JPH11306983A - Manufacture of plasma display panel - Google Patents

Manufacture of plasma display panel

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JPH11306983A
JPH11306983A JP10104941A JP10494198A JPH11306983A JP H11306983 A JPH11306983 A JP H11306983A JP 10104941 A JP10104941 A JP 10104941A JP 10494198 A JP10494198 A JP 10494198A JP H11306983 A JPH11306983 A JP H11306983A
Authority
JP
Japan
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sealing
panel
hole
glass substrate
gas
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP10104941A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hidenori Hanami
英徳 花見
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Shimadzu Corp
Original Assignee
Shimadzu Corp
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Filing date
Publication date
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Publication of JPH11306983A publication Critical patent/JPH11306983A/en
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  • Manufacture Of Electron Tubes, Discharge Lamp Vessels, Lead-In Wires, And The Like (AREA)
  • Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To carry out adhesion and sealing, by which sheeting processing can be performed in a short time without using a chip tube, by installing a sealant with a through hole in a vent hole of a panel and aligning the vent hole with the through hole in the sealant. SOLUTION: A panel 3 is formed when a first glass substrate (back substrate) 1 and a second glass substrate (front substrate) 2 are stuck to each other with a clearance 5 provided between them, and then, sealed together by heating a sealant 4 applied to the vicinities of the both substrates 1, 2. In the first glass substrate 1, a through hole type vent hole 6 is arranged. In the vicinity of the vent hole 6 of the first glass substrate 1, a sealant 12 such as low melting point glass is applied, and a sealing pan 10 is brought into contact with the first glass substrate 1 while putting the sealant 12 between them. In the sealing pan 10, a through hole 11 is formed. In this sealing pan 10 attaching process, the position of the vent hole 6 of the glass substrate 1 and that of the opened end of the through hole 11 in the sealing pan 10 are aligned with each other.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマディスプ
レイの製造方法に関し、特に、プラズマディスプレイパ
ネル等のフラットディスプレイパネルの製造において、
封着済みのパネルの脱ガス、ガス封入、及び封止処理に
関する。
The present invention relates to a method for manufacturing a plasma display, and more particularly to a method for manufacturing a flat display panel such as a plasma display panel.
The present invention relates to degassing, gas filling, and sealing of a sealed panel.

【0002】[0002]

【従来の技術】高い省スペースや携帯性が可能なディス
プレイとして、LCD(液晶ディスプレイ)やPDP
(プラズマディスプレイ)FED(電界放出型ディスプ
レイ)等のフラットパネルディスプレイ(FPD)が開
発されている。このうちプラズマディスプレイは、放電
による発光を利用したディスプレイであり、薄型で大画
面のディスプレイに適用することができる。プラズマデ
ィスプレイが備えるプラズマディスプレイパネルは、放
電ガスを内部に封止した2枚のガラス基板によって構成
されている。
2. Description of the Related Art LCDs (Liquid Crystal Displays) and PDPs can be used as displays capable of saving space and portability.
(Plasma display) Flat panel displays (FPDs) such as FEDs (field emission displays) have been developed. Among them, the plasma display is a display utilizing light emission by discharge, and can be applied to a thin, large-screen display. 2. Description of the Related Art A plasma display panel included in a plasma display includes two glass substrates in which a discharge gas is sealed.

【0003】プラズマディスプレイパネルは、一般に、
ガラス基板に電極等の放電発光のための機構を形成する
前工程と、前工程が終了したガラス基板を微小間隔を開
けて対向させ、その周囲をシール材でシールし(封
着)、ガラス基板間で挟まれる空間内を排気した後、H
eやNeやXe等の放電ガスを注入し、枯化(エージン
グ)やドライバ機構の取り付けといった後工程とにより
形成される。
[0003] Plasma display panels are generally
A pre-process in which a mechanism for discharge light emission such as an electrode is formed on a glass substrate, and a glass substrate which has been subjected to the pre-process is opposed to the glass substrate at a small interval, and the periphery thereof is sealed with a sealing material (sealing). After exhausting the space between the
It is formed by injecting a discharge gas such as e, Ne, Xe, or the like, and performing a post-process such as aging or mounting of a driver mechanism.

【0004】従来、前記した後工程で行う封着排気工程
は、両ガラス基板を封着する工程、一方のガラス基板
(背面基板)に排気管(チップ管)を封着(シーリン
グ)する工程、加熱及び排気による脱ガスの工程、放電
ガスを封入する工程、チップ管を封止する(チップオ
フ)工程といった各工程を含んでいる。
Conventionally, the sealing and exhausting step performed in the above post-process includes a step of sealing both glass substrates, a step of sealing (sealing) an exhaust pipe (chip tube) to one glass substrate (back substrate), Each step includes a step of degassing by heating and exhausting, a step of sealing a discharge gas, and a step of sealing a chip tube (chip off).

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】プラズマディスプレイ
パネルの製造プロセスにおいて、従来行われている封着
排気工程は、バッチ方式が大半であり、かつ長い処理時
間を要し、生産性の低い工程となっていた。その主要な
要因となっているのが、チップ管からの排気による排気
時間の長時間化、低温度勾配でのガラスパネルの加熱・
冷却プロセスが挙げられる。
In the manufacturing process of a plasma display panel, most of the conventional sealing and exhausting processes are batch processes, require a long processing time, and have low productivity. I was The main factors are the prolonged evacuation time due to the evacuation from the chip tube, and the heating and heating of the glass panel with a low temperature gradient.
Cooling processes.

【0006】図15は、従来の封着排気工程に用いられ
るチップ管を説明するための概略断面図である。図15
において、ディスプレイパネル3は、第1のガラス基板
1(背面基板)と第2のガラス基板2(前面基板)と
を、周囲部分において封着材4で接合することによって
形成される。このディスプレイパネル3の2枚にガラス
基板で挟まれる空間部分は、排気を行った後、放電ガス
の封入を行う。この排気及びガス封入は、第1のガラス
基板1に取り付けられたチップ管100によって行われ
る。このチップ管100は、第1のガラス基板1の通気
口6にチップ管100の中空部分を位置に合わせし、周
囲をチップ管接続用封着材101で封着することによっ
て、取り付けられる。
FIG. 15 is a schematic sectional view for explaining a tip tube used in a conventional sealing and exhausting process. FIG.
, The display panel 3 is formed by joining a first glass substrate 1 (back substrate) and a second glass substrate 2 (front substrate) with a sealing material 4 in a peripheral portion. The space between the two glass panels of the display panel 3 is evacuated and then filled with a discharge gas. The exhaust and gas filling are performed by the chip tube 100 attached to the first glass substrate 1. The chip tube 100 is attached by aligning the hollow portion of the chip tube 100 with the vent 6 of the first glass substrate 1 and sealing the periphery with a chip tube connection sealing material 101.

【0007】チップ管は、小さいコンダクタンスのため
に排気を長時間化させ、また、ディスプレイパネル等の
ハンドリングにミスがあるとチップ管が破損し、製品の
歩留まりを低下させる要因となっている。また、チップ
管によって、パネルの枚葉式搬送が困難であり、チップ
管を封止するチップオフ作業には人手が必要である等の
ために、自動化,インライン化が困難となっている。
[0007] The chip tube has a long conductance due to a small conductance, and if there is an error in handling of a display panel or the like, the chip tube is damaged, which causes a reduction in product yield. Further, the chip tube makes it difficult to carry out the single-wafer transfer of the panel, and the chip-off operation for sealing the chip tube requires manual labor, which makes automation and in-line operation difficult.

【0008】また、封着排気工程において、チップ管を
用いない方法が提案されている(特開平1−41142
号公報や特開平6−302279号)。しかしながら、
従来提案されるチップ管を用いない方法では、封止栓を
嵌合させる操作の自動化が困難であったり、バッチ式で
あるため排気に時間がかかる等の問題がある。封着排気
工程を自動化,インライン化するには、チップ管を用い
ず、かつ短時間で枚葉処理が可能な封着方法が望まれて
いる。
[0008] A method that does not use a chip tube in the sealing and exhausting step has been proposed (Japanese Patent Laid-Open No. 1-41422).
JP-A-6-302279). However,
The conventional methods that do not use a tip tube have problems that it is difficult to automate the operation of fitting the sealing plug, and it takes a long time to exhaust gas because of the batch type. In order to automate and inline the sealing and exhausting process, a sealing method that does not use a chip tube and can perform single-wafer processing in a short time is desired.

【0009】そこで、本発明は従来のプラズマディスプ
レイパネルの製造方法の問題点を解決し、封着後のパネ
ルの排気、ガス封入、及び封止する排気処理において、
チップ管を用いず、かつ短時間で枚葉処理が可能な接着
・封止を行うことができるプラズマディスプレイパネル
の製造方法を提供することを目的とし、また、自動化,
インライン化を行うことができるプラズマディスプレイ
パネルの製造方法を提供することを目的とする。
Therefore, the present invention solves the problems of the conventional method of manufacturing a plasma display panel, and provides a method of exhausting a panel after sealing, filling a gas, and sealing.
It is an object of the present invention to provide a method of manufacturing a plasma display panel capable of performing bonding and sealing that can perform single-wafer processing in a short time without using a chip tube.
An object of the present invention is to provide a method for manufacturing a plasma display panel that can be in-lined.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明のプラズマディス
プレイパネルの製造方法は、2枚のガラス基板が450
℃程度の温度であらかじめ封着処理されて形成されたパ
ネルを処理対象とし、このパネルの排気、ガス封入、及
び封止を行うものである。
According to the method of manufacturing a plasma display panel of the present invention, the two glass substrates are 450
A panel formed by performing a sealing process in advance at a temperature of about ° C. is to be processed, and the panel is evacuated, filled with gas, and sealed.

【0011】従来より行われる封着排気処理は、2枚の
ガラス基板の周囲を封着する封着処理と、封着後のパネ
ル内を排気、ガス封入、及び封止する排気処理を合わせ
て呼称しているが、本発明は、封着後の前記排気処理に
関するものであり、この排気処理において、封止部材の
接着、排気、ガス封入、及び封止の処理を含むものであ
る。
The conventional sealing and exhausting process includes a sealing process for sealing around two glass substrates and an exhausting process for exhausting, sealing and sealing the inside of the panel after sealing. Although referred to as the present invention, the present invention relates to the evacuation processing after sealing, and the evacuation processing includes bonding, evacuation, gas sealing, and sealing of a sealing member.

【0012】そして、本発明は上記排気処理において、
貫通孔が形成された封止部材をパネルの通気口に取り付
け、この封止部材の貫通孔を通すことによって、チップ
管を用いない排気及びガス封入を可能とするものであ
る。貫通孔のコンダクタンスはチップ管のコンダクタン
スよりも大きくすることができ、また、チップ管の封着
及び取り外しの工程を除くことができるため、排気及び
ガス封入を短時間で行うことができる。
The present invention relates to the above-mentioned exhaust treatment,
A sealing member having a through hole is attached to a vent of the panel, and exhaust and gas sealing without using a chip tube are enabled by passing through the through hole of the sealing member. The conductance of the through-hole can be made larger than the conductance of the tip tube, and the steps of sealing and removing the tip tube can be omitted, so that exhaust and gas filling can be performed in a short time.

【0013】また、封止部材の貫通孔の径をパネルの通
気口よりも小径とし、封止部材のパネルへの接着・封止
を二段階に分割して行い、パネルへの通気部分の径を段
階的に狭めて最終的に封止することによって、プラズマ
ディスプレイパネルの一連の製造工程をステップ的に細
分化し、タクト搬送機構と組み合わせることによって、
インライン式(枚葉式)PDP(プラズマディスプレイ
パネル)製造装置を構成できることとなり、プラズマデ
ィスプレイパネルの製造に要する全体の時間を短縮する
ことができる。
Further, the diameter of the through hole of the sealing member is made smaller than that of the ventilation hole of the panel, and the sealing member is bonded and sealed to the panel in two stages. By gradually narrowing and finally sealing, a series of manufacturing processes of the plasma display panel is subdivided in steps, and by combining with a tact transfer mechanism,
An in-line (single-wafer) PDP (plasma display panel) manufacturing apparatus can be configured, and the overall time required for manufacturing a plasma display panel can be reduced.

【0014】そこで、本発明は、ガラス基板の封着によ
り形成されるパネルによってプラズマディスプレイパネ
ルを製造するプラズマディスプレイパネルの製造方法に
おいて、パネルを形成するガラス基板の通気口を封止す
る部材として、少なくともガラス基板と当接しない側の
径を通気口よりも小径とする貫通孔を有する封止部材を
用意し、第1の接着処理では、封止部材をガラス基板の
少なくとも一箇所に設けた通気口に接着し、第2の封止
処理では、パネルの内部に貫通孔を通してガス封入した
後、該貫通孔を最終的に封止する。これによって、封止
部材の接着・封止処理を段階的に行う。この封止部材
は、中央に貫通孔を有する封止皿によって構成すること
ができ、たとえば金属製やセラミック製とすることもで
きる。
Therefore, the present invention provides a plasma display panel manufacturing method for manufacturing a plasma display panel using a panel formed by sealing a glass substrate, wherein a member for sealing a vent of the glass substrate forming the panel is provided. A sealing member having a through hole having a diameter at least on a side not in contact with the glass substrate smaller than the ventilation hole is prepared, and in the first bonding process, the sealing member is provided in at least one place of the glass substrate. In the second sealing process, gas is sealed in the inside of the panel through a through hole, and then the through hole is finally sealed. Thereby, the bonding / sealing process of the sealing member is performed stepwise. This sealing member can be constituted by a sealing dish having a through hole in the center, and can be made of, for example, metal or ceramic.

【0015】封止部材の接着・封止処理を段階的とする
ことによって、パネルに対して排気及びガス封入を行う
通気口の径を段階的に狭め、作業工程をステップ的に連
続化することによって、製造工程時間を短縮することが
できる。
[0015] By making the bonding and sealing process of the sealing member stepwise, the diameter of the vent hole for exhausting and sealing the gas into the panel is gradually narrowed, and the working process is made continuous in a stepwise manner. Thereby, the manufacturing process time can be reduced.

【0016】本発明における封着排気工程では、封着済
みのパネルを用い、該パネルの排気ないしガス封入と、
パネルの最終封止とを排気工程として連続的に行うもの
である。なお、ガラス基板を封着してパネルを形成する
封着処理と、封止部材をガラス基板に取り付ける接着処
理とでは、温度領域が異なる。たとえば、パネルを形成
する封着処理の温度は、封止部材を接着する温度よりも
高温度(例えば450℃程度)で、ガラス基板全体を均
熱する温度制御が必要である。また、このとき、封着材
のフリットガラスの焼成は酸化雰囲気中で行う必要があ
る。一方、封止部材の接着では、ガラス基板の封着温度
より低い温度(例えば350℃程度)で行うとともに、
パネル内の排気とガス封入を行う。
In the sealing and exhausting step in the present invention, a sealed panel is used, and the panel is evacuated or filled with gas.
The final sealing of the panel is performed continuously as an evacuation process. The temperature range is different between the sealing process for sealing the glass substrate to form a panel and the bonding process for attaching the sealing member to the glass substrate. For example, the temperature of the sealing process for forming the panel is higher than the temperature at which the sealing member is bonded (for example, about 450 ° C.), and it is necessary to control the temperature to uniformly heat the entire glass substrate. At this time, the firing of the frit glass as the sealing material needs to be performed in an oxidizing atmosphere. On the other hand, the bonding of the sealing member is performed at a temperature lower than the sealing temperature of the glass substrate (for example, about 350 ° C.).
Exhaust and gas filling the panel.

【0017】本発明の排気処理では、第1の接着処理と
して排気の途上で、工程内の最高温度である350℃程
度の温度で封止部材をガラス基板に接着する。そして、
貫通孔を通してパネル内の排気を継続しつつ冷却した
上、ガス封入を行い、第2の封止処理で貫通孔を最終的
に封止する。この封止処理では貫通孔のみを局所的にス
ポット封止するものであるため、処理時間は短時間です
む。
In the evacuation process of the present invention, the sealing member is bonded to the glass substrate at a temperature of about 350 ° C., which is the highest temperature in the process, during the evacuation as a first bonding process. And
The panel is cooled while continuing exhausting the gas through the through-hole, gas is sealed, and the through-hole is finally sealed by the second sealing process. In this sealing process, only the through-hole is locally spot-sealed, so that the processing time is short.

【0018】本発明における排気処理の概要を説明す
る。図1は本発明における排気工程を説明するためのフ
ローチャートである。図1において、パネル内の昇温を
開始し(ステップS1)、次にパネル内の排気を開始す
る(ステップS2)。第1の接着処理として、パネルの
通気口に封止部材を取り付け、所定の到達温度(たとえ
ば、350℃程度)まで加熱・排気して封止部材の接着
を行う(ステップS3)。所定の到達圧力に到るまで、
封止部材の貫通孔からの排気とパネルの冷却を行った
後、パネルの内部に、封止部材の貫通孔を通してガス封
入を行い(ステップS4)、第2の封止処理として、封
止部材の貫通孔を最終的に封止し、パネル内に封入ガス
を閉じこめる。
An outline of the exhaust process according to the present invention will be described. FIG. 1 is a flowchart for explaining the exhaust process in the present invention. In FIG. 1, the temperature inside the panel is started (step S1), and then the exhaust inside the panel is started (step S2). As a first bonding process, a sealing member is attached to the vent of the panel, and heated and evacuated to a predetermined ultimate temperature (for example, about 350 ° C.) to bond the sealing member (Step S3). Until the specified ultimate pressure is reached
After exhausting the gas through the through hole of the sealing member and cooling the panel, gas is sealed in the inside of the panel through the through hole of the sealing member (step S4). Finally, the through-hole is sealed, and the sealed gas is confined in the panel.

【0019】一般に、ガラス材は温度に対する取り扱い
が難しく、急激な温度変化や温度差によってひずみや割
れが生じやすい。そのため、ガラス基板の通気口を一工
程でかつ短時間で封止することは困難である。
In general, glass materials are difficult to handle with respect to temperature, and are liable to be distorted or cracked due to rapid temperature changes or temperature differences. Therefore, it is difficult to seal the vent of the glass substrate in one step and in a short time.

【0020】これに対して、本発明では封止部材の接着
・封止の作業を短時間のステップ的作業によって完了で
き、また、各段階に合わせて、ガラス基板の温度制御や
パネル内の排気,ガス封入等の各処理を行うことによっ
て、封着排気工程のサイクル時間を短縮することができ
る。
On the other hand, in the present invention, the work of bonding and sealing the sealing member can be completed by a short step-wise work, and the temperature of the glass substrate and the exhaust in the panel can be adjusted according to each stage. , Gas filling, etc., the cycle time of the sealing and exhausting step can be shortened.

【0021】本排気処理では、排気工程の中で第1の接
着処理を行うことにしており、封止部材を当接する前の
状態において、大きな排気コンダクタンスで排気を行う
ことができ、排気の時間を短縮することができる。
In the present exhaust process, the first bonding process is performed in the exhaust process, so that the exhaust can be performed with a large exhaust conductance before the sealing member is brought into contact, and the exhaust time can be reduced. Can be shortened.

【0022】第1の接着処理において、縦置きのパネル
に封止部材を取り付ける場合には、保持手段によって封
止部材をガラス基板に押圧することとし、これによって
封止部材を少なくとも封着材が固化するまでの間、ガラ
ス基板の通気口の位置に位置決めし、固定する必要があ
る。
In the first bonding process, when the sealing member is attached to the vertically placed panel, the sealing member is pressed against the glass substrate by the holding means, whereby the sealing member is at least sealed with the sealing material. Until it is solidified, it needs to be positioned and fixed at the position of the vent of the glass substrate.

【0023】パネル内にガス封入する第1の形態は、封
入ガスの雰囲気中にパネルを置き、チャンバ内が最終封
止ガス圧力に到るまでガスリークすることによって行
う。また、パネル内にガス封入する第2の形態では、被
装部によって少なくとも封止部材の貫通孔の開放端を被
い、この被装部内を封入ガスで満たし、パネルの内部と
封入ガス側との圧力差によってガス封入を行う。被装部
を用いる第2の形態によれば、封入ガスの使用量を減少
させることができる。なお、この第2の形態において、
パネル外の圧力(チャンバ側圧力)がパネル内圧力より
も若干低くなるようにパネルリークに同期してチャンバ
リークを行う。これによって、パネル外のガスがパネル
内に浸入することを防止するとともに、圧力差によって
ガラス基板に発生するひずみや割れの原因を最小限に抑
えることができる。
The first mode of filling the gas in the panel is performed by placing the panel in an atmosphere of the filling gas and performing gas leak until the inside of the chamber reaches the final sealing gas pressure. Further, in the second mode in which gas is sealed in the panel, at least the open end of the through hole of the sealing member is covered by the covering portion, and the inside of the covering portion is filled with the filling gas. The gas is sealed by the pressure difference. According to the second embodiment using the mounting portion, the usage amount of the sealed gas can be reduced. Note that in this second embodiment,
The chamber leak is performed in synchronization with the panel leak so that the pressure outside the panel (chamber side pressure) becomes slightly lower than the panel inside pressure. This prevents gas outside the panel from entering the panel, and minimizes the causes of strain and cracks generated in the glass substrate due to the pressure difference.

【0024】封止部材の貫通孔を封止する封止材は、低
融点ガラス、ブラックガラスペーストやUV接着材を用
いることができる。ガラス材を用いる場合には、二酸化
炭素レーザーやYAGレーザー等のレーザー光や、超高
圧水銀ランプ等の光源の熱を集光させてガラス材を溶融
して封止する。また、LDCパネル等接着材を用いるこ
とができる場合には、接着材にUV光を照射して固化さ
せ封止することができる。
As the sealing material for sealing the through hole of the sealing member, low melting glass, black glass paste, or UV adhesive can be used. When a glass material is used, laser light such as a carbon dioxide laser or a YAG laser or heat from a light source such as an ultra-high pressure mercury lamp is condensed to melt and seal the glass material. When an adhesive such as an LDC panel can be used, the adhesive can be irradiated with UV light to be solidified and sealed.

【0025】また、ガラス基板に複数個の通気口を設
け、パネルに対する排気及びガス封入を複数個の通気口
を通して行うことができ、この場合には、複数個の通気
口に対して個々にあるいは一体で封止部材を取り付ける
ことができる。また、封止部材の複数個の貫通孔に対し
て個別に被装部を取り付け、一方で排気を行い、他方で
ガス導入を行うことによって、パネル内部のクリーニン
グを同時に行うことができる。
Further, a plurality of vents may be provided in the glass substrate, and exhaust and gas filling of the panel may be performed through the plurality of vents. In this case, the plurality of vents may be individually or individually provided to the plurality of vents. The sealing member can be attached integrally. Further, by separately attaching the covered portions to the plurality of through holes of the sealing member, performing exhaust on one side, and introducing gas on the other side, it is possible to simultaneously perform cleaning of the inside of the panel.

【0026】[0026]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図を
参照しながら詳細に説明する。本発明のプラズマディス
プレイパネルの製造方法の形態を、図2〜図7を用いて
説明する。図2はプラズマディスプレイパネルの製造方
法の第1の形態を説明するフローチャートであり、図3
はパネル内の温度と圧力の変化を示す図である。なお、
以下の説明では、プラズマディスプレイパネルの製造に
おいて一般に封着排気処理で呼ばれる処理の内で、排気
処理に対応する部分について説明する。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings. An embodiment of a method of manufacturing a plasma display panel according to the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 2 is a flowchart illustrating a first embodiment of a method of manufacturing a plasma display panel.
FIG. 4 is a diagram showing changes in temperature and pressure in the panel. In addition,
In the following description, a part corresponding to the exhaust processing in the processing generally called the sealing exhaust processing in the manufacture of the plasma display panel will be described.

【0027】本発明の排気工程は、パネル内を排気して
ガス封入した後、封止を行う工程であり、連結接続され
て構成されるL/C(導入室)、P/C(プロセス
室)、及びU/C(排出室)において、パネルの導入、
加熱・排気、封止部材の接着処理、排気処理、放電ガス
の封入、通気口の封止等の処理を含んでいる。
The evacuation step of the present invention is a step of performing sealing after exhausting the inside of the panel and sealing the gas therein, and connecting and connecting L / C (introduction chamber) and P / C (process chamber). ), And introduction of panels at U / C (discharge chamber)
The processing includes heating and exhausting, bonding of a sealing member, exhausting, filling of discharge gas, sealing of a vent, and the like.

【0028】そこで、はじめに、あらかじめ2枚のガラ
ス基板を封着して形成されたパネルをL/C内に導入す
る。なお、パネルの背面基板には、パネル内の排気、及
びパネル内へのガス封入を行う通気口が形成される(ス
テップS11)。L/Cにおいて、プレヒートを開始す
るとともに、排気を開始する(ステップS12)。
Therefore, first, a panel formed by sealing two glass substrates in advance is introduced into the L / C. In addition, a vent for exhausting the inside of the panel and filling the inside of the panel with gas is formed in the rear substrate of the panel (step S11). In L / C, preheating is started and exhaust is started (step S12).

【0029】パネルをL/CからにP/Cに搬送し、P
/C内において排気を行うとともに、加熱手段で加熱し
て昇温を行う(ステップS13)。
The panel is transported from the L / C to the P / C,
The air is exhausted in / C and heated by the heating means to increase the temperature (step S13).

【0030】次に、ステップS14〜ステップS16に
よって、封止部材(封止皿)の接着を行う。図4は封止
部材の封着を説明するための図であり、封止部材として
封止皿10を用いた例を示している。図4において、パ
ネル3は、第1ガラス基板(背面基板)1と第2ガラス
基板(前面基板)2とを間隙5を有して張り合わせ、両
基板1,2間の周辺部に塗布した封着材4を加熱して封
着することによって形成されている。第1ガラス基板1
には、貫通する通気口6が設けられている。
Next, in steps S14 to S16, the sealing member (sealing plate) is bonded. FIG. 4 is a view for explaining the sealing of the sealing member, and shows an example in which a sealing plate 10 is used as the sealing member. In FIG. 4, a panel 3 is composed of a first glass substrate (rear substrate) 1 and a second glass substrate (front substrate) 2 bonded together with a gap 5 therebetween, and a seal applied to a peripheral portion between the substrates 1 and 2. The sealing material 4 is formed by heating and sealing. First glass substrate 1
Is provided with a vent 6 penetrating therethrough.

【0031】図4(a)、(b)において、第1ガラス
基板1の通気口6の近傍に低融点ガラス等の封着材12
を塗布して付着させ、該封着材12を挟んで封止皿10
を第1ガラス基板1に当接させる。封止皿10には、貫
通孔11が形成されている。この封止皿10の当接にお
いて、第1ガラス基板1の通気口6の位置と封止皿10
の貫通孔11の開放端の位置との位置合わせを行う(ス
テップS14)。
4 (a) and 4 (b), a sealing material 12 such as a low melting point glass is provided near the vent 6 of the first glass substrate 1.
Is applied and adhered, and the sealing plate 12 is sandwiched by the sealing material 12.
Is brought into contact with the first glass substrate 1. A through hole 11 is formed in the sealing dish 10. In the contact of the sealing plate 10, the position of the vent 6 of the first glass substrate 1 and the position of the sealing plate 10
Is aligned with the position of the open end of the through hole 11 (step S14).

【0032】パネル3を縦方向に保持した状態で加熱及
び排気を行う場合には、少なくとも封着材12が固化す
るまでの間、保持手段14によって封止部材(封止皿1
0)を保持する。図5は封止部材を保持する保持手段を
説明する図である。保持手段14は、スプリング機構を
用いた構成とすることができ、封止皿10を第1ガラス
基板1に対して押圧して(図5(a))、保持を行う
(図5(b))。これによって、パネル3を縦方向に保
持した状態であっても、封止部材(封止皿10)を通気
口6の位置に保持することができる(ステップS1
5)。
When heating and evacuation are performed while the panel 3 is held in the vertical direction, the sealing member (sealing plate 1) is held by the holding means 14 at least until the sealing material 12 is solidified.
0) is held. FIG. 5 is a diagram illustrating a holding unit that holds the sealing member. The holding means 14 can be configured to use a spring mechanism, and presses the sealing dish 10 against the first glass substrate 1 (FIG. 5A) to hold (FIG. 5B). ). Thus, even when the panel 3 is held in the vertical direction, the sealing member (sealing plate 10) can be held at the position of the vent 6 (step S1).
5).

【0033】温度が所定温度(たとえば350℃程度)
まで昇温した後、封着材12が溶融し終わる程度の所定
時間、前記温度を均熱で保持した後、冷却を行う。これ
によって、封止部材の接着が行われる。
The temperature is a predetermined temperature (for example, about 350 ° C.)
After the temperature is increased to a certain level, the temperature is maintained at a uniform temperature for a predetermined time that the sealing material 12 is completely melted, and then cooled. Thereby, the sealing member is bonded.

【0034】封止部材の取り付けが行われた後は、封止
部材の貫通孔11を通してパネル3内の排気を続行し、
真空排気を行う。なお、貫通孔11を通しての排気速度
は、封止部材を取り付ける前よりも低下することにな
る。
After the mounting of the sealing member, the exhaust of the panel 3 is continued through the through hole 11 of the sealing member,
Evacuate. Note that the exhaust speed through the through-hole 11 is lower than before the sealing member is attached.

【0035】なお、P/C内の排気は、封止部材を取り
付けた後に行う態様とすることもできる。この態様によ
れば、封止部材の接着を酸素雰囲気内で行うことができ
る。
The exhaust in the P / C may be performed after the sealing member is attached. According to this aspect, the bonding of the sealing member can be performed in an oxygen atmosphere.

【0036】図3のパネル内圧力に示す実線は、この圧
力履歴を表している。排気を行うとともに、パネル3の
温度をひずみが生じない程度の降温速度で冷却する(ス
テップS16,17,18)。
The solid line shown in FIG. 3 indicates the pressure history. While the air is exhausted, the temperature of the panel 3 is cooled at a temperature lowering rate at which no distortion occurs (steps S16, S17, S18).

【0037】冷却の後、パネル3をP/CからU/C
(排出室)に搬送し(ステップS19)、U/C内に放
電用封入ガスを導入する。U/C内に導入された封入ガ
スは、パネル内部との圧力差によって封止皿10の貫通
孔11を通してガスリークが行われ、封入ガスがパネル
3内に封入される(ステップS20)。
After cooling, the panel 3 was changed from P / C to U / C
(Step S19), and the discharge gas is introduced into the U / C. The sealing gas introduced into the U / C leaks gas through the through hole 11 of the sealing plate 10 due to a pressure difference from the inside of the panel, and the sealing gas is sealed in the panel 3 (step S20).

【0038】パネル3内にガス封入した後、封入ガスの
雰囲気中で封止皿10の貫通孔11を封止する。この貫
通孔11の封止は、貫通孔11部分に低融点ガラスやブ
ラックガラスペースト、あるいはUV接着材等の封止材
13を付着させ、ガラス材の場合には、二酸化炭素レー
ザーやYAGレーザー等のレーザー光や、超高圧水銀ラ
ンプ等の光を集光させてガラス材を溶融して封止し、ま
た、UV接着材の場合には、UV光を照射してUV接着
材を固化することによって封止する。
After the gas is sealed in the panel 3, the through hole 11 of the sealing dish 10 is sealed in an atmosphere of the sealed gas. To seal the through-hole 11, a sealing material 13 such as a low-melting glass, a black glass paste, or a UV adhesive is attached to the through-hole 11, and in the case of a glass material, a carbon dioxide laser, a YAG laser, or the like is used. Laser light or light from an ultra-high pressure mercury lamp is condensed to melt and seal the glass material. In the case of a UV adhesive, the UV adhesive is irradiated to solidify the UV adhesive. Sealing.

【0039】図6は封止材13を加熱する一手段を示す
図である。図6において、真空チャンバ25の外部に光
ビーム加熱手段27を設け、この光ビーム加熱手段27
から窓26を通して封止材13を照射し、これによって
加熱を行う。図4(c)は貫通孔の封止状態を示してい
る。この封止状態では、パネル3の内部は封入ガスで満
たされ、外部と遮断された状態となっている(ステップ
S21)。パネルの封着が終了した後、パネル3をU/
Cから搬出し、次の工程への搬送を行う(ステップS2
2)。
FIG. 6 is a view showing one means for heating the sealing material 13. In FIG. 6, a light beam heating means 27 is provided outside the vacuum chamber 25, and the light beam heating means 27 is provided.
Irradiates the sealing material 13 through the window 26 from above, thereby performing heating. FIG. 4C shows a sealed state of the through hole. In this sealed state, the inside of the panel 3 is filled with the sealing gas and is shielded from the outside (step S21). After the sealing of the panel is completed, the panel 3 is
C and carried to the next step (step S2).
2).

【0040】なお、封止皿10を保持する保持手段14
は、ステップS16の後の任意の段階ではずすことがで
き、保持手段14を取り付けた状態あるいははずした状
態のいずれの状態であっても、ステップS20のガス封
入を行うことができる。なお、L/C、P/C、及びP
/Cの各チャンバ内で行う各処理は、ステップ的に行わ
れる。
The holding means 14 for holding the sealing dish 10
Can be removed at any stage after step S16, and the gas filling in step S20 can be performed regardless of the state in which the holding means 14 is attached or removed. Note that L / C, P / C, and P
Each process performed in each chamber of / C is performed stepwise.

【0041】封止皿10は、前記図4で示した形状に限
らず他の形状とすることができる。以下、封止皿の他の
形態を説明する。図7は封止皿の他の形態を説明するた
めの断面図である。図7に示す封止皿20,22は貫通
孔11を有した突出部21,23を備えた構成例であ
る。突出部21はその先端部が周方向に膨出した形状で
あり、突出部23はその先端部が細い円錐台状の形状で
ある。
The sealing dish 10 is not limited to the shape shown in FIG. Hereinafter, other embodiments of the sealing dish will be described. FIG. 7 is a cross-sectional view for explaining another embodiment of the sealing dish. Each of the sealing plates 20 and 22 shown in FIG. 7 is an example of a configuration including projections 21 and 23 having through holes 11. The protruding portion 21 has a shape in which the front end portion bulges in the circumferential direction, and the protruding portion 23 has a frustoconical shape in which the front end portion is thin.

【0042】封止皿20,22の第1ガラス基板1への
取り付けは、図4に示した封止皿10と同様に行うこと
ができる(図7(a),(b))。封止皿20,22の
封止は、突出部21,23を変形して、貫通孔11を閉
じることによって行う。この貫通孔11の閉鎖は、ヒー
トブロック24を突出部21,23に押し当て(図7
(c))、加熱しながら押圧することによって突出部2
1,23を変形することによって行うことができる(図
7(d))。
The sealing plates 20 and 22 can be attached to the first glass substrate 1 in the same manner as the sealing plate 10 shown in FIG. 4 (FIGS. 7A and 7B). The sealing of the sealing plates 20 and 22 is performed by deforming the protruding portions 21 and 23 and closing the through holes 11. To close the through hole 11, the heat block 24 is pressed against the protrusions 21 and 23 (FIG. 7).
(C)) The protrusion 2 is formed by pressing while heating.
This can be done by deforming 1, 23 (FIG. 7D).

【0043】次に、封止処理の他の形態を図8〜10を
用いて説明する。この封止処理の形態では、封止部材の
貫通孔の封止において、少なくとも貫通孔を被う被装部
を用いて行うものである。
Next, another embodiment of the sealing process will be described with reference to FIGS. In this form of the sealing process, the sealing of the through hole of the sealing member is performed using at least the portion to be covered which covers the through hole.

【0044】図8のフローチャートは、封止部材の貫通
孔の封止手順を説明するものである。なお、このフロー
チャートは貫通孔の封止手順のみを示し、この処理前の
手順は、前記図2のフローチャートのステップS18ま
での手順と同様であるため、ステップS18以降の処理
のみを示している。また、図3中の破線は、この形態に
よるチャンバ内の温度と圧力の変化を示している。
FIG. 8 is a flowchart for explaining a procedure for sealing the through-hole of the sealing member. It should be noted that this flowchart shows only the procedure for sealing the through-hole, and the procedure before this processing is the same as the procedure up to step S18 in the flowchart of FIG. 2, and thus shows only the processing after step S18. The broken lines in FIG. 3 indicate changes in temperature and pressure in the chamber according to this embodiment.

【0045】封止部材を取り付けたパネルをU/C内に
搬送した後(ステップS51)、ガス封入管を封止部材
側に当接させる。図9,10は被装部31を説明するた
めの図である。被装部31は、少なくとも封止部材の貫
通孔11を被う程度の径を有するカバー33を備える。
カバー33の貫通孔11と対面する側は開放され、当接
部分にはOリング32が設けられる。また、カバー33
には、真空チャンバ21の外部に設けられた真空排気系
41,封入ガス源43が各バルブ42,44を介して接
続される。また、真空チャンバ21にはバルブ46を介
して不活性ガス源45が接続されている。また、カバー
33には加熱手段が取り付けられる。加熱手段として、
外部から光ファイバ28等でレーザ光を導入して光照射
を行う光学系29、または進退可能なヒートブロック2
4を取り付けることができる。レーザ光源として、たと
えばYAGレーザを用いれば、光ファイバによってカバ
ー33内への導入が可能となる。
After the panel on which the sealing member is mounted is transported into the U / C (step S51), the gas sealing tube is brought into contact with the sealing member. FIGS. 9 and 10 are diagrams for explaining the mounted portion 31. FIG. The covering portion 31 includes a cover 33 having a diameter enough to cover at least the through hole 11 of the sealing member.
The side of the cover 33 facing the through-hole 11 is opened, and an O-ring 32 is provided at the contact portion. Also, the cover 33
Is connected to a vacuum exhaust system 41 and a sealed gas source 43 provided outside the vacuum chamber 21 via valves 42 and 44, respectively. An inert gas source 45 is connected to the vacuum chamber 21 via a valve 46. A heating means is attached to the cover 33. As a heating means,
An optical system 29 for irradiating a laser beam by introducing a laser beam from the outside with an optical fiber 28 or the like, or a heat block 2 that can move forward and backward.
4 can be attached. If, for example, a YAG laser is used as the laser light source, it can be introduced into the cover 33 by an optical fiber.

【0046】なお、貫通孔を封止する封止手段は、被装
部31内に設置するほか、被装部31の外部に設置し、
被装部31に設けた窓を通して光を照射することによっ
て行うこともできる。
The sealing means for sealing the through-hole is provided inside the covered portion 31 and also outside the covered portion 31,
It can also be performed by irradiating light through a window provided in the covered part 31.

【0047】ガス封入管31のカバー33のOリング3
2を第1ガラス基板1あるいは封止皿10に当接させる
ことによって、パネル3の内部は貫通孔11を通してカ
バー33内と同一の雰囲気となる。ここで、排気した真
空チャンバ21内で被装部31をパネルに取り付ける
と、パネル3の内部は排気された状態に保持されるとと
もに、パネル3の外部と遮断された状態となる。したが
って、真空排気系41により、パネル内の真空度を更に
高めることもできる。(ステップS52)。
O-ring 3 of cover 33 of gas sealing tube 31
By bringing 2 into contact with the first glass substrate 1 or the sealing dish 10, the inside of the panel 3 has the same atmosphere as the inside of the cover 33 through the through hole 11. Here, when the mounted part 31 is attached to the panel in the evacuated vacuum chamber 21, the inside of the panel 3 is kept in the evacuated state and is in a state of being cut off from the outside of the panel 3. Therefore, the degree of vacuum in the panel can be further increased by the evacuation system 41. (Step S52).

【0048】被装部31を取り付けた状態で、封入ガス
源43からカバー33内に封入ガスを導入すると、パネ
ル3内の圧力は低いため、その圧力差によって、封入ガ
スはパネル3内にリークする(ステップS53)。
When the sealing gas is introduced from the sealing gas source 43 into the cover 33 with the mounting portion 31 attached, the pressure inside the panel 3 is low, and the sealing gas leaks into the panel 3 due to the pressure difference. (Step S53).

【0049】また、真空チャンバ21にはバルブ46を
介して不活性ガス源45から不活性ガスをリークする。
このとき、真空チャンバ21内の圧力は、パネル3内の
圧力よりわずかに低く設定する。パネル3内の圧力を高
くすることによって、不活性ガスがパネル3内にリーク
することを防ぎ、また、圧力差を小さくすることによっ
て、圧力差によるガラス基板1,2の変形を防止する
(ステップS54)。
The inert gas leaks from the inert gas source 45 into the vacuum chamber 21 via the valve 46.
At this time, the pressure in the vacuum chamber 21 is set slightly lower than the pressure in the panel 3. Increasing the pressure in panel 3 prevents the inert gas from leaking into panel 3, and reducing the pressure difference prevents deformation of glass substrates 1 and 2 due to the pressure difference (step). S54).

【0050】パネル3内に封入ガスを導入した後、前記
21,44と同様にして、封止皿10の貫通孔11を封
止し(ステップS55)、パネルをU/Cから搬出する
(ステップS56)。
After introducing the sealing gas into the panel 3, the through-hole 11 of the sealing plate 10 is sealed in the same manner as in the above-mentioned items 21 and 44 (step S55), and the panel is carried out from the U / C (step S55). S56).

【0051】この被装部は、U/C内に限らず、P/C
内の各処理ステップに設けることもでき、被装部に真空
排気系を接続することによってパネル内の排気を行うこ
ともできる。
The part to be covered is not limited to the inside of the U / C, but the P / C
Can be provided in each processing step, and the inside of the panel can be evacuated by connecting a vacuum evacuation system to the portion to be mounted.

【0052】パネルの接着・排気処理は、パネルのま
ま、あるいはホルダに保持した状態で行うことができ
る。図11,12は本発明のパネルを保持するホルダの
形態を示す概略斜視図、及び断面図である。パネル3の
加熱は、ガラス基板のままの状態で行うことも、あるい
はホルダ50に保持した状態で加熱することができる。
このホルダ50は均熱板53,54をパネル3に接触さ
せた状態で保持し、このホルダ50に収納した状態で図
示しない加熱手段に導入する。なお、この加熱手段で
は、接触伝熱によって加熱を行うことができる。
The bonding and exhausting of the panel can be performed with the panel as it is or with the panel held. 11 and 12 are a schematic perspective view and a sectional view showing a form of a holder for holding the panel of the present invention. The heating of the panel 3 can be performed with the glass substrate as it is, or can be performed while being held by the holder 50.
The holder 50 holds the heat equalizing plates 53 and 54 in contact with the panel 3, and introduces the heat equalizing plates 53 and 54 into a heating unit (not shown) while being housed in the holder 50. In this heating means, heating can be performed by contact heat transfer.

【0053】なお、図11(a),図12(a)は均熱
板を開いた状態のホルダの斜視図であり、図11
(b),図12(b)は均熱板を閉じた状態のホルダの
斜視図であり、図11(c),図12(c)は均熱板を
閉じた状態のホルダの断面図である。
FIGS. 11 (a) and 12 (a) are perspective views of the holder with the heat equalizing plate opened.
(B) and FIG. 12 (b) are perspective views of the holder with the heat equalizing plate closed, and FIGS. 11 (c) and 12 (c) are cross-sectional views of the holder with the heat equalizing plate closed. is there.

【0054】ホルダの第1の構成例は、図11に示すよ
うに、2枚の均熱板53,54を両側部の保持枠51,
52で開閉可能に保持する構成であり、均熱板53,5
4でパネル1をはさむことによって、パネル1の両面を
均熱板53,54に接触した状態で保持を行う。なお、
一方の均熱板53には、パネル1の通気口と対応する位
置に貫通する通気口56を備える。
As shown in FIG. 11, the first example of the structure of the holder includes two heat equalizing plates 53 and 54,
52 so as to be openable and closable.
By holding the panel 1 at 4, the panel 1 is held in a state where both surfaces of the panel 1 are in contact with the heat equalizing plates 53 and 54. In addition,
One of the heat equalizing plates 53 is provided with a vent 56 penetrating at a position corresponding to the vent of the panel 1.

【0055】また、ホルダの第2の構成例は、図12に
示すように、2枚の均熱板53’,54’をヒンジ55
で開閉可能に連結した構成であり、均熱板53’,5
4’を閉じることによって、パネル3の両面を均熱板5
3’,54’に接触させながら保持を行う。なお、一方
の均熱板53’には、パネル3の通気口と対応する位置
に貫通する通気口56’を備える。
As shown in FIG. 12, a second configuration example of the holder includes two heat equalizing plates 53 'and 54'
The heat equalizing plates 53 ', 5
By closing 4 ′, both sides of panel 3 are
Holding is performed while making contact with 3 'and 54'. Note that one of the heat equalizing plates 53 'is provided with a vent 56' penetrating to a position corresponding to the vent of the panel 3.

【0056】なお、均熱板53,54,53’,54’
は、一方の面はパネル3の平面部分と接触し、他方の面
は加熱手段の加熱面と接触して、熱をパネル3に効率よ
く、かつ、均等に伝える部材である。
The heat equalizing plates 53, 54, 53 ', 54'
Is a member in which one surface is in contact with the plane portion of the panel 3 and the other surface is in contact with the heating surface of the heating means, and efficiently and uniformly transmits heat to the panel 3.

【0057】ホルダに保持した状態のパネルについて
も、前記と同様に、封止部材の接着・排気やガス封入を
行うことができる。図13は、ホルダに保持した状態の
パネルの排気、封止を説明するための図である。図13
において、図9と同様にして、被装部31のカバー33
をホルダ50に保持したパネル3に当接させる。このと
き、カバー33の先端は図示するようにパネル3のガラ
ス面に当接させることも、封止皿10の面に当接させる
こともできる。
In the panel held in the holder, the sealing member can be bonded, evacuated, and filled with gas as described above. FIG. 13 is a diagram for explaining exhaust and sealing of the panel held in the holder. FIG.
In the same manner as in FIG.
Is brought into contact with the panel 3 held by the holder 50. At this time, the tip of the cover 33 can be in contact with the glass surface of the panel 3 as shown in the figure, or can be in contact with the surface of the sealing dish 10.

【0058】また、パネル3に複数個の通気口を設ける
ことができ、排気及び封入ガスの導入の時間を短縮する
ことができる。また、図14に示すように、複数個の通
気口6a,6bに対して、それぞれ封止皿10a,10
bを取り付け、それぞれにガス封入管31a,31bを
用いることができ、一方のガス封入管31a(または3
1b)で排気を行い、他方のガス封入管31b(または
31a)でガスの封入を行うことができる。この構成に
よれば、ガラスパネル内のクリーニングを行うことがで
きる。
Further, a plurality of vents can be provided in the panel 3, and the time for exhaust and introduction of the sealed gas can be reduced. As shown in FIG. 14, the sealing plates 10a, 10b are respectively provided for the plurality of ventilation holes 6a, 6b.
b, gas-filled tubes 31a and 31b can be used for each, and one of the gas-filled tubes 31a (or 3
Evacuation is performed in 1b), and gas can be sealed in the other gas sealing tube 31b (or 31a). According to this configuration, the inside of the glass panel can be cleaned.

【0059】本発明のプラズマディスプレイパネルの製
造方法の形態によれば、チップ管を用いず、封止部材の
接着・封止の作業を短時間のステップ的作業によって完
了でき、また、各段階に合わせて、ガラス基板の温度制
御やパネル内の排気,ガス封入等の各処理を行うことに
よって、封着排気工程のサイクル時間を短縮することが
できる。
According to the method of manufacturing a plasma display panel of the present invention, the operation of bonding and sealing the sealing member can be completed by a short step-wise operation without using a chip tube. In addition, by performing various processes such as controlling the temperature of the glass substrate, exhausting the inside of the panel, and filling gas, the cycle time of the sealing and exhausting step can be shortened.

【0060】また、段階的な接着・封止によって、最終
的な封止は、小面積を封止するスポット封止とすること
ができ、接着・封止にかかわる処理時間を短縮すること
ができる。また、パネルのタクト搬送機構と組み合わせ
て、自動インライン化した装置を構成することができ
る。
Further, by the stepwise bonding / sealing, the final sealing can be spot sealing for sealing a small area, and the processing time for the bonding / sealing can be reduced. . In addition, an automatic in-line device can be configured in combination with the panel tact transfer mechanism.

【0061】また、本発明によれば、パネルに温度や圧
力で生じるひずみや割れを抑えることができる。
Further, according to the present invention, it is possible to suppress distortion and cracks generated in the panel due to temperature and pressure.

【0062】[0062]

【発明の効果】以上説明したように、本発明のプラズマ
ディスプレイパネルの製造方法によれば、封着済ガラス
パネルの排気工程が自動インライン化できることにな
り、連続生産によって生産性を大幅に高めることができ
る。
As described above, according to the method of manufacturing a plasma display panel of the present invention, the exhausting process of the sealed glass panel can be automatically performed in-line, and the productivity can be greatly improved by continuous production. Can be.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明における封着排気工程を説明するための
フローチャートである。
FIG. 1 is a flowchart for explaining a sealing exhaust process in the present invention.

【図2】本発明の形態を説明するフローチャートであ
る。
FIG. 2 is a flowchart illustrating an embodiment of the present invention.

【図3】本発明の形態のパネル内の温度と圧力の変化を
示す図である。
FIG. 3 is a diagram showing changes in temperature and pressure in a panel according to an embodiment of the present invention.

【図4】本発明の形態の封止部材の封着を説明するため
の図である。
FIG. 4 is a diagram for explaining sealing of a sealing member according to an embodiment of the present invention.

【図5】本発明の封止部材を保持する保持手段を説明す
る図である。
FIG. 5 is a diagram illustrating a holding unit for holding the sealing member of the present invention.

【図6】本発明の封止材を加熱する加熱手段を示す図で
ある。
FIG. 6 is a view showing a heating means for heating the sealing material of the present invention.

【図7】本発明の封止部材の他の形態を説明するための
断面図である。
FIG. 7 is a cross-sectional view for explaining another embodiment of the sealing member of the present invention.

【図8】本発明の形態を説明するフローチャートであ
る。
FIG. 8 is a flowchart illustrating an embodiment of the present invention.

【図9】本発明の被装部を説明するための図である。FIG. 9 is a view for explaining a covered part of the present invention.

【図10】本発明の被装部を説明するための図である。FIG. 10 is a view for explaining a covered part of the present invention.

【図11】本発明のパネルを保持するホルダの形態を示
す概略斜視図である。
FIG. 11 is a schematic perspective view showing a form of a holder for holding the panel of the present invention.

【図12】本発明のパネルを保持するホルダの形態を示
す断面図である。
FIG. 12 is a cross-sectional view showing a form of a holder for holding the panel of the present invention.

【図13】本発明のホルダに保持した状態のパネルの封
止を説明するための図である。
FIG. 13 is a view for explaining sealing of the panel held by the holder of the present invention.

【図14】本発明の被装部を説明するための図である。FIG. 14 is a view for explaining a covered part of the present invention.

【図15】従来の封着排気工程に用いられるチップ管を
説明するための概略断面図である。
FIG. 15 is a schematic cross-sectional view for explaining a tip tube used in a conventional sealing exhaust process.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,2…ガラス基板、3…パネル、4,12…封着材、
5…間隙、6…通気口、10,20…封止皿、11…貫
通孔、13…封止材、14…保持手段、21,23…突
出部、24…ヒートロック、25…真空チャンバ、26
…窓、27…光ビーム加熱手段、28…光ファイバ、2
9…光学系、31…被装部、32…Oリング、33…カ
バー、41…真空排気系、42,44,46…バルブ、
43…封入ガス源、45…不活性ガス源、50,50’
…ホルダ、51,52…保持枠、53,54,53’,
54’…断熱板、55…ヒンジ、56、56’…通気
口、100…チップ管、101…チップ管接続用封着
材。
1, 2, glass substrate, 3 panel, 4, 12 sealing material,
5 gap, 6 vent, 10, 20 sealing plate, 11 through hole, 13 sealing material, 14 holding means, 21, 23 projecting part, 24 heat lock, 25 vacuum chamber, 26
... window, 27 ... light beam heating means, 28 ... optical fiber, 2
9: Optical system, 31: Covering part, 32: O-ring, 33: Cover, 41: Vacuum exhaust system, 42, 44, 46: Valve,
43: sealed gas source, 45: inert gas source, 50, 50 '
... Holders, 51, 52 ... Holding frames, 53, 54, 53 ',
54 ': heat insulating plate, 55: hinge, 56, 56': vent, 100: chip tube, 101: sealing material for connecting the chip tube.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ガラス基板を封着して形成されるパネル
を備えるプラズマディスプレイパネルを製造するプラズ
マディスプレイパネルの製造方法において、 貫通孔を有する封止部材をガラス基板の少なくとも一箇
所に設けた通気口に接着する接着処理と、 前記封止部材の貫通孔を通してパネル内の排気及びガス
封入の後、貫通孔を封止する封止処理とを備える、プラ
ズマディスプレイパネルの製造方法。
1. A plasma display panel manufacturing method for manufacturing a plasma display panel including a panel formed by sealing a glass substrate, wherein a ventilation member provided with a sealing member having a through hole at at least one position of the glass substrate. A method for manufacturing a plasma display panel, comprising: an adhesion process for adhering to a mouth; and a sealing process for sealing the through hole after exhausting and filling gas in the panel through the through hole of the sealing member.
【請求項2】 前記貫通孔は、少なくともガラス基板と
当接しない側の径がガラス基板の通気口よりも小径であ
る、請求項1記載のプラズマディスプレイパネルの製造
方法。
2. The method of manufacturing a plasma display panel according to claim 1, wherein the diameter of the through hole at least on the side not in contact with the glass substrate is smaller than the diameter of the vent of the glass substrate.
【請求項3】 前記パネル内の排気及びガス封入は、少
なくとも封止部材の貫通孔の開放端を被う被装部によっ
て行う、請求項1,又は2記載のプラズマディスプレイ
パネルの製造方法。
3. The method of manufacturing a plasma display panel according to claim 1, wherein the exhaust and gas filling in the panel are performed by a covering portion covering at least an open end of a through hole of a sealing member.
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007080607A (en) * 2005-09-13 2007-03-29 Matsushita Electric Ind Co Ltd Method for manufacturing plasma display panel
KR100883842B1 (en) 2007-05-04 2009-02-17 이재하 Glass cap and method of injecting plasma gas for flat panel using the same
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