械的要件と狭い動作範囲を感光体に要求し
ている。例えば、現在の多くの多層感光体ベルトの層
は、非常に柔軟で、相互に十分に接着すると共に、狭い
動作範囲内で予測可能な電気的特性を備えて、何千回の
サイクルにわたって優れたトナー画像を提供しなければ
ならない。

【０００３】近年出現した電子写真撮像における期待で
きる進歩は、優れた容量性帯電特性、優れた感光性、低
電位ダークディケイ（dark decay）および長期の電気周
波安定性を示す可撓性撮像部材の製作の成功である。ベ
ルトの形で用いられるこの撮像部材は、通常、基板と、
導電層と、溶液被覆ホール遮断層と、溶液被覆接着層
と、選択された結合剤樹脂中の昇華被覆ペリレンまたは
フタロシアニン有機顔料もしくはこれらの顔料の１種の
分散液から成る薄い電荷発生層と、溶液被覆電荷輸送層
と、溶液被覆耐カール層と、任意の保護層とから成る。

【０００４】皮膜形成結合剤中のペリレンまたはフタロ
シアニンの真空昇華蒸着純有機顔料または有機顔料分散
液のいずれかから成る電荷発生層を含む多層感光体は、
電荷発生層中に三方晶セレン分散液を含む感光体より優
れた特性を示す。残念ながら、これらの多層ペリレン感
光体は、重大な電荷不足スポットの問題を生じることも
見出されている。特に、ビスフェノールＺタイプのポリ
カーボネート皮膜形成結合剤の母液中のペリレン顔料分
散液の場合がそうである。本願において用いる「電荷不
足スポット」という表現は、帯電領域現像を用いる時に
トナー不足スポットとして出現するダークディケイ（da
rk decay）の局在する領域として定義する。例えば、撮
像されたハードコピー上の黒色トナーバックグラウンド
における約０．２〜約０．３ミリメートルの間の平均サ
イズを有する小さな白色スポットの出現をいう。放電領
域現像システムにおいては、電荷不足スポットは、白色
バックグラウンドにおける小さな黒色トナースポットと
して出力コピー内に出現する。更に、多層ベンズイミダ
ゾールペリレン感光体は、被覆および乾燥後にカールす
ることも観察されている。カールした感光体は静電気的
に均一に帯電させることができない。それは、感光体表
面の部分によって、コロトロンおよびスコロトロンなど
の帯電装置からの距離が異なるからである。また、カー
ルした感光体は画像の現像および転写に悪影響を及ぼ
す。更に、一端に沿って接地片を有する感光体の上向き
にカールした端は、電子写真撮像機における帯電装置を
ショートさせる可能性がある。

【０００５】一般に、可撓性の感光体ベルトは、長いウ
ェブ上に光活性被覆剤の種々の層を積層することにより
製作され、その後ウェブは切断されてシート状にされ
る。各感光体シートの反対側の両端は一緒に重ねて超音
波溶着され、撮像ベルトが形成される。ポリエチレンテ
レフタレートウェブなどの従来の感光体基板を被覆し乾
燥する場合、得られた乾燥感光体ウェブには、通常著し
い反りがあり、それは溶着されたベルトの円周均一性に
悪影響を及ぼす。特に、大容量且つ高速の電子写真複製
機およびプリンタ用の大きな溶着ベルトの場合がそうで
ある。

【０００６】製作されたベルトの形において、感光体の
溶着継目は、感光体の外面の継目以外の部分より上に過
度にはみ出しがちである。こうしてはみ出すことは好ま
しくない。洗浄ブレードおよびウェブ通路の周囲に配置
された近接したその他の補助装置と接触するからであ
る。こうして接触すると洗浄ブレードを急速に摩滅さ
せ、特にカラー撮像機において、トナー画像の現像およ
び刷り合わせに悪影響を及ぼす振動の原因になる可能性
がある。更に、支持ローラの周囲で画像サイクルを繰返
している間に伸びがちな感光体ベルトがあるのに対し
て、縮みがちなものもある。ベルトの張力を維持するた
めに、少なくとも一方のローラはばね懸架式になってい
る。サイクルの繰返しで縮む一部の感光体の傾向は、迅
速な最初のコピー出力機能を有する撮像システムなどの
高温動作条件下でひどくなる。高温動作条件となる撮像
システムには、より迅速な最初のコピー出力のために必
要なより短い定着時間を達成するために定着温度を劇的
に上げる迅速な最初のコピー出力機能を有する撮像シス
テムなどがある。また、ポリエチレンテレフタレート基
板を含む感光体ベルトにベルトの平面性を高めるために
高いベルト張力をかける場合、特に、高い動作温度にお
ける高張力は感光体の電荷輸送層を損なう。ベルトが伸
縮する時、継目などのベルトの様々な部分および撮像に
おける領域に対する相対位置は変化する。こうした相対
位置の変化は追跡が困難なため、複雑で高性能且つ高価
な検出装置およびタイミング装置を必要とする。

【０００７】ポリエチレンテレフタレート基板を含む感
光体ベルトはまた、高い湿度の動作条件下で水を吸収し
がちである。水の吸収は、感光体の電気的特性の好まし
くない変化を引き起こし、膨潤の原因になる可能性があ
る。ポリエチレンテレフタレート基板を含む感光体ベル
トはまた、被覆された部材中での応力不均衡に起因して
電荷輸送層の露出面上に波の多い表面模様を示す。この
波の多い模様は、感光体の不均一な帯電、トナー画像の
不完全な転写および明暗模様の形成のために好ましくな
い。ポリエチレンテレフタレート基板を含む感光体ベル
トは、サイクルの繰返し中にベルト内で低周波の脈動を
生じる。これらの脈動は、ベルトの長さ方向に走る山と
谷を有するようになるため、ベルトの両端に平行であ
る。脈動が存在すると、帯電、露光および最終トナー画
像の品質を著しく低下させる。

【０００８】電子写真撮像ベルトの基板層に対する代替
材料を利用する試みは困難に直面してきた。例えば、ポ
リエーテルアミドまたはフッ化ビニリデン（カイナ（Ｋ
ｙｎａｒ））を含む基板は、簡単には溶着できないの
で、感光体基板としてそれほど好ましくはない。ポリエ
ーテルスルホン（ＰＥＳ）のベルト基板は、被覆された
被覆剤層に用いられる塩化メチレン溶剤などの溶剤によ
り悪影響を受ける。

【０００９】１９９７年５月３１日発行のハヤシ（Ｈａ
ｙａｓｈｉ）らによる米国特許第４，０２６，７０３号
において、感光体の最上層上に静電潜像を形成させる電
子写真感光体が開示されており、それは全く以下の層か
ら成る。

【００１０】ａ．基板 ｂ．５オングストロームから１０００オングストローム
の厚みを有する金属パラジウム層 ｃ．０．０５から３マイクロメートルの厚みを有するガ
ラス質セレンを含む層 ｄ．特定の化学式で表されるポリビニルカルバゾールを
含む最上層 例えば、ポリエチレンナフタレートを含む多くの特定の
基板が開示されている。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】従って、電荷不足スポ
ットがなく、カールしがたく、伸びがたく、反りが形成
されがたく、円錐がばらつかない改善された感光体に対
する継続した必要性が存在する。

【００１２】

【課題を解決するための手段】従って、本発明の目的は
上述の欠点を克服する改善された感光体部材を提供する
ことである。

【００１３】本発明の更にもう１つの目的は、被覆中お
よび画像サイクル繰返し中の平面度を高めた改善された
感光体部材を提供することである。

【００１４】本発明の更なる目的は、より伸びがたく、
またはより変形しにくい改善された感光体部材を提供す
ることである。

【００１５】本発明の更にもう１つの目的は、溶着継目
の出っ張りが小さい改善された感光体部材を提供するこ
とである。

【００１６】本発明の更にもう１つの目的は、反りの小
さい改善された感光体部材を提供することである。

【００１７】本発明のもう１つの目的は、溶着してベル
トを形成後、より均一な円錐を示す改善された感光体部
材を提供することである。

【００１８】本発明の更にもう１つの目的は、電荷不足
スポットをより形成しがたい改善された感光体部材を提
供することである。

【００１９】本発明のなお更にもう１つの目的は、高湿
度動作条件下でより安定な電気特性を有する改善された
感光体部材を提供することである。

【００２０】本発明のもう１つの目的は、収縮しがたい
改善された感光体部材を提供することである。

【００２１】本発明の更なる目的は、高温乾燥条件下で
変形しがたい改善された感光体部材を提供することであ
る。

【００２２】本発明のなお更にもう１つの目的は、厚み
がより均一な被覆剤を備える改善された感光体部材を提
供することである。

【００２３】上述の目的およびその他の目的は、約１０
０℃〜約１４０℃の間のガラス転移温度を有し、約７５
マイクロメートル（３ｍｉｌ）〜約１２５マイクロメー
トル（５ｍｉｌ）の間の厚みを有すると共に、約６５
０，０００〜約１，０００，０００ポンド／平方インチ
のヤング率を有するオリゴマーを実質的に全く含まない
ポリエチレンナフタレートから成る支持基板層と、チタ
ンを含有する導電接地平面層と、ホール遮断層と、任意
の接着層と、皮膜形成結合剤中に分散した光導電粒子を
含有する電荷発生層と、ホール輸送層であって、電荷発
生層が光発生されたホールを生成させ注入するスペクト
ル領域で実質的に非吸収性であるが、光発生されたホー
ルの電荷発生層からの注入を持続することと、ホール輸
送層を通してホールを輸送することとが可能であるホー
ル輸送層と、を備える電子写真撮像部材を提供すること
により本発明によって達成される。

【００２４】この感光体を電子写真撮像プロセスにおい
て利用する。

【００２５】

【発明の実施の形態】感光体基板はポリエチレンナフタ
レートから成る。ポリエチレンナフタレート基板は可視
光に対して透明である。この基板はまた、蛍光消去ラン
プなどの消去ランプから放射される約３８０ナノメート
ル未満の波長を有する紫外線放射の透過を遮断すること
から、感光体の電荷輸送層に対する損傷を防止すると共
に、バナジルフタロシアニンなどのＵＶ感光材料を含む
電荷発生層に対する損傷を防止する。ポリエチレンナフ
タレート基板はまた、約７５マイクロメートル（３ｍｉ
ｌ）〜約１２５マイクロメートル（５ｍｉｌ）の間の厚
みを有することが望ましい。約８７．５マイクロメート
ル（３．５ｍｉｌ）〜約１１２．５マイクロメートル
（４．５ｍｉｌ）の間の厚みが好ましい。最適な結果
は、約９０マイクロメートル（３．５ｍｉｌ）のポリエ
チレンナフタレート基板層の厚みで達成される。厚みが
約７５マイクロメートル未満の場合、プリントおよび電
荷が不均一なために、波が多いことと脈動とは許容でき
なくなる。例えば、約７５マイクロメートル（３ｍｉ
ｌ）未満の厚みにおいて、ポリエチレンナフタレート基
板は、意外にも、電荷輸送層が破壊し始める早期寿命終
了点を有する感光体を形成する。厚みが約１２５マイク
ロメートルより大きい場合、電荷輸送層は画像サイクル
繰返し中に破壊する。従って、臨界厚みの一部のポリエ
チレンナフタレート基板材料が、異なった厚みのその他
のポリエチレンナフタレート基板材料に比較して優れた
特性を有することは驚くべきことである。基板中のポリ
エチレンナフタレートは、オリゴマーを実質的に全く含
まないことが望ましい。本願で用いる「オリゴマー」と
いう用語は、例えば、ダイマー、トリマー、テトラマー
などのポリマー中のモノマーユニットとして定義され
る。本願で用いる「実質的に含まない」という表現は、
基板中のポリエチレンナフタレートの全重量に基づいて
約０．５重量％未満の量で存在すると定義される。ポリ
エチレンテレフタレートは、一般に基板中のポリエチレ
ンテレフタレートの全重量に基づいて約１．５重量％の
オリゴマー成分を含む。基板層中にオリゴマーが過剰に
存在すると、オリゴマーはその後被覆された感光体層中
に被覆欠陥を生じさせる。例えば、オリゴマーは塗料被
覆機中のローラに蓄積する可能性があり、電荷輸送層の
しみおよび電荷発生層のバッキングロールによるまだら
模様の原因になる可能性がある。オリゴマーは、塗布機
ドライヤ中にも蓄積し、塗布機の振動によって新たに被
覆されたウェブ上に押し出される可能性がある。ポリエ
チレンナフタレート基板層を形成するために過剰反応物
を用いるべきではない。一般に、過剰反応物は、ポリエ
チレンテレフタレート基板層を形成するために利用され
るため、未反応オリゴマー材料は、ポリエチレンテレフ
タレート基板層に存在する。本発明の感光体中に利用さ
れるポリエチレンナフタレートは、約１００℃〜約１４
０℃の間のガラス転移温度を有することが望ましい。更
に、ポリエチレンナフタレートは、１３０℃において約
０．２２％未満だけしか伸張も収縮もしないことが望ま
しく、２５マイクロメートル（１ｍｉｌ）の厚みにおい
て約１２．８ｃｃ³／ｍ²／day未満の酸素透過性を有す
ることが望ましい。本発明のポリエチレンナフタレート
基板と異なり、ポリエチレンテレフタレートは、２５マ
イクロメートル（１ｍｉｌ）の厚みにおいて約５２．３
ｃｃ³／ｍ²／dayの酸素透過性を有する。本発明の感光
体中で利用されるポリエチレンナフタレートはまた、約
６００，０００ＭＰａ〜約１，０００，０００ＭＰａの
間のヤング率を有することが望ましい。前述した特性を
有するポリエチレンナフタレートは、例えば、商業的に
入手可能なＫａｌａｄｅｘ ２０００であり、それはア
イシーアイ・フィルムズ（ＩＣＩ Ｆｉｌｍｓ）または
イーアイデュポン・ド・ヌムール（Ｅ．Ｉ．ＤｕＰｏｎ
ｔ Ｄｅ Ｎｅｍｏｕｒｓ ＆ Ｃｏ．）から入手できる。
基板は、例えば、可撓性のウェブ、シートおよびベルト
などの適するいずれの形状であってもよい。好ましく
は、最終的に被覆された基板支持層は、エンドレスの可
撓性ベルトの形状を有する。電子写真撮像ベルト中の基
板層に対して他の材料を利用する試みは、困難に直面し
てきた。例えば、ポリエーテルアミドまたはフッ化ビニ
リデン（例えば、カイナ（Ｋｙｎａｒ））を含む基板
は、簡単には溶着できないので、感光体基板としてそれ
ほど好ましくない。ポリエーテルスルホンのベルト基板
は、被覆された被覆剤層に用いられる塩化メチレン溶剤
などの溶剤により悪影響を受ける。

【００２６】チタン層および任意のジルコニウム層は、
真空蒸着などの適するいずれの技術によっても形成する
ことが可能である。一般的な真空蒸着技術には、スパッ
タリング、マグネトロンスパッタリングおよびＲＦスパ
ッタリングなどが挙げられる。基板上へのチタンまたは
ジルコニウムのマグネトロンスパッタリングは、高純度
のチタンまたはジルコニウムターゲットを用いて、アル
ゴン、ネオンまたは窒素などの不活性雰囲気中において
真空条件下で従来タイプのスパッタリングモジュールに
より行うことができる。真空条件は特には重要ではな
い。一般に、連続のチタンまたはジルコニウム被覆は、
適する基板、例えば、イーアイデュポン・ド・ヌムール
（Ｅ．Ｉ．ＤｕＰｏｎｔ Ｄｅ Ｎｅｍｏｕｒｓ ＆ Ｃ
ｏ．）から入手できるマイラー（Ｍｙｌａｒ）などのポ
リエステルウェブ基板上にマグネトロンスパッタリング
で達成できる。真空蒸着条件をすべて変更して、チタン
またはジルコニウムの必要な厚みを得ることができるこ
とが理解されるべきである。

【００２７】導電層は、好ましくは、少なくとも５０重
量％のジルコニウムを含む最も外側の金属層（すなわ
ち、電荷遮断層に最も近い層）を有する複数の金属層か
ら成る。これより更に良好な結果を得るために、最も外
側の金属層中には少なくとも７０重量％のジルコニウム
が存在することが好ましい。多層は、例えば、すべて真
空蒸着することができ、もしくはキャスティングなどの
異なった技術により作成された厚い層の上に薄層を真空
蒸着することができる。従って、例示として、ジルコニ
ウム金属層は、チタン金属層を前に蒸着するために用い
た装置でなく別の装置で形成することができ、もしく
は、多層は、チタン層を蒸着するために利用したチャン
バとジルコニウム層を蒸着するために利用したチャンバ
との間に適する仕切を有する同じ装置で蒸着することが
できる。チタン層は、ジルコニウム金属層の蒸着の直前
に蒸着することができる。一般に、後方消去露光（rear
eraseexposure）の場合、少なくとも約１５％の導電層
の光透過性が好ましい。２層の導電層の総厚みは、約１
００〜約３００オングストロームの間であることが望ま
しい。一般的なジルコニウム／チタン二重導電層は、約
２００オングストロームの合計総厚みを有する。より厚
い層が利用できるが、経済的配慮および透過性の問題は
厚みの選択に影響する。

【００２８】チタン層またはジルコニウム層を形成する
ために用いられる技術に関係なく、空気にさらされる
と、酸化チタンまたは酸化ジルコニウムの薄層が金属の
外面上に形成される。従って、ジルコニウム層上の他の
層が「隣接」層として特徴づけられる場合、これらの隣
接した上層は、実際に、金属層の外面上に形成される酸
化チタン薄層または酸化ジルコニウム薄層に接触しうる
ことが考慮される。ジルコニウムから成る接地平面は、
電流の通過により生じる陽極酸化のために電子写真サイ
クル繰返し中に連続的に酸化しやすく、この酸化層が存
在すると、電子写真サイクルを繰返すにつれて、電荷不
足スポットのレベルを減少させる傾向がある。電子写真
サイクル繰返し中に電荷不足スポットを最適にできがた
くするよう維持するために、一般に、少なくとも約６０
オングストロームのジルコニウム層の厚みが望ましい。
低速複写機の電子写真撮像部材における導電層に対する
一般的な導電率は、約１０²〜１０³ｏｈｍ／ｓｑｕａｒ
ｅである。

【００２９】少なくともチタン金属層の被覆後、ホール
遮断層はチタン金属層に被覆される。一般に、正に帯電
された感光体における電子遮断層のために、感光体の最
上部における電荷発生層中の光発生されたホールは、電
荷（ホール）輸送層に向かって下に移動することがで
き、電子写真撮像プロセス中に最下部の導電層に達する
ことができる。従って、電子遮断層は、通常、電荷（ホ
ール）輸送層上に電荷発生層で被覆された感光体などの
正に帯電された感光体中でホールを遮断することは期待
されない。負に帯電された感光体の場合、隣接光導電層
とジルコニウム下層またはチタン下層との間でホールに
対する電子バリアを形成することが可能な適するいずれ
のホール遮断層も利用できる。ホール遮断層は、適する
いずれの材料からも構成することができる。負に帯電さ
れた感光体のために利用される一般的なホール遮断層に
は、Ｌｕｃｋａｍｉｄｅなどのポリアミド、ヒドロキシ
アルキルメタクリレート、ナイロン、ゼラチン、ヒドロ
キシルアルキルセルロース、オルガノポリホスファジ
ン、オルガノシラン、有機チタネート、有機ジルコネー
ト、酸化シリコンおよび酸化ジルコニウムなどが挙げら
れる。好ましくは、ホール遮断層は窒素含有シロキサン
から成る。一般的な窒素含有シロキサンは、加水分解さ
れたシランを含む被覆剤溶液から調製される。一般的な
加水分解可能なシランには、３−アミノプロピルトリエ
トキシシラン、（Ｎ，Ｎ −ジメチル−３−アミノ）プ
ロピルトリエトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノフ
ェニルトリエトキシシラン、Ｎ−フェニルアミノプロピ
ルトリメトキシシラン、トリメトキシシリルプロピルジ
エチレントリアミンおよびそれらの混合物が挙げられ
る。

【００３０】上述したアミノシランの加水分解中に、ア
ルコキシ基は、ヒドロキシル基に置換される。特に好ま
しい遮断層は、加水分解されたシランと酸化ジルコニウ
ム層および／または酸化チタン層との間の反応生成物か
ら成る。この反応生成物は、被覆後に空気にさらされる
と金属層の表面に本質的に生成する。この複合層は、時
間０でスポットを減少させ、低いＲＨで電気的安定性を
提供する。撮像部材は、約４〜約１０の間のｐＨにおい
て、加水分解されたシラン水溶液の被覆剤を酸化ジルコ
ニウム層および／または酸化チタン層上に被覆し、その
反応生成物層を乾燥してシロキサン被膜を形成させると
共に、光発生剤層およびホール輸送層などの電気的作用
層をそのシロキサン被膜に被覆することにより作成され
る。

【００３１】遮断層は、噴霧、浸漬被覆、引張棒被覆、
グラビア被覆、シルクスクリーン、エアナイフ被覆、リ
バースロール被覆、真空蒸着および化学処理などの適す
るいずれの従来技術によっても被覆することができる。
薄層を得るのに都合がよいように、遮断層は、好ましく
は希釈溶液の形で被覆される。この場合、溶媒は、真空
および加熱などの従来技術により被覆剤の被覆後に除去
される。このシロキサン被覆剤は、米国特許第４，４６
４，４５０号に記載されている。乾燥後、加水分解され
たシランから形成されたシロキサン反応生成物被膜は、
より大きな分子を含む。加水分解されたシランの反応生
成物は直鎖で部分的に架橋したダイマーおよびトリマー
などである可能性がある。

【００３２】シロキサン遮断層は、連続であると共に約
０．５マイクロメートル未満の厚みを有することが望ま
しい。これより大きな厚みによって、好ましくない高い
残留電圧が生じる可能性があるからである。約０．００
５マイクロメートル〜約０．３マイクロメートルの間
（５０オングストローム〜３０００オングストローム）
の遮断層が好ましい。それは、露光ステップ後に電荷中
和が促進され、最適な電気性能が達成されるからであ
る。約０．０３マイクロメートル〜約０．０６マイクロ
メートルの間の厚みは、最適な電気的挙動および電荷不
足スポットの発生と増大の抑制のために、酸化ジルコニ
ウム層および／または酸化チタン層に対して好ましい。

【００３３】接着層は電荷遮断層に被覆される。接着層
は、適するいずれの皮膜形成ポリマーから成ってもよ
い。一般的な接着層材料には、例えば、コポリエステル
樹脂、ポリアリレート、ポリウレタンおよび樹脂の配合
物などが挙げられる。

【００３４】好ましいコポリエステル樹脂は、４種の二
酸とエチレングリコールとの直鎖飽和コポリエステル反
応生成物である。コポリエステル中の二酸のエチレング
リコールに対するモル比が１：１であるこの直鎖飽和コ
ポリエステルの分子構造は、以下の通りである。二酸は
テレフタル酸、イソフタル酸、アジピン酸およびアゼラ
イン酸である。テレフタル酸対イソフタル酸対アジピン
酸対アゼライン酸のモル比は４：４：１：１である。こ
の構造の代表的な直鎖飽和コポリエステル接着促進剤
は、Ｍｏｒ−Ｅｓｔｅｒ ４９，０００（モートンイン
ターナショナル（Ｍｏｒｔｏｎ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏ
ｎａｌ Ｉｎｃ．）から入手でき、以前はデュポン・ド
・ヌムール（ｄｕＰｏｎｔ ｄｅ Ｎｅｍｏｕｒｓ ＆ Ｃ
ｏ．）から入手できた）として商業的に入手できる。Ｍ
ｏｒ−Ｅｓｔｅｒ ４９，０００は、エチレングリコー
ルと上述の比の４種のランダム配列二酸との交互モノマ
ーユニットから成り、約７０，０００の重量平均分子量
を有する直鎖飽和コポリエステルである。この直鎖飽和
コポリエステルは、約３２℃のＴｇを有する。好ましい
もう１つの代表的なポリエステル樹脂は、テレフタル
酸、イソフタル酸およびそれらの混合物を含む群から選
ばれた二酸と、エチレングリコール、２，２−ジメチル
プロパンおよびそれらの混合物を含む群から選ばれたジ
オールとから誘導されたコポリエステル樹脂である。二
酸のジオールに対する比は１：１である。コポリエステ
ル樹脂のＴｇは約５０℃〜約８０℃との間である。一般
的なポリエステル樹脂は商業的に入手でき、例えば、Ｖ
ｉｔｅｌ ＰＥ−１００、ＶｉｔｅｌＰＥ−２００、Ｖ
ｉｔｅｌ ＰＥ−２００ＤおよびＶｉｔｅｌ ＰＥ−２２
２が挙げられ、これらすべてはグッドイヤータイヤ・ア
ンド・ラバー（Ｇｏｏｄｙｅａｒ Ｔｉｒｅ ａｎｄ Ｒ
ｕｂｂｅｒ Ｃｏ．）から入手できる。

【００３５】もう１つのポリエステル樹脂はＶｉｔｅｌ
ＰＥ−２００であり、これはグッドイヤータイヤ・ア
ンド・ラバー（Ｇｏｏｄｙｅａｒ Ｔｉｒｅ ａｎｄ Ｒ
ｕｂｂｅｒ Ｃｏ．）から入手できる。このポリエステ
ル樹脂は、２種の二酸と２種のジオールとの直鎖飽和コ
ポリエステルであり、コポリエステル中の二酸のジオー
ルに対する比は１：１である。二酸はテレフタル酸とイ
ソフタル酸である。テレフタル酸のイソフタル酸に対す
る比は１．２：１である。２種のジオールは、エチレン
グリコールと２，２−ジメチルプロパンジオールであ
る。エチレングリコールの２，２−ジメチルプロパンジ
オールに対する比は１．３３：１である。Ｇｏｏｄｙｅ
ａｒ ＰＥ−２００直鎖飽和コポリエステルは、上述の
比の２種の二酸と２種のジオールとのランダム交互モノ
マーユニットから成り、約４５，０００の重量平均分子
量および約６７℃のＴｇを有する。

【００３６】あるいは、接着界面層は、ポリアクリレー
ト（アモコ・パーフォーマンス・プロダクツ（Ａｍｏｃ
ｏ Ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ Ｐｒｏｄｕｃｔｓ，Ｉｎ
ｃ．から入手できる）、ポリウレタンまたはこれらのポ
リマーのカルバゾールポリマーとのポリマーブレンドか
ら成ってもよい。接着層は公知であり、例えば、米国特
許第５，５７１，６４９号、第５，５９１，５５４号、
第５，５７６，１３０号、第５，５７１，６４８号、第
５，５７１，６４７号および第５，６４３，７０２号に
記載されている。

【００３７】接着層被覆剤溶液を生成するために、適す
るいずれの溶媒も用いることができる。一般的な溶媒に
は、テトラヒドロフラン、トルエン、ヘキサン、シクロ
ヘキサン、シクロヘキサノン、塩化メチレン、１，１，
２−トリクロロエタン、モノクロロベンゼンなどおよび
それらの混合物が挙げられる。接着層被覆剤を被覆する
ために、適するいずれの技術も利用することができる。
一般的な被覆技術には、押出被覆、グラビア被覆、噴霧
被覆、巻線棒被覆などが挙げられる。接着層は連続であ
ることが望ましい。乾燥後に接着層が約０．０３マイク
ロメートル〜約２マイクロメートルとの間の厚みを有す
る時、満足な結果が達成される。好ましくは、乾燥後の
厚みは、約０．０５マイクロメートル〜約１マイクロメ
ートルの間である。

【００３８】本発明の感光体の電荷発生層は、皮膜形成
結合剤中に分散された適するいずれの光導電粒子も含
む。一般的な光導電粒子には、例えば、無金属フタロシ
アニン、銅フタロシアニン、チタニルフタロシアニン、
ヒドロキシガリウムフタロシアニンおよびバナジルフタ
ロシアニンなどのフタロシアニン類、ベンズイミダゾー
ルペリレンなどのペリレン類、三方晶セレン、キナクド
リン類、飽和２，４−ジアミノ−トリアジン類、多環式
芳香族キノン類などが挙げられる。特に好ましい光導電
粒子には、ヒドロキシガリウムフタロシアニン、ベンズ
イミダゾールペリレンおよび三方晶セレンが挙げられ
る。

【００３９】一般的なペリレン顔料粒子には、以下のシ
スおよびトランス構造およびそれらの混合構造により表
されるペリレン類が挙げられる。

【００４０】

【化１】 ここで、Ｘはｏ−ペリレン、ピリジンジイル、ピリミジ
ンジイル、フェナントレンジイル、ナフタレンジイル、
ならびに対応するメチル、ニトロ、シクロおよびメトッ
ク（methoch）置換誘導体である。

【００４１】ペリレン顔料が、ビス（ベンズイミダゾー
ル）とも呼ばれるベンズイミダゾールペリレンであるこ
とが好ましい。この顔料は、シス型、トランス型および
これらの混合型をとって存在する。シス型は、ビス−ベ
ンズイミダゾ（２，１−ａ−１'，１'−ｂ）アントラ
（２，１，９−ｄｅｆ：６，５，１０−ｄ'ｅ'ｆ'）ジ
ソキノリン−６，１１−ジオンとも呼ばれる。トランス
型は、ビス−ベンズイミダゾ（２，１−ａ−１ ，１ −
ｂ）アントラ（２，１，９−ｄｅｆ：６，５，１０−ｄ
ｅ ｆ ）ジソキノリン−１０，２１−ジオンとも呼ば
れる。シス型は以下の化学式で表すことができる。

【００４２】

【化２】 トランス型は以下の化学式で表すことができる。

【００４３】

【化３】 ベンズイミダゾールペリレン顔料は、ペリレン３，４，
９，１０−テトラカルボン酸二無水物を１，２−フェニ
レンと反応させることにより調製することができる。

【００４４】ベンズイミダゾールペリレンは、約１マイ
クロメートル未満の平均粒子サイズを有する微粒子に粉
砕され、ポリ（４，４'−ジフェニル−１，１'−シクロ
ヘキサンカーボネート）の好ましいポリカルボネート皮
膜形成結合剤中に分散される。最適な結果は、約０．２
マイクロメートル〜約０．３マイクロメートルの間の顔
料粒子サイズで達成される。ベンズイミダゾールペリレ
ンは、米国特許第５，０１９，４７３号および米国特許
第４，５８７，１８９号に記載されている。

【００４５】電荷発生層の中では、適するいずれの皮膜
形成結合剤材料を用いてもよい。一般的な有機樹脂結合
剤には、例えば、ポリビニルブチラール、ポリカーボネ
ート、アクリレートポリマー、ビニルポリマー、セルロ
ースポリマー、ポリエステル、ポリシロキサン、ポリア
ミド、ポリウレタンおよびエポキシなどが挙げられる。
多くの皮膜形成結合剤は、例えば、米国特許第３，１２
１，００６号および米国特許第４，４３９，５０７号に
開示されている。光発生粒子は、種々の量で皮膜形成結
合剤中に存在する。好ましい皮膜形成ポリマーには、ポ
リ（４，４'−ジフェニル−１，１'−シクロヘキサンカ
ーボネート）およびポリスチレン／ポリビニルピリジン
コポリマーが挙げられる。ポリスチレン／ポリビニルピ
リジンコポリマーには、例えば、約７，０００から約８
０，０００、更に好ましくは約１０，５００から約４
０，０００の重量平均分子量を有するポリスチレン／ポ
リ−４−ビニルピリジンのＡＢブロックコポリマーが挙
げられる。この場合、ビニルピリジンの百分率は、約５
から約５５、好ましくは約９から約２０である。ポリス
チレン／ポリビニルピリジンコポリマーのブロックコポ
リマーは当該技術分野で公知であり、例えば、米国特許
第５，３８４，２２３号、米国特許第５，４８４，２２
３号および米国特許第５，５７１，６４９号に記載され
ている。電気的寿命は、ポリ（４，４'−ジフェニル−
１，１'−シクロヘキサンカーボネート）皮膜形成結合
剤の使用により劇的に改善される。ポリ（４，４'−ジ
フェニル−１，１'−シクロヘキサンカーボネート）
は、以下の化学式で表される繰返しユニットを有する。

【００４６】

【化４】 ここで、化学式中の「Ｓ」は飽和を表す。好ましくは、
電荷発生層のための皮膜形成ポリカーボネート結合剤
は、約２０，０００〜約１４０，０００の間の重量平均
分子量を有する。乾燥された電荷発生層がその全体積に
基づいてポリ（４，４'−ジフェニル−１，１'−シクロ
ヘキサンカーボネート）中に分散された約２０％〜約９
０体積％の間のベンズイミダゾールペリレンを含む時、
満足な結果を達成することができる。好ましくは、ペリ
レン顔料は、約３０％〜約８０体積％の間の量で存在す
る。最適な結果は、約３５％〜約４５体積％の間の量で
達成される。ポリ（４，４'−ジフェニル−１，１'−シ
クロヘキサンカーボネート）は、感光性を極端に失わず
にペリレン顔料被覆量の削減を可能にする。

【００４７】皮膜形成結合剤を溶解するために、適する
いずれの溶媒も利用することができる。一般的な溶媒に
は、例えば、テトラフドロフラン、トルエンおよび塩化
メチレンなどが挙げられる。テトラフドロフランは電子
写真に識別可能な悪影響を及ぼさないことと、一般的な
スロット被覆プロセス中に発生剤層の適切な乾燥を可能
にする最適な沸点を有するために好ましい。電荷発生層
のための被覆剤分散液は、例えば、摩砕機、ボールミ
ル、Ｄｙｎｏｍｉｌｌ、塗料振盪機、ホモジナイザおよ
びミクロ流動化装置などを用いる適するいずれの技術に
よっても生成させることができる。

【００４８】被覆された被覆剤を固化し乾燥するため
に、適するいずれの乾燥技術を利用してもよい。一般的
な乾燥技術には、オーブン乾燥、強制空気乾燥および赤
外線照射乾燥などが挙げられる。

【００４９】満足な結果は、約０．３マイクロメートル
〜約３マイクロメートルの間の乾燥電荷発生層の厚みで
達成することができる。好ましくは、電荷発生層は、約
１．１マイクロメートル〜約２マイクロメートルの間の
乾燥厚みを有する。

【００５０】適するいずれの電荷輸送層も利用すること
ができる。活性電荷輸送層は、非高分子材料の適するい
ずれの透明有機ポリマーから成ることができる。但し、
透明有機ポリマーは、光発生されたホールおよび電子の
電荷発生層からの注入を持続させることが可能であると
共に、有機層を通してこれらのホールまたは電子を輸送
して、選択的に表面電荷を放電させることを可能にする
ものである。本発明における発生層と共同する電荷輸送
層は、輸送層に存在する静電荷が照射無しには伝導しな
いほどに絶縁体である材料である。従って、活性電荷輸
送層は、光発生されたホールの発生層からの注入を持続
させる実質的に非光導電材料である。

【００５１】本発明の多層光導電体中の２つの電気的作
用層の一方に用いられる特に好ましい輸送層は、約２５
から約７５重量％の少なくとも１つの電荷輸送芳香族ア
ミン化合物と、芳香族アミンが可溶の約７５から約２５
重量％の高分子皮膜形成樹脂とから成る。その全重量に
基づいて約４０％〜約５０重量％の間の小さい分子の電
荷輸送分子を含む乾燥された電荷輸送層が好ましい。

【００５２】電荷輸送層形成混合物は、好ましくは芳香
族アミン化合物から成る。最も好ましくは、電荷輸送層
は、ポリカーボネート中に溶解または分子的に分散した
アリールアミン小分子から成る。一般的な芳香族アミン
化合物には、トリフェニルアミン、ビスおよびポリトリ
アリールアミン、ビスアリールアミンエーテルおよびビ
スアルキルアリールアミンなどが挙げられる。

【００５３】電荷発生層の光発生されたホールの注入を
持続させる共に、そのホールを電荷輸送層を通して輸送
することが可能な電荷輸送層のための電荷輸送芳香族ア
ミンの例には、不活性樹脂結合剤中に分散した、例え
ば、トリフェニルメタン、ビス（４−ジエチルアミン−
２−メチルフェニル）フェニルメタン、４'，４"−ビス
（ジエチルアミノ）−２'，２"−ジメチルトリフェニル
メタン、アルキルが例えば、メチル、エチル、プロピ
ル、ｎ−ブチルなどであるＮ，Ｎ'−ビス（アルキルフ
ェニル）−[１，１'−ビフェニル]−４，４'−ジアミ
ン、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（シクロフ
ェニル）−［１，１’−ビフェニル］−４，４’−ジア
ミンおよびＮ，Ｎ'−ジフェニル−Ｎ，Ｎ'−ビス（３"
−メチルフェニル）−（１，１'−ビフェニル）−４，
４'−ジアミンなどが挙げられる。

【００５４】塩化メチレンまたはその他の適する溶媒に
可溶の適するいずれの不活性樹脂結合剤も本発明のプロ
セスにおいて用いることができる。塩化メチレンに可溶
の一般的な不活性樹脂結合剤には、ポリカーボネート樹
脂、ポリビニルカルバゾール、ポリエステル、ポリアリ
レート、ポリアクリレート、ポリエーテルおよびポリス
ルホンなどが挙げられる。重量平均分子量は、約２０，
０００から約１，５００，０００まで異なることが可能
である。

【００５５】好ましい電気的不活性樹脂材料は、約２
０，０００から約１２０，０００、更に好ましくは、約
５０，０００から約１００，０００の分子量を有するポ
リカーボネート樹脂である。電気的不活性樹脂材料とし
て最も好ましい材料は、ゼネラルエレクトリック（Ｇｅ
ｎｅｒａｌ Ｅｌｅｃｔｒｉｃ Ｃｏｍｐａｎｙ）からＬ
ｅｘａｎ １４５として入手できる約３５，０００から
約４０，０００の分子量を有するポリ（４，４'−ジプ
ロピリデン−ジフェニレンカーボネート）、ゼネラルエ
レクトリック（Ｇｅｎｅｒａｌ Ｅｌｅｃｔｒｉｃ Ｃｏ
ｍｐａｎｙ）からＬｅｘａｎ １４１として入手できる
約４０，０００から約４５，０００の分子量を有するポ
リ（４，４'−イソプロピリデン−ジフェニレンカーボ
ネート）、ファーベンファブリッケン・バエイル（Ｆａ
ｒｂｅｎｆａｂｒｉｃｋｅｎ Ｂａｙｅｒ Ａ．Ｇ．）か
らＭａｋｒｏｌｏｎとして入手できる約５０，０００か
ら約１００，０００の分子量を有するポリカーボネート
樹脂、モベイ・ケミカルカンパニイ（Ｍｏｂａｙ Ｃｈ
ｅｍｉｃａｌ Ｃｏｍｐａｎｙ）からＭｅｒｌｏｎとし
て入手できる約２０，０００から約５０，０００の分子
量を有するポリカーボネート樹脂および三菱ガス化学
（Ｍｉｔｓｕｂｉｓｈｉ Ｇａｓ Ｃｈｅｍｉｃａｌ）か
らＰＣＺ−２００として入手できるポリ（４，４'−ジ
フェニル−１，１'−シクロヘキサンカーボネート））
である。

【００５６】電荷発生層およびジアミン含有輸送層を含
む少なくとも２つの電気的作用層を有する感光部材の例
は、米国特許第４，２６５，９９０号、米国特許第４，
２３３，３８４号、米国特許第４，３０６，００８号、
米国特許第４，２９９，８９７号および米国特許第４，
４３９，５０７号に開示されている。

【００５７】電荷輸送層被覆剤混合物を混合し、その後
電荷発生層に被覆するために、適するいずれの従来技術
も利用することができる。一般的な被覆技術には、噴
霧、浸漬被覆、ロール被覆および巻線棒被覆などが挙げ
られる。被覆された被覆剤の乾燥は、オーブン乾燥、赤
外線照射乾燥および空気乾燥などの適するいずれの従来
技術によっても行うことができる。ポリエチレンナフタ
レート基板を含む被覆された感光体は、ポリエチレンテ
レフタレート基板を含む被覆された感光体より高い乾燥
温度で乾燥することができる。光導電層、特に電荷輸送
層を乾燥するためにより高い乾燥温度を用いると、感光
体における応力を低下させ、カールしにくいより平らな
感光体を促進する。ポリエチレンテレフタレート基板を
含む感光体ベルトは、高温被覆剤乾燥操作中に変形しが
ちである。これは被覆されたウェブの反りおよび最終溶
着感光体ベルトの円錐に影響する。しかし、ポリエチレ
ンナフタレート基板を含む被覆された感光体ウェブは、
ポリエチレンテレフタレート基板を含む被覆された感光
体ウェブよりずっと高温で乾燥することができる。一般
に、ポリエチレンテレフタレート基板を含む感光体ウェ
ブに被覆された被覆剤は、約１３５℃の温度で乾燥され
る。従って、これより高い温度による被覆剤乾燥条件を
利用する場合でさえ、ポリエチレンナフタレート基板を
含む感光体は、検出可能な変形がないことから、反対端
に比較して被覆されたウェブの一端における収縮に起因
する反りおよび円錐の問題を回避する。例えば、１３５
℃の感光体乾燥温度におけるポリエチレンナフタレート
とポリエチレンテレフタレートの収縮の測定値におい
て、収縮で４倍の改善および反りで４倍の減少が得られ
た。一般に、輸送層の厚みは、約５マイクロメートル〜
１００マイクロメートルの間であるが、この範囲外の厚
みも用いることができる。約１８マイクロメートル〜約
３５マイクロメートルの間の乾燥後の厚みは好ましく、
最適な結果は約２４マイクロメートル〜約２９マイクロ
メートルの間の厚みで達成される。

【００５８】ポリエチレンテレフタレート基板層を有す
る感光体上に形成された電荷輸送層は波模様に似た外面
を有するが、驚くべきことに、ポリエチレンナフタレー
ト基板に被覆された電荷輸送層の外面上の波のサイズ
は、ポリエチレンテレフタレート基板に被覆されたもの
よりずっと小さい。７６マイクロメートル（３ｍｉｌ）
の厚みを有するポリエチレンテレフタレート基板上の電
荷発生層に被覆された電荷輸送層の表面上の波の山対谷
距離は、３００マイクロメートルから６００マイクロメ
ートルである。９０マイクロメートル（３．５ｍｉｌ）
の厚みを有するポリエチレンナフタレート基板上に維持
された電荷発生層に被覆された電荷輸送層の表面上の波
の基板の表面に垂直な方向で測定された山対谷距離は、
約３０から約１５０マイクロメートルにすぎない。７６
マイクロメートル（３ｍｉｌ）の厚みを有するポリエチ
レンナフタレート基板を含む感光体における電荷輸送層
の外面上の山対谷距離は、約１００から約２５０マイク
ロメートルである。従って、本発明の感光体の外面上の
波模様は振幅が実質的により小さい。

【００５９】例えば、皮膜形成結合剤中に配置された導
電粒子から成る従来の接地片などのその他の層は、ジル
コニウム層および／またはチタン層、遮断層、接着層ま
たは電荷発生層と接触している状態で感光体の一端に被
覆することができる。

【００６０】耐摩耗性を改善するために、保護層も任意
に利用することができる。場合によっては、平面性およ
び／または耐摩耗性を与えるために、裏面被覆剤も感光
体の裏面側に被覆することができる。これらの保護層お
よび裏面被覆層は、電気的に絶縁性または若干半導電性
の有機ポリマーまたは無機ポリマーから成ることができ
る。

【００６１】一般に、感光体は、ウェブ形状の基板に被
覆剤を被覆することにより製作され、得られた被覆ウェ
ブはシートに切断される。その後、シートの反対側の両
端は、超音波溶着などの適するいずれかの技術により接
合される。必要ならば、接合は接着剤およびテープなど
のその他の方法により行ってもよい。これらの接合技術
は、当該技術分野で公知である。一般的な溶着プロセス
は米国特許第４，８７８，９８５号に記載されている。
溶着されたベルトは、任意に、継目領域に応力を解放す
るように処理することができる。応力の解放は、ベルト
の継目領域を正確な表面を有する支持体に折り返しなが
ら、ガラス転移温度より高い温度にベルトの継目領域を
加熱することにより達成することができる。加熱後、継
目を支持体になお折り返しながら室温に冷却する。本発
明のベルトの最初の矩形平面を有する形状が実質的にそ
のまま維持され、被覆中、乾燥中および溶着操作中の反
りが回避されるため、ベルトの円錐は厳密に予測するこ
とができる。従って、本発明の電子写真撮像ベルトは、
ポリエチレンテレフタレート基板で製作されたベルトよ
り、著しく小さい円錐差で製作することができる。本発
明のベルトは、ベルトの一端から他端までの大きな円錐
差を補償する主要な調節を要することなく、電子写真撮
像複写機、プリンタおよび複製機に取り付けることがで
きる。従って、例えば、８７．５マイクロメートル
（３．５ｍｉｌ）の厚みを有する本発明のポリエチレン
ナフタレート基板は、電子写真撮像システムにおいて６
００，０００回を超える電子写真撮像サイクルを電子写
真によって繰返された。

【００６２】機械的特性の達成された改善の幾つかに
は、平面性の向上、伸びまたは変形に耐える弾性率の向
上、溶着継目の平面性の向上が挙げられる。従って、例
えば、ベルトが支持棒で支持される時、より平らであ
る。更に、被覆されたウェブの大きな区域は反りが減少
しているため、一定の区域が切断され反対側の両端が一
緒に溶着された後、より均一な円錐である（すなわち、
ウェブの幅全体にわたるより均一な円周）。本発明の感
光体における層の組合せにより、約３００マイクロメー
トル以下の平面度を達成することができる。この平面度
を測定する測定技術は、以下の実施例ＶＩに記載する。
また、本発明の撮像部材の感光体の収縮は、３０分間１
３０℃の温度にさらされた時、縦方向に約０．５％未満
である。本願において用いる「縦方向」という表現は、
電子写真画像サイクル繰返し中の感光体の移動に対して
平行な方向として定義される。

【００６３】ポリエチレンナフタレートを基板として用
いる場合、感光体ベルトは、平面度が改善されており、
ベルト上の感光体層の厚みは均一性が改善されている。
本発明のポリエチレンナフタレート基板中のオリゴマー
がより少ないので、被覆された光導電被覆剤中の欠陥が
より少なくなっており、欠陥の減少につながっていると
考えられる。ポリエチレンテレフタレート基板を含む感
光体ベルトは、高温での被覆剤の乾燥操作中に変形しが
ちである。これは被覆されたウェブの反りおよび最終的
に溶着された感光体ベルトの円錐に悪影響を及ぼす。し
かし、ポリエチレンナフタレート基板を含む被覆された
感光体ウェブは、ポリエチレンテレフタレート基板を含
む被覆された感光体ウェブよりずっと高温で乾燥するこ
とができる。従って、より高い温度による被覆剤乾燥条
件が利用される時でさえ、ポリエチレンナフタレート基
板を含む感光体は、検出可能な変形がないことから、反
対端に比較して被覆されたウェブの一端における収縮に
起因する反りおよび円錐の問題を回避する。更に、３か
ら５ｍｉｌの厚みのポリエチレンナフタレート基板の場
合、機械的寿命が改善される。加えて、許容可能な機械
的特性を有する溶着継目を達成するために必要な動力は
少なくてすむ。更に、本発明のポリエチレンナフタレー
ト基板感光体は、高温環境を発生する電子写真撮像シス
テムにおいて利用することができる。高温環境を発生す
る電子写真撮像システムには、より迅速な最初のコピー
出力のために必要なより短い定着時間を達成するために
定着温度を劇的に上げる迅速な最初のコピー出力機能を
有する撮像システムなどがある。ポリエチレンテレフタ
レート基板を含む感光体ベルトを平にするためには、一
般に、高いベルト張力が必要である。これらの高い張力
は、特に高温において感光体の電荷輸送層を損傷させ
る。本発明のポリエチレンナフタレート基板を含む感光
体の場合、平らなベルトを達成するために張力は小さく
てよいので、またこうした小さい張力が伸びの可能性を
低下させるので、電荷輸送層はいっそう損傷しにくい。
また、本発明のポリエチレンナフタレート基板を含むベ
ルト感光体がより平らなので、その上の被覆剤はいっそ
う均一であり、静電荷の付き具合は一層均一であると共
に、最終画像はより均一である。更に、本発明のポリエ
チレンナフタレート基板上の被覆剤は、表面欠陥がより
少ない。従って、静電潜像のより完全な現像および付着
したトナー画像のより完全な転写は、本発明のポリエチ
レンナフタレート基板を含む感光体によって達成され
る。本発明のポリエチレンナフタレート基板に被覆され
た電荷輸送層の外面の波多発特性がポリエチレンテレフ
タレート基板に被覆されたものよりずっと小さいことも
想像しなかったことである。ポリエチレンテレフタレー
ト基板ベルトと異なって、本発明のポリエチレンナフタ
レート基板ベルトは、高張力且つ高温操作条件下で収縮
しがたく且つ伸びにくい。

【００６４】

【実施例】比較例Ｉ ７６マイクロメートルの厚みを有するポリエチレンテレ
フタレート基板（アイシーアイ・アメリカズ（ＩＣＩ
Ａｍｅｒｉｃａｓ Ｉｎｃ．）から入手できるＭｅｌｉ
ｎｅｘ）基板を、スパッタリングにより約１００オング
ストロームの厚みを有するチタン層で真空被覆した。真
空を保って、約１００オングストロームの厚みを有する
ジルコニウム金属層をスパッタリングすることによりこ
のチタン層を被覆した。周囲大気において酸素にさらさ
れることにより、露出されたジルコニウム表面は酸化さ
れた。ジルコニウム層の酸化された表面に３−アミノプ
ロピルトリエトキシルシランの０．２２％（０．００１
モル）溶液をグラビア被覆機で被覆することにより、シ
ロキサンホール遮断層を作成した。被覆された被覆剤を
強制空気オーブン中において１３５℃で乾燥し、１２０
オングストロームの厚みを有する層を形成した。ポリエ
ステル樹脂（デュポン・ド・ヌムール（Ｉ．Ｉ．ＤｕＰ
ｏｎｔ ｄｅ Ｎｅｍｏｕｒｓ ＆ Ｃｏ．）から入手でき
るｄｕＰｏｎｔ４９，０００）の被覆剤をシロキサン被
覆下地にグラビア被覆機で被覆した。ポリエステル樹脂
を乾燥して約０．０５マイクロメートルの厚みを有する
皮膜を形成した。テトラヒドロフラン中に分散された４
０体積％のベンズイミダゾールペリレンと６０体積％の
ポリ（４，４'−ジフェニル−１，１'−シクロヘキサン
カーボネート）（三菱ガス化学（Ｍｉｔｓｕｂｉｓｈｉ
Ｇａｓ Ｃｈｅｍｉｃａｌ）から入手できるＰＣＺ−２
００）のスラリー被覆剤溶液をポリエステル被覆剤上に
押出で被覆し、約２６マイクロメートルの湿り厚みを有
する層を形成した。被覆された部材を強制空気オーブン
内において１３５℃で乾燥して、約１マイクロメートル
の厚みを有する層を形成した。電荷輸送層をこの電荷発
生層上に形成した。それは、６０−４０重量％溶液のフ
ァーベンファブリッケン・バエイル（Ｆａｒｂｅｎｆａ
ｂｒｉｃｋｅｎ Ｂａｙｅｒ Ａ．Ｇ．）から入手できる
約５０，０００から約１００，０００の分子量を有する
ポリカーボネート樹脂、Ｍａｋｒｏｌｏｎと、塩化メチ
レン中に溶解されて１５重量％溶液となっているＮ，
Ｎ'−ジフェニル−Ｎ，Ｎ'−ビス（３−メチルフェニ
ル）−[１，１'−ビフェニル]−４，４ −ジアミンとの
混合物を被覆することにより行った。両成分を発生層の
上に押出で被覆し、約１３５℃の温度で乾燥して、ホー
ル輸送材料の２４マイクロメートルの厚みの乾燥層を形
成した。接地片被覆剤および耐カール裏面被覆剤も被覆
した。その後、この感光体を切断し、従来の超音波溶着
により溶着して連続ベルトを形成した。このベルトは幅
が３５３ミリメートルで、円周が８３６ミリメートルで
あった。

【００６５】実施例II 光導電撮像部材を比較例Ｉに記載した通り作成した。但
し、比較例Ｉとは、７６マイクロメートルの厚みを有す
るチタンおよびジルコニウム被覆されたポリエチレンテ
レフタレート（アイシーアイ・アメリカズ（ＩＣＩ Ａ
ｍｅｒｉｃａｓＩｎｃ．）から入手できるＭｅｌｉｎｅ
ｘ）基板のウェブを７６マイクロメートルの厚みを有す
るチタンおよびジルコニウム被覆されたポリエチレンナ
フタレート（アイシーアイ・フィルムズ（ＩＣＩ Ｆｉ
ｌｍｓ）から入手できるＫａｌａｄｅｘ）基板のウェブ
で置き換えた点のみ異なる。ポリエチレンナフタレート
基板は実質的に全くオリゴマーを含まず、約１１０℃の
ガラス転移温度および８７１，０００ポンド／平方イン
チのヤング率を有していた。

【００６６】実施例III 光導電撮像部材を比較例Ｉに記載した通り作成した。但
し、比較例Ｉとは、７６マイクロメートルの厚みを有す
るチタンおよびジルコニウム被覆されたポリエチレンテ
レフタレート（アイシーアイ・アメリカズ（ＩＣＩ Ａ
ｍｅｒｉｃａｓＩｎｃ．）から入手できるＭｅｌｉｎｅ
ｘ）基板のウェブを９０マイクロメートルの厚みを有す
るチタンおよびジルコニウム被覆されたポリエチレンナ
フタレート（アイシーアイ・フィルムズ（ＩＣＩ Ｆｉ
ｌｍｓ）から入手できるＫａｌａｄｅｘ）基板のウェブ
で置き換えた点のみ異なる。ポリエチレンナフタレート
基板は実質的に全くオリゴマーを含まず、約１１０℃の
ガラス転移温度および８７１，０００ポンド／平方イン
チのヤング率を有していた。

【００６７】実施例IV 光導電撮像部材を比較例Ｉに記載した通り作成した。但
し、比較例Ｉとは、７６マイクロメートルの厚みを有す
るチタンおよびジルコニウム被覆されたポリエチレンテ
レフタレート（アイシーアイ・アメリカズ（ＩＣＩ Ａ
ｍｅｒｉｃａｓＩｎｃ．）から入手できるＭｅｌｉｎｅ
ｘ）基板のウェブを１００マイクロメートルの厚みを有
するチタンおよびジルコニウム被覆されたポリエチレン
ナフタレート（アイシーアイ・フィルムズ（ＩＣＩ Ｆ
ｉｌｍｓ）から入手できるＫａｌａｄｅｘ）基板のウェ
ブで置き換えた点のみ異なる。ポリエチレンナフタレー
ト基板は実質的に全くオリゴマーを含まず、約１１０℃
のガラス転移温度および８７１，０００ポンド／平方イ
ンチのヤング率を有していた。

【００６８】実施例Ｖ 光導電撮像部材を比較例Ｉに記載した通り作成した。但
し、比較例Ｉとは、７６マイクロメートルの厚みを有す
るチタンおよびジルコニウム被覆されたポリエチレンテ
レフタレート（アイシーアイ・アメリカズ（ＩＣＩ Ａ
ｍｅｒｉｃａｓＩｎｃ．）から入手できるＭｅｌｉｎｅ
ｘ）基板のウェブを１２５マイクロメートルの厚みを有
するチタンおよびジルコニウム被覆されたポリエチレン
ナフタレート（アイシーアイ・フィルムズ（ＩＣＩ Ｆ
ｉｌｍｓ）から入手できるＫａｌａｄｅｘ）基板のウェ
ブで置き換えた点のみ異なる。ポリエチレンナフタレー
ト基板は実質的に全くオリゴマーを含まず、約１１０℃
のガラス転移温度および８７１，０００ポンド／平方イ
ンチのヤング率を有していた。

【００６９】実施例VI 比較例Ｉから実施例Ｖの光導電撮像部材の機械的平面特
性を３つのロールを有する機械的固定具内にこの装置を
取り付けることにより評価した。この機械的固定具は、
中心を６３ミリメートル離して取り付けられた２つの２
５ミリメートル直径のロールと、最初の２つのロールの
中心を接続する、ロール間に位置するラインに垂直に向
いたばね懸架式のホールダ中に取り付けられた第三の３
０ミリメートル直径のロールとから成る。第三のロール
は１９２．６ニュートン／ｍのベルト張力を維持する。
レーザー三角測量センサ（ケイヤンス・コーポレーショ
ン・オブ・アメリカ（Ｋｅｙｅｎｃｅ Ｃｏｒｐｏｒａ
ｔｉｏｎ ｏｆ Ａｍｅｒｉｃａ）から入手できるＫｅｙ
ｅｎｃｅ ＬＣ−２４４０）を２つの２５ミリメートル
直径のロール間に位置するラインに沿って機械的に走査
することにより、平面度を評価した。実施例Ｉに記載し
た装置における表面位置でピークピーク差は約５００マ
イクロメートルであった。実施例IIに記載した装置にお
ける表面位置でピークピーク差は約３００マイクロメー
トルであった。実施例IIIに記載した装置における表面
位置でピークピーク差は約１００マイクロメートルであ
った。実施例IVおよびＶに記載した装置における表面位
置でピークピーク差は約１００マイクロメートル未満で
あった。ポリエチレンナフタレートで作成されたすべて
の実施例は、比較例Ｉで観察されたものより優れた平面
特性を示した。

【００７０】実施例VII 光導電撮像部材を比較例Ｉに記載した通り作成した。但
し、比較例Ｉとは、サンプルのサイズが円周で２５００
ミリメートル、幅で４１４ミリメートルであった点のみ
異なる。

【００７１】実施例VIII 光導電撮像部材を実施例IIに記載した通り作成した。但
し、実施例IIとは、サンプルのサイズが円周で２５００
ミリメートル、幅で４１４ミリメートルであった点のみ
異なる。

【００７２】実施例IX 光導電撮像部材を実施例IVに記載した通り作成した。但
し、実施例IVとは、サンプルのサイズが円周で２５００
ミリメートル、幅で４１４ミリメートルであった点のみ
異なる。

【００７３】実施例Ｘ 光導電撮像部材を実施例Ｖに記載した通り作成した。但
し、実施例Ｖとは、サンプルのサイズが円周で２５００
ミリメートル、幅で４１４ミリメートルであった点のみ
異なる。

【００７４】実施例XI 実施例VIIから実施例Ｘで作成した装置を円周計で測定
して、実際のベルト円周を決定した。各サンプルを作成
時、１６日後、５０日後に測定して、収縮の量を決定し
た。実施例VIIにおけるポリエチレンテレフタレート基
準材料は、１６日後に１．２ミリメートル収縮し、５０
日後に１．８ミリメートル収縮した。実施例VIIIは、１
６日後に０．８ミリメートル収縮し、５０日後に０．９
ミリメートル収縮した。実施例IVは、１６日後に０．８
ミリメートル収縮し、５０日後に０．９ミリメートル収
縮した。実施例Ｘは、１６日後に０．６ミリメートル収
縮し、５０日後に０．７ミリメートル収縮した。この試
験におけるポリエチレンナフタレートサンプルの収縮の
量は、ポリエチレンテレフタレート基準材料の収縮量の
およそ半分であった。

【００７５】実施例XII 比較例Ｉ、実施例II、IVおよびＶで作成した８６３ミリ
メートルの円周の装置を、作成時、および４４日後に円
周計で測定して、収縮の量を決定した。比較例Ｉは０．
７ミリメートル収縮し、実施例IIは０．４ミリメートル
収縮し、実施例IVは０．３ミリメートル収縮し、実施例
Ｖは０．２５ミリメートル収縮した。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 マイケル エス レトカー アメリカ合衆国 ニューヨーク州 ロチェ スター ダーウィン ストリート 35 (72)発明者 ケント ジェイ エバンス アメリカ合衆国 ニューヨーク州 リマ ヨーク ストリート 1245

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 約１００℃〜約１４０℃の間のガラス転
   移温度を有し、約７５マイクロメートル〜約１２５マイ
   クロメートルの間の厚みを有すると共に、約６５０，０
   ００〜約１，０００，０００ポンド／平方インチのヤン
   グ率を有するオリゴマーを実質的に全く含まないポリエ
   チレンナフタレートを含有する支持基板層と、 チタンを含有する導電接地平面層と、 ホール遮断層と、 任意の接着層と、 皮膜形成結合剤中に分散した光導電粒子から成る電荷発
   生層と、 ホール輸送層であって、電荷発生層が光発生されたホー
   ルを生成させ注入するスペクトル領域で実質的に非吸収
   性であるが、光発生されたホールの電荷発生層からの注
   入を持続し、ホール輸送層を通してホールを輸送するこ
   ととが可能であるホール輸送層と、 を備える電子写真撮像部材。
2. 【請求項２】 請求項１に記載の電子写真撮像部材であ
   って、基板中のポリエチレンナフタレートの全重量に基
   づいて、基板が約０．５重量％未満のオリゴマーを含む
   ことを特徴とする電子写真撮像部材。
3. 【請求項３】 請求項１に記載の電子写真撮像部材であ
   って、撮像部材が３００マイクロメートル以下の平面度
   を有することを特徴とする電子写真撮像部材。