JPH11312242A - Inspecting situation displaying method - Google Patents

Inspecting situation displaying method

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JPH11312242A
JPH11312242A JP10118293A JP11829398A JPH11312242A JP H11312242 A JPH11312242 A JP H11312242A JP 10118293 A JP10118293 A JP 10118293A JP 11829398 A JP11829398 A JP 11829398A JP H11312242 A JPH11312242 A JP H11312242A
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JP
Japan
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inspection
pattern
image
area
mark
Prior art date
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Application number
JP10118293A
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Japanese (ja)
Inventor
Shinichi Hattori
新一 服部
Seiji Hakoishi
清治 箱石
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Nippon Avionics Co Ltd
Original Assignee
Nippon Avionics Co Ltd
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Publication date
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  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
  • Image Processing (AREA)
  • Image Analysis (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To confirm an inspecting situation in real time. SOLUTION: A work image 1 similar to that of an inspection work is displayed on the inspecting situation displaying image of a display. Each mark 3 to 5 is displayed in a different color for each inspecting situation at a position on a work image corresponding to a presently inspected area on an inspection work. The mark 3 is displayed for an area under image inspection, the mark 4 for an area under first inspection and the mark 5 for an area under second inspection. When a defect is detected within an inspecting area, an NG mark 6 is displayed at a position on the work image, corresponding to the position of the defect within the inspecting area.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、検査ワークをカメ
ラで撮像して自動的に検査する検査装置に係り、特に検
査ワークの検査状況を表示する検査状況表示方法に関す
るものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an inspection apparatus for automatically inspecting an inspection work by photographing the inspection work with a camera, and more particularly to an inspection status display method for displaying an inspection status of the inspection work.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より、IC、LSIの多ピン化要求
に適した実装技術として、PGA(Pin Grid Array)が
知られている。PGAは、チップを付けるパッケージの
ベースとしてセラミック基板を用い、リード線の取り出
し位置まで配線を行っている。このセラミック基板を作
るために、アルミナ粉末を液状のバインダで練り合わせ
てシート状にしたグリーンシートと呼ばれるものが使用
され、このグリーンシート上に高融点の金属を含むペー
ストがスクリーン印刷される。そして、このようなシー
トを必要枚数積み重ねて焼成することにより、グリーン
シートを焼結させると共にペーストを金属化させる、い
わゆる同時焼成が行われる。
2. Description of the Related Art Conventionally, PGA (Pin Grid Array) has been known as a mounting technique suitable for a demand for increasing the number of pins of ICs and LSIs. In PGA, a ceramic substrate is used as a base of a package for attaching a chip, and wiring is performed to a lead wire extraction position. To make this ceramic substrate, a so-called green sheet made by kneading alumina powder with a liquid binder is used, and a paste containing a high melting point metal is screen-printed on the green sheet. By stacking and firing the required number of such sheets, so-called simultaneous firing, in which the green sheets are sintered and the paste is metallized, is performed.

【0003】このようなグリーンシートでは、パターン
形成後に顕微鏡を用いて人間により目視でパターンの検
査が行われる。ところが、微細なパターンを目視で検査
するには、熟練を要すると共に目を酷使するため、グリ
ーンシート等に形成されたパターンをTVカメラで撮像
して自動的に検査する技術が提案されている(例えば、
特開平6−273132号公報、特開平7−11086
3号公報)。
In such a green sheet, a pattern is visually inspected by a human using a microscope after the pattern is formed. However, a technique for automatically inspecting a pattern formed on a green sheet or the like by using a TV camera has been proposed, because skill is required to visually inspect a fine pattern and the eyes are heavily used. For example,
JP-A-6-273132, JP-A-7-11086
No. 3).

【0004】図6、図7は特開平6−273132号公
報に記載された断線を検出する従来の検査方法を説明す
るための図である。良品と判定された被測定パターンを
撮像することによって作成されたマスタパターンは、パ
ターンエッジを示す直線の集合として登録される。ま
た、被測定パターンは、パターンを撮像した濃淡画像か
ら抽出したパターンエッジを示すエッジデータ(エッジ
座標)の集合として入力される。そして、抽出した被測
定パターンのエッジデータn1、n2、n3・・・とマ
スタパターンの直線との対応付けを行う。この対応付け
を行うために、図6に示すように、マスタパターンの連
続する直線A1とA2、A2とA3・・・がつくる角を
それぞれ2等分する2等分線A2’、A3’・・・を求
める。
FIGS. 6 and 7 are diagrams for explaining a conventional inspection method for detecting a disconnection described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-273132. A master pattern created by imaging the pattern to be measured determined as a non-defective product is registered as a set of straight lines indicating pattern edges. The pattern to be measured is input as a set of edge data (edge coordinates) indicating a pattern edge extracted from a grayscale image obtained by capturing the pattern. Then, the extracted edge data n1, n2, n3,... Of the pattern to be measured are associated with the straight lines of the master pattern. In order to perform this association, as shown in FIG. 6, the bisectors A2 ', A3', which divide the angles formed by the continuous straight lines A1 and A2, A2 and A3.・ ・

【0005】この2等分線A2’、A3’・・・によっ
てマスタパターンの直線A1、A2、A3・・・の周囲
は、各直線にそれぞれ所属する領域に分割される。これ
により、各領域内に存在する被測定パターンのエッジデ
ータn1、n2、n3・・・は、その領域が属するマス
タパターンの直線A1、A2、A3・・・とそれぞれ対
応付けられたことになる。例えば図6において、エッジ
データn1〜n3は、直線A1と対応付けられ、データ
n4〜n6は、直線A2と対応付けられる。次に、被測
定パターンのエッジデータとマスタパターンとを比較
し、被測定パターンが断線しているかどうかを検査す
る。
.. Are divided into areas respectively belonging to the straight lines A1, A2, A3... In the master pattern by the bisectors A2 ′, A3 ′. .. Exist in each area are associated with the straight lines A1, A2, A3,... Of the master pattern to which the area belongs. . For example, in FIG. 6, the edge data n1 to n3 are associated with the straight line A1, and the data n4 to n6 are associated with the straight line A2. Next, the edge data of the pattern to be measured is compared with the master pattern to check whether the pattern to be measured is disconnected.

【0006】この検査は、図7に示すように、被測定パ
ターンの連結したエッジデータn1〜n9を追跡するこ
とによりパターンエッジを追跡するラベリング処理によ
って実現される。このとき、被測定パターンの先端に生
じた断線により、この断線部でエッジデータが連結しな
いため、マスタパターンの直線A3〜A5に対応するエ
ッジデータが存在しない。こうして、被測定パターンの
断線を検出することができる。
This inspection is realized by a labeling process for tracing a pattern edge by tracing connected edge data n1 to n9 of a pattern to be measured, as shown in FIG. At this time, since the edge data is not connected at the disconnected portion due to the disconnection generated at the leading end of the pattern to be measured, there is no edge data corresponding to the straight lines A3 to A5 of the master pattern. Thus, the disconnection of the pattern to be measured can be detected.

【0007】図8は特開平6−273132号公報に記
載された短絡を検出する従来の検査方法を説明するため
の図である。まず、マスタパターンと被測定パターンを
所定の大きさに切り出した検査領域20において、被測
定パターンの連結したエッジデータを追跡する。これに
より、被測定パターンの各エッジデータは、n1〜n1
8と順次ラベリングされる。しかし、パターンエッジを
示す対向する2直線からなるマスタパターンMaと同じ
く対向する2直線からなるマスタパターンMbには、エ
ッジデータn8、n17は登録されていない。こうし
て、被測定パターンの短絡を検出することができる。
FIG. 8 is a diagram for explaining a conventional inspection method for detecting a short circuit described in JP-A-6-273132. First, in the inspection area 20 in which the master pattern and the pattern to be measured are cut out to a predetermined size, the connected edge data of the pattern to be measured is tracked. Thereby, each edge data of the pattern to be measured is n1 to n1.
8 and are sequentially labeled. However, the edge data n8 and n17 are not registered in the master pattern Mb composed of two opposing straight lines similarly to the master pattern Ma composed of two opposing straight lines indicating a pattern edge. Thus, a short circuit of the pattern to be measured can be detected.

【0008】図9は特開平7−110863号公報に記
載された欠損あるいは突起を検出する従来の検査方法を
説明するための図である。まず、中心線Lに垂直な垂線
を引いて、この垂線がマスタパターンのエッジを示す直
線A1、A2と交わる交点間の長さをマスタパターンの
幅W0として予め求めておく。次に、実際の検査では、
被測定パターンのエッジデータnからマスタパターンの
中心線Lに対して垂線を下ろすことにより、対向するエ
ッジデータ間の距離を求める。これが、被測定パターン
の幅Wであり、これをマスタパターンの幅W0と比較す
ることにより、被測定パターンの欠損あるいは突起を検
出する。
FIG. 9 is a view for explaining a conventional inspection method for detecting a defect or a projection described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-110883. First, a perpendicular line perpendicular to the center line L is drawn, and the length between intersections where the perpendicular line intersects the straight lines A1 and A2 indicating the edges of the master pattern is determined in advance as the width W0 of the master pattern. Next, in the actual inspection,
The distance between the facing edge data is obtained by lowering the perpendicular to the center line L of the master pattern from the edge data n of the pattern to be measured. This is the width W of the pattern to be measured, and the loss or protrusion of the pattern to be measured is detected by comparing this with the width W0 of the master pattern.

【0009】ところが、このような検査方法を用いるパ
ターン検査装置では、被測定パターンの全体にわたって
マスタパターンとの比較による詳細な検査をソフトウェ
アで行うため、パターン検査に時間がかかるという問題
点があった。そこで、短時間で検査が可能なパターン検
査装置が提案されている(特願平8−302807
号)。特願平8−302807号に開示されたパターン
検査装置では、ハードウェアによって被測定パターンの
欠陥候補を検出し(一次検査)、検出した欠陥候補を含
む所定の小領域だけソフトウェアによって検査するので
(二次検査)、被測定パターンの欠陥を従来よりも高速
に検査することができる。しかし、以上のようなパター
ン検査装置の何れにおいても、検査終了後に検査結果を
表示するだけなので、検査領域の位置や実行中の検査の
種類など随時変化している検査状況を検査中に確認する
ことはできない。
However, in the pattern inspection apparatus using such an inspection method, there is a problem that the pattern inspection takes a long time because a detailed inspection by comparison with the master pattern is performed by software over the entire pattern to be measured. . Therefore, a pattern inspection apparatus capable of performing inspection in a short time has been proposed (Japanese Patent Application No. 8-302807).
issue). In the pattern inspection apparatus disclosed in Japanese Patent Application No. 8-302807, a defect candidate of a measured pattern is detected by hardware (primary inspection), and only a predetermined small area including the detected defect candidate is inspected by software. Secondary inspection), it is possible to inspect the defect of the pattern to be measured at a higher speed than before. However, in any of the above-described pattern inspection apparatuses, the inspection result is only displayed after the inspection is completed, so that the inspection status that is constantly changing, such as the position of the inspection area and the type of the inspection being executed, is checked during the inspection. It is not possible.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】以上のように従来のパ
ターン検査装置では、検査中に検査状況を確認すること
ができないという問題点があった。本発明は、上記課題
を解決するためになされたもので、検査状況をリアルタ
イムで確認することができる検査状況表示方法を提供す
ることを目的とする。
As described above, the conventional pattern inspection apparatus has a problem that the inspection status cannot be confirmed during the inspection. The present invention has been made to solve the above problems, and has as its object to provide an inspection status display method capable of checking an inspection status in real time.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本発明の検査状況表示方
法は、請求項1に記載のように、表示装置の画面上に検
査ワークに相当するワーク画像を表示し、上記検査ワー
ク上の検査実行単位である検査領域に対応した上記ワー
ク画像上の位置に、該検査領域の検査状況を表すマーク
を表示するようにしたものである。このように、検査領
域に対応したワーク画像上の位置に該検査領域の検査状
況を表すマークを表示することにより、現在の検査状況
を容易に知ることができる。また、請求項2に記載のよ
うに、上記検査状況を表すマークとして上記検査領域の
外縁を示す枠状のマークを表示し、検査状況毎に線種を
変えて表示するようにしたものである。また、請求項3
に記載のように、上記検査状況を表すマークとして上記
検査領域の外縁を示す枠状のマークを表示し、検査状況
毎に色分けして表示するようにしたものである。
According to the inspection status display method of the present invention, a work image corresponding to an inspection work is displayed on a screen of a display device, and the inspection on the inspection work is performed. A mark representing the inspection status of the inspection area is displayed at a position on the work image corresponding to the inspection area as an execution unit. By displaying the mark indicating the inspection status of the inspection area at the position on the work image corresponding to the inspection area, the current inspection status can be easily known. According to a second aspect of the present invention, a frame-like mark indicating the outer edge of the inspection area is displayed as the mark indicating the inspection status, and the line type is changed for each inspection status. . Claim 3
As described above, a frame-like mark indicating the outer edge of the inspection area is displayed as a mark indicating the inspection status, and is displayed in different colors for each inspection status.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態につい
て図面を参照して詳細に説明する。図1は本発明の実施
の形態を示すパターン検査装置のブロック図である。図
1において、11は検査ワークとなるグリーンシート、
12はグリーンシート11上に形成された独立したパタ
ーン群となるピース、13はグリーンシート11を載せ
るX−Yテーブル、14はグリーンシート11を撮像す
るラインセンサカメラ、15は被測定パターンの欠陥候
補を検出して、この欠陥候補の位置を示すアドレス情報
を出力する第1の画像処理装置、16はこのアドレス情
報により欠陥候補を含む所定の領域について、被測定パ
ターンとマスタパターンの誤差を求め、被測定パターン
を検査する第2の画像処理装置、17は装置全体を制御
するホストコンピュータ、18は検査状況を表示するた
めの表示装置である。グリーンシート11上には、横N
個×縦M個(N、Mは1以上の整数)のマトリクス状に
配置されたピース12が印刷されている。通常、ピース
12は、同一パターンであり、1ピースが例えばIC1
個に相当する。
Next, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. FIG. 1 is a block diagram of a pattern inspection apparatus showing an embodiment of the present invention. In FIG. 1, reference numeral 11 denotes a green sheet serving as an inspection work;
Reference numeral 12 denotes a piece that forms an independent pattern group formed on the green sheet 11, 13 denotes an XY table on which the green sheet 11 is placed, 14 denotes a line sensor camera that captures an image of the green sheet 11, and 15 denotes a defect candidate of the pattern to be measured. A first image processing apparatus that outputs address information indicating the position of the defect candidate, and obtains an error between the measured pattern and the master pattern in a predetermined area including the defect candidate based on the address information. A second image processing device for inspecting the pattern to be measured, 17 is a host computer for controlling the entire device, and 18 is a display device for displaying the inspection status. On the green sheet 11, a horizontal N
Pieces 12 arranged in a matrix of pieces × M pieces (N and M are integers of 1 or more) are printed. Usually, the pieces 12 have the same pattern, and one piece is, for example, IC1.
Equivalent to an individual.

【0013】次に、このようなパターン検査装置の動作
を説明する。最初に、検査の前に予め作成しておくマス
タパターンについて説明する。ホストコンピュータ17
は、CAD(Computer Aided Design )システムによっ
て作成され例えば磁気ディスクに書き込まれたグリーン
シートの設計値データ(以下、CADデータとする)を
図示しない磁気ディスク装置によって読み出す。そし
て、読み出したCADデータからパターンのエッジデー
タを抽出し、これを検査の基準となる第1のマスタパタ
ーンとする。この抽出した第1のマスタパターンのエッ
ジデータは、パターンエッジを示す直線の集合である。
Next, the operation of such a pattern inspection apparatus will be described. First, a master pattern created before inspection will be described. Host computer 17
Is read out by a magnetic disk device (not shown), for example, green sheet design value data (hereinafter referred to as CAD data) created by a CAD (Computer Aided Design) system and written on a magnetic disk, for example. Then, pattern edge data is extracted from the read CAD data, and is used as a first master pattern serving as a reference for inspection. The extracted edge data of the first master pattern is a set of straight lines indicating pattern edges.

【0014】なお、上記CADデータに基づいて、グリ
ーンシート11が作製されシート11上にパターンがス
クリーン印刷されることは言うまでもない。次に、ホス
トコンピュータ17は、第1のマスタパターンから欠損
又は断線検出用の第2のマスタパターン、突起又は短絡
検出用の第3のマスタパターンを以下のように作成す
る。図2は第2、第3のマスタパターンの作成方法を説
明するための図であり、第1のマスタパターンの一部を
示している。
It is needless to say that the green sheet 11 is produced based on the CAD data and a pattern is printed on the sheet 11 by screen printing. Next, the host computer 17 creates a second master pattern for detecting loss or disconnection and a third master pattern for detecting protrusions or short circuits from the first master pattern as follows. FIG. 2 is a diagram for explaining a method of creating the second and third master patterns, and shows a part of the first master pattern.

【0015】まず、図2(a)に示すように、第1のマ
スタパターンをその中心線と直角の方向に収縮させて、
第2のマスタパターンM1を作成する。これは、第1の
マスタパターンの両エッジを示す対向する直線A1とA
4(中心線はL1)の間隔、及びA2とA3(中心線は
L2)の間隔を狭くして第1のマスタパターンを細らせ
ることにより作成することができる。
First, as shown in FIG. 2A, the first master pattern is contracted in a direction perpendicular to its center line,
A second master pattern M1 is created. This is because opposing straight lines A1 and A1 indicating both edges of the first master pattern
4 (center line is L1) and the distance between A2 and A3 (center line is L2) are narrowed to narrow the first master pattern.

【0016】続いて、図2(b)に示すように、第1の
マスタパターンをその中心線と直角の方向に膨張させ
て、第3のマスタパターンM2を作成する。これは、第
1のマスタパターンの両エッジを示す対向する直線A5
とA8(中心線はL3)、A6とA7(中心線はL
4)、A9とA12(中心線はL5)及びA10とA1
1(中心線はL6)の間隔をそれぞれ広くして第1のマ
スタパターンを太らせることにより作成することができ
る。
Subsequently, as shown in FIG. 2B, the first master pattern is expanded in a direction perpendicular to the center line to create a third master pattern M2. This corresponds to the opposite straight line A5 indicating both edges of the first master pattern.
And A8 (center line is L3), A6 and A7 (center line is L
4), A9 and A12 (center line is L5) and A10 and A1
1 (the center line is L6), and the first master pattern can be made thicker by widening the respective intervals.

【0017】ただし、実際に第3のマスタパターンM2
になるのは、直線A5〜A8からなるマスタパターンM
aと、直線A9〜A12からなるマスタパターンMbを
それぞれ膨張処理して生じた2つのパターンに挟まれた
領域(パターンが存在しない基材の部分)である。な
お、被測定パターンとの位置合わせに使用する位置決め
マークについては、膨張、収縮処理を実施しない。
However, actually, the third master pattern M2
Is a master pattern M composed of straight lines A5 to A8.
a and a region (base portion where no pattern exists) sandwiched between two patterns generated by expanding the master pattern Mb including the straight lines A9 to A12. The expansion and contraction processing is not performed on the positioning marks used for positioning with the pattern to be measured.

【0018】次に、被測定パターンの検査について説明
する。図3は表示装置18の検査状況表示画面の様子を
示す図である。図3において、1は表示装置18の検査
状況表示画面に表示された、グリーンシート11と相似
なワーク画像、2は各ピース12に対応したピース画像
である。なお、図3(b)〜図3(g)では、ワーク画
像1のうち検査対象ピースに対応する1つのピース画像
2のみを示している。ホストコンピュータ17は、図3
(a)に示すように、グリーンシート11に対応するワ
ーク画像1を表示装置18に表示させる。このワーク画
像1は上述した第1のマスタパターンを基に作成するこ
とができる。
Next, the inspection of the pattern to be measured will be described. FIG. 3 is a diagram showing a state of the inspection status display screen of the display device 18. As shown in FIG. In FIG. 3, reference numeral 1 denotes a work image similar to the green sheet 11 displayed on the inspection status display screen of the display device 18, and 2 denotes a piece image corresponding to each piece 12. 3 (b) to 3 (g) show only one piece image 2 of the work image 1 corresponding to the inspection target piece. The host computer 17 is configured as shown in FIG.
As shown in (a), the work image 1 corresponding to the green sheet 11 is displayed on the display device 18. The work image 1 can be created based on the first master pattern described above.

【0019】また、ホストコンピュータ17には、ピー
ス12の横の個数N、縦の個数M、ピース12の間隔な
どグリーンシート11上におけるピース12の位置と、
各ピース12内における検査領域とが予め登録されてい
る。このとき、1ピース全体を検査領域としてもよい
が、本実施の形態ではピース12を3分割して、その各
々を検査領域としている。
The host computer 17 also stores the position of the pieces 12 on the green sheet 11 such as the number N of the pieces 12 in the horizontal direction, the number M of the pieces 12 in the vertical direction, and the interval between the pieces 12.
The inspection area in each piece 12 is registered in advance. At this time, the entire piece may be used as the inspection area, but in the present embodiment, the piece 12 is divided into three parts, each of which is used as the inspection area.

【0020】図4はパターン検査装置における処理の流
れを示す図である。なお、本実施の形態では、第1の画
像処理装置15が3つの処理を並列に行うことができる
ものとして説明する。まず、ホストコンピュータ17
は、検査対象ピースの検査領域Aの画像取り込みを第1
の画像処理装置15に指示すると共に、検査対象ピース
上の検査領域Aに対応するピース画像2上の位置に、画
像入力中であることを示すマーク3を表示させる(図3
(b))。このマーク3は、検査領域Aの外縁を示す例
えば黄色の枠である。
FIG. 4 is a diagram showing a flow of processing in the pattern inspection apparatus. In the present embodiment, a description will be given assuming that the first image processing device 15 can perform three processes in parallel. First, the host computer 17
Sets the image capture of the inspection area A of the inspection target piece to the first
3 and a mark 3 indicating that an image is being input is displayed at a position on the piece image 2 corresponding to the inspection area A on the inspection target piece (FIG. 3).
(B)). The mark 3 is, for example, a yellow frame indicating the outer edge of the inspection area A.

【0021】第1の画像処理装置15は、検査対象ピー
スの検査領域A上にセットされたラインセンサカメラ1
4から出力された濃淡画像をディジタル化して、図示し
ない内部の画像メモリにいったん記憶する。カメラ14
はX方向に画素が配列されたラインセンサなので、X−
Yテーブル13がコンピュータ17の指示に応じてY方
向に移動することにより、2次元の画像データが画像メ
モリに記憶される。検査領域Aの画像取り込み終了後、
X−Yテーブル13は、ラインセンサカメラ14が検査
対象ピースの検査領域B上に位置するように移動する。
The first image processing device 15 includes a line sensor camera 1 set on the inspection area A of the inspection target piece.
4 is digitized and temporarily stored in an internal image memory (not shown). Camera 14
Is a line sensor in which pixels are arranged in the X direction.
When the Y table 13 moves in the Y direction in accordance with an instruction from the computer 17, two-dimensional image data is stored in the image memory. After the image capturing of the inspection area A is completed,
The XY table 13 moves so that the line sensor camera 14 is positioned on the inspection area B of the inspection target piece.

【0022】次に、第1の画像処理装置15は、検査領
域Aの一次検査を開始する。ホストコンピュータ17
は、検査対象ピース上の検査領域Aに対応するピース画
像2上の位置に、一次検査中であることを示すマーク4
を表示させる(図3(c))。このマーク4は、検査領
域Aの外縁を示す例えば緑色の枠である。同時に、ホス
トコンピュータ17は、検査対象ピースの検査領域Bの
画像取り込みを第1の画像処理装置15に指示し、検査
対象ピース上の検査領域Bに対応するピース画像2上の
位置に、画像入力中であることを示すマーク3を表示さ
せる。
Next, the first image processing device 15 starts the primary inspection of the inspection area A. Host computer 17
Is a mark 4 indicating that the primary inspection is being performed at a position on the piece image 2 corresponding to the inspection area A on the inspection target piece.
Is displayed (FIG. 3C). The mark 4 is, for example, a green frame indicating the outer edge of the inspection area A. At the same time, the host computer 17 instructs the first image processing device 15 to capture an image of the inspection area B of the inspection target piece, and inputs an image to the position on the piece image 2 corresponding to the inspection area B on the inspection target piece. A mark 3 indicating that the vehicle is in the middle is displayed.

【0023】X−Yテーブル13、ラインセンサカメラ
14及び第1の画像処理装置15による検査領域Bの画
像取り込みは領域Aと同様に行われ、領域Bの画像取り
込み終了後、X−Yテーブル13は、ラインセンサカメ
ラ14が検査対象ピースの検査領域C上に位置するよう
に移動する。
The image capture of the inspection area B by the XY table 13, the line sensor camera 14, and the first image processing device 15 is performed in the same manner as the area A. After the image capture of the area B is completed, the XY table 13 Moves so that the line sensor camera 14 is positioned on the inspection area C of the inspection target piece.

【0024】ここで、一次検査の方法について説明す
る。まず、第1の画像処理装置15は、画像メモリに記
憶した被測定パターンの位置決めマークとマスタパター
ンの位置決めマークの位置が一致するように、マスタパ
ターンと被測定パターンの位置合わせを行う。続いて、
第1の画像処理装置15は、位置合わせを行った後の被
測定パターンの濃淡画像を2値化する。そして、第1の
画像処理装置15は、2値画像中の連結した画素に同じ
ラベル(名前)を与えるラベリング処理により、被測定
パターンのエッジを示すエッジデータを2値画像から抽
出する。
Here, the primary inspection method will be described. First, the first image processing device 15 performs positioning of the master pattern and the pattern to be measured such that the position of the positioning mark of the pattern to be measured stored in the image memory matches the position of the positioning mark of the master pattern. continue,
The first image processing device 15 binarizes the grayscale image of the measured pattern after the alignment. Then, the first image processing device 15 extracts edge data indicating the edge of the pattern to be measured from the binary image by performing a labeling process of giving the same label (name) to the connected pixels in the binary image.

【0025】次に、第1の画像処理装置15は、こうし
て抽出した被測定パターンと第2、第3のマスタパター
ンとを比較して被測定パターンの欠陥候補を検出する。
図5はこの検査方法を説明するための図である。
Next, the first image processing device 15 compares the pattern to be measured thus extracted with the second and third master patterns to detect a defect candidate of the pattern to be measured.
FIG. 5 is a diagram for explaining this inspection method.

【0026】まず、図5(a)に示すように、被測定パ
ターンと第2のマスタパターンM1を比較する。エッジ
データnの集合からなる被測定パターンPと第2のマス
タパターンM1の論理積をとると、この論理積の結果
は、被測定パターンPに欠損や断線があるか否かによっ
て異なる。例えば、各エッジデータがその値として
「1」を有し、同様にマスタパターンM1が「1」を有
するとき、被測定パターンPに欠損や断線がない場合
は、被測定パターンPとマスタパターンM1が重なるこ
とがないので、論理積の結果は「0」となる。
First, as shown in FIG. 5A, the pattern to be measured is compared with the second master pattern M1. When the logical product of the measured pattern P composed of a set of edge data n and the second master pattern M1 is calculated, the result of the logical product differs depending on whether the measured pattern P has a defect or a disconnection. For example, when each edge data has "1" as its value, and similarly, when the master pattern M1 has "1", if the measured pattern P has no loss or disconnection, the measured pattern P and the master pattern M1 Do not overlap, the result of the logical product is “0”.

【0027】これに対し、エッジデータn1〜n3のよ
うに被測定パターンPに欠損があると、この部分で被測
定パターンPとマスタパターンM1が重なるので、論理
積の結果が「1」となる。これは、被測定パターンに断
線がある場合も同様である。こうして、被測定パターン
の欠損あるいは断線を検出することができる。そして、
画像処理装置15は、論理積の結果が「1」となって欠
陥候補と認識した位置(図5(a)では、エッジデータ
n2の位置)を記憶する。
On the other hand, if there is a defect in the pattern to be measured P as in the edge data n1 to n3, the pattern to be measured and the master pattern M1 overlap in this portion, and the result of the logical product is "1". . This is the same when the pattern to be measured has a disconnection. In this way, it is possible to detect loss or disconnection of the pattern to be measured. And
The image processing device 15 stores a position (the position of the edge data n2 in FIG. 5A) at which the result of the logical product is “1” and is recognized as a defect candidate.

【0028】続いて、図5(b)に示すように、被測定
パターンと第3のマスタパターンM2を比較する。上記
と同様に、被測定パターンPa、Pbと第3のマスタパ
ターンM2の論理積をとると、この論理積の結果は、被
測定パターンPa、Pbに突起や短絡があるか否かによ
って異なる。つまり、被測定パターンPa、Pbに突起
や短絡がない場合は、論理積の結果は「0」となる。
Subsequently, as shown in FIG. 5B, the measured pattern is compared with the third master pattern M2. Similarly to the above, when the logical product of the measured patterns Pa and Pb and the third master pattern M2 is obtained, the result of the logical product differs depending on whether the measured patterns Pa and Pb have a protrusion or a short circuit. That is, when there is no protrusion or short circuit in the patterns Pa and Pb to be measured, the result of the logical product is “0”.

【0029】また、エッジデータn4〜n6のように被
測定パターンPaに突起があると、この部分で被測定パ
ターンPaとマスタパターンM2が重なるので、論理積
の結果が「1」となる。同様に、エッジデータn7、n
8のように被測定パターンPa、Pbが短絡している
と、論理積の結果が「1」となる。こうして、被測定パ
ターンの突起あるいは短絡を検出することができる。そ
して、画像処理装置15は、論理積の結果が「1」とな
って欠陥候補と認識した位置(図5(b)では、エッジ
データn5、n7、n8の位置)を記憶する。
If the pattern Pa to be measured has a protrusion like the edge data n4 to n6, the pattern Pa to be measured overlaps the master pattern M2 at this portion, and the result of the logical product is "1". Similarly, edge data n7, n
When the patterns Pa and Pb to be measured are short-circuited as in 8, the result of the logical product is “1”. Thus, a protrusion or a short circuit of the pattern to be measured can be detected. Then, the image processing device 15 stores the position where the result of the logical product is “1” and is recognized as a defect candidate (in FIG. 5B, the positions of the edge data n5, n7, and n8).

【0030】以上のような一次検査を検査領域A全体に
ついて行えばよい。次に、第1の画像処理装置15は、
検査領域A内の欠陥候補の位置をアドレス情報として第
2の画像処理装置16に転送すると共に、検査領域Bの
一次検査を開始する。第2の画像処理装置16は、第1
の画像処理装置15から送られたアドレス情報に基づ
き、検出された欠陥を中心とする所定の大きさの領域に
ついて、被測定パターンと上記第1のマスタパターンを
比較して誤差を求めることにより二次検査を行う。この
検査の方法は、前述した図6〜図9の方法と同様であ
る。
The above-described primary inspection may be performed on the entire inspection area A. Next, the first image processing device 15
The position of the defect candidate in the inspection area A is transferred to the second image processing apparatus 16 as address information, and the primary inspection of the inspection area B is started. The second image processing device 16 has a first
Based on the address information sent from the image processing device 15 of the above, for the area of a predetermined size centered on the detected defect, the measured pattern is compared with the first master pattern to obtain an error. Perform the next inspection. This inspection method is the same as the above-described methods of FIGS.

【0031】ホストコンピュータ17は、検査領域Aに
対応するピース画像2上の位置に、二次検査中であるこ
とを示すマーク5を表示させる(図3(d))。このマ
ーク5は、検査領域Aの外縁を示す例えば青色の枠であ
る。同時に、ホストコンピュータ17は、検査領域Bに
対応するピース画像2上の位置に、一次検査中であるこ
とを示すマーク4を表示させ、検査領域Cの画像取り込
みを第1の画像処理装置15に指示し、検査領域Cに対
応するピース画像2上の位置に、画像入力中であること
を示すマーク3を表示させる。
The host computer 17 displays the mark 5 indicating that the secondary inspection is being performed at a position on the piece image 2 corresponding to the inspection area A (FIG. 3D). The mark 5 is, for example, a blue frame indicating the outer edge of the inspection area A. At the same time, the host computer 17 displays the mark 4 indicating that the primary inspection is being performed at a position on the piece image 2 corresponding to the inspection area B, and instructs the first image processing device 15 to capture the image of the inspection area C. Then, a mark 3 indicating that an image is being input is displayed at a position on the piece image 2 corresponding to the inspection area C.

【0032】X−Yテーブル13、ラインセンサカメラ
14及び第1の画像処理装置15による検査領域Cの画
像取り込みは領域Aと同様に行われ、領域Cの画像取り
込み終了後、X−Yテーブル13は、ラインセンサカメ
ラ14が次の検査対象ピースの検査領域A上に位置する
ように移動する。
The image capturing of the inspection area C by the XY table 13, the line sensor camera 14, and the first image processing device 15 is performed in the same manner as the area A. After the image capturing of the area C is completed, the XY table 13 Moves so that the line sensor camera 14 is positioned on the inspection area A of the next inspection target piece.

【0033】検査領域Aの二次検査を終えた第2の画像
処理装置16は、検査結果をホストコンピュータ17に
転送する。この検査結果を受け取ったホストコンピュー
タ17は、検査領域A内に欠陥が検出された場合、検査
領域A内の欠陥の位置に対応するピース画像2上の位置
に、例えば赤色のNGマーク6を表示させる(図3
(e))。
The second image processing device 16 that has completed the secondary inspection of the inspection area A transfers the inspection result to the host computer 17. When a defect is detected in the inspection area A, the host computer 17 receiving the inspection result displays, for example, a red NG mark 6 at a position on the piece image 2 corresponding to the position of the defect in the inspection area A. (Figure 3
(E)).

【0034】検査領域Bの一次検査を終えた第1の画像
処理装置15は、検査領域B内の欠陥候補の位置をアド
レス情報として第2の画像処理装置16に転送すると共
に、検査領域Cの一次検査を開始する。第2の画像処理
装置16は、第1の画像処理装置15から送られたアド
レス情報に基づき、検査領域Bの二次検査を行う。
The first image processing device 15 that has completed the primary inspection of the inspection region B transfers the position of the defect candidate in the inspection region B to the second image processing device 16 as address information, Initiate the primary inspection. The second image processing device 16 performs a second inspection of the inspection area B based on the address information sent from the first image processing device 15.

【0035】ホストコンピュータ17は、検査領域Bに
対応するピース画像2上の位置に、二次検査中であるこ
とを示すマーク5を表示させ、検査領域Cに対応するピ
ース画像2上の位置に、一次検査中であることを示すマ
ーク4を表示させる(図3(e))。検査領域Bの二次
検査を終えた第2の画像処理装置16は、検査結果をホ
ストコンピュータ17に転送し、検査結果を受け取った
ホストコンピュータ17は、検査領域B内に欠陥が検出
された場合、検査領域B内の欠陥の位置に対応するピー
ス画像2上の位置にNGマーク6を表示させる(図3
(f))。
The host computer 17 displays a mark 5 indicating that the secondary inspection is being performed at a position on the piece image 2 corresponding to the inspection area B, and displays the mark 5 on the piece image 2 corresponding to the inspection area C. Then, a mark 4 indicating that the primary inspection is being performed is displayed (FIG. 3E). The second image processing device 16 that has completed the secondary inspection of the inspection area B transfers the inspection result to the host computer 17, and the host computer 17 that has received the inspection result determines whether a defect is detected in the inspection area B. The NG mark 6 is displayed at a position on the piece image 2 corresponding to the position of the defect in the inspection area B (FIG. 3).
(F)).

【0036】検査領域Cの一次検査を終えた第1の画像
処理装置15は、検査領域C内の欠陥候補の位置をアド
レス情報として第2の画像処理装置16に転送し、第2
の画像処理装置16は、このアドレス情報に基づき検査
領域Cの二次検査を行う。ホストコンピュータ17は、
検査領域Cに対応するピース画像2上の位置に、二次検
査中であることを示すマーク5を表示させる(図3
(f))。
After completing the primary inspection of the inspection area C, the first image processing apparatus 15 transfers the position of the defect candidate in the inspection area C to the second image processing apparatus 16 as address information, and
The image processing device 16 performs a secondary inspection of the inspection area C based on the address information. The host computer 17
At the position on the piece image 2 corresponding to the inspection area C, a mark 5 indicating that the secondary inspection is being performed is displayed (FIG. 3).
(F)).

【0037】検査領域Cの二次検査を終えた第2の画像
処理装置16は、検査結果をホストコンピュータ17に
転送し、検査結果を受け取ったホストコンピュータ17
は、検査領域C内に欠陥が検出された場合、検査領域C
内の欠陥の位置に対応するピース画像2上の位置にNG
マーク6を表示させる(図3(g))。こうして、1つ
のピース12の検査が終了した後、次の検査対象ピース
の検査領域Aの画像取り込みを上記と同様に開始する。
なお、検査対象ピースが別のピース12に移っても、前
の検査対象ピースの検査結果(図3(g))は表示され
たままである。
The second image processing device 16 that has completed the secondary inspection of the inspection area C transfers the inspection result to the host computer 17 and receives the inspection result.
Indicates that when a defect is detected in the inspection area C, the inspection area C
NG at the position on the piece image 2 corresponding to the position of the defect in the
The mark 6 is displayed (FIG. 3 (g)). After the inspection of one piece 12 is completed in this way, image capturing of the inspection area A of the next inspection target piece is started in the same manner as described above.
Even if the inspection target piece moves to another piece 12, the inspection result of the previous inspection target piece (FIG. 3 (g)) remains displayed.

【0038】本実施の形態では、検査対象ピースを単数
としたが、図1のようにカメラ14を複数設けて、第
1、第2の画像処理装置15,16もカメラ14の台数
分だけ用意すれば、複数の検査対象ピースを同時に検査
することができる。また、本実施の形態では、グリーン
シートを検査ワークとするパターン検査装置を例にとっ
て説明したが、これに限るものではなく、他の検査装置
に本発明を適用してもよいことは言うまでもない。
In this embodiment, the inspection piece is singular. However, as shown in FIG. 1, a plurality of cameras 14 are provided, and the first and second image processing devices 15 and 16 are prepared by the number of cameras 14. Then, a plurality of inspection target pieces can be inspected simultaneously. Further, in the present embodiment, a pattern inspection apparatus using a green sheet as an inspection work has been described as an example. However, the present invention is not limited to this, and it goes without saying that the present invention may be applied to other inspection apparatuses.

【0039】[0039]

【発明の効果】本発明によれば、請求項1に記載のよう
に、検査ワークと相似なワーク画像を表示し、検査領域
に対応したワーク画像上の位置に該検査領域の検査状況
を表すマークを表示するので、現在検査が行われている
検査領域の位置や実行中の検査の種類あるいは現在まで
の検査結果等の検査状況をリアルタイムに、かつ容易に
確認することができる。
According to the present invention, a work image similar to the inspection work is displayed, and the inspection status of the inspection area is displayed at a position on the work image corresponding to the inspection area. Since the mark is displayed, it is possible to easily confirm in real time the inspection status such as the position of the inspection area where the inspection is currently performed, the type of the inspection being performed, or the inspection result up to the present.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明の実施の形態を示すパターン検査装置
のブロック図である。
FIG. 1 is a block diagram of a pattern inspection apparatus showing an embodiment of the present invention.

【図2】 第2、第3のマスタパターンの作成方法を説
明するための図である。
FIG. 2 is a diagram for explaining a method of creating second and third master patterns.

【図3】 表示装置の検査状況表示画面の様子を示す図
である。
FIG. 3 is a diagram showing a state of an inspection status display screen of the display device.

【図4】 パターン検査装置における処理の流れを説明
するための図である。
FIG. 4 is a diagram for explaining a flow of processing in the pattern inspection apparatus.

【図5】 第2、第3のマスタパターンとの比較による
検査方法を説明するための図である。
FIG. 5 is a diagram for explaining an inspection method based on comparison with second and third master patterns.

【図6】 断線を検出する従来の検査方法を説明するた
めの図である。
FIG. 6 is a diagram for explaining a conventional inspection method for detecting disconnection.

【図7】 断線を検出する従来の検査方法を説明するた
めの図である。
FIG. 7 is a diagram for explaining a conventional inspection method for detecting disconnection.

【図8】 短絡を検出する従来の検査方法を説明するた
めの図である。
FIG. 8 is a diagram for explaining a conventional inspection method for detecting a short circuit.

【図9】 欠損あるいは突起を検出する従来の検査方法
を説明するための図である。
FIG. 9 is a diagram for explaining a conventional inspection method for detecting a defect or a protrusion.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…ワーク画像、2…ピース画像、3、4、5…マー
ク、6…NGマーク、11…グリーンシート、12…ピ
ース、13…X−Yテーブル、14…ラインセンサカメ
ラ、15…第1の画像処理装置、16…第2の画像処理
装置、17…ホストコンピュータ、18…表示装置。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Work image, 2 ... Piece image, 3,4,5 ... Mark, 6 ... NG mark, 11 ... Green sheet, 12 ... Piece, 13 ... XY table, 14 ... Line sensor camera, 15 ... First Image processing device, 16: second image processing device, 17: host computer, 18: display device.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 検査ワークをカメラで撮像して自動的に
検査する検査装置において、該検査ワークの検査状況を
表示する検査状況表示方法であって、 表示装置の画面上に検査ワークに相当するワーク画像を
表示し、 前記検査ワーク上の検査実行単位である検査領域に対応
した前記ワーク画像上の位置に、該検査領域の検査状況
を表すマークを表示することを特徴とする検査状況表示
方法。
1. An inspection apparatus for automatically inspecting an inspection work by capturing an image of the inspection work with a camera, wherein the inspection work is a method of displaying an inspection state of the inspection work, and corresponds to the inspection work on a screen of the display device. Displaying a work image, and displaying a mark representing an inspection state of the inspection area at a position on the work image corresponding to an inspection area as an inspection execution unit on the inspection work. .
【請求項2】 請求項1記載の検査状況表示方法におい
て、 前記検査状況を表すマークとして前記検査領域の外縁を
示す枠状のマークを表示し、検査状況毎に線種を変えて
表示することを特徴とする検査状況表示方法。
2. The inspection status display method according to claim 1, wherein a frame-like mark indicating an outer edge of the inspection area is displayed as the mark indicating the inspection status, and a line type is changed for each inspection status. An inspection status display method characterized by the following.
【請求項3】 請求項1記載の検査状況表示方法におい
て、 前記検査状況を表すマークとして前記検査領域の外縁を
示す枠状のマークを表示し、検査状況毎に色分けして表
示することを特徴とする検査状況表示方法。
3. The inspection status display method according to claim 1, wherein a frame-like mark indicating an outer edge of the inspection area is displayed as the mark indicating the inspection status, and is displayed in different colors for each inspection status. Inspection status display method.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005241329A (en) * 2004-02-25 2005-09-08 Fujitsu Ten Ltd Inspection method and inspection device
US7097470B2 (en) 2000-09-14 2006-08-29 Fci Americas Technology, Inc. High density connector

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