JPH11286462A - フッ素化飽和炭化水素の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 −ＣＨＦ−ＣＨＦ−結合を有するフッ素化飽
和炭化水素と−ＣＨ₂ −ＣＨＦ−結合を有するフッ素化
飽和炭化水素との混合物から−ＣＨ₂ −ＣＨＦ−結合を
有するフッ素化飽和炭化水素を非常に効率よく、および
／または高純度で得る。 【解決手段】 上記フッ素化飽和炭化水素の混合物を原
料として用い、該原料中の−ＣＨＦ−ＣＨＦ−結合を有
するフッ素化飽和炭化水素を選択的に脱フッ化水素し、
得られた反応生成物から−ＣＨ＝ＣＦ−結合を有するフ
ッ素化不飽和炭化水素を蒸留により除去するか、また
は、脱フッ化水素処理によって得られた反応生成物をそ
のまま水素化処理する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、洗浄剤、水切り
剤、溶剤、重合溶剤などとして有用なフッ素化飽和炭化
水素の製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来より、各種材料の工業的な洗浄方法
として、不燃性、低毒性、安定性に優れたＣＦＣ１１３
や１，１，１−トリクロロエタンを主成分とする溶剤組
成物が広く使用されてきている。しかし、各種のＣＦＣ
類や１，１，１−トリクロロエタン、四塩化炭素などが
オゾン層を破壊することが指摘され、オゾン層保護の観
点からＣＦＣ１１３や１，１，１−トリクロロエタンな
どについても１９９５年末をもって世界的にその生産が
全廃され、使用規制が実施されている。

【０００３】これらのＣＦＣ１１３などに代わるものと
してこれまでにＨＣＦＣ２２５やＨＣＦＣ１４１ｂなど
のハイドロクロロフルオロカーボン類が提案され使用さ
れているが、これらの化合物も僅かとはいえオゾン層破
壊力をもつため、その使用には期限が設けられている。
また、塩素系溶剤についても塩化メチレンやトリクロロ
エチレン、パークロロエチレンなどの従来からあるもの
については安全性（発ガン性や中毒）の面で問題を抱え
ており、各種の規制が設けられ、あるいは検討されてい
る。

【０００４】上記のフッ素系溶剤の長所である、不燃
性、安定性などを保持ししかもオゾン層破壊の元凶であ
る塩素原子を含まない化合物の提案が種々なされてい
る。例えば、パーフルオロ−ｎ−ヘプタンのようなパー
フルオロカーボン類を主成分とするもの（ＷＯ９２−０
３２０５号公報など）、鎖状ハイドロフルオロカーボン
を主成分とするもの（ＷＯ９５−０６６９３号公報、特
表平６−５０１９４９号公報など）、特定の環状のハイ
ドロフルオロカーボン類を主成分とするもの（ＷＯ９５
−０５４４８号公報）などがあげられる。

【０００５】このようなパーフルオロカーボン類やハイ
ドロフルオロカーボン類はオゾン層破壊の心配がないこ
と、そのままあるいは有機溶剤とともに用いることによ
り、仕上がりの良い洗浄性能を発揮する上では好ましい
ものであるが、各々に改善すべき問題点があった。例え
ば、パーフルオロカーボン類は地球温暖化係数が高く、
地球環境保全上の新たな問題を生じる恐れがある。ま
た、鎖状あるいは環状のハイドロフルオロカーボン類は
種々の構造が提案されているが、その構造上の問題があ
る。例えば、−ＣＦ₂ ＣＨＦＣＨＦＣＦ₂ −結合を有す
るものはアルカリや水存在下での安定性に欠けるなどの
欠点を有していた。

【０００６】このような従来の問題点を解決する観点か
ら、トリハイドロフルオロエチレン基−ＣＨ₂ −ＣＨＦ
−をもつフッ素化飽和炭化水素が、適度な汚れ成分の溶
解性、プラスチックなどへの低アタック性、熱や化学薬
品への優れた安定性、不燃性の保持などにより、また、
塩素を含まないことからオゾン層破壊力がなく、さらに
大気寿命が短いことから地球温暖化係数が低いことなど
により、新世代のフッ素系材料として期待されている。

【０００７】こうしたトリハイドロフルオロエチレン基
−ＣＨ₂ −ＣＨＦ−をもつフッ素化飽和炭化水素の製造
方法としては、従来炭素数３のフッ素化炭化水素を対象
とするものが中心であった。例えば、特開平８−２５９
４７７号公報においてはＣＦ₃ ＣＨ＝ＣＦ₂ を水素化す
る方法、特開平７−８９６７６号公報においてはジクロ
ロペンタフルオロプロパンやトリクロロペンタフルオロ
プロパンの塩素原子を加水素分解する方法が提案されて
いる。これらは、３つの水素を二段階で導入する点や、
必要な部位に塩素原子を選択的に配置した原料を事前に
合成する点で効率の悪いものであり、改善の必要性があ
った。炭素数が４以上のトリハイドロフルオロエチレン
基−ＣＨ₂ −ＣＨＦ−をもつフッ素化飽和炭化水素で
は、可燃性のモノフルオロ化合物以外についてはその選
択的な、あるいは高純度に容易に単離ができる製造方法
は知られていない。例えば、１，１，２，２，３，３，
４−ヘプタフルオロシクロペンタンは、１，１，２，
２，３，３，４，５−オクタフルオロシクロペンタン合
成の際に副生することが知られているが（ジャーナル・
オブ・ケミカル・ソサイエティーＣ、Ｐ５４８、１９６
８年）、それを単離することは記載されていない。実際
この二つの化合物は沸点もほとんど同一で蒸留による分
離は不可能である。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】このように、不燃性の
トリハイドロフルオロエチレン基−ＣＨ₂ ＣＨＦ−を持
つフッ素化飽和炭化水素、特に炭素数が３より大きいも
のの製造法は未だ確立されていなかった。本発明の目的
は、−ＣＨＦ−ＣＨＦ−結合をもつフッ素化飽和炭化水
素と−ＣＨ₂ −ＣＨＦ−結合をもつフッ素化飽和炭化水
素との両者を含む混合フッ素化飽和炭化水素から、−Ｃ
Ｈ₂ −ＣＨＦ−結合をもつ高純度のフッ素化飽和炭化水
素を高度な選択性をもって効率よく製造することのでき
る方法を提供することにある。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、従来技術
がもつ課題に鋭意取り組み検討を行った結果、−ＣＨＦ
−ＣＨＦ−結合を有するフッ素化飽和炭化水素および−
ＣＨ₂ −ＣＨＦ−結合を有するフッ素化飽和炭化水素の
両者を含む混合フッ素化飽和炭化水素を出発原料として
用い、該原料中の−ＣＨＦ−ＣＨＦ−結合を有するフッ
素化飽和炭化水素を選択的に脱フッ化水素すると、生成
した反応混合物の蒸留によって、あるいは混合物のまま
水素化に供することにより、非常に効率よくトリハイド
ロフルオロエチレン基（−ＣＨ₂ −ＣＨＦ−結合）をも
つフッ素化飽和炭化水素が得られることを見出し、本発
明を完成するにいたった。

【００１０】かくして本発明によれば、−ＣＨＦ−ＣＨ
Ｆ−結合を有するフッ素化飽和炭化水素および−ＣＨ₂
−ＣＨＦ−結合を有するフッ素化飽和炭化水素の両者を
含む混合フッ素化飽和炭化水素を原料として用い、該原
料中の−ＣＨＦ−ＣＨＦ−結合を有するフッ素化飽和炭
化水素を選択的に脱フッ化水素する第一工程、およびそ
れに引き続き、生成した−ＣＨ＝ＣＦ−結合を有するフ
ッ素化不飽和炭化水素を蒸留により除去する第二工程を
含んでなることを特徴とする、−ＣＨ₂ −ＣＨＦ−結合
を有する高純度フッ素化飽和炭化水素の製造方法が提供
される。

【００１１】本発明によれば、さらに、−ＣＨＦ−ＣＨ
Ｆ−結合を有するフッ素化飽和炭化水素および、このフ
ッ素化飽和炭化水素の−ＣＨＦ−ＣＨＦ−結合の代わり
に−ＣＨ₂ −ＣＨＦ−結合を有し、その他の構造は同一
のフッ素化飽和炭化水素の両者を含む混合フッ素化飽和
炭化水素を原料として用い、該原料中の−ＣＨＦ−ＣＨ
Ｆ−結合を有するフッ素化飽和炭化水素を選択的に脱フ
ッ化水素する第一工程、およびそれに引き続き、生成し
た−ＣＨ＝ＣＦ−結合を有するフッ素化不飽和炭化水素
から、反応せずに残存している−ＣＨ₂ −ＣＨＦ−結合
を有するフッ素化飽和炭化水素を分離することなく、両
者を含む混合フッ素化飽和炭化水素の水素化処理を行う
第二工程を含んでなることを特徴とする、−ＣＨ₂ −Ｃ
ＨＦ−結合を有するフッ素化飽和炭化水素の製造方法が
提供される。この製造方法において、−ＣＨＦ−ＣＨＦ
−結合を有するフッ素化飽和炭化水素が１，１，２，
２，３，３，４，５−オクタフルオロシクロペンタンで
あり、−ＣＨ₂ −ＣＨＦ−結合を有するフッ素化飽和炭
化水素が１，１，２，２，３，３，４−ヘプタフルオロ
シクロペンタンであることが好ましい。

【００１２】

【発明の実施の形態】本発明の−ＣＨ＝ＣＦ−結合を有
するフッ素化不飽和炭化水素の製造方法において原料と
して用いる−ＣＨＦ−ＣＨＦ−結合を有するフッ素化飽
和炭化水素としては、通常、炭素数４〜１０のフッ素化
飽和炭化水素が用いられ、好ましくは、炭素数４〜６の
フッ素化飽和炭化水素が用いられ、その具体例として
は、１，１，１，２，３，４，４，４−オクタフルオロ
−ｎ−ブタン、１，１，１，２，２，３，４，５，５，
５−デカフルオロ−ｎ−ペンタン、１，１，１，２，
２，３，３，４，５，６，６，６−ドデカフルオロ−ｎ
−ヘキサンおよび１，１，１，２，２，３，４，５，
５，６，６，６−ドデカフルオロ−ｎ−ヘキサンなどの
鎖状フッ素化飽和炭化水素；ならびに１，１，２，２，
３，４−ヘキサフルオロシクロブタン、１，１，２，
２，３，４−ヘキサフルオロシクロペンタン、１，１，
２，２，３，４，５−ヘプタフルオロシクロペンタン、
１，１，２，２，３，３，４，５−オクタフルオロシク
ロペンタンおよび１，１，２，２，３，３，４，４，
５，６−デカフルオロシクロヘキサンなどの環状フッ素
化飽和炭化水素が挙げられる。これらの中では炭素数５
のもの、および環状構造を有するものが好ましく、とり
わけ炭素数が５の環状フッ素化飽和炭化水素がより好ま
しく、１，１，２，２，３，３，４，５−オクタフルオ
ロシクロペンタンが最も好ましい。

【００１３】本発明の製造方法において出発原料として
用いる混合フッ素化飽和炭化水素は上記の−ＣＨＦ−Ｃ
ＨＦ−結合を有するフッ素化飽和炭化水素と−ＣＨ₂ −
ＣＨＦ−結合を有するフッ素化飽和炭化水素との混合物
である。−ＣＨ₂ −ＣＨＦ−結合を有するフッ素化飽和
炭化水素としては、通常、炭素数４〜１０のフッ素化飽
和炭化水素が用いられ、好ましくは、炭素数４〜６のフ
ッ素化飽和炭化水素が用いられ、その具体例としては、
１，１，１，２，４，４，４−ヘプタフルオロ−ｎ−ブ
タン、１，１，１，２，２，３，５，５，５−ノナフル
オロ−ｎ−ペンタン、１，１，１，２，２，４，５，
５，５−ノナフルオロ−ｎ−ペンタン、１，１，１，
２，２，３，３，４，６，６，６−ウンデカフルオロ−
ｎ−ヘキサン、１，１，１，２，２，３，３，５，６，
６，６−ウンデカフルオロ−ｎ−ヘキサンおよび１，
１，１，２，２，４，５，５，６，６，６−ウンデカフ
ルオロ−ｎ−ヘキサンなどの鎖状フッ素化飽和炭化水
素；ならびに１，１，２，２，３−ペンタフルオロシク
ロブタン、１，１，２，２，３，３，４−ヘプタフルオ
ロシクロペンタンおよび１，１，２，２，３，３，４，
４，５−ノナフルオロシクロヘキサンなどの環状フッ素
化飽和炭化水素が挙げられる。これらの中では炭素数５
のもの、および環状構造を有するものが好ましく、とり
わけ炭素数が５の環状フッ素化飽和炭化水素がより好ま
しく、１，１，２，２，３，３，４−ヘプタフルオロシ
クロペンタンが最も好ましい。また、−ＣＨＦ−ＣＨＦ
−結合を有するフッ素化飽和炭化水素と−ＣＨ₂ −ＣＨ
Ｆ−結合を有するフッ素化飽和炭化水素とは、それぞ
れ、これらの結合以外の部分の構造が互いに同一である
ことが好ましい。従って、最も好ましい混合フッ素化飽
和炭化水素の具体例としては、オクタフルオロシクロペ
ンテンの水素化によって得られる１，１，２，２，３，
３，４，５−オクタフルオロシクロペンタンと１，１，
２，２，３，３，４−ヘプタフルオロシクロペンタンと
の混合物が挙げられる。上記混合フッ素化飽和炭化水素
中の−ＣＨＦ−ＣＨＦ−結合を有するフッ素化飽和炭化
水素（Ａ）と、−ＣＨ₂ −ＣＨＦ−結合を有するフッ素
化飽和炭化水素（Ｂ）との割合は、格別限定されない
が、通常、Ａ＝０．０１〜９９．９重量％、Ｂ＝９９．
９〜０．０１重量％の範囲で適宜選ばれる。

【００１４】上記の−ＣＨＦ−ＣＨＦ−結合を有するフ
ッ素化飽和炭化水素（Ａ）と−ＣＨ₂ −ＣＨＦ−結合を
有するフッ素化飽和炭化水素（Ｂ）との混合物を、例え
ば、相間移動触媒の存在下にアルカリ性化合物で処理す
ると、−ＣＨＦ−ＣＨＦ−結合を有するフッ素化飽和炭
化水素（Ａ）が選択的に脱フッ化水素されて−ＣＨ＝Ｃ
Ｆ−結合を有するフッ素化不飽和炭化水素となる。従っ
て、反応生成物は主として−ＣＨ＝ＣＦ−結合を有する
フッ素化不飽和炭化水素と−ＣＨ₂ −ＣＨＦ−結合を有
するフッ素化飽和炭化水素との混合物である。脱フッ化
水素反応によって生成する−ＣＨ＝ＣＦ−結合を有する
フッ素化不飽和炭化水素としては、通常、炭素数４〜１
０のフッ素化不飽和炭化水素、好ましくは、炭素数４〜
６のフッ素化不飽和炭化水素が挙げられ、その具体例と
しては、１，１，１，２，４，４，４−ヘプタフルオロ
−２−ブテン、１，１，１，３，４，４，５，５，５−
ノナフルオロ−２−ペンテン、１，１，１，２，４，
４，５，５，６，６，６−ウンデカフルオロ−２−ヘキ
セン、１，１，１，３，４，４，５，５，６，６，６−
ウンデカフルオロ−２−ヘキセン、１，１，１，２，
２，３，５，５，６，６，６−ウンデカフルオロ−２−
ヘキセンおよび１，１，１，２，２，４，５，５，６，
６，６−ウンデカフルオロ−２−ヘキセンなどの鎖状フ
ッ素化不飽和炭化水素；ならびに１，１，２，２，３，
４−ヘキサフルオロシクロブテン、１，３，３，４，４
−ペンタフルオロシクロペンテン、１，４，４，５，５
−ペンタフルオロシクロペンテン、１，３，３，４，
４，５，５−ヘプタフルオロシクロペンテンおよび１，
１，３，３，４，４，５，５，６−ノナフルオロシクロ
ヘキセンなどの環状フッ素化不飽和炭化水素が挙げられ
る。これらの中では炭素数５のもの、および環状構造を
有するものが好ましく、とりわけ炭素数が５の環状フッ
素化不飽和炭化水素がより好ましく、１，３，３，４，
４，５，５−ヘプタフルオロシクロペンテンが最も好ま
しい。

【００１５】脱フッ化水素反応は、アルカリ性化合物を
用いて実施することが好ましい。アルカリ性化合物とし
ては、通常、アルカリ金属、アルカリ土類金属および遷
移金属の炭酸塩、ならびにアルカリ金属およびアルカリ
土類金属の炭酸水素塩などが用いられる。炭酸塩の具体
例としては、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリ
ウム、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウムおよび炭酸バ
リウムなど；また、炭酸水素金属塩の具体例としては炭
酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウムおよび炭酸水素カ
リウムなどが挙げられる。これらのアルカリ性化合物は
単独でまたは２種以上を組合せて用いることができる。
アルカリ性化合物の使用量は、出発原料である混合フッ
素化飽和炭化水素中の−ＣＨＦ−ＣＨＦ−結合を有する
フッ素化飽和炭化水素に対し等量以上であればよい。

【００１６】本発明のアルカリ性化合物による脱フッ化
水素は相間移動触媒の存在下に行うことが好ましい。相
間移動触媒としては、合成反応で一般に用いられるもの
であれば特に制限はなく、例えば、第４級アンモニウム
ハライド類、第４級ホスホニウムハライド類などのよう
な第４級塩類；クラウンエーテル類、ポリオキシアルキ
レングリコール類などのようなポリエーテル類；アミノ
アルコール類；などが挙げられ、特に第４級塩類が好ま
しい。第４級塩類は、窒素原子およびリン原子などのよ
うなヘテロ原子に４個の炭素含有置換基が結合して生じ
るカチオン（陽性イオン）と、対アニオン（陰性イオ
ン）からなる。

【００１７】ヘテロ原子としては、元素周期表の５Ｂ族
の原子であれば特に限定されないが、窒素原子およびリ
ン原子が好ましい。該ヘテロ原子の４つの炭素含有置換
基の炭素数は、特に限定されないが、通常１〜３０、よ
り好ましくは１〜２０である。かかる置換基としてはヘ
テロ原子に直接結合した炭素を含んでいれば特に制限は
ないが、例えば、アルキル基、アリール基、アラルキル
基、アルケニル基、アルキニル基などが挙げられる。こ
れらの炭素含有置換基には、アルコキシ基、ハロゲン原
子、アルキルチオ基などの反応に影響を及ぼさない置換
基；その炭素含有置換基構造内にカルボニル基、スルホ
ニル基、スルフィニル基などの反応に影響しない２価の
置換基などを含んでもよい。また、該炭素含有置換基が
お互いに結合して環状をなしてもよい。該炭素含有置換
基は、好ましくは、アルキル基、アリール基およびアラ
ルキル基である。

【００１８】上記炭素含有置換基の具体例としては、メ
チル、エチル、プロピル、ブチル、オクチル、ラウリ
ル、ヘキサデシルなどのアルキル基；フェニル基、２−
メチルフェニル基、４−メチルフェニル基、４−エチル
フェニル基、ナフチル基などのアリール基；ベンジル、
２−メチルベンジル基、４−メチルベンジル基、２−メ
トキシベンジル基、４−メトキシベンジル基などのアラ
ルキル基；置換基が環状で窒素原子と結合した場合のピ
リジニウムやピコリニウムなどが挙げられる。これらの
置換基は反応に影響を及ぼさない置換基を有していても
よい。対アニオン（陰性イオン）としては、例えば、ハ
ライド、ヒドロキシド、ハイドロキシスルフェートなど
が挙げられるが、好ましくはハライドである。ハライド
は、特に限定されないが、具体的に、フルオライド、ブ
ロマイド、クロライド、アイオダイドが挙げられ、好ま
しくはブロマイドおよびクロライドである。

【００１９】第４級塩類の具体例としては、第４級アン
モニウムハライド類、第４級ホスホニウムハライド類、
第４級アンモニウムヒドロキシド類、第４級ホスホニウ
ムヒドロキシド類、第４級アンモニウムハイドロゲンス
ルフェート類、第４級ホスホニウムハイドロゲンスルフ
ェート類などが挙げられ、４級アンモニウムハライド
類、第４級ホスホニウムハライド類が好ましく、第４級
ホスホニウムハライド類がより好ましい。相間移動触媒
の好ましい例としては、テトラメチルアンモニウムブロ
マイド、テトラメチルアンモニウムクロライド、テトラ
エチルアンモニウムブロマイド、テトラプロピルアンモ
ニウムブロマイド、テトラブチルアンモニウムブロマイ
ド、テトラブチルアンモニウムクロライド、セチルトリ
メチルアンモニウムブロマイド、ベンジルトリエチルア
ンモニウムクロライド、トリオクチルメチルアンモニウ
ムクロライドなどのような第４級アンモニウムハライド
類；テトラブチルホスホニウムブロマイド、ベンジルト
リフェニルホスホニウムクロライド、ブチルトリフェニ
ルホスホニウムブロマイドなどのような第４級ホスホニ
ウムハライド類；１５−クラウン−５、１８−クラウン
−６、ジベンゾ−１８−クラウン−６、ジベンゾ−２４
−クラウン−８、ジシクロヘキシル−１８−クラウン−
６などのようなクラウンエーテル類；ポリエチレングリ
コール、ポリプロピレングリコール、ポリエチレングリ
コールモノメチルエーテルなどのようなポリオキシアル
キレングリコール類；トリス［２−（２−メトキシエト
キシ）エチル］アミン、クリプテートなどのようなアミ
ノアルコール類；などが挙げられる。これらの中でも、
テトラメチルアンモニウムブロマイド、テトラメチルア
ンモニウムクロライド、テトラエチルアンモニウムブロ
マイド、テトラプロピルアンモニウムブロマイド、テト
ラブチルアンモニウムブロマイド、テトラブチルアンモ
ニウムクロライド、セチルトリメチルアンモニウムブロ
マイド、ベンジルトリエチルアンモニウムクロライド、
トリメチルベンジルアンモニウムブロマイド、トリオク
チルメチルアンモニウムクロライドがより好ましい。特
にテトラブチルホスホニウムブロマイド、ベンジルトリ
フェニルホスホニウムクロライド、ブチルトリフェニル
ホスホニウムブロマイドなどが好ましい。

【００２０】これらの相間移動触媒は、それぞれ単独
で、あるいは２種以上を組み合わせて用いることができ
る。相間移動触媒の使用量は、反応条件により適宜選択
され、−ＣＨＦ−ＣＨＦ−結合を有するフッ素化飽和炭
化水素に基づき、通常０．００１〜２０重量％、好まし
くは０．０１〜１０重量％。より好ましくは０．１５重
量％の範囲である。反応に供する出発原料はそのまま、
または有機溶媒に溶解した形で用いることができる。溶
媒は、本発明の方法において反応に不活性であれば格別
な限定はなく、溶媒の具体例としては、ｎ−ペンタン、
ｎ−ヘプタン、ｎ−オクタン、シクロペンタン、シクロ
ヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレンなどのｎ−ペ
ンタン、ｎ−ヘプタン、ｎ−オクタン、シクロペンタ
ン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン、
炭化水素類、エチレングリコールモノメチルエーテルな
どのエーテル類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセ
トアミド、Ｎ−メチルピロリドンのようなアミド類、ジ
メチルスルホキシドなどのスルホキシド類、ジメチルイ
ミダゾリジノンのようなウレア類、パーフルオロヘキサ
ン、パーフルオロノナンなどのパーフルオロ炭化水素や
パーフルオロエーテルなどのフッ素系溶媒が挙げられ
る。溶媒は、用いないか、または炭化水素類およびフッ
素系溶媒を用いることが好ましい。溶媒は用いないほう
がより好ましい。

【００２１】アルカリ性化合物はそのまま、または水に
溶解した形で用いられるが、好ましくは、水を用いずに
そのまま反応に供する。脱フッ化水素反応相の形態は均
一系、固液反応、二相率のいずれでもよいが二相系が好
ましい。反応温度は通常常温〜１００℃の範囲から選ば
れ、好ましくは３０〜７０℃である。反応圧力は通常常
圧から５気圧、好ましくは常圧〜３気圧程度である。反
応時間は通常１０分から１０時間であり、好ましくは３
０分間〜５時間である。

【００２２】反応は密閉系および開放率のいずれでもよ
く、還流凝縮器を設けた反応器を用い、蒸留塔を反応器
に付設して最も沸点の低いフッ素化不飽和炭化水素を留
出させ、連続的に精製・分離する方法を採ることができ
る。特に生成するフッ素化不飽和炭化水素の重合性が高
い場合は上記のような反応実施形態は特に有効である。
反応に用いた相間移動触媒は生成物中に溶解しており、
水との二相系においても分配して溶存するので、簡単な
蒸留などの操作によって相間移動触媒は除去することが
望ましい。相間移動触媒の除去によって、フッ素化不飽
和炭化水素生成物を次工程で処理したり、製品として利
用する際の悪影響を防止することができる。

【００２３】脱フッ化水素反応により得られた反応生成
物、すなわち、主として−ＣＨ＝ＣＦ−結合を有するフ
ッ素化不飽和炭化水素と−ＣＨ₂ −ＣＨＦ−結合を有す
るフッ素化飽和炭化水素との混合物から、−ＣＨ＝ＣＦ
−結合を有するフッ素化不飽和炭化水素を分離除去する
ための蒸留法は格別限定されることはなく常法に従って
行えばよい。効率のよい理論段数の高い蒸留塔が望まし
い。脱フッ化水素反応により生成した−ＣＨ＝ＣＦ−結
合を有するフッ素化不飽和炭化水素と、反応せずに残存
している−ＣＨ₂ −ＣＨＦ−結合を有するフッ素化飽和
炭化水素を分離することなく、両者を含む混合フッ素化
飽和炭化水素の水素化処理を行うことによって−ＣＨ₂
−ＣＨＦ−結合を有するフッ素化飽和炭化水素を製造す
ることができる。

【００２４】以下、脱フッ化水素反応により生成した−
ＣＨ＝ＣＦ−結合を有するフッ素化不飽和炭化水素と、
反応せずに残存している−ＣＨ₂ −ＣＨＦ−結合を有す
るフッ素化飽和炭化水素との混合物の水素化処理につい
て説明する。水素化反応に使用される水素は、ガス状で
あればよい。水素の使用量は、−ＣＨ＝ＣＦ−結合を含
有するフッ素化不飽和炭化水素に対して過剰量で使用す
ることが有利である。例えば、１モルの−ＣＨ＝ＣＦ−
結合を含有するフッ素化不飽和炭化水素１モル当たり２
モル以上の、好適には２〜５０モルの水素を使用すれば
よい。水素化反応には、通常貴金属触媒が用いられる。
使用される貴金属触媒は、貴金属または貴金属化合物な
どである。貴金属としては、例えば、パラジウム、ロジ
ウム、ルテニウム、レニウム、白金などが挙げられ、な
かでもパラジウム、ロジウム、ルテニウムが好ましい。
貴金属化合物としては、酢酸パラジウムなどの酸化物、
塩化パラジウムなどのハロゲン化物などが挙げられる。
これらの貴金属触媒は、単一で使用してもよいし、２種
類以上の金属からなる合金、いわゆるバイメタル触媒と
して用いてもよい。

【００２５】貴金属触媒は担体に担持させて用いること
が好ましい。貴金属触媒を担持させる担体の種類および
担体の形状、大きさは特に制限されるものでない。担体
の種類としては活性炭、アルミナ、チタニア、ジルコニ
アおよびこれらをフッ素化水素処理したものが好まし
い。担体の形状は、粉末でも球形、ペレット状などの成
形体でもよい。担体に対する貴金属の担持量は、通常、
０．０５〜２０重量％のものが用いられる。好ましい担
持量は、担体が粉末の場合、０．１〜２０重量％であ
り、担体が成形体の場合、０．１〜１０重量％である。
より好ましくは、１〜１０重量％担持の粉末触媒であ
る。

【００２６】水素化反応の方式としては、液相反応また
は気相反応が可能である。液相反応では溶剤を用いるこ
とができる。気相反応では希釈剤を必要により用いるこ
とができる。また、気相反応では、固定床型気相反応、
流動床型気相反応などの方式をとることもできる。液相
反応で使用する溶剤としては、特に制限はなく、脂肪族
炭化水素類、芳香族炭化水素類、ハイドロフルオロカー
ボン類、アルコール類、エーテル類、ケトン類、エステ
ル類、水などが挙げられる。脂肪族炭化水素類として
は、通常、その炭素数が４〜１５のものが用いられ、そ
の具体例としては、ｎ−ブタン、ｎ−ペンタン、メチル
ペンタン、ｎ−ヘキサン、シクロペンタン、シクロヘキ
サンなどが挙げられる。

【００２７】芳香族炭化水素類の具体例としては、トリ
フルオロメチルベンゼンなどが挙げられる。ハイドロフ
ルオロカーボン類の具体例としては、ペンタフルオロエ
タン、ペンタフルオロプロパン、ヘキサフルオロブタ
ン、デカフルオロペンタンなどが挙げられる。アルコー
ル類としては、通常、その炭素数が、１〜１０、好まし
くは１〜６のものが用いられる。アルコール類の具体例
としては、メタノール、エタノール、プロパノール、ブ
タノール、シクロペンタノールなどが挙げられる。エー
テル類としては、通常、その炭素数が４〜１０、好まし
くは４〜６のものが用いられ、その具体例としては、ジ
エチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、エチレング
リコールジメチルエーテルなどが挙げられる。ケトン類
は、通常、その炭素数が３〜１０、好ましくは３〜８の
ものが用いられその具体例としては、アセトン、メチル
エチルケトン、メチルイソプロピルケトン、メチルブチ
ルケトン、シクロペンタノンなどが挙げられる。エステ
ル類としては、通常、その炭素数４〜１０、好ましくは
４〜８のものが用いられ、その具体例としては、例え
ば、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸プロピル、プロピオ
ン酸メチル、酪酸メチル、吉草酸メチルなどが挙げられ
る。

【００２８】これらの溶剤は、単独で使用してもよく、
または２種以上組み合わせて使用してもよい。溶剤の使
用量は、特に制限はなく、例えば、−ＣＨ＝ＣＦ−結合
を含有するフッ素化不飽和炭化水素１００重量部に対し
て、通常、８０重量部以下であり、好ましくは、５０重
量部以下である。気相反応の際使用する希釈剤として
は、本水素化反応に不活性なガスであればよい。不活性
ガスは、窒素ガス、希ガス、炭化水素ガス、ハイドロフ
ルオロカーボンガスなどである。希ガスの具体例として
は、アルゴンガスやヘリウムガスなど；炭化水素ガスの
具体例としては、メタンガス、エタンガス、プロパンガ
ス、ブタンガスなど；ハイドロフルオロカーボンガスの
具体例としては、ペンタフルオロエタン、ペンタフルオ
ロプロパン、ヘキサフルオロブタン、デカフルオロペン
タンなど；が挙げられる。これらの希釈剤は、単独で使
用してもよく、または２種以上組み合わせて使用しても
よい。

【００２９】希釈剤の使用量は、特に制限はなく、例え
ば、−ＣＨ＝ＣＦ−結合を含有するフッ素化不飽和炭化
水素１００重量部に対して、通常、０〜５００重量部、
好ましくは、０〜２００重量部である。本水素化反応の
反応系の圧力は、通常、常圧〜５０ｋｇｆ／ｃｍ² 程度
であり、好ましくは常圧〜２０ｋｇｆ／ｃｍ² である。
反応温度は、通常、常温〜３５０℃程度であり、好まし
くは常温〜２００℃程度である。また、本反応において
は、必要に応じて、反応系内を攪拌または振とうする。

【００３０】本発明の水素化反応は、バッチ反応または
原料を連続的に反応器へ供給し、反応生成物を連続的に
反応器から抜き出す連続反応が採用される。使用する反
応容器は、バッチ反応の場合圧力容器であり、連続反応
では、直列に連結した１個またはそれ以上の反応器、例
えばカスケード式反応器を使用することができる。反応
容器の材料は、例えば、ステンレススチールなどが適し
ている。一般に、ステンレススチール製反応器は、使用
前に例えば硝酸処理してコンディショニングすることが
有利である。

【００３１】

【実施例】以下、実施例について本発明を具体的に説明
するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるも
のではない。実施例中の％は重量基準である。 実施例１ 冷却管および攪拌機を付した１Ｌのガラス製反応器に
１，１，２，２，３，３，４，５−オクタフルオロシク
ロペンタンと１，１，２，２，３，３，４−ヘプタフル
オロシクロペンタンが２０：８０（ＧＣ面積比）である
混合物を２００ｇ、ｎ−テトラブチルアンモニウムブロ
ミド１０ｇ、１ｍｏｌ／ｌ炭酸カリウム水溶液４００ｍ
ｌを入れ、３０℃にて強攪拌した。８時間後、攪拌を停
止し、静置した。下層をガスクロマトグラフィー（日立
製作所製２６３−７０）にて分析したところ、１，１，
２，２，３，３，４，５−オクタフルオロシクロペンタ
ンはすべて消失していた。有機層を分離し、水洗後、硫
酸マグネシウムで乾燥、ろ過をして、１８１ｇの生成物
を得た。このものを更にガスクロマトグラフィーにて分
析したところ、１，１，２，２，３，３，４−ヘプタフ
ルオロシクロペンタンを７８％、１，３，３，４，４，
５，５−ヘプタフルオロシクロペンテンを１７％、１，
２，３，３，４，４，５−ヘプタフルオロシクロペンテ
ンを２％含む混合物であり、１，１，２，２，３，３，
４−ヘプタフルオロシクロペンタンの分解率は２％であ
った。次に、この混合物１８１ｇを３００ｍｌの蒸留釜
に入れ、精留塔（ヘリパック充填塔、理論段数７段）に
て蒸留精製（還流比３０：１）を行った。その結果、目
的物である１，１，２，２，３，３，４−ヘプタフルオ
ロシクロペンタンが１０２．５ｇ（純度９５％、蒸留収
率６９．０％）で得られた。

【００３２】実施例２ 冷却管および攪拌機を付した３Ｌのガラス製反応器に
１，１，２，２，３，３，４，５−オクタフルオロシク
ロペンタンと１，１，２，２，３，３，４−ヘプタフル
オロシクロペンタンが７８：２２（ＧＣ面積比）である
混合物を９７０ｇ、ｎ−テトラブチルアンモニウムブロ
ミド１５ｇ、２．５ｍｏｌ／ｌ炭酸カリウム水溶液１７
００ｍｌを入れ、４５℃にて強攪拌した。６時間後、攪
拌を停止し、静置させた。下層をガスクロマトグラフィ
ー（日立製作所製２６３−７０）にて分析したところ、
１，１，２，２，３，３，４，５−オクタフルオロシク
ロペンタンはすべて消失していた。有機層を分離し、水
洗後、硫酸マグネシウムで乾燥、ろ過をして、８８４ｇ
の生成物を得た。このものをさらにガスクマトグラフィ
ーにて分析したところ、、１，１，２，２，３，３，４
−ヘプタフルオロシクロペンタンを２２％、１，３，
３，４，４，５，５−ヘプタフルオロシクロペンテンを
７０％、１，２，３，３，４，４，５−ヘプタフルオロ
シクロペンテンを６％含む混合物であり、１，１，２，
２，３，３，４−ヘプタフルオロシクロペンタンの分解
率は１％であった。次に、この混合物を１Ｌの蒸留釜に
入れ、スルーザー精留塔（理論段数５５段）にて蒸留精
製を行った。その結果、目的物である１，１，２，２，
３，３，４−ヘプタフルオロシクロペンタンが１０５ｇ
（純度９９％、蒸留収率５３．４％）で得られた。

【００３３】実施例３ 攪拌機および精留塔を付した２００ｍｌのガラス製反応
器に１，１，１，２，２，３，４，５，５，５−デカフ
ルオロペンタン、１，１，１，２，４，４，５，５，５
−ノナフルオロペンタン及び１，１，１，３，４，４，
５，５，５−ノナフルオロペンタンをそれぞれ３４、４
４、２２％ずつ含有する混合物５０ｇ、ｎ−テトラブチ
ルアンモニウムブロミド２．５ｇ、２．５ｍｏｌ／ｌ炭
酸カリウム水溶液３５ｍｌを入れ、４５℃にて強攪拌し
た。約１時間後、精留塔の上部より還流比３０：１で生
成物の抜き出しを開始し、氷水で冷却した受器に捕集し
た。徐々に反応温度を上げて行き、精留塔の上部の温度
が下がり始めたところで反応を停止した。その結果、目
的物であるノナフルオロペンタン（異性体の混合物で純
度９９％）が１７ｇ（蒸留収率５１％）で得られた。

【００３４】実施例４ 純度９９．９ＧＣ％の粗製オクタフルオロシクロペンテ
ン１０００ｇに、低極性化合物であるｎ−トリデカンを
３重量％溶解させた。容量１ＬのＳＵＳ３１６製オート
クレーブに粉末の５重量％パラジウム担持活性炭触媒５
０ｇを仕込み、減圧脱気した。このオートクレーブに先
に調製したｎ−トリデカン含有オクタフルオロシクロペ
ンテンを注入した後、４０℃にて攪拌しながら水素をゲ
ージ圧０〜６ｋｇｆ／ｃｍ² の範囲でブロックチャージ
を繰り返して反応させた。水素の吸収が止まったところ
で、反応を停止させた。反応液からフィルターで触媒を
取り除き、ろ液を炭酸ナトリウム、飽和重曹水で中和し
た。 に、水洗し、モレキュラーシーブスで乾燥後、蒸
留によって、高沸点成分であるｎ−トリデカンを取り除
いた。得られた留分をガスクロマトグラフィーにて分析
した結果、１，１，２，２，３，３，４，５−オクタフ
ルオロシクロペンタンと１，１，２，２，３，３，４−
ヘプタフルオロシクロペンタンを８９：１１の割合（Ｇ
Ｃ面積比）で含む混合物であった。

【００３５】次に、容量３Ｌのガラス製反応器に、この
混合物９２０ｇ、ｎ−テトラブチルアンモニウムブロミ
ド１４ｇ、２．５ｍｏｌ／ｌ炭酸カリウム水溶液１８５
０ｍｌを仕込み、４５℃にて強攪拌した。８時間後、反
応を停止し、静置させた。下層をガスクロマトグラフィ
ー（日立製作所製２６３−７０）にて分析し、１，１，
２，２，３，３，４，５−オクタフルオロシクロペンタ
ンが完全に消失していることを確認した。有機層を分離
し、水洗後、モレキュラーシーブスにて乾燥、単蒸留し
て精製した。得られた留分をさらにガスクロマトグラフ
ィーにて分析した結果、１，３，３，４，４，５，５−
ヘプタフルオロシクロペンテンを７９％、１，２，３，
３，４，４，５−ヘプタフルオロシクロペンテンを９％
含む混合物であり、１，１，２，２，３，３，４−ヘプ
タフルオロシクロペンタンを１０％含む混合物であっ
た。

【００３６】そして、容量１ＬのＳＵＳ３１６製オート
クレーブに粉末の５重量％パラジウム担持活性炭触媒２
５ｇを仕込み、減圧脱気した。このオートクレーブにｎ
−トリデカンを２５ｇ、上記のフッ素化混合物を８２０
ｇ注入した。反応混合物を５０℃にて３０分間攪拌した
後、水素をゲージ圧０〜１０ｋｇｆ／ｃｍ² の範囲でブ
ロックチャージを繰り返して反応させた。水素の吸収が
止まったところで、反応を停止した。反応液からフィル
ターにて触媒を取り除き、ろ液を炭酸ナトリウム、飽和
重曹水で中和し、さらに水洗してモレキュラーシーブス
にて乾燥させた。得られた有機物をガスクロマトグラフ
ィーにて分析した結果、１，１，２，２，３，３，４−
ヘプタフルオロシクロペンタンと１，１，２，２，３，
３−ヘキサフルオロシクロペンタンを９４：６の割合
（ＧＣ面積比）で含む混合物であった。この混合物を容
量１Ｌの蒸留釜に入れ、蒸留塔（理論段数５５段）にて
蒸留したところ、目的化合物である１，１，２，２，
３，３，４−ヘプタフルオロシクロペンタンが４２４ｇ
（純度、９８％）が得られた。

【００３７】

【発明の効果】本発明の方法によれば、−ＣＨＦ−ＣＨ
Ｆ−結合をもつフッ素化飽和炭化水素と−ＣＨ₂ −ＣＨ
Ｆ−結合をもつフッ素化飽和炭化水素との両者を含む混
合フッ素化飽和炭化水素の脱フッ化水素処理およびそれ
に続く蒸留分離によって−ＣＨ₂ −ＣＨＦ−結合をもつ
高純度のフッ素化飽和炭化水素を高度な選択性をもって
効率よく製造することができる。または、上記の脱フッ
化水素処理に続き、蒸留分離を行うことなく、反応生成
混合物をそのまま水素化に供することにより−ＣＨ₂ −
ＣＨＦ−結合をもつフッ素化飽和炭化水素を非常に効率
よく得ることができる。

【００３８】（１）本発明の高純度フッ素化飽和炭化水
素の製造方法、すなわち、−ＣＨＦ−ＣＨＦ−結合を有
するフッ素化飽和炭化水素および、−ＣＨ₂ −ＣＨＦ−
結合を有するフッ素化飽和炭化水素の両者を含む混合フ
ッ素化飽和炭化水素を原料として用い、該原料中の−Ｃ
ＨＦ−ＣＨＦ−結合を有するフッ素化飽和炭化水素を選
択的に脱フッ化水素する第一工程、およびそれに引き続
き、生成した−ＣＨ＝ＣＦ−結合を有するフッ素化不飽
和炭化水素を蒸留により除去する第二工程を含んでなる
ことを特徴とする、−ＣＨ₂ −ＣＨＦ−結合を有する高
純度フッ素化飽和炭化水素の製造方法；ならびに（２）
本発明の−ＣＨ₂ −ＣＨＦ−結合を有するフッ素化飽和
炭化水素の製造方法、すなわち、−ＣＨＦ−ＣＨＦ−結
合を有するフッ素化飽和炭化水素および、このフッ素化
飽和炭化水素の−ＣＨＦ−ＣＨＦ−結合の代わりに−Ｃ
Ｈ₂ −ＣＨＦ−結合を有し、その他の構造は同一のフッ
素化飽和炭化水素の両者を含む混合フッ素化飽和炭化水
素を原料として用い、該原料中の−ＣＨＦ−ＣＨＦ−結
合を有する−ＣＨＦ−ＣＨＦ−結合を有するフッ素化飽
和炭化水素を選択的に脱フッ化水素する第一工程、およ
びそれに引き続き、生成した−ＣＨ＝ＣＦ−結合を有す
るフッ素化不飽和炭化水素から、反応せずに残存してい
る−ＣＨ₂ −ＣＨＦ−結合を有するフッ素化飽和炭化水
素を分離することなく、両者を含む混合フッ素化飽和炭
化水素の水素化処理を行う第二工程を含んでなることを
特徴とする、−ＣＨ₂ −ＣＨＦ−結合を有するフッ素化
飽和炭化水素の製造方法の好ましい実施態様をまとめる
と以下のとおりである。

【００３９】（１）−ＣＨＦ−ＣＨＦ−結合を有するフ
ッ素化飽和炭化水素は、４〜６個の炭素、より好ましく
は５個の炭素を有し、また、好ましくは環状構造を有
し、最も好ましくは１，１，２，２，３，３，４，５−
オクタフルオロシクロペンタンである。 （２）−ＣＨ＝ＣＦ−結合を有するフッ素化不飽和炭化
水素は、４〜６個の炭素、より好ましくは５個の炭素を
有し、また、好ましくは環状構造を有し、最も好ましく
は、１，３，３，４，４，５，５−ヘプタフルオロシク
ロペンテンである。

【００４０】（３）−ＣＨ₂ −ＣＨＦ−結合を有するフ
ッ素化飽和炭化水素は、４〜６個の炭素、より好ましく
は５個の炭素を有し、また、好ましくは環状構造を有
し、最も好ましくは１，１，２，２，３，３，４−ヘプ
タフルオロシクロペンタンである。 （４）−ＣＨ₂ −ＣＨＦ−結合を有するフッ素化飽和炭
化水素の選択的脱フッ素化水素反応は、混合フッ素化飽
和炭化水素原料を相間移動触媒の存在下にアルカリ性化
合物で処理することによって行う。（５）前項（４）の
アルカリ性化合物は、アルカリ金属、アルカリ土類金属
および遷移金属の水酸化物；アルカリ土類金属の酸化
物；アルカリ金属、アルカリ土類金属および遷移金属の
炭酸塩；アルカリ金属およびアルカリ土類金属の炭酸水
素塩；アルカリ金属およびアルカリ土類金属の脂肪酸
塩；アミン；ならびにアルキル金属化合物の中から選ば
れ、より好ましくはアルカリ金属炭酸塩およびアルカリ
金属炭酸水素塩の中から選ばれる。

【００４１】（６）前項（４）の相間移動触媒は第４級
アンモニウム塩、第４級ホスホニウム塩、クラウンエー
テル、ポリエーテルおよびアミノアルコールの中から選
ばれ、より好ましくは第４級アンモニウム塩および第４
級ホスホニウム塩の中から選ばれる。 （７）前項（４）または（６）の相間移動触媒の量は、
−ＣＨＦ−ＣＨＦ−結合を有するフッ素化飽和炭化水素
に基づき、０．００１〜２０重量％、より好ましくは
０．０１〜１０重量％、さらに好ましくは０．１〜５重
量％である。 （８）脱フッ化水素反応は、温度が常温〜１５０℃、よ
り好ましくは常温〜１００℃、さらに好ましくは３０〜
７０℃、圧力が常圧〜１０気圧、より好ましくは常圧か
ら５気圧、時間が１０分〜１０時間、より好ましくは３
０分から５時間行われる。 （９）水素化反応に使用する水素の量は、−ＣＨ＝ＣＦ
−結合をもつフッ素化不飽和炭化水素１モルに対し、２
モル以上、より好ましくは２〜５０モルである。 （１
０）水素化反応は、パラジウム、ロジウム、ルテニウ
ム、レニウムおよび白金の中から選ばれた貴金属または
その化合物の存在下に行う。 （１１）前項（１０）の貴金属またはその化合物は、担
体に０．０５〜２０重量％担持させて反応に供する。 （１２）水素化反応は、常圧〜５０ｋｇｆ／ｃｍ² 、よ
り好ましくは常圧〜２０ｋｇｆ／ｃｍ² の圧力下に常温
〜３５０℃、より好ましくは常温〜２００℃の温度にて
行う。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 −ＣＨＦ−ＣＨＦ−結合を有するフッ素
   化飽和炭化水素および−ＣＨ₂ −ＣＨＦ−結合を有する
   フッ素化飽和炭化水素の両者を含む混合フッ素化飽和炭
   化水素を原料として用い、該原料中の−ＣＨＦ−ＣＨＦ
   −結合を有するフッ素化飽和炭化水素を選択的に脱フッ
   化水素する第一工程、およびそれに引き続き、生成した
   −ＣＨ＝ＣＦ−結合を有するフッ素化不飽和炭化水素を
   蒸留により除去する第二工程を含んでなることを特徴と
   する、−ＣＨ₂ −ＣＨＦ−結合を有する高純度フッ素化
   飽和炭化水素の製造方法。
2. 【請求項２】 −ＣＨＦ−ＣＨＦ−結合を有するフッ素
   化飽和炭化水素およびこのフッ素化飽和炭化水素の−Ｃ
   ＨＦ−ＣＨＦ−結合の代わりに−ＣＨ₂ −ＣＨＦ−結合
   を有し、その他の構造は同一のフッ素化飽和炭化水素の
   両者を含む混合フッ素化飽和炭化水素を原料として用
   い、該原料中の−ＣＨＦ−ＣＨＦ−結合を有するフッ素
   化飽和炭化水素を選択的に脱フッ化水素する第一工程、
   およびそれに引き続き、生成した−ＣＨ＝ＣＦ−結合を
   有するフッ素化不飽和炭化水素から、反応せずに残存し
   ている−ＣＨ₂ −ＣＨＦ−結合を有するフッ素化飽和炭
   化水素を分離することなく、両者を含む混合フッ素化飽
   和炭化水素の水素化処理を行う第二工程を含んでなるこ
   とを特徴とする、−ＣＨ₂ −ＣＨＦ−結合を有するフッ
   素化飽和炭化水素の製造方法。
3. 【請求項３】 −ＣＨＦ−ＣＨＦ−結合を有するフッ素
   化飽和炭化水素が１，１，２，２，３，３，４，５−オ
   クタフルオロシクロペンタンであり、−ＣＨ₂ −ＣＨＦ
   −結合を有するフッ素化飽和炭化水素が１，１，２，
   ２，３，３，４−ヘプタフルオロシクロペンタンである
   請求項２記載の製造方法。