JPH1131699A - Thermal treatment device and thermal treatment receptacle - Google Patents

Thermal treatment device and thermal treatment receptacle

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JPH1131699A
JPH1131699A JP18548497A JP18548497A JPH1131699A JP H1131699 A JPH1131699 A JP H1131699A JP 18548497 A JP18548497 A JP 18548497A JP 18548497 A JP18548497 A JP 18548497A JP H1131699 A JPH1131699 A JP H1131699A
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JP
Japan
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heat treatment
heat
ray scattering
section
heating
Prior art date
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Application number
JP18548497A
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Japanese (ja)
Inventor
Yoshiaki Sano
芳明 佐野
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Oki Electric Industry Co Ltd
Original Assignee
Oki Electric Industry Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To enable maintaining the hermeticity of connecting parts, even if thermal treatment at a high temperature is performed. SOLUTION: A thermal treatment device 10 is provided with at least a heater 11, a hermetic thermal treatment receptacle 13 and a vacuum substitution chamber 15. The thermal treatment receptacle 13 and the vacuum substitution chamber 15 are connected via a connecting part 17. The thermal treatment receptacle 13 is provided with a transparent heater 13a and a non-transparent heating rays scattering part 13b. The heating rays scattering part 13b is formed on the side of the thermal treatment receptacle to be connected to the vacuum substitution chamber.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、熱処理装置の構
造、および特に炉芯管として使用して好適な熱処理容器
の構造に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to the structure of a heat treatment apparatus, and more particularly to the structure of a heat treatment vessel suitable for use as a furnace core tube.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体素子の製造工程において、熱処
理、例えば、イオン注入後に行う、注入したイオンを活
性化するためのアニール処理や、表面酸化等といったさ
まざまな熱処理が行われていて、その温度は例えば80
0〜1000℃であり、かなり高温での処理となる。こ
のような熱処理を行う装置は、装置内の雰囲気ガスの高
純度化を図るためや被処理物への不純物の混入を防ぐた
めに真空置換することができる構造が求められていて、
そのような構造を有する熱処理装置も使用されつつあ
る。真空置換することのできる熱処理装置の主要な部分
を図2に示す。図2(A)は、装置の炉体の中心部分を
概略的に示した図で、断面の切り口で示してある。熱処
理装置50は、通常透明の石英からなる熱処理容器51
としての炉芯管と、真空置換室53と、炉心管51と真
空置換室53との間に位置し、炉芯管51内の雰囲気と
真空置換室53内の雰囲気とを遮断したり開放したりす
るためのエアロックバルブ55(ゲートバルブ、真空バ
ルブとも称する。)を含む接続部52と、加熱ヒータ5
7とを有している。真空置換室53には真空排気のため
の第1接続口59が設けてあり、炉芯管にはガスを導入
したり排出するための第2接続口61が設けてある。ま
た、図2(B)は、炉芯管51と真空置換室53との接
続部52の周辺を示す概略的な拡大図で、断面の切り口
で示してある。図2(B)を参照すると、気密封止する
必要のある箇所、例えば炉芯管51とエアロックバルブ
55(以下、単にバルブとも称する。)との間や、バル
ブ55と真空置換室53との間等にはOリング63を設
けてある。このOリング63はここでは樹脂製であり、
バルブ55に予め取り付けてある。
2. Description of the Related Art In the process of manufacturing a semiconductor device, various heat treatments such as an annealing treatment for activating the implanted ions and a surface oxidation are performed after the ion implantation. For example, 80
0 to 1000 ° C., which is a treatment at a considerably high temperature. The apparatus for performing such a heat treatment is required to have a structure that can be vacuum-substituted in order to purify the atmosphere gas in the apparatus and to prevent impurities from being mixed into an object to be processed.
A heat treatment apparatus having such a structure is also being used. FIG. 2 shows a main part of a heat treatment apparatus capable of vacuum replacement. FIG. 2 (A) is a diagram schematically showing a central portion of a furnace body of the apparatus, which is shown by a cross-section. The heat treatment apparatus 50 includes a heat treatment vessel 51 which is usually made of transparent quartz.
Is located between the furnace core tube, the vacuum replacement chamber 53, and the core tube 51 and the vacuum replacement chamber 53, and shuts off or opens the atmosphere in the furnace core tube 51 and the atmosphere in the vacuum replacement chamber 53. Connecting section 52 including an air lock valve 55 (also referred to as a gate valve or a vacuum valve) for
7 are provided. The vacuum replacement chamber 53 is provided with a first connection port 59 for evacuation, and the furnace core tube is provided with a second connection port 61 for introducing and discharging gas. FIG. 2B is a schematic enlarged view showing the periphery of a connection portion 52 between the furnace core tube 51 and the vacuum replacement chamber 53, and is shown by a cut section. Referring to FIG. 2 (B), a portion that needs to be hermetically sealed, for example, between the furnace core tube 51 and an air lock valve 55 (hereinafter, also simply referred to as a valve), or between the valve 55 and the vacuum replacement chamber 53. An O-ring 63 is provided in the middle or the like. This O-ring 63 is made of resin here,
It is attached to the valve 55 in advance.

【0003】加熱処理は、次のようにして行う。まず、
真空置換室53内に熱処理を施す被処理物(半導体基板
等)を設置した後、真空置換室53内を真空状態にす
る。この後エアロックバルブ55を開けて被処理物を炉
芯管51の中心部に移して設置する。この後加熱ヒータ
57によって炉芯管51を介して被処理物を加熱処理す
る。
The heat treatment is performed as follows. First,
After an object to be subjected to heat treatment (such as a semiconductor substrate) is installed in the vacuum replacement chamber 53, the inside of the vacuum replacement chamber 53 is evacuated. Thereafter, the air lock valve 55 is opened and the object to be processed is moved to the center of the furnace core tube 51 and installed. Thereafter, the object to be processed is heated by the heater 57 through the furnace core tube 51.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】このような加熱処理に
よって、熱せられた炉芯管51は高温となり熱線を放射
する。熱線はあらゆる方向に放射されて一部の熱線は炉
芯管51の壁の内部に入り込み、炉心管51を伝搬す
る。炉芯管51は屈折率の高い石英が材料となっている
ために壁の内部に入り込んだ熱線は全反射を繰り返して
伝搬して、炉芯管51とバルブ55との間に設けてある
Oリング63付近に達する(図2(B))。Oリング6
3は樹脂製のものが多く、耐熱性に優れているバイトン
製のOリングを用いても200℃を越えるような熱には
耐えることができず、萎縮したり変形したりして気密性
を失ってしまう。また、許容温度範囲内であっても長時
間の加熱によりOリングの寿命は短縮される。また、加
熱ヒータ57とOリング63との距離をできる限り離間
させても、炉芯管51の石英に閉じ込められて伝搬され
る熱線によって、直接Oリング63が加熱されるために
あまり効果はなく、Oリング63周辺を水等で冷やして
も、樹脂製のOリング63や石英からなる炉芯管51は
熱伝導率が非常に低いために冷却効果は及びにくい。こ
のように、熱処理装置50において、高温となる炉芯管
51と、炉芯管51と比べて低温であるエアロックバル
ブ55との接続部52は、その冷却が不十分であるため
に、気密に接続するためのOリング63が熱によって劣
化して、その気密性を失ったり、長時間の信頼性がなく
なる。この結果、熱処理が不十分になる、製品の品質不
良を引き起こす、Oリングを頻繁に交換しなければなら
ない等の問題があった。
By such a heat treatment, the heated furnace core tube 51 has a high temperature and emits heat rays. The heat rays are emitted in all directions, and some of the heat rays enter the inside of the wall of the furnace core tube 51 and propagate through the furnace core tube 51. Since the furnace core tube 51 is made of quartz having a high refractive index, the heat rays entering the inside of the wall are propagated by repeating total reflection, and are provided between the furnace core tube 51 and the valve 55. It reaches the vicinity of the ring 63 (FIG. 2B). O-ring 6
No. 3 is made of resin, and even if an O-ring made of Viton, which is excellent in heat resistance, cannot withstand heat exceeding 200 ° C., it shrinks or deforms and becomes airtight. I will lose. Further, even within the allowable temperature range, the life of the O-ring is shortened by long-time heating. Further, even if the distance between the heater 57 and the O-ring 63 is as large as possible, the O-ring 63 is directly heated by the heat rays confined in the quartz of the furnace core tube 51 and propagated. Even if the periphery of the O-ring 63 is cooled with water or the like, the cooling effect is difficult to reach because the O-ring 63 made of resin and the furnace core tube 51 made of quartz have very low thermal conductivity. As described above, in the heat treatment apparatus 50, the connection portion 52 between the furnace core tube 51 having a high temperature and the airlock valve 55 having a lower temperature than the furnace core tube 51 is airtight because the cooling thereof is insufficient. The O-ring 63 for connection to the battery is degraded by heat, loses its airtightness, and loses long-term reliability. As a result, there have been problems such as insufficient heat treatment, inferior product quality, and frequent replacement of the O-ring.

【0005】このため、接続部分にOリングを用いた熱
処理装置において、高温の加熱処理を行っても接続部分
の気密性を保持することのできる熱処理装置の出現が望
まれていた。
[0005] For this reason, in a heat treatment apparatus using an O-ring at the connection portion, it has been desired to develop a heat treatment device capable of maintaining the airtightness of the connection portion even when a high-temperature heat treatment is performed.

【0006】そこで、発明者等は、種々の研究および実
験を行った結果、炉芯管等の熱処理容器のOリング側の
部分を、熱線の伝搬しにくい材料で構成すれば、Oリン
グの劣化を回避できることをつきとめ、この発明に至っ
た。
The inventors have conducted various researches and experiments. As a result, if the O-ring side portion of the heat treatment vessel such as a furnace tube is made of a material that does not easily transmit heat rays, the O-ring deteriorates. It has been found that this can be avoided, and the present invention has been achieved.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】したがって、この発明に
よれば、少なくとも加熱ヒータと、気密封止可能な熱処
理容器と、真空置換室とを具え、熱処理容器と真空置換
室とが接続部を介して接続されている熱処理装置におい
て、熱処理容器は、透明の加熱部と、この加熱部と連続
して形成された不透明の熱線散乱部とを具え、熱処理容
器の真空置換室と接続する側を熱線散乱部で形成してあ
ることを特徴とする。
Therefore, according to the present invention, at least a heater, a heat treatment container capable of hermetically sealing, and a vacuum replacement chamber are provided, and the heat treatment container and the vacuum replacement chamber are connected via a connecting portion. In the heat treatment apparatus, the heat treatment vessel includes a transparent heating section and an opaque heat ray scattering section formed continuously with the heating section, and the side of the heat treatment vessel connected to the vacuum replacement chamber is heated by a heat ray. It is characterized by being formed by a scattering portion.

【0008】加熱ヒータによって熱処理装置の加熱部を
加熱していくと、加熱部から熱線が放射されて、その熱
線の一部は熱処理容器の壁内に入り込んで、全反射を繰
り返しながら伝搬する。しかしながら、伝搬する熱線は
透明の加熱部から不透明の熱線散乱部に到達すると散乱
する。このため熱線散乱部より先へ熱線が伝搬すること
はなくなる。従って熱処理容器と真空置換室との接続部
にまで熱が及ぶことはなく、例えば接続部を気密にする
ために樹脂製のOリング等を用いている場合には熱によ
ってOリングを劣化させるおそれはなくなって接続部の
気密性を保持することができる。
When the heating part of the heat treatment apparatus is heated by the heater, heat rays are radiated from the heating part, and a part of the heat rays enters the wall of the heat treatment vessel and propagates while repeating total reflection. However, the propagating heat rays are scattered when they reach the opaque heat ray scattering section from the transparent heating section. Therefore, the heat ray does not propagate beyond the heat ray scattering part. Therefore, the heat does not reach the connection between the heat treatment vessel and the vacuum replacement chamber. For example, when a resin O-ring or the like is used to make the connection airtight, the heat may deteriorate the O-ring. It disappears and the airtightness of the connection can be maintained.

【0009】また、好ましくは、加熱部および熱線散乱
部を、石英を材料として形成し、加熱部と熱線散乱部と
を溶接してあるのがよい。
Preferably, the heating section and the heat ray scattering section are made of quartz, and the heating section and the heat ray scattering section are welded.

【0010】加熱部および熱線散乱部、すなわち熱処理
容器の材料を石英とすることによって、石英は比較的熱
伝導率が低い材料であるために熱伝導によって熱が接続
部に到達するの回避することができる。また、透明の加
熱部と不透明の熱線散乱部とは容易に溶接することがで
きるために形成工程も簡易となる。
[0010] By using quartz as the material of the heating section and the heat ray scattering section, that is, the material of the heat treatment container, it is possible to prevent heat from reaching the connection section by heat conduction because quartz is a material having a relatively low thermal conductivity. Can be. Further, since the transparent heating portion and the opaque heat ray scattering portion can be easily welded, the forming process is also simplified.

【0011】また、好ましくは、熱線散乱部を石英に気
泡を混入させて形成してあるのがよい。
[0011] Preferably, the heat ray scattering portion is formed by mixing bubbles in quartz.

【0012】石英に気泡を混入させて不透明の熱線散乱
部を形成しているため、熱線散乱部の壁の内部から不透
明とすることができる。この不透明の程度は、例えば壁
の厚さが3mmの熱線散乱部で、外側から見たときに壁
を通して内部がまったく見えない程度にするのがよい。
これにより、透明の石英からなる加熱部に入り込んで伝
搬してくる熱線を、気泡を含んだ不透明の石英からなる
熱線散乱部で散乱させることができる。
Since the opaque heat ray scattering portion is formed by mixing bubbles in quartz, the inside of the wall of the heat ray scattering portion can be made opaque. The degree of the opacity is preferably such that the inside of the heat ray scattering portion having a thickness of 3 mm cannot be seen through the wall when viewed from the outside.
Thus, the heat rays that enter the heating section made of transparent quartz and propagate therethrough can be scattered by the heat ray scattering section made of opaque quartz containing bubbles.

【0013】また、接続部にOリングが含まれているの
がよい。
It is preferable that the connecting portion includes an O-ring.

【0014】熱処理容器と真空置換室との接続部にOリ
ングが含まれているような構造の熱処理装置において
は、熱処理容器から伝搬してくる熱線を熱線散乱部で散
乱するためにOリングには熱が及ばない。このため、樹
脂性のOリングを用いても熱によってOリングが劣化す
るおそれはないまた、熱処理装置に限らずに利用するこ
とのできる熱処理容器として、この発明の熱処理容器
は、一端側の透明の加熱部と、この加熱部と連続して形
成された他端側の不透明の熱線散乱部とを具えることを
特徴とする気密封止可能な熱処理容器である。
In a heat treatment apparatus having a structure in which an O-ring is included in a connection portion between the heat treatment vessel and the vacuum replacement chamber, heat rays propagating from the heat treatment vessel are scattered by the heat-ray scattering section so as to be scattered by the O-ring. Does not reach the heat. Therefore, even if a resinous O-ring is used, the O-ring is not likely to be degraded by heat. Further, as a heat treatment container that can be used without being limited to a heat treatment apparatus, the heat treatment container of the present invention has a transparent one end side. And a non-transparent heat-ray scattering portion at the other end formed continuously with the heating portion.

【0015】この容器の一端側だけに熱を加えて、他端
側には熱の影響を及ぼしたくないというような場合、例
えば他端側に熱によって劣化してしまうような部材が設
けられている場合に、熱処理容器の一端側を透明の加熱
部として、他端側を不透明にして熱線散乱部とすること
によって、一端側を加熱しても、他端側は熱線を散乱す
るために他端側に設けた部材にまで熱が到達するおそれ
はない。
In the case where heat is applied to only one end of the container and the influence of heat is not desired to be applied to the other end, for example, a member which is deteriorated by heat is provided at the other end. When one end is heated, the other end scatters heat rays by making one end side of the heat treatment container a transparent heating section and the other end side opaque to form a heat ray scattering section. There is no possibility that heat reaches the member provided on the end side.

【0016】また、好ましくは、加熱部および熱線散乱
部を、石英を材料として形成し、加熱部と熱線散乱部と
を溶接してあるのがよく、また、熱線散乱部を石英に気
泡を混入させて形成してあるのがよい。
Preferably, the heating section and the heat ray scattering section are made of quartz, and the heating section and the heat ray scattering section are welded to each other. Air bubbles are mixed in the heat ray scattering section with quartz. It is good to be formed.

【0017】[0017]

【発明の実施の形態】以下、図を参照してこの発明の実
施の形態につき説明する。なお、各図は発明を理解でき
る程度に各構成成分の大きさ、形状および配置関係を概
略的に示してあるに過ぎず、したがって発明を図示例に
限定するものではない。また、図において、図を分かり
易くするために断面を示すハッチング(斜線)は一部分
を除き省略してある。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. Note that the drawings merely schematically show the sizes, shapes, and arrangements of the components so that the invention can be understood, and therefore, the invention is not limited to the illustrated examples. In the drawings, hatching (hatched lines) showing a cross section is omitted except for a part for easy understanding of the drawings.

【0018】<実施の形態例>実施の形態例として、少
なくとも加熱ヒータと、気密封止可能な熱処理容器と、
真空置換室とを具え、熱処理容器と真空置換室とが接続
部を介して接続されている熱処理装置につき、図1を参
照して説明する。図1(A)は、この実施の形態例の熱
処理装置を概略的に示した図で、断面の切り口で示して
いる。また、図1(B)は、熱処理装置の熱処理容器と
真空置換室との接続部分を抜き出して概略的に示した拡
大図である。これもまた断面の切り口で示している。図
1(C)は、図1(B)の点線で囲んだ範囲A内のさら
なる拡大図であり、断面の切り口で示している。
<Embodiment> As an embodiment, at least a heater, a heat treatment container capable of hermetically sealing,
A heat treatment apparatus having a vacuum replacement chamber and in which the heat treatment container and the vacuum replacement chamber are connected via a connection portion will be described with reference to FIG. FIG. 1A is a diagram schematically showing a heat treatment apparatus according to this embodiment, which is indicated by a cross section. FIG. 1B is an enlarged view schematically showing a connection portion between the heat treatment vessel and the vacuum replacement chamber of the heat treatment apparatus. This is also shown by a cut in section. FIG. 1C is a further enlarged view of an area A surrounded by a dotted line in FIG.

【0019】熱処理装置10は、加熱ヒータ11と、熱
処理容器13としての炉芯管と、真空置換室15と、ま
た接続部17としてエアロックバルブ17aおよびOリ
ング17bをそれぞれ具えている(図1(A)および図
1(B))。炉芯管13は透明の石英で形成される加熱
部13aと不透明の石英で形成される熱線散乱部13b
とを含んでいて、この加熱部13aと熱線散乱部13b
とを溶接によって接続してひとつの炉芯管13を構成し
ている。また、熱線散乱部13bは、石英に気泡を含ま
せて不透明としたものを用いている。ここでは、炉芯管
13の壁の厚さが3mmで、外から熱線散乱部13bを
みたときに壁を通して内部がまったく見えない程度の不
透明さとする。これにより、熱線散乱部13bは、くも
りガラスのように壁の表面が不透明で内部は透明である
ような構造ではなく、壁の表面および内部も不透明であ
る構造にすることができる(図1(A))。
The heat treatment apparatus 10 includes a heater 11, a furnace tube as a heat treatment vessel 13, a vacuum replacement chamber 15, and an air lock valve 17a and an O-ring 17b as a connection 17 (FIG. 1). (A) and FIG. 1 (B)). The furnace core tube 13 has a heating part 13a made of transparent quartz and a heat ray scattering part 13b made of opaque quartz.
And the heating unit 13a and the heat ray scattering unit 13b
Are connected by welding to constitute one furnace core tube 13. In addition, the heat ray scattering portion 13b is made of quartz which is made opaque by including bubbles. Here, the thickness of the wall of the furnace core tube 13 is 3 mm, and the opacity is such that the inside cannot be seen at all through the wall when the heat ray scattering portion 13b is viewed from the outside. Thus, the heat-ray scattering portion 13b can have a structure in which the surface and the inside of the wall are not opaque and the inside and the inside are opaque, as in the case of frosted glass (see FIG. 1 (A)). )).

【0020】熱処理装置10は、この炉芯管13の熱線
散乱部13b側がOリング17bを介してエアロックバ
ルブ17aと気密に接続されていて、また、エアロック
バルブの反対側と真空置換室も同様に別のOリング17
bを介して気密に接続されている(図1(B))。ま
た、炉芯管13の加熱部13aを熱するように加熱部1
3aの外側に加熱ヒータ11が設けられている。真空置
換室15には真空排気するための第1接続口19が形成
されていて、炉芯管13にもガスを導入したり排出した
りするための第2接続口21が設けられている。
In the heat treatment apparatus 10, the furnace core tube 13 has a heat ray scattering portion 13b side airtightly connected to an air lock valve 17a via an O-ring 17b, and the opposite side of the air lock valve and a vacuum replacement chamber are also provided. Similarly, another O-ring 17
b (see FIG. 1B). The heating unit 1 is heated so as to heat the heating unit 13a of the furnace core tube 13.
A heater 11 is provided outside 3a. A first connection port 19 for evacuating the vacuum is formed in the vacuum replacement chamber 15, and a second connection port 21 for introducing and discharging gas into and from the furnace core tube 13 is provided.

【0021】加熱処理は、まず、真空置換室15内に熱
処理を施す被処理物(半導体基板等)を設置した後、真
空置換室15内を真空状態にする。この後エアロックバ
ルブ17aを開けて被処理物を炉芯管13の加熱部13
aに移して設置する。この後加熱ヒータ11によって炉
芯管13を介して被処理物を加熱処理する。
In the heat treatment, first, an object to be subjected to a heat treatment (such as a semiconductor substrate) is set in the vacuum replacement chamber 15, and then the inside of the vacuum replacement chamber 15 is evacuated. Thereafter, the air lock valve 17a is opened and the object to be processed is heated by the heating unit 13
Move to a. Thereafter, the object to be processed is heated by the heater 11 via the furnace core tube 13.

【0022】ここで、図1(C)を参照する。図中の矢
印Bは熱線を表している。加熱により高温となった加熱
部13aは熱線を放射する。そして熱線の一部は炉芯管
13の壁の内部に入り込んで、透明の石英中を全反射を
繰り返して伝搬していく。熱線は、気泡を含んで不透明
である熱線散乱部13bに到達すると散乱する。このた
め、熱線散乱部13bと接触しているOリング17aに
熱線は実質的に到達することはない(図1(C))。ま
た、この炉芯管13は石英を用いて形成されているため
熱伝導率は低い。この結果、加熱処理で発生した熱がO
リング17bに及ぶおそれはなくなって、樹脂製のOリ
ングを用いても熱による劣化を防ぐことができる。
Here, FIG. 1C is referred to. Arrow B in the figure represents a heat ray. The heating unit 13a heated to a high temperature emits heat rays. Then, a part of the heat ray enters the inside of the wall of the furnace core tube 13 and propagates through the transparent quartz with repeated total reflection. The heat ray scatters when it reaches the opaque heat ray scattering part 13b including bubbles. Therefore, the heat ray does not substantially reach the O-ring 17a in contact with the heat ray scattering section 13b (FIG. 1C). Further, since the furnace core tube 13 is formed using quartz, the thermal conductivity is low. As a result, the heat generated by the heat treatment is reduced to O
There is no danger of reaching the ring 17b, and even if an O-ring made of resin is used, deterioration due to heat can be prevented.

【0023】また、炉芯管13の第2接続口21の部分
を不透明の石英を用いて形成してもよい。第2接続口2
1に接続する部材によってはOリングのように加熱によ
る悪影響を回避しなければならない部材もあり得るため
である。
Further, the portion of the second connection port 21 of the furnace core tube 13 may be formed using opaque quartz. Second connection port 2
This is because there may be a member such as an O-ring for which an adverse effect due to heating must be avoided depending on the member connected to the first member.

【0024】[0024]

【発明の効果】上述した説明からも明らかなように、こ
の発明の熱処理装置において、熱処理容器は、透明の加
熱部と、この加熱部と連続して形成された不透明の熱線
散乱部とを具えていて、熱処理容器の真空置換室と接続
する側を熱線散乱部で形成してある。このため、加熱部
を加熱して放射した熱線が容器の壁の内部に入り込んで
伝搬しても、熱線散乱部で、加熱部から伝搬してくる熱
線を散乱させることができるので、熱を真空置換室との
接続部へ伝搬することはない。したがって接続部に例え
ば樹脂製のOリングを用いていたとしてもOリングを熱
によって劣化させるおそれはない。よって、いくら高温
の加熱処理を行っても、接続部の気密性を保持すること
ができる。すなわち熱処理装置全体の気密性を保持する
ことができ、安定に熱処理を行うことができる。また、
Oリングを交換する回数も減るために作業の合理化を図
れる。
As is clear from the above description, in the heat treatment apparatus of the present invention, the heat treatment container has a transparent heating section and an opaque heat ray scattering section formed continuously with the heating section. The side of the heat treatment container connected to the vacuum replacement chamber is formed by a heat ray scattering part. For this reason, even if the heat ray radiated by heating the heating unit enters the inside of the container wall and propagates, the heat ray scattering unit can scatter the heat ray propagating from the heating unit. It does not propagate to the connection with the replacement chamber. Therefore, even if an O-ring made of, for example, resin is used for the connecting portion, there is no possibility that the O-ring is deteriorated by heat. Therefore, no matter how high the temperature of the heat treatment, the airtightness of the connection portion can be maintained. That is, the airtightness of the entire heat treatment apparatus can be maintained, and the heat treatment can be stably performed. Also,
Since the number of times of replacing the O-ring is reduced, the work can be rationalized.

【0025】また、このような熱処理容器は、熱処理装
置に利用することだけに限るものではなく、ある周囲か
らの熱を受ける容器あるいは熱を発生する容器と他の部
材との接合部において、熱の伝搬による接合部あるいは
接合している他の部材の温度上昇を回避する必要のある
場合、その容器に用いて好適である。
Further, such a heat treatment vessel is not limited to use in a heat treatment apparatus, but may be used in a vessel that receives heat from a certain environment or a joint between a vessel that generates heat and another member. When it is necessary to avoid an increase in the temperature of the joined portion or other members joined due to propagation of the heat, it is suitable for use in the container.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】(A)は、実施の形態例の熱処理装置の概略的
な断面図であり、(B)は、接続部周辺の概略的な断面
図であり、(C)は、(B)に示されている図の一部分
の概略的な拡大図である。
FIG. 1A is a schematic cross-sectional view of a heat treatment apparatus according to an embodiment, FIG. 1B is a schematic cross-sectional view around a connection portion, and FIG. FIG. 3 is a schematic enlarged view of a part of the diagram shown in FIG.

【図2】(A)は、従来の熱処理装置の概略的な断面図
であり、(B)は、接続部周辺の概略的な断面図であ
る。
FIG. 2A is a schematic cross-sectional view of a conventional heat treatment apparatus, and FIG. 2B is a schematic cross-sectional view around a connection portion.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10,50:熱処理装置 11,57:加熱ヒータ 13,51:熱処理容器、炉芯管 13a:加熱部 13b:熱線散乱部 15,53:真空置換室 17,52:接続部 17a,55:エアロックバルブ、バルブ 17b,63:Oリング 19,59:第1接続口 21,61:第2接続口 10, 50: Heat treatment apparatus 11, 57: Heater 13, 51: Heat treatment vessel, furnace core tube 13a: Heating unit 13b: Heat ray scattering unit 15, 53: Vacuum replacement chamber 17, 52: Connection unit 17a, 55: Air lock Valve, valve 17b, 63: O-ring 19, 59: first connection port 21, 61: second connection port

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 少なくとも加熱ヒータと、気密封止可能
な熱処理容器と、真空置換室とを具え、前記熱処理容器
と前記真空置換室とが接続部を介して接続されている熱
処理装置において、 前記熱処理容器は、透明の加熱部と、該加熱部と連続し
て形成された不透明の熱線散乱部とを具え、前記熱処理
容器の前記真空置換室と接続する側を前記熱線散乱部で
形成してあることを特徴とする熱処理装置。
1. A heat treatment apparatus comprising at least a heater, a heat treatment container capable of hermetically sealing, and a vacuum replacement chamber, wherein the heat treatment container and the vacuum replacement chamber are connected via a connection portion. The heat treatment container includes a transparent heating unit and an opaque heat ray scattering unit formed continuously with the heating unit, and a side of the heat treatment container connected to the vacuum replacement chamber is formed by the heat ray scattering unit. A heat treatment apparatus, comprising:
【請求項2】 請求項1に記載の熱処理装置において、 前記加熱部および前記熱線散乱部を、石英を材料として
形成し、前記加熱部と熱線散乱部とを溶接してあること
を特徴とする熱処理装置。
2. The heat treatment apparatus according to claim 1, wherein the heating section and the heat ray scattering section are made of quartz, and the heating section and the heat ray scattering section are welded. Heat treatment equipment.
【請求項3】 請求項2に記載の熱処理装置において、 前記熱線散乱部を前記石英に気泡を混入させて形成して
あることを特徴とする熱処理装置。
3. The heat treatment apparatus according to claim 2, wherein the heat ray scattering portion is formed by mixing bubbles in the quartz.
【請求項4】 請求項1に記載の熱処理装置において、 前記接続部にOリングが含まれていることを特徴とする
熱処理装置。
4. The heat treatment apparatus according to claim 1, wherein the connection portion includes an O-ring.
【請求項5】 一端側の透明の加熱部と、該加熱部と連
続して形成された他端側の不透明の熱線散乱部とを具え
ることを特徴とする気密封止可能な熱処理容器。
5. A heat treatment container capable of hermetically sealing, comprising: a transparent heating section on one end side; and an opaque heat ray scattering section on the other end side formed continuously with the heating section.
【請求項6】 請求項5に記載の熱処理容器において、 前記加熱部および前記熱線散乱部を、石英を材料として
形成し、前記加熱部と熱線散乱部とを溶接してあること
を特徴とする熱処理容器。
6. The heat treatment container according to claim 5, wherein the heating portion and the heat ray scattering portion are formed of quartz, and the heating portion and the heat ray scattering portion are welded. Heat treatment container.
【請求項7】 請求項6に記載の熱処理容器において、 前記熱線散乱部を前記石英に気泡を混入させて形成して
あることを特徴とする熱処理容器。
7. The heat treatment container according to claim 6, wherein the heat ray scattering portion is formed by mixing bubbles in the quartz.
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