JPH11306306A - 非接触式icカード - Google Patents

非接触式icカード

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JPH11306306A
JPH11306306A JP10991898A JP10991898A JPH11306306A JP H11306306 A JPH11306306 A JP H11306306A JP 10991898 A JP10991898 A JP 10991898A JP 10991898 A JP10991898 A JP 10991898A JP H11306306 A JPH11306306 A JP H11306306A
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JP
Japan
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resin
card
resin composition
chip
contact type
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JP10991898A
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English (en)
Inventor
Akira Mizoguchi
晃 溝口
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Sumitomo Electric Industries Ltd
Original Assignee
Sumitomo Electric Industries Ltd
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
    • H01L2224/48091Arched
    • HELECTRICITY
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    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
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    • H01L2224/732Location after the connecting process
    • H01L2224/73251Location after the connecting process on different surfaces
    • H01L2224/73265Layer and wire connectors

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Abstract

(57)【要約】 【解決手段】酸化防止機能を有する化合物を含みかつ熱
変形可能な樹脂組成物6を銅芯線4の周囲に被覆した絶
縁電線によりアンテナコイルが形成されており、当該絶
縁電線がICチップ1に設けられた入出力端子8にボン
ディングされている。 【効果】被覆樹脂組成物6が、酸化防止機能を有する化
合物を含むので、樹脂組成物被覆時の熱により銅芯線の
表面が酸化されることがなく、清浄な銅表面を維持でき
るので、ボンディング時に半田や導電性ペーストを使用
する必要がなくなる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、アンテナコイルを
内蔵した近接型非接触式ICカードに関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】従来より、リーダ・ライタとアンテナコ
イルとICチップとから構成される非接触式ICカード
(以下単に「ICカード」という)により情報のやり取
りを行うICカードシステムが種々提案されている。こ
のようなICカードシステムは、地下鉄等の交通機関の
定期乗車券、高速道路の自動料金徴収システム、テレホ
ンカード、等のシステムや工場における製品管理システ
ム、流通業界における商品管理システム、さらにはパチ
ンコプリペイドカード等にもその利用が検討され、一部
すでに実用化されている。
【0003】従来より一般に知られているICカードの
断面構造を図7に示す。図中、21はICチップ、22
はプリント配線板、23はプリント配線板上に形成され
たアンテナ回路パターン、24はチップを保護するため
の穴あきスペーサー、26はカバーシートを示す。前記
ICチップ21は接着層27を介してプリント配線板2
2に固定され、ICチップ21上の入出力電極28とア
ンテナ回路パターン23はボンディングワイヤー29に
より電気的に接合され、封止樹脂25により保護されて
いる。
【0004】上記構造のICカードは厚さ1.3〜1.
5mm程度と比較的厚いため、その用途が限定されてお
り、また、部品点数が多いため高コストとなるという問
題があった。近年、上記問題を解決するため、薄型のI
Cチップをフリップチップボンディング法により、ボン
ディングワイヤーを使用することなしに導電性ペースト
を介しプリント配線板に接合したものが開発されている
(特開平9−1969号公報参照)。
【0005】上記薄型ICカードでは、アンテナ回路部
分は、銀ペースト等の導電性ペーストでスクリーン印刷
した後、熱処理により固定する方法(以下「スクリーン
印刷法」という)、又は樹脂シートに銅箔を積層加工し
た後、エッチングにより不要部分を除去する方法(以下
「銅箔エッチング法」という)により形成される。これ
らの方法により、厚さ0.25mmという薄型のICカ
ードの開発に成功している。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】これらの方法では、カ
ードの薄肉化や製造コストの低減が図れるものの、材料
コストや製造コストがなお高いという問題があり、さら
なるコスト低減が望まれていた。一方、銅線をコイル状
に巻いてアンテナにする方法では、確かに材料コストは
大幅に低減できるものの、銅線どうしが接触しないよう
にカバーシートに固定するためには、新たなプロセスが
必要となり、製造コストが上昇してしまうという問題が
あった。
【0007】本発明の目的は、安価に製造でき、薄型で
携帯や保管に便利なICカードを提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明のICカードは、
酸化防止機能を有する化合物を含みかつ熱変形可能な樹
脂組成物を銅芯線の周囲に被覆した絶縁電線によりアン
テナコイルが形成されており、当該絶縁電線がICチッ
プに設けられた入出力端子にボンディングされているこ
とを特徴とする(請求項1)。
【0009】前記ICカードによれば、アンテナコイル
は、樹脂組成物を被覆した絶縁電線を巻いて形成される
ため、絶縁電線同士が接触しても不良は発生しない。ま
た、被覆樹脂組成物が、酸化防止機能を有する化合物を
含むので、樹脂組成物被覆時の熱により銅芯線の表面が
酸化されることがなく、清浄な銅表面を維持できるの
で、ボンディング時に半田や導電性ペーストを使用する
必要がなくなる。さらに、絶縁電線は、ICチップの入
出力端子にボンディングする時又はボンディングする前
に、樹脂組成物が熱変形により剥離されるようにすれ
ば、プリント配線板等の中間媒体を経由せずに、直接ボ
ンディング可能であるため、薄形のICカードを低コス
トで製造できる。
【0010】前記樹脂組成物の被覆厚みは0.1〜2μ
mであることが好ましい(請求項2)。樹脂組成物の被
覆厚みは使用される電圧により絶縁性能が低下しなけれ
ば、薄ければ薄いほど好ましいが、0.1μm未満にな
ると、均一な絶縁被覆層を形成することが困難になり、
電気的なピンホールが発生するため、信頼性が低下す
る。一方、絶縁被覆層が2μmよりも厚くなると熱圧着
時、樹脂被覆層が接合面から十分に排除されなかった
り、ボンディング前の剥離が困難になったりするので、
ICチップの入出力端子へのボンディングが困難にな
る。
【0011】前記酸化防止機能を有する化合物には、例
えば、(a) 芳香族フェノールや芳香族アミンに代表され
るラジカル連鎖禁止剤、(b) チオプロピオン酸等のイオ
ウ化合物、アルキルホスファイト、アリルホスファイト
等のリン化合物、ジアルキルチオカルバミン酸金属等の
金属化合物に代表されるヒドロペルオキシド分解剤、
(c) シュウ酸誘導体、サリチル酸誘導体、ヒドラジド誘
導体、複素芳香族化合物等に代表される金属不活性剤、
等があげられる。
【0012】これらの化合物の中では、アミノ基、メル
カプト基、ヒドロキシル基のうち少なくとも1つを有す
る化合物であることが好ましい(請求項3)。特に、メ
ラミンや複素芳香族アミン化合物が絶縁層形成時の熱に
よる銅線表面酸化を防止する能力が大きいので、好まし
い(請求項4)。絶縁電線の樹脂組成物が、熱変形開始
温度100℃〜190℃の範囲にある樹脂を主成分とし
て含む樹脂組成物であることことが好ましい(請求項
5)。
【0013】熱変形開始温度が100℃未満では、IC
カード成形時の熱や圧力により樹脂絶縁層の変形が発生
し、電気的信頼性が失われる可能性がある。一方、熱変
形開始温度が190℃を超える場合は、熱圧着時の樹脂
被覆層の剥離性が悪化するため、ICチップの入出力端
子へのボンディングが困難になる。ここで、「熱変形開
始温度」とは、樹脂被覆したワイヤ同士をリング状に連
結し、一定の加重をかけた状態で2°C/分の速度で昇
温した場合に、電気的な短絡が発生する温度として定義
される(JIS C3003 )。
【0014】上記の熱変形開始温度を有する樹脂として
は、ポリウレタン樹脂、ポリアクリルウレタン樹脂、ポ
リエステル樹脂、塩化ビニル樹脂、塩化ビニリデン樹
脂、ビニルホルマール樹脂、ビニルカルバゾール樹脂、
アリル樹脂、メタクリル酸エステル樹脂、ポリメチルス
チレン樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、
ポリアミド樹脂、フェノキシ樹脂、塩素化ポリエーテル
樹脂、等があげられる。
【0015】銅線の周囲に樹脂被覆層を形成する方法と
しては、樹脂溶液の焼き付け法、電着法、あるいはUV
硬化法によるものが一般的であるが、溶融押し出し法、
気相蒸着法によっても形成することができる。ただし、
厚み0.1〜2μmの樹脂被覆層を低コストでかつ均一
に形成するには、樹脂溶液の焼き付け法、またはUV硬
化法が好ましい。
【0016】樹脂溶液の焼き付け法により銅線の周囲に
樹脂被覆層を形成するには、前記樹脂のうち、ポリアク
リルウレタン樹脂、メタクリル酸エステル樹脂、ポリウ
レタン樹脂、ポリエステル樹脂、ビニルホルマール樹
脂、ポリアミド樹脂が好ましい(請求項6)。その理由
は、次のとおりである。 (a) 塩化ビニリデン樹脂、アリル樹脂、ポリメチルスチ
レン樹脂、フェノキシ樹脂は不溶性であること (b) ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂は難溶性で
あること (c) ビニルカルバゾール樹脂は塩素化芳香族のみに溶解
するが、含塩素溶剤は製造上腐食の問題があること (d) 塩化ビニル樹脂、塩素化ポリエーテル樹脂はケト
ン、芳香族系溶剤に可溶であるが、塩素を含んでいるた
め接合時あるいは外装時(熱圧着、射出成形)の熱で塩
素が発生し、ICチップに悪影響を与える可能性がある
こと (e) 従って、焼き付け法を適用可能なのは、ポリアクリ
ルウレタン樹脂、メタクリル酸エステル樹脂、ポリウレ
タン樹脂、ポリエステル樹脂、ビニルホルマール樹脂、
ポリアミド樹脂、となる。これらの中で、前2種はUV
硬化用樹脂、残り4種は熱硬化(焼き付け)でよく使用
される樹脂である。
【0017】ICチップの入出力端子へのボンディング
は、アンテナコイルを、絶縁電線の樹脂組成物皮膜を熱
圧着時の熱により剥離することにより行う(請求項
7)。ボンディング面への熱の供給は、抵抗加熱、高周
波加熱、レーザー加熱、光加熱、等により直接、又は間
接的に行うことができる。また、熱源の少なくとも一部
を超音波印可によるエネルギーで代替することも可能で
ある。
【0018】樹脂被覆層を有する銅線をICチップの入
出力端子へボンディングするにあたって、接合される銅
線の端末部に存在する樹脂被覆層をボンディング前に予
め剥離してもよい(請求項8)。樹脂被覆層は、抵抗加
熱、高周波、炭酸ガスレーザー、YAGレーザー、エキ
シマレーザー、UV光等により剥離してもよく、機械的
に剥離してもよい。あるいはこれらを組み合わせて剥離
することも可能である。
【0019】
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態を、図1から
図6に基づいて説明する。本発明のICカードの製造方
法は特に限定されないが、例えば、ICチップやアンテ
ナコイルを予め柔軟性を有する中間シートに固定した
後、2枚のシート状フィルムの間に入れ、これらを熱圧
着するラミネート法や、当該中間シートを金型に設置
し、金型に樹脂を射出し、その後金型を両側から圧縮す
ることにより作製する射出成型法があげられる。
【0020】作成されたICカードは、図1及び図2に
示すようにICチップ1と、アンテナコイル2が樹脂製
シート3中に固定された構成になっている。前記アンテ
ナコイル2は、ICチップ1上に形成された入出力端子
に接続され、図示しないリーダライタから、前記ICチ
ップ1への電源の供給を非接触で受けると共に、当該リ
ーダライタとの間でデータのやりとりを非接触で行うも
のである。アンテナコイル2は、図1及び図2では2巻
きとなっているが、これに限定されるものではないこと
はいうまでもない。
【0021】アンテナコイルの断面は図3に示すよう
に、銅線などの導電性芯線4の表面に、酸化防止機能を
有する化合物を含みかつ熱変形可能な樹脂組成物6を被
覆した構造を有している。図4はICチップ1の入出力
端子8とコイル2との接続状態を示す要部平面図、図5
は図4のB−B線断面図、図6は図5の部分拡大図であ
る。
【0022】特に、図6に示すように、アンテナコイル
2は、その先端部において接合時の熱で樹脂組成物6が
剥離されることによりその下の導電性芯線4が露出し、
この導電性芯線4が入出力端子8に接合した状態になっ
ている。
【0023】
【実施例】<実施例1>直径30μmの銅線の周囲にウ
レタン樹脂溶液(東特塗料製)に酸化防止剤として予め
5−アミノ−2−メルカプト−1,3,4−チアジアゾ
ール(東京化成製、以下「チオール化合物」という)を
ウレタン樹脂固形分にたいして0.5phr (parts hund
red resin;樹脂分に対する添加量)添加したものをフェ
ルトにて塗布し、その後、炉温240℃の焼付炉に通
し、乾燥・硬化することにより、ウレタン被覆層厚約
1.0μmの樹脂被覆銅線を得た。この樹脂被覆銅線
を、ウェストボンド社製ウェッジボンダーにて、200
°C、荷重40g、超音波出力0.4W、超音波印加時
間約0.1秒の条件でICチップ上のウェッジボンディ
ングを行った。Dage社製ボンドテスター2400を使っ
て、ボンディング強度をツイーザーピール法により100
μm/分の速度にて測定した結果7.4gの強度を示し
た。これは、樹脂被覆のない表面酸化の進んでいない銅
線並の強度である。 <実施例2>酸化防止剤としてチオール化合物の代わり
に微粉メラミン(日産化学製)を用いること以外は実施
例1と同様の条件にて、樹脂被覆銅線を得た。ウェッジ
ボンディングした結果、7.5gの強度が得られた。 <実施例3>ウレタン樹脂の代わりに、ホルマール樹脂
を用いて、実施例1と同様の樹脂被覆線を得た。実施例
1と同様の方法で、ウェッジボンディングした結果、
8.2gの強度が得られた。 <実施例4>ウレタン樹脂の代わりに、ホルマール樹脂
を用いて、実施例2と同様の樹脂被覆線を得た。実施例
1と同様の方法で、ウェッジボンディングした結果、
8.3gの強度が得られた。 <比較例1,2>酸化防止剤を使用しないで、実施例
1,3と同様の樹脂被覆銅線を得た。ウェッジボンディ
ングした結果、それぞれ5.6g、5.8gの結果しか
得られなかった。 以上の結果を表1に示す。
【0024】
【表1】
【0025】<実施例5,6>直径30μmの銅線の周
囲にウレタン樹脂溶液に酸化防止剤として予めチオール
化合物をウレタン樹脂固形分に対して0.5phr 添加し
たものをフェルトにて塗布し、その後、炉温240℃の
焼付炉に通し、乾燥・硬化することにより、ウレタン被
覆層厚約(a) 0.5μm、(b) 2.0μmの樹脂被覆銅
線を得た。この樹脂被覆銅線を、ウェストボンド社製ウ
ェッジボンダーにて、200°C、荷重40g、超音波
出力0.4W、超音波印加時間0.1秒の条件でICチ
ップ上のウェッジボンディングを行った。Dage社製ボン
ドテスター2400を使って、ボンディング強度をツイ
ーザーピール法により100 μm/分の速度にて測定した
結果(a) 7.8g、(b) 7.1gの強度を示した。 <比較例3>ウレタン被覆層厚約0.05μmとして、
実施例5,6と同様の条件で樹脂被覆銅線を得、ボンデ
ィング強度測定の結果、7.8gの強度を示した。とこ
ろが、樹脂被覆層に無数のピンホールが認められた。 <比較例4>ウレタン被覆層厚約3.0μmとして、実
施例5,6と同様の条件で樹脂被覆銅線を得、ボンディ
ング強度を測定したところ、2.0g未満の強度しか得
られなかった。樹脂被覆層が厚いのでボンディング強度
が劣ったものと考えられる。 <実施例7>直径30μmの銅線の周囲にウレタン樹脂
溶液(東特塗料製)に酸化防止剤として予めチオール化
合物をウレタン樹脂固形分に対して0.5phr 添加した
ものをフェルトにて塗布し、その後、炉温240℃の焼
付炉に通し、乾燥・硬化することにより、ウレタン被覆
層厚約1.0μmの樹脂被覆銅線を得た。このウレタン
樹脂層をエキシマレーザで剥離した後、ウェストボンド
社製ウェッジボンダーにて、200°C、荷重40g、
超音波出力0.4W、超音波印加時間0.1秒の条件で
ICチップ上のウェッジボンディングを行った。Dage社
製ボンドテスター2400を使って、ボンディング強度
をツイーザーピール法により100 μm/分の速度にて測
定した結果7.9gの強度を示した。
【0026】以上の結果を表2に示す。
【0027】
【表2】
【0028】
【発明の効果】以上のように本発明のICカードによれ
ば、アンテナコイルに使用する銅線が酸化防止機能を有
する化合物を含みかつ熱変形可能な樹脂組成物からなる
絶縁層を有しているため、ワイヤ接触しても不良は発生
せず、さらに、樹脂組成物を溶融させることにより、I
Cチップの入出力端子にボンディング可能であるため、
薄形のICカードを低コストで製造できる。また、銅線
表面が酸化されることなく、清浄な表面を維持している
ため、半田や導電性ペーストを使用しなくとも、十分な
ボンディング強度を確保できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のICカードを一部切断した平面図であ
る。
【図2】図1のICカードのA−A線側断面図である。
【図3】絶縁電線の断面図である。
【図4】ICカードに搭載されるICチップ及びボンデ
ィングされたコイルの要部平面図である。
【図5】図4のB−B線断面図である。
【図6】図5の部分拡大図である。
【図7】従来より一般に知られているICカードの断面
構造図である。
【符号の説明】
1 ICチップ 2 アンテナコイル 4 導電性芯線 5 半田メッキ層 6 樹脂組成物層 8 入出力電極

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】ICチップ、電線を巻いたアンテナコイル
    及びこれらを外側から覆って保護する絶縁体からなる非
    接触式ICカードにおいて、 酸化防止機能を有する化合物を含みかつ熱変形可能な樹
    脂組成物を銅芯線の周囲に被覆した絶縁電線によりアン
    テナコイルが形成されており、当該絶縁電線がICチッ
    プに設けられた入出力端子にボンディングされているこ
    とを特徴とする非接触式ICカード。
  2. 【請求項2】樹脂組成物層の厚みが0.1μm〜2μm
    である請求項1記載の非接触式ICカード。
  3. 【請求項3】酸化防止機能を有する化合物がアミノ基、
    メルカプト基、ヒドロキシル基のうち少なくとも1つを
    有する化合物である請求項1記載の非接触式ICカー
    ド。
  4. 【請求項4】酸化防止機能を有する化合物がメラミン、
    複素芳香族化合物のうち少なくとも1つを有する化合物
    である請求項3記載の非接触式ICカード。
  5. 【請求項5】前記絶縁電線の樹脂組成物が、熱変形開始
    温度100℃〜190℃の範囲にある樹脂を主成分とし
    て含む樹脂組成物であることを特徴とする請求項1記載
    の非接触式ICカード。
  6. 【請求項6】前記絶縁電線の樹脂組成物が、ポリアクリ
    ルウレタン樹脂、メタクリル酸エステル樹脂、ポリウレ
    タン樹脂、ポリエステル樹脂、ビニルホルマール樹脂、
    ポリアミド樹脂のうち少なくとも1つを主成分として含
    む樹脂組成物であることを特徴とする請求項1記載の非
    接触式ICカード。
  7. 【請求項7】アンテナコイルを、ICチップに設けられ
    た入出力端子に接続する際に、絶縁電線の樹脂組成物皮
    膜が熱圧着時の熱により剥離されることを特徴とする請
    求項1記載の非接触式ICカード。
  8. 【請求項8】絶縁電線の樹脂組成物皮膜を熱圧着前に、
    予め剥離することにより、アンテナコイルを、ICチッ
    プに設けられた入出力端子に接続することを特徴とする
    請求項1記載の非接触式ICカード。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2006022836A1 (en) * 2004-08-06 2006-03-02 International Business Machines Corporation Apparatus and methods for constructing antennas using wire bonds as radiating elements
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