JPH11293443A - プラズマトーチ - Google Patents
プラズマトーチInfo
- Publication number
- JPH11293443A JPH11293443A JP10097210A JP9721098A JPH11293443A JP H11293443 A JPH11293443 A JP H11293443A JP 10097210 A JP10097210 A JP 10097210A JP 9721098 A JP9721098 A JP 9721098A JP H11293443 A JPH11293443 A JP H11293443A
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- JP
- Japan
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- plasma
- jet
- plasma jet
- additive
- plasma torch
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Abstract
(57)【要約】
【課題】プラズマジェットに添加ガス又は粉体等の添加
物を添加する場合に、混合をよくする。 【解決手段】プラズマトーチ１は、中心部に添加物７を
吹出す吹出ノズル５を設け、その周囲にリング状のプラ
ズマノズル４を設けた。このようなトーチ構造とするこ
とによって、プラズマジェットが円筒状に噴出し、その
中心部に添加物７が添加され、添加物はすべてプラズマ
ジェットに，混合され高温に加熱されて有効に利用され
る。
物を添加する場合に、混合をよくする。 【解決手段】プラズマトーチ１は、中心部に添加物７を
吹出す吹出ノズル５を設け、その周囲にリング状のプラ
ズマノズル４を設けた。このようなトーチ構造とするこ
とによって、プラズマジェットが円筒状に噴出し、その
中心部に添加物７が添加され、添加物はすべてプラズマ
ジェットに，混合され高温に加熱されて有効に利用され
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は溶射、高温ガス反応
等を行うプラズマジェットを噴射するプラズマトーチに
関する。
等を行うプラズマジェットを噴射するプラズマトーチに
関する。
【０００２】
【従来の技術】図７は溶射、高温ガス反応等を行うプラ
ズマジェットを噴射する従来のプラズマトーチの縦断面
図である。プラズマジェット１０に粉末やガスなどの添
加物７を混入させるように添加し、溶射や高温ガス反応
を行うためのプラズマトーチ１は、従来、棒状の中心電
極３（負極）及びこれを取り巻く円筒電極２（正極）か
らなり、中心電極３と円筒電極２との間でアークを発生
させ、円筒電極２の先端開口からプラズマジェット１０
を噴出させ、このプラズマジェット１０の噴出流の周囲
の孔５ｃ、５ｄから水素、水蒸気等の添加ガスや粉体等
の添加物７を吹き出してプラズマジェット１０に混合さ
せる型式のものであった。図８は図７を下側から見た図
で、中心のプラズマ噴出口４に向かって、添加物吹出孔
５ｃ、５ｄが配置されている。
ズマジェットを噴射する従来のプラズマトーチの縦断面
図である。プラズマジェット１０に粉末やガスなどの添
加物７を混入させるように添加し、溶射や高温ガス反応
を行うためのプラズマトーチ１は、従来、棒状の中心電
極３（負極）及びこれを取り巻く円筒電極２（正極）か
らなり、中心電極３と円筒電極２との間でアークを発生
させ、円筒電極２の先端開口からプラズマジェット１０
を噴出させ、このプラズマジェット１０の噴出流の周囲
の孔５ｃ、５ｄから水素、水蒸気等の添加ガスや粉体等
の添加物７を吹き出してプラズマジェット１０に混合さ
せる型式のものであった。図８は図７を下側から見た図
で、中心のプラズマ噴出口４に向かって、添加物吹出孔
５ｃ、５ｄが配置されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】このような従来技術で
は、図９に示すように、プラズマジェット１０が高速ジ
ェット流６を形成しており、その側方の孔５ｄからプラ
ズマジェット１０のジェット流６に沿うようにガス又は
粉体などの添加物７を供給するため、添加物の一部はプ
ラズマジェット１０に巻き込まれて混合部１１を形成す
るが、添加物の他の部分は反発されて遊離部１２を形成
し、反応対象物２０の表面に効果的に供給されない。従
って、 （ａ）添加物が十分加熱されない。
は、図９に示すように、プラズマジェット１０が高速ジ
ェット流６を形成しており、その側方の孔５ｄからプラ
ズマジェット１０のジェット流６に沿うようにガス又は
粉体などの添加物７を供給するため、添加物の一部はプ
ラズマジェット１０に巻き込まれて混合部１１を形成す
るが、添加物の他の部分は反発されて遊離部１２を形成
し、反応対象物２０の表面に効果的に供給されない。従
って、 （ａ）添加物が十分加熱されない。
【０００４】（ｂ）添加物はジェット流の中央まで到達
することができず、ジェット流の周囲に飛散する。 （ｃ）添加物７の添加孔５ｄが間隔を開けて配置されて
いるので、この間隔の部分でジェット流が雰囲気ガスを
巻き込み、添加ガスや粉体などの添加物７の濃度が低下
し、例えば目的とする反応対象物２０の脱ボロン反応等
の反応速度が低下する。 等の問題があった。その結果、効率の良い添加物７の添
加、加熱が達成されず、反応速度が不十分で非効率的と
なる等の問題があった。
することができず、ジェット流の周囲に飛散する。 （ｃ）添加物７の添加孔５ｄが間隔を開けて配置されて
いるので、この間隔の部分でジェット流が雰囲気ガスを
巻き込み、添加ガスや粉体などの添加物７の濃度が低下
し、例えば目的とする反応対象物２０の脱ボロン反応等
の反応速度が低下する。 等の問題があった。その結果、効率の良い添加物７の添
加、加熱が達成されず、反応速度が不十分で非効率的と
なる等の問題があった。
【０００５】本発明は上記欠点を改善し、添加物のプラ
ズマジェットへの混合加熱を完全にし、反応を容易にし
た技術を提供することを目的とする。
ズマジェットへの混合加熱を完全にし、反応を容易にし
た技術を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記問題点を
改善するために開発されたもので、プラズマジェットを
噴出する噴出口と、プラズマジェットに混入させる添加
物を吹出す吹出口とを同心円状に配置し、噴出口と吹出
孔の一方が他方を包囲するようにしたことを特徴とする
プラズマトーチを提供する。
改善するために開発されたもので、プラズマジェットを
噴出する噴出口と、プラズマジェットに混入させる添加
物を吹出す吹出口とを同心円状に配置し、噴出口と吹出
孔の一方が他方を包囲するようにしたことを特徴とする
プラズマトーチを提供する。
【０００７】このようなプラズマトーチとしては、中心
に添加物を吹出する吹出孔を設け、吹出孔の周囲にプラ
ズマジェットを噴出するリング状断面の噴出口を設けた
プラズマトーチが好適である。この場合、前記リング状
断面の噴出口は、噴出するプラズマジェットを先細り縮
流させるように流れ方向縦断面を形成したことにより中
心から吹出するガス又は粉体をプラズマジェット内にす
べて取り込み、効率のよい反応を確保することができ
る。さらに、前記噴出口はプラズマジェットに旋回流を
付与する螺旋溝を通路の内壁に備えたことによって、ガ
ス又は粉体とプラズマジェットの混合接触を高め、ガス
又は粉体の加熱を促進し、反応速度を高めることができ
る。
に添加物を吹出する吹出孔を設け、吹出孔の周囲にプラ
ズマジェットを噴出するリング状断面の噴出口を設けた
プラズマトーチが好適である。この場合、前記リング状
断面の噴出口は、噴出するプラズマジェットを先細り縮
流させるように流れ方向縦断面を形成したことにより中
心から吹出するガス又は粉体をプラズマジェット内にす
べて取り込み、効率のよい反応を確保することができ
る。さらに、前記噴出口はプラズマジェットに旋回流を
付与する螺旋溝を通路の内壁に備えたことによって、ガ
ス又は粉体とプラズマジェットの混合接触を高め、ガス
又は粉体の加熱を促進し、反応速度を高めることができ
る。
【０００８】また、中心にプラズマジェットを噴出する
円形断面の噴出口を備え、その周囲にプラズマジェット
に混入させる添加物を吹出すリング状の１又は複数のス
リットを設けると、プラズマジェットに雰囲気ガスを巻
き込むことを防止し、例えば金属精錬における精製速度
を高める等の効果を得ることができる。さらに、前記リ
ング状の１又は複数のスリット内に、スリットを円周方
向に多数の区画に分割する多数の仕切板を設け、プラズ
マジェットに混入させる添加物を各区画に配分する分配
装置を備えることとし、種類の異なる添加物を順次これ
らの区画に分配すると、少数のスリットで多種の添加物
を均等化させて添加することができる。さらに、前記仕
切板は、吹出す添加物を螺旋状に吹き出すように誘導す
る同形の先端側湾曲部をそれぞれ備えることによって効
果的な混合を図ることができる。
円形断面の噴出口を備え、その周囲にプラズマジェット
に混入させる添加物を吹出すリング状の１又は複数のス
リットを設けると、プラズマジェットに雰囲気ガスを巻
き込むことを防止し、例えば金属精錬における精製速度
を高める等の効果を得ることができる。さらに、前記リ
ング状の１又は複数のスリット内に、スリットを円周方
向に多数の区画に分割する多数の仕切板を設け、プラズ
マジェットに混入させる添加物を各区画に配分する分配
装置を備えることとし、種類の異なる添加物を順次これ
らの区画に分配すると、少数のスリットで多種の添加物
を均等化させて添加することができる。さらに、前記仕
切板は、吹出す添加物を螺旋状に吹き出すように誘導す
る同形の先端側湾曲部をそれぞれ備えることによって効
果的な混合を図ることができる。
【０００９】さらに、本発明は、中心にプラズマジェッ
トを噴出する円形断面の噴出口を備え、その周囲にプラ
ズマジェットに混入される添加物を吹出す多数の小径の
吹出孔をリング状に連接し、吹出物の筒状カーテンを形
成するようにしたプラズマトーチを提供する。
トを噴出する円形断面の噴出口を備え、その周囲にプラ
ズマジェットに混入される添加物を吹出す多数の小径の
吹出孔をリング状に連接し、吹出物の筒状カーテンを形
成するようにしたプラズマトーチを提供する。
【００１０】
【発明の実施の形態】本発明はプラズマジェット流を用
いる溶解、溶射、加熱処理等において、添加物やガスを
効率より添加し、加熱又は反応を高効率で促進させるも
のである。プラズマジェット流は横断面の中央部が最も
高温高速である。従来、添加ガスや添加粉体等はプラズ
マジェットの外部から斜めにプラズマジェット内に進入
させるようにしていた。この場合、添加ガス等は高速プ
ラズマジェットの表面で一部はプラズマジェット内に取
り込まれて高温となるが、一部は反射して飛散し、十分
に加熱されることなく、未利用となっていた。すなわ
ち、プラズマジェット流の横断面内部に供給されなかっ
た。
いる溶解、溶射、加熱処理等において、添加物やガスを
効率より添加し、加熱又は反応を高効率で促進させるも
のである。プラズマジェット流は横断面の中央部が最も
高温高速である。従来、添加ガスや添加粉体等はプラズ
マジェットの外部から斜めにプラズマジェット内に進入
させるようにしていた。この場合、添加ガス等は高速プ
ラズマジェットの表面で一部はプラズマジェット内に取
り込まれて高温となるが、一部は反射して飛散し、十分
に加熱されることなく、未利用となっていた。すなわ
ち、プラズマジェット流の横断面内部に供給されなかっ
た。
【００１１】本発明はプラズマ溶射における高融点粉末
の溶解溶射の場合に優れた溶射層を効率よく形成する場
合や太陽電池用のシリコンのプラズマによる脱ボロン工
程におけるプラズマに添加する水蒸気の高温火点を供給
する場合等に最も好適に適用することができる。以下、
図面を参照して説明する。
の溶解溶射の場合に優れた溶射層を効率よく形成する場
合や太陽電池用のシリコンのプラズマによる脱ボロン工
程におけるプラズマに添加する水蒸気の高温火点を供給
する場合等に最も好適に適用することができる。以下、
図面を参照して説明する。
【００１２】図１は、本発明の実施例のプラズマトーチ
の縦断面図、図２は、その出口側から見た外形図（図１
のＡ−Ａ矢視図）である。このプラズマトーチは、中心
部に添加物７を吹出す吹出孔（吹出ノズル）５があり、
その周囲にプラズマジェットを噴出するリング状の噴出
口（プラズマノズル）４がある。リング状の噴出口４を
形成するノズルの内筒は負電極、外筒は正電極となって
おり、内筒と外筒間で高電圧によるアークを発生する。
このようなプラズマトーチ構造とすることによって、プ
ラズマジェット１０が円筒状に噴出し、その中心部に添
加物７が添加される。プラズマジェット１０は高速流で
あり、その内側には負圧を生ずると共に激しい混乱流を
生じ、添加物７は高温のプラズマジェット中に取り込ま
れて十分に混合され高温となって、反応対象物２０に衝
突する。従って、最も効率よく、溶射又は化学反応を行
うことができる。
の縦断面図、図２は、その出口側から見た外形図（図１
のＡ−Ａ矢視図）である。このプラズマトーチは、中心
部に添加物７を吹出す吹出孔（吹出ノズル）５があり、
その周囲にプラズマジェットを噴出するリング状の噴出
口（プラズマノズル）４がある。リング状の噴出口４を
形成するノズルの内筒は負電極、外筒は正電極となって
おり、内筒と外筒間で高電圧によるアークを発生する。
このようなプラズマトーチ構造とすることによって、プ
ラズマジェット１０が円筒状に噴出し、その中心部に添
加物７が添加される。プラズマジェット１０は高速流で
あり、その内側には負圧を生ずると共に激しい混乱流を
生じ、添加物７は高温のプラズマジェット中に取り込ま
れて十分に混合され高温となって、反応対象物２０に衝
突する。従って、最も効率よく、溶射又は化学反応を行
うことができる。
【００１３】なお、図示していないが、前記リング状断
面の噴出口は、噴出するプラズマジェットを先細り縮流
させるように流れ方向縦断面を形成したプラズマトーチ
としたり、前記噴出口はプラズマジェットに旋回流を付
与する螺旋溝を通路の内壁に備えたプラズマトーチとす
れば、上記混合は一層完全となり好ましい結果を得るこ
とができる。
面の噴出口は、噴出するプラズマジェットを先細り縮流
させるように流れ方向縦断面を形成したプラズマトーチ
としたり、前記噴出口はプラズマジェットに旋回流を付
与する螺旋溝を通路の内壁に備えたプラズマトーチとす
れば、上記混合は一層完全となり好ましい結果を得るこ
とができる。
【００１４】図３は、別の実施例のプラズマトーチ１の
出口側から見た図で、中央に噴出口（プラズマノズル）
４を備え、その周囲に添加物を吹出すリング状のスリッ
ト５ａ、５ｂを形成したものである。プラズマジェット
は、噴出口４から高速で噴出し、リング状のスリット５
ａ、５ｂから吹出す添加物を巻き込み、雰囲気ガスを巻
き込まないので、添加物はプラズマジェット１０に同伴
され高温となって反応対象物２０に効率よく到達する。
出口側から見た図で、中央に噴出口（プラズマノズル）
４を備え、その周囲に添加物を吹出すリング状のスリッ
ト５ａ、５ｂを形成したものである。プラズマジェット
は、噴出口４から高速で噴出し、リング状のスリット５
ａ、５ｂから吹出す添加物を巻き込み、雰囲気ガスを巻
き込まないので、添加物はプラズマジェット１０に同伴
され高温となって反応対象物２０に効率よく到達する。
【００１５】図４は、他の実施例のプラズマトーチの噴
出口の正面図である。この実施例は図３と同様に中央に
プラズマノズル４を備え、その周囲に添加物を吹出すリ
ング状のスリット５ａ、５ｂを形成したものである。プ
ラズマジェットは、プラズマノズル４から高速で噴出す
る。このスリット５ａは、円周方向に多数の仕切板８を
備え、多数の区画に分割されている。この多数の区画に
添加物を分配する。例えば、仕切板８によって、添加物
の種類の整数倍の区画を設け、この区画に順次別の添加
物を隣接して分配すると、添加物全体は円筒状のカーテ
ンを形成し、添加物相互は均一に混合してプラズマジェ
ット内に混入される。この場合、仕切板８を円周方向に
湾曲させると、添加物の吹出流が旋回流となる。
出口の正面図である。この実施例は図３と同様に中央に
プラズマノズル４を備え、その周囲に添加物を吹出すリ
ング状のスリット５ａ、５ｂを形成したものである。プ
ラズマジェットは、プラズマノズル４から高速で噴出す
る。このスリット５ａは、円周方向に多数の仕切板８を
備え、多数の区画に分割されている。この多数の区画に
添加物を分配する。例えば、仕切板８によって、添加物
の種類の整数倍の区画を設け、この区画に順次別の添加
物を隣接して分配すると、添加物全体は円筒状のカーテ
ンを形成し、添加物相互は均一に混合してプラズマジェ
ット内に混入される。この場合、仕切板８を円周方向に
湾曲させると、添加物の吹出流が旋回流となる。
【００１６】図５は、図４のスリット５ａを展開した展
開図である。図５に示すように仕切板８は下端で同一円
周方向に曲がっており、添加物７は図５に示すように流
れ、旋回流を形成する。図６は、別の実施例の噴出口の
正面図を示すもので、中央にプラズマノズル４を備え、
その周囲に添加物を吹出すリング状のスリット５ａ、５
ｂを形成したものである。プラズマジェットは、プラズ
マノズル４から高速で噴出し、添加物は中央のプラズマ
ノズルと同心円の円周上に密に連設された小径の吹出孔
９から吹き出すようにした。この相互間隔を狭くして連
設された多数の小径の吹出孔９から吹き出す添加物は、
図３に示すスリットから吹き出す添加物と同様に、全体
として添加物カーテンを形成し、プラズマジェットの周
囲を包囲する。従って、図３の実施例と同様の作用効果
がある。また、複数種類の添加物を各小径の吹出孔９に
分配することによって図４に示すスリットに仕切板を設
けた実施例と同様の効果を奏する。
開図である。図５に示すように仕切板８は下端で同一円
周方向に曲がっており、添加物７は図５に示すように流
れ、旋回流を形成する。図６は、別の実施例の噴出口の
正面図を示すもので、中央にプラズマノズル４を備え、
その周囲に添加物を吹出すリング状のスリット５ａ、５
ｂを形成したものである。プラズマジェットは、プラズ
マノズル４から高速で噴出し、添加物は中央のプラズマ
ノズルと同心円の円周上に密に連設された小径の吹出孔
９から吹き出すようにした。この相互間隔を狭くして連
設された多数の小径の吹出孔９から吹き出す添加物は、
図３に示すスリットから吹き出す添加物と同様に、全体
として添加物カーテンを形成し、プラズマジェットの周
囲を包囲する。従って、図３の実施例と同様の作用効果
がある。また、複数種類の添加物を各小径の吹出孔９に
分配することによって図４に示すスリットに仕切板を設
けた実施例と同様の効果を奏する。
【００１７】
【発明の効果】本発明によれば、プラズマジェットに添
加する添加物を効率よく混合高温化することができ、こ
れを反応対象物に到達させ、反応速度の向上を達成する
ことができた。
加する添加物を効率よく混合高温化することができ、こ
れを反応対象物に到達させ、反応速度の向上を達成する
ことができた。
【図１】実施例のプラズマトーチの一部を示す縦断面図
である。
である。
【図２】図１のＡ−Ａ矢視図である。
【図３】他の実施例のプラズマトーチの噴出口の正面図
である。
である。
【図４】他の実施例のプラズマトーチの噴出口の正面図
である。
である。
【図５】図４のスリットを展開した展開図である。
【図６】他の実施例の噴出口の正面図である。
【図７】従来のプラズマトーチの縦断面図である。
【図８】従来のプラズマトーチの噴出口の正面図であ
る。
る。
【図９】従来のプラズマトーチの作用の説明図である。
１ プラズマトーチ ２ 円筒電極 ３ 中心電極 ４ 噴出口（プラズマノズル） ５ 吹出孔（吹出ノズル） ５ａ，５ｂ スリット ５ｃ，５ｄ 孔 ６ ジェット流 ７ 添加物 ８ 仕切板 ９ 小径の吹出孔 １０ プラズマジェット １１ 混合部 １２ 遊離部 ２０ 反応対象物
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 花澤 和浩 千葉県千葉市中央区川崎町１番地 川崎製 鉄株式会社技術研究所内 (72)発明者 中村 尚道 千葉県千葉市中央区川崎町１番地 川崎製 鉄株式会社技術研究所内 (72)発明者 湯下 憲吉 千葉県千葉市中央区川崎町１番地 川崎製 鉄株式会社技術研究所内 (72)発明者 加藤 嘉英 千葉県千葉市中央区川崎町１番地 川崎製 鉄株式会社技術研究所内
Claims (8)
- 【請求項１】 プラズマジェットを噴出する噴出口と、
プラズマジェットに混入させる添加物を吹出す吹出孔と
を同心円状に配置し、一方が他方を包囲するようにした
ことを特徴とするプラズマトーチ。 - 【請求項２】 中心に添加物を吹出す噴出口を設け、該
吹出孔の周囲にプラズマジェットを噴出するリング状断
面の噴出口を設けたことを特徴とする請求項１記載のプ
ラズマトーチ。 - 【請求項３】 前記リング状断面の噴出口は、噴出する
プラズマジェットを先細り縮流させるように流れ方向縦
断面を形成したことを特徴とする請求項２記載のプラズ
マトーチ。 - 【請求項４】 前記噴出口はプラズマジェットに旋回流
を付与する螺旋溝を通路の内壁に備えたことを特徴とす
る請求項２又は３記載のプラズマトーチ。 - 【請求項５】 中心にプラズマジェットを噴出する円形
断面の噴出口を備え、その周囲にプラズマジェットに混
入される添加物を吹出すリング状の１又は複数のスリッ
トを設けたことを特徴とする請求項１記載のプラズマト
ーチ。 - 【請求項６】 前記リング状の１又は複数のスリット内
に、該スリットを円周方向に多数の区画に分割する多数
の仕切板を設け、プラズマジェットに混入させる添加物
を各区画に配分する分配装置を備えたことを特徴とする
請求項５記載のプラズマトーチ。 - 【請求項７】 前記仕切板は、吹出す添加物を螺旋状に
吹き出すように誘導する同形の先端側湾曲部をそれぞれ
備えたことを特徴とする請求項６記載のプラズマトー
チ。 - 【請求項８】 中心にプラズマジェットを噴出する円形
断面の噴出口を備え、その周囲にプラズマジェットに混
入される添加物を吹出す多数の小径の吹出孔をリング状
に連設したことを特徴とする請求項１記載のプラズマト
ーチ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10097210A JPH11293443A (ja) | 1998-04-09 | 1998-04-09 | プラズマトーチ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10097210A JPH11293443A (ja) | 1998-04-09 | 1998-04-09 | プラズマトーチ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11293443A true JPH11293443A (ja) | 1999-10-26 |
Family
ID=14186271
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10097210A Pending JPH11293443A (ja) | 1998-04-09 | 1998-04-09 | プラズマトーチ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11293443A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004284944A (ja) * | 2003-03-03 | 2004-10-14 | Sumitomo Electric Ind Ltd | ガラス加工方法及びガラス加工装置 |
| US20110100556A1 (en) * | 2009-11-02 | 2011-05-05 | Industrial Technology Research Institute | Plasma System with Injection Device |
| JP2013532063A (ja) * | 2010-06-28 | 2013-08-15 | ピーピージー・インダストリーズ・オハイオ・インコーポレイテッド | 制御された圧力ゾーンを有するプラズマシステムにおける超微粒子の製造 |
-
1998
- 1998-04-09 JP JP10097210A patent/JPH11293443A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004284944A (ja) * | 2003-03-03 | 2004-10-14 | Sumitomo Electric Ind Ltd | ガラス加工方法及びガラス加工装置 |
| US20110100556A1 (en) * | 2009-11-02 | 2011-05-05 | Industrial Technology Research Institute | Plasma System with Injection Device |
| JP2011094225A (ja) * | 2009-11-02 | 2011-05-12 | Industrial Technology Research Inst | 注入装置を備えるプラズマシステム |
| JP2013532063A (ja) * | 2010-06-28 | 2013-08-15 | ピーピージー・インダストリーズ・オハイオ・インコーポレイテッド | 制御された圧力ゾーンを有するプラズマシステムにおける超微粒子の製造 |
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